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WO2013145550A1 - 位相差板の製造方法 - Google Patents

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WO2013145550A1
WO2013145550A1 PCT/JP2013/001164 JP2013001164W WO2013145550A1 WO 2013145550 A1 WO2013145550 A1 WO 2013145550A1 JP 2013001164 W JP2013001164 W JP 2013001164W WO 2013145550 A1 WO2013145550 A1 WO 2013145550A1
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WO
WIPO (PCT)
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mask
film
retardation
alignment
phase difference
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2013/001164
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
祐一 角張
賢一 渡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Arisawa Mfg Co Ltd
Original Assignee
Arisawa Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Arisawa Mfg Co Ltd filed Critical Arisawa Mfg Co Ltd
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Priority to CN201380014626.1A priority patent/CN104246550B/zh
Publication of WO2013145550A1 publication Critical patent/WO2013145550A1/ja
Priority to US14/492,076 priority patent/US20150008601A1/en
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Ceased legal-status Critical Current

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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
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    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G02F1/133631—Birefringent elements, e.g. for optical compensation with a spatial distribution of the retardation value

Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing a retardation plate.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 9-33914
  • the degree of deterioration of the regions varies depending on the angle between the polarization direction of the linearly polarized light to be irradiated and the orientation direction of the regions.
  • An alignment pattern in which a plurality of regions having a retardation function of a quarter-wave plate are formed in correspondence with the plurality of regions of the alignment pattern of the retardation plate, and a step of arranging an unoriented photo-alignment layer A step of preparing a phase difference mask having the following: irradiating the phase difference mask with elliptically polarized light, and irradiating the light alignment layer with polarized light emitted from the phase difference mask, thereby aligning the photo alignment layer
  • the manufacturing method of a phase difference plate provided with these is provided.
  • a method of manufacturing a retardation plate in which an alignment pattern in which a plurality of regions in which optical axes are aligned in different directions is formed is repeated.
  • a plurality of retardation plates each having an alignment pattern in which a plurality of regions corresponding to at least a part of the plurality of regions of the alignment pattern of the retardation plate are formed; Preparing the aligned retardation mask, irradiating the retardation mask with polarized light, and irradiating the light alignment layer with polarized light emitted from the retardation mask, and orienting the photo-alignment layer;
  • a method of manufacturing a retardation plate comprising:
  • FIG. 2 is a longitudinal sectional view taken along line II-II in FIG. 1 is an overall configuration diagram of a retardation plate manufacturing apparatus 10 according to the present embodiment. 2 is an overall perspective view of an exposure unit 18.
  • FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a phase difference mask 38.
  • FIG. 5 is a perspective view for explaining exposure of a film 90 by a mask plate 58 of a phase difference mask 38.
  • FIG. It is a graph which shows the relationship between degradation of the mask board 58, and integrated irradiation energy. It is a graph which shows the relationship between degradation of the mask board 58, and integrated irradiation energy.
  • 3 is a cross-sectional view of a phase difference mask 38.
  • FIG. 6 is a plan view for explaining an alignment pattern 306 of a retardation film 300 aligned by a changed retardation mask 338.
  • 4 is a longitudinal sectional view of a mask member 370 and a mask member 372 of the phase difference mask 338.
  • FIG. 5 is a diagram showing a relationship between an exploded perspective view of a retardation mask 338 and a film 90. It is a top view of the phase difference mask 438 changed. It is a figure explaining embodiment which changed the mask members 370 and 372.
  • FIG. 6 is a plan view for explaining an alignment pattern 306 of a retardation film 300 aligned by a changed retardation mask 338.
  • 4 is a longitudinal sectional view of a mask member 370 and a mask member 372 of the phase difference mask 338.
  • FIG. 5 is a diagram showing a relationship between an exploded perspective view of a retardation mask 338 and a film 90. It is a top view of the phase difference mask 438 changed. It is a figure
  • FIG. 1 is an overall plan view of a retardation film 100 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment.
  • the vertical and horizontal directions indicated by arrows in FIG. 1 are the vertical direction and horizontal direction of the phase difference plate 100.
  • the phase difference plate 100 is provided as a part of a diffraction grating of an optical low-pass filter, for example.
  • the phase difference plate 100 is formed in a rectangular shape with a side of several tens of centimeters to several meters.
  • the phase difference plate 100 includes a resin base material 102 and an alignment pattern 106.
  • the resin base material 102 is formed by cutting a long film made of resin, which will be described later, into a certain length.
  • the resin base material 102 transmits light.
  • An example of the thickness of the resin base material 102 is 50 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the resin base material 102 supports the alignment pattern 106.
  • Resin base material 102 can be composed of a cycloolefin-based film.
  • COC cycloolefin copolymer
  • An example of the COP film is ZEONOR film ZF14 manufactured by Nippon Zeon.
  • you may comprise the resin base material 102 by the material containing a triacetyl cellulose ( TAC).
  • TAC triacetyl cellulose
  • TAC film examples include Fujitac T80SZ and TD80UL manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
  • the orientation pattern 106 is formed on one surface of the resin base material 102.
  • a plurality of retardation regions 104 are formed in the alignment pattern 106.
  • the phase difference region 104 is formed in the same shape in plan view.
  • Each of the phase difference regions 104 has a rectangular shape extending along the vertical direction of the resin base material 102.
  • the phase difference regions 104 are arranged along the horizontal direction with the sides in the vertical direction in contact with each other.
  • Each of the phase difference regions 104 may have a rectangular shape extending along the horizontal direction of the resin base material 102, and they may be arranged along the vertical direction.
  • the phase difference region 104 modulates the polarization state of the transmitted polarized light.
  • the phase difference region 104 has, for example, a half-wave plate phase difference function.
  • the phase difference region 104 may have a phase difference function of a quarter wavelength plate.
  • a case where the phase difference region 104 has a half-wave plate phase difference function will be described.
  • the phase difference region 104 has an optical axis in the direction indicated by an arrow at the upper end of the phase difference region 104 in FIG.
  • the optical axis here is a fast axis or a slow axis.
  • the plurality of retardation regions 104 have optical axes oriented in different directions.
  • the angle difference between the optical axis of the phase difference region 104 and the optical axis of the adjacent phase difference region 104 is equiangular.
  • the angle difference between the optical axes is 2.81 °. Therefore, as shown in FIG. 1, when the optical axis of the phase difference region 104 at the right end is in the horizontal direction, the optical axis of the phase difference region 104 second from the right end is inclined by 2.81 ° from the horizontal direction. .
  • the optical axis of the nth retardation region 104 from the right end is in a direction inclined by 2.81 ⁇ (n ⁇ 1) ° from the horizontal direction. Note that all the optical axes of the plurality of retardation regions 104 may not be in different directions, and there may be a region in which the optical axes are oriented in the same direction among the plurality of retardation regions 104.
  • FIG. 2 is a longitudinal sectional view taken along line II-II in FIG.
  • the retardation region 104 includes an alignment film 120 that is an example of a photo-alignment layer, and a liquid crystal film 122. 2 indicate the direction of the optical axis of the phase difference region 104 in plan view.
  • the alignment film 120 is formed on the surface of the resin base material 102.
  • a photo-alignment compound can be applied to the alignment film 120.
  • a photo-alignment compound is a material in which molecules are regularly aligned in the polarization direction of linearly polarized light when irradiated with linearly polarized light such as ultraviolet rays. Further, the photo-alignment compound has a function of aligning the molecules of the liquid crystal film 122 formed on the self along the self-alignment. Examples of the photo-alignment compound include photodecomposition type, photodimerization type, and photoisomerization type compounds.
  • the molecules of the alignment film 120 are aligned in a direction corresponding to the optical axis of the retardation region 104.
  • the liquid crystal film 122 is formed on the alignment film 120.
  • An example of the liquid crystal film 122 is a liquid crystal polymer that can be cured by ultraviolet rays or heating.
  • the liquid crystal film 122 is aligned along the alignment of the alignment film 120.
  • FIG. 3 is an overall configuration diagram of the phase difference plate manufacturing apparatus 10 according to the present embodiment.
  • the up and down directions indicated by arrows in FIG. 3 are the up and down directions of the retardation plate manufacturing apparatus 10. Further, upstream and downstream are upstream and downstream in the transport direction.
  • the transport direction is the same as the longitudinal direction of the film 90 and the vertical direction of the retardation plate 100, and is orthogonal to the arrangement direction of the retardation regions 104 and the horizontal direction of the retardation plate 100.
  • the retardation plate manufacturing apparatus 10 includes a delivery roll 12, an alignment film application unit 14, an alignment film drying unit 16, an exposure unit 18, a liquid crystal film application unit 20, and a liquid crystal film alignment unit. 22, a liquid crystal film curing unit 24, a separate film supply unit 26, and a take-up roll 28.
  • the delivery roll 12 is disposed on the most upstream side of the film 90 conveyance path.
  • a supply film 90 is wound around the outer periphery of the delivery roll 12.
  • the supply film 90 is the same material as the resin base material 102.
  • the delivery roll 12 is rotatably supported. Thereby, the delivery roll 12 can hold
  • the feed roll 12 may be rotatable by a drive mechanism such as a motor, or may be driven as the take-up roll 28 rotates. Or you may provide the mechanism which conveys the film 90 in the middle of a conveyance path
  • the alignment film application unit 14 is disposed on the downstream side of the delivery roll 12 and above the conveyance path of the film 90 to be conveyed.
  • the alignment film application unit 14 supplies and applies an unoriented liquid alignment film 120 to the upper surface of the film 90.
  • the alignment film drying unit 16 is disposed on the downstream side of the alignment film application unit 14.
  • the alignment film drying unit 16 dries the alignment film 120 applied on the film 90 passing through the inside by heating, light irradiation, or air blowing.
  • the exposure unit 18 is disposed on the downstream side of the alignment film drying unit 16.
  • the exposure unit 18 includes an upstream driven roll 32, a polarized light source 34, a circular polarization modulation unit 48, a circular polarization modulation holding unit 50, a phase difference mask 38, a mask holding unit 40, and a downstream driven roll 42. And a pair of upstream tension rolls 44 and downstream tension rolls 46.
  • the exposure unit 18 irradiates the alignment film 120 applied on the film 90 with the polarized light output from the output port 36 of the polarized light source 34 via the circular polarization modulator 48 and the phase difference mask 38. Thereby, the exposure unit 18 aligns the alignment film 120 to form a pattern.
  • An example of polarized light output from the polarized light source 34 is ultraviolet light having a wavelength of 280 nm to 340 nm.
  • the liquid crystal film application unit 20 is disposed on the downstream side of the exposure unit 18.
  • the liquid crystal film application unit 20 is disposed above the transport path of the film 90.
  • the liquid crystal film application unit 20 supplies and applies the liquid crystal film 122 onto the alignment film 120 formed on the film 90.
  • the liquid crystal film alignment part 22 is disposed on the downstream side of the liquid crystal film application part 20.
  • the liquid crystal film alignment unit 22 dries the liquid crystal film 122 formed on the alignment film 120 passing through the inside by heating, light irradiation, air blowing, or the like. In this case, the liquid crystal film 122 is autonomously aligned along the alignment direction of the alignment film 120.
  • the liquid crystal film curing unit 24 is disposed on the downstream side of the liquid crystal film alignment unit 22.
  • the liquid crystal film curing unit 24 cures the liquid crystal film 122 by irradiating ultraviolet rays. Thereby, the alignment of the molecules of the liquid crystal film 122 aligned along the alignment of the alignment film 120 is fixed.
  • the separate film supply unit 26 is disposed between the liquid crystal film curing unit 24 and the take-up roll 28.
  • the separate film supply unit 26 supplies and separates the separate film 92 onto the liquid crystal film 122 of the film 90.
  • the separate film 92 facilitates separation between the wound films 90. Note that the separate film supply unit 26 may be omitted.
  • the take-up roll 28 is disposed on the downstream side of the liquid crystal film curing unit 24 and on the most downstream side of the transport path.
  • the take-up roll 28 is supported so as to be rotatable.
  • the winding roll 28 winds the film 90 on which the alignment film 120 and the liquid crystal film 122 are formed and patterned. Thereby, the winding roll 28 conveys the film 90 in which the alignment film 120 and the liquid crystal film 122 are formed in the conveyance direction.
  • FIG. 4 is an overall perspective view of the exposure unit 18.
  • the upstream driven roll 32 is disposed downstream of the alignment film drying unit 16 and upstream of the upstream tension roll 44.
  • the upstream driven roll 32 is disposed above the transport path of the film 90.
  • the upstream driven roll 32 rotates in accordance with the film 90 conveyed below. Further, the upstream driven roll 32 presses the film 90 being conveyed downward.
  • the polarized light source 34 is disposed above the conveyance path of the film 90.
  • An output port 36 of the polarized light source 34 that outputs polarized light is disposed between the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46.
  • the polarized light source 34 outputs linearly polarized light to the lower film 90.
  • the circular polarization modulator 48 is arranged between the polarization light source 34 and the phase difference mask 38.
  • An example of the circular polarization modulator 48 is a quarter wavelength plate.
  • the optical axis of the circularly polarized light modulator 48 is inclined 45 ° with respect to the polarization direction of the linearly polarized light output from the polarized light source 34 in plan view.
  • the circularly polarized light modulation unit 48 modulates the linearly polarized ultraviolet light output from the polarized light source 34 into the circularly polarized ultraviolet light and outputs it to the phase difference mask 38.
  • it may be elliptically polarized light instead of complete circularly polarized light.
  • the circular polarization modulation holding unit 50 is held so as to be relatively movable with respect to the film 90 in the width direction orthogonal to the transport direction.
  • the circular polarization modulation holding unit 50 holds the circular polarization modulation unit 48. Accordingly, the circularly polarized light modulation unit 48 can move together with the circularly polarized light modulation holding unit 50 by a motor or an actuator.
  • the phase difference mask 38 modulates the circularly polarized light output from the circularly polarized light modulating unit 48 into linearly polarized light having a plurality of different optical axes and outputs it. Thereby, the several area
  • the phase difference mask 38 is disposed between the circular polarization modulator 48 and the film 90. As an example, the retardation mask 38 is disposed several hundred ⁇ m above the film 90.
  • the phase difference mask 38 includes a mask base material 56 and a mask plate 58.
  • the mask substrate 56 is made of a glass plate that can transmit light.
  • the mask base material 56 holds the mask plate 58 and maintains the shape of the mask plate 58.
  • the mask holder 40 is held relative to the film 90 so as to be relatively movable in the width direction orthogonal to the transport direction.
  • the mask holding unit 40 holds the phase difference mask 38. Accordingly, the phase difference mask 38 can be moved together with the mask holding unit 40 by a motor or an actuator.
  • the downstream driven roll 42 is arranged on the downstream side of the downstream tension roll 46.
  • the downstream driven roll 42 is disposed above the transport path of the film 90.
  • the downstream driven roll 42 rotates in accordance with the film 90 conveyed below. Further, the downstream driven roll 42 presses the film 90 being conveyed downward.
  • the upstream tension roll 44 is disposed upstream of the polarized light source 34 and the phase difference mask 38 and downstream of the upstream driven roll 32.
  • the downstream tension roll 46 is disposed downstream of the polarized light source 34 and the phase difference mask 38 and upstream of the downstream driven roll 42.
  • the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 are rotatably supported.
  • the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 may be rotatable by a drive motor or the like, or may be driven by a drive force of the take-up roll 28 or the like.
  • the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 are arranged below the transport path. Thereby, the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 come into contact with and press against the lower surface of the film 90 where the alignment film 120 is not formed. As described above, the film 90 is pressed downward by the upstream driven roll 32 and the downstream driven roll 42. Therefore, the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 impart tension in the transport direction to the film 90 pressed downward.
  • the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 are disposed with the phase difference mask 38 interposed therebetween.
  • the upstream tension roll 44 is disposed on the upstream side of the upstream end portion of the retardation mask 38, and the downstream tension roll 46 is disposed on the downstream side of the downstream end portion of the retardation mask 38.
  • the linearly polarized light output from the polarized light source 34 is reflected by the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 after being transmitted through the film 90, thereby reducing the exposure of the film 90.
  • the distance between the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46 can be shorter than the length in the long side direction of the retardation plate 100 of several cm or more provided in a general liquid crystal display device.
  • FIG. 5 is a longitudinal sectional view of the phase difference mask 38.
  • the arrow shown in the phase difference region 60 in FIG. 5 indicates the direction of the optical axis of the phase difference region 60 in plan view.
  • the mask plate 58 includes a mask pattern 62 and a resin base material 70 that holds the mask pattern 62.
  • the mask pattern 62 is an example of an alignment pattern of a retardation mask.
  • an adhesive layer or a refractive index adjusting layer is provided between the resin base material 70 of the mask plate 58 and the mask base material 56.
  • the refractive index of the adhesive layer or the refractive index adjusting layer is preferably a value between the refractive index of the mask base material 56 and the refractive index of the resin base material 70.
  • refractive index of the mask base material 56 made of glass is 1.45 to 1.55.
  • the refractive index of the resin base material 70 when configured by COP is 1.53, and the refractive index of the resin base material 70 when configured by TAC is 1.48 to 1.49.
  • a refractive index adjustment layer is provided between the resin base material 70 and the mask base material 56 of the mask plate 58, the outer periphery of the mask plate 58 is held on the mask base material 56 with a tape.
  • the mask pattern 62 has a plurality of retardation regions 60 formed corresponding to the plurality of retardation regions 104 of the alignment pattern 106 of the retardation plate 100.
  • the phase difference region 60 has a phase difference function of a quarter wavelength plate.
  • the plurality of phase difference regions 60 are arranged in a direction orthogonal to the transport direction.
  • the phase difference region 60 has the same width as the phase difference region 104 of the phase difference plate 100.
  • the width is the length in the direction orthogonal to the transport direction.
  • the plurality of phase difference regions 60 have optical axes in different directions.
  • the angle difference of the optical axis between the adjacent phase difference regions 60 is equal to the angle difference of the optical axis between the adjacent phase difference regions 104 of the phase difference plate 100.
  • the angular difference of the optical axis between the adjacent retardation regions 104 of the retardation plate 100 to be manufactured is 2.81 °
  • the angular difference of the optical axis between the adjacent retardation regions 60 is also 2.81. °.
  • the retardation region 60 includes an alignment film 72 and a liquid crystal film 74 laminated on one surface of the resin base material 70.
  • the retardation mask 38 is held by the mask holding unit 40 in a state where the liquid crystal film 74 is disposed on the film 90 side on which the alignment film 120 is applied.
  • FIG. 6 is a perspective view for explaining exposure of the film 90 by the mask plate 58 of the phase difference mask 38.
  • the polarized light source 34 when the film 90 is exposed, the polarized light source 34 outputs linearly polarized light. Linearly polarized light is modulated into circularly polarized light by the circularly polarized light modulator 48 and output. The circularly polarized light is modulated into linearly polarized light by the mask plate 58 and output.
  • each of the retardation regions 60 of the mask plate 58 has a different optical axis
  • the polarization direction of the linearly polarized light output from each of the retardation regions 60 differs corresponding to each optical axis.
  • the angle difference of the optical axis between the adjacent phase difference regions 60 is 2.81 °
  • the angle difference between the polarization directions of the linearly polarized light output from the adjacent phase difference regions 60 is also 2. 81 °.
  • the linearly polarized light output from the phase difference region 60 is aligned with the alignment film 120 applied to the film 90 with the same width as the phase difference region 60 from which the linearly polarized light is output, so that the alignment film 120 in the phase difference region 104 is aligned.
  • the angle difference between the optical axis of the phase difference region 60 and the corresponding optical axis of the phase difference region 104 is 45 °. This is because the phase difference region 60 outputs circularly polarized light as linearly polarized light whose polarization direction is a direction obtained by rotating the circularly polarized light by 45 ° from its own optical axis.
  • a method for manufacturing the retardation film 100 will be described.
  • a long film 90 wound around the feed roll 12 is prepared.
  • an example of the total length of the film 90 is about 1000 m.
  • An example of the width of the film 90 is about 1 m.
  • one end of the film 90 is fixed to the take-up roll 28.
  • the film 90 is disposed through the upper surfaces of the upstream tension roll 44 and the downstream tension roll 46.
  • a phase difference mask 38 is prepared and held by the mask holding unit 40.
  • the take-up roll 28 starts to rotate.
  • the film 90 is sent out from the delivery roll 12, and the film 90 is transported along the transport direction.
  • the fed film 90 passes under the alignment film application part 14.
  • the non-oriented alignment film 120 is applied and disposed on the upper surface of the film 90 by the alignment film application unit 14 over substantially the entire width direction.
  • the application of the alignment film 120 is continuously performed while the film 90 is conveyed. Therefore, the alignment film 120 is continuously applied to the upper surface of the film 90 over the entire length in the transport direction except for a part of both ends.
  • the film 90 coated with the alignment film 120 is transported and passes through the alignment film drying unit 16. Thereby, the alignment film 120 applied to the upper surface of the film 90 is dried. Thereafter, the film 90 passes under the upstream driven roll 32 and the upper surface of the upstream tension roll 44.
  • the polarized light source 34 irradiates the phase difference mask 38 with circularly polarized light and is emitted from the phase difference mask 38.
  • the alignment film 120 By irradiating the alignment film 120 with the linearly polarized light, a plurality of regions in which the optical axes are aligned in different directions corresponding to the optical axis of the retardation region 60 of the mask plate 58 are formed in the alignment film 120.
  • the film 90 on which the alignment film 120 is exposed passes below the downstream driven roll 42 and reaches below the liquid crystal film application unit 20.
  • the liquid crystal film 122 is applied to the upper surface of the alignment film 120.
  • the coating amount of the liquid crystal film 122 is adjusted by the desired retardation of the retardation plate 100. That is, a phase difference function of a quarter wave plate is provided in the phase difference region 104 of the finished phase difference plate 100, and a phase difference of a half wavelength plate is provided in the phase difference region 104 of the phase difference plate 100 of the finished product.
  • the application amount of the liquid crystal film 122 is different from the case where the function is provided.
  • a phase difference function of a quarter wavelength plate is provided in a part of the film 90 in the conveyance direction, and a phase difference of a half wavelength plate is provided in the remaining part. Functions can be provided. Since the liquid crystal film 122 is continuously applied to the upper surface of the alignment film 120 of the film 90 being conveyed, the liquid crystal film 122 is applied over the entire length of the film 90 in the conveyance direction.
  • the film 90 coated with the liquid crystal film 122 is conveyed and passes through the liquid crystal film alignment unit 22.
  • the liquid crystal film 122 is heated by the liquid crystal film alignment unit 22, so that the molecules of the liquid crystal film 122 are dried while being aligned along the alignment of the alignment film 120 formed on the lower surface.
  • a plurality of retardation regions 104 each having a different optical axis are formed on the film 90.
  • the film 90 on which the applied liquid crystal film 122 is oriented passes through the liquid crystal film curing part 24. Accordingly, the liquid crystal film 122 is irradiated with ultraviolet rays, and the liquid crystal film 122 is cured in a state where the molecules of the liquid crystal film 122 are aligned along the optical axis of the alignment film 120. As a result, as shown in FIGS. 1 and 2, the retardation regions 104 formed by the alignment film 120 and the liquid crystal film 122 are formed so as to be arranged in the width direction of the film 90. Next, a separate film 92 is supplied to the upper surface of the liquid crystal film 122 and pasted. Then, the film 90 with the separate film 92 attached to the upper surface is taken up by the take-up roll 28.
  • the film 90 is conveyed by the take-up roll 28 until the supply of the film 90 wound around the feed roll 12 is completed. And when all the films 90 wound around the delivery roll 12 are supplied, the manufacturing process of the phase difference plate 100 will be complete
  • the film 90 may be continuously exposed by connecting the rear end of the completed film 90 to the front end of the next new film 90. Finally, the film 90 is cut to a predetermined length to complete the retardation plate 100 shown in FIGS.
  • the retardation plate manufacturing method In the retardation plate manufacturing method according to the present embodiment, circularly polarized light is input to the mask plate 58 provided in the retardation mask 38.
  • the degree of deterioration differs for each phase difference region 60 depending on the relationship between the polarization direction of the linearly polarized light and the direction of the optical axis of the phase difference region 60 of the mask plate 58. . Therefore, the phase difference plate 100 manufactured by inputting linearly polarized light to the mask plate 58 varies in the degree of orientation disorder between the phase difference regions 104.
  • the retardation plate 100 manufactured by inputting circularly polarized light to the mask plate 58 has a uniform degree of orientation disorder between the retardation regions 104.
  • the mask plate 58 is replaced in accordance with the phase difference region 60 having the greatest deterioration, so that the life of the mask plate 58 is short.
  • the mask plate 58 since circularly polarized light is input to the mask plate 58, all of the retardation regions 60 of the mask plate 58 are deteriorated to approximately the same level, and the life of the mask plate 58 can be extended.
  • the retardation region 104 is formed on the film 90 with the same width as the retardation region 60 of the mask plate 58.
  • the retardation plate 100 manufactured can be used as the mask plate 58 by providing the retardation region 104 of the manufactured retardation plate 100 with a retardation function of a quarter wavelength plate.
  • the liquid crystal film 74 of the retardation mask 38 is disposed on the film 90 side where the alignment film 120 is formed. Thereby, the polarization state of the linearly polarized light modulated by the phase difference region 60 including the liquid crystal film 74 is maintained, and the alignment film 120 is irradiated. Thereby, the alignment film 120 is more appropriately aligned.
  • the example in which the retardation film 100 is manufactured while the film 90 is conveyed is shown.
  • the alignment film 120 and the liquid crystal film 122 are applied to the film 90 having the same shape as the retardation film 100 of the finished product.
  • the retardation plates 100 may be manufactured one by one by exposing in a state.
  • a mask plate 58 having five retardation regions 60 having optical axes of 0 °, 30 °, 45 °, 60 °, and 90 ° was prepared and used as a sample.
  • the sample was examined for deterioration of the sample by inputting linearly polarized light having a polarization direction of 0 ° and circularly polarized light.
  • the 0 ° polarization direction is parallel to the optical axis of the 0 ° retardation region 60.
  • FIGS. 7 and 8 are graphs showing the relationship between the deterioration of the mask plate 58 and the integrated irradiation energy.
  • FIG. 7 shows experimental results when linearly polarized light having a polarization direction parallel to the optical axis of 0 ° is input.
  • FIG. 8 shows the experimental results when circularly polarized light is input.
  • the phase difference between the input polarized light at the start of polarization input and the output polarized light is “1”, and the change in the ratio of the phase difference to the phase difference at the start of input is plotted. did.
  • the angle in FIGS. 7 and 8 indicates the angle of the optical axis of the phase difference region 60.
  • phase difference ratio is “0.8” as a criterion for degradation
  • linearly polarized light when linearly polarized light is input, it is determined that degradation has occurred when the integrated irradiation energy reaches approximately 24000 mJ / cm 2 , and the mask plate 58 is replaced.
  • circularly polarized light when circularly polarized light is input, it is not determined that the accumulated irradiation energy is about 30000 mJ / cm 2 , and the mask plate 58 can be used.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of the modified retardation mask 39.
  • the phase difference mask 39 further includes a protective film 64.
  • the protective film 64 is formed on one surface of the mask plate 58 opposite to the mask base material 56. In other words, the protective film 64 is formed on the outer surface of the liquid crystal film of the mask plate 58. The protective film 64 prevents the retardation region 60 of the mask pattern 62 from being oxidized.
  • the protective film 64 is preferably made of a material that is impermeable to air.
  • the protective film 64 can be composed of, for example, an antireflection film, an antiglare film, a hard coat film, or the like.
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the deterioration of the mask plate 58 on which the protective film 64 is formed and the integrated irradiation energy.
  • An antireflection film was formed as the protective film 64.
  • a mask plate 58 without the protective film 64 was prepared.
  • the two types of mask plates 58 were irradiated with 4.5 mW ultraviolet rays having a wavelength intensity peak of 280 nm to 320 nm.
  • the mask plate 58 on which the protective film 64 is formed is hardly deteriorated.
  • the mask plate 58 on which the protective film 64 is not formed is clearly deteriorated when the integrated irradiation energy is 3000 mJ / cm 2 .
  • the protective film 64 can protect the mask plate 58.
  • a method for manufacturing the retardation mask 38 will be described.
  • An unoriented photo-alignment alignment film 72 is applied to the resin substrate 70. Alignment is performed by repeating the steps of irradiating the linearly polarized light from the slit having the same width as the phase difference region 60 and irradiating the linearly polarized light having a different polarization direction after shifting the slit by the width to the unoriented alignment film 72.
  • the film 72 is oriented.
  • a liquid crystal film 74 is applied on the alignment film 72, and the liquid crystal film 74 is autonomously aligned along the alignment direction of the alignment film 72 and cured.
  • the retardation mask 38 for the retardation plate 100 may be manufactured by the manufacturing method shown in FIGS.
  • the retardation plate 100 including the resin base material 102 made of resin is taken as an example.
  • a glass base material that supports the alignment film 120 and the liquid crystal film 122 is used as a retardation. It may be provided on the plate 100.
  • the alignment film 120 is not exposed while conveying the glass substrate. For example, in this case, a glass substrate having the same shape as the finished product is prepared. Next, the alignment film 120 is applied to the glass substrate, and the alignment film 120 is exposed and aligned. Thereafter, the phase difference plate 100 is manufactured by aligning the liquid crystal film 122 applied on the alignment film 120.
  • FIG. 11 is a plan view for explaining the orientation pattern 306 of the retardation film 300 oriented by the modified retardation mask 338.
  • the upstream and downstream shown in FIG. 11 are upstream and downstream in the transport direction.
  • FIG. 12 is a longitudinal sectional view of the mask member 370 and the mask member 372 of the phase difference mask 338. Reference numerals and optical axes shown in parentheses in FIG. 12 are reference numerals and optical axes of the mask member 372.
  • the optical axis in FIG. 12 is an optical axis in plan view.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating an exploded perspective view of the retardation mask 338 and the relationship between the film 90.
  • the retardation plate 300 manufactured in the present embodiment has the same configuration as the retardation plate 100 except that the orientation pattern 306 is different. In the phase difference plate 300, a plurality of the same alignment patterns 306 are repeated.
  • the alignment pattern 306 includes six retardation regions 304 having optical axes that are aligned in different directions.
  • the phase difference mask 338 includes a mask member 370 and a mask member 372.
  • the mask member 370 includes a mask base material 380, a refractive index adjustment layer 382, three mask patterns 384, and ten light shielding films 386.
  • the hatched area is a light shielding film 386.
  • the mask substrate 380 is made of a glass plate that can transmit light.
  • the mask base material 380 holds the mask pattern 384 and maintains the shape of the mask pattern 384.
  • the refractive index adjustment layer 382 is provided at the interface between the mask base material 380 and the mask pattern 384.
  • the refractive index of the refractive index adjustment layer 382 preferably has a refractive index between the refractive index of the mask base material 380 and the refractive index of the mask pattern 384.
  • the refractive index adjustment layer 382 relaxes the change in the refractive index at the interface between the mask base material 380 and the mask pattern 384.
  • the refractive index adjustment layer 382 reduces the light reflected by the interface between the mask base material 380 and the mask pattern 384, and reduces the interface between the mask base material 380 and the mask pattern 384 and the upper surface of the mask base material 380.
  • the refractive index adjusting layer 382 can use an adjusting agent in which an aromatic substance is mixed with a polyolefin base oil, and includes, for example, Cargill standard refractive liquid series A (refractive index range: 1.460 to 1.640). .
  • the mask pattern 384 is provided on the lower surface of the mask base material 380 via the refractive index adjustment layer 382.
  • the three mask patterns 384 are arranged in a direction orthogonal to the transport direction.
  • One side of the mask pattern 384 is arranged in contact with one side of the adjacent mask pattern 384.
  • the mask pattern 384 has three retardation regions 388 corresponding to a part of the retardation region 304 of the alignment pattern 306 of the retardation plate 300.
  • the three phase difference regions 388 are arranged in a direction orthogonal to the transport direction.
  • the phase difference region 388 has a 1 ⁇ 4 phase difference function.
  • the phase difference region 388 outputs linearly polarized light whose polarization direction is a direction rotated by 45 ° with respect to its own optical axis.
  • the alignment directions of the adjacent retardation regions 388 are different by 60 °.
  • the three mask patterns 384 have the same alignment pattern.
  • the width MW of the retardation region 388 of the mask pattern 384 is twice the width PW of the retardation region 304 formed on the oriented film 90 and the retardation plate 300.
  • the width MW only needs to be larger than the width PW.
  • the width of the mask pattern 384 and the width of the retardation region 388 are the lengths in the direction orthogonal to the transport direction.
  • the mask pattern 384 includes an alignment film, a liquid crystal film, and a resin base material, and has the same configuration as the phase difference masks 38 and 39.
  • the resin base material may be omitted, and the alignment film and the liquid crystal film may be formed on the mask base material 380 via the refractive index adjustment layer 382.
  • 10 light shielding films 386 are provided on the upper surface of the mask base material 380. That is, the mask pattern 384 of the mask member 370 is disposed at a position closer to the film 90 to which the alignment film 120 is applied than to the light shielding film 386.
  • the ten light shielding films 386 are arranged in a direction orthogonal to the transport direction.
  • the light shielding film 386 is formed on the boundary line between the adjacent mask patterns 384 or on the boundary line between the adjacent retardation regions 388 in each mask pattern 384.
  • the center of the light shielding film 386 is disposed on the boundary line between the adjacent mask patterns 384 or on the boundary line between the adjacent retardation regions 388 in each mask pattern 384.
  • the width of the light shielding film 386 is half of the width MW of the phase difference region 388 of the mask pattern 384.
  • the interval between adjacent light shielding films 386 is the same as the width of the light shielding film 386. That is, the retardation region 388 of the mask pattern 384 that is not covered by the light shielding film 386 is equal to the width PW of the retardation region 304 of the film 90.
  • the alignment film 120 applied to the film 90 is exposed and aligned by the retardation region 388 that is not covered by the light shielding film 386.
  • the mask member 372 is disposed at a different position away from the mask member 370 in the transport direction.
  • Mask member 372 and mask member 370 are arranged so as not to overlap each other in plan view.
  • the mask member 372 is disposed at a position shifted by the same length as the width PW of the phase difference region 388 in the direction orthogonal to the transport direction.
  • the mask member 372 includes a mask base material 390, a refractive index adjustment layer 392, three mask patterns 394, and ten light shielding films 396.
  • the mask base material 390, the refractive index adjustment layer 392, and the light shielding film 396 have the same configurations as the mask base material 380, the refractive index adjustment layer 382, and the light shielding film 386, respectively.
  • the mask pattern 394 has three phase difference regions 398.
  • the mask pattern 394 has the same configuration as the mask pattern 384 except that the orientation direction of the retardation region 398 is different from the orientation direction of the retardation region 388 of the mask pattern 384.
  • the phase difference region 398 of the mask pattern 394 is disposed at a position that does not overlap the phase difference region 388 of the mask pattern 384 in the direction orthogonal to the transport direction.
  • the alignment direction of the retardation region 398 of the mask pattern 394 differs from the alignment direction of the retardation region 388 of the adjacent mask pattern 384 by 30 ° in the direction orthogonal to the transport direction.
  • the alignment film 120 applied to the film 90 is aligned by rotating the alignment direction of the adjacent retardation region 304 by 30 ° as shown in the lower diagram of FIG.
  • the retardation plate manufacturing apparatus in the present embodiment is the same except that the circular polarization modulator 48 is omitted from the retardation plate manufacturing apparatus 10.
  • a mask member 370 and a mask member 372 of the retardation mask 338 are prepared and arranged.
  • the mask member 370 is disposed on the upstream side of the mask member 372.
  • the exposed retardation region 388 of the mask pattern 384 of the mask member 370 is disposed at a position different from the exposed retardation region 398 of the mask pattern 394 of the mask member 372 in the direction orthogonal to the transport direction.
  • the film 90 provided with the non-oriented alignment film 120 applied on one side is conveyed.
  • the polarized light source 34 irradiates the phase difference mask 338 with linearly polarized light.
  • the alignment film 120 applied to the film 90 passing under the retardation mask 338 is first aligned by being irradiated with linearly polarized light emitted from the mask pattern 384 of the retardation mask 338.
  • the region of the alignment film 120 that passes below the region where the light shielding film 386 of the mask member 370 is formed is not aligned. Therefore, the alignment film 120 is aligned with the same interval as the width of the light shielding film 386.
  • the alignment film 120 of the film 90 is oriented like a mask pattern 394 by being further conveyed. Thereby, the alignment film 120 is aligned for each region without a gap.
  • the region of the alignment film 120 that passes below the boundary line between the mask pattern 384 and the mask pattern 384 of the mask member 370 is aligned by the mask pattern 394 of the mask member 372.
  • the region of the alignment film 120 that passes below the boundary line between the mask pattern 394 and the mask pattern 394 of the mask member 372 is aligned by the mask pattern 384 of the mask member 370.
  • the alignment film 120 in the region corresponding to the boundary line of the mask patterns 384 and 394 is not aligned, and no non-oriented region remains.
  • the liquid crystal film 122 is applied on the alignment film 120 to complete the retardation film 300.
  • the manufacturing method of the present embodiment by arranging the plurality of mask patterns 384 and 394, the same alignment pattern 306 is repeated, and the retardation plate 300 that is long in the arrangement direction can be easily formed. Can be manufactured.
  • a retardation plate is manufactured with a single mask pattern as in the conventional manufacturing method, it is necessary to recreate the mask pattern when trying to manufacture a retardation plate that is long in the arrangement direction.
  • the manufacturing method of the present embodiment can easily manufacture a retardation plate that is long in the arrangement direction.
  • the mask member 370 and the mask member 372 are arranged at different positions in the transport direction. Further, the region corresponding to the boundary line between the mask patterns 384 of the mask member 370 is oriented by the mask pattern 394 of the mask member 372, and the region corresponding to the boundary line between the mask patterns 394 of the mask member 372 is defined as the mask member. Oriented by 370 mask patterns 384. Thereby, the state where the alignment film 120 in the region corresponding to the boundary line of the mask patterns 384 and 394 is not aligned can be suppressed. As a result, when the retardation film 300 manufactured according to the present embodiment is applied to a diffraction grating of an optical low-pass filter, it is possible to reduce light that is transmitted without being diffracted.
  • FIG. 14 is a plan view of the modified phase difference mask 438.
  • the phase difference mask 438 includes a mask base material 480 and three mask plates 484.
  • the mask base material 480 has the same configuration as the mask base material 380.
  • FIG. 15 is a diagram illustrating an embodiment in which the mask members 370 and 372 are changed.
  • 11 to 13 show an example in which the light shielding film 386 is disposed above the mask members 370 and 372.
  • the light shielding film 386 may be disposed below the mask members 370 and 372. Good. In this case, the interval between the light shielding films 386 is accurately reflected in the width of the phase difference region 304 of the phase difference plate 300.
  • the phase difference regions 388 and 398 have been described as having a 1 ⁇ 4 phase difference function.
  • the phase difference regions 388 and 398 may be configured to have a 1 ⁇ 2 phase difference function.
  • the angles of the optical axes of the phase difference regions 388 and 398 are different from those in FIG.
  • the angle of the optical axis of the phase difference region 388 is 45 °, 15 °, and ⁇ 15 ° from the region at the left end of FIG.
  • the angle of the optical axis of the phase difference region 398 is 30 °, 0 °, and 30 ° from the left end region of the drawing.
  • the angle of the optical axis is an angle obtained by rotating the optical axis to the left from the direction perpendicular to the transport direction as 0 °.
  • the phase difference plate 300 in which the optical axes of the adjacent phase difference regions 304 rotate at equiangular intervals can be manufactured.
  • the mask plate 484 is provided on one surface of the mask base material 480. Note that the above-described refractive index adjustment layer 382 is preferably provided between the mask plate 484 and the mask base material 480.
  • the three mask plates 484 are arranged without a gap along a direction orthogonal to the transport direction.
  • the mask plate 484 has six retardation regions 488.
  • the phase difference region 488 has a 1/2 phase difference function.
  • the six retardation regions 488 have different optical axes.
  • the retardation plate 300 that is long in the arrangement direction can be easily manufactured by adding the mask plate 484.
  • the mask plates 484 are arranged in a line on the mask base material 480, the alignment between the mask plate 484 and another mask plate 484 in the exposure stage can be omitted.
  • a plurality of mask plates 58 on which the mask pattern 62 is formed may be arranged. Thereby, also in embodiment shown in FIG. 5, it can respond to the wide film 90.
  • each phase difference region 388 and 398 may have a function of a quarter wavelength plate, and the phase difference mask 338 may be irradiated with elliptically polarized light. Thereby, also in the phase difference mask 338, partial deterioration can be prevented.
  • the retardation mask 38 includes a mask base material 56 and a resin base material 70, but either one may be used. Further, the phase difference mask 38 has the same optical axis in one phase difference region 60 and the phase difference regions 60 are arranged side by side, but the optical axis may be continuously changed.

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Description

位相差板の製造方法
　本発明は、位相差板の製造方法に関する。
　配向方向の異なる複数の領域が形成されたマスクに直線偏光を照射して、互いに配向方向が異なる複数の領域を有する配向パターンを有する光学部材を形成する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
　［特許文献１］　特開平９－３３９１４号公報
　しかしながら、マスクの複数の領域において、照射される直線偏光の偏光方向と領域の配向方向との間の角度によって、領域の劣化の度合いが異なる。これにより、光学部材の複数の領域間で配向の乱れ度合がばらつくという不具合があった。
　本発明の第１の態様においては、互いに異なる方向に光学軸が配向された複数の領域が形成された配向パターンを有する位相差板の製造方法であって、基材の一面に光で配向する未配向の光配向層を配する工程と、前記位相差板の前記配向パターンの前記複数の領域に対応して、１／４波長板の位相差機能を有する複数の領域が形成された配向パターンを有する位相差マスクを準備する工程と、前記位相差マスクに楕円偏光を照射して、前記位相差マスクから出射した偏光を前記光配向層に照射することにより、前記光配向層を配向させる工程とを備える位相差板の製造方法を提供する。
　本発明の第２の態様においては、互いに異なる方向に光学軸が配向された複数の領域が形成された配向パターンが繰り返された位相差板の製造方法であって、基材の一面に光で配向する未配向の光配向層を配する工程と、前記位相差板の前記配向パターンの前記複数の領域の少なくとも一部に対応する複数の領域が形成された配向パターンを有する位相差板を複数並べた位相差マスクを準備する工程と、前記位相差マスクに偏光を照射して、前記位相差マスクから出射した偏光を前記光配向層に照射することにより、前記光配向層を配向させる工程とを備える位相差板の製造方法を提供する。
　なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
本実施形態により製造される位相差板１００の全体平面図である。 図１のＩＩ－ＩＩ線に沿った縦断面図である。 本実施形態による位相差板製造装置１０の全体構成図である。 露光部１８の全体斜視図である。 位相差マスク３８の縦断面図である。 位相差マスク３８のマスク板５８によるフィルム９０の露光を説明する斜視図である。 マスク板５８の劣化と、積算照射エネルギーとの関係を示すグラフである。 マスク板５８の劣化と、積算照射エネルギーとの関係を示すグラフである。 位相差マスク３８の断面図である。 保護膜６４を形成したマスク板５８の劣化と、積算照射エネルギーとの関係を示すグラフである。 変更した位相差マスク３３８により配向された位相差板３００の配向パターン３０６を説明する平面図である。 位相差マスク３３８のマスク部材３７０及びマスク部材３７２の縦断面図である。 位相差マスク３３８の分解斜視図とフィルム９０の関係を示す図である。 変更した位相差マスク４３８の平面図である。 マスク部材３７０、３７２を変更した実施形態を説明する図である。
　以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
　図１は、本実施形態の製造方法により製造される位相差板１００の全体平面図である。図１に矢印で示す鉛直及び水平を位相差板１００の鉛直方向及び水平方向とする。
　位相差板１００は、例えば、光学ローパスフィルターの回折格子の一部として設けられる。位相差板１００は、一辺が数十ｃｍ～数ｍの長方形状に形成されている。図１に示すように、位相差板１００は、樹脂基材１０２と、配向パターン１０６とを備える。
　樹脂基材１０２は、後述する樹脂製の長尺状のフィルムが一定の長さに切断されて形成される。樹脂基材１０２は、光を透過する。樹脂基材１０２の厚みの一例は、５０μｍ～１００μｍである。樹脂基材１０２は、配向パターン１０６を支持する。
　樹脂基材１０２は、シクロオレフィン系のフィルムによって構成することができる。シクロオレフィン系フィルムとして、シクロオレフィンポリマー（＝ＣＯＰ）、より好ましくは、シクロオレフィンポリマーの共重合体であるシクロオレフィンコポリマー（＝ＣＯＣ）を使用することができる。ＣＯＰフィルムとして、日本ゼオン社製のゼオノアフィルムＺＦ１４を挙げることができる。また、樹脂基材１０２は、トリアセチルセルロース（＝ＴＡＣ）を含む材料によって構成してもよい。ＴＡＣフィルムは、富士写真フィルム社製のフジタックＴ８０ＳＺ及びＴＤ８０ＵＬ等を挙げることができる。尚、シクロオレフィン系フィルムを使用する場合は、脆弱性の観点から高靭性タイプのフィルムを使用することが好ましい。
　配向パターン１０６は、樹脂基材１０２の一面に形成されている。配向パターン１０６には、複数の位相差領域１０４が形成されている。位相差領域１０４は、平面視において、同じ形状に形成されている。位相差領域１０４の各々は、樹脂基材１０２の鉛直方向に沿って延びる長方形状である。位相差領域１０４は、互いに鉛直方向の辺を接して、水平方向に沿って配列されている。尚、位相差領域１０４の各々が樹脂基材１０２の水平方向に沿って延びる長方形状であって、それらが鉛直方向に沿って配列されてもよい。
　位相差領域１０４は、透過する偏光の偏光状態を変調させる。位相差領域１０４は、例えば、１／２波長板の位相差機能を有する。尚、位相差領域１０４は、１／４波長板の位相差機能を有していてもよい。以下、位相差領域１０４が１／２波長板の位相差機能を有する場合について説明する。
　位相差領域１０４は、図１の位相差領域１０４の上端に矢印で示す方向の光学軸を有する。ここでいう光学軸は、進相軸または遅相軸である。複数の位相差領域１０４は、互いに異なる方向に光学軸が配向されている。
　位相差領域１０４の光学軸と隣接する位相差領域１０４の光学軸の角度差は、等角度である。例えば、当該光学軸の角度差は、２．８１°である。従って、図１に示すように、右端の位相差領域１０４の光学軸が水平方向の場合、右端から２番目の位相差領域１０４の光学軸は、水平方向から２．８１°傾いた方向にある。更に、右端からｎ番目の位相差領域１０４の光学軸は、水平方向から２．８１×（ｎ－１）°傾いた方向にある。尚、複数の位相差領域１０４の全ての光学軸が、異なる方向でなくてもよく、複数の位相差領域１０４のうち、同じ方向に光学軸が配向されている領域があってもよい。
　図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿った縦断面図である。図２に示すように、位相差領域１０４は、光配向層の一例である配向膜１２０と、液晶膜１２２とを有する。尚、図２の位相差領域１０４に示す矢印は、平面視における位相差領域１０４の光学軸の方向を示す。
　配向膜１２０は、樹脂基材１０２の面上に形成されている。配向膜１２０は、光配向性化合物を適用できる。光配向性化合物は、紫外線等の直線偏光が照射されると、その直線偏光の偏光方向に分子が規則的に配向される材料である。更に、光配向性化合物は、自己の上に形成された液晶膜１２２の分子を自己の配向に沿って並ばせる機能を有する。光配向性化合物の例として、光分解型、光二量化型、光異性化型等の化合物をあげることができる。配向膜１２０の分子は、位相差領域１０４の光学軸に対応した方向に配向している。
　液晶膜１２２は、配向膜１２０上に形成される。液晶膜１２２の一例は、紫外線または加熱等によって硬化可能な液晶ポリマーである。液晶膜１２２は、配向膜１２０の配向に沿って、配向される。
　図３は、本実施形態による位相差板製造装置１０の全体構成図である。図３に矢印で示す上下を位相差板製造装置１０の上下方向とする。また、上流及び下流は、搬送方向における上流及び下流とする。尚、搬送方向は、フィルム９０の長手方向及び位相差板１００の鉛直方向と同方向であって、位相差領域１０４の配列方向及び位相差板１００の水平方向と直交する。
　図３に示すように、位相差板製造装置１０は、送り出しロール１２と、配向膜塗布部１４と、配向膜乾燥部１６と、露光部１８と、液晶膜塗布部２０と、液晶膜配向部２２と、液晶膜硬化部２４と、セパレートフィルム供給部２６と、巻き取りロール２８とを備える。
　送り出しロール１２は、フィルム９０の搬送経路の最も上流側に配置されている。送り出しロール１２の外周には、供給用のフィルム９０が巻かれている。供給用のフィルム９０は、樹脂基材１０２と同じ材料である。送り出しロール１２は、回転可能に支持されている。これにより、送り出しロール１２は、フィルム９０を送り出し可能に保持できる。送り出しロール１２は、モータ等の駆動機構によって回転可能であってもよいし、巻き取りロール２８の回転に伴って、従動可能であってもよい。あるいは、搬送経路の途中にフィルム９０を搬送する機構を設けてもよい。
　配向膜塗布部１４は、送り出しロール１２の下流側であって、搬送されるフィルム９０の搬送経路の上方に配置されている。配向膜塗布部１４は、フィルム９０の上面に、未配向の液状の配向膜１２０を供給して塗布する。
　配向膜乾燥部１６は、配向膜塗布部１４の下流側に配置されている。配向膜乾燥部１６は、加熱、光照射、または送風等によって、内部を通過するフィルム９０上に塗布された配向膜１２０を乾燥させる。
　露光部１８は、配向膜乾燥部１６の下流側に配置されている。露光部１８は、上流側従動ロール３２と、偏光光源３４と、円偏光変調部４８と、円偏光変調保持部５０と、位相差マスク３８と、マスク保持部４０と、下流側従動ロール４２と、一対の上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６とを有する。露光部１８は、偏光光源３４の出力口３６から出力された偏光を、円偏光変調部４８及び位相差マスク３８を介して、フィルム９０上に塗布された配向膜１２０に照射する。これにより、露光部１８は、配向膜１２０を配向させて、パターンを形成する。偏光光源３４から出力される偏光の一例は、２８０ｎｍから３４０ｎｍの波長の紫外線である。
　液晶膜塗布部２０は、露光部１８の下流側に配置されている。液晶膜塗布部２０は、フィルム９０の搬送経路の上方に配置されている。液晶膜塗布部２０は、フィルム９０に形成された配向膜１２０上に液晶膜１２２を供給して、塗布する。
　液晶膜配向部２２は、液晶膜塗布部２０の下流側に配置されている。液晶膜配向部２２は、加熱、光照射、または、送風等によって、内部を通過する配向膜１２０上に形成された液晶膜１２２を乾燥させる。この場合に、液晶膜１２２は配向膜１２０の配向方向に沿って自律的に配向する。
　液晶膜硬化部２４は、液晶膜配向部２２の下流側に配置されている。液晶膜硬化部２４は、紫外線を照射することにより、液晶膜１２２を硬化させる。これにより、配向膜１２０の配向に沿って配向された液晶膜１２２の分子の配向が、固定される。
　セパレートフィルム供給部２６は、液晶膜硬化部２４と巻き取りロール２８との間に配置されている。セパレートフィルム供給部２６は、フィルム９０の液晶膜１２２上にセパレートフィルム９２を供給して、貼り合わせる。セパレートフィルム９２は、巻き取られたフィルム９０間の離脱を容易にする。尚、セパレートフィルム供給部２６は、省略してもよい。
　巻き取りロール２８は、液晶膜硬化部２４の下流側であって、搬送経路の最も下流側に配置されている。巻き取りロール２８は、回転駆動可能に支持されている。巻き取りロール２８は、配向膜１２０及び液晶膜１２２が形成されてパターニングされたフィルム９０を巻き取る。これにより、巻き取りロール２８は、配向膜１２０及び液晶膜１２２が形成されたフィルム９０を搬送方向に搬送する。
　図４は、露光部１８の全体斜視図である。図４に示すように、上流側従動ロール３２は、配向膜乾燥部１６の下流側であって、上流側張力ロール４４の上流側に配置されている。上流側従動ロール３２は、フィルム９０の搬送経路の上方に配置されている。上流側従動ロール３２は、下方を搬送されるフィルム９０に合わせて回転する。また、上流側従動ロール３２は、搬送中のフィルム９０を下方へと押圧する。
　偏光光源３４は、フィルム９０の搬送経路の上方に配置されている。偏光が出力される偏光光源３４の出力口３６は、上流側張力ロール４４と下流側張力ロール４６との間に配置されている。偏光光源３４は、直線偏光を下方のフィルム９０へと出力する。
　円偏光変調部４８は、偏光光源３４と位相差マスク３８との間に配置される。円偏光変調部４８の一例は、１／４波長板である。円偏光変調部４８の光学軸は、平面視において、偏光光源３４から出力される直線偏光の偏光方向に対して、４５°傾いている。これにより、円偏光変調部４８は、偏光光源３４から出力された紫外線の直線偏光を紫外線の円偏光に変調して、位相差マスク３８へと出力する。なお完全な円偏光ではなく、楕円偏光になっていてもよい。
　円偏光変調保持部５０は、フィルム９０に対して、搬送方向と直交する幅方向に相対移動可能に保持されている。円偏光変調保持部５０は、円偏光変調部４８を保持する。これにより、円偏光変調部４８は、モータまたはアクチュエータ等によって円偏光変調保持部５０とともに移動できる。
　位相差マスク３８は、円偏光変調部４８から出力された円偏光を複数の異なる光学軸を有する直線偏光に変調して出力する。これにより、フィルム９０の複数の領域が、所定の配向パターンに露光される。位相差マスク３８は、円偏光変調部４８とフィルム９０との間に配置される。一例として、位相差マスク３８は、フィルム９０の数百μｍ上方に配置される。位相差マスク３８は、マスク基材５６と、マスク板５８とを有する。マスク基材５６は、光を透過可能なガラス板からなる。マスク基材５６は、マスク板５８を保持して、マスク板５８の形状を維持する。
　マスク保持部４０は、フィルム９０に対して、搬送方向と直交する幅方向に相対移動可能に保持されている。マスク保持部４０は、位相差マスク３８を保持する。これにより、位相差マスク３８は、モータまたはアクチュエータ等によってマスク保持部４０とともに移動できる。
　下流側従動ロール４２は、下流側張力ロール４６の下流側に配置されている。下流側従動ロール４２は、フィルム９０の搬送経路の上方に配置されている。下流側従動ロール４２は、下方を搬送されるフィルム９０に合わせて回転する。また、下流側従動ロール４２は、搬送中のフィルム９０を下方へと押圧する。
　上流側張力ロール４４は、偏光光源３４及び位相差マスク３８の上流側であって、上流側従動ロール３２の下流側に配置されている。下流側張力ロール４６は、偏光光源３４及び位相差マスク３８の下流側であって、下流側従動ロール４２の上流側に配置されている。上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６は、回転可能に支持されている。上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６は、駆動モータ等によって自転可能であってもよいし、巻き取りロール２８等の駆動力によって従動可能であってもよい。
　上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６は、搬送経路の下に配置されている。これにより、上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６は、フィルム９０の面のうち、フィルム９０の配向膜１２０が形成されていない面である下面と接触して押圧する。上述したように、フィルム９０は、上流側従動ロール３２及び下流側従動ロール４２によって下方へ押圧されている。従って、上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６は、下方に押圧されているフィルム９０に搬送方向の張力を付与する。
　上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６は、位相差マスク３８を挟んで配置されている。上流側張力ロール４４は、位相差マスク３８の上流側端部よりも上流側に配置され、下流側張力ロール４６は、位相差マスク３８の下流側端部よりも下流側に配置されている。これにより、偏光光源３４から出力された直線偏光が、フィルム９０を透過した後、上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６によって反射されてフィルム９０を露光することを、低減する。上流側張力ロール４４と下流側張力ロール４６との間の距離は、一般的な液晶表示装置に設けられる数ｃｍ以上の位相差板１００の長辺方向の長さよりも短くすることができる。これにより、上流側張力ロール４４と下流側張力ロール４６との間のフィルム９０に搬送方向の張力を十分に付与することができる。
　図５は、位相差マスク３８の縦断面図である。図５の位相差領域６０に示す矢印は、平面視における位相差領域６０の光学軸の方向を示す。図５に示すように、マスク板５８は、マスクパターン６２と、マスクパターン６２を保持する樹脂基材７０とを有する。マスクパターン６２は、位相差マスクの配向パターンの一例である。ここで、マスク板５８の樹脂基材７０とマスク基材５６との間には、粘着層または屈折率調整層が設けられる。粘着層または屈折率調整層の屈折率は、マスク基材５６の屈折率と、樹脂基材７０の屈折率との間の値が好ましい。尚、ガラスからなるマスク基材５６の屈折率の一例は、１．４５から１．５５である。ＣＯＰによって構成した場合の樹脂基材７０の屈折率は１．５３であって、ＴＡＣによって構成した場合の樹脂基材７０の屈折率は１．４８～１．４９である。マスク板５８の樹脂基材７０とマスク基材５６との間に屈折率調整層を設ける場合、マスク板５８の外周をテープによってマスク基材５６に保持させる。
　マスクパターン６２は、位相差板１００の配向パターン１０６の複数の位相差領域１０４に対応して形成された複数の位相差領域６０を有する。位相差領域６０は、１／４波長板の位相差機能を有する。複数の位相差領域６０は、搬送方向と直交する方向に配列されている。位相差領域６０は、位相差板１００の位相差領域１０４と同じ幅を有する。ここでいう幅とは、搬送方向に直交する方向の長さである。複数の位相差領域６０は、互いに異なる方向の光学軸を有する。隣接する位相差領域６０間の光学軸の角度差は、位相差板１００の隣接する位相差領域１０４間の光学軸の角度差と等しい。例えば、製造しようとする、位相差板１００の隣接する位相差領域１０４間の光学軸の角度差が２．８１°の場合、隣接する位相差領域６０間の光学軸の角度差も２．８１°である。位相差領域６０は、樹脂基材７０の一面に積層された配向膜７２と液晶膜７４とを有する。液晶膜７４が、配向膜１２０が塗布されたフィルム９０側に配された状態で、位相差マスク３８がマスク保持部４０に保持される。
　図６は、位相差マスク３８のマスク板５８によるフィルム９０の露光を説明する斜視図である。図６に示すように、フィルム９０を露光する場合、偏光光源３４が、直線偏光を出力する。直線偏光は、円偏光変調部４８によって円偏光に変調されて出力される。円偏光は、マスク板５８によって、直線偏光に変調されて出力される。
　ここで、マスク板５８の位相差領域６０のそれぞれは、異なる光学軸を有するので、位相差領域６０のそれぞれから出力される直線偏光の偏光方向は、それぞれの光学軸に対応して異なる。隣接する位相差領域６０間の光学軸の角度差が２．８１°の場合、円偏光が入力されると、隣接する位相差領域６０から出力される直線偏光の偏光方向の角度差も２．８１°である。
　位相差領域６０から出力された直線偏光は、フィルム９０に塗布された配向膜１２０を、直線偏光が出力された位相差領域６０と同じ幅で配向させて、位相差領域１０４の配向膜１２０を形成する。また、位相差領域６０の光学軸とそれに対応する位相差領域１０４の光学軸との角度差は、４５°である。これは、位相差領域６０が、円偏光を自己の光学軸から４５°回転した方向を偏光方向とする直線偏光で出力することに起因する。
　次に、位相差板１００の製造方法について説明する。まず、送り出しロール１２に巻かれた長尺状のフィルム９０を準備する。ここで、フィルム９０の全長の一例は、約１０００ｍである。フィルム９０の幅の一例は、約１ｍである。この後、フィルム９０の一端を巻き取りロール２８に固定する。この状態で、フィルム９０は、上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６の上面を通して配置されている。位相差マスク３８を準備して、マスク保持部４０に保持させる。
　次に、巻き取りロール２８の回転駆動が開始する。この結果、フィルム９０が送り出しロール１２から送り出されて、フィルム９０が、搬送方向に沿って搬送される搬送段階となる。
　送り出されたフィルム９０は、配向膜塗布部１４の下方を通過する。これにより、フィルム９０の上面には、配向膜塗布部１４によって、幅方向の略全域にわたって、未配向の配向膜１２０が塗布されて配される。配向膜１２０の塗布は、フィルム９０の搬送中、連続して実行される。従って、フィルム９０の上面には、両端の一部を除いて、搬送方向における全長にわたって連続して配向膜１２０が塗布される。
　配向膜１２０が塗布されたフィルム９０は、搬送されて、配向膜乾燥部１６の内部を通過する。これにより、フィルム９０の上面に塗布された配向膜１２０が、乾燥される。この後、フィルム９０は、上流側従動ロール３２の下方、及び、上流側張力ロール４４の上面を通過する。
　配向膜１２０が塗布されたフィルム９０が偏光光源３４の下方を通過すると、図６において説明したように、偏光光源３４から位相差マスク３８に円偏光を照射して、位相差マスク３８から出射された直線偏光を配向膜１２０に照射することにより、マスク板５８の位相差領域６０の光学軸に対応して、異なる方向に光学軸が配向された複数の領域が配向膜１２０に形成される。
　この後、配向膜１２０が露光されたフィルム９０は、下流側従動ロール４２の下方を通過して、液晶膜塗布部２０の下方へと達する。これにより、液晶膜１２２が、配向膜１２０の上面に塗布される。ここで、液晶膜１２２の塗布量は、所望とする位相差板１００の位相差によって、調整される。即ち、完成品の位相差板１００の位相差領域１０４に１／４波長板の位相差機能を設ける場合と、完成品の位相差板１００の位相差領域１０４に１／２波長板の位相差機能を設ける場合とでは、液晶膜１２２の塗布量が異なる。更に、液晶膜１２２の塗布量を搬送中に変えることにより、搬送方向におけるフィルム９０の一部に１／４波長板の位相差機能を設けるとともに、残りの部分に１／２波長板の位相差機能を設けることができる。液晶膜１２２は搬送中のフィルム９０の配向膜１２０の上面に連続して塗布されるので、液晶膜１２２はフィルム９０の搬送方向の全長にわたって、塗布されることになる。
　この後、液晶膜１２２が塗布されたフィルム９０は、搬送されて、液晶膜配向部２２を通過する。これにより、液晶膜１２２が液晶膜配向部２２により加熱されるので、液晶膜１２２の分子が、下面に形成された配向膜１２０の配向に沿って配向されつつ、乾燥される。この結果、それぞれが異なる光学軸を有する複数の位相差領域１０４が、フィルム９０上に形成される。
　次に、塗布された液晶膜１２２が配向されたフィルム９０は、液晶膜硬化部２４を通過する。これにより、紫外線が液晶膜１２２に照射されて、配向膜１２０の光学軸に沿って液晶膜１２２の分子が配向された状態で硬化する。この結果、図１及び図２に示すように、配向膜１２０及び液晶膜１２２によって形成される位相差領域１０４が、フィルム９０の幅方向に配列されて形成される。次に、液晶膜１２２の上面にセパレートフィルム９２が上面に供給されて貼りあわされる。そして、セパレートフィルム９２が上面に貼られたフィルム９０が、巻き取りロール２８によって巻き取られる。
　この後、送り出しロール１２に巻かれたフィルム９０の供給が終了するまで、巻き取りロール２８によってフィルム９０が搬送されつつ、フィルム９０の露光が継続される。そして、送り出しロール１２に巻かれたフィルム９０が全て供給されると、位相差板１００の製造工程が終了する。尚、終了したフィルム９０の後端に、次の新たなフィルム９０の前端を繋いで、連続してフィルム９０を露光してもよい。最後に、フィルム９０は、規定の長さに切断されて、図１及び図２に示す位相差板１００となって完成する。
　本実施形態による位相差板の製造方法では、位相差マスク３８に設けられたマスク板５８に円偏光を入力している。これに対し、直線偏光をマスク板５８に入力した場合、直線偏光の偏光方向とマスク板５８の位相差領域６０の光学軸の方向との関係によって、劣化の程度が位相差領域６０毎に異なる。よって、直線偏光をマスク板５８に入力して製造した位相差板１００は、位相差領域１０４間で配向の乱れの程度がばらつく。これに対し、本実施形態によれば、円偏光をマスク板５８に入力しているので、劣化の程度が位相差領域６０間で均一になる。よって、円偏光をマスク板５８に入力して製造した位相差板１００は、位相差領域１０４間で配向の乱れの程度が均一となる。
　また、直線偏光を用いる場合には最も劣化の大きい位相差領域６０に合わせて、マスク板５８を交換するので、マスク板５８の寿命が短い。これに対し、本実施形態では円偏光をマスク板５８に入力するので、マスク板５８の位相差領域６０のいずれもが略同程度で劣化し、マスク板５８の寿命を長くすることができる。
　また、本実施形態では、マスク板５８の位相差領域６０と同じ幅でフィルム９０に位相差領域１０４を形成する。これにより、製造された位相差板１００の位相差領域１０４を１／４波長板の位相差機能を設けることによって、製造された位相差板１００をマスク板５８として利用することができる。
　また、本実施形態では、位相差マスク３８の液晶膜７４を配向膜１２０が形成されたフィルム９０側に配置している。これにより、液晶膜７４を含む位相差領域６０によって変調された直線偏光の偏光状態が維持されて、配向膜１２０に照射される。これにより、配向膜１２０が、より適切に配向される。
　上述した実施形態では、フィルム９０を搬送しつつ、位相差板１００を製造する例を示したが、完成品の位相差板１００と同じ形状のフィルム９０に配向膜１２０及び液晶膜１２２を塗布した状態で露光することによって、１枚ずつ位相差板１００を製造してもよい。
　次に、上述した実施形態の効果を実証するための実験について説明する。この実験では、０°、３０°、４５°、６０°及び９０°の光学軸を有する５個の位相差領域６０を有するマスク板５８を作成して試料とした。この試料に０°の偏光方向を有する直線偏光と、円偏光とを入力して、試料の劣化を調べた。尚、０°の偏光方向は、０°の位相差領域６０の光学軸と平行である。
　図７及び図８は、マスク板５８の劣化と、積算照射エネルギーとの関係を示すグラフである。図７は、０°の光学軸と平行な偏光方向を有する直線偏光を入力した場合の実験結果である。図８は、円偏光を入力した場合の実験結果である。図７及び図８の実験結果では、偏光の入力開始時の入力された偏光と出力された偏光との位相差を「１」として、入力開始時の位相差に対する位相差の比の変化をプロットした。図７及び図８における角度は、位相差領域６０の光学軸の角度を示す。
　図７に示すように、直線偏光を入力した場合、光学軸の違いによる位相差領域６０の劣化の差が大きいことがわかる。直線偏光の偏光方向と平行な０°の光学軸を有する位相差領域６０は、直線偏光の偏光方向と直交する９０°の光学軸を有する位相差領域６０よりも劣化が極めて早い。一方、図８に示すように、円偏光を入力した場合、位相差領域６０の劣化の差が小さいことがわかる。例えば、位相差の比が「０．８」を劣化の判定基準とする場合、直線偏光を入力した場合は積算照射エネルギーが約２４０００ｍＪ／ｃｍ２になると劣化したと判定されてマスク板５８を交換しなければならない。一方、円偏光を入力した場合は積算照射エネルギーが約３００００ｍＪ／ｃｍ２になるまで劣化と判定されず、マスク板５８を使用できる。
　次に、上述した位相差マスク３８を変更した実施形態について説明する。図９は、変更した位相差マスク３９の断面図である。図９に示すように、位相差マスク３９は、保護膜６４を更に備える。
　保護膜６４は、マスク基材５６とは反対側のマスク板５８の一面に形成されている。換言すれば、保護膜６４は、マスク板５８の液晶膜の外面に形成されている。保護膜６４は、マスクパターン６２の位相差領域６０の酸化を防止する。保護膜６４は、空気を通さない材料が好ましい。保護膜６４は、例えば、反射防止膜、防眩膜、ハードコート膜等によって構成することができる。
　次に、上述した保護膜６４の効果を実証するために行った実験について説明する。図１０は、保護膜６４を形成したマスク板５８の劣化と、積算照射エネルギーとの関係を示すグラフである。保護膜６４として反射防止膜を形成した。比較用の試料として、保護膜６４のないマスク板５８を作成した。この２種類のマスク板５８に、波長の強度ピークが２８０ｎｍから３２０ｎｍである４．５ｍＷの紫外線を照射した。
　図１０に示すように、積算照射エネルギーが２４０００ｍＪ／ｃｍ２となっても、保護膜６４が形成されたマスク板５８は、ほとんど劣化していないことがわかる。一方、保護膜６４が形成されていないマスク板５８は、積算照射エネルギーが３０００ｍＪ／ｃｍ２となると、明らかに劣化していることがわかる。これにより、保護膜６４が、マスク板５８を保護できることがわかる。
　上記位相差マスク３８の製造方法について説明する。樹脂基材７０に未配向の光配向性の配向膜７２が塗布される。未配向の配向膜７２に対して、位相差領域６０の幅と同一のスリットから直線偏光を照射し、スリットを当該幅分ずらしてから異なる偏光方向の直線偏光を照射するという工程を繰り返して配向膜７２を配向させる。さらに、配向膜７２上に液晶膜７４が塗布され、当該液晶膜７４を配向膜７２の配向方向に沿って自律的に配向させて硬化する。この位相差マスク３８をマザーとして、図３から図６の製造方法によって位相差板１００用の位相差マスク３８を製造してもよい。
　上述の実施形態では、樹脂からなる樹脂基材１０２を備える位相差板１００を例にあげたが、樹脂基材１０２に代えて、配向膜１２０及び液晶膜１２２を支持するガラス基材を位相差板１００に設けてもよい。この位相差板１００を製造する場合、ガラス基材を搬送しつつ配向膜１２０を露光しない。例えば、この場合、完成品と同じ形状のガラス基材を準備する。次に、このガラス基材に配向膜１２０を塗布して、配向膜１２０を露光して配向させる。この後、配向膜１２０上に塗布された液晶膜１２２を配向させることにより位相差板１００を製造する。
　次に、上述した実施形態の一部、特に、マスクを変更した実施形態について説明する。図１１は、変更した位相差マスク３３８により配向された位相差板３００の配向パターン３０６を説明する平面図である。図１１に示す上流及び下流は、搬送方向における上流及び下流である。図１２は、位相差マスク３３８のマスク部材３７０及びマスク部材３７２の縦断面図である。図１２の括弧内に示す符号及び光学軸はマスク部材３７２の符号及び光学軸である。図１２における光学軸は、平面視における光学軸である。図１３は、位相差マスク３３８の分解斜視図とフィルム９０の関係を示す図である。本実施形態で製造される位相差板３００は、配向パターン３０６が異なる以外は、位相差板１００と同様の構成を有する。位相差板３００では、同じ配向パターン３０６が、複数繰り返されている。配向パターン３０６は、互いに異なる方向に配向された光学軸を有する６個の位相差領域３０４を有する。
　図１１から図１３に示すように、位相差マスク３３８は、マスク部材３７０及びマスク部材３７２を有する。
　マスク部材３７０は、マスク基材３８０と、屈折率調整層３８２と、３個のマスクパターン３８４と、１０個の遮光膜３８６とを有する。図１１において、ハッチングされている領域が、遮光膜３８６である。
　マスク基材３８０は、光を透過可能なガラス板からなる。マスク基材３８０は、マスクパターン３８４を保持して、マスクパターン３８４の形状を維持する。
　屈折率調整層３８２は、マスク基材３８０とマスクパターン３８４との界面に設けられる。屈折率調整層３８２の屈折率は、マスク基材３８０の屈折率とマスクパターン３８４の屈折率との間の屈折率を有することが好ましい。これにより、屈折率調整層３８２は、マスク基材３８０とマスクパターン３８４との界面での屈折率の変化を緩和する。この結果、屈折率調整層３８２は、マスク基材３８０とマスクパターン３８４との界面により反射される光を低減して、マスク基材３８０とマスクパターン３８４との界面及びマスク基材３８０の上面とによって反射された光による干渉を抑制する。屈折率調整層３８２は、ポリオレフィン系のベースオイルに芳香族物質を混ぜ合わせた調整剤を使用することができ、例えば、カーギル標準屈折液シリーズＡ（屈折率範囲　１．４６０～１．６４０）からなる。
　マスクパターン３８４は、屈折率調整層３８２を介して、マスク基材３８０の下面に設けられている。３個のマスクパターン３８４は、搬送方向と直交する方向に配列されている。マスクパターン３８４の一辺は、隣接するマスクパターン３８４の一辺と接するように配置されている。マスクパターン３８４は、位相差板３００の配向パターン３０６の位相差領域３０４の一部と対応する３個の位相差領域３８８を有する。３個の位相差領域３８８は、搬送方向と直交する方向に配列されている。位相差領域３８８は、１／４位相差機能を有する。従って、位相差領域３８８は、円偏光が入力されると、自己の光学軸に対して４５°回転させた方向を偏光方向とする直線偏光を出力する。隣接する位相差領域３８８の配向方向は、６０°ずつ異なる。３個のマスクパターン３８４は、同じ配向パターンを有する。マスクパターン３８４の位相差領域３８８の幅ＭＷは、配向されるフィルム９０及び位相差板３００に形成される位相差領域３０４の幅ＰＷの２倍である。尚、幅ＭＷは、幅ＰＷより大きければよい。ここでいう、マスクパターン３８４の幅及び位相差領域３８８の幅は、搬送方向に直交する方向の長さのことである。マスクパターン３８４は、配向膜、液晶膜、樹脂基材を有し、位相差マスク３８、３９と同様の構成を有する。尚、マスクパターン３８４は、樹脂基材を省略して、配向膜及び液晶膜を屈折率調整層３８２を介して、マスク基材３８０に形成してもよい。
　１０個の遮光膜３８６は、マスク基材３８０の上面に設けられている。即ち、マスク部材３７０のマスクパターン３８４は、遮光膜３８６よりも配向膜１２０が塗布されたフィルム９０に近い位置に配置される。１０個の遮光膜３８６は、搬送方向と直交する方向に配列されている。遮光膜３８６は、隣接するマスクパターン３８４間の境界線上、または、各マスクパターン３８４内の隣接する位相差領域３８８間の境界線上に形成されている。詳細には、遮光膜３８６の中心は、隣接するマスクパターン３８４間の境界線上、または、各マスクパターン３８４内の隣接する位相差領域３８８間の境界線上に配置されている。遮光膜３８６の幅は、マスクパターン３８４の位相差領域３８８の幅ＭＷの半分である。隣接する遮光膜３８６間の間隔は、遮光膜３８６の幅と同じである。即ち、遮光膜３８６に覆われていないマスクパターン３８４の位相差領域３８８は、フィルム９０の位相差領域３０４の幅ＰＷと等しくなる。遮光膜３８６によって覆われていない領域の位相差領域３８８によってフィルム９０に塗布された配向膜１２０が露光されて配向される。
　マスク部材３７２は、搬送方向において、マスク部材３７０から離間した異なる位置に配置されている。マスク部材３７２とマスク部材３７０は、平面視において、互いに重ならないように配置されている。マスク部材３７２は、搬送方向と直交する方向において、位相差領域３８８の幅ＰＷと同じ長さずれた位置に配置されている。マスク部材３７２は、マスク基材３９０と、屈折率調整層３９２と、３個のマスクパターン３９４と、１０個の遮光膜３９６とを有する。マスク基材３９０、屈折率調整層３９２、及び、遮光膜３９６は、それぞれマスク基材３８０、屈折率調整層３８２、及び、遮光膜３８６と同様の構成を有する。
　マスクパターン３９４は、３個の位相差領域３９８を有する。位相差領域３９８の配向方向が、マスクパターン３８４の位相差領域３８８の配向方向と異なる以外は、マスクパターン３９４は、マスクパターン３８４と同様の構成である。マスクパターン３９４の位相差領域３９８は、搬送方向と直交する方向において、マスクパターン３８４の位相差領域３８８と重ならない位置に配置されている。マスクパターン３９４の位相差領域３９８の配向方向は、搬送方向と直交する方向において、隣接するマスクパターン３８４の位相差領域３８８の配向方向と３０°ずつ異なる。これにより、フィルム９０に塗布された配向膜１２０は、図１１の下図に示すように、隣接する位相差領域３０４の配向方向が３０°ずつ回転されて配向される。
　上述した位相差マスク３３８による位相差板３００の製造方法について説明する。尚、本実施形態における位相差板製造装置は、位相差板製造装置１０から円偏光変調部４８を省略した以外は同様である。図１３に示すように、位相差マスク３３８のマスク部材３７０及びマスク部材３７２を準備して配置する。マスク部材３７０は、マスク部材３７２よりも上流側に配置されている。マスク部材３７０のマスクパターン３８４の露出している位相差領域３８８は、搬送方向と直交する方向において、マスク部材３７２のマスクパターン３９４の露出している位相差領域３９８と異なる位置に配置される。
　次に、一面に未配向の配向膜１２０が塗布されて配されたフィルム９０を搬送する。この状態で、偏光光源３４が位相差マスク３３８に直線偏光を照射する。位相差マスク３３８の下方を通過するフィルム９０に塗布された配向膜１２０は、まず、位相差マスク３３８のマスクパターン３８４から出射した直線偏光が照射されることによって配向される。この段階では、マスク部材３７０の遮光膜３８６が形成されている領域の下方を通過する配向膜１２０の領域は、配向されない。従って、配向膜１２０は、遮光膜３８６の幅と同じ間隔をあけて、配向される。この後、更に搬送されることにより、フィルム９０の配向膜１２０は、マスクパターン３９４のように配向される。これにより、配向膜１２０は、隙間なく領域毎に配向される。ここで、マスク部材３７０のマスクパターン３８４とマスクパターン３８４との境界線の下方を通過する配向膜１２０の領域は、マスク部材３７２のマスクパターン３９４によって配向される。また、マスク部材３７２のマスクパターン３９４とマスクパターン３９４との境界線の下方を通過する配向膜１２０の領域は、マスク部材３７０のマスクパターン３８４によって配向される。これにより、マスクパターン３８４、３９４の境界線に対応する領域の配向膜１２０が配向されず、非配向の領域が残ることがない。この後、配向膜１２０上に液晶膜１２２が塗布されて、位相差板３００が完成する。
　上述したように、本実施形態の位相差板３００の製造方法では、複数のマスクパターン３８４、３９４を配列することにより、同じ配向パターン３０６が繰り返され、配列方向に長い位相差板３００を容易に製造することができる。この結果、従来の製造方法のように、一枚のマスクパターンにより位相差板を製造する場合、配列方向に長い位相差板を製造しようとすると、マスクパターンを作り直す必要があり、対応が困難であったが、本実施形態の製造方法は配列方向に長い位相差板を容易に製造することができる。
　また、本実施形態では、マスク部材３７０とマスク部材３７２とを搬送方向において異なる位置に配置している。また、マスク部材３７０のマスクパターン３８４間の境界線に対応する領域を、マスク部材３７２のマスクパターン３９４によって配向するとともに、マスク部材３７２のマスクパターン３９４間の境界線に対応する領域を、マスク部材３７０のマスクパターン３８４によって配向している。これにより、マスクパターン３８４、３９４の境界線に対応する領域の配向膜１２０が配向されない状態を抑制できる。この結果、本実施形態によって製造された位相差板３００を光学ローパスフィルターの回折格子に適用した場合、回折されずに透過する光を低減できる。
　次に、上述した位相差マスク３３８を変更した実施形態について説明する。図１４は、変更した位相差マスク４３８の平面図である。図１４に示すように、位相差マスク４３８は、マスク基材４８０と、３個のマスク板４８４とを備える。マスク基材４８０は、マスク基材３８０と同様の構成である。
　図１５は、マスク部材３７０、３７２を変更した実施形態を説明する図である。図１１から図１３において、遮光膜３８６が、マスク部材３７０、３７２よりも上方に配置された例を示したが、図１５に遮光膜３８６をマスク部材３７０、３７２よりも下方に配置してもよい。この場合、遮光膜３８６間の間隔が、位相差板３００の位相差領域３０４の幅に正確に反映される。
　図１１から図１４において、位相差領域３８８、３９８が１／４位相差機能を有するとして説明したが、位相差領域３８８、３９８が１／２位相差機能を有するように構成してもよい。この場合、位相差領域３８８、３９８の光学軸の角度は、図１１とは異なる。例えば、位相差領域３８８の光学軸の角度は、図１１の紙面左端の領域から４５°、１５°、－１５°となる。また、位相差領域３９８の光学軸の角度は、紙面左端の領域から３０°、０°、３０°となる。尚、光学軸の角度は、搬送方向と直交する方向を０°として、そこから左方向に回転させた角度である。この位相差領域３８８、３９８に、偏光方向が４５°の直線偏光を入力することにより、隣接する位相差領域３０４の光学軸が等角度間隔で回転する位相差板３００を製造することができる。
　マスク板４８４は、マスク基材４８０の一面に設けられている。尚、マスク板４８４とマスク基材４８０との間に上述の屈折率調整層３８２を設けることが好ましい。３個のマスク板４８４は、搬送方向と直交する方向に沿って、隙間なく配列されている。マスク板４８４は、６個の位相差領域４８８を有する。位相差領域４８８は、１／２位相差機能を有する。６個の位相差領域４８８は、互いに異なる光学軸を有する。
　本実施形態による位相差マスク４３８においても、マスク板４８４を追加することによって、配列方向に長い位相差板３００を容易に製造することができる。また、本実施形態では、マスク板４８４が、マスク基材４８０に一列に配列されているので、露光段階におけるマスク板４８４と別のマスク板４８４との位置合わせを省略することができる。
　上述した各実施形態の構成の形状、数値、材料、配置等は適宜変更してよい。また、各実施形態を組み合わせてもよい。
　例えば、図５に示す位相差マスク３８において、マスクパターン６２が形成されたマスク板５８を複数配列してもよい。これにより、図５に示す実施形態においても、幅広のフィルム９０に対応することができる。
　また、図１１から図１３に示す位相差マスク３３８において、各位相差領域３８８、３９８に１／４波長板の機能を持たせ、位相差マスク３３８に楕円偏光を照射してもよい。これにより、位相差マスク３３８においても、部分的な劣化を防ぐことができる。
　図５において、位相差マスク３８はマスク基材５６と樹脂基材７０を有しているが、いずれか一方でもよい。また、位相差マスク３８は一の位相差領域６０内では同じ光学軸を有していて、それらの位相差領域６０が並べて配されているが、光学軸を連続的に変えてもよい。
　以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、請求の範囲の記載から明らかである。
　請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。
　１０　位相差板製造装置、　　　　１２　ロール、　　　　１６　配向膜乾燥部、　　　　１８　露光部、　　　　２０　液晶膜塗布部、　　　　２２　液晶膜配向部、　　　　２４　液晶膜硬化部、　　　　２６　セパレートフィルム供給部、　　　　２８　ロール、　　　　３２　上流側従動ロール、　　　　３４　偏光光源、　　　　３６　出力口、　　　　３８　位相差マスク、　　　　３９　位相差マスク、　　　　４０　マスク保持部、　　　　４２　下流側従動ロール、　　　　４４　上流側張力ロール、　　　　４６　下流側張力ロール、　　　　４８　円偏光変調部、　　　　５０　円偏光変調保持部、　　　　５６　マスク基材、　　　　５８　マスク板、　　　　６０　位相差領域、　　　　６２　マスクパターン、　　　　６４　保護膜、　　　　７０　樹脂基材、　　　　７２　配向膜、　　　　７４　液晶膜、　　　　９０　フィルム、　　　　９２　セパレートフィルム、　　　　１００　位相差板、　　　　１０２　樹脂基材、　　　　１０４　位相差領域、　　　　１０６　配向パターン、　　　　１２０　配向膜、　　　　１２２　液晶膜、　　　　３００　位相差板、　　　　３０４　位相差領域、　　　　３０６　配向パターン、　　　　３３８　位相差マスク、　　　　３７０　マスク部材、　　　　３７２　マスク部材、　　　　３８０　マスク基材、　　　　３８２　屈折率調整層、　　　　３８４　マスクパターン、　　　　３８６　遮光膜、　　　　３８８　位相差領域、　　　　３９０　マスク基材、　　　　３９２　屈折率調整層、　　　　３９４　マスクパターン、　　　　３９６　遮光膜、　　　　３９８　位相差領域、　　　　４３８　位相差マスク、　　　　４８０　マスク基材、　　　　４８４　マスク板、　　　　４８８　位相差領域

Claims (12)

  1. 　互いに異なる方向に光学軸が配向された複数の領域が形成された配向パターンを有する位相差板の製造方法であって、
    　基材の一面に光で配向する未配向の光配向層を配する工程と、
    　前記位相差板の前記配向パターンの前記複数の領域に対応して、１／４波長板の位相差機能を有する複数の領域が形成された配向パターンを有する位相差マスクを準備する工程と、
    　前記位相差マスクに楕円偏光を照射して、前記位相差マスクから出射した偏光を前記光配向層に照射することにより、前記光配向層を配向させる工程と
    を備える位相差板の製造方法。
  2. 　前記位相差マスクの前記複数の領域の幅は、前記位相差板の前記複数の領域の幅と等しい請求項１に記載の位相差板の製造方法。
  3. 　前記位相差マスクの隣接する領域の光学軸間の角度差は、前記位相差板の隣接する領域の光学軸間の角度差と等しい請求項１または請求項２に記載の位相差板の製造方法。
  4. 　前記位相差マスクは、前記配向パターンを保持するマスク基材を備え、
    　前記配向パターンは、配向膜及び液晶膜と、前記配向膜が形成される基材とを有し、
    　前記液晶膜が、前記光配向層側に配される請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
  5. 　前記位相差マスクの前記配向パターンの一面には、前記位相差マスクの前記配向パターンの酸化を防止する保護膜が形成されている請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
  6. 　前記楕円偏光は、紫外線である請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
  7. 　前記位相差マスクは、前記位相差マスクの前記配向パターンが形成された複数の位相差板が並べられた構成を有する請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
  8. 　互いに異なる方向に光学軸が配向された複数の領域が形成された配向パターンが繰り返された位相差板の製造方法であって、
    　基材の一面に光で配向する未配向の光配向層を配する工程と、
    　前記位相差板の前記配向パターンの前記複数の領域の少なくとも一部に対応する複数の領域が形成された配向パターンを有する位相差板を複数並べた位相差マスクを準備する工程と、
    　前記位相差マスクに偏光を照射して、前記位相差マスクから出射した偏光を前記光配向層に照射することにより、前記光配向層を配向させる工程と
    を備える位相差板の製造方法。
  9. 　前記光配向層を搬送する工程を更に備え、
    　前記位相差マスクは、異なる配向パターンが形成された位相差板を複数並べた第１マスク部材及び第２マスク部材を有し、
    　前記第１マスク部材と前記第２マスク部材は、前記光配向層の搬送方向において、異なる位置に配されている請求項８に記載の位相差板の製造方法。
  10. 　前記第１マスク部材及び前記第２マスク部材の前記配向パターンの各領域は、前記位相差板の前記配向パターンの各領域の幅よりも大きい請求項９に記載の位相差板の製造方法。
  11. 　前記偏光の照射方向から見て、前記第１マスク部材及び前記第２マスク部材の前記位相差板間の境界には、遮光膜が形成されている請求項１０に記載の位相差板の製造方法。
  12. 　前記遮光膜よりも前記第１マスク部材及び前記第２マスク部材の前記配向パターンが、前記光配向層に近い位置に配される請求項１１に記載の位相差板の製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2021153763A1 (ja) * 2020-01-30 2021-08-05
WO2021161829A1 (ja) * 2020-02-13 2021-08-19 セントラル硝子株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置、ヘッドアップディスプレイシステム、位相差フィルム及び車両用合わせガラス

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014064742A1 (ja) * 2012-10-26 2014-05-01 株式会社有沢製作所 露光装置、マスク、及び、光学フィルム
WO2018225611A1 (ja) * 2017-06-07 2018-12-13 シャープ株式会社 液晶パネルの製造方法、及び、液晶パネル用基板の光配向処理装置
US11716209B2 (en) * 2020-04-14 2023-08-01 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate Systems and methods for azimuthal multiplexing three-dimensional diffractive optics

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04366841A (ja) * 1991-06-13 1992-12-18 Nikon Corp フォトマスク及びこれを用いた露光方法
JPH0933914A (ja) * 1995-07-11 1997-02-07 F Hoffmann La Roche Ag 偏光パターンを移動するための装置
JP2004111500A (ja) * 2002-09-17 2004-04-08 Canon Inc マスク、露光装置及び方法
JP2006030568A (ja) * 2004-07-15 2006-02-02 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd フォトマスク
JP2006293330A (ja) * 2005-03-18 2006-10-26 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd フォトマスク、位相シフトマスク、露光装置
JP2011186423A (ja) * 2010-03-09 2011-09-22 Arisawa Mfg Co Ltd 光学素子部材、立体画像表示装置及び光学素子部材の製造方法
WO2013039100A1 (ja) * 2011-09-16 2013-03-21 株式会社ブイ・テクノロジー フィルム露光装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3923062B2 (ja) * 2004-08-02 2007-05-30 日東電工株式会社 液晶配向フィルムの製造方法、液晶配向フィルム、光学フィルムおよび画像表示装置
US7608369B2 (en) * 2005-03-18 2009-10-27 Advanced Lcd Technologies Development Center Co., Ltd. Photomask to which phase shift is applied and exposure apparatus
US8643822B2 (en) * 2007-07-03 2014-02-04 Jds Uniphase Corporation Non-etched flat polarization-selective diffractive optical elements
WO2009122621A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 凸版印刷株式会社 位相差板、その製造方法及び液晶表示装置
CN102227672A (zh) * 2008-12-19 2011-10-26 株式会社有泽制作所 液晶滤波器，相位差板及光学低通滤波器
JP5565411B2 (ja) * 2009-06-25 2014-08-06 Ｊｎｃ株式会社 光配向した液晶性ポリイミドによる位相差膜及び光学素子
JP5213843B2 (ja) * 2009-12-25 2013-06-19 日東電工株式会社 立体映像表示用位相差板、偏光素子およびそれらの製造方法、ならびに立体映像表示装置
JP2012014064A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Dainippon Printing Co Ltd 光配向膜の製造方法、位相差フィルムの製造方法、光配向膜製造システム、光配向膜及び位相差フィルム
JP2012018256A (ja) * 2010-07-07 2012-01-26 Hitachi High-Technologies Corp 液晶用配向膜露光方法及びその装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04366841A (ja) * 1991-06-13 1992-12-18 Nikon Corp フォトマスク及びこれを用いた露光方法
JPH0933914A (ja) * 1995-07-11 1997-02-07 F Hoffmann La Roche Ag 偏光パターンを移動するための装置
JP2004111500A (ja) * 2002-09-17 2004-04-08 Canon Inc マスク、露光装置及び方法
JP2006030568A (ja) * 2004-07-15 2006-02-02 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd フォトマスク
JP2006293330A (ja) * 2005-03-18 2006-10-26 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd フォトマスク、位相シフトマスク、露光装置
JP2011186423A (ja) * 2010-03-09 2011-09-22 Arisawa Mfg Co Ltd 光学素子部材、立体画像表示装置及び光学素子部材の製造方法
WO2013039100A1 (ja) * 2011-09-16 2013-03-21 株式会社ブイ・テクノロジー フィルム露光装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2021153763A1 (ja) * 2020-01-30 2021-08-05
WO2021153763A1 (ja) * 2020-01-30 2021-08-05 日本化薬株式会社 ヘッドアップディスプレイ用光学機能フィルム、光学積層体、機能性ガラス、およびヘッドアップディスプレイシステム
JP7045525B2 (ja) 2020-01-30 2022-03-31 日本化薬株式会社 ヘッドアップディスプレイ用光学機能フィルム、光学積層体、機能性ガラス、およびヘッドアップディスプレイシステム
WO2021161829A1 (ja) * 2020-02-13 2021-08-19 セントラル硝子株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置、ヘッドアップディスプレイシステム、位相差フィルム及び車両用合わせガラス
JPWO2021161829A1 (ja) * 2020-02-13 2021-08-19
CN115066645A (zh) * 2020-02-13 2022-09-16 中央硝子株式会社 抬头显示装置、抬头显示系统、相位差膜以及车辆用夹层玻璃
JP7608421B2 (ja) 2020-02-13 2025-01-06 セントラル硝子プロダクツ株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置、ヘッドアップディスプレイシステム、位相差フィルム及び車両用合わせガラス

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