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WO2013081066A1 - 液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子 - Google Patents

液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子 Download PDF

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WO2013081066A1
WO2013081066A1 PCT/JP2012/080977 JP2012080977W WO2013081066A1 WO 2013081066 A1 WO2013081066 A1 WO 2013081066A1 JP 2012080977 W JP2012080977 W JP 2012080977W WO 2013081066 A1 WO2013081066 A1 WO 2013081066A1
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WO
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liquid crystal
side chain
crystal alignment
group
polymer film
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耕平 後藤
喜弘 川月
瑞穂 近藤
昌幸 安藤
大桂夫 北川
幸樹 椿
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Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
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Priority to KR1020147014287A priority patent/KR102012533B1/ko
Priority to JP2013547217A priority patent/JP6150731B2/ja
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    • G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal alignment film, a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal display element, and in particular, a method for manufacturing a liquid crystal alignment film used in a liquid crystal display element, a liquid crystal alignment film obtained by the manufacturing method, and a liquid crystal alignment film It is related with the used liquid crystal display element.
  • the liquid crystal display element is known as a light, thin, and low power consumption display device and has been remarkably developed in recent years.
  • the liquid crystal display element is configured, for example, by sandwiching a liquid crystal layer between a pair of transparent substrates provided with electrodes.
  • an organic film made of an organic material is used as the liquid crystal alignment film so that the liquid crystal is in a desired alignment state between the substrates.
  • the liquid crystal alignment film is a component of the liquid crystal display element, and is formed on the surface of the substrate that holds the liquid crystal in contact with the liquid crystal, and plays a role of aligning the liquid crystal in a certain direction between the substrates.
  • the liquid crystal alignment film may be required to play a role of controlling the pretilt angle of the liquid crystal in addition to the role of aligning the liquid crystal in a certain direction such as a direction parallel to the substrate.
  • alignment control ability is given by performing an alignment treatment on the organic film constituting the liquid crystal alignment film.
  • the rubbing method is a method of rubbing (rubbing) the surface of an organic film such as polyvinyl alcohol, polyamide or polyimide on a substrate with a cloth such as cotton, nylon or polyester in the rubbing direction (rubbing direction).
  • This is a method of aligning liquid crystals. Since this rubbing method can easily realize a relatively stable alignment state of liquid crystals, it has been used in the manufacturing process of conventional liquid crystal display elements.
  • an organic film used for the liquid crystal alignment film a polyimide-based organic film excellent in reliability such as heat resistance and electrical characteristics has been mainly selected.
  • a decomposition type photo-alignment method is known as a main photo-alignment method.
  • the polyimide film is irradiated with polarized ultraviolet rays, and anisotropic decomposition is caused by utilizing the polarization direction dependence of the ultraviolet absorption of the molecular structure. Then, the liquid crystal is aligned by the remaining polyimide without being decomposed (see Patent Document 1).
  • photocrosslinking type and photoisomerization type photo-alignment methods are also known. For example, polyvinyl cinnamate is used and irradiated with polarized ultraviolet rays to cause a dimerization reaction (crosslinking reaction) at the double bond portion of two side chains parallel to the polarized light.
  • the liquid crystal is aligned in a direction orthogonal to the polarization direction (see Non-Patent Document 1).
  • irradiation with polarized ultraviolet light causes an isomerization reaction at the azobenzene portion of the side chain parallel to the polarized light, and the liquid crystal is aligned in a direction perpendicular to the polarization direction. Align (see Non-Patent Document 2).
  • the liquid crystal alignment film alignment treatment method by the photo alignment method does not require rubbing, and there is no fear of generation of dust or static electricity.
  • An alignment process can be performed even on a substrate of a liquid crystal display element having an uneven surface, which is a method for aligning a liquid crystal alignment film suitable for an industrial production process.
  • the photo-alignment method eliminates the rubbing process itself as compared with the rubbing method that has been used industrially as an alignment treatment method for liquid crystal display elements, and thus has a great advantage. And compared with the rubbing method in which the alignment control ability becomes almost constant by rubbing, the photo alignment method can control the alignment control ability by changing the irradiation amount of polarized light.
  • the photo-alignment method in order to achieve the same degree of alignment control ability as in the rubbing method, a large amount of polarized light irradiation may be required or stable liquid crystal alignment may not be realized. .
  • the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention uses a method in which an alignment treatment is performed by irradiation with polarized light without using a rubbing treatment, using a photosensitive side chain polymer film capable of exhibiting liquid crystallinity. And after polarized light irradiation, the process which heats the side chain type polymer film is provided, and a liquid crystal aligning film is manufactured. At this time, by optimizing the irradiation amount of polarized light and the heating temperature in the heating process after the irradiation of polarized light, a highly efficient alignment process is realized in the liquid crystal alignment film, and high alignment efficiency and good alignment control ability are imparted.
  • the gist of the present invention is as follows. (1) [I] A step of forming a photosensitive side chain polymer film that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range on a substrate; [II] A method for producing a liquid crystal alignment film, comprising: irradiating the side chain polymer film with polarized ultraviolet light; and [III] heating the side chain polymer film irradiated with ultraviolet light. , [II] The amount of UV irradiation in the step maximizes ⁇ A, which is the difference between the UV absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized UV and the UV absorbance in the direction perpendicular to the polarization direction of the polarized UV. A method for producing a liquid crystal alignment film, wherein the amount falls within a range of 1% to 70% of an ultraviolet irradiation amount.
  • the heating temperature in the step [III] is a temperature ranging from a temperature 10 ° C. higher than the lower limit of the temperature range in which the side chain polymer film exhibits liquid crystallinity to a temperature 10 ° C. lower than the upper limit of the temperature range.
  • the photosensitive group contained in the photosensitive side chain polymer exhibiting liquid crystallinity is azobenzene, stilbene, cinnamic acid, cinnamic acid ester, chalcone, coumarin, tolan, phenylbenzoate, or a derivative thereof.
  • [I] A step of forming a photocrosslinkable side chain polymer film that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range on a substrate; [II] A step of irradiating the photocrosslinkable side chain polymer film with polarized ultraviolet light, and [III] a step of heating the side chain polymer film irradiated with ultraviolet light. [IV] The irradiation of the ultraviolet light.
  • a method for producing a liquid crystal alignment film comprising a step of irradiating non-polarized ultraviolet rays to the heated side chain polymer film, [II]
  • the amount of UV irradiation in the step maximizes ⁇ A, which is the difference between the UV absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized UV and the UV absorbance in the direction perpendicular to the polarization direction of the polarized UV.
  • a method for producing a liquid crystal alignment film wherein the amount falls within a range of 1% to 70% of an ultraviolet irradiation amount.
  • the side chain polymer film includes a main chain composed of at least one selected from the group consisting of hydrocarbons, acrylates and methacrylates, and at least one of the following formulas (1) to (7): 10.
  • a 1 and B 1 each independently represents a single bond, —O—, —CH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, or NH—CO—
  • Y 1 is at least one group selected from the group consisting of a benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, and a cyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atoms bonded thereto are independent of each other.
  • a 2 , B 2 , D 1 each independently represents a single bond, —O—, —CH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, or NH—CO—
  • Y 2 represents a benzene ring, naphthalene ring, biphenyl ring , A furan ring, a pyrrole ring and at least one group selected from the group consisting of cyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atoms bonded thereto are independently —NO 2 , —CN, —C ⁇ C (CN) 2 , —C ⁇ CH—CN, optionally substituted with a halogen group, an alkyl group, or an alkyloxy group
  • a 3 is a single bond, -O -, - CH 2 - , - COO -, - OCO -, - CONH-, or an NH-CO-
  • X 3 is a single bond, - COO—, —OCO—, —N ⁇ N—, —C ⁇ C—, —C ⁇ C—, or C 6 H 4 —, wherein R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • .L3 also referred to as l 3) represents an integer of 1 to 12
  • m3 is in an integer of 1-3.
  • equation (4), (also referred to as l 4) l4 represents an integer of 1 to 12.
  • a 4 represents a single bond, —O—, —CH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, or NH—CO—
  • X 4 represents —COO—
  • Y 3 is at least one group selected from the group consisting of a benzene ring, a naphthalene ring, and a biphenyl ring, and each hydrogen atom bonded thereto is independently —N O 2 , —CN, —C ⁇ C (CN) 2 , —C ⁇ CH—CN, a halogen group, an alkyl group, or an alkyloxy group may be substituted.
  • l5 (also referred to as l 5) represents an integer of 1 to 12
  • m4 represents an integer of 1-3.
  • a 5 represents a single bond, —O—, —CH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, or NH—CO—
  • R 3 represents a hydrogen atom, —NO 2 , —CN, —C ⁇ C (CN) 2 , —C ⁇ CH—CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkyloxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • l6 (also referred to as l 6) represents an integer of 1 to 12.
  • the hydrogen atoms bonded to the benzene ring in formula (6) are each independently —NO 2 , —CN, —C ⁇ C (CN) 2 , —C ⁇ CH—CN, a halogen group, an alkyl group, or an alkyloxy group. May be substituted.
  • a 6 represents a single bond, —O—, —CH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, or NH—CO—
  • B 3 represents a single bond, —COO— , —OCO—, —N ⁇ N—, —C ⁇ C—, —C ⁇ C—, or C 6 H 4 —.
  • W 1 is at least one group selected from the group consisting of a benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, and a cyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, and the hydrogen atom bonded thereto is each Independently, it may be substituted with —NO 2 , —CN, —C ⁇ C (CN) 2 , —C ⁇ CH—CN, a halogen group, an alkyl group, or an alkyloxy group.
  • l7 represents an integer of 1 to 12
  • m5 and m6 each represents an integer of 1 to 3.
  • the manufacturing method of the liquid crystal aligning film which enables a highly efficient orientation process is provided.
  • the liquid crystal aligning film which enables highly efficient alignment processing can be provided using the manufacturing method of the liquid crystal aligning film.
  • (A) is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film before irradiation with polarized light, and particularly when the introduced anisotropy is small, that is, the above [I] to [IV] of the present invention.
  • the ultraviolet irradiation amount in the [II] step is in the range of 1% to 15% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A.
  • (B) is a figure which shows typically the state of the side chain type polymer film after polarized light irradiation
  • (c) is a figure which shows the state of the side chain type polymer film after a heating typically
  • (D) is a figure which shows typically the state of the side chain type polymer film irradiated with non-polarized light after a heating. The first form will be described later.
  • the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is in the range of 15% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A. It is a schematic diagram in the case.
  • (A) is a figure which shows typically the state of the side chain type polymer film before polarized light irradiation
  • (b) is a figure which shows the state of the side chain type polymer film after polarized light irradiation typically.
  • (C) is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film after heating, and (d) schematically shows the state of the side chain polymer film irradiated with non-polarized light after heating.
  • (A) is a figure which shows typically the state of the side chain type polymer film before polarized light irradiation
  • (b) is a figure which shows the state of the side chain type polymer film after polarized light irradiation typically
  • (C) is a figure which shows typically the state of the side chain type polymer film after a heating. The second form will be described later.
  • (A) is a figure which shows typically the state of the side chain type polymer film before polarized light irradiation
  • (b) is a figure which shows the state of the side chain type polymer film after polarized light irradiation typically
  • (C) is a figure which shows typically the state of the side chain type polymer film after a heating.
  • the photosensitive side chain polymer film that can exhibit liquid crystallinity used in the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention is a photosensitive side chain polymer film that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range.
  • bonded with a principal chain has photosensitivity, can respond to light, and can raise
  • the photosensitive group that binds to the main chain is not particularly limited, but a structure that undergoes a crosslinking reaction or photofleece rearrangement in response to light is desirable. In this case, even if exposed to external stress such as heat, the achieved orientation control ability can be stably maintained for a long period of time.
  • the structure of the photosensitive side chain polymer film capable of exhibiting liquid crystallinity is not particularly limited as long as it satisfies such characteristics, but it is preferable to have a rigid mesogenic component in the side chain structure.
  • the polymer structure has, for example, a main chain and a side chain bonded to the main chain, and the side chain includes a mesogenic component such as a biphenyl group, a terphenyl group, a phenylcyclohexyl group, a phenylbenzoate group, and an azobenzene group, and a tip.
  • a mesogenic component such as a biphenyl group, a terphenyl group, a phenylcyclohexyl group, a phenylbenzoate group, and an azobenzene group, and a tip.
  • the structure of the photosensitive side chain type polymer film capable of exhibiting liquid crystallinity is composed of at least one selected from the group consisting of hydrocarbon, acrylate, methacrylate, maleimide and siloxane.
  • a structure having a main chain and a side chain composed of at least one of the following formulas (1) to (7) is preferable.
  • the side chains represented by the above formulas (1) to (7) have a structure having groups such as biphenyl, terphenyl, phenylcyclohexyl, phenylbenzoate, and azobenzene as mesogenic components. And at the tip, it has a photosensitive group that undergoes a dimerization reaction in response to light and undergoes a crosslinking reaction, or has a main chain and a side chain bonded thereto, and the side chain also becomes a mesogenic component. And having at least one of phenylbenzoate groups that undergo a photo-Fries rearrangement reaction.
  • the side chain polymer film may be used in combination with a side chain structure having no photoreactivity within a range not losing liquid crystallinity and photoreactivity.
  • a structure like the following formula (8) can be mentioned.
  • E 1 represents a single bond, —O—, —CH 2 —, —COO, —OCO—, —CONH—, —NH—CO—
  • Z represents a single bond, —COO, —OCO—, —N ⁇ N—, —C ⁇ C—, —C ⁇ C—, or C 6 H 4 —
  • k1 represents an integer of 1 to 12
  • p1 and q1 are each independently 0
  • R 4 represents a hydrogen atom, —NO 2 , —CN, —C ⁇ C (CN) 2 , —C ⁇ CH—CN, a halogen group, an alkyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, carboxyl
  • the group which consists of group or its combination is represented
  • the photosensitive side chain polymer film capable of exhibiting liquid crystallinity used in the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention is simply referred to as a side chain polymer film of the present invention.
  • polarized ultraviolet rays are irradiated.
  • a highly efficient anisotropy is introduced into the side chain polymer film by heating, and a liquid crystal alignment film having a liquid crystal alignment control ability is manufactured.
  • a side chain polymer is obtained by utilizing the principle of molecular reorientation induced by the photoreaction and liquid crystallinity of the side chain polymer film of the present invention. Realizes highly efficient anisotropy introduction into the film. Furthermore, in the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention, in the case of a structure having a photocrosslinkable group as a photoreactive group, after forming a coating film on a substrate using the side chain polymer of the present invention, The anisotropy introduced into the polymer film can be fixed by irradiating the ultraviolet ray, and then heating and then irradiating the non-polarized ultraviolet ray.
  • FIG. 1 shows an anisotropic introduction process in a method for producing a liquid crystal alignment film using a side chain polymer having a structure having a photocrosslinkable group as a photoreactive group in the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention. It is a figure of one example typically demonstrated.
  • FIG. 1 (a) is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film before irradiation with polarized light
  • FIG. 1 (b) is a schematic diagram showing the state of the side chain polymer film after irradiation with polarized light.
  • FIG. 1 (c) is a diagram schematically showing a state of the side chain polymer film after heating
  • FIG. 5 is a schematic diagram when the ultraviolet ray irradiation amount in the process is within a range of 1% to 15% of the ultraviolet ray irradiation amount that maximizes ⁇ A.
  • FIG. 2 shows an anisotropic introduction process in a method for producing a liquid crystal alignment film using a side chain polymer having a photocrosslinkable group as a photoreactive group in the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention. It is a figure of one example typically demonstrated.
  • FIG. 2A is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film before irradiation with polarized light
  • FIG. 2B is a schematic diagram showing the state of the side chain polymer film after irradiation with polarized light
  • 2 (c) is a diagram schematically showing a state of the side chain polymer film after heating
  • FIG. 2 (d) is a side chain polymer film after non-polarized light irradiation.
  • FIG. 6 is a schematic diagram when the ultraviolet ray irradiation amount in the process is within a range of 15% to 70% of the ultraviolet ray irradiation amount that maximizes ⁇ A.
  • FIG. 3 shows a method for producing a liquid crystal alignment film according to the present invention, which is a liquid crystal alignment film using a side chain polymer having a structure having a photo-Fries rearrangement group represented by the above formula (6) as a photoreactive group. It is a figure of one example which illustrates typically the introduction processing of anisotropy in a manufacturing method.
  • FIG. 3A is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film before irradiation with polarized light
  • FIG. 3B is a schematic diagram showing the state of the side chain polymer film after irradiation with polarized light.
  • FIG. 3A is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film before irradiation with polarized light
  • FIG. 3B is a schematic diagram showing the state of the side chain polymer film after irradiation with polarized light.
  • FIG. 5 is a schematic diagram when the ultraviolet ray irradiation amount in the step [II] is within a range of 1% to 70% of the ultraviolet ray irradiation amount that maximizes ⁇ A in the manufacturing method having steps [I] to [III]. .
  • FIG. 4 shows a method for producing a liquid crystal alignment film according to the present invention, wherein a liquid crystal alignment film using a side chain type polymer having a structure having a photo-Fries rearrangement group represented by the above formula (7) as a photoreactive group. It is a figure of one example which illustrates typically the introduction processing of anisotropy in a manufacturing method.
  • FIG. 4A is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film before irradiation with polarized light
  • FIG. 4B is a schematic diagram of the state of the side chain polymer film after irradiation with polarized light.
  • FIG. 4A is a diagram schematically showing the state of the side chain polymer film before irradiation with polarized light
  • FIG. 4B is a schematic diagram of the state of the side chain polymer film after irradiation with polarized light.
  • FIG. 4 (c) is a diagram schematically showing the state of the side-chain polymer film after heating, and particularly when the introduced anisotropy is large, that is, the above-mentioned of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic diagram when the ultraviolet ray irradiation amount in the step [II] is within a range of 1% to 70% of the ultraviolet ray irradiation amount that maximizes ⁇ A in the manufacturing method having steps [I] to [III]. .
  • an embodiment using a side chain polymer having a structure having a photocrosslinkable group as a photoreactive group is the first embodiment, and a side chain polymer having a structure having a photofleece rearrangement group as a photoreactive group An embodiment using this will be described as a second embodiment.
  • the side chain polymer film 1 of the present invention is first formed on the substrate. As shown in FIG.
  • the side chain polymer film 1 of the present invention formed on a substrate has a structure in which the side chains 2 are randomly arranged. According to the random arrangement of the side chain 2 of the side chain polymer film 1, the mesogenic component and the photosensitive group of the side chain 2 are also randomly oriented, and the side chain polymer film 1 is isotropic.
  • the side chain type polymer film 3 of the present embodiment is formed on the substrate.
  • the side chain type polymer film 3 of the present invention formed on the substrate has a structure in which the side chains 4 are randomly arranged. According to the random arrangement of the side chain 4 of the side chain polymer film 3, the mesogenic component and the photosensitive group of the side chain 4 are also randomly oriented, and the side chain polymer film 2 is isotropic.
  • the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is in the range of 1% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A.
  • the side chain polymer film 5 of the present invention is formed on a substrate. As shown in FIG. 3A, the side chain polymer film 5 of the present invention formed on the substrate has a structure in which the side chains 6 are randomly arranged. According to the random arrangement of the side chain 6 of the side chain polymer film 5, the mesogenic component and the photosensitive group of the side chain 6 are also randomly oriented, and the side chain polymer film 5 is isotropic.
  • the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is in the range of 1% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A.
  • the side chain polymer film 7 of the present invention is formed on a substrate. As shown in FIG. 4A, the side chain polymer film 7 of the present invention formed on the substrate has a structure in which the side chains 8 are randomly arranged. According to the random arrangement of the side chains 8 of the side chain polymer film 7, the mesogenic components and the photosensitive groups of the side chains 8 are also randomly oriented, and the side chain polymer film 7 is isotropic.
  • the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is in the range of 1% to 15% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A
  • this isotropic side of the present invention The chain polymer film 1 is irradiated with polarized ultraviolet rays.
  • the photosensitive group of the side chain 2a having the photosensitive group among the side chains 2 arranged in a direction parallel to the polarization direction of the ultraviolet rays is preferentially subjected to dimerization reaction or the like. Causes a photoreaction.
  • the density of the side chain 2a subjected to photoreaction becomes slightly higher in the polarization direction of the irradiated ultraviolet rays, and as a result, very small anisotropy is imparted to the side chain type polymer film 1 of the present invention.
  • the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is in the range of 15% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A
  • this isotropic side of the present invention when the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is in the range of 15% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A, this isotropic side of the present invention.
  • the chain polymer film 3 is irradiated with polarized ultraviolet rays.
  • the photosensitive group of the side chain 4a having the photosensitive group among the side chains 4 arranged in a direction parallel to the polarization direction of the ultraviolet rays is preferentially subjected to dimerization reaction or the like. Causes a photoreaction.
  • the density of the side chain 4a subjected to photoreaction increases in the polarization direction of the irradiated ultraviolet rays, and as a result, a small anisotropy is imparted to the side chain type polymer film 3 of the present invention.
  • ultraviolet irradiation in the step [II] is performed using a liquid crystal alignment film using a side chain polymer having a structure having a photo-Fleece rearrangement group, represented by the above formula (6).
  • the isotropic side chain polymer film 5 of the present invention is irradiated with polarized ultraviolet rays.
  • the photosensitive group of the side chain 6a having the photosensitive group among the side chains 6 arranged in a direction parallel to the polarization direction of the ultraviolet rays is preferentially subjected to light fleece rearrangement or the like.
  • the density of the side chain 6a subjected to photoreaction becomes slightly higher in the polarization direction of the irradiated ultraviolet rays, and as a result, very small anisotropy is imparted to the side chain type polymer film 5 of the present invention.
  • the isotropic side-chain polymer film 7 of the present invention is irradiated with polarized ultraviolet rays.
  • the photosensitive group of the side chain 8a having the photosensitive group among the side chains 8 arranged in a direction parallel to the polarization direction of the ultraviolet rays is preferentially subjected to light fleece rearrangement or the like. Causes a photoreaction.
  • the density of the side chain 8a subjected to photoreaction increases in the polarization direction of the irradiated ultraviolet rays, and as a result, a small anisotropy is imparted to the side chain polymer film 7 of the present invention.
  • the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is in the range of 1% to 15% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A
  • the side chain polymer film 1 is heated to a liquid crystal state.
  • the amount of the generated crosslinking reaction differs between the direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet rays and the direction perpendicular thereto.
  • this crosslinking reaction site functions as a plasticizer.
  • the liquid crystallinity in the direction perpendicular to the polarization direction of the irradiated ultraviolet light is higher than the liquid crystallinity in the parallel direction, and the side chain 2 containing the mesogenic component is reoriented by self-organizing in the direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet light.
  • the very small anisotropy of the side chain polymer film 1 of the present invention induced by the photocrosslinking reaction is amplified by heat, and the larger anisotropy is present in the side chain polymer film 1 of the present invention. Will be granted.
  • the present invention when the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is within the range of 15% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes ⁇ A, the present invention after irradiation with polarized light
  • the side chain polymer film 3 is heated to a liquid crystal state.
  • the amount of the generated crosslinking reaction differs between the direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet rays and the direction perpendicular thereto. Therefore, the side chain 4 containing the mesogenic component is reoriented by self-organizing in a direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet light.
  • the small anisotropy of the side chain polymer film 3 of the present invention induced by the photocrosslinking reaction is amplified by heat, and a larger anisotropy is imparted in the side chain polymer film 3 of the present invention. Will be.
  • the liquid crystal alignment force of the light fleece rearrangement generated in the direction perpendicular to the polarization direction of the irradiated ultraviolet light is stronger than the liquid crystal alignment force of the side chain before the reaction, it is self-organized in the direction perpendicular to the polarization direction of the irradiated ultraviolet light.
  • the side chain 6 containing the mesogenic component is reoriented.
  • the very small anisotropy of the side chain polymer film 5 of the present invention induced by the photofleece rearrangement reaction is amplified by heat, and is more anisotropic in the side chain polymer film 5 of the present invention. Sex will be given.
  • the anchoring force of the optical fleece rearrangement 8 (a) is stronger than that of the side chain 8 before the rearrangement, when a certain amount or more of the optical fleece rearrangement occurs, it is self-assembled in a direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet light.
  • the side chain 8 containing the mesogenic component is reoriented.
  • the small anisotropy of the side chain polymer film 7 of the present invention induced by the photofleece rearrangement reaction is amplified by heat, and the larger anisotropy is present in the side chain polymer film 7 of the present invention. Will be granted.
  • the photoreactive group of the side chain polymer of the present invention is a photocrosslinkable group, as shown in FIG. 1 (d) and FIG. 2 (d), As shown in Fig. 1 (c) and Fig. 2 (c), anisotropy is induced in the side chain polymer film by self-organization of mesogens, and then the large anisotropy induced by non-polarized light irradiation. Sex is fixed. Therefore, in the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention, the side-chain polymer film of the present invention is irradiated with polarized ultraviolet rays and subjected to heat treatment.
  • a liquid crystal alignment film having anisotropy introduced with high efficiency can be obtained.
  • the irradiation amount of the polarized ultraviolet-ray to the side chain type polymer film of this invention, and the heating temperature in heat processing are optimized. Thereby, introduction of anisotropy into the side chain type polymer film can be realized with high efficiency.
  • the optimum irradiation amount of polarized ultraviolet light for introducing highly efficient anisotropy into the side chain polymer film of the present invention is that the photo-sensitive group in the side chain polymer film is subjected to photocrosslinking reaction or photoisomerization. It corresponds to the irradiation amount of polarized ultraviolet rays that optimizes the amount of reaction or photofleece rearrangement reaction.
  • the side chain polymer film of the present invention when the side chain polymer film of the present invention is irradiated with polarized ultraviolet rays to the structure having a photocrosslinkable group, the crosslink reaction in the side chain occurs when the photopolymer of the side chain undergoing the crosslink reaction becomes excessive. Will progress too much. In that case, the resulting film may become rigid and hinder the progress of self-assembly by subsequent heating.
  • the side chain type polymer film of the present invention is irradiated with polarized ultraviolet rays to the structure having the light fleece rearrangement group
  • the side chain type becomes excessive when the side chain photosensitive group that undergoes the light fleece rearrangement reaction becomes excessive. The liquid crystallinity of the polymer film will be too low.
  • the liquid crystallinity of the obtained film is also lowered, which may hinder the progress of self-assembly due to subsequent overheating.
  • the side chain polymer of the present invention is photodegraded and then self-organized by overheating. May interfere with progress.
  • the optimum amount of the side chain photosensitive group that undergoes photocrosslinking reaction, photoisomerization reaction, or photofleece rearrangement reaction by irradiation with polarized ultraviolet rays is the side chain type high molecular weight film.
  • the amount is preferably 0.1 mol% to 40 mol%, and more preferably 0.1 mol% to 20 mol% of the photosensitive group of the molecular film.
  • the self-organization in the subsequent heat treatment proceeds efficiently, and the highly efficient anisotropy in the film is achieved. Formation is possible.
  • a suitable amount of polarized ultraviolet light can be determined based on the evaluation of ultraviolet absorption of the side chain polymer film of the present invention.
  • the ultraviolet absorption in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet light and the ultraviolet absorption in the vertical direction after the irradiation with polarized ultraviolet light are measured.
  • ⁇ A which is the difference between the ultraviolet absorbance in the direction parallel to the polarization direction of polarized ultraviolet rays and the ultraviolet absorbance in the direction perpendicular to the polarization direction of the polarized ultraviolet rays.
  • ⁇ Amax the maximum value of ⁇ A realized in the side chain type polymer film of the present invention and the irradiation amount of polarized ultraviolet light that realizes it are obtained.
  • a preferable amount of polarized ultraviolet rays to be irradiated in the production of the liquid crystal alignment film can be determined on the basis of the irradiation amount of polarized ultraviolet rays that realizes this ⁇ Amax.
  • the irradiation amount of polarized ultraviolet rays to the side chain polymer film of the present invention is set within a range of 1% to 70% of the amount of polarized ultraviolet rays that realizes ⁇ Amax. Is preferable, and it is more preferable that the content be in the range of 1% to 50%.
  • the irradiation amount of polarized ultraviolet light within the range of 1% to 50% of the amount of polarized ultraviolet light that realizes ⁇ Amax is the total amount of photosensitive groups of the side chain polymer film. 0.1 mol% to 20 mol% corresponds to the amount of polarized ultraviolet light that undergoes a photocrosslinking reaction.
  • the side chain polymer film of the present invention is irradiated with polarized ultraviolet light, and then the side chain polymer film is heated.
  • the side chain polymer film of the present invention is a polymer film that can exhibit liquid crystallinity in a predetermined temperature range.
  • the heat treatment after irradiation with polarized ultraviolet rays can be determined based on the temperature at which the liquid crystallinity of the side chain polymer film is developed. That is, the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet rays ranges from a temperature 10 ° C.
  • liquid crystal temperature range higher than the lower limit of the temperature range in which the side chain polymer film of the present invention exhibits liquid crystallinity (hereinafter referred to as a liquid crystal temperature range).
  • the temperature is preferably in the range up to 10 ° C. lower than the upper limit.
  • the side chain type polymer film of the present invention is heated after irradiation with polarized ultraviolet rays to be in a liquid crystal state, and is self-organized in a direction parallel to the polarization direction to be reoriented.
  • the small anisotropy of the side chain polymer film of the present invention induced by the photocrosslinking reaction, photoisomerization reaction, and photofleece rearrangement reaction is amplified by heat.
  • the side chain polymer film of the present invention exhibits a liquid crystal state by heating, if the heating temperature is low, the viscosity of the side chain polymer film in the liquid crystal state is high and realignment due to self-organization is not possible. It becomes difficult to occur.
  • the heating temperature is in the range from the lower limit of the liquid crystal temperature range of the side chain polymer film of the present invention to a temperature higher by 10 ° C.
  • the anisotropy amplification effect due to heat in the side chain polymer film of the present invention Cannot be sufficient.
  • the side chain polymer film of the present invention exhibits a liquid crystal state by heating, if the heating temperature is high, the state of the side chain polymer film becomes close to an isotropic liquid state, and self-organization This makes it difficult to reorient in one direction.
  • the heating temperature is higher than the temperature lower by 10 ° C. from the upper limit of the liquid crystal temperature range of the side chain polymer film of the present invention, the anisotropy amplification effect due to heat in the side chain polymer film of the present invention Cannot be sufficient.
  • the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention is suitable on the basis of the liquid crystal temperature range of the side chain polymer film in order to achieve highly efficient anisotropy introduction into the side chain polymer film.
  • Determine the appropriate heating temperature As described above, the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet light is 10 ° C. lower than the lower limit of the liquid crystal temperature range of the side chain polymer film, and the upper limit is 10 ° C. lower than the upper limit of the liquid crystal temperature range. The temperature is within the range. Therefore, for example, when the liquid crystal temperature range of the side chain polymer film of the present invention is 100 ° C. to 200 ° C., the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet light is preferably 110 ° C. to 190 ° C. By so doing, greater anisotropy is imparted to the side chain polymer film of the present invention.
  • the alignment treatment in the method for manufacturing a liquid crystal alignment film of the present invention has been described above. Next, the method for manufacturing a liquid crystal alignment film of the present invention will be described.
  • the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention includes the following steps [1] to [III] or the following steps [1] to [IV] in the following order. Then, a liquid crystal alignment film into which anisotropy is introduced is manufactured with high efficiency.
  • [I] forming a photosensitive side chain polymer film capable of exhibiting liquid crystallinity on a substrate; [II] A step of irradiating the side chain type polymer film obtained in the step [I] with polarized ultraviolet rays [III] A step of heating the side chain type polymer film irradiated with the polarized ultraviolet rays in the step [II] [IV] A step of irradiating the non-polarized ultraviolet ray to the side chain polymer film which has been irradiated with ultraviolet rays and then heated. [I] to [III] steps of the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention Alternatively, each step of the following steps [1] to [IV] will be described.
  • the side chain polymer film of the present invention on the substrate is formed.
  • the substrate is not particularly limited.
  • a transparent substrate such as a plastic substrate such as an acrylic substrate or a polycarbonate substrate can be used.
  • a substrate on which an ITO (Indium Tin Oxide) electrode for driving a liquid crystal is formed is used from the viewpoint of simplifying the process of manufacturing a liquid crystal display element. Is also possible.
  • an opaque substrate such as a silicon wafer can be used.
  • an electrode using a material that reflects light such as aluminum can also be used.
  • the film formation on the substrate is performed by applying the solution side chain polymer film.
  • the method of coating is not particularly limited, but industrially, a method of screen printing, offset printing, flexographic printing, an ink jet method, or the like is common. Other coating methods include a dipping method, a roll coater method, a slit coater method, a spinner method (rotary coating method), or a spray method, and these may be used depending on the purpose.
  • the solution-like side chain polymer film of the present invention After applying the solution-like side chain polymer film of the present invention on the substrate, it is 20 ° C. to 180 ° C., preferably 40 ° C. by a heating means such as a hot plate, a heat circulation oven or an IR (infrared) oven.
  • the side chain polymer membrane of the present invention can be obtained by evaporating the solvent at ⁇ 150 ° C. If the thickness of the side chain polymer film is too thick, it is disadvantageous in terms of power consumption of the liquid crystal display element to which the liquid crystal alignment film is applied, and if it is too thin, the reliability of the liquid crystal display element may be lowered.
  • the thickness is 5 nm to 300 nm, more preferably 10 nm to 100 nm.
  • step [II] the side chain polymer film obtained in step [I] is irradiated with polarized ultraviolet rays.
  • the substrate is irradiated with polarized ultraviolet rays through a polarizing plate from a certain direction.
  • ultraviolet rays to be used ultraviolet rays having a wavelength in the range of 100 nm to 400 nm can be used.
  • the optimum wavelength is selected through a filter or the like depending on the type of the side chain polymer film to be used.
  • ultraviolet light having a wavelength in the range of 250 nm to 400 nm can be selected and used so that a photocrosslinking reaction can be selectively induced.
  • the ultraviolet light for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.
  • the irradiation amount of the polarized ultraviolet light is preferably in the range of 1% to 70% of the amount of the polarized ultraviolet light that realizes ⁇ Amax of the side chain polymer film of the present invention to be used. More preferably, it is within the range of 50% to 50%.
  • step [III] the side chain polymer film irradiated with the ultraviolet light polarized in step [II] is heated.
  • a heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven or an IR (infrared) type oven is used.
  • the heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the liquid crystallinity of the side chain polymer film of the present invention to be used is developed. That is, the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet rays is 10 ° C. lower than the upper limit of the liquid crystal temperature range, with the temperature being 10 ° C. higher than the lower limit of the liquid crystal temperature range in which the side chain polymer film of the present invention used exhibits liquid crystallinity.
  • the temperature is within a range where the lower temperature is the upper limit.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • the polymer 1 exhibited liquid crystallinity in the temperature range of 116 ° C. to 315 ° C.
  • Synthesis Example 7> The methacrylic acid ester represented by the above formula (10) was dissolved in tetrahydrofuran and polymerized by adding azobisisobutyronitrile (AIBN) as a reaction initiator to obtain a polymer 2.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • This polymer 2 exhibited liquid crystallinity in the temperature range of 135 ° C to 187 ° C.
  • Example 1 ⁇ Creation of liquid crystal alignment film with anisotropy introduced> ⁇ Example 1> The polymer 1 obtained in Synthesis Example 6 was dissolved in methylene chloride and spin-coated on an optically isotropic substrate with a thickness of about 190 nm to form a side chain polymer film on the substrate. Formed. When the ultraviolet absorption spectrum was measured using this substrate, the maximum absorbance was 0.89 at 314 nm. The side chain polymer film on the obtained substrate was irradiated with ultraviolet rays converted to linearly polarized light using a Grand Taylor prism.
  • the side-chain polymer film on the substrate thus obtained was used to measure the ultraviolet absorption spectrum, and the side-chain polymer film was measured in a direction perpendicular to the UV absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the irradiated polarized UV light.
  • ⁇ A which is the difference from the ultraviolet absorbance, was evaluated.
  • ⁇ A reaches a maximum of 0.2 at 314 nm when irradiated with polarized ultraviolet light at a wavelength of 365 nm, but 650 mJ is irradiated so that ⁇ A is 0.065 (a difference of 32% with respect to the maximum value).
  • the substrate was heated to 155 ° C., and the side chain polymer film was kept as a liquid crystal phase for 5 minutes. Then, it cooled to room temperature and obtained the board
  • a substrate having a liquid crystal alignment film was obtained by irradiating the substrate having an anisotropically introduced side chain polymer film with non-polarized ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm in terms of 1500 mJ.
  • Example 2 The polymer 1 obtained in Synthesis Example 6 was used, and the irradiation with polarized ultraviolet rays was performed in the same manner as in Example 1 except that the irradiation amount with polarized ultraviolet rays was 500 mJ (the irradiation amount with which ⁇ A was 25% of the maximum value of ⁇ A). The heat treatment was performed. As a result, ⁇ A before and after the heat treatment was amplified from 0.05 to 1.85, and the degree of orientation at that time was 0.74 at 314 nm. Thereafter, unpolarized ultraviolet rays were irradiated in the same manner as in Example 1 to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film.
  • Example 3 The polymer 2 obtained in Synthesis Example 7 was dissolved in tetrahydrofuran, spin-coated on an optically isotropic substrate with a thickness of about 150 nm, and the irradiation amount of polarized ultraviolet rays was 5 mJ (maximum value of ⁇ A). The amount of irradiation was 10% ⁇ A), and irradiation with polarized ultraviolet rays and subsequent heat treatment were performed in the same manner as in Example 1 except that the subsequent heat treatment was performed at 165 ° C. for 5 minutes. As a result, ⁇ A before and after the heat treatment was amplified from 0.03 to 1.6, and the degree of orientation at that time was 0.72 at 314 nm.
  • Example 4 Using the polymer 3 obtained in Synthesis Example 8, the polarized ultraviolet light irradiation and the subsequent treatment were performed in the same manner as in Example 3 except that the irradiation amount of the polarized ultraviolet light was 20 mJ (the irradiation amount at which ⁇ A was 40% of the maximum value of ⁇ A). The heat treatment was performed. As a result, ⁇ A before and after the heat treatment was amplified from 0.12 to 1.6, and the degree of orientation at that time was 0.62 at 314 nm. Thereafter, 1000 mJ of non-polarized ultraviolet rays was irradiated in the same manner as in Example 1 to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film.
  • Example 5 The polymer 4 obtained in Synthesis Example 9 was dissolved in methylene chloride, and a side chain polymer film was formed on the substrate by spin-coating to an optically isotropic substrate with a thickness of about 220 nm. Irradiation with polarized ultraviolet rays was performed in the same manner as in Example 1 except that the irradiation amount of polarized ultraviolet rays was 300 mJ (irradiation amount at which ⁇ A was 29% of the maximum value of ⁇ A), and the subsequent heat treatment was performed at 200 ° C. for 5 minutes. The heat treatment was performed.
  • Example 6 The polymer 5 obtained in Synthesis Example 10 was dissolved in methylene chloride and spin-coated on an optically isotropic substrate with a thickness of about 220 nm to form a side chain polymer film on the substrate.
  • Irradiation with polarized ultraviolet rays was carried out in the same manner as in Example 1 except that the irradiation amount of polarized ultraviolet rays was 1000 mJ (irradiation amount at which ⁇ A was 49% of the maximum value of ⁇ A), and the subsequent heat treatment was carried out at 180 ° C. for 5 minutes. The heat treatment was performed. As a result, ⁇ A before and after the heat treatment was amplified from 0.07 to 1.7, and a substrate having a liquid crystal alignment film having an alignment degree of 0.72 at 262 nm was obtained.
  • ⁇ Comparative Example 1> The polymer 1 obtained in Synthesis Example 6 was dissolved in methylene chloride and spin-coated on an optically isotropic substrate with a thickness of about 190 nm to form a side chain polymer film on the substrate. Formed. When the ultraviolet absorption spectrum was measured using this substrate, the maximum absorbance was 0.89 at 314 nm. The side chain polymer film on the obtained substrate was irradiated with ultraviolet rays converted to linearly polarized light using a Grand Taylor prism.
  • the side-chain polymer film on the substrate thus obtained was used to measure the ultraviolet absorption spectrum, and the side-chain polymer film was measured in a direction perpendicular to the UV absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the irradiated polarized UV light.
  • ⁇ A which is the difference from the ultraviolet absorbance, was evaluated.
  • ⁇ A reaches a maximum of 0.2 at 314 nm when irradiated with polarized ultraviolet light at a wavelength of 365 nm, but 650 mJ is irradiated so that ⁇ A is 0.065 (a difference of 32% with respect to the maximum value).
  • the substrate was heated to 155 ° C., and the side chain polymer film was kept as a liquid crystal phase for 5 minutes. Then, it cooled to room temperature and obtained the board
  • ⁇ Comparative example 2> The polymer 1 obtained in Synthesis Example 6 was dissolved in methylene chloride and spin-coated on an optically isotropic substrate with a thickness of about 190 nm to form a side chain polymer film on the substrate. A liquid crystal in which anisotropy was introduced into the film was carried out in the same manner as in Comparative Example 1 except that the irradiation amount of polarized ultraviolet light was 4500 mJ (the irradiation amount at which ⁇ A was the maximum value). An alignment film was obtained. At this time, ⁇ A before and after the heat treatment did not change from 0.07 to 0.07, the degree of orientation was 0.12 at 314 nm, and amplification of ⁇ A and the degree of orientation was not confirmed.
  • Example 7 Using two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Example 1, an anti-parallel liquid crystal cell sandwiching liquid crystal ZLI-4792 manufactured by Merck Japan Ltd. was obtained. When the obtained liquid crystal cell was observed under crossed Nicols, uniform liquid crystal alignment without alignment failure was observed. In addition, two ITO substrates with a liquid crystal alignment film introduced with such anisotropy are produced, and a liquid crystal ZLI-4792 is sandwiched between them, and the obtained liquid crystal cell is further paired with a pair of linear polarizing plates. By sandwiching, a TN (Twisted Nematic) type liquid crystal display element having a liquid crystal thickness of 6 ⁇ m was produced.
  • TN Transmission Nematic
  • Example 8> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Example 2. The results are shown in Table 1.
  • Example 9> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Example 3. The results are shown in Table 1.
  • Example 10> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Example 4. The results are shown in Table 1.
  • Example 11> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Example 5. The results are shown in Table 1.
  • Example 12> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Example 6. The results are shown in Table 1.
  • ⁇ Comparative Example 5> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Comparative Example 1. The results are shown in Table 1.
  • ⁇ Comparative Example 6> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Comparative Example 2. The results are shown in Table 1.
  • ⁇ Comparative Example 7> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Comparative Example 3. The results are shown in Table 1.
  • ⁇ Comparative Example 8> A liquid crystal cell was prepared in the same manner as in Example 7 using the two substrates having the liquid crystal alignment film prepared in Comparative Example 4. The results are shown in Table 1. From the above evaluation results, it was found that the liquid crystal alignment film of the present invention produced by using the method for producing a liquid crystal alignment film of the present invention with a small amount of ultraviolet irradiation can provide a liquid crystal display element.
  • the production method of the present invention is useful for producing a liquid crystal alignment film that enables highly efficient alignment treatment. It should be noted that the entire content of the specification, claims, drawings and abstract of Japanese Patent Application No. 2011-260180 filed on November 29, 2011 is cited here as the disclosure of the specification of the present invention. Incorporated.

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Abstract

　ラビング無しに膜への高効率な異方性の導入を可能とする液晶配向膜の製造方法を提供し、液晶配向膜及び液晶表示素子を提供する。　［Ｉ］基板上に、所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子膜を形成する工程、　［ＩＩ］前記側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射する工程、及び　［ＩＩＩ］前記紫外線の照射された側鎖型高分子膜を加熱する工程 を有する液晶配向膜の製造方法であって、　［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記側鎖型高分子膜の、前記偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内であることを特徴とする。。

Description

液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子
　本発明は、液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子に関し、特に、液晶表示素子に用いられる液晶配向膜の製造方法、その製造方法によって得られる液晶配向膜及びその液晶配向膜を使用した液晶表示素子に関する。
　液晶表示素子は、軽量、薄型かつ低消費電力の表示デバイスとして知られ、近年では大型のテレビ用途に用いられるなど、目覚ましい発展を遂げている。液晶表示素子は、例えば、電極を備えた透明な一対の基板により液晶層を挟持して構成される。そして、液晶表示素子では、液晶が基板間で所望の配向状態となるように有機材料からなる有機膜が液晶配向膜として使用されている。
　すなわち、液晶配向膜は、液晶表示素子の構成部材であって、液晶を挟持する基板の液晶と接する面に形成され、その基板間で液晶を一定の方向に配向させるという役割を担っている。そして、液晶配向膜には、液晶を、例えば、基板に対して平行な方向など、一定の方向に配向させるという役割に加え、液晶のプレチルト角を制御するという役割を求められることがある。こうした液晶配向膜における、液晶の配向を制御する能力（以下、配向制御能と言う。）は、液晶配向膜を構成する有機膜に対して配向処理を行うことによって与えられる。
　配向制御能を付与するための液晶配向膜の配向処理方法としては、従来からラビング法が知られている。ラビング法とは、基板上のポリビニルアルコールやポリアミドやポリイミド等の有機膜に対し、その表面を綿、ナイロン、ポリエステル等の布で一定方向に擦り（ラビングし）、擦った方向（ラビング方向）に液晶を配向させる方法である。このラビング法は簡便に比較的安定した液晶の配向状態を実現できるため、従来の液晶表示素子の製造プロセスにおいて利用されてきた。そして、液晶配向膜に用いられる有機膜としては、耐熱性等の信頼性や電気的特性に優れたポリイミド系の有機膜が主に選択されてきた。
　しかしながら、ポリイミドなどからなる液晶配向膜の表面を擦るラビング法は、発塵や静電気の発生が問題となることがあった。また、近年の液晶表素子の高精細化や、対応する基板上の電極や液晶駆動用のスイッチング能動素子による凹凸のため、液晶配向膜の表面を布で均一に擦ることができず、均一な液晶の配向を実現できないことがあった。
　そこで、ラビングを行わない液晶配向膜の別の配向処理方法として、光配向法が盛んに検討されている。
　光配向法には様々な方法があるが、直線偏光又はコリメートした光によって液晶配向膜を構成する有機膜内に異方性を形成し、その異方性に従って液晶を配向させる。
　主な光配向法としては、分解型の光配向法が知られている。例えば、ポリイミド膜に偏光紫外線を照射し、分子構造の紫外線吸収の偏光方向依存性を利用して異方的な分解を生じさせる。そして、分解せずに残されたポリイミドにより液晶を配向させるようにする（特許文献１を参照）。
　また、光架橋型や光異性化型の光配向法も知られている。例えば、ポリビニルシンナメートを用い、偏光紫外線を照射し、偏光と平行な２つの側鎖の二重結合部分で二量化反応（架橋反応）を生じさせる。そして、偏光方向と直交した方向に液晶を配向させる（非特許文献１を参照）。また、アゾベンゼンを側鎖に有する側鎖型高分子を用いた場合、偏光紫外線を照射し、偏光と平行な側鎖のアゾベンゼン部で異性化反応を生じさせ、偏光方向と直交した方向に液晶を配向させる（非特許文献２を参照）。
　以上の例のように、光配向法による液晶配向膜の配向処理方法では、ラビングを不要とし、発塵や静電気の発生の懸念が無い。そして、表面に凹凸のある液晶表示素子の基板に対しても配向処理を施すことができ、工業的な生産プロセスに好適な液晶配向膜の配向処理の方法となる。
日本特許第３８９３６５９号公報
Ｍ．Ｓｈａｄｔ　ｅｔ　ａｌ．，　Ｊｐｎ．　Ｊ．　Ａｐｐｌ．　Ｐｈｙｓ．　３１，　２１５５（１９９２） Ｋ．Ｉｃｈｉｍｕｒａ　ｅｔ　ａｌ．，　Ｃｈｅｍ．　Ｒｅｖ．　１００，　１８４７（２０００）
　以上のように、光配向法は、液晶表示素子の配向処理方法として従来から工業的に利用されてきたラビング法と比べてラビング工程そのものを不要とし、そのため大きな利点を備える。そして、ラビングによって配向制御能がほぼ一定となるラビング法に比べ、光配向法では、偏光した光の照射量を変化させて配向制御能を制御することができる。しかしながら、光配向法では、ラビング法による場合と同程度の配向制御能を実現しようとする場合、大量の偏光した光の照射量が必要となったり、安定な液晶の配向が実現できない場合がある。
　例えば、上記した特許文献１に記載の分解型の光配向法では、ポリイミド膜に出力５００Ｗの高圧水銀灯からの紫外光を６０分間照射する必要があるなど、長時間かつ大量の紫外線照射が必要となる。また、二量化型や光異性化型の光配向法の場合においても、数Ｊ（ジュール）～数十Ｊ程度の多くの量の紫外線照射が必要となる場合がある。さらに、光架橋型や光異性化型の光配向法の場合、液晶の配向の熱安定性や光安定性に劣るため、液晶表示素子とした場合に、配向不良や表示焼き付きが発生するといった問題があった。
　したがって、光配向法では、配向処理の高効率化や安定な液晶配向の実現が求められており、液晶配向膜への高い配向制御能の付与を高効率に行うことができる液晶配向膜の製造方法の開発が求められている。
　そこで、本発明は、光を用いて高効率で良好な液晶の配向制御を可能とする液晶配向膜の製造方法を提供することを目的とする。
　また、本発明は、その液晶配向膜の製造方法を用いて、光を用いた高効率な配向処理を実現して製造された液晶配向膜を提供することを目的とする。
　さらに、本発明は、光を用いた高効率な配向処理を実現して製造された液晶配向膜を備えた液晶表示素子を提供することを目的とする。
　本発明者は、鋭意研究を行った結果、以下の知見を得て本発明を完成するに至った。
　本発明の液晶配向膜の製造方法は、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子膜を用い、ラビング処理を行うこと無く、偏光照射によって配向処理を行う方法を利用する。そして、偏光照射の後、その側鎖型高分子膜を加熱する工程を設けて液晶配向膜を製造する。このとき、偏光の照射量と偏光照射後の加熱工程での加熱温度を最適化することにより、液晶配向膜において高効率な配向処理を実現し、高い効率で、かつ良好な配向制御能の付与を実現することができる。
　本発明は、以下を要旨とするものである。
　（１）［Ｉ］基板上に、所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子膜を形成する工程、
　［ＩＩ］前記側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射する工程、及び
　［ＩＩＩ］前記紫外線の照射された側鎖型高分子膜を加熱する工程
を有する液晶配向膜の製造方法であって、
　［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記側鎖型高分子膜の、前記偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内であることを特徴とする液晶配向膜の製造方法。
　（２）［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～５０％の範囲内である上記（１）に記載の液晶配向膜の製造方法。
　（３）［ＩＩＩ］工程の加熱温度が、前記側鎖型高分子膜が液晶性を発現する温度範囲の下限より１０℃高い温度から当該温度範囲の上限より１０℃低い温度までの範囲の温度である上記（１）又は（２）に記載の液晶配向膜の製造方法。
　（４）前記、液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子に含有される感光性基がアゾベンゼン、スチルベン、桂皮酸、桂皮酸エステル、カルコン、クマリン、トラン、フェニルベンゾエート、又はその誘導体である上記（１）～（３）のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法。
　（５）［Ｉ］基板上に、所定の温度範囲で液晶性を発現する光架橋性の側鎖型高分子膜を形成する工程、
　［ＩＩ］前記光架橋性側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射する工程、及び
　［ＩＩＩ］前記紫外線の照射された側鎖型高分子膜を加熱する工程
　［ＩＶ］前記紫外線を照射され、その後加熱された側鎖型高分子膜に無偏光の紫外線を照射する工程
を有する液晶配向膜の製造方法であって、
　［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記側鎖型高分子膜の、前記偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内であることを特徴とする液晶配向膜の製造方法。
　（６）［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～５０％の範囲内である上記（５）に記載の液晶配向膜の製造方法。
　（７）［ＩＩＩ］工程の加熱温度が、前記側鎖型高分子膜が液晶性を発現する温度範囲の下限より１０℃高い温度から当該温度範囲の上限より１０℃低い温度までの範囲の温度である上記（５）又は（６）に記載の液晶配向膜の製造方法。
　（８）[ＩＶ]工程の紫外線照射により、前記側鎖型高分子膜の有する光架橋性基の２０モル％以上が反応する上記（５）～（７）のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法。
　（９）前記、液晶性を発現する光架橋性の側鎖型高分子に含有される感光性基が桂皮酸、桂皮酸エステル、カルコン、クマリン、トラン、又はその誘導体である上記（５）～（８）のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法。
　（１０）前記側鎖型高分子膜は、炭化水素、アクリレート、及びメタクリレートからなる群から選択される少なくとも１種から構成された主鎖と、下記式（１）～（７）の少なくとも１種で表される側鎖とを有する構造である上記（１）～（９）のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
（式（１）中、Ａ１、Ｂ１はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｙ１はベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、及び炭素数５～８の環状炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。Ｘ１は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表し、ｌ１（ｌ１ともいう）は１～１２の整数を表し、ｍ１は１～３の整数を表し、ｎ１は１～１２の整数を表す。式（２）中、Ａ２、Ｂ２、Ｄ１はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｙ２はベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、及び炭素数５～８の環状炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。Ｘ２は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表し、Ｒ１は水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ｌ２（ｌ２ともいう）は１～１２の整数を表し、ｍ２は１～３の整数を表し、ｎ２は１～１２の整数を表す。式（３）中、Ａ３は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｘ３は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表し、Ｒ２は水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ｌ３（ｌ３ともいう）は１～１２の整数を表し、ｍ３は１～３の整数を表す。式（４）中、ｌ４（ｌ４ともいう）は１～１２の整数を表す。式（５）中、Ａ４は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｘ４は－ＣＯＯ－を表し、Ｙ３はベンゼン環、ナフタレン環、及びビフェニル環からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。ｌ５（ｌ５ともいう）は１～１２の整数を表し、ｍ４は１～３の整数を表す。式（６）中、Ａ５は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｒ３は水素原子、－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、炭素数１～６のアルキル基、及び炭素数１～６のアルキルオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を表す。ｌ６（ｌ６ともいう）は１～１２の整数を表す。式（６）中のベンゼン環に結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。式（７）中、Ａ６は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｂ３は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表す。Ｗ１はベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、及び炭素数５～８の環状炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。ｌ７は１～１２の整数を表し、ｍ５、ｍ６はそれぞれ１～３の整数を表す。）
　（１１）上記（１）～（１０）のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法により製造された液晶配向膜。
　（１２）上記（１１）に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
　本発明によれば、高効率な配向処理を可能とする液晶配向膜の製造方法が提供される。
　また、その液晶配向膜の製造方法を用いて、高効率な配向処理を可能とする液晶配向膜を提供することができる。さらに、その液晶配向膜を用いて、高効率な配向処理を実現して製造された液晶配向膜を備えた液晶表示素子を提供することが可能となる。
本発明の第１の形態の液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図である。（ａ）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、特に導入された異方性が小さい場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＶ］の工程を有する液晶配向膜の製造方法において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～１５％の範囲内である場合の模式図である。（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図（ｄ）は加熱後に無偏光照射した側鎖型高分子膜の状態を模式的示す図である。前記第１の形態については、後述する。
本発明の第１の形態の液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図であり、特に導入された異方性が大きい場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＶ］の工程を有する液晶配向膜の製造方法において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１５％～７０％の範囲内である場合の模式図である。（ａ）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図（ｄ）は加熱後に無偏光照射した側鎖型高分子膜の状態を模式的示す図である。
本発明の第２の形態の液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図であり、特に、側鎖型高分子が上述の式（６）で表される構造の場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＩＩ］の工程を有する製造方法において、式（６）で表される構造の側鎖型高分子膜を用いた場合における、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合の模式図である。（a）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図である。前記第２の形態については、後述する。
本発明の第２の形態の液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図であり、特に、側鎖型高分子が上述の式（７）で表される構造の場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＩＩ］の工程を有する製造方法において、式（７）で表される構造の側鎖型高分子を用いた場合における、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合の模式図である。（a）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図である。
　本発明の液晶配向膜の製造方法において用いる、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子膜は、所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子膜である。そして、主鎖に結合する側鎖は感光性を有し、光に感応して架橋反応、異性化反応、又は光フリース転位を起こすことができる。主鎖に結合する感光性を有する基は特に限定されないが、光に感応して架橋反応、又は光フリース転位を起こす構造が望ましい。この場合、熱などの外部ストレスに曝されたとしても、実現された配向制御能を長期間安定に保持することができる。液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子膜の構造は、そうした特性を満足するものであれば特に限定されないが、側鎖構造に剛直なメソゲン成分を有することが好ましい。
　この場合、該側鎖型高分子を液晶配向膜とした際に、安定な液晶配向を得ることができる。該高分子の構造は、例えば、主鎖とそれに結合する側鎖を有し、その側鎖が、ビフェニル基、ターフェニル基、フェニルシクロヘキシル基、フェニルベンゾエート基、アゾベンゼン基などのメソゲン成分と、先端部に結合された、光に感応して架橋反応や異性化反応をする感光性基とを有する構造や、主鎖とそれに結合する側鎖を有し、その側鎖がメソゲン成分ともなり、かつ光フリース転位反応をするフェニルベンゾエート基を有する構造とすることができる。
　液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子膜の構造のより具体的な例としては、炭化水素、アクリレート、メタクリレート、マレイミド及びシロキサンからなる群から選択される少なくとも１種から構成された主鎖と、下記式（１）～（７）の少なくとも１種からなる側鎖を有する構造であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
（式（１）中の、Ａ１、Ｂ１、Ｘ１、Ｙ１、ｌ１、ｍ１、ｎ１は、上記で定義したとおりであり、式（２）中の、Ａ２、Ｂ２、Ｄ１、Ｘ２、Ｙ２、Ｒ１、ｌ２、ｍ２、ｎ２は上記で定義したとおりであり、式（３）中の、Ａ３、Ｘ３、Ｒ２、ｌ３、ｍ３は、上記で定義したとおりであり、式（４）中のｌ４は上記で定義したとおりであり、式（５）中のＡ４、Ｘ４、Ｙ３、ｌ５、ｍ４は上記で定義したとおりであり、式（６）中のＡ５、Ｒ３、ｌ６は上記で定義したとおりであり。式（７）中のＡ６、Ｂ３、Ｗ１、ｌ７、ｍ５、ｍ６は上記で定義したとおりである。）
　上記式（１）～（７）で表される側鎖は、ビフェニル、ターフェニル、フェニルシクロヘキシル、フェニルベンゾエート、アゾベンゼンなどの基をメソゲン成分として有する構造を備える。そして、その先端部には、光に感応して二量化反応を起こし、架橋反応をする感光性基を有するか、主鎖とそれに結合する側鎖を有し、その側鎖がメソゲン成分ともなり、かつ光フリース転位反応をするフェニルベンゾエート基を有する、少なくともいずれか一方を有する。
　本発明において、側鎖型高分子膜は、液晶性や光反応性を失わない範囲で、光反応性を持たない側鎖構造と併用しても良い。例を挙げると下記式（８）のような構造が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　上記式（８）中、Ｅ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｚは単結合、－ＣＯＯ、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表し、ｋ１は１～１２の整数を表し、ｐ１、ｑ１はそれぞれ独立して０～３の整数を表し、Ｒ４は水素原子、－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、炭素数１～６のアルキルオキシ基、カルボキシル基、又はその組み合わせからなる基を表す。
　以下では、本発明の液晶配向膜の製造方法において用いられる、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子膜について、単に本発明の側鎖型高分子膜と称することにする。
　本発明の液晶配向膜の製造方法は、本発明の側鎖型高分子を用いて基板上に塗膜を形成した後、偏光した紫外線を照射する。次いで、加熱を行うことにより側鎖型高分子膜への高効率な異方性の導入を実現し、液晶の配向制御能を備えた液晶配向膜を製造する。本発明の液晶配向膜の製造方法では、本発明の側鎖型高分子膜の光反応と液晶性に基づく自己組織化によって誘起される分子再配向の原理を利用して、側鎖型高分子膜への高効率な異方性の導入を実現する。さらに、本発明の液晶配向膜の製造方法で、光反応性基として光架橋性基を有する構造の場合、本発明の側鎖型高分子を用いて基板上に塗膜を形成した後、偏光した紫外線を照射し、次いで、加熱を行った後、無偏光の紫外線を照射することで、高分子膜中に導入された異方性を固定化できる。
　図１は、本発明の液晶配向膜の製造方法において、光反応性基として光架橋性基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図である。図１（ａ）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図１（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図１（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図1（ｄ）は無偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、特に導入された異方性が小さい場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＶ］の工程を有する液晶配向膜の製造方法において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～１５％の範囲内である場合の模式図である。
　図２は、本発明の液晶配向膜の製造方法において、光反応性基として光架橋性基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図である。図２（ａ）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図２（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図２（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図２（ｄ）は無偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、特に導入された異方性が大きい場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＶ］の工程を有する液晶配向膜の製造方法において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１５％～７０％の範囲内である場合の模式図である。
　図３は本発明の液晶配向膜の製造方法において、光反応性基として上述の式（６）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図である。図３（ａ）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図３（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図３（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、特に導入された異方性が小さい場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＩＩ］の工程を有する製造方法において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合の模式図である。
　図４は本発明の液晶配向膜の製造方法において、光反応性基として上述の式（７）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜の製造方法における異方性の導入処理を模式的に説明する一つの例の図である。図４（ａ）は、偏光照射前の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図４（ｂ）は、偏光照射後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、図４（ｃ）は、加熱後の側鎖型高分子膜の状態を模式的に示す図であり、特に導入された異方性が大きい場合、すなわち、本発明の上記［Ｉ］～［ＩＩＩ］の工程を有する製造方法において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合の模式図である。
　以下、光反応性基として光架橋性基を有する構造の側鎖型高分子を用いた実施の形態を第１の形態、光反応性基として光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた実施の形態を第２の形態と称して説明することにする。
　本発明の第１の形態の液晶配向膜の製造方法における、側鎖型高分子膜への異方性の導入処理で、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～１５％の範囲内である場合は、先ず、基板上に本発明の側鎖型高分子膜１を形成する。図１（ａ）に示すように、基板上に形成された本発明の側鎖型高分子膜１では、側鎖２がランダムに配列する構造を有する。側鎖型高分子膜１の側鎖２のランダム配列に従い、側鎖２のメソゲン成分及び感光性基もランダムに配向しており、その側鎖型高分子膜１は等方性である。
　本発明の第１の形態の液晶配向膜の製造方法における、側鎖型高分子膜への異方性の導入処理で、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１５％～７０％の範囲内である場合は、先ず、基板上に本実施の形態の側鎖型高分子膜３を形成する。図２（ａ）に示すように、基板上に形成された本発明の側鎖型高分子膜３では、側鎖４がランダムに配列する構造を有する。側鎖型高分子膜３の側鎖４のランダム配列に従い、側鎖４のメソゲン成分及び感光性基もランダムに配向しており、その側鎖型高分子膜２は等方性である。
　本発明の第２の形態の液晶配向膜の製造方法における、側鎖型高分子膜への異方性の導入処理で、上述の式（６）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜を用いた場合において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合は、先ず、基板上に本発明の側鎖型高分子膜５を形成する。図３（ａ）に示すように、基板上に形成された本発明の側鎖型高分子膜５では、側鎖６がランダムに配列する構造を有する。側鎖型高分子膜５の側鎖６のランダム配列に従い、側鎖６のメソゲン成分及び感光性基もランダムに配向しており、その側鎖型高分子膜５は等方性である。
　本発明の第２の形態の液晶配向膜の製造方法における、側鎖型高分子膜への異方性の導入処理で、上述の式（７）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜を用いた場合において、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合は、先ず、基板上に本発明の側鎖型高分子膜７を形成する。図４（ａ）に示すように、基板上に形成された本発明の側鎖型高分子膜７では、側鎖８がランダムに配列する構造を有する。側鎖型高分子膜７の側鎖８のランダム配列に従い、側鎖８のメソゲン成分及び感光性基もランダムに配向しており、その側鎖型高分子膜７は等方性である。
　本発明の第１の形態で、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～１５％の範囲内である場合において、この等方性の本発明の側鎖型高分子膜１に対し、偏光した紫外線を照射する。すると、図１（ｂ）に示すように、紫外線の偏光方向と平行な方向に配列する側鎖２のうちの感光性基を有する側鎖２ａの感光性基が優先的に二量化反応などの光反応を起こす。その結果、光反応をした側鎖２ａの密度が照射紫外線の偏光方向で僅かに高くなり、結果として本発明の側鎖型高分子膜１に非常に小さな異方性が付与される。
　本発明の第１の形態で、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１５％～７０％の範囲内である場合において、この等方性の本発明の側鎖型高分子膜３に対し、偏光した紫外線を照射する。すると、図２（ｂ）に示すように、紫外線の偏光方向と平行な方向に配列する側鎖４のうちの感光性基を有する側鎖４ａの感光性基が優先的に二量化反応などの光反応を起こす。その結果、光反応をした側鎖４ａの密度が照射紫外線の偏光方向で高くなり、結果として本発明の側鎖型高分子膜３に小さな異方性が付与される。
　本発明の第２の形態で、上述の式（６）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜を用いて、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合において、この等方性の本発明の側鎖型高分子膜５に対し、偏光した紫外線を照射する。すると、図３（ｂ）に示すように、紫外線の偏光方向と平行な方向に配列する側鎖６のうちの感光性基を有する側鎖６ａの感光性基が優先的に光フリース転位などの光反応を起こす。その結果、光反応をした側鎖６ａの密度が照射紫外線の偏光方向で僅かに高くなり、結果として本発明の側鎖型高分子膜５に非常に小さな異方性が付与される。
　本発明の第２の形態で、上述の式（７）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜を用いて、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合において、この等方性の本発明の側鎖型高分子膜７に対し、偏光した紫外線を照射する。すると、図４（ｂ）に示すように、紫外線の偏光方向と平行な方向に配列する側鎖８のうちの感光性基を有する側鎖８ａの感光性基が優先的に光フリース転位などの光反応を起こす。その結果、光反応をした側鎖８ａの密度が照射紫外線の偏光方向で高くなり、結果として本発明の側鎖型高分子膜７に小さな異方性が付与される。
　次いで、本発明の第１の形態で、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～１５％の範囲内である場合において、偏光照射後の本発明の側鎖型高分子膜１を加熱し、液晶状態にする。すると図１（ｃ）に示すように、側鎖型高分子膜１では、照射紫外線の偏光方向と平行な方向と垂直な方向との間で、生じた架橋反応の量が異なっている。この場合、照射紫外線の偏光方向と平行方向に生じた架橋反応の量が非常に小さいため、この架橋反応部位は可塑剤としての働きをする。そのため、照射紫外線の偏光方向と垂直方向の液晶性が平行方向の液晶性より高くなり、照射紫外線の偏光方向と平行な方向に自己組織化してメソゲン成分を含む側鎖２が再配向する。その結果、光架橋反応で誘起された本発明の側鎖型高分子膜１の非常に小さな異方性は、熱によって増幅され、本発明の側鎖型高分子膜１においてより大きな異方性が付与されることになる。
　同様に、本発明の第１の形態で、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１５％～７０％の範囲内である場合において、偏光照射後の本発明の側鎖型高分子膜３を加熱し、液晶状態にする。すると図２（ｃ）に示すように、側鎖型高分子膜３では、照射紫外線の偏光方向と平行な方向と垂直な方向との間で、生じた架橋反応の量が異なっている。そのため、照射紫外線の偏光方向と平行な方向に自己組織化してメソゲン成分を含む側鎖４が再配向する。その結果、光架橋反応で誘起された本発明の側鎖型高分子膜３の小さな異方性は、熱によって増幅され、本発明の側鎖型高分子膜３においてより大きな異方性が付与されることになる。
　同様に、本発明の第２の形態で、上述の式（６）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜を用いて、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合において、偏光照射後の本発明の側鎖型高分子膜５を加熱し、液晶状態にする。すると図３（ｃ）に示すように、側鎖型高分子膜５では、照射紫外線の偏光方向と平行な方向と垂直な方向との間で、生じた光フリース転位反応の量が異なっている。この場合、照射紫外線の偏光方向と垂直方向に生じた光フリース転位体の液晶配向力が反応前の側鎖の液晶配向力より強いため、照射紫外線の偏光方向と垂直な方向に自己組織化してメソゲン成分を含む側鎖６が再配向する。その結果、光フリース転位反応で誘起された本発明の側鎖型高分子膜５の非常に小さな異方性は、熱によって増幅され、本発明の側鎖型高分子膜５においてより大きな異方性が付与されることになる。
　同様に、本発明の第２の形態で、上述の式（７）で表される、光フリース転位基を有する構造の側鎖型高分子を用いた液晶配向膜を用いて、［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内である場合において、偏光照射後の本発明の側鎖型高分子膜７を加熱し、液晶状態にする。すると図４（ｃ）に示すように、側鎖型高分子膜７では、照射紫外線の偏光方向と平行な方向と垂直な方向との間で、生じた光フリース転位反応の量が異なっている。光フリース転位体８（a）のアンカリング力は転位前の側鎖８より強いため、ある一定量以上の光フリース転位体が生じると、照射紫外線の偏光方向と平行な方向に自己組織化してメソゲン成分を含む側鎖８が再配向する。その結果、光フリース転位反応で誘起された本発明の側鎖型高分子膜７の小さな異方性は、熱によって増幅され、本発明の側鎖型高分子膜７においてより大きな異方性が付与されることになる。
　さらに、本発明の第１の形態において、図１（ｄ）や図２（ｄ）に示すように、本発明の側鎖型高分子の光反応性基が光架橋性基である場合、図１（ｃ）や図２（ｃ）に示されるような、メソゲンの自己組織化により側鎖高分子膜に異方性を誘起された後、無偏光照射することで、誘起された大きな異方性が固定化される。
　したがって、本発明の液晶配向膜の製造方法では、本発明の側鎖型高分子膜への偏光した紫外線の照射と加熱処理、さらに、本発明の第１の形態の場合は加熱処理の後の無偏光照射とを順次行うことにより、高効率に異方性の導入された液晶配向膜を得ることができる。
　そして、本発明の液晶配向膜の製造方法では、本発明の側鎖型高分子膜への偏光した紫外線の照射量と、加熱処理における加熱温度を最適化する。それにより高効率な、側鎖型高分子膜への異方性の導入を実現することができる。
　本発明者は、鋭意検討を行った結果、次の知見を得た。すなわち、本発明の側鎖型高分子膜への高効率な異方性の導入に最適な偏光紫外線の照射量は、その側鎖型高分子膜において感光性基が光架橋反応や光異性化反応、若しくは光フリース転位反応する量を最適にする偏光紫外線の照射量に対応する。本発明の側鎖型高分子膜に対して偏光した紫外線を照射した結果、光架橋反応や光異性化反応、若しくは光フリース転位反応する側鎖の感光性基が少ないと、十分な光反応量とならない。その場合、その後に加熱しても十分な自己組織化は進行しない。
　一方、本発明の側鎖型高分子膜で、光架橋性基を有する構造に対して偏光した紫外線を照射した結果、架橋反応する側鎖の感光性基が過剰となると側鎖での架橋反応が進行しすぎることになる。その場合、得られる膜は剛直になって、その後の加熱による自己組織化の進行の妨げとなることがある。また、本発明の側鎖型高分子膜で、光フリース転位基を有する構造に対して偏光した紫外線を照射した結果、光フリース転位反応する側鎖の感光性基が過剰となると、側鎖型高分子膜の液晶性が低下しすぎることになる。その場合、得られる膜の液晶性も低下し、その後の過熱による自己組織化の進行の妨げとなることがある。さらに、光フリース転位基を有する構造に対して偏光した紫外線を照射する場合、紫外線の照射量が多すぎると、本発明の側鎖型高分子が光分解し、その後の過熱による自己組織化の進行の妨げとなることがある。
　したがって、本発明の側鎖型高分子膜において、偏光紫外線の照射によって側鎖の感光性基が光架橋反応や光異性化反応、若しくは光フリース転位反応する最適な量は、その側鎖型高分子膜の有する感光性基の０．１モル％～４０モル％にすることが好ましく、０．１モル％～２０モル％にすることがより好ましい。本発明において、光反応する側鎖の感光性基の量をこのような範囲にすることにより、その後の加熱処理での自己組織化が効率良く進み、膜中での高効率な異方性の形成が可能となる。
　本発明の液晶配向膜の製造方法では、偏光した紫外線の照射量の最適化により、側鎖型高分子膜の側鎖における、感光性基の光架橋反応や光異性化反応、又は光フリース転位反応の量を最適化する。そして、その後の加熱処理と併せて、高効率な、側鎖型高分子膜への異方性の導入を実現する。その場合、好適な偏光紫外線の量については、本発明の側鎖型高分子膜の紫外吸収の評価に基づいて行うことが可能である。
　すなわち、本発明の側鎖型高分子膜について、偏光紫外線照射後の、偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸収と、垂直な方向の紫外線吸収とをそれぞれ測定する。紫外吸収の測定結果から、その側鎖型高分子膜における、偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを評価する。そして、本発明の側鎖型高分子膜において実現されるΔＡの最大値（ΔＡｍａｘ）とそれを実現する偏光紫外線の照射量を求める。本発明の液晶配向膜の製造方法では、このΔＡｍａｘを実現する偏光紫外線照射量を基準として、液晶配向膜の製造において照射する、好ましい量の偏光した紫外線量を決めることができる。
　本発明の液晶配向膜の製造方法では、本発明の側鎖型高分子膜への偏光した紫外線の照射量を、ΔＡｍａｘを実現する偏光紫外線の量の１％～７０％の範囲内とすることが好ましく、１％～５０％の範囲内とすることがより好ましい。本発明の側鎖型高分子膜において、ΔＡｍａｘを実現する偏光紫外線の量の１％～５０％の範囲内の偏光紫外線の照射量は、その側鎖型高分子膜の有する感光性基全体の０．１モル％～２０モル％を光架橋反応させる偏光紫外線の量に相当する。
　次に、本発明の液晶配向膜の製造方法では、本発明の側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射した後、その側鎖型高分子膜の加熱を行う。本発明の側鎖型高分子膜は、所定の温度範囲で液晶性を発現し得る高分子膜である。偏光紫外線照射後の加熱処理は、この側鎖型高分子膜の液晶性を発現させる温度を基準にして決めることができる。すなわち、偏光紫外線照射後の加熱温度は、本発明の側鎖型高分子膜が液晶性を発現する温度範囲（以下、液晶温度範囲と言う。）の下限より１０℃高い温度からその液晶温度範囲の上限より１０℃低い温度までの範囲の温度であることが好ましい。
　本発明の側鎖型高分子膜は、偏光した紫外線の照射後に、加熱され、液晶状態となって、偏光方向と平行な方向に自己組織化して再配向する。その結果、光架橋反応や光異性化反応、及び、光フリース転位反応で誘起された本発明の側鎖型高分子膜の小さな異方性は、熱によって増幅されることになる。しかし、本発明の側鎖型高分子膜が加熱により液晶状態を呈している場合でも、加熱温度が低いと、液晶状態の側鎖型高分子膜の粘度は高く、自己組織化による再配向が生じにくくなってしまう。例えば、加熱温度が本発明の側鎖型高分子膜の液晶温度範囲の下限から１０℃高い温度までの範囲である場合、本発明の側鎖型高分子膜における熱による異方性の増幅効果を十分なものとすることができない。
　また、本発明の側鎖型高分子膜が加熱により液晶状態を呈しているとしても、加熱温度が高いと、側鎖型高分子膜の状態が等方性の液体状態に近くなり、自己組織化によって一方向に再配向することが困難になってしまう。例えば、加熱温度が本発明の側鎖型高分子膜の液晶温度範囲の上限から１０℃低い温度より高い温度である場合、本発明の側鎖型高分子膜における熱による異方性の増幅効果を十分なものとすることができない。
　以上より、本発明の液晶配向膜の製造方法では、側鎖型高分子膜への高効率な異方性の導入を実現するため、その側鎖型高分子膜の液晶温度範囲を基準として好適な加熱温度を定める。そして上述したように、偏光紫外線照射後の加熱の温度を、その側鎖型高分子膜の液晶温度範囲の下限より１０℃高い温度を下限とし、液晶温度範囲の上限より１０℃低い温度を上限とする範囲内の温度とする。したがって、例えば、本発明の側鎖型高分子膜の液晶温度範囲が１００℃～２００℃である場合、偏光紫外線照射後の加熱の温度を１１０℃～１９０℃とすることが望ましい。こうすることにより、本発明の側鎖型高分子膜において、より大きな異方性が付与されることになる。
　以上では、本発明の液晶配向膜の製造方法における配向処理を説明したが、次に本発明の液晶配向膜の製造方法について説明する。
　本発明の液晶配向膜の製造方法は、以下の［１］～［ＩＩＩ］の工程、又は以下の［１］～[ＩＶ]の工程を以下の順で有する。そして、高い効率で異方性の導入された液晶配向膜を製造する。
　［Ｉ］基板上に、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子膜を形成する工程、
　［ＩＩ］工程［Ｉ］で得られた側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射する工程
　［ＩＩＩ］工程［ＩＩ］で偏光した紫外線の照射された側鎖型高分子膜を加熱する工程
　［ＩＶ］前記紫外線を照射され、その後加熱された側鎖型高分子膜に無偏光の紫外線を照射する工程
　以下、本発明の液晶配向膜の製造方法の有する［Ｉ］～［ＩＩＩ］の工程、又は以下の［１］～[ＩＶ]の工程の各工程について説明する。
　工程［Ｉ］では、基板上の本発明の側鎖型高分子膜を形成する。基板については、特に限定はされないが。例えば、ガラス基板の他、アクリル基板やポリカーボネート基板などのプラスチック基板などの透明基板を用いることができる。得られた液晶配向膜の適用を考慮し、液晶表示素子の製造のプロセスの簡素化の観点から、液晶駆動のためのＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムスズ）電極などが形成された基板を用いるも可能である。また、反射型の液晶表示素子への適用を考慮し、シリコンウェハなどの不透明な基板も使用でき、この場合の電極としてアルミなどの光を反射する材料を使用したものも使用できる。
　本発明の側鎖型高分子膜が所望の溶剤に溶解された溶液状である場合、基板上の膜形成は、その溶液状の側鎖型高分子膜を塗布することにより行う。塗布法方は特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷又はインクジェット法などで行う方法が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナ法（回転塗布法）又はスプレー法などがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。
　基板上に溶液状の本発明の側鎖型高分子膜を塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン又はＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により２０℃～１８０℃、好ましくは４０℃～１５０℃で溶媒を蒸発させて本発明の側鎖型高分子膜を得ることができる。側鎖型高分子膜の厚みは、厚すぎると液晶配向膜を適用する液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは５ｎｍ～３００ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ～１００ｎｍである。
　尚、［Ｉ］工程の後、続く［ＩＩ］工程の前に、側鎖型高分子膜の形成された基板を室温にまで冷却する工程を設けることも可能である。
　工程［ＩＩ］では、工程［Ｉ］で得られた側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射する。側鎖型高分子膜の膜面に偏光した紫外線を照射する場合、基板に対して一定の方向から偏光板を介して偏光された紫外線を照射する。使用する紫外線としては、波長１００ｎｍ～４００ｎｍの範囲の紫外線を使用することがきる。好ましくは、使用する側鎖型高分子膜の種類によりフィルター等を介して最適な波長を選択する。そして、例えば、選択的に光架橋反応を誘起できるように、波長２５０ｎｍ～４００ｎｍの範囲の紫外線を選択して使用することがきる。紫外線としては、例えば、高圧水銀灯から放射される光を用いることができる。
　偏光した紫外線の照射量については、上述したように、使用する本発明の側鎖型高分子膜のΔＡｍａｘを実現する偏光紫外線の量の１％～７０％の範囲内とすることが好ましく、１％～５０％の範囲内とすることがより好ましい。
　工程［ＩＩＩ］では、工程［ＩＩ］で偏光した紫外線の照射された側鎖型高分子膜加熱する。加熱は、ホットプレート、熱循環型オーブン又はＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段を用いる。加熱の温度については、上述したように、使用する本発明の側鎖型高分子膜の液晶性を発現させる温度を考慮して決めることができる。すなわち、偏光紫外線照射後の加熱温度は、使用する本発明の側鎖型高分子膜が液晶性を発現する液晶温度範囲の下限より１０℃高い温度を下限とし、液晶温度範囲の上限より１０℃低い温度を上限とする範囲の温度であることが好ましい。
　以上の工程を有することにより、本発明の液晶配向膜の製造方法では、高効率な、側鎖型高分子膜への異方性の導入を実現する。そして、高効率に本発明の液晶配向膜を製造することができる。
　工程［ＩＶ］では、前記紫外線を照射され、その後加熱された側鎖型高分子膜に無偏光の紫外線を照射する。この工程により、[II]工程で反応せずに残り、[III]工程で再配向した本発明の側鎖型高分子膜が架橋反応を起こし、配向が安定化する。
　[ＩＶ]工程の紫外線照射により、前記側鎖型高分子膜の有する光架橋性基の２０モル％以上を反応させることが好ましい。換言すれば、[II]工程で光架橋性基が２０モル％以上残っていないと、この工程において充分に配向安定化させることが容易でない。再配向した光反応性基がその配向状態のまま固定化され難いためである。上記式（６）、（７）の場合、この工程を行うと逆に本発明の効果が発揮することが容易でない。
　本発明の実施形態について、実施例を挙げてより詳細に説明する。なお、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。
＜合成例１＞
　４，４’－ビフェニルジオールと１，６－ジブロモヘキサンをアルカリ条件下で加熱することにより、４’－（６－ブロモヘキシルオキシ）ビフェニル－４－オールを合成した。この生成物にメタクリル酸リチウム反応させ、２－（４’－ヒドロキシビフェニル－４－イルオキシ）ヘキシルオキシメタクリレートを得た。次いで、塩基性条件化において、４－メトキシシンナモイルクロリドを加え下記式（９）に示される化合物を合成した。
＜合成例２＞
　１－ヒドロキシシンナミックアシッドと１－ヒドロキシ－６－ヘキサノールをアルカリ条件下で加熱することにより４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）シンナミックアシッドを合成した。この生成物にメタクリル酸クロライドを塩基性条件下で反応させ、下記式（１０）に示される化合物を得た。
＜合成例３＞
１－ヒドロキシ安息香酸と１－ヒドロキシ－６－ヘキサノールをアルカリ条件下で加熱することにより４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸を合成した。この生成物にメタクリル酸クロライドを塩基性条件下で反応させ、下記式（１１）に示される化合物を得た。
＜合成例４＞
　４－ヨードフェノールと６－クロロ－１－ヘキサノールをアルカリ条件化で加熱することにより４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）ヨードフェノールを合成した。この生成物に２－メチル－３－ブチン－２－オールを反応させた後、アルカリ条件化で過熱することで４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）エチニルベンゼン（化合物Ａ）を得た。また、別経路において、４－メトキシシンナミックアシッドクロライドと４－ヨードフェノールを反応させ、４－ヨードフェニル－３－（４－メトキシフェニル）アクリレート（化合物Ｂ）を合成した。続いて、化合物Ａと化合物Ｂを塩基性条件下で反応させることにより、下記式（１２）に示される化合物を得た。
＜合成例５＞
　１－ヒドロキシ安息香酸と１－ヒドロキシ－６－ヘキサノールをアルカリ条件下で加熱することにより４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸を合成した後、塩化チオニルを加えることにより、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸クロライドを得た。この生成物にｐ－メトキシフェノールを塩基性条件下で反応させ、下記式（１３）に示される化合物を得た。
＜合成例６＞
　上記式（９）で示されるメタクリル酸エステルをテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を添加して重合することにより重合体１を得た。この重合体１は１１６℃～３１５℃の温度範囲で液晶性を示した。
＜合成例７＞
　上記式（１０）で示されるメタクリル酸エステルをテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を添加して重合することにより重合体２を得た。この重合体２は１３５℃～１８７℃の温度範囲で液晶性を示した。
＜合成例８＞
　上記式（１０）で示されるメタクリル酸エステルと上記式（１１）で示されるメタクリル酸エステルを２５対７５となる割合でテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を添加して重合することにより重合体３を得た。この重合体３は１４６℃～１８３℃の温度範囲で液晶性を示した。
＜合成例９＞
　上記式（１２）で示されるメタクリル酸エステルをテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を添加して重合することにより重合体４を得た。この重合体４は６６℃～３２０℃の温度範囲で液晶性を示した。
＜合成例１０＞
　上記式（１３）で示されるメタクリル酸エステルをテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を添加して重合することにより重合体５を得た。この重合体５は１４３℃～２８３℃の温度範囲で液晶性を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
＜異方性を導入された液晶配向膜の作成＞
＜実施例１＞
　合成例６で得られた重合体１を用い、塩化メチレンに溶解し、光学的に等方性の基板に、約１９０ｎｍの厚さでスピンコートすることで基板上に側鎖型高分子膜を形成した。この基板を用いて紫外吸収スペクトルを測定したところ、最大吸光度は３１４ｎｍで０．８９であった。得られた基板上の側鎖型高分子膜に、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を照射した。
　こうして得られた基板上の側鎖型高分子膜を用いて紫外吸収スペクトルを測定し、側鎖型高分子膜について、照射した偏光紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを評価した。ΔＡは偏光紫外線を波長３６５ｎｍ換算で４５００ｍＪ照射した際に、３１４ｎｍで最大０．２となるが、ΔＡが０．０６５（最大値に対して３２％の差）になるように偏光紫外線を６５０ｍＪ照射し、続いて、この基板を１５５℃まで加熱し、側鎖型高分子膜を液晶相として、そのまま５分間保持した。その後、室温まで冷却して、膜中に異方性の導入された側鎖型高分子膜を有する基板を得た。その際のΔＡは１．８に増幅され、配向度は０．７３となった。次に、異方性の導入された側鎖型高分子膜を有する基板に波長３６５ｎｍ換算で１５００ｍＪの無偏光紫外線を照射することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。
＜実施例２＞
　合成例６で得られた重合体１を用い、偏光紫外線の照射量を５００ｍＪ（ΔＡの最大値の２５％のΔＡとなる照射量）とした以外は実施例１と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行った。その結果、熱処理前後のΔＡは０．０５から１．８５に増幅され、その時の配向度は３１４ｎｍで０．７４となった。その後、実施例１と同様に無偏光紫外線を照射し、液晶配向膜を有する基板を得た。
　＜実施例３＞
　合成例７で得られた重合体２をテトラヒドロフランに溶解し、光学的に等方性の基板に、約１５０ｎｍの厚さでスピンコートしたこと、偏光紫外線の照射量を５ｍＪ（ΔＡの最大値の１０％のΔＡとなる照射量）とし、その後の熱処理を１６５℃で５分間とした以外は実施例１と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行った。その結果、熱処理前後のΔＡは０．０３から１．６に増幅され、その時の配向度は３１４ｎｍで０．７２となった。その後、実施例１と同様に無偏光紫外線を１０００ｍＪ照射し、液晶配向膜を有する基板を得た。
＜実施例４＞
　合成例８で得られた重合体３を用い、偏光紫外線の照射量を２０ｍＪ（ΔＡの最大値の４０％のΔＡとなる照射量）とした以外は実施例３と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行った。その結果、熱処理前後のΔＡは０．１２から１．６に増幅され、その時の配向度は３１４ｎｍで０．６２となった。その後、実施例１と同様に無偏光紫外線を１０００ｍＪ照射し、液晶配向膜を有する基板を得た。
＜実施例５＞
　合成例９で得られた重合体４を塩化メチレンに溶解し、光学的に等方性の基板に、約２２０ｎｍの厚さでスピンコートすることで基板上に側鎖型高分子膜を形成したこと、偏光紫外線の照射量を３００ｍＪ（ΔＡの最大値の２９％のΔＡとなる照射量）とし、その後の熱処理を２００℃で５分間とした以外は実施例１と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行った。その結果、熱処理前後のΔＡは０．０４から１．４に増幅され、その時の配向度は２９４ｎｍで０．６２となった。その後、実施例１と同様に無偏光紫外線を５０００ｍＪ照射し、液晶配向膜を有する基板を得た。
＜実施例６＞
　合成例１０で得られた重合体５を塩化メチレンに溶解し、光学的に等方性の基板に、約２２０ｎｍの厚さでスピンコートすることで基板上に側鎖型高分子膜を形成したこと、偏光紫外線の照射量を１０００ｍＪ（ΔＡの最大値の４９％のΔＡとなる照射量）とし、その後の熱処理を１８０℃で５分間とした以外は実施例１と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行った。その結果、熱処理前後のΔＡは０．０７から１．７に増幅され、その時の配向度は２６２ｎｍで０．７２となる液晶配向膜を有する基板を得た。
＜比較例１＞
　合成例６で得られた重合体１を用い、塩化メチレンに溶解し、光学的に等方性の基板に、約１９０ｎｍの厚さでスピンコートすることで基板上に側鎖型高分子膜を形成した。この基板を用いて紫外吸収スペクトルを測定したところ、最大吸光度は３１４ｎｍで０．８９であった。得られた基板上の側鎖型高分子膜に、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変換した紫外線を照射した。
　こうして得られた基板上の側鎖型高分子膜を用いて紫外吸収スペクトルを測定し、側鎖型高分子膜について、照射した偏光紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを評価した。ΔＡは偏光紫外線を波長３６５ｎｍ換算で４５００ｍＪ照射した際に、３１４ｎｍで最大０．２となるが、ΔＡが０．０６５（最大値に対して３２％の差）になるように偏光紫外線を６５０ｍＪ照射し、続いて、この基板を１５５℃まで加熱し、側鎖型高分子膜を液晶相として、そのまま５分間保持した。その後、室温まで冷却して、膜中に異方性の導入された液晶配向膜を有する基板を得た。その際のΔＡは１．８に増幅され、配向度は０．７３となった。
＜比較例２＞
　合成例６で得られた重合体１を塩化メチレンに溶解し、光学的に等方性の基板に、約１９０ｎｍの厚さでスピンコートすることで基板上に側鎖型高分子膜を形成したこと、偏光紫外線の照射量を４５００ｍＪ（ΔＡが最大値となる照射量）とした以外は比較例１と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行い、膜中に異方性の導入された液晶配向膜を得た。この際、熱処理前後のΔＡは０．０７から０．０７と変化せず、配向度も３１４ｎｍで０．１２であり、ΔＡと配向度の増幅は確認されなかった。
＜比較例３＞
　合成例７で得られた重合体２をテトラヒドロフランに溶解し、光学的に等方性の基板に、約１５０ｎｍの厚さでスピンコートすることで基板上に側鎖型高分子膜を形成したこと、偏光紫外線の照射量を９００ｍＪ（ΔＡが最大値となる照射量）とし、その後の熱処理を１６５℃とした以外は比較例１と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行い、膜中に異方性の導入された液晶配向膜を得た。この際、熱処理前後のΔＡは０．０７から０．０７と変化せず、配向度も３１４ｎｍで０．１２であり、ΔＡと配向度の増幅は確認されなかった。
＜比較例４＞
　合成例７で得られた重合体２をテトラヒドロフランに溶解し、光学的に等方性の基板に、約１５０ｎｍの厚さでスピンコートすることで基板上に側鎖型高分子膜を形成したこと、偏光紫外線の照射量を５ｍＪ（ΔＡが最大値の１０％のΔＡとなる照射量）とし、その後の熱処理を重合体２の液晶温度範囲以上である２００℃とした以外は比較例１と同様に偏光紫外線照射とその後の熱処理を行い、液晶配向膜を得た。この際、熱処理前後のΔＡは０．０７から０と減少し、配向ども３１４ｎｍで０となり、高分子薄膜中の異方性が消失した。
＜液晶セルの作成と評価＞
＜実施例７＞
　実施例１で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、メルクジャパン（株）製の液晶ＺＬＩ－４７９２を挟持したアンチパラレル液晶セルを得た。得られた液晶セルを直交ニコル下で観察したところ、配向不良のない均一な液晶配向が観察された。また、このような異方性を導入された液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚作製し、それらの間に液晶ＺＬＩ－４７９２を挟持し、得られた液晶セルをさらに一対の直線偏光板で挟持することにより、液晶の厚さが６μｍのＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子を作成した。このＴＮ型液晶表示素子ではＩＴＯ電極への電圧印加による液晶の駆動が確認できた。液晶表示素子は全面にわたり配向欠陥の無いことが確認され、電圧印加による均一な液晶の配向変化が確認された。本実施の形態の液晶配向膜を用い、本実施の液晶表示素子を製造することができた。評価結果を表１にまとめる。
＜実施例８＞
　実施例２で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜実施例９＞
　実施例３で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜実施例１０＞
　実施例４で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜実施例１１＞
　実施例５で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜実施例１２＞
　実施例６で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜比較例５＞
　比較例１で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜比較例６＞
　比較例２で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜比較例７＞
　比較例３で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
＜比較例８＞
　比較例４で作成した液晶配向膜を有する基板２枚を用いて、実施例７と同様な方法にて液晶セルを作成した。結果を表１に示す。
　以上の評価結果から、本発明の液晶配向膜の製造方法を用い、少ない紫外線照射量によって作製された本発明の液晶配向膜は、液晶表示素子を提供できることがわかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　本発明の製造方法は、高効率な配向処理を可能とする液晶配向膜の製造に有用である。
　なお、２０１１年１１月２９日に出願された日本特許出願２０１１－２６０１８０号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
　１　　側鎖型高分子膜
　２、２ａ　　側鎖
　３　　側鎖型高分子膜
　４、４ａ　　側鎖
　５　　側鎖型高分子膜
　６、６ａ　　側鎖
　７　　側鎖型高分子膜
　８、８ａ　　側鎖

Claims (12)

  1. 　［Ｉ］基板上に、所定の温度範囲で液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子膜を形成する工程、
    　［ＩＩ］前記側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射する工程、及び
    　［ＩＩＩ］前記紫外線の照射された側鎖型高分子膜を加熱する工程
    を有する液晶配向膜の製造方法であって、
    　［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記側鎖型高分子膜の、前記偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内であることを特徴とする液晶配向膜の製造方法。
  2. 　［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～５０％の範囲内である請求項１に記載の液晶配向膜の製造方法。
  3. 　［ＩＩＩ］工程の加熱温度が、前記側鎖型高分子膜が液晶性を発現する温度範囲の下限より１０℃高い温度から当該温度範囲の上限より１０℃低い温度までの範囲の温度である請求項１又は２に記載の液晶配向膜の製造方法。
  4. 　前記、液晶性を発現する感光性の側鎖型高分子に含有される感光性基がアゾベンゼン、スチルベン、桂皮酸、桂皮酸エステル、カルコン、クマリン、トラン、フェニルベンゾエート、又はその誘導体である請求項１～３に記載の液晶配向膜の製造方法。
  5. 　［Ｉ］基板上に、所定の温度範囲で液晶性を発現する光架橋性の側鎖型高分子膜を形成する工程、
    　［ＩＩ］前記光架橋性側鎖型高分子膜に偏光した紫外線を照射する工程、及び
    　［ＩＩＩ］前記紫外線の照射された側鎖型高分子膜を加熱する工程
    　［ＩＶ］前記紫外線を照射され、その後加熱された側鎖型高分子膜に無偏光の紫外線を照射する工程
    を有する液晶配向膜の製造方法であって、
    　［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記側鎖型高分子膜の、前記偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～７０％の範囲内であることを特徴とする液晶配向膜の製造方法。
  6. 　［ＩＩ］工程の紫外線照射量が、前記ΔＡを最大にする紫外線照射量の１％～５０％の範囲内である請求項５に記載の液晶配向膜の製造方法。
  7. 　［ＩＩＩ］工程の加熱温度が、前記側鎖型高分子膜が液晶性を発現する温度範囲の下限より１０℃高い温度から当該温度範囲の上限より１０℃低い温度までの範囲の温度である請求項５又は６に記載の液晶配向膜の製造方法。
  8. 　［ＩＶ］工程の紫外線照射により、前記側鎖型高分子膜の有する光架橋性基の２０モル％以上が反応する請求項５～７に記載の液晶配向膜の製造方法。
  9. 　前記、液晶性を発現する光架橋性の側鎖型高分子に含有される感光性基が桂皮酸、桂皮酸エステル、カルコン、クマリン、トラン、又はその誘導体である請求項５～８に記載の液晶配向膜の製造方法。
  10. 　前記側鎖型高分子膜は、炭化水素、アクリレート、及びメタクリレートからなる群から選択される少なくとも１種から構成された主鎖と、下記式（１）～（７）の少なくとも１種で表される側鎖とを有する構造である請求項１～９のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式（１）中、Ａ１、Ｂ１はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｙ１はベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、及び炭素数５～８の環状炭化水素なる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。Ｘ１は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表し、ｌ１は１～１２の整数を表し、ｍ１は１～３の整数を表し、ｎ１は１～１２の整数を表す。式（２）中、Ａ２、Ｂ２、Ｄ１はそれぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｙ２はベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、及び炭素数５～８の環状炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。Ｘ２は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表し、Ｒ１は水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ｌ２は１～１２の整数を表し、ｍ２は１～３の整数を表し、ｎ２は１～１２の整数を表す。式（３）中、Ａ３は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｘ３は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表し、Ｒ２は水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ｌ３は１～１２の整数を表し、ｍ３は１～３の整数を表す。式（４）中、ｌ４は１～１２の整数を表す。式（５）中、Ａ４は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｘ４は－ＣＯＯ－を表し、Ｙ３はベンゼン環、ナフタレン環、及びビフェニル環からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。ｌ５は１～１２の整数を表し、ｍ４は１～３の整数を表す。式（６）中、Ａ５は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｒ３は水素原子、－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、炭素数１～６のアルキル基、及び炭素数１～６のアルキルオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を表す。ｌ６は１～１２の整数を表す。式（６）中のベンゼン環に結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。式（７）中、Ａ６は単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、又はＮＨ－ＣＯ－を表し、Ｂ３は単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ＝Ｃ－、－Ｃ≡Ｃ－、又はＣ6Ｈ4－を表す。Ｗ１はベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、及び炭素数５～８の環状炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に－ＮＯ２、－ＣＮ、－Ｃ＝Ｃ（ＣＮ）２、－Ｃ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、又はアルキルオキシ基で置換されても良い。ｌ７は１～１２の整数を表し、ｍ５、ｍ６はそれぞれ１～３の整数を表す。）
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法により製造された液晶配向膜。
  12. 　請求項１１に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014017497A1 (ja) * 2012-07-24 2014-01-30 日産化学工業株式会社 液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜、液晶表示素子、重合体及び液晶配向剤
WO2014148569A1 (ja) * 2013-03-19 2014-09-25 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子の製造方法
WO2015002292A1 (ja) * 2013-07-04 2015-01-08 日産化学工業株式会社 偏光紫外線異方性化材料
JP2015007702A (ja) * 2013-06-25 2015-01-15 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法
WO2015012341A1 (ja) * 2013-07-24 2015-01-29 日産化学工業株式会社 重合体、重合体組成物および横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜
WO2015016301A1 (ja) * 2013-07-31 2015-02-05 日産化学工業株式会社 重合体組成物および横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜
WO2015025937A1 (ja) * 2013-08-22 2015-02-26 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法
WO2015114864A1 (ja) * 2014-01-30 2015-08-06 公立大学法人兵庫県立大学 光反応性液晶組成物、表示素子、光学素子、表示素子の製造方法、光学素子の製造方法
WO2015156314A1 (ja) * 2014-04-09 2015-10-15 日産化学工業株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
WO2015186562A1 (ja) * 2014-06-02 2015-12-10 Dic株式会社 液晶配向膜
WO2016021570A1 (ja) * 2014-08-05 2016-02-11 日産化学工業株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子
JP2016060857A (ja) * 2014-09-19 2016-04-25 林テレンプ株式会社 液晶高分子膜およびその製造方法
JP2017083546A (ja) * 2015-10-23 2017-05-18 株式会社ブイ・テクノロジー 光照射装置
JP2017126060A (ja) * 2016-01-07 2017-07-20 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、並びに液晶配向膜及び液晶素子の製造方法
US9810950B2 (en) 2014-07-30 2017-11-07 Sharp Kabushiki Kaisha Method for producing liquid crystal display device with favorable voltage holding ratio reliability and reduced image sticking
JP2018109788A (ja) * 2018-03-16 2018-07-12 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法
JPWO2018043529A1 (ja) * 2016-08-31 2019-06-24 日産化学株式会社 水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法
TWI706981B (zh) * 2013-07-05 2020-10-11 日商日產化學工業股份有限公司 聚合物組成物、具有液晶配向膜之基板的製造方法、橫向電場驅動型液晶顯示元件、液晶顯示元件的製造方法及橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6989895B2 (ja) * 2015-10-07 2022-01-12 兵庫県公立大学法人 光学素子及びその製造方法
US11561507B2 (en) 2018-04-17 2023-01-24 Meta Platforms Technologies, Llc Methods for three-dimensional arrangement of anisotropic molecules, patterned anisotropic films, and optical elements therewith
US12092850B2 (en) 2018-04-17 2024-09-17 Meta Platforms Technologies, Llc Patterned anisotropic films and optical elements therewith

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007304215A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Hayashi Telempu Co Ltd 光配向材および光学素子、液晶配向膜の製造方法
JP2008276149A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Hayashi Telempu Co Ltd 高分子フィルム、分子配向素子の作製方法、および液晶配向膜
WO2012014915A1 (ja) * 2010-07-28 2012-02-02 大阪有機化学工業株式会社 共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、光配向膜及び位相差膜

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3893659B2 (ja) 1996-03-05 2007-03-14 日産化学工業株式会社 液晶配向処理方法
TWI406061B (zh) * 2005-11-10 2013-08-21 Dainippon Ink & Chemicals 光配向膜用組成物、光學異向體及其製法
KR100913605B1 (ko) * 2007-12-07 2009-08-26 제일모직주식회사 액정 광배향제, 이를 포함하는 액정 광배향막, 및 이를포함하는 액정 표시 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007304215A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Hayashi Telempu Co Ltd 光配向材および光学素子、液晶配向膜の製造方法
JP2008276149A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Hayashi Telempu Co Ltd 高分子フィルム、分子配向素子の作製方法、および液晶配向膜
WO2012014915A1 (ja) * 2010-07-28 2012-02-02 大阪有機化学工業株式会社 共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、光配向膜及び位相差膜

Cited By (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014017497A1 (ja) * 2012-07-24 2014-01-30 日産化学工業株式会社 液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜、液晶表示素子、重合体及び液晶配向剤
JPWO2014017497A1 (ja) * 2012-07-24 2016-07-11 日産化学工業株式会社 液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜、液晶表示素子、重合体及び液晶配向剤
WO2014148569A1 (ja) * 2013-03-19 2014-09-25 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子の製造方法
JP2015007702A (ja) * 2013-06-25 2015-01-15 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法
CN105518036A (zh) * 2013-07-04 2016-04-20 日产化学工业株式会社 偏振紫外线各向异性化材料
WO2015002292A1 (ja) * 2013-07-04 2015-01-08 日産化学工業株式会社 偏光紫外線異方性化材料
KR102311484B1 (ko) * 2013-07-04 2021-10-08 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 편광 자외선 이방성화 재료
TWI701283B (zh) * 2013-07-04 2020-08-11 日商日產化學工業股份有限公司 偏光紫外線異向性材料、偏光紫外線異向性材料用組成物、偏光紫外線異向性材料之製造方法及偏光紫外線異向性材料製造用組成物
CN105518036B (zh) * 2013-07-04 2018-01-02 日产化学工业株式会社 偏振紫外线各向异性化材料
JPWO2015002292A1 (ja) * 2013-07-04 2017-02-23 日産化学工業株式会社 偏光紫外線異方性化材料
KR20160027187A (ko) * 2013-07-04 2016-03-09 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 편광 자외선 이방성화 재료
TWI706981B (zh) * 2013-07-05 2020-10-11 日商日產化學工業股份有限公司 聚合物組成物、具有液晶配向膜之基板的製造方法、橫向電場驅動型液晶顯示元件、液晶顯示元件的製造方法及橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜
JPWO2015012341A1 (ja) * 2013-07-24 2017-03-02 日産化学工業株式会社 重合体、重合体組成物および横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜
KR102290811B1 (ko) 2013-07-24 2021-08-17 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 중합체, 중합체 조성물 및 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막
TWI637044B (zh) * 2013-07-24 2018-10-01 日產化學工業股份有限公司 聚合物、聚合物組成物及橫電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜
CN105593751A (zh) * 2013-07-24 2016-05-18 日产化学工业株式会社 聚合物、聚合物组合物和横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜
KR20160035010A (ko) * 2013-07-24 2016-03-30 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 중합체, 중합체 조성물 및 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막
WO2015012341A1 (ja) * 2013-07-24 2015-01-29 日産化学工業株式会社 重合体、重合体組成物および横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜
JPWO2015016301A1 (ja) * 2013-07-31 2017-03-02 日産化学工業株式会社 重合体組成物および横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜
TWI707024B (zh) * 2013-07-31 2020-10-11 日商日產化學工業股份有限公司 聚合物組成物以及橫向電場驅動型液晶顯示元件用之液晶配向膜
CN105593308A (zh) * 2013-07-31 2016-05-18 日产化学工业株式会社 聚合物组合物和横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜
WO2015016301A1 (ja) * 2013-07-31 2015-02-05 日産化学工業株式会社 重合体組成物および横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜
TWI644931B (zh) * 2013-08-22 2018-12-21 Nissan Chemical Industries, Ltd. 具有橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜之基板之製造方法
JPWO2015025937A1 (ja) * 2013-08-22 2017-03-02 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法
WO2015025937A1 (ja) * 2013-08-22 2015-02-26 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法
US10752839B2 (en) 2014-01-30 2020-08-25 University Of Hyogo Photoreactive liquid crystal composition, display element, optical element, method for manufacturing display element, and method for manufacturing optical element
KR102226644B1 (ko) 2014-01-30 2021-03-10 코우리츠다이가쿠호우징 효고켄리츠다이가쿠 광 반응성 액정 조성물, 표시 소자, 광학 소자, 표시 소자의 제조 방법, 광학 소자의 제조 방법
JPWO2015114864A1 (ja) * 2014-01-30 2017-03-23 公立大学法人兵庫県立大学 光反応性液晶組成物、表示素子、光学素子、表示素子の製造方法、光学素子の製造方法
KR20160114674A (ko) * 2014-01-30 2016-10-05 코우리츠다이가쿠호우징 효고켄리츠다이가쿠 광 반응성 액정 조성물, 표시 소자, 광학 소자, 표시 소자의 제조 방법, 광학 소자의 제조 방법
WO2015114864A1 (ja) * 2014-01-30 2015-08-06 公立大学法人兵庫県立大学 光反応性液晶組成物、表示素子、光学素子、表示素子の製造方法、光学素子の製造方法
US11560517B2 (en) 2014-01-30 2023-01-24 University Of Hyogo Photoreactive liquid crystal composition, display element, optical element, method for manufacturing display element, and method for manufacturing optical element
JPWO2015156314A1 (ja) * 2014-04-09 2017-04-13 日産化学工業株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
WO2015156314A1 (ja) * 2014-04-09 2015-10-15 日産化学工業株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
TWI706028B (zh) * 2014-04-09 2020-10-01 日商日產化學工業股份有限公司 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件
CN106232733B (zh) * 2014-04-09 2018-12-18 日产化学工业株式会社 液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件
CN106232733A (zh) * 2014-04-09 2016-12-14 日产化学工业株式会社 液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件
WO2015186562A1 (ja) * 2014-06-02 2015-12-10 Dic株式会社 液晶配向膜
KR101802218B1 (ko) 2014-06-02 2017-11-28 디아이씨 가부시끼가이샤 액정 배향막
US9708535B2 (en) 2014-06-02 2017-07-18 Dic Corporation Liquid crystal alignment layer
JP6002996B2 (ja) * 2014-06-02 2016-10-05 Dic株式会社 液晶配向膜
US9810950B2 (en) 2014-07-30 2017-11-07 Sharp Kabushiki Kaisha Method for producing liquid crystal display device with favorable voltage holding ratio reliability and reduced image sticking
JPWO2016021570A1 (ja) * 2014-08-05 2017-05-18 日産化学工業株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子
WO2016021570A1 (ja) * 2014-08-05 2016-02-11 日産化学工業株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子
JP2016060857A (ja) * 2014-09-19 2016-04-25 林テレンプ株式会社 液晶高分子膜およびその製造方法
JP2017083546A (ja) * 2015-10-23 2017-05-18 株式会社ブイ・テクノロジー 光照射装置
JP2017126060A (ja) * 2016-01-07 2017-07-20 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、並びに液晶配向膜及び液晶素子の製造方法
JPWO2018043529A1 (ja) * 2016-08-31 2019-06-24 日産化学株式会社 水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法
JP2018109788A (ja) * 2018-03-16 2018-07-12 日産化学工業株式会社 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法

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