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WO2012070088A1 - 有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法 - Google Patents

有機ｅｌパネル、それを用いた表示装置および有機ｅｌパネルの製造方法 Download PDF

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WO2012070088A1
WO2012070088A1 PCT/JP2010/006862 JP2010006862W WO2012070088A1 WO 2012070088 A1 WO2012070088 A1 WO 2012070088A1 JP 2010006862 W JP2010006862 W JP 2010006862W WO 2012070088 A1 WO2012070088 A1 WO 2012070088A1
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WO
WIPO (PCT)
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layer
organic
electrode
thickness
color
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2010/006862
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English (en)
French (fr)
Inventor
恵子 倉田
哲征 松末
和弘 米田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to PCT/JP2010/006862 priority Critical patent/WO2012070088A1/ja
Priority to US13/819,066 priority patent/US8847217B2/en
Publication of WO2012070088A1 publication Critical patent/WO2012070088A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Definitions

  • the present invention relates to an organic EL panel using an electroluminescent phenomenon of an organic material, a display device using the same, and a method for manufacturing the organic EL panel, and in particular, for each color of R (red), G (green), and B (blue).
  • the present invention relates to an optical design for increasing light extraction efficiency.
  • the organic EL panel has a configuration in which organic EL elements of R, G, and B colors are arranged on a substrate.
  • Patent Documents 1 to 7 a lower electrode (mirror), a transparent conductive layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an upper electrode (half mirror) are laminated, and light extraction efficiency of each color of R, G, B Discloses a light-emitting element in which the optical distance between the mirror and the half mirror is adjusted so that is maximized (paragraph 0012). In this document, the optical distance is adjusted by adjusting the film thickness of the transparent conductive layers of R, G, and B colors (paragraph 0028).
  • the above-described conventional technique has a problem in that it is necessary to adjust the film thickness of the transparent conductive layer for each of R, G, and B colors, which makes the manufacturing process complicated.
  • the present invention provides an organic EL panel that can improve the light extraction efficiency by utilizing the light interference effect and can simplify the manufacturing process as compared with the prior art, and a display device and an organic EL panel using the same. It aims at providing the manufacturing method of.
  • An organic EL panel is provided for each of R (red), G (green), and B (blue) colors, and reflects the incident light, and the R, G, and A second electrode disposed opposite to the first electrode of each color B and transmitting incident light, and provided for each of the colors R, G, B, and between the first electrode and the second electrode
  • An organic light emitting layer that emits light of a corresponding color among R, G, and B when a voltage is applied between the first electrode and the second electrode, and the R,
  • the first light path emitted to the outside through the organic light emitting layer, the second functional layer, and the second electrode, and the remaining part of the light emitted from the organic light emitting layer are disposed on the first electrode side.
  • the thickness of the charge injection layer is different from each other
  • the thickness of the other layers other than the charge injection transport layer is the same
  • the thickness of the second functional layer is the same.
  • the film thickness of the organic light emitting layer is the same for both R and G colors, and only the B color is different.
  • the organic light emitting layer is made of different materials for each color of R, G, and B, it is necessary to make different colors for each color regardless of whether or not the film thickness is the same.
  • the first and second functional layers are made of the same material for each color of R, G, and B, it is necessary to make them separately for each color if the film thickness is different. There is no need to make them separately.
  • the film thickness is different for each color, it is easy to make a film by using a printing method such as an ink jet method.
  • the film thicknesses of the organic light emitting layer and the hole injection transport layer are made different for each color.
  • the light interference effect can be used.
  • the organic light emitting layer originally needs to be prepared for each color, the number of manufacturing steps does not increase even if the film thickness of the organic light emitting layer is prepared for each color.
  • the hole injecting and transporting layer is suitable for forming a film by a printing method, it is easy to make a film thickness for each color. Therefore, by utilizing the light interference effect, the light extraction efficiency can be increased, and the manufacturing process can be simplified as compared with the prior art.
  • Sectional drawing which shows typically the pixel structure of the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention
  • the figure which illustrates the resonator structure in a blue organic EL element The figure which shows the transmission spectrum of the color filter of each R, G, B color used by simulation It is a figure which shows the change of the light extraction efficiency when changing the film thickness of a 1st functional layer, (a) is without CF of Example 1, (b) is with CF of Example 1, (C) is the case of Comparative Example 1a without CF, (d) is the case of Comparative Example 1a with CF. The change in the light extraction efficiency when the film thickness of each layer is changed is shown.
  • (A) shows the case where the hole transport layer has no CF
  • (b) shows the case where the hole transport layer has CF
  • (c) shows In the case where the organic light emitting layer has no CF
  • (d) shows the case where the organic light emitting layer has CF.
  • (a) is Example 1
  • (b) is a figure which shows the comparative example 1a. Diagram showing various tolerances The figure which shows the minimum value (min), intermediate value (ave), and maximum value (max) of the film thickness of each layer of the organic EL element of Example 1. The figure which shows the light extraction efficiency etc.
  • the figure which illustrates the external appearance of the organic display apparatus which concerns on embodiment of this invention The figure for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention.
  • the inventors of the present invention also have an organic EL panel in which the first electrode, the first functional layer, the organic light emitting layer, the second functional layer, and the second electrode are laminated, in particular, the first electrode reflects light and the second electrode We are conducting research and development on products that transmit light.
  • the distance between the first electrode and the organic light emitting layer, that is, the film thickness of the first functional layer strongly influences the light interference effect. Therefore, in order to increase the light extraction efficiency of each color of R, G, and B, it is considered that the film thickness of the first functional layer may be appropriately adjusted for each color of R, G, and B.
  • FIGS. 5A and 5B show changes in light extraction efficiency when the film thickness of the hole transport layer of the first functional layer is changed, and there are cases where there is no color filter and cases where there is no color filter, respectively.
  • FIGS. 5C and 5D show changes in the light extraction efficiency when the film thickness of the organic light emitting layer is changed, and there are cases where there is no color filter and cases where there is no color filter. This shows that the light extraction efficiency changes not only when the thickness of the first functional layer is changed but also when the thickness of the organic light emitting layer is changed.
  • the organic light emitting layer is usually made of different materials for each color of R, G, and B, it is necessary to make a different color for each color regardless of whether or not the film thickness is the same.
  • the first and second functional layers are made of the same material for each color of R, G, and B. Therefore, if the film thickness is different, it is necessary to make it for each color. There is no need to make them separately. In the case where the film thickness is different for each color, it is easy to make a film by using a printing method such as an ink jet method.
  • An organic EL panel according to an aspect of the present invention is provided for each color of R (red), G (green), and B (blue), and reflects the incident light, and the R, G, A second electrode disposed opposite to the first electrode of each color B and transmitting incident light, and provided for each of the colors R, G, B, and between the first electrode and the second electrode
  • An organic light emitting layer that emits light of a corresponding color among R, G, and B when a voltage is applied between the first electrode and the second electrode, and the R,
  • a second optical path that travels to the second electrode side and is emitted to the outside through the second electrode is formed.
  • the second optical path is formed.
  • the thicknesses of the charge injection layers in one functional layer are different from each other, the thicknesses of layers other than the charge injection transport layer are the same, and the thicknesses of the second functional layers are the same.
  • the film thickness of the organic light emitting layer is the same for both the R and G colors, and only the B color is different.
  • the film thicknesses of the organic light emitting layer and the hole injection transport layer are made different for each color.
  • the light interference effect can be used.
  • the organic light emitting layer originally needs to be prepared for each color, the number of manufacturing steps does not increase even if the film thickness of the organic light emitting layer is prepared for each color.
  • the hole injecting and transporting layer is suitable for forming a film by a printing method, it is easy to make a film thickness for each color. Therefore, by utilizing the light interference effect, the light extraction efficiency can be increased, and the manufacturing process can be simplified as compared with the prior art.
  • the “charge injection / transport layer” is a general term for a hole injection layer, a hole transport layer, a hole injection / transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and an electron injection / transport layer.
  • a color filter is provided for each of the R, G, and B colors and disposed on the opposite side of the organic light emitting layer with the second electrode interposed therebetween, and light extraction after passing through the color filter is provided.
  • the film thicknesses of the R, G, and B organic light-emitting layers may be adjusted so that the efficiency shows a maximum value.
  • the light extraction efficiency changes and the chromaticity also changes. Further, when the light extraction efficiency is a maximum value, the chromaticity becomes the target chromaticity. It turns out that it is not necessarily close.
  • the film thickness of the organic light-emitting layer is set so that the light extraction efficiency of light after passing through the color filter exhibits a maximum value. The extraction efficiency can be increased.
  • the film thickness of the first functional layer may be adjusted to a film thickness at which the light extraction efficiency of light after passing through the color filter exhibits a secondary maximum value.
  • the first functional layer can be formed to have a thickness that allows stable film formation.
  • the layer other than the charge injection transport layer in the first functional layer may be a transparent conductive layer.
  • the transparent conductive layer can be formed using a physical vapor deposition method, it is difficult to form a film using a printing method. According to one embodiment of the present invention, since the film thickness of the transparent conductive layer is the same for each color of R, G, and B, the manufacturing process can be simplified.
  • the first functional layer includes a layer formed by a printing method and a layer formed by a physical vapor deposition method, and R, G of layers formed by a coating method among the first functional layers.
  • B may have different thicknesses, and the R, G, B thicknesses of the layers formed by physical vapor deposition in the first functional layer may be the same.
  • the first functional layer includes a transparent conductive layer formed on the anode serving as the first electrode as a layer other than the charge injection transport layer, and the transparent layer as the charge injection transport layer is the transparent layer.
  • the transparent conductive layer of each color of R, G, and B includes a hole injection layer formed on the conductive layer and a hole transport layer formed on the hole injection layer, and the film thickness of the transparent conductive layer of each color of R, G, B is 90 nm or more and 110 nm
  • the thickness of the hole injection layer for each of the R, G, and B colors is 36 nm to 44 nm, the thickness of the R hole transport layer is 54 nm to 66 nm,
  • the film thickness of the hole transport layer is 36 nm or more and 44 nm or less, the film thickness of the B hole transport layer is 9 nm or more and 11 nm or less, and the film thickness of the organic light emitting layer of R or G is 72 nm or more. 88 nm or less, and
  • the material of the first electrode may be aluminum or an aluminum alloy
  • the material of the transparent conductive layer may be IZO (Indium Zinc Oxide).
  • the film thickness of the second functional layer may be 27 nm or more and 33 nm or less.
  • the second functional layer may include an electron transport layer, and the thickness of the electron transport layer may be 27 nm or more and 33 nm or less.
  • the first functional layer includes a transparent conductive layer formed on the anode serving as the first electrode as a layer other than the charge injection transport layer, and the transparent layer as the charge injection transport layer is the transparent layer.
  • the transparent conductive layer of each color of R, G, and B includes a hole injection layer formed on the conductive layer and a hole transport layer formed on the hole injection layer, and the film thickness of the transparent conductive layer of each color of R, G, B is 90 nm or more and 110 nm
  • the R, G, B hole injection layer has a thickness of 36 nm to 44 nm
  • the R hole transport layer has a thickness of 45 nm to 55 nm
  • the film thickness of the hole transport layer is 27 nm or more and 33 nm or less
  • the film thickness of the B hole transport layer is 9 nm or more and 11 nm or less
  • the film thickness of the organic light emitting layer of R or G is 72 nm or more. 88 nm or less, and the film thickness of
  • the material of the first electrode may be silver or a silver alloy
  • the material of the transparent conductive layer may be ITO (Indium Tin Oxide).
  • the film thickness of the second functional layer may be 27 nm or more and 33 nm or less.
  • the second functional layer may include an electron transport layer, and the thickness of the electron transport layer may be 27 nm or more and 33 nm or less.
  • the organic light emitting layer may include an organic material and be formed using a printing method.
  • the first functional layer includes a transparent conductive layer formed on the anode serving as the first electrode as a layer other than the charge injection transport layer, and the transparent layer as the charge injection transport layer is the transparent layer.
  • the transparent conductive layer and the hole injection layer are formed using a physical vapor deposition method.
  • the hole transport layer may be formed by using a printing method.
  • a display device includes the organic EL panel.
  • a second step of providing a first functional layer composed of two or more layers including a charge injecting and transporting layer on the first electrodes of the R, G, and B colors, and a first step of each of the R, G, and B colors A third step of providing an organic light emitting layer that emits light of a corresponding color of R, G, and B on the functional layer, and 1 or 2 on the organic light emitting layer of each color of R, G, and B, respectively.
  • the thickness of the charge injection layer in the first functional layer is equal to each other.
  • the first functional layer is provided so that the thicknesses of the layers other than the charge injecting and transporting layer are the same for each color of R, G, and B
  • the organic light emitting layer is provided so that the film thickness of the organic light emitting layers of the G and B colors is the same for both the R and G colors, and only the B color is different.
  • the second functional layer is provided so that the film thickness of the second functional layer is the same.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a pixel structure of an organic EL panel according to an embodiment of the present invention.
  • R (red), G (green), and B (blue) pixels are regularly arranged in a matrix in the row and column directions.
  • Each pixel is composed of an organic EL element using an organic material.
  • the blue organic EL device includes a substrate 1, a reflective electrode 2, a transparent conductive layer 3, a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, an organic light emitting layer 6b, an electron transport layer 7, a transparent electrode 8, and a thin film sealing layer 9.
  • the resin sealing layer 10, the substrate 11, and the color filter 13b are provided.
  • the transparent conductive layer 3, the hole injection layer 4, and the hole transport layer 5 disposed between the reflective electrode 2 and the organic light emitting layer 6 b are referred to as “first functional layer” and are transparent with the organic light emitting layer 6 b.
  • the electron transport layer 7 disposed between the electrodes 8 may be referred to as a “second functional layer”.
  • the green organic EL element has the same configuration as the blue organic EL element except for the organic light emitting layer 6g and the color filter 13g.
  • the red organic EL element also has the same configuration as the blue organic EL element except for the organic light emitting layer 6r and the color filter (CF) 13r.
  • the substrate 1, the electron transport layer 7, the transparent electrode 8, the thin film sealing layer 9, the resin sealing layer 10 and the substrate 11 are common in the organic EL elements of R, G and B colors, The layers are separated by banks 12.
  • FIG. 2 illustrates a resonator structure in a blue organic EL element.
  • a part of the light emitted from the organic light emitting layer 6b travels to the reflective electrode 2 side through the first functional layer and is reflected by the reflective electrode 2, and then the first functional layer and the organic light emitting layer.
  • the film thickness of the first functional layer By appropriately setting the film thickness of the first functional layer, the light passing through the first optical path C1 and the light passing through the second optical path C2 are intensified, and the light extraction efficiency can be increased.
  • the structure and material of the first functional layer are the same for each color of R, G, and B. Further, the film thickness of the first functional layer is different from each other for each of R, G, and B colors. The film thickness adjustment for each color is performed in the hole transport layer 5. That is, the film thickness of the hole transport layer 5 is different for each color of R, G, and B, and the film thicknesses of the transparent conductive layer 3 and the hole injection layer 4 are the same for each color of R, G, and B. Since the structure and material of the first functional layer are the same for each color of R, G, and B, the optical distance from the organic light emitting layer to the reflective electrode is different for each color of R, G, and B.
  • the optical distance is obtained by the product of the film thickness and the refractive index in the case of a single layer structure, and is obtained by taking the product of the film thickness and the refractive index for each layer in the case of two or more multilayer structures. It is obtained by summing up the products.
  • the structure, material, and film thickness of the second functional layer are the same for each color of R, G, and B. Since the structure, material, and film thickness of the second functional layer are the same for each color of R, G, and B, the optical distance from the organic light emitting layer to the transparent electrode is the same for each color of R, G, and B.
  • the material and film thickness of the organic light emitting layer are the same for both the R and G colors, and only the B color is different. Specifically, the film thickness of the organic light emitting layer is adjusted so that the light extraction efficiency after passing through the color filter has a maximum value.
  • the organic light emitting layer is made of different materials for each color of R, G, and B, it is necessary to make different colors for each color regardless of whether or not the film thickness is the same.
  • the first and second functional layers are made of the same material for each color of R, G, and B, it is necessary to make them separately for each color if the film thickness is different. There is no need to make them separately.
  • the film thickness is different for each color, it is easy to make a film by using a printing method such as an ink jet method.
  • the film thicknesses of the organic light emitting layers 6r, 6g, 6b and the hole transport layer 5 are made different for each color.
  • the film thickness is prepared for each color, the light interference effect can be used.
  • the organic light emitting layers 6r, 6g, and 6b originally need to be prepared for each color, the number of manufacturing steps does not increase even if the film thickness of the organic light emitting layer is prepared for each color.
  • the hole transport layer 5 is suitable for forming a film by a printing method, it is easy to make a film thickness for each color.
  • the film thicknesses of the transparent conductive layer 3 and the hole injection layer 4 are the same for each color of R, G, and B, it is not necessary to make a film thickness for each color. Therefore, by utilizing the light interference effect, the light extraction efficiency can be increased, and the manufacturing process can be simplified as compared with the prior art.
  • Example 1 the film thickness of each layer of the organic EL element will be described in detail.
  • the inventors prepared Example 1 and Comparative Example 1a, obtained the optimum film thicknesses of these layers by simulation, and evaluated the light extraction efficiency and the simplicity of the manufacturing process.
  • the material of the reflective electrode is an Al alloy
  • the material of the transparent conductive layer is IZO (Indium Zinc) Oxide)
  • the materials of the organic light emitting layers of R, G, B colors are RP158 made by Summation.
  • GP1200 and BP105 were used.
  • FIG. 3 shows transmission spectra of the color filters of R, G, and B used in this simulation.
  • the color filter characteristics used in this simulation were prepared by appropriately adjusting from the viewpoints of optical characteristics and the like in the present embodiment based on a known technique. For example, the CF characteristics of Red and Green refer to JP-A-2005-116516 (FIG. 5), and the CF characteristics of Blue refer to B440 (Optline Co., Ltd.).
  • FIG. 4A and 4B are diagrams showing changes in light extraction efficiency when the film thickness of the first functional layer is changed.
  • FIG. 4A shows the case of no CF in Example 1
  • FIG. 4B shows the CF in Example 1.
  • (c) is the case of no CF in Comparative Example 1a
  • (d) is the case of having CF in Comparative Example 1a.
  • the film thickness of the electron transport layer is 30 nm
  • the film thickness of the hole injection layer is 40 nm
  • the film thickness of the transparent conductive layer is 100 nm
  • the film thickness of the organic light emitting layer is 80 nm for each of R, G, and B colors
  • the film thickness of the first functional layer is changed by fixing only 80 nm and 60 nm and changing only the film thickness of the hole transport layer.
  • the film thickness of the electron transport layer is 30 nm
  • the film thickness of the hole injection layer is 40 nm
  • the film thickness of the hole transport layer is 20 nm
  • the film thickness of the organic light emitting layer is 80 nm for each of R, G, and B colors.
  • the film thickness of the first functional layer is changed by changing only the film thickness of the transparent conductive layer.
  • the above (2) indicates that the light extraction efficiency can be increased by setting the film thickness of the hole transport layer so that the order has a small maximum value.
  • Example 1 in order to increase the light extraction efficiency, it is optimal to set the film thicknesses of the R, G, and B color hole transport layers to 60 nm, 40 nm, and 10 nm.
  • Comparative Example 1a in order to increase the light extraction efficiency, it is optimal to set the transparent conductive layers of R, G, and B colors to 140 nm, 120 nm, and 90 nm.
  • the film thickness showing the maximum value may be different between the case without CF and the case with CF.
  • the maximum value is 30 nm when there is no CF, whereas the maximum value is 10 nm or less when the CF is present.
  • Example 1 was obtained as a result of studying the film thickness of each layer with the CF characteristics involved, and is optimally designed when CF is present.
  • Example 1 the film thickness of the hole transport layer is different for each of the R, G, and B colors, and the film thickness of the organic light emitting layer is the same for both the R, G, and only the B color is different. . As shown below, adjusting the film thickness of the organic light emitting layer increases the light extraction efficiency more often than adjusting the film thickness of the hole transport layer.
  • FIG. 5 shows changes in light extraction efficiency when the film thickness of each layer is changed.
  • A shows a case where the hole transport layer is not CF and
  • B shows a case where the hole transport layer is CF.
  • C is the case where the organic light emitting layer has no CF, and
  • (d) is the case where the organic light emitting layer has CF.
  • the light extraction efficiency change widths h1 and h2 are different. That is, the rate of change in light extraction efficiency with respect to change in film thickness is smaller in the organic light emitting layer than in the hole transport layer.
  • the film thickness is adjusted by the number of ink drops. At this time, the amount of one ink drop is the minimum unit of film thickness adjustment. Therefore, the film thickness can be adjusted only discretely rather than continuously. In such a case, adjusting the film thickness with a layer having a small rate of change in the light extraction efficiency with respect to the change in film thickness is advantageous for adjusting the film thickness to the highest light extraction efficiency.
  • Example 1 since the film thickness of each color of R, G, B is adjusted coarsely in the hole transport layer, and further, the film thickness of each color of R, G, B is finely adjusted in the organic light emitting layer. It is easy to adjust to the film thickness that can maximize the extraction efficiency.
  • FIG. 6 is a diagram showing the light extraction efficiency and the like when the film thickness of each layer is set to an optimum value, (a) is Example 1 and (b) is Comparative Example 1a.
  • the optimum film thicknesses of the R, G, and B color hole transport layers are 60 nm, 40 nm, and 10 nm, and the R, G, and B color organic light emitting layer thicknesses.
  • the optimum values of are 80 nm, 80 nm, and 60 nm.
  • the light extraction efficiencies of the R, G, and B colors are 1.9 cd / A, 4.4 cd / A, and 0.41 cd / A, respectively, and the chromaticities are (0.66, 0.34) and (0.29, 0.68, respectively). ), (0.13, 0.06).
  • the allowable range of film thickness error for each color of R, G, and B in the first functional layer is ⁇ 10 to +10 nm, ⁇ 10 to +9 nm, ⁇ 15 to +8 nm, and the allowable film thickness error for each color of R, G, and B
  • the width is 20 nm, 19 nm, and 23 nm.
  • the “allowable range of film thickness error” indicates a limit at which the thickness of each layer can be shifted from the optimum value on condition that the allowable range shown in FIG. 7 is satisfied.
  • the following allowable ranges are shown.
  • (1) Variation in light extraction efficiency within the surface of the organic EL panel is within 20%
  • Variation in chromaticity within the surface of the organic EL panel is within 0.04 for both x and y
  • Field of view The luminance at an angle of 30 ° is 90% or more with respect to the luminance at a viewing angle of 0 °, and the luminance at a viewing angle of 45 ° is 80% or more with respect to the luminance at a viewing angle of 0 °.
  • the difference between the chromaticity at ° and the chromaticity at viewing angle 0 ° is within 0.04 for both x and y.
  • the “allowable width of the film thickness error” is a difference between the upper limit and the lower limit of the allowable range (for example, in R of Example 1, the upper limit is +10 and the lower limit is ⁇ 10, so the difference is 20).
  • the optimum values of the transparent conductive layers of the R, G, and B colors are 140 nm, 120 nm, and 90 nm, and the optimum values of the organic light emitting layers of the R, G, and B colors are , 80 nm, 80 nm, and 60 nm.
  • the light extraction efficiencies of the R, G, and B colors are 1.8 cd / A, 4.4 cd / A, and 0.40 cd / A, respectively, and the chromaticities are (0.66, 0.34) and (0.29, 0.68, respectively). ), (0.13, 0.06).
  • the allowable range of film thickness error for each color of R, G, B is ⁇ 10 to +10 nm, ⁇ 6 to +15 nm, ⁇ 15 to +9 nm, and the allowable width of the film thickness error for each color of R, G, B is 20 nm, 21 nm and 24 nm.
  • Example 1 is essentially an organic light emitting layer that needs to be made separately for each of R, G, and B colors, and a hole transport layer film that can be easily formed by a printing method typified by an ink jet method.
  • a printing method typified by an ink jet method.
  • the film thickness of each layer of the organic EL element only needs to be within a range of ⁇ 10% from the film thickness obtained by simulation in consideration of manufacturing errors.
  • the minimum value (min), the intermediate value (ave), and the maximum value (max) of the film thickness of each layer of the organic EL element of Example 1 are shown. That is, for R, G, and B, the transparent conductive layer may be 90 nm to 110 nm, the hole injection layer may be 36 nm to 44 nm, and the electron transport layer may be 27 nm to 33 nm.
  • the R hole transport layer may be 54 nm or more and 66 nm or less
  • the G hole transport layer may be 36 nm or more and 44 nm or less
  • the B hole transport layer may be 9 nm or more and 11 nm or less.
  • the layer may be 72 nm or more and 88 nm or less
  • the B-color organic light emitting layer may be 54 nm or more and 66 nm or less.
  • the optical distance from the organic light emitting layer to the reflective electrode is 329 nm to 402 nm in R, 298 nm to 364 nm in G, and 252 nm to 308 nm in B, and the optical distance from the organic light emitting layer to the transparent electrode becomes 48.6 nm or more and 59.4 nm or less.
  • Comparative Example 1b the film thickness of the organic light emitting layer is the same for each color of R, G, and B, and is 80 nm, 80 nm, and 80 nm, respectively.
  • the other conditions are the same as in the first embodiment.
  • the light extraction efficiencies of the R, G, and B colors are 1.9 cd / A, 4.4 cd / A, and 0.35 cd / A, respectively, and the light extraction efficiency of B is lower than that in Example 1. is doing.
  • the inventors further prepared Example 2 and Comparative Example 2, and obtained the optimum film thicknesses of these layers by simulation.
  • the second simulation differs from the first simulation in that the material of the reflective electrode is an Ag alloy and the material of the transparent conductive layer is ITO (Indium Tin Oxide).
  • FIG. 10A and 10B are diagrams showing changes in light extraction efficiency when the film thickness of the first functional layer is changed.
  • FIG. 10A shows the case of no CF in Example 2
  • FIG. 10B shows the CF in Example 2.
  • (c) is the case of no CF of Comparative Example 2
  • (d) is the case of having CF of Comparative Example 2.
  • the thickness of the electron transport layer is 30 nm
  • the thickness of the hole injection layer is 40 nm
  • the thickness of the transparent conductive layer is 100 nm
  • the thickness of the organic light emitting layer is 80 nm for each of R, G, and B colors
  • the film thickness of the first functional layer is changed by fixing only 80 nm and 40 nm and changing only the film thickness of the hole transport layer.
  • the thickness of the electron transport layer was 30 nm
  • the thickness of the hole injection layer was 40 nm
  • the thickness of the hole transport layer was 20 nm
  • the thickness of the organic light emitting layer was 80 nm for each of R, G, and B colors.
  • the thickness of the first functional layer is changed by changing only the thickness of the transparent conductive layer.
  • the reason why the film thickness of the first functional layer is different between the second simulation and the first simulation is that the material of the reflective electrode is different.
  • Example 2 in order to increase the light extraction efficiency, it is optimal that the film thickness of the hole transport layer of each color of R, G, B is 50 nm, 30 nm, 10 nm.
  • Comparative Example 2 in order to increase the light extraction efficiency, it is optimal to set the transparent conductive layers of R, G, and B colors to 130 nm, 110 nm, and 90 nm.
  • the design is optimal when the CF is present.
  • FIG. 11 is a diagram showing the light extraction efficiency and the like when the film thickness of each layer is set to an optimum value, and (a) is Example 2 and (b) is Comparative Example 2.
  • the optimum values of the film thicknesses of the R, G, and B color hole transport layers are 50 nm, 30 nm, and 10 nm.
  • the light extraction efficiencies of the R, G, and B colors are 2.0 cd / A, 4.7 cd / A, and 0.41 cd / A, respectively, and the chromaticities are (0.66, 0.34) and (0.29, 0.68, respectively). ), (0.13.0.06).
  • the allowable range of the film thickness error for each color of R, G, B in the first functional layer is ⁇ 12 to +10 nm, ⁇ 10 to +12 nm, ⁇ 10 to +9 nm, and the allowable film thickness error for each color of R, G, B
  • the widths are 22 nm, 22 nm, and 19 nm.
  • the optimum values of the transparent conductive layers of the respective colors R, G, B are 130 nm, 110 nm, and 90 nm, and the optimum values of the organic light emitting layers of the colors R, G, B are , 80 nm, 80 nm, and 40 nm.
  • the light extraction efficiencies of the R, G, and B colors are 2.0 cd / A, 4.7 cd / A, and 0.42 cd / A, respectively, and the chromaticities are (0.66, 0.34) and (0.29, 0.68, respectively). ), (0.13, 0.06).
  • the allowable range of the film thickness error for each color of R, G, and B is ⁇ 12 to +11 nm, ⁇ 11 to +11 nm, and ⁇ 11 to +8 nm, and the allowable range of the film thickness error for each color of R, G, and B is 23 nm, 22 nm and 19 nm.
  • Example 2 is essentially an organic light emitting layer that needs to be made separately for each of R, G, and B colors, and a hole transport layer film that is easily formed by a printing method typified by an ink jet method.
  • a printing method typified by an ink jet method.
  • the film thickness of each layer of the organic EL element may be within a range of ⁇ 10% from the film thickness obtained by the simulation in consideration of manufacturing errors.
  • the minimum value (min), the intermediate value (ave), and the maximum value (max) of the film thickness of each layer of the organic EL element of Example 2 are shown. That is, for R, G, and B, the transparent conductive layer may be 90 nm to 110 nm, the hole injection layer may be 36 nm to 44 nm, and the electron transport layer may be 27 nm to 33 nm.
  • the R hole transport layer may be 45 nm or more and 55 nm or less
  • the G hole transport layer may be 27 nm or more and 33 nm or less
  • the B hole transport layer may be 9 nm or more and 11 nm or less.
  • the layer may be 72 nm to 88 nm and the B-color organic light emitting layer may be 36 nm to 44 nm.
  • the optical distance from the organic light emitting layer to the reflective electrode is 316 nm to 386 nm in R, 300 nm to 367 nm in G, 270 nm to 330 nm in B, and the optical distance from the organic light emitting layer to the transparent electrode becomes 48.6 nm or more and 59.4 nm or less.
  • the substrate 1 is, for example, a TFT (Thin Film Transistor) substrate.
  • Examples of the material of the substrate 1 include glass plates and quartz plates such as soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, and borate glass, and acrylic resins, styrene resins, polycarbonate resins, epoxy resins, polyethylene, Examples thereof include plastic plates or plastic films such as polyester and silicone resin, and metal plates or foils such as alumina.
  • the bank 12 may be formed of an insulating material, and preferably has organic solvent resistance. Further, since the bank 12 may be subjected to an etching process, a baking process, or the like, it is preferable that the bank 12 be formed of a material having high resistance to these processes.
  • the material of the bank 12 may be an organic material such as resin or an inorganic material such as glass.
  • an acrylic resin, a polyimide resin, a novolac-type phenol resin, or the like can be used.
  • As the inorganic material silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), or the like can be used. it can.
  • the reflective electrode 2 is electrically connected to the TFT disposed on the substrate 1, functions as a positive electrode of the organic light emitting element, and emits light emitted from the organic light emitting layers 6b, 6g, and 6r toward the reflective electrode 2.
  • the reflective function may be exhibited by the constituent material of the reflective electrode 2 or may be exhibited by applying a reflective coating to the surface portion of the reflective electrode 2.
  • the reflective electrode 2 is, for example, Ag (silver), APC (silver, palladium, copper alloy), ARA (silver, rubidium, gold alloy), MoCr (molybdenum and chromium alloy), NiCr (nickel and chromium alloy). ) Etc.
  • the transparent conductive layer 3 functions as a protective layer that prevents the reflective electrode 2 from being naturally oxidized during the manufacturing process.
  • the material of the transparent conductive layer 3 may be formed of a conductive material having sufficient translucency with respect to light generated in the organic light emitting layers 6b, 6g, and 6r.
  • ITO or IZO is preferable. This is because good conductivity can be obtained even if the film is formed at room temperature.
  • the hole injection layer 4 has a function of injecting holes into the organic light emitting layers 6b, 6g, 6r.
  • an oxide of a transition metal such as tungsten oxide (WOx), molybdenum oxide (MoOx), or molybdenum tungsten oxide (MoxWyOz) is used.
  • tungsten oxide WOx
  • MoOx molybdenum oxide
  • MoxWyOz molybdenum tungsten oxide
  • metal compounds such as nitrides of transition metals can also be applied.
  • ⁇ Hole transport layer Examples of the material for the hole transport layer 5 include triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, and the like described in JP-A-5-163488.
  • Particularly preferred are a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound.
  • Organic light emitting layer ⁇ Organic light emitting layer>
  • the materials of the organic light emitting layers 6b, 6g, 6r are, for example, oxinoid compounds, perylene compounds, coumarin compounds, azacoumarin compounds, oxazole compounds, oxadiazole compounds, perinone compounds, pyrrolopyrrole compounds described in JP-A-5-163488.
  • the material constituting the electron transport layer may be doped with an alkali metal such as Na, Ba, or Ca or an alkaline earth metal.
  • the transparent electrode 8 functions as a negative electrode of the organic EL element.
  • the material of the transparent electrode 8 may be formed of a conductive material having sufficient translucency with respect to the light generated in the organic light emitting layers 6b, 6g, 6r.
  • ITO or IZO is preferable.
  • the thin film sealing layer 9 has a function of preventing each layer sandwiched between the substrate 1 from being exposed to moisture and air.
  • the material of the thin film sealing layer 9 is, for example, silicon nitride (SiN), silicon oxynitride (SiON), resin, or the like.
  • the resin sealing layer 10 bonds the back panel composed of the layers from the substrate 1 to the thin film sealing layer 9 and the substrate 11 on which the color filters 13b, 13g, and 13r are formed, and exposes each layer to moisture and air. It has a function to prevent
  • the material of the resin sealing layer 10 is, for example, a resin adhesive.
  • the color filters 13b, 13g, and 13r have a function of correcting the chromaticity of the light emitted from the organic light emitting layer. [Organic display device] FIG.
  • FIG. 13 is a functional block diagram of the organic display device according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a diagram illustrating the appearance of an organic display device according to an embodiment of the invention.
  • the organic display device 15 includes an organic display panel 16 and a drive control unit 17 electrically connected thereto.
  • the organic display panel 16 has the pixel structure shown in FIG.
  • the drive control unit 17 includes drive circuits 18 to 21 that apply a voltage between the reflective electrode 2 and the transparent electrode 8 of each organic EL element, and a control circuit 22 that controls the operation of the drive circuits 18 to 21.
  • Method for manufacturing organic EL panel Next, a method for manufacturing the organic EL panel will be described.
  • 15 and 16 are views for explaining a method for manufacturing an organic EL panel according to an embodiment of the present invention.
  • the reflective electrode 2 is formed on the substrate 1 by vapor deposition or sputtering (FIG. 15A).
  • the transparent conductive layer 3 is formed on the reflective electrode 2 by vapor deposition or sputtering (FIG. 15B). At this time, the film thickness of the transparent conductive layer 3 is made the same for each color of R, G, and B.
  • the hole injection layer 4 is formed on the transparent conductive layer 3 by, for example, physical vapor deposition (Physical Vapor Deposition) such as vapor deposition or sputtering, the bank 12 is formed, and the hole injection layer 4 is further formed.
  • the hole transport layer 5 is formed by a printing method such as an ink jet method (FIG. 15C).
  • the film thickness of the hole injection layer 4 is made the same for each color of R, G, and B. Further, the film thickness of the hole transport layer 5 is made different for each color of R, G, and B.
  • the organic light emitting layers 6b, 6g, 6r are formed on the hole transport layer 5 by a printing method such as an ink jet method (FIG. 15D).
  • a printing method such as an ink jet method (FIG. 15D).
  • the film thicknesses of the organic light emitting layers 6b, 6g, and 6r are the same for both the R and G colors, and only the B color is different.
  • the electron transport layer 7 is formed on the organic light emitting layers 6b, 6g and 6r by vapor deposition or sputtering (FIG. 16A). At this time, the film thickness of the electron transport layer 7 is made the same for each color of R, G, and B.
  • the transparent electrode 8 is formed on the electron transport layer 7 by vapor deposition or sputtering (FIG. 16B).
  • the film thickness of the transparent electrode 8 is, for example, 90 nm or more and 110 nm or less.
  • the thin film sealing layer 9 is formed on the transparent electrode 8 by vapor deposition or sputtering, and the substrate 11 on which the color filters 13b, 13g, and 13r are formed is bonded using the resin sealing layer 10 (FIG. 16 (c)).
  • the film thickness of these sealing layers is, for example, 900 nm or more and 1100 nm or less.
  • the thickness of the first functional layer is set to 180 nm to 220 nm for R, 162 nm to 198 nm for G, and 135 nm to 165 nm for B.
  • the present invention is not limited to this.
  • the effect of increasing the light extraction efficiency is considered to be obtained by the interference effect between the light passing through the first optical path C1 and the light passing through the second optical path C2. Then, it can be said that the film thickness of the first functional layer is not important, and the optical distance from the organic light emitting layer to the reflective electrode is important.
  • the optical distance from the organic light emitting layer to the reflective electrode may be 329 nm to 402 nm in R, 298 nm to 364 nm in G, and 252 nm to 308 nm in B. As long as this condition is satisfied, the first functional layer Even if the film thickness is changed, the same effect can be obtained.
  • the film thickness of the organic light emitting layer is 72 nm or more and 88 nm or less for both R and G colors, and 54 nm or more and 66 nm or less for B, but the present invention is not limited to this.
  • the optical film thickness of the organic light emitting layer may be 122.4 nm or more and 149.7 nm or less for both R and G colors, and B may be 61.2 nm or more and 74.8 nm or less.
  • the film thickness of the first functional layer is 171 nm to 209 nm in R, 153 nm to 187 nm in G, and 135 nm to 165 nm in B, but the present invention is not limited to this.
  • the optical distance from the organic light emitting layer to the reflective electrode may be 316 nm to 386 nm in R, 300 nm to 367 nm in G, and 270 nm to 330 nm in B. As long as this condition is satisfied, the film of the first functional layer Even if the thickness is changed, the same effect can be obtained.
  • the thickness of the organic light emitting layer is set to 72 nm to 88 nm for both R and G colors, and 36 nm to 44 nm for B, but the present invention is not limited to this.
  • the optical film thickness of the organic light emitting layer may be 122.4 nm or more and 149.7 nm or less for both R and G colors, and B may be 61.2 nm or more and 74.8 nm or less.
  • the film thickness of the second functional layer is set to 27 nm or more and 33 nm or less, the present invention is not limited to this.
  • the optical distance from the organic light emitting layer to the transparent electrode may be 48.6 nm or more and 59.4 nm or less, and the same effect can be obtained even if the thickness of the second functional layer is changed as long as this condition is satisfied. it can.
  • the first functional layer is composed of a transparent conductive layer, a hole injection layer, and a hole transport layer, but the present invention is not limited to this. Any of these may be omitted, and other functional layers may be included.
  • the second functional layer is composed of the electron transport layer, but the present invention is not limited to this. For example, an electron injection layer may be included.
  • the present invention can be used for an organic EL display or the like.

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Abstract

　光取り出し効率を高め、かつ、製造工程を簡便にする。　入射された光を反射する第１電極と、入射された光を透過する第２電極と、Ｒ、Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層と、第１電極と有機発光層との間に配置された第１の機能層と、第２電極と有機発光層との間に配置された第２の機能層とを備える。Ｒ，Ｇ，Ｂ各色では、第１の機能層のうち電荷注入層の膜厚が互いに相違し、かつ、電荷注入輸送層以外の他の層の膜厚が同一であり、第２の機能層の膜厚が同一であり、有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ両色で同一であり、かつ、Ｂ色のみ相違する。

Description

有機ＥＬパネル、それを用いた表示装置および有機ＥＬパネルの製造方法
　本発明は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬパネル、それを用いた表示装置および有機ＥＬパネルの製造方法に関し、特に、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）各色の光取り出し効率を高めるための光学設計に関する。
　近年、デジタルテレビ等の表示装置に用いられる表示パネルとして、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルの採用が提案されている。有機ＥＬパネルは、基板上にＲ，Ｇ，Ｂの各色の有機ＥＬ素子が配列された構成を有している。
　有機ＥＬパネルでは、消費電力低減や長寿命化などの観点から、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機ＥＬ素子の光取り出し効率を向上させることが重要である。そこで、有機ＥＬ素子の光学設計の工夫により光取り出し効率を向上させる技術が多数提案されている（特許文献１～７参照）。例えば、特許文献７には、下部電極（ミラー）、透明導電層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、上部電極（ハーフミラー）が積層され、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率が極大となるようにミラーとハーフミラーとの間の光学的距離が調整された発光素子が開示されている（段落００１２）。同文献では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚を調整することにより光学的距離が調整されている（段落００２８）。
特開２００６－１５６３４４号公報 特開２００５－３１７２５５号公報 特開２００５－３２２４３５号公報 特開２００５－１００９４６号公報 特開２００８－４１９２５号公報 特開２００６－１７９７８０号公報 特開２００５－１１６５１６号公報
　しかしながら、上記従来技術では、透明導電層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂの色毎に調整する必要があり、そのために製造工程が煩雑になるという問題がある。
　そこで、本発明は、光の干渉効果を利用することにより光取り出し効率を高め、かつ、従来技術よりも製造工程を簡便にすることができる有機ＥＬパネル、それを用いた表示装置および有機ＥＬパネルの製造方法を提供することを目的とする。
　本発明の一態様である有機ＥＬパネルは、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に設けられ、入射された光を反射する第１電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極に対向して配置され、入射された光を透過する第２電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記第２電極との間に配置された、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることにより前記Ｒ、Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記有機発光層との間に配置された、電荷注入輸送層を含む２以上の層からなる第１の機能層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第２の機能層と、を備え、前記有機発光層から出射された光の一部が、前記第１の機能層を通じて前記第１電極側に進行し、前記第１電極により反射された後、前記第１の機能層、前記有機発光層、前記第２の機能層および前記第２電極を通じて外部に出射される第１光路と、前記有機発光層から出射された光の残りの一部が、前記第１電極側に進行することなく、前記第２の機能層を通じて前記第２電極側に進行し、前記第２電極を通じて外部に出射される第２光路と、が形成され、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色では、前記第１の機能層のうち前記電荷注入層の膜厚が互いに相違し、かつ、前記電荷注入輸送層以外の他の層の膜厚が同一であり、前記第２の機能層の膜厚が同一であり、前記有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ両色で同一であり、かつ、Ｂ色のみ相違する。
　通常、有機発光層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が異なるので、膜厚が同一であるか否かにかかわらず色毎に作り分ける必要がある。これに対し、第１および第２の機能層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が同一なので、膜厚が異なれば色毎に作り分ける必要があるが、膜厚が同一であれば色毎に作り分ける必要がない。なお、色毎に膜厚を異ならせる場合、インクジェット法などの印刷法を用いて成膜すると作り分けが容易である。ただし、層によっては、印刷法では成膜できない場合や、成膜できたとしても所望の特性を得るには印刷法以外の成膜法で成膜したほうがよい場合があり、必ずしも作り分けが容易な成膜法を用いて成膜できるとは限らない。
　本発明の一態様である有機ＥＬパネルによれば、有機発光層および正孔注入輸送層の膜厚が色毎に作り分けられている。このように、色毎に膜厚が作り分けられているので、光の干渉効果を利用することができる。また、有機発光層は、本来、色毎に作り分けを必要とするので、有機発光層の膜厚を色毎に作り分けても製造工程数は増加しない。正孔注入輸送層は、印刷法で成膜するのに適しているので、色毎の膜厚の作り分けが容易である。したがって、光の干渉効果を利用することにより光取り出し効率を高め、かつ、従来技術よりも製造工程を簡便にすることができる。
本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素構造を模式的に示す断面図 青色の有機ＥＬ素子における共振器構造を例示する図 シミュレーションで用いたＲ，Ｇ，Ｂ各色のカラーフィルタの透過スペクトルを示す図 第１機能層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例１のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例１のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例１ａのＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例１ａのＣＦ有りの場合を示す図 各層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示し、（ａ）は正孔輸送層でＣＦ無しの場合、（ｂ）は正孔輸送層でＣＦ有りの場合、（ｃ）は有機発光層でＣＦ無しの場合、（ｄ）は有機発光層でＣＦ有りの場合を示す図 各層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例１、（ｂ）は比較例１ａを示す図 各種許容範囲を示す図 実施例１の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す図 比較例１ｂの光取り出し効率等を示す図 第１機能層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例２のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例２のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例２のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例２のＣＦ有りの場合を示す図 各層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例２、（ｂ）は比較例２を示す図 実施例２の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す図 本発明の実施形態に係る有機表示装置の機能ブロックを示す図 本発明の実施形態に係る有機表示装置の外観を例示する図 本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法を説明するための図 本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法を説明するための図
［本発明の一態様を得るに至った経緯］
　以下、本発明の態様を具体的に説明するに先立ち、本発明の態様を得るに至った経緯について説明する。
　発明者らは、第１電極、第１機能層、有機発光層、第２機能層および第２電極が積層された有機ＥＬパネルでも、特に、第１電極が光を反射し、第２電極が光を透過する仕様のものについて研究開発を行っている。このような仕様では、第１電極と有機発光層との間の距離、即ち、第１機能層の膜厚が光の干渉効果に強く影響する。そのため、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率を高めるには、第１機能層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で適切に調整すればよいと考えられている。
　一方、発明者らの研究により、上記仕様の有機ＥＬパネルにおいて、有機発光層の膜厚を変化させても光取り出し効率が変化することが判明した。図５にその様子を示す。図５（ａ）、（ｂ）は、第１機能層のうちの正孔輸送層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示し、それぞれカラーフィルタが無い場合と有る場合である。また、図５（ｃ）、（ｄ）は、有機発光層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示し、それぞれカラーフィルタが無い場合と有る場合である。これによれば、第１機能層の膜厚を変化させたときはもちろん、有機発光層の膜厚を変化させたときでも、光取り出し効率が変化していることが分かる。
　ところで、通常、有機発光層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が異なるので、膜厚が同一であるか否かにかかわらず色毎に作り分ける必要がある。これに対し、第１および第２の機能層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が同一なので、膜厚が異なれば色毎に作り分ける必要があるものの、膜厚が同一であれば色毎に作り分ける必要がない。なお、色毎に膜厚を異ならせる場合、インクジェット法などの印刷法を用いて成膜すると作り分けが容易である。ただし、層によっては、印刷法では成膜できない場合や、成膜できたとしても所望の特性を得るには印刷法以外の成膜法で成膜したほうがよい場合があり、必ずしも印刷法を用いて成膜するのが適切とは限らない。
　発明者らは、図５の結果および上記事情に着目して、有機発光層のＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚調整のみにより、光取り出し効率の向上と製造工程の簡便化とを両立できないか検討した。しかしながら、有機発光層の膜厚変化に対する光取り出し効率の変化は、第１機能層のそれに比べて小さいので（図５（ｂ）（ｄ）のｈ１、ｈ２参照）、有機発光層のＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚調整のみでは、特にＢ色において、十分に光取り出し効率を高められないことが判明した。
　本発明の一態様は、上記の新たな知見に基づいて得られたものである。
［本発明の一態様の概要］
　本発明の一態様に係る有機ＥＬパネルは、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に設けられ、入射された光を反射する第１電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極に対向して配置され、入射された光を透過する第２電極と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記第２電極との間に配置された、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることにより前記Ｒ、Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記有機発光層との間に配置された、電荷注入輸送層を含む２以上の層からなる第１の機能層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第２の機能層と、を備え、前記有機発光層から出射された光の一部が、前記第１の機能層を通じて前記第１電極側に進行し、前記第１電極により反射された後、前記第１の機能層、前記有機発光層、前記第２の機能層および前記第２電極を通じて外部に出射される第１光路と、前記有機発光層から出射された光の残りの一部が、前記第１電極側に進行することなく、前記第２の機能層を通じて前記第２電極側に進行し、前記第２電極を通じて外部に出射される第２光路と、が形成され、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色では、前記第１の機能層のうち前記電荷注入層の膜厚が互いに相違し、かつ、前記電荷注入輸送層以外の他の層の膜厚が同一であり、前記第２の機能層の膜厚が同一であり、前記有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ両色で同一であり、かつ、Ｂ色のみ相違する。
　本発明の一態様である有機ＥＬパネルによれば、有機発光層および正孔注入輸送層の膜厚が色毎に作り分けられている。このように、色毎に膜厚が作り分けられているので、光の干渉効果を利用することができる。また、有機発光層は、本来、色毎に作り分けを必要とするので、有機発光層の膜厚を色毎に作り分けても製造工程数は増加しない。正孔注入輸送層は、印刷法で成膜するのに適しているので、色毎の膜厚の作り分けが容易である。したがって、光の干渉効果を利用することにより光取り出し効率を高め、かつ、従来技術よりも製造工程を簡便にすることができる。
　なお、「電荷注入輸送層」とは、ホール注入層、ホール輸送層、ホール注入兼輸送層、電子注入層、電子輸送層、および電子注入兼輸送層の総称である。
　また、さらに、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極を挟んで前記有機発光層の反対側に配置されるカラーフィルタを備え、前記カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が極大値を示すように、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が調整されていることとしてもよい。
　発明者らの研究により、各層の膜厚を変化させたときに、光取り出し効率が変化すると共に色度も変化すること、さらに、光取り出し効率が極大値のときに色度が目標色度に近いとは限らないことが判明した。
　色度が目標色度から遠ければ、その分だけカラーフィルタ（ＣＦ）により色度補正をする必要があり、その結果、色度補正前では光取り出し効率が極大値であっても、色度補正後には光取り出し効率が極大値ではなくなる場合がある。本発明の一態様によれば、カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が極大値を示すように有機発光層の膜厚が設定されているので、色度を目標色度に近づけつつ、光取り出し効率を高めることができる。
　また、前記第１の機能層の膜厚が、前記カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が２次の極大値を示す膜厚に調整されていることとしてもよい。
　第１の機能層の膜厚を変化させると、光取り出し効率が周期的に変化し、光取り出し効率の極大値が周期的に現れる。これらの極大値を、第１の機能層の膜厚の薄い順に、１次、２次、３次・・・と称する。第１の機能層の膜厚が薄すぎると、安定的な成膜を実現するのが難しくなる。本発明の一態様によれば、第１の機能層を安定的に成膜できる膜厚にすることができる。
　また、前記第１の機能層のうち前記電荷注入輸送層以外の他の層は、透明導電層であることとしてもよい。
　透明導電層は、物理蒸着法を用いて成膜することができるものの、印刷法を用いて成膜するのが困難である。本発明の一態様によれば、透明導電層の膜厚はＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一なので、製造工程の簡便化を図ることができる。
　また、前記第１の機能層は、印刷法で形成される層と物理蒸着法で形成される層とを含み、前記第１の機能層のうちの塗布法で形成される層のＲ，Ｇ，Ｂの膜厚が異なり、前記第１の機能層のうちの物理蒸着法で形成される層のＲ，Ｇ，Ｂの膜厚が同一であることとしてもよい。これにより、有機ＥＬパネルの製造工程の簡便化を図ることができる。
　また、前記第１の機能層は、前記電荷注入輸送層以外の他の層として、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層を含み、前記電荷注入輸送層として、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚が、９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔注入層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であり、前記Ｒの正孔輸送層の膜厚が、５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下であり、前記Ｇの正孔輸送層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であり、前記Ｂの正孔輸送層の膜厚が、９ｎｍ以上１１ｎｍ以下であり、前記Ｒ，Ｇの有機発光層の膜厚が、７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下であり、前記Ｂの有機発光層の膜厚が、５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下であることとしてもよい。
　また、前記第１電極の材料がアルミニウムまたはアルミニウム合金であり、前記透明導電層の材料がＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）であることとしてもよい。
　また、前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であることとしてもよい。
　また、前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であることとしてもよい。
　また、前記第１の機能層は、前記電荷注入輸送層以外の他の層として、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層を含み、前記電荷注入輸送層として、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚が、９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔注入層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であり、前記Ｒの正孔輸送層の膜厚が、４５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であり、前記Ｇの正孔輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であり、前記Ｂの正孔輸送層の膜厚が、９ｎｍ以上１１ｎｍ以下であり、前記Ｒ，Ｇの有機発光層の膜厚が、７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下であり、前記Ｂの有機発光層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であることとしてもよい。
　また、前記第１電極の材料が銀または銀合金であり、前記透明導電層の材料がＩＴＯ（Indium Tin Oxide）であることとしてもよい。
　また、前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であることとしてもよい。
　また、前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であることとしてもよい。
　また、前記有機発光層は、有機材料を含み、印刷法を用いて形成されることとしてもよい。
　また、前記第１の機能層は、前記電荷注入輸送層以外の他の層として、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層を含み、前記電荷注入輸送層として、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、前記透明導電層および前記正孔注入層は、物理蒸着法を用いて形成され、前記正孔輸送層は、印刷法を用いて形成されることとしてもよい。
　本発明の一態様に係る表示装置は、上記有機ＥＬパネルを備える。
　本発明の一態様に係る有機ＥＬパネルの製造方法は、入射された光を反射する第１電極を、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に準備する第１工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極上に、電荷注入輸送層を含む２以上の層からなる第１の機能層を設ける第２工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１の機能層上に、それぞれＲ，Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層を設ける第３工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層上に、１または２以上の層からなる第２の機能層を設ける第４工程と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第２の機能層上に、前記第１の電極と対向して配置され、入射された光を透過する第２電極を設ける第５工程と、を備え、前記第２工程では、前記第１の機能層のうち前記電荷注入層の膜厚が互いに相違し、かつ、前記電荷注入輸送層以外の他の層の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一になるように、前記第１の機能層を設け、前記第３工程では、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ両色で同一であり、Ｂ色のみ相違するように、前記有機発光層を設け、前記第４工程では、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第２の機能層の膜厚が同一になるように、前記第２の機能層を設ける。
　なお、本明細書において、「膜厚が同一」とは、実測値が一致している場合のほか、実測値が一致していなくても製造誤差を考慮して実測値が±１０％の範囲内でずれている場合も含むものとする。
［有機ＥＬパネルの画素構造］
　図１は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの画素構造を模式的に示す断面図である。
　有機ＥＬパネルでは、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）各色の画素が行方向及び列方向にマトリックス状に規則的に配置されている。各画素は有機材料を用いた有機ＥＬ素子で構成されている。
　青色の有機ＥＬ素子は、基板１、反射電極２、透明導電層３、正孔注入層４、正孔輸送層５、有機発光層６ｂ、電子輸送層７、透明電極８、薄膜封止層９、樹脂封止層１０、基板１１およびカラーフィルタ１３ｂを備える。以下、反射電極２と有機発光層６ｂとの間に配置された、透明導電層３、正孔注入層４および正孔輸送層５を「第１機能層」と称し、有機発光層６ｂと透明電極８との間に配置された電子輸送層７を「第２機能層」と称することがある。
　緑色の有機ＥＬ素子は、有機発光層６ｇおよびカラーフィルタ１３ｇを除き、青色の有機ＥＬ素子と同様の構成を有する。赤色の有機ＥＬ素子も、有機発光層６ｒおよびカラーフィルタ（ＣＦ）１３ｒを除き、青色の有機ＥＬ素子と同様の構成を有する。この例では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機ＥＬ素子において、基板１、電子輸送層７、透明電極８、薄膜封止層９、樹脂封止層１０および基板１１が共通であり、それ以外の層はバンク１２で区分されている。
　各色の有機ＥＬ素子では、反射電極２の存在により光の干渉効果を利用した共振器構造が実現されている。図２に青色の有機ＥＬ素子における共振器構造を例示する。有機ＥＬ素子には、有機発光層６ｂから出射された光の一部が、第１機能層を通じて反射電極２側に進行し、反射電極２により反射された後、第１機能層、有機発光層６ｂ、第２機能層および透明電極８を通じて外部に出射される第１光路Ｃ１と、有機発光層６ｂから出射された光の残りの一部が、反射電極２側に進行することなく、第２機能層を通じて透明電極８に進行し、透明電極８を通じて外部に出射される第２光路Ｃ２とが形成される。第１機能層の膜厚を適切に設定することにより、第１光路Ｃ１を通過する光と第２光路Ｃ２を通過する光とが強め合い、光取り出し効率を高めることができる。
　本実施形態では、第１機能層の構造および材料がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一である。また、第１機能層の膜厚が、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で互いに相違する。色毎の膜厚調整は、正孔輸送層５で行われている。即ち、正孔輸送層５の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で互いに相違し、透明導電層３および正孔注入層４の膜厚はＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一である。第１機能層の構造、材料がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一なので、有機発光層から反射電極までの光学的な距離は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で互いに相違することになる。光学的な距離は、単層構造の場合には膜厚と屈折率の積により求められ、２以上の多層構造の場合には、層毎に膜厚と屈折率の積をとり、得られた積を合計することにより求められる。
　また、第２機能層の構造、材料および膜厚が、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で同一である。第２機能層の構造、材料および膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一なので、有機発光層から透明電極までの光学的な距離がＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一となる。
　また、有機発光層の材料および膜厚は、Ｒ，Ｇ両色で同一であり、Ｂ色のみ相違する。具体的には、有機発光層の膜厚は、カラーフィルタ通過後の光の取り出し効率が極大値を示すように調整されている。
　通常、有機発光層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が異なるので、膜厚が同一であるか否かにかかわらず色毎に作り分ける必要がある。これに対し、第１および第２の機能層は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で材料が同一なので、膜厚が異なれば色毎に作り分ける必要があるが、膜厚が同一であれば色毎に作り分ける必要がない。なお、色毎に膜厚を異ならせる場合、インクジェット法などの印刷法を用いて成膜すると作り分けが容易である。ただし、層によっては、印刷法では成膜できない場合や、成膜できたとしても所望の特性を得るには印刷法以外の成膜法で成膜したほうがよい場合があり、必ずしも作り分けが容易な成膜法を用いて成膜できるとは限らない。
　本実施形態によれば、有機発光層６ｒ，６ｇ，６ｂおよび正孔輸送層５の膜厚が色毎に作り分けられている。このように、色毎に膜厚が作り分けられているので、光の干渉効果を利用することができる。また、有機発光層６ｒ，６ｇ，６ｂは、本来、色毎に作り分けを必要とするので、有機発光層の膜厚を色毎に作り分けても製造工程数は増加しない。正孔輸送層５は、印刷法で成膜するのに適しているので、色毎の膜厚の作り分けが容易である。また、透明導電層３および正孔注入層４の膜厚は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で同一なので、色毎の膜厚の作り分けが必要でない。したがって、光の干渉効果を利用することにより光取り出し効率を高め、かつ、従来技術よりも製造工程を簡便にすることができる。
　以下、有機ＥＬ素子の各層の膜厚について詳細に説明する。
［第１のシミュレーション］
　発明者らは、実施例１と比較例１ａとを用意し、これらの各層の最適膜厚をシミュレーションにより求め、光取り出し効率および製造工程の簡便性について評価した。
　第１のシミュレーションでは、反射電極の材料をＡｌ合金、透明導電層の材料をＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の材料を、サメイション（SUMATION）社製のＲＰ１５８、ＧＰ１２００、ＢＰ１０５とした。図３に、本シミュレーションで用いたＲ，Ｇ，Ｂ各色のカラーフィルタの透過スペクトルを示す。本シミュレーションで用いたカラーフィルタ特性は、公知技術を元に、本実施形態における光学特性などの観点から適宜調整して作成した。例えば、Ｒｅｄ，ＧｒｅｅｎのＣＦ特性は、特開２００５－１１６５１６（図５）を参考にし、ＢｌｕｅのＣＦ特性は、Ｂ４４０（株式会社オプトライン）を参考にしている。
　図４は、第１機能層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例１のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例１のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例１ａのＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例１ａのＣＦ有りの場合である。
　実施例１では、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を４０ｎｍ、透明導電層の膜厚を１００ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍに固定し、正孔輸送層の膜厚のみを変化させることにより第１機能層の膜厚を変化させている。
　比較例１ａでは、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を４０ｎｍ、正孔輸送層の膜厚を２０ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍに固定し、透明導電層の膜厚のみを変化させることにより第１機能層の膜厚を変化させている。
　ＣＦ有りの場合は、任意の膜厚を選択し、その膜厚でのＣＦ無しの場合の色度を求め、得られた色度を目標色度に近づけるためのＣＦ特性を求め、そのＣＦ特性を有するＣＦを設けた場合の光取り出し効率を求めるという一連の作業を、調査範囲の全ての膜厚に対して行うことにより得られる。
　図４（ａ）、（ｃ）を見ると、以下のことが分かる。
（１）第１機能層の膜厚を変化させると、光取り出し効率が周期的に変化し、光取り出し効率の極大値が周期的に現れる。
（２）周期的に現れる極大値を、第１機能層の膜厚の薄い順に１次（1st）、２次（2nd）、３次（3rd）と名付けた場合、次数が小さいほど極大値が大きくなる。例えば、図４（ａ）のＢ色には３０ｎｍ付近に２次の極大値が現れ、１７５ｎｍ付近に３次の極大値が現れているところ、２次の極大値が３次の極大値よりも大きい。なお、正孔輸送層が０ｎｍのとき第１機能層の膜厚は１４０ｎｍである。１次の極大値は、第１機能層の膜厚が１４０ｎｍ以下の領域で現れるので、図４（ａ）の範囲には現れていない。
　上記（１）は、第１光路Ｃ１を通過する光と第２光路Ｃ２を通過する光とで干渉が生じていることを示している。また、上記（２）は、次数が小さな極大値をとるように正孔輸送層の膜厚を設定することにより光取り出し効率を高められることを示している。
　また、図４（ｂ）から、実施例１では、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚を６０ｎｍ、４０ｎｍ、１０ｎｍにするのが最適である。一方、図４（ｄ）から、比較例１ａでは、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚を１４０ｎｍ、１２０ｎｍ、９０ｎｍにするのが最適である。
　なお、図４（ａ）（ｂ）に示すように、ＣＦ無しの場合とＣＦ有りの場合とで極大値を示す膜厚が異なることがある。具体的には、Ｂ色では、ＣＦ無しの場合に３０ｎｍに極大値となるのに対し、ＣＦ有りの場合に１０ｎｍ以下で極大値となる。これは、ＣＦ無しを前提として各層の膜厚を最適に設計したとしても、それにＣＦを設けた場合には必ずしも最適にはならないことを示唆している。つまり、ＣＦ有りを前提とする場合には、ＣＦ特性を絡めて各層の膜厚を検討する必要がある。実施例１は、ＣＦ特性を絡めて各層の膜厚を検討した結果得られたものであり、ＣＦ有りの場合に最適な設計になっている。
　なお、実施例１では、正孔輸送層の膜厚の膜厚がＲ，Ｇ，Ｂ各色で互いに相違し、有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ両色で同一でありＢ色のみ相違する。以下に示すように、有機発光層の膜厚を調整することで、正孔輸送層の膜厚を調整するよりも、光取り出し効率を高められる場合が多くなる。
　図５は、各層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示し、（ａ）は正孔輸送層でＣＦ無しの場合、（ｂ）は正孔輸送層でＣＦ有りの場合、（ｃ）は有機発光層でＣＦ無しの場合、（ｄ）は有機発光層でＣＦ有りの場合である。
　図５（ｂ）、（ｄ）を比較すると、正孔輸送層と有機発光層とで、光取り出し効率の変化の周期はほぼ同じであるが、光取り出し効率の変化幅ｈ１、ｈ２が異なる。即ち、膜厚変化に対する光取り出し効率の変化の割合が、有機発光層のほうが正孔輸送層よりも小さい。
　有機ＥＬ素子の各層をインクジェット法で作製する場合、インクの滴下数で膜厚が調整されることになる。このとき、インク一滴の量が膜厚調整の最小単位となる。そのため、膜厚の調整は、連続的ではなく離散的にしかすることができない。このような場合、膜厚変化に対する光取り出し効率の変化の割合が小さな層で膜厚を調整したほうが、光取り出し効率を最も高めることができる膜厚に合わせ込むのに有利である。
　実施例１では、正孔輸送層でＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚を粗めに調整し、そのうえで、有機発光層でＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚を微調整しているので、光取り出し効率を最も高めることができる膜厚に合わせ込みやすい。
　図６は、各層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例１、（ｂ）は比較例１ａである。
　上述のように、実施例１では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚の最適値は、６０ｎｍ、４０ｎｍ、１０ｎｍであり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚の最適値は、８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ１．９ｃｄ／Ａ、４．４ｃｄ／Ａ、０．４１ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.29,0.68）、（0.13,0.06）となる。また、第１機能層におけるＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、－１０～＋１０ｎｍ、－１０～＋９ｎｍ、－１５～＋８ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２０ｎｍ、１９ｎｍ、２３ｎｍとなる。
　「膜厚誤差の許容範囲」とは、図７に示す許容範囲を満たすことを条件として、各層の膜厚を最適値からずらすことができる限度を示している。図７では、次の許容範囲が示されている。
（１）有機ＥＬパネルの面内での光取り出し効率のばらつきが２０［％］以内
（２）有機ＥＬパネルの面内での色度のばらつきがｘ，ｙともに０．０４以内
（３）視野角３０°における輝度が視野角０°における輝度に対して９０［％］以上、かつ、視野角４５°における輝度が視野角０°における輝度に対して８０［％］以上
（４）視野角５０°における色度と視野角０°における色度との差がｘ，ｙともに０．０４以内
　膜厚誤差の許容範囲が広いほど、製造工程において各層の膜厚調整が容易となることを意味する。「膜厚誤差の許容幅」とは、許容範囲の上限と下限の差である（例えば、実施例１のＲでは、上限が＋１０、下限が－１０なので、差が２０となる）。
　一方、比較例１ａでは、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚の最適値は、１４０ｎｍ、１２０ｎｍ、９０ｎｍであり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚の最適値は、８０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ１．８ｃｄ／Ａ、４．４ｃｄ／Ａ、０．４０ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.29,0.68）、（0.13,0.06）となる。また、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、－１０～＋１０ｎｍ、－６～＋１５ｎｍ、－１５～＋９ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２０ｎｍ、２１ｎｍ、２４ｎｍとなる。
　このように、実施例１は、本来、Ｒ，Ｇ，Ｂ色毎に作り分けを必要とする有機発光層、および、インクジェット法に代表される印刷法で成膜しやすい正孔輸送層の膜厚を調整することにより、比較例１ａと同程度の光取り出し効率および色度を実現することができる。したがって、光取り出し効率を高めながら、製造工程を簡便にすることができる。
　また、より詳細には、有機ＥＬ素子の各層の膜厚は、製造誤差を考慮して、シミュレーションにより得られた膜厚から±１０％のずれの範囲内であればよいものとする。図８に、実施例１の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す。即ち、Ｒ，Ｇ，Ｂ共通に、透明導電層は９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下、正孔注入層は３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下、電子輸送層は２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であればよい。また、Ｒの正孔輸送層は５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下、Ｇの正孔輸送層は３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下、Ｂの正孔輸送層は９ｎｍ以上１１ｎｍ以下であればよく、Ｒ，Ｇ両色の有機発光層は７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｂ色の有機発光層は５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下であればよい。このとき、有機発光層から反射電極までの光学的な距離がＲで３２９ｎｍ以上４０２ｎｍ以下、Ｇで２９８ｎｍ以上３６４ｎｍ以下、Ｂで２５２ｎｍ以上３０８ｎｍ以下となり、有機発光層から透明電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下となる。
　発明者らは、さらに、比較例１ｂを用意し、その光取り出し効率等を求めた（図９参照）。比較例１ｂでは、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色で有機発光層の膜厚が同一であり、それぞれ、８０ｎｍ、８０ｎｍ、８０ｎｍである。これ以外の条件は実施例１と同一である。比較例１ｂでは、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ１．９ｃｄ／Ａ、４．４ｃｄ／Ａ、０．３５ｃｄ／Ａとなり、実施例１と比べてＢの光取り出し効率が低下している。したがって、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ両色で同一とし、Ｂのみ相違させることで、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一とするよりも光取り出し効率を高めることができる。
［第２のシミュレーション］
　発明者らは、さらに、実施例２と比較例２とを用意し、これらの各層の最適膜厚をシミュレーションにより求めた。第２のシミュレーションが第１のシミュレーションと異なるのは、反射電極の材料をＡｇ合金、透明導電層の材料をＩＴＯ（Indium Tin Oxide）としたことである。
　図１０は、第１機能層の膜厚を変化させたときの光取り出し効率の変化を示す図であり、（ａ）は実施例２のＣＦ無しの場合、（ｂ）は実施例２のＣＦ有りの場合、（ｃ）は比較例２のＣＦ無しの場合、（ｄ）は比較例２のＣＦ有りの場合である。
　実施例２では、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を４０ｎｍ、透明導電層の膜厚を１００ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ８０ｎｍ、８０ｎｍ、４０ｎｍに固定し、正孔輸送層の膜厚のみを変化させることにより第１機能層の膜厚を変化させている。
　比較例２では、電子輸送層の膜厚を３０ｎｍ、正孔注入層の膜厚を４０ｎｍ、正孔輸送層の膜厚を２０ｎｍ、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色でそれぞれ８０ｎｍ、８０ｎｍ、４０ｎｍに固定し、透明導電層の膜厚のみを変化させることにより第１機能層の膜厚を変化させている。
　第２のシミュレーションと第１のシミュレーションとで第１機能層の膜厚が異なるのは、反射電極の材料が異なることによる。
　図１０（ｂ）から、実施例２では、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚を５０ｎｍ、３０ｎｍ、１０ｎｍにするのが最適である。一方、図１０（ｄ）から、比較例２では、光取り出し効率を高めるためには、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚を１３０ｎｍ、１１０ｎｍ、９０ｎｍにするのが最適である。
　なお、図１０（ｂ）から分かるように、実施例２では、実施例１と同様に、ＣＦ有りの場合に最適な設計になっている。
　図１１は、各層の膜厚を最適値に設定した場合の光取り出し効率等を示す図であり、（ａ）は実施例２、（ｂ）は比較例２である。
　上述のように、実施例２では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔輸送層の膜厚の最適値は、５０ｎｍ、３０ｎｍ、１０ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ２．０ｃｄ／Ａ、４．７ｃｄ／Ａ、０．４１ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.29,0.68）、（0.13.0.06）となる。また、第１機能層におけるＲ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、－１２～＋１０ｎｍ、－１０～＋１２ｎｍ、－１０～＋９ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２２ｎｍ、２２ｎｍ、１９ｎｍとなる。
　一方、比較例２では、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚の最適値は、１３０ｎｍ、１１０ｎｍ、９０ｎｍであり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚の最適値は、８０ｎｍ、８０ｎｍ、４０ｎｍである。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の光取り出し効率は、それぞれ２．０ｃｄ／Ａ、４．７ｃｄ／Ａ、０．４２ｃｄ／Ａとなり、色度は、それぞれ（0.66,0.34）、（0.29,0.68）、（0.13,0.06）となる。また、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容範囲は、－１２～＋１１ｎｍ、－１１～＋１１ｎｍ、－１１～＋８ｎｍとなり、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の膜厚誤差の許容幅は、２３ｎｍ、２２ｎｍ、１９ｎｍとなる。
　このように、実施例２は、本来、Ｒ，Ｇ，Ｂ色毎に作り分けを必要とする有機発光層、および、インクジェット法に代表される印刷法で成膜しやすい正孔輸送層の膜厚を調整することにより、比較例２と同程度の光取り出し効率および色度を実現することができる。したがって、光取り出し効率を高めながら、製造工程を簡便にすることができる。
　また、より詳細には、有機ＥＬ素子の各層の膜厚は、製造誤差を考慮して、シミュレーションにより得られた膜厚から±１０％のずれの範囲内であればよいものとする。図１２に、実施例２の有機ＥＬ素子の各層の膜厚の最小値（ｍｉｎ）、中間値（ａｖｅ）、最大値（ｍａｘ）を示す。即ち、Ｒ，Ｇ，Ｂ共通に、透明導電層は９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下、正孔注入層は３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下、電子輸送層は２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であればよい。また、Ｒの正孔輸送層は４５ｎｍ以上５５ｎｍ以下、Ｇの正孔輸送層は２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下、Ｂの正孔輸送層は９ｎｍ以上１１ｎｍ以下であればよく、Ｒ，Ｇ両色の有機発光層は７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｂ色の有機発光層は３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であればよい。このとき、有機発光層から反射電極までの光学的な距離がＲで３１６ｎｍ以上３８６ｎｍ以下、Ｇで３００ｎｍ以上３６７ｎｍ以下、Ｂで２７０ｎｍ以上３３０ｎｍ以下となり、有機発光層から透明電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下となる。
［各層の具体例］
　＜基板＞
　基板１は、例えば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板である。基板１の材料は、例えば、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラスなどのガラス板及び石英板、並びに、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂などのプラスチック板又はプラスチックフィルム、並びに、アルミナなどの金属板又は金属ホイルなどである。
　＜バンク＞
　バンク１２は、絶縁性材料により形成されていれば良く、有機溶剤耐性を有することが好ましい。また、バンク１２はエッチング処理、ベーク処理などされることがあるので、それらの処理に対する耐性の高い材料で形成されることが好ましい。バンク１２の材料は、樹脂などの有機材料であっても、ガラスなどの無機材料であっても良い。有機材料として、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂などを使用することができ、無機材料として、シリコンオキサイド（ＳｉＯ２）、シリコンナイトライド（Ｓｉ３Ｎ４）などを使用することができる。
　＜反射電極＞
　反射電極２は、基板１に配されたＴＦＴに電気的に接続されており、有機発光素子の正極として機能すると共に、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒから反射電極２に向けて出射された光を反射する機能を有する。反射機能は、反射電極２の構成材料により発揮されるものでもよいし、反射電極２の表面部分に反射コーティングを施すことにより発揮されるものでもよい。反射電極２は、例えば、Ａｇ（銀）、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）等で形成されている。
＜透明導電層＞
　透明導電層３は、製造過程において反射電極２が自然酸化するのを防止する保護層として機能する。透明導電層３の材料は、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒで発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により形成されればよく、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどが好ましい。室温で成膜しても良好な導電性を得ることができるからである。
＜正孔注入層＞
　正孔注入層４は、正孔を有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒに注入する機能を有する。例えば、酸化タングステン（ＷＯｘ）、酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）、酸化モリブデンタングステン（ＭｏｘＷｙＯｚ）などの遷移金属の酸化物で形成される。遷移金属の酸化物で形成することで、電圧－電流密度特性を向上させ、また、電流密度を高めて発光強度を高めることができる。なお、これ以外に、遷移金属の窒化物などの金属化合物も適用できる。
＜正孔輸送層＞
　正孔輸送層５の材料は、例えば、特開平５－１６３４８８号に記載のトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体である。特に好ましくは、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物である。
＜有機発光層＞
　有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒの材料は、例えば、特開平５－１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８－ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、２－ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質である。
＜電子輸送層＞
　電子輸送層７の材料は、例えば、特開平５－１６３４８８号公報のニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体である。
　なお、電子注入性を更に向上させる点から、上記電子輸送層を構成する材料に、Ｎａ，Ｂａ，Ｃａなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属をドーピングしてもよい。
＜透明電極＞
　透明電極８は、有機ＥＬ素子の負極として機能する。透明電極８の材料は、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒで発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により形成されればよく、例えば、ＩＴＯやＩＺＯなどが好ましい。
＜薄膜封止層＞
　薄膜封止層９は、基板１との間に挟まれた各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。薄膜封止層９の材料は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）や樹脂等である。
＜樹脂封止層＞
　樹脂封止層１０は、基板１から薄膜封止層９までの各層からなる背面パネルと、カラーフィルタ１３ｂ，１３ｇ，１３ｒが形成された基板１１とを貼り合わせるとともに、各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。樹脂封止層１０の材料は、例えば、樹脂接着剤等である。
＜カラーフィルタ＞
　カラーフィルタ１３ｂ，１３ｇ，１３ｒは、有機発光層から出射された光の色度を矯正する機能を有する。
［有機表示装置］
　図１３は、本発明の実施形態に係る有機表示装置の機能ブロックを示す図である。図１４は、本発明の実施形態に係る有機表示装置の外観を例示する図である。有機表示装置１５は、有機表示パネル１６と、これに電気的に接続された駆動制御部１７とを備える。有機表示パネル１６は、図１に示す画素構造を有するものである。駆動制御部１７は、各有機ＥＬ素子の反射電極２と透明電極８との間に電圧を印加する駆動回路１８～２１と、駆動回路１８～２１の動作を制御する制御回路２２とからなる。
［有機ＥＬパネルの製造方法］
　次に、有機ＥＬパネルの製造方法を説明する。図１５、図１６は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法を説明するための図である。
　まず、基板１上に反射電極２を蒸着法やスパッタ法によって形成する（図１５（ａ））。次に、反射電極２上に、蒸着法やスパッタ法により透明導電層３を形成する（図１５（ｂ））。このとき、透明導電層３の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一にする。
　次に、透明導電層３上に、例えば、蒸着法やスパッタ法などの物理蒸着法（Physical Vapor Deposition）により正孔注入層４を形成し、バンク１２を形成し、さらに、正孔注入層４上に、例えば、インクジェット法などの印刷法により正孔輸送層５を形成する（図１５（ｃ））。このとき、正孔注入層４の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一にする。また、正孔輸送層５の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で互いに相違させる。
　次に、正孔輸送層５上に、例えば、インクジェット法などの印刷法により有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒを形成する（図１５（ｄ））。このとき、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒの膜厚をＲ，Ｇ両色で同一とし、Ｂ色のみ相違させる。
　次に、有機発光層６ｂ，６ｇ，６ｒ上に蒸着法やスパッタ法により電子輸送層７を形成する（図１６（ａ））。このとき、電子輸送層７の膜厚をＲ，Ｇ，Ｂ各色で同一にする。
　次に、電子輸送層７上に、蒸着法やスパッタ法により透明電極８を形成する（図１６（ｂ））。透明電極８の膜厚は、例えば、９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下とする。
　次に、透明電極８上に蒸着法やスパッタ法により薄膜封止層９を形成し、カラーフィルタ１３ｂ，１３ｇ，１３ｒが形成された基板１１を、樹脂封止層１０を用いて貼り合わせる（図１６（ｃ））。これらの封止層の膜厚は、例えば、９００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下とする。
　以上、本発明を実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記実施形態に限られない。例えば、以下のような変形例がある。
（１）実施例１では、第１機能層の膜厚をＲで１８０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下、Ｇで１６２ｎｍ以上１９８ｎｍ以下、Ｂで１３５ｎｍ以上１６５ｎｍ以下としているが、本発明は、これに限らない。光取り出し効率を高める効果は、第１光路Ｃ１を通過する光と第２光路Ｃ２を通過する光の干渉効果により得られるものと考えられる。そうすると、第１機能層の膜厚が重要ではなく、有機発光層から反射電極までの光学的な距離が重要であると言える。したがって、有機発光層から反射電極までの光学的な距離がＲで３２９ｎｍ以上４０２ｎｍ以下、Ｇで２９８ｎｍ以上３６４ｎｍ以下、Ｂで２５２ｎｍ以上３０８ｎｍ以下であればよく、この条件を満たす限り、第１機能層の膜厚を変えても同一の効果を得ることができる。
　同様に、実施例１では、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ両色で７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｂで５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下としているが、本発明はこれに限らない。有機発光層の光学的な膜厚がＲ，Ｇ両色で１２２．４ｎｍ以上１４９．７ｎｍ以下、Ｂで６１．２ｎｍ以上７４．８ｎｍ以下であればよい。
　同様に、実施例２では、第１機能層の膜厚をＲで１７１ｎｍ以上２０９ｎｍ以下、Ｇで１５３ｎｍ以上１８７ｎｍ以下、Ｂで１３５ｎｍ以上１６５ｎｍ以下としているが、本発明は、これに限らない。有機発光層から反射電極までの光学的な距離がＲで３１６ｎｍ以上３８６ｎｍ以下、Ｇで３００ｎｍ以上３６７ｎｍ以下、Ｂで２７０ｎｍ以上３３０ｎｍ以下であればよく、この条件を満たす限り、第１機能層の膜厚を変えても同一の効果を得ることができる。
　同様に、実施例２では、有機発光層の膜厚をＲ，Ｇ両色で７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下、Ｂで３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下としているが、本発明はこれに限らない。有機発光層の光学的な膜厚がＲ，Ｇ両色で１２２．４ｎｍ以上１４９．７ｎｍ以下、Ｂで６１．２ｎｍ以上７４．８ｎｍ以下であればよい。
　同様に、第２機能層についても膜厚を２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下としているが、本発明はこれに限らない。有機発光層から透明電極までの光学的な距離が４８．６ｎｍ以上５９．４ｎｍ以下であればよく、この条件を満たす限り、第２機能層の膜厚を変えても同一の効果を得ることができる。
（２）実施形態では、第１機能層が透明導電層、正孔注入層および正孔輸送層から構成されているが、本発明は、これに限らない。これらの何れかが無くてもよいし、これ以外の機能層が含まれていてもよい。
（３）実施形態では、第２機能層が電子輸送層から構成されているが、本発明は、これに限らない。例えば、電子注入層が含まれていてもよい。
　本発明は、有機ＥＬディスプレイ等に利用可能である。
　　　　１　　基板
　　　　２　　反射電極
　　　　３　　透明導電層
　　　　４　　正孔注入層
　　　　５　　正孔輸送層
　　　　６ｂ，６ｇ，６ｒ　有機発光層
　　　　７　　電子輸送層
　　　　８　　透明電極
　　　　９　　薄膜封止層
　　　１０　　樹脂封止層
　　　１１　　基板
　　　１２　　バンク
　　　１３ｂ，１３ｇ，１３ｒ　カラーフィルタ
　　　１５　　有機表示装置
　　　１６　　有機表示パネル
　　　１７　　駆動制御部
　　　１８～２１　駆動回路
　　　２２　　制御回路

Claims (17)

  1. 　Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に設けられ、入射された光を反射する第１電極と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極に対向して配置され、入射された光を透過する第２電極と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記第２電極との間に配置された、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることにより前記Ｒ、Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第１電極と前記有機発光層との間に配置された、電荷注入輸送層を含む２以上の層からなる第１の機能層と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極と前記有機発光層との間に配置された、１または２以上の層からなる第２の機能層と、を備え、
    　前記有機発光層から出射された光の一部が、前記第１の機能層を通じて前記第１電極側に進行し、前記第１電極により反射された後、前記第１の機能層、前記有機発光層、前記第２の機能層および前記第２電極を通じて外部に出射される第１光路と、
    　前記有機発光層から出射された光の残りの一部が、前記第１電極側に進行することなく、前記第２の機能層を通じて前記第２電極側に進行し、前記第２電極を通じて外部に出射される第２光路と、が形成され、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色では、
    　前記第１の機能層のうち前記電荷注入層の膜厚が互いに相違し、かつ、前記電荷注入輸送層以外の他の層の膜厚が同一であり、
    　前記第２の機能層の膜厚が同一であり、
    　前記有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ両色で同一であり、かつ、Ｂ色のみ相違すること
    　を特徴とする有機ＥＬパネル。
  2. 　さらに、前記Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に設けられ、前記第２電極を挟んで前記有機発光層の反対側に配置されるカラーフィルタを備え、
    　前記カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が極大値を示すように、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚が調整されていること
    　を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  3. 　前記第１の機能層の膜厚が、前記カラーフィルタ通過後の光の光取り出し効率が２次の極大値を示す膜厚に調整されていること
    　を特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬパネル。
  4. 　前記第１の機能層のうち前記電荷注入輸送層以外の他の層は、透明導電層であること
    　を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  5. 　前記第１の機能層は、印刷法で形成される層と物理蒸着法で形成される層とを含み、
    　前記第１の機能層のうちの塗布法で形成される層のＲ，Ｇ，Ｂの膜厚が異なり、前記第１の機能層のうちの物理蒸着法で形成される層のＲ，Ｇ，Ｂの膜厚が同一であること
    　を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  6. 　前記第１の機能層は、
    　前記電荷注入輸送層以外の他の層として、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層を含み、
    　前記電荷注入輸送層として、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚が、９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔注入層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であり、
    　前記Ｒの正孔輸送層の膜厚が、５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下であり、前記Ｇの正孔輸送層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であり、前記Ｂの正孔輸送層の膜厚が、９ｎｍ以上１１ｎｍ以下であり、
    　前記Ｒ，Ｇの有機発光層の膜厚が、７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下であり、前記Ｂの有機発光層の膜厚が、５４ｎｍ以上６６ｎｍ以下であること
    　を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  7. 　前記第１電極の材料がアルミニウムまたはアルミニウム合金であり、
    　前記透明導電層の材料がＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）であること
    　を特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬパネル。
  8. 　前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であること
    　を特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬパネル。
  9. 　前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、
    　前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であること
    　を特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬパネル。
  10. 　前記第１の機能層は、
    　前記電荷注入輸送層以外の他の層として、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層を含み、
    　前記電荷注入輸送層として、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の透明導電層の膜厚が、９０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の正孔注入層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であり、
    　前記Ｒの正孔輸送層の膜厚が、４５ｎｍ以上５５ｎｍ以下であり、前記Ｇの正孔輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であり、前記Ｂの正孔輸送層の膜厚が、９ｎｍ以上１１ｎｍ以下であり、
    　前記Ｒ，Ｇの有機発光層の膜厚が、７２ｎｍ以上８８ｎｍ以下であり、前記Ｂの有機発光層の膜厚が、３６ｎｍ以上４４ｎｍ以下であること
    　を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  11. 　前記第１電極の材料が銀または銀合金であり、
    　前記透明導電層の材料がＩＴＯ（Indium Tin Oxide）であること
    　を特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬパネル。
  12. 　前記第２の機能層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であること
    　を特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬパネル。
  13. 　前記第２の機能層は、電子輸送層を含み、
    　前記電子輸送層の膜厚が、２７ｎｍ以上３３ｎｍ以下であること
    　を特徴とする請求項１２に記載の有機ＥＬパネル。
  14. 　前記有機発光層は、有機材料を含み、印刷法を用いて形成されること
    　を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  15. 　前記第１の機能層は、
    　前記電荷注入輸送層以外の他の層として、前記第１の電極である陽極上に形成された透明導電層を含み、
    　前記電荷注入輸送層として、前記透明導電層上に形成された正孔注入層と、前記正孔注入層上に形成された正孔輸送層とを含み、
    　前記透明導電層および前記正孔注入層は、物理蒸着法を用いて形成され、
    　前記正孔輸送層は、印刷法を用いて形成されること
    　を特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
  16. 　請求項１に記載の有機ＥＬパネルを用いた表示装置。
  17. 　入射された光を反射する第１電極を、Ｒ（レッド），Ｇ（グリーン），Ｂ（ブルー）の色毎に準備する第１工程と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１電極上に、電荷注入輸送層を含む２以上の層からなる第１の機能層を設ける第２工程と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第１の機能層上に、それぞれＲ，Ｇ，Ｂのうちの対応する色の光を出射する有機発光層を設ける第３工程と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層上に、１または２以上の層からなる第２の機能層を設ける第４工程と、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第２の機能層上に、前記第１の電極と対向して配置され、入射された光を透過する第２電極を設ける第５工程と、を備え、
    　前記第２工程では、
    　前記第１の機能層のうち前記電荷注入層の膜厚が互いに相違し、かつ、前記電荷注入輸送層以外の他の層の膜厚が同一となるように、前記第１の機能層を設け、
    　前記第３工程では、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の有機発光層の膜厚がＲ，Ｇ両色で同一であり、Ｂ色のみ相違するように、前記有機発光層を設け、
    　前記第４工程では、
    　前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の第２の機能層の膜厚が同一になるように、前記第２の機能層を設けること
    　を特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
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