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WO2011158287A1 - El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 - Google Patents

El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 Download PDF

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Publication number
WO2011158287A1
WO2011158287A1 PCT/JP2010/003987 JP2010003987W WO2011158287A1 WO 2011158287 A1 WO2011158287 A1 WO 2011158287A1 JP 2010003987 W JP2010003987 W JP 2010003987W WO 2011158287 A1 WO2011158287 A1 WO 2011158287A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
region
pixel
color filter
filter layer
display panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2010/003987
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
高木誠司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to KR1020127011182A priority Critical patent/KR101356865B1/ko
Priority to PCT/JP2010/003987 priority patent/WO2011158287A1/ja
Priority to JP2012520158A priority patent/JP5654590B2/ja
Priority to CN201080049038.8A priority patent/CN102597822B/zh
Publication of WO2011158287A1 publication Critical patent/WO2011158287A1/ja
Priority to US13/447,868 priority patent/US8350471B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/917Electroluminescent

Definitions

  • the present invention relates to an EL display panel, an EL display device including the EL display panel, an organic EL display device, and a method for manufacturing the EL display panel, and more particularly to a structure of a color filter in the EL display panel.
  • a liquid crystal display panel is known as a display panel (see, for example, Patent Document 1).
  • the panel is composed of two glass substrates each having a predetermined component formed on one surface and facing each other and filled with liquid crystal between the two substrates.
  • black matrix hereinafter referred to as “BM”
  • CF color filter
  • Each CF layer corresponding to R, G, B is formed in a matrix, and a BM is formed between adjacent CF layers. ing. Each CF layer is formed along the shape of the BM that defines the CF layer, and a part of the CF layer rides on the upper surface of the end of the BM.
  • EL display panels are progressing as next-generation display panels.
  • the panel is arranged such that CF is placed opposite to an EL substrate in which a plurality of pixels each having a set of light emitting units corresponding to R, G, B as one unit are arranged in a matrix on one side. Between them, a sealing resin is filled.
  • the liquid crystal display panel is filled with liquid crystal
  • the EL display panel is filled with resin instead of liquid crystal, but the inventor has not filled the resin in the EL display panel.
  • the inventor has not filled the resin in the EL display panel.
  • the luminance of light output from the light emitting layer is reduced, and the life of the light emitting layer is shortened.
  • the refractive index is different between the resin-filled portion and the unfilled portion, light reflection occurs, and the light extraction efficiency may be reduced.
  • the inventor conducted experiments by increasing the amount of resin by 2 to 3 times the theoretically required amount, but no improvement was seen.
  • An object of the present invention is to provide an EL display panel in which an unfilled portion not filled with resin is reduced without increasing the amount of resin.
  • an EL display panel includes a first light emitting unit that outputs red light, a second light emitting unit that outputs green light, and a third light emitting unit that outputs blue light.
  • An EL substrate having a plurality of pixels arranged in a matrix, a base of a color filter provided on the light output side of the EL substrate, and formed on the EL substrate side of the base of the color filter, A color filter partition wall that partitions each of a first region corresponding to the first light emitting unit, a second region corresponding to the second light emitting unit, and a third region corresponding to the third light emitting unit; Forming a desired red light from the upper surface of the partition walls on both sides partitioning the region into a shape along the side surface of the partition walls on both sides and the surface of the base corresponding to the first region defined by the partition walls on both sides, Transmitting first color filter layer , And is formed in a shape that is recessed from the upper surface of the partition walls
  • a partition layer of the color filter corresponding to the space between the adjacent first pixel and the second pixel, and the width of the common partition wall is ,each The first region corresponding to the first pixel, the second region, and the third region wider than the width of the partition wall of the color filter between the first region, the first region corresponding to the first pixel, the second region, And a portion of the color filter layer formed in the end region of the third region formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side extends to the second pixel side.
  • each CF layer is formed in a state where a part of the CF layer is placed on the upper surface of the end of the partition defining the CF layer, so that a step is formed between the partition and the CF layer, and the shape of the CF is uneven. It has a shape. More specifically, the upper surface of the partition wall is lower than the upper surface of the CF layer. Therefore, when viewed as the entire CF, the CF layer becomes a convex portion, and the portion of the adjacent CF layer formed on the upper surface of the partition wall. The gap portion between them is a recess.
  • an auxiliary electrode for supplying voltage to the cathode is arranged for each pixel on the EL substrate side in order to reduce variation in luminance due to voltage drop at the cathode. Therefore, in CF, the area corresponding to the area where the auxiliary electrode is formed (hereinafter referred to as “inter-pixel area”) is compared with the area corresponding to the area between sub-pixels (hereinafter referred to as “inter-sub-pixel area”). Thus, the partition walls are formed wide. As a result, in CF, the recess in the partition formed in the inter-pixel region is wider than the recess in the partition formed in the inter-subpixel region.
  • the portion formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side extends toward the second pixel side, so that the partition wall on the second pixel side of the CF layer formed in the region serving as the end portion It is longer than the part formed on the upper surface of the partition wall on the opposite side.
  • the width of the CF partition wall corresponding to the space between the first pixel and the second pixel is set so that the first region and the second region correspond to each pixel.
  • the width of each CF partition between the third regions, but the end portions in the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel A portion of the CF layer formed in the region to be formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side, the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel.
  • the distance between the CF layer formed in the region adjacent to the first pixel and the portion formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side (hereinafter this distance is referred to as “the distance on the pixel interval wall”) ) Can be narrowed.
  • the space on the pixel interval wall is not extended by using a special material but the existing material called CF layer is extended. Therefore, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • FIG. 1 is a block diagram schematically showing an overall configuration of a display device 1 according to a first embodiment.
  • 3 is a partial cross-sectional view schematically showing a main part of the organic EL display panel 10 of Embodiment 1.
  • FIG. (A) It is a figure which shows typically the structure of BM of Embodiment 1.
  • FIG. (B) It is a figure which shows typically the positional relationship of BM and CF layer of Embodiment 1.
  • FIG. FIG. 4A is a partial cross-sectional view (cross-section A-A ′ in FIG. 3) illustrating the configuration of the CF according to the first embodiment.
  • (B) It is a fragmentary sectional view (B-B 'cross section of FIG. 3) which shows the structure of CF of Embodiment 1.
  • FIG. FIG. 3 is a diagram showing an example of a CF manufacturing process according to the first embodiment.
  • A It is a figure which shows typically the arrangement
  • FIG. 7B is a partial cross-sectional view (cross-section C-C ′ in FIG. 6A) showing a configuration of a comparative CF.
  • FIG. 7C is a partial cross-sectional view (cross section taken along the line D-D ′ in FIG. 6A) showing a configuration of a comparative CF.
  • A The schematic diagram which shows the state which dripped resin to CF for comparison, and the schematic diagram which shows the spreading condition of resin in CF for comparison.
  • FIG. 8B is a schematic diagram (cross section taken along the line E-E ′ in FIG. 7A) showing a configuration of a comparative CF in a state where a resin is dropped. It is a fragmentary sectional end view which shows typically the composition of organic EL display panel 1000 using CF for comparison.
  • A The schematic diagram which shows the state which dripped resin to CF of Embodiment 1, and the schematic diagram which shows the spreading
  • FIG. FIG. 9B is a schematic diagram (cross section taken along the line F-F ′ in FIG. 9A) showing the configuration of the CF according to the first embodiment in a state where a resin is dropped.
  • FIG. 4 is a partial cross-sectional view illustrating a configuration of an organic EL display panel 10 according to a second embodiment.
  • A) It is a figure which shows typically the arrangement
  • FIG. 1-1 It is a figure which shows typically the arrangement
  • A) It is a figure which shows typically the arrangement
  • B It is a fragmentary sectional view (G-G 'section of Drawing 11 (a)) showing the composition of CF of modification 1-2.
  • FIG. 4 is a partial cross-sectional view illustrating a configuration of an organic EL display panel 10 according to a second embodiment.
  • A) It is a figure which shows typically the arrangement
  • FIG. 15B is a partial cross-sectional view (H-H ′ cross section in FIG. 14A) showing the configuration of the CF according to the second embodiment.
  • C It is a fragmentary sectional view (I-I 'section of Drawing 14 (a)) showing the composition of CF of Embodiment 2.
  • 1 is an external perspective view showing an external appearance of a display device 1.
  • FIG. It is a photograph which shows the spreading condition of resin when resin is dripped at CF for comparison.
  • a pixel including a first light-emitting portion that outputs red light, a second light-emitting portion that outputs green light, and a third light-emitting portion that outputs blue light as a unit is a matrix.
  • a first color filter layer that is formed to be recessed from a top surface along a side surface of the partition walls on both sides and a surface of the base corresponding to the first region defined by the partition walls on both sides, and transmits desired red light
  • Both partitioning the second region A second color which is formed in a shape extending from the upper surface of the partition wall to the side surface of the partition walls on both sides and the surface of the base corresponding to the second region defined by the partition walls on both sides and transmits desired green light Formed by recessing in a shape along the filter layer and the upper surface
  • a partition wall of the color filter corresponding to between the adjacent first pixel and the second pixel, and the width of the common partition wall corresponds to the first pixel corresponding to each pixel. region, The edge of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is wider than the width of each color filter partition between the second region and the third region.
  • a portion of the color filter layer formed in the region to be the portion formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side is formed in the region to be the end portion by extending to the second pixel side. The color filter layer thus formed is longer than the portion formed on the upper surface of the partition opposite to the partition on the second pixel side.
  • the portion formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side extends toward the second pixel side, so that the partition wall on the second pixel side of the CF layer formed in the region serving as the end portion It is longer than the part formed on the upper surface of the partition wall on the opposite side.
  • the width of the CF partition wall corresponding to the space between the first pixel and the second pixel is set so that the first region and the second region correspond to each pixel.
  • the width of each CF partition between the third regions is wider than that of the third region, the interval on the pixel interval wall can be reduced.
  • the space on the pixel interval wall is not extended by using a special material but the existing material called CF layer is extended. Therefore, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • a color filter layer formed in an end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel, A portion formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side, and a region adjacent to the first pixel among the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel;
  • the distance between the formed color filter layer and the portion formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side is between the first region, the second region, and the third region corresponding to each pixel.
  • the distance between adjacent color filter layer portions formed on the upper surface of the partition wall of each color filter may be the same as or within a predetermined approximate range.
  • the gaps on the pixel spacing walls and the upper surfaces of the CF partition walls between the first region, the second region, and the third region corresponding to each pixel are formed.
  • the interval between adjacent CF layer portions is the same or within a predetermined approximate value range.
  • the interval between adjacent CF layer portions formed on the upper surface of the partition wall is the same or within a predetermined approximate range regardless of the width of the partition wall. Therefore, even if a step is generated between the partition wall and the CF layer, there is no wide concave portion that becomes a resin passage, so that uneven spreading of the resin can be reduced.
  • the color filter layer formed in each region of the third region may be longer than a portion formed on the upper surface of the partition wall on the opposite side of the partition wall on the third pixel side.
  • the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • a portion formed on the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • a portion formed on the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • a portion formed on the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • each region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel Since the CF layer formed in this manner is extended to the third pixel side, the spread of the resin can be further reduced. As a result, it is possible to further reduce the unfilled portion of the resin in the EL display panel.
  • an EL display panel which is one embodiment of the present invention uses a first light-emitting portion that outputs red light, a second light-emitting portion that outputs green light, and a third light-emitting portion that outputs blue light as a unit.
  • An EL substrate having a plurality of pixels arranged in a matrix, a base of a color filter provided on the light output side of the EL substrate, and a first region that is a region of the surface of the base corresponding to the first light emitting unit A first color filter layer that is formed and transmits desired red light; and a surface of a base corresponding to the second light emitting unit, and is formed in a second region separated from the first color filter layer at a predetermined interval.
  • Formed in a third region spaced within the range A third color filter layer that transmits desired blue light, and a resin layer filled between the first color filter layer, the second color filter layer, the third color filter layer, and the EL substrate.
  • a color filter layer formed in an end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is adjacent to the first pixel.
  • the CF layer formed in the end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is formed on the first pixel.
  • it is wider than the other CF layers formed in the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel. .
  • the CF layer formed in the region serving as the end portion, the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel can be reduced.
  • the space between pixels is narrowed by extending an existing material called a CF layer, instead of using a special material to narrow the space between pixels. Unfilled portions can be reduced with a simple configuration.
  • a color filter layer formed in an end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel;
  • An interval between the first region corresponding to the second pixel, the second region, and the color filter layer formed in a region adjacent to the first pixel in the third region corresponds to each pixel.
  • the interval between adjacent color filter layers formed in each of the first region, the second region, and the third region may be the same as or within a predetermined approximate value range.
  • the interval between pixels and the interval between adjacent CF layers formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to each pixel are: Within the same or predetermined approximate range.
  • the interval between adjacent CF layers may be the same or predetermined even between adjacent CF layers in a region corresponding to a pixel or between adjacent CF layers straddling a region corresponding to a pixel. Is within the range of approximate values.
  • the color filter layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel may include the second pixel. It may be extended to the third pixel side adjacent in the intersecting direction.
  • the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel extends to the third pixel side. ing. Accordingly, the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel, the first region corresponding to the third pixel, the first region The distance between the CF region formed in each of the two regions and the third region can be reduced.
  • each region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel Since the CF layer formed in this manner is extended to the third pixel side, the spread of the resin can be further reduced. As a result, it is possible to further reduce the unfilled portion of the resin in the EL display panel.
  • an EL display device including the EL display panel according to one aspect of the present invention may be used.
  • the resin unfilled portion can be reduced in the EL display panel for the same reason as described above.
  • each of the first light emitting unit, the second light emitting unit, and the third light emitting unit may be an organic light emitting unit.
  • each of the first light emitting unit, the second light emitting unit, and the third light emitting unit is an organic light emitting unit, an organic EL display panel can be realized.
  • an organic EL display device including an organic EL display panel may be used.
  • the unfilled portion of the resin in the EL display panel can be reduced for the same reason as described above.
  • an EL display panel manufacturing method which is one embodiment of the present invention includes a first light-emitting portion that outputs red light, a second light-emitting portion that outputs green light, and a third light-emitting portion that outputs blue light.
  • a color filter partition wall is formed to partition each of the first region corresponding to the first light emitting unit, the second region corresponding to the second light emitting unit, and the third region corresponding to the third light emitting unit.
  • a third surface step and a top surface of the partition walls on both sides partitioning the first region, a side surface of the partition walls on both sides and a surface of the base corresponding to the first region defined by the partition walls on both sides,
  • the first color that transmits the desired red light Along the fourth step of forming the filter layer and the surface of the base corresponding to the side of the partition on both sides and the second region defined by the partition on both sides from the upper surface of the partition on both sides defining the second region.
  • the partition walls of the filter are common, and the width of the common partition wall is larger than the width of the partition wall of the color filter between the first region, the second region, and the third region corresponding to each pixel.
  • the upper surface of the partition wall on the second pixel side of the color filter layer formed in the end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel The portion formed on the second pixel side extends to the upper surface of the partition wall on the opposite side of the partition wall on the second pixel side of the color filter layer formed in the region serving as the end portion. It is assumed that it is longer than the formed part.
  • a color filter layer formed in an end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel, A portion formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side, and a region adjacent to the first pixel among the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel;
  • the distance between the formed color filter layer and the portion formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side is between the first region, the second region, and the third region corresponding to each pixel.
  • the distance between adjacent color filter layer portions formed on the upper surface of the partition wall of each color filter may be the same as or within a predetermined approximate range.
  • the color filter layer formed in each region of the third region may be longer than a portion formed on the upper surface of the partition wall on the opposite side of the partition wall on the third pixel side.
  • an EL display panel manufacturing method which is one embodiment of the present invention includes a first light-emitting portion that outputs red light, a second light-emitting portion that outputs green light, and a third light-emitting portion that outputs blue light.
  • the color filter layer formed in the region is extended to the second pixel side adjacent to the first pixel, whereby the first region, the second region, and the first region corresponding to the first pixel. It is assumed that it is wider than the other color filter layers formed in the three regions.
  • a color filter layer formed in an end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel;
  • An interval between the first region corresponding to the second pixel, the second region, and the color filter layer formed in a region adjacent to the first pixel in the third region corresponds to each pixel.
  • the interval between adjacent color filter layers formed in each of the first region, the second region, and the third region may be the same as or within a predetermined approximate value range.
  • the color filter layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel may include the second pixel. It may be extended to the third pixel side adjacent in the intersecting direction.
  • FIG. 1 is a block diagram schematically showing the overall configuration of the display device 1.
  • the display device 1 includes an organic EL display panel 10 and a drive control unit 20 connected thereto.
  • the organic EL display panel 10 is a top emission type organic EL display panel using an electroluminescence phenomenon of an organic material.
  • the drive control unit 20 includes four drive circuits 21 to 24 and a control circuit 25.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view schematically showing a main part of the organic EL display panel 10 of the first embodiment.
  • an interlayer insulating film 102 is formed on a TFT substrate 101.
  • anodes 103a are arranged in matrix in units of subpixels. It is formed by patterning.
  • one pixel is formed by a combination of three subpixels adjacent in the X-axis direction, and the auxiliary electrode 103b is formed in a line shape corresponding to each pixel on the interlayer insulating film 102.
  • a bank 104 is formed between the anodes 103 a and between the anode 103 a and the auxiliary electrode 103 b, and an organic light emitting layer 105 of a predetermined color is laminated on the anode 103 a in a region defined by the bank 104. ing. Further, a cathode 106 and a sealing layer 107 are formed on the organic light emitting layer 105 so as to be continuous with those of the adjacent organic light emitting layer 105 and auxiliary electrode 103b beyond the region defined by the bank 104, respectively. Yes.
  • the above-described components (101 to 107) are collectively referred to as an EL substrate 11.
  • CF color filter
  • BM black matrix
  • CF12 The above-described components (111 to 113) are collectively referred to as CF12.
  • the BM 112 is formed in the region corresponding to the auxiliary electrode 103b and the bank 104.
  • Corresponding color CF layers 113 (R), (G), and (B) are formed in the regions corresponding to the organic light emitting layers 105 (R), (G), and (B).
  • inter-pixel BM BM corresponding to the inter-pixel
  • inter-sub-pixel BM BM corresponding to the inter-sub-pixel
  • the resin sealing layer 121 is filled between the EL substrate 11 and the CF 12.
  • FIG. 3A is a diagram schematically showing the arrangement position of the BM 112.
  • a white area indicates an area where the BM 112 is not formed.
  • Three white areas (the first area 114, the second area 115, and the third area 116) adjacent in the X-axis direction are defined as one unit, and a plurality of these are formed in a matrix as shown in FIG. Yes.
  • the BM 112 is formed so as to partition each of the first region 114, the second region 115, and the third region 116 formed in a matrix.
  • the wide BM 112 is the inter-pixel BM.
  • a wide BM 112 is formed for each pixel corresponding to the auxiliary electrode 103b.
  • a contact hole is formed at the end of the anode 103a in the EL substrate 11, and light emission is restricted in the area around the contact hole of the anode 103a. Therefore, the BM 112 is also formed in the region corresponding to the region around the contact hole in the CF 12. As a result, the BM 112 in the Y-axis direction is wider than the inter-subpixel BM 112.
  • FIG. 3B is a diagram schematically showing the positional relationship between the BM 112 and the CF layer 113 in the CF of the first embodiment.
  • three CF layers 113 (R), (G), and (B) adjacent in the X-axis direction are set as one unit, and a plurality of them are formed in a matrix.
  • the width of the CF layer 113 (R) in the X-axis direction is wider than the width of the CF layer 113 (G) and the CF layer 113 (B) in the X-axis direction.
  • FIG. 4A is a partial cross-sectional view (cross section AA ′ of FIG. 3) showing the configuration of the CF 12 of the first embodiment
  • FIG. 4B shows the configuration of the CF 12 of the first embodiment
  • FIG. 4 is a partial cross-sectional view (cross-section BB ′ in FIG. 3).
  • each of the CF layers 113 (R), (G), and (B) is formed in a state where a part of the CF layers 113 (R), (G), and (B) rides on the upper surface of the end of the BM 112 on both sides.
  • a portion of the CF layer 113 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 extends toward the CF layer 113 (B). For this reason, the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 is longer than the portion formed on the upper surface of the inter-sub-pixel BM (BM on the CF layer 113 (G) side) 112 in the CF layer 113 (R).
  • an interval l1 between a portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 in the CF layer 113 (R) and a portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 in the adjacent CF layer 113 (B) will be described later.
  • the interval 14 in the comparison CF that is, the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 is not extended to the CF layer 113 (B) side
  • the interval is narrower.
  • the interval l1 is the interval l2 between the portion formed on the upper surface of the inter-subpixel BM 112 in the CF layer 113 (R) and the portion formed on the upper surface of the inter-subpixel BM 112 in the adjacent CF layer 113 (G). It is preferable that they are the same or within a predetermined approximate value range.
  • the range of the predetermined approximate value is, for example, a range of 0.5 to 1.5 times the interval l2.
  • the interval l2 is, for example, 10 ⁇ m. In that case, the interval l1 is desirably 5 to 15 ⁇ m.
  • an interval 13 between adjacent CF layers 113b (B) and 113c (B) formed on the upper surface of the BM 112 is an interval 16 (see FIG. 6C) in a comparative CF described later (that is, , When not extending to the CF layer 113c (B) side).
  • the interval l3 is preferably the same as the interval l2 or within a predetermined approximate value range. The range of the predetermined approximate value is as described above.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (G) have the same configuration as that shown in FIG. 4B.
  • the TFT substrate 101 is, for example, alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphoric acid glass, boric acid glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, and silicone.
  • a TFT, a wiring member, and a passivation film (not shown) for covering the TFT are formed on a substrate body of an insulating material such as resin or alumina.
  • the substrate body may be an organic resin film.
  • the interlayer insulating film 102 is provided to adjust the surface step of the TFT substrate 101 to be flat, and is made of an insulating material such as polyimide resin or acrylic resin.
  • the anode 103a and the auxiliary electrode 103b are made of Al (aluminum) or an aluminum alloy.
  • the anode 103 is made of, for example, Ag (silver), an alloy of silver, palladium, and copper, an alloy of silver, rubidium, and gold, MoCr (alloy of molybdenum and chromium), NiCr (alloy of nickel and chromium), or the like. It may be formed. Since the organic EL display panel 10 according to the first embodiment is a top emission type, the anode 103 is preferably formed of a light reflective material.
  • the bank 104 is made of an organic material such as resin and has an insulating property. Examples of organic materials include acrylic resins, polyimide resins, novolac type phenol resins, and the like.
  • the bank 104 preferably has organic solvent resistance. Further, since the bank 104 may be subjected to an etching process, a baking process, or the like, it is preferable that the bank 104 be formed of a highly resistant material that does not excessively deform or alter the process.
  • the organic light emitting layer 105 is, for example, an oxinoid compound, perylene compound, coumarin compound, azacoumarin compound, oxazole compound, oxadiazole compound, perinone compound, pyrrolopyrrole compound, naphthalene compound, anthracene compound described in JP-A-5-163488.
  • the cathode 106 is made of, for example, ITO (indium tin oxide) or IZO (indium zinc oxide). Since the organic EL display panel 10 is a top emission type, the cathode 106 is preferably formed of a light transmissive material.
  • the sealing layer 107 has a function of preventing the organic light emitting layer 105 or the like from being exposed to moisture or air, for example, SiO (silicon oxide), SiN (silicon nitride), SiON (acidic). It is made of a material such as silicon nitride), SiC (silicon carbide), SiOC (carbon-containing silicon oxide), AlN (aluminum nitride), Al2O3 (aluminum oxide). Since the organic EL display panel 10 is a top emission type, the sealing layer 107 is preferably formed of a light transmissive material.
  • the CF substrate body 111 is a front substrate in the organic EL display panel 10, and can be made of the same material as the substrate body in the TFT substrate 101. However, in order to make the organic EL display panel 10 a top emission type, it is required to have good transparency.
  • BM112 is a black layer provided for the purpose of preventing the reflection of external light and the incidence of external light on the display surface of the organic EL display panel 10 and improving the display contrast.
  • it is comprised with the ultraviolet curable resin material containing the black pigment which is excellent in light absorptivity and light-shielding property.
  • the CF layers 113 (R), (G), and (B) are made of a known resin material that transmits visible light in each wavelength range corresponding to red, green, and blue.
  • the resin sealing layer 121 is disposed for the purpose of preventing the entry of moisture and gas from the outside, and is made of various transparent resin materials (epoxy resin, acrylic resin, silicone resin, etc.).
  • the viscosity of the resin material needs to be set in consideration of the extent of spreading and adhesion of the resin material, and is, for example, 500 mPa ⁇ s. ⁇ Manufacturing method> Then, the manufacturing process of CF12 is illustrated.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process of the CF12.
  • a BM paste is prepared by dispersing a BM material containing an ultraviolet curable resin (for example, an ultraviolet curable acrylic resin) as a main component and adding a black pigment thereto in a solvent. This is applied to one surface of the substrate body 111 (FIG. 5A).
  • a pattern mask having an opening of a predetermined shape is overlaid so as to correspond to the position of the bank 104 formed on the EL substrate 11 side. (FIG. 5B). Then, ultraviolet irradiation is performed on the superimposed pattern mask.
  • the coated / solvent-removed BM paste is baked, the pattern mask and uncured BM paste are removed, developed, and cured. As shown in FIG. 5C, the BM 112 aligned with the position of the bank 104 is obtained. Complete.
  • the material of the CF layer 113 (R) mainly composed of an ultraviolet curable resin component is dispersed in a solvent on the substrate surface on which the BM 112 is formed, and the paste (R) is applied. After removing the solvent to a certain extent, a predetermined pattern mask is placed and ultraviolet irradiation is performed.
  • the CF layer 113 (R) is formed along the shape of the BM 112, and a part of the CF layer 113 (R) is on the upper surface of the end of the BM 112 on both sides. Further, the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 in the CF layer 113 (R) is longer than the portion formed on the upper surface of the inter-sub-pixel BM 112.
  • the CF layers 113 (G) and (B) are formed by repeating the CF layer 113 (R) formation process in the same manner for the CF materials of the respective colors. Thereby, CF layers 113 (G) and (B) are formed in accordance with the positions of the respective organic light emitting layers 105 (FIGS. 5E and 5F).
  • the CF layers 113 (G) and (B) are also formed along the shape of the BM 112, and a part of the CF layers 113 (G) and (B) are on the upper surfaces of the end portions of the BM 112 on both sides. .
  • the portions formed on the upper surface of the BM 112 on both sides of the CF layer are not extended.
  • a paste of a sealing material (DAM) for sealing the EL substrate 11 completed through a predetermined process and the CF 12 is applied to the outer peripheral portion of the completed CF 12.
  • a resin material (FILL) for resin sealing is dropped on the portions excluding the outer peripheral portion of the CF12 at a predetermined interval.
  • FIG. 6A is a diagram schematically showing the positional relationship between the BM of the CF for comparison and the CF layer.
  • three CF layers 213 (R), (G), and (B) adjacent in the X-axis direction are defined as one unit, and a plurality of these are formed in a matrix. This is the same as that shown in FIG.
  • the widths of the CF layers 213 (R), (G), and (B) in the X-axis direction and the Y-axis direction are the same.
  • FIG. 6B is a partial cross-sectional view (cross-section CC ′ of FIG. 6A) showing the configuration of the comparative CF
  • FIG. 6C is a partial view showing the configuration of the comparative CF
  • FIG. 7 is a cross-sectional view (a DD ′ cross section in FIG. 6A).
  • each of the CF layers 213 (R), (G), and (B) is formed in a state where a part of the CF layers 213 (R), (G), and (B) rides on the upper surfaces of the end portions of the BM 212 on both sides. This is the same as the CF 12 of the first embodiment.
  • the portion of the CF layer 213 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM does not extend to the adjacent CF layer 213 (B) side. That is, in the CF layer 213 (R), the width of the portion formed on the inter-pixel BM upper surface and the portion formed on the inter-subpixel BM upper surface are the same. As a result, an interval 14 between the CF layer 213 (R) formed on the inter-pixel BM upper surface and the CF layer 213 (B) formed on the inter-pixel BM upper surface is formed on the inter-subpixel BM upper surface.
  • the interval 15 is 10 ⁇ m, for example, the interval 14 is 40 ⁇ m, for example.
  • the interval l6 is, for example, 10 ⁇ m
  • the interval l6 is, for example, 40 ⁇ m.
  • the CF layer 213 (R) and the CF layer 213 (G) have the same configuration as that shown in FIG.
  • a wide recess is formed on the inter-pixel BM 212 in both the X-axis direction and the Y-axis direction.
  • FIG. 7A is a schematic diagram showing a state in which a plurality of drops of the resin 2211 are dropped on the comparative CF, and a schematic diagram showing how the resin spreads in the comparative CF.
  • FIG. 7B is a schematic diagram (cross-section EE ′ of FIG. 7A) showing the structure of a comparative CF in a state where the resin 2211 is dropped.
  • FIG. 8 is a partial cross-sectional end view schematically showing a configuration of an organic EL display panel 1000 using a comparative CF.
  • white areas indicate unfilled areas that are not filled with resin.
  • the resin partially spreads on the organic light emitting layer side due to the pressure when the CF and the EL substrate are bonded together, It has not been eliminated.
  • the resin 221 is filled, but in the region corresponding to the organic light emitting layer, an unfilled region is generated.
  • FIG. 9A is a schematic diagram illustrating a state in which a resin is dropped onto the CF according to the first embodiment and a schematic diagram illustrating how the resin spreads in the CF according to the first embodiment.
  • FIG. 9B is a schematic diagram (cross section taken along the line FF ′ in FIG. 9A) showing the configuration of the CF 12 of the first embodiment in a state where the resin is dropped.
  • the interval l1 on the top surface of the inter-pixel BM is the same as the interval l2 in the inter-subpixel BM or within a predetermined approximate value range. Therefore, although there is a step between the BM 112 and each CF layer, there is no wide concave portion on the upper surface of the BM between pixels. Therefore, the resin 1211 does not spread first in the concave portion on the upper surface of the BM between the pixels, but concentrically spreads on the CF 12 as shown in the lower diagram of FIG. 9A and FIG. 9B.
  • the portion of the CF layer 113 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 extends to the adjacent CF layer 113 (B) side, so that CF The layer 113 (R) is longer than the portion formed on the upper surface of the BM 112 on the CF layer 113 (G) side.
  • the width of the inter-pixel BM 112 is wider than the width of the inter-sub-pixel BM 112, the CF layer 113 (R) adjacent to the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 and the adjacent CF layer 113 (B) , The distance l1 from the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 can be reduced.
  • a special material is not used to narrow the interval l1 on the inter-pixel BM 112, but an existing material called a CF layer is extended to extend the inter-pixel BM 112. Since the interval l1 is narrowed, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • FIG. 10 is a diagram schematically showing an arrangement relationship between the BM and the CF layer in Modification 1-1.
  • the CF layer 113 (R) extends to the CF layer 113 (B) side adjacent in the X-axis direction. This point is common with the CF 12 shown in FIG.
  • the CF layers 113 (R), (G), and (B) are formed in stripes. In other words, in the Y-axis direction, the CF layers 113 (R), (G), and (B) are not continuously patterned for each region corresponding to the subpixel, but are formed continuously.
  • the arrangement position of the BM 112 is the same as that shown in FIG.
  • FIG. 11A is a diagram schematically showing an arrangement relationship between the BM and the CF layer in Modification 1-2.
  • FIG. 11B is a partial cross-sectional view (GG ′ cross section of FIG. 11A) showing the configuration of the CF of Modification 1-2.
  • a distance l7 between a portion of the CF layer 113 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 and a portion of the adjacent CF layer 113 (B) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 is shown in FIG. It is the same as the interval l1 in a).
  • the arrangement position of the BM 112 is the same as that shown in FIG.
  • FIG. 12 is a diagram schematically showing the positional relationship between the BM and the CF layer in Modification 1-3.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) extend in the X-axis direction. This is the same as the CF 12 in Modification 1-2. However, in the CF 12 in Modification 1-3, the CF layers 113 (R), (G), and (B) are formed in stripes, as in the CF 12 in Modification 1-1. In other words, in the Y-axis direction, the CF layers 113 (R), (G), and (B) are not continuously patterned for each region corresponding to the subpixel, but are formed continuously.
  • the arrangement position of the BM 112 is the same as that shown in FIG.
  • FIG. 13 is a partial cross-sectional view schematically showing a main part of the organic EL display panel 10 of the second embodiment. As shown in FIG.
  • the EL substrate 11 is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted here.
  • FIG. 14A is a diagram schematically showing an arrangement relationship between the BM and the CF layer in the second embodiment.
  • FIG. 14B is a partial cross-sectional view (H-H ′ cross-section of FIG. 14A) showing the configuration of the CF of the second embodiment.
  • FIG. 14C is a partial cross-sectional view (cross section taken along the line I-I ′ of FIG. 14A) showing the configuration of the CF of the second embodiment.
  • the width of the CF layer 113 (R) in the X-axis direction is the same as the width of the CF layer 113 (G) and the CF layer 113 (B) in the X-axis direction. Compared to it is wider.
  • the interval l8 between the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) in the region corresponding to the pixel is the width of the CF layers 113 (R), (G), and (B) in the X-axis direction. Compared to the common case (that is, the CF layer 113 (R) is not extended), it is narrower.
  • the interval l8 is preferably the same as the interval l9 between the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (G) or within a predetermined approximate range. The range of the predetermined approximate value is as described in the first embodiment.
  • the CF layer 113 (B) extends in the Y-axis direction.
  • the interval l10 between adjacent CF layers 113 (B) is preferably the same as the interval l9 or within a predetermined approximate range.
  • the range of the predetermined approximate value is as described above.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (G) have the same configuration as that shown in FIG.
  • the region between adjacent CF layers becomes a recess when viewed as a whole CF, but as described above.
  • the CF layer 113 (R) in the X-axis direction and the CF layers 113 (R), (G), and (B) in the Y-axis direction recesses in the regions corresponding to the pixels are formed. It can be narrowed.
  • the space between adjacent CF layers is not narrowed by using a special material separately, but the existing material called CF layer is formed wide so that the CF layer between adjacent CF layers is formed. Since the interval is narrowed, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • Each of the CF layers 113 (R), (G), and (B) may be formed in a stripe shape, and not only the CF layer 113 (R) but also the CF layer 113 (B) is in the X-axis direction.
  • the CF layers 113 (R), (G), and (B) may be formed in stripes, and the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) may be You may extend in the X-axis direction. (Supplement)
  • the organic EL display panel 10 according to the present invention has been described based on the embodiment, but the present invention is not limited to the above embodiment.
  • a hole injection layer, a hole transport layer, or a hole injection / transport layer is interposed between the anode 103a and the organic light emitting layer 105 as necessary.
  • an electron injection layer, an electron transport layer, or an electron injection / transport layer may be interposed between the cathode 106 and the organic light emitting layer 105 as necessary.
  • the CF 12 of the organic EL display panel 10 has been described as an example. However, the CF 12 may be applied to an inorganic EL display panel.
  • the BM 112 has been described as an example of the partition that partitions each of the first region 114, the second region 115, and the third region 116.
  • the partition functions as a partition that partitions each region. If it does, it is not restricted to BM112.
  • it may be a partition made of an ultraviolet curable resin material containing a color pigment other than a black pigment.
  • the portion of the CF layer 113 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 is such that the interval l1 falls within the range of 0.5 to 1.5 times the interval l2.
  • the CF layer 113 (B) and the CF layer 113 (R) are formed in the region corresponding to the edge of the pixel.
  • the arrangement relationship is not limited to this, and for example, The CF layer 113 (G) may be formed in a region corresponding to the end portion of the pixel. (6) In the above embodiment, for example, as shown in FIG.
  • a portion formed on the upper surface of the BM 112 on the CF layer 113c (B) side, which is one end of the CF layer 113b (B), 113c (B) side is extended, and the part is longer than the part formed on the upper surface of the BM 112 on the CF layer 113a (B) side, which is the other end of the CF layer 113b (B).
  • the present invention is not limited to this, and the following configuration may be used as long as the interval l3 is within the range of the predetermined approximate value.
  • the adjacent CF layers 113 formed on the upper surface of the BM 112 may extend in the respective directions.
  • FIG. 7A is a schematic diagram showing how the resin spreads when the resin is dropped on the comparative CF.
  • FIG. 16 shows the case where the resin is actually dropped on the comparative CF. It is a photograph which shows the extent of resin spreading. Also from FIG. 16, it can be confirmed that the resin starts to spread not from the CF layer but from the inter-pixel BM.
  • the above embodiment and the above modifications may be combined.
  • the present invention can be used, for example, for home or public facilities, various display devices for business use, television devices, displays for portable electronic devices, and the like.

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Abstract

 EL表示パネル10は、EL基板11とCF12とを対向配置させ、EL基板11とCF12との間に樹脂121を充填してなる。CF12において、隣接する第1画素と第2画素との間に対応する隔壁112は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する第1領域、第2領域、及び第3領域間の各々のCF12の隔壁の幅より広くなっている。第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたCF層113の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたCF層113の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている。

Description

EL表示パネル、EL表示パネルを備えたEL表示装置、有機EL表示装置、およびEL表示パネルの製造方法
 本発明は、EL表示パネル、EL表示パネルを備えたEL表示装置、有機EL表示装置、およびEL表示パネルの製造方法に関し、特に、EL表示パネルにおけるカラーフィルターの構造に関する。
 従来、表示パネルとして液晶表示パネルが知られている(例えば、特許文献1参照)。同パネルは、一方の面にそれぞれ所定の構成要素が形成された2枚のガラス基板を対向配置し両基板間に液晶を充填してなる。一方のガラス基板の主面(他方のガラス基板と対向する対向面)上には、所定の構成要素として、ブラックマトリクス(以下、「BM」という)及びR,G,Bに対応する各カラーフィルター(以下、(CF)という)層が形成されている(以下、ガラス基板上にBM及び各CF層が形成されたものを「カラーフィルター(CF)」という)。ガラス基板上に形成されたBM及び各CF層の配置関係の一例について説明すると、R,G,Bに対応する各CF層が行列状に形成され、隣接するCF層の間にBMが形成されている。各CF層は、当該CF層を規定しているBMの形状に沿って形成されており、当該BMの端部上面に一部が乗り上げた状態となっている。
 ところで近年、次世代の表示パネルとして、EL表示パネルの研究・開発が進んでいる。同パネルは、一方の面にR,G,Bに対応する各発光部の組みを一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板に対し、CFを対向配置させ、EL基板とCFとの間に封止用の樹脂を充填してなる。
特開2008-112001号公報
 上述のように、液晶表示パネルには液晶が充填されるのに対し、EL表示パネルでは液晶ではなく樹脂が充填されるが、発明者は、EL表示パネルにおいて樹脂が充填されていない未充填部分が存在することを確認した。この未充填部分に酸素や水分が溜まると、溜まった酸素や水分が発光部における発光層と反応し、当該発光層を劣化させてしまう。その結果、発光層から出力される光の輝度が低減したり、発光層の寿命が短縮したりする。さらに、樹脂の充填部分と未充填部分とで屈折率が異なるために光の反射が起こり、光取り出し効率も低下する可能性がある。
 発明者は、理論上必要とされる量の2、3倍に樹脂の量を増やして実験したが、改善は見られなかった。
 さらに樹脂の量を増やすことも考えられるが、これ以上の樹脂量の増加は、EL基板とCFとの間隔を均一に保つことを困難にし、適切ではない。
 本発明は、樹脂量を増やすことなく、樹脂が充填されていない未充填部分を低減したEL表示パネルを提供することを目的とする。
 上記課題を解決するために、本発明の一態様に係るEL表示パネルは、赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、前記カラーフィルターのベースの前記EL基板側に形成され、前記第1発光部に対応する第1領域、前記第2発光部に対応する第2領域、及び前記第3発光部に対応する第3領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁と、前記第1領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第1領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層と、前記第2領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第2領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層と、前記第3領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第3領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層と、前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、隣接する第1画素と第2画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている構成とした。
 発明者は、未充填部分が存在する原因としてCFの形状に着目した。CFにおいて、各CF層は、当該CF層を規定している隔壁の端部上面に一部が乗り上げた状態で形成されているため、隔壁とCF層とで段差が生じ、CFの形状は凹凸形状になっている。より詳細には、CF層上面に比べ、隔壁上面が低くなっており、そのためにCF全体として見た場合に、CF層が凸部になり、隔壁上面に形成された、隣接するCF層の部分同士の隙間部分が凹部となっている。
 また、EL表示パネルでは、陰極での電圧降下による輝度のばらつきを軽減するために、EL基板側に、陰極に対して電圧供給を図る補助電極が画素毎に配置されている。そのため、CFにおいて、補助電極が形成されている画素間に対応する領域(以下、「画素間領域」という)では、サブピクセル間に対応する領域(以下、「サブピクセル間領域」という)に比べて、隔壁が幅広に形成されている。その結果、CFにおいて、画素間領域に形成された隔壁における凹部は、サブピクセル間領域に形成された隔壁における凹部に比べ、幅広になる。
 発明者は、EL表示パネルにおける未充填部分が、CFの凹凸形状に起因していることを突き止めた。より詳細には、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間領域に形成された隔壁における幅広の凹部に樹脂が真っ先に拡がり、そのためにCF層上に樹脂が拡がりづらくなっていることを確認した。結果として、EL基板とCFとを貼り合わせた際には、発光層に相当する領域に樹脂が充填されていない未充填部分が存在していた。
 本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたCF層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたCF層の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている。
 このため、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、第1画素と第2画素との間に対応する前記CFの隔壁の幅が、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記CFの隔壁の幅より広くなっているものの、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたCF層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分と、前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたCF層の、前記第1画素側の隔壁の上面に形成された部分との間隔(以下、この間隔を「画素間隔壁上の間隔」という)を狭めることができる。
 このことは、樹脂が拡がる際の通路となる凹部の幅を狭めることを意味するので、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間隔壁上の間隔に樹脂が拡がりづらくなる一方で、各CF層上には樹脂が拡がりやすくなる。
 CFに樹脂を滴下した際に各CF層上に樹脂が拡がりやすくなるので、CFとEL基板とを貼り合わせた際の、すなわち、EL表示パネルにおける樹脂の未充填部分を低減することができる。
 また、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、別途特別な材料を用いて画素間隔壁上の間隔を狭めるのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間隔壁上の間隔を狭めるので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
実施の形態1の表示装置1の全体構成を模式的に示すブロック図である。 実施の形態1の有機EL表示パネル10の要部を模式的に示す部分断面図である。 (a)実施の形態1のBMの構成を模式的に示す図である。(b)実施の形態1のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。 (a)実施の形態1のCFの構成を示す部分断面図(図3のA-A’断面)である。(b)実施の形態1のCFの構成を示す部分断面図(図3のB-B’断面)である。 実施の形態1のCFの製造工程の一例を示す図である。 (a)比較用のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。(b)比較用のCFの構成を示す部分断面図(図6(a)のC-C’断面)である。(c)比較用のCFの構成を示す部分断面図(図6(a)のD-D’断面)である。 (a)比較用のCFに樹脂を滴下した状態を示す模式図及び比較用のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。(b)樹脂が滴下された状態における、比較用のCFの構成を示す模式図(図7(a)のE-E’断面)である。 比較用のCFを用いた有機EL表示パネル1000の構成を模式的に示す部分断面端面図である。 (a)実施の形態1のCFに樹脂を滴下した状態を示す模式図及び実施の形態1のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。(b)樹脂が滴下された状態における、実施の形態1のCFの構成を示す模式図(図9(a)のF-F’断面)である。 変形例1-1におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。 (a)変形例1-2におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。(b)変形例1-2のCFの構成を示す部分断面図(図11(a)のG-G’断面)である。 変形例1-3におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。 実施の形態2の有機EL表示パネル10の構成を示す部分断面図である。 (a)実施の形態2のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。(b)実施の形態2のCFの構成を示す部分断面図(図14(a)のH-H’断面)である。(c)実施の形態2のCFの構成を示す部分断面図(図14(a)のI-I’断面)である。 表示装置1の外観を示す外観斜視図である。 比較用のCFに樹脂を滴下した際の樹脂の拡がり具合を示す写真である。
  [実施の態様]
 本発明の一態様であるEL表示パネルは、赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、前記カラーフィルターのベースの前記EL基板側に形成され、前記第1発光部に対応する第1領域、前記第2発光部に対応する第2領域、及び前記第3発光部に対応する第3領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁と、前記第1領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第1領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層と、前記第2領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第2領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層と、前記第3領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第3領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層と、前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、隣接する第1画素と第2画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている構成とした。
 本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたCF層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたCF層の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている。
 このため、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、第1画素と第2画素との間に対応する前記CFの隔壁の幅が、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記CFの隔壁の幅より広くなっているものの、画素間隔壁上の間隔を狭めることができる。
 このことは、樹脂が拡がる際の通路となる凹部の幅を狭めることを意味するので、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間隔壁上の間隔に樹脂が拡がりづらくなる一方で、各CF層上には樹脂が拡がりやすくなる。
 CFに樹脂を滴下した際に各CF層上に樹脂が拡がりやすくなるので、CFとEL基板とを貼り合わせた際の、すなわち、EL表示パネルにおける樹脂の未充填部分を低減することができる。
 また、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、別途特別な材料を用いて画素間隔壁上の間隔を狭めるのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間隔壁上の間隔を狭めるので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分と、前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第1画素側の隔壁の上面に形成された部分と、の間隔は、前記各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の上面に形成された、隣接するカラーフィルター層の部分同士の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内であるとしてもよい。
 本態様のEL表示パネルでは、画素間隔壁上の間隔と、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記CFの隔壁の上面に形成された、隣接するCF層の部分同士の間隔とが、同一又は所定の近似値の範囲内である。
 言い換えると、隔壁の上面に形成された、隣接するCF層の部分同士の間隔はそれぞれ、当該隔壁の幅によらず、同一又は所定の近似値の範囲内である。そのため、隔壁とCF層とで段差が生じても、樹脂の通路となる幅広の凹部が存在しないので、樹脂の拡がりムラを低減することができる。
 したがって、画素間隔壁上の間隔にのみ樹脂が多量に拡がるということを抑制することができる。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第3画素側に延設されることにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第3画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっているとしてもよい。
 本態様のEL表示パネルでは、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層の、前記第3画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第3画素側に延設される。これにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層の、前記第3画素側の隔壁の上面に形成された部分と、前記第3画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層の、第1画素側の隔壁の上面に形成された部分との間隔を狭めることができる。
 前記端部となる領域に形成されたCF層を第2画素側に延設させるだけでなく、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層を第3画素側に延設させるので、より一層、樹脂の拡がりムラを低減することができる。その結果、EL表示パネルにおいて樹脂の未充填部分をより一層低減することができる。
 ここで、本発明の一態様であるEL表示パネルは、赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、前記第1発光部に対応するベースの表面の領域である第1領域に形成され、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層と、前記第2発光部に対応するベースの表面であって、第1カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第2領域に形成され、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層と、前記第3発光部に対応するベースの表面であって、第2カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第3領域に形成され、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層と、前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第1画素に隣接する第2画素側に延設されることにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域に形成された他のカラーフィルター層より幅広になっている構成とした。
 本態様のEL表示パネルでは、第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたCF層は、前記第1画素に隣接する第2画素側に延設されることにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域に形成された他のCF層より幅広になっている。
 このため、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、前記端部となる領域に形成されたCF層と、前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたCF層との間隔(以下、この間隔を「画素間の間隔」という)を狭めることができる。
 このことは、樹脂が拡がる際の通路となる凹部の幅を狭めることを意味するので、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間の間隔に樹脂が拡がりづらくなる一方で、各CF層上には樹脂が拡がりやすくなる。
 CFに樹脂を滴下した際に各CF層上に樹脂が拡がりやすくなるので、CFとEL基板とを貼り合わせた際の、すなわち、EL表示パネルにおける樹脂の未充填部分を低減することができる。
 また、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、別途特別な材料を用いて画素間の間隔を狭めるのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間の間隔を狭めるので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
 このように、本態様によれば、隔壁を有さないCFを用いたEL表示パネルであっても、EL表示パネルにおける樹脂の未充填部分を低減することができる。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層と、前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層と、の間隔は、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各々に形成された、隣接するカラーフィルター層の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内であるとしてもよい。
 本態様のEL表示パネルでは、画素間の間隔と、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各々に形成された、隣接するCF層の間隔とが、同一又は所定の近似値の範囲内である。
 言い換えると、隣接するCF層の間隔は、画素に対応する領域内で隣接するCF層同士であっても、画素間に対応する領域を跨いで隣接するCF層同士であっても、同一又は所定の近似値の範囲内である。
 そのため、CF層とCFのベースとで段差が生じても、樹脂の通路となる幅広の凹部が存在しないので、樹脂の拡がりムラを低減することができる。
 したがって、画素間の間隔にのみ樹脂が多量に拡がるということを抑制することができる。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側に延設されているとしてもよい。
 本態様のEL表示パネルでは、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層は、前記第3画素側に延設されている。これにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層と、前記第3画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層との間隔を狭めることができる。
 前記端部となる領域に形成されたCF層を第2画素側に延設させるだけでなく、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたCF層を第3画素側に延設させるので、より一層、樹脂の拡がりムラを低減することができる。その結果、EL表示パネルにおいて樹脂の未充填部分をより一層低減することができる。
 ここで、本発明の別の態様として、上記本発明の一態様に係るEL表示パネルを備えたEL表示装置としてもよい。
 本態様のEL表示装置では、上記同様の理由により、EL表示パネルにおいて樹脂の未充填部分を低減することができる。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1発光部、前記第2発光部、及び前記第3発光部の各々は、有機発光部であるとしてもよい。
 本態様によれば、前記第1発光部、前記第2発光部、及び前記第3発光部の各々は有機発光部であるため、有機EL表示パネルを実現することができる。
 ここで、本発明の別の態様として、有機EL表示パネルを備えた有機EL表示装置としてもよい。
 本態様の有機EL表示装置では、上記同様の理由により、EL表示パネルにおいて樹脂の未充填部分を低減することができる。
 ここで、本発明の一態様であるEL表示パネルの製造方法は、赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第1工程と、カラーフィルターのベースを準備する第2工程と、前記ベース上であって、前記ベースの前記EL基板と対向させる側に、前記第1発光部に対応する第1領域、前記第2発光部に対応する第2領域、及び前記第3発光部に対応する第3領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁を形成する第3工程と、前記第1領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第1領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層を形成する第4工程と、前記第2領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第2領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層を形成する第5工程と、前記第3領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第3領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層を形成する第6工程と、前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板との間に樹脂材料を充填する第7工程とを含み、隣接する第1画素と第2画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっているとした。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分と、前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第1画素側の隔壁の上面に形成された部分と、の間隔は、前記各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の上面に形成された、隣接するカラーフィルター層の部分同士の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内であるとしてもよい。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第3画素側に延設されることにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第3画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっているとしてもよい。
 ここで、本発明の一態様であるEL表示パネルの製造方法は、赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第1工程と、カラーフィルターのベースを準備する第2工程と、前記第1発光部に対応するベースの表面の領域である第1領域に、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層を形成する第3工程と、前記第2発光部に対応するベースの表面であって、第1カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第2領域に、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層を形成する第4工程と、前記第3発光部に対応するベースの表面であって、第2カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第3領域に、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層を形成する第5工程と、前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板と、の間に樹脂材料を充填する第6工程とを含み、第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第1画素に隣接する第2画素側に延設されることにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域に形成された他のカラーフィルター層より幅広になっているとした。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層と、前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層と、の間隔は、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各々に形成された、隣接するカラーフィルター層の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内であるとしてもよい。
 ここで、本発明の別の態様として、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側に延設されているとしてもよい。
  [実施の形態1]
<表示装置1の全体構成>
 本実施の形態に係る表示装置1の全体構成について、図1を用い説明する。図1は、表示装置1の全体構成を模式的に示すブロック図である。
 図1に示すように、表示装置1は、有機EL表示パネル10と、これに接続された駆動制御部20とを有し構成されている。有機EL表示パネル10は、有機材料の電界発光現象を利用したトップエミッション型の有機EL表示パネルである。
 また、駆動制御部20は、4つの駆動回路21~24と制御回路25とから構成されている。
 なお、実際の表示装置1では、有機EL表示パネル10に対する駆動制御部20の配置については、これに限られない。
<有機EL表示パネル10の構成>
 (有機EL表示パネル10の概略構成)
 有機EL表示パネル10の構成について詳細に説明する。図2は、実施の形態1の有機EL表示パネル10の要部を模式的に示す部分断面図である。図2に示すように、実施の形態1の有機EL表示パネル10では、TFT基板101上に層間絶縁膜102が形成されており、この層間絶縁膜102上に、陽極103aがサブピクセル単位で行列状にパターニングして形成されている。
 また、X軸方向に隣り合う3つのサブピクセルの組み合わせにより1画素(ピクセル)が構成され、層間絶縁膜102上には、補助電極103bが画素毎に対応してライン状に形成されている。
 陽極103a間、及び陽極103aと補助電極103bとの間にはバンク104が形成されており、バンク104で規定された領域内において陽極103a上には、所定の色の有機発光層105が積層されている。さらに、有機発光層105上には、陰極106及び封止層107が、それぞれバンク104で規定された領域を超えて隣接する有機発光層105及び補助電極103bのものと連続するように形成されている。
 以上、説明した各構成要素(101~107)をまとめてEL基板11という。
 また、カラーフィルター(以下、「CF」という)の基板本体111の一方の面(EL基板11に対向する対向面)にブラックマトリクス(以下、「BM」という)112及びR,G,Bに対応した各CF層113が配設されている。
 以上、説明した各構成要素(111~113)をまとめてCF12という。
 補助電極103b、バンク104、及び有機発光層105(R)、(G)、(B)とBM112及びCF113(R)、(G)、(B)との配置関係について説明すると、図2に示すように、補助電極103b及びバンク104に対応する領域にはBM112が形成されている。また、有機発光層105(R)、(G)、(B)に対応する各領域には、対応する色のCF層113(R)、(G)、(B)が形成されている。
 また、画素間には補助電極103bが形成されているため、画素間に対応するBM(以下、「画素間BM」という)112は、サブピクセル間に対応するBM(以下、「サブピクセル間BM」という)112より幅広になっている。
 EL基板11とCF12との間には、樹脂封止層121が充填されている。
 (CF12の構成)
  ─BM112の配置位置─
 続いて、CF12の構成について詳細に説明する。図3(a)は、BM112の配置位置を模式的に示す図である。図3(a)において、白抜き領域は、BM112が形成されていない領域を示している。X軸方向に隣り合う3つの白抜き領域(第1領域114、第2領域115、第3領域116)を一単位とし、図3(a)に示すように、これが行列状に複数形成されている。BM112は、行列状に形成された、第1領域114、第2領域115、及び第3領域116の各々を区画するように形成されている。
 X軸方向において、幅広のBM112が画素間BMである。補助電極103bに対応して、画素単位で幅広のBM112が形成されている。
 また、EL基板11における陽極103aの端部にはコンタクトホールが形成され、陽極103aのコンタクトホール周辺の領域は、発光が規制される。そのため、CF12において当該コンタクトホール周辺の領域に対応する領域もBM112が形成される。その結果、Y軸方向のBM112は、サブピクセル間BM112に比べて、幅広になっている。
  ─BM112とCF層113との配置関係─
 図3(b)は、実施の形態1のCFにおけるBM112とCF層113との配置関係を模式的に示す図である。図3(b)に示すように、X軸方向に隣り合う3つのCF層113(R)、(G)、(B)を1単位とし、これが行列状に複数形成されている。また、CF層113(R)のX軸方向の幅が、CF層113(G)及びCF層113(B)のX軸方向の幅に比べて、広くなっている。
 BM112とCF層113との配置関係について、図4を用いて、より詳細に説明する。
 図4(a)は、実施の形態1のCF12の構成を示す部分断面図(図3のA-A’断面)であり、図4(b)は、実施の形態1のCF12の構成を示す部分断面図(図3のB-B’断面)である。図4(a)に示すように、各CF層113(R)、(G)、(B)は、両側のBM112の端部上面に一部が乗り上げた状態で形成されている。ここで、CF層113(R)に着目すると、CF層113(R)における、画素間BM112上面に形成された部分が、CF層113(B)側に延設している。そのため、画素間BM112上面に形成された部分が、CF層113(R)における、サブピクセル間BM(CF層113(G)側のBM)112上面に形成された部分より長くなっている。
 その結果、CF層113(R)における、画素間BM112上面に形成された部分と、隣接するCF層113(B)における、当該画素間BM112上面に形成された部分との間隔l1が、後述する比較用のCFにおける間隔l4(図6(b)参照)(すなわち、画素間BM112上面に形成された部分をCF層113(B)側に延設しない場合)と比較し、狭くなっている。間隔l1は、CF層113(R)における、サブピクセル間BM112上面に形成された部分と、隣接するCF層113(G)における、当該サブピクセル間BM112上面に形成された部分との間隔l2と同一、または所定の近似値の範囲内であることが好ましい。所定の近似値の範囲内とは、間隔l2に対して例えば0.5~1.5倍の範囲内である。間隔l2は、例えば10μmである。その場合には、間隔l1は、5~15μmであることが望ましい。
 また、図4(b)に示すように、CF層113b(B)の一端である、CF層113c(B)側のBM112上面に形成された部分が、CF層113c(B)側に延設している。このため、当該部分が、CF層113b(B)の他端である、CF層113a(B)側のBM112上面に形成された部分より長くなっている。
 その結果、BM112上面に形成された、隣接するCF層113b(B)、113c(B)の部分同士の間隔l3は、後述する比較用のCFにおける間隔l6(図6(c)参照)(すなわち、CF層113c(B)側に延設しない場合)と比較し、狭くなっている。間隔l3は、間隔l2と同一、または所定の近似値の範囲内であることが好ましい。所定の近似値の範囲内は、上述の通りである。
 なお、ここでは図示しないが、CF層113(R)及びCF層113(G)についても、図4(b)で示したものと同様の構成となっている。
 続いて、有機EL表示パネル10における各部の材料等について詳細に説明する。
<各部構成>
 TFT基板101は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料の基板本体上に、TFT、配線部材、および前記TFTを被覆するパッシベーション膜など(図示せず)を形成した構成である。また、前記基板本体は有機樹脂フィルムであってもかまわない。
 層間絶縁膜102は、TFT基板101の表面段差を平坦に調整するために設けられ、ポリイミド系樹脂またはアクリル系樹脂等の絶縁材料で構成されている。
 陽極103a及び補助電極103bは、Al(アルミニウム)、あるいはアルミニウム合金で形成されている。なお、陽極103は、例えば、Ag(銀)、銀とパラジウムと銅との合金、銀とルビジウムと金との合金、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)等で形成されていても良い。本実施の形態1に係る有機EL表示パネル10はトップエミッション型であるので、陽極103は、光反射性の材料で形成されていることが好ましい。
 バンク104は、樹脂等の有機材料で形成されており絶縁性を有する。有機材料の例として、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられる。バンク104は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク104はエッチング処理、ベーク処理等がされることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。
 有機発光層105は、例えば、特開平5-163488号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8-ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2-ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質で形成されることが好ましい。
 陰極106は、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)やIZO(酸化インジウム亜鉛)等で形成される。有機EL表示パネル10はトップエミッション型であるので、陰極106は、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
 封止層107は、有機発光層105等が水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、SiO(酸化シリコン),SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)、SiC(炭化ケイ素),SiOC(炭素含有酸化シリコン),AlN(窒化アルミニウム),Al2O3(酸化アルミニウム)等の材料で形成される。有機EL表示パネル10はトップエミッション型であるので、封止層107は、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
 CFの基板本体111は、有機EL表示パネル10における前面基板であり、TFT基板101における基板本体と同様の材料で構成することができる。但し、有機EL表示パネル10をトップエミッション型にするため、良好な透明性を持つことが要求される。
 BM112は、有機EL表示パネル10の表示面への外光の照り返しや外光の入射を防止し、表示コントラストを向上させる目的で設けられる黒色層である。例えば光吸収性及び遮光性に優れる黒色顔料を含む紫外線硬化樹脂材料で構成される。
 CF層113(R)、(G)、(B)は、赤色、緑色、青色に対応した各々の波長域の可視光を透過する、公知の樹脂材料で構成されている。
 樹脂封止層121は、外部からの水分やガスの侵入を防止する目的で配設され、各種透明樹脂材料(エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂等)で構成される。樹脂材料の粘度は、樹脂材料の拡がり具合と密着性とを考慮し設定される必要があり、例えば、500mPa・sである。
<製造方法>
 続いて、CF12の製造工程を例示する。図5は、CF12の製造工程の一例を示す図である。まず、紫外線硬化樹脂(例えば紫外線硬化アクリル樹脂)材料を主成分とし、これに黒色顔料を添加してなるBM材料を溶媒に分散させ、BMペーストを調整する。これを基板本体111の一方の面に塗布する(図5(a))。
 塗布したBMペーストを乾燥し、溶媒をある程度揮発させて形態を保持できる程度になったら、EL基板11側に形成されるバンク104位置に対応するように所定形状の開口部を持つパターンマスクを重ねる(図5(b))。そして、重ねたパターンマスクの上から紫外線照射を行う。
 その後、塗布・溶媒除去したBMペーストを焼成し、パターンマスク及び未硬化のBMペーストを除去して現像し、キュアすると、図5(c)に示すように、バンク104の位置に合わせたBM112が完成する。
 次に、BM112を形成した基板表面に、紫外線硬化樹脂成分を主成分とするCF層113(R)の材料を溶媒に分散させ、ペースト(R)を塗布する。溶媒を一定除去した後、所定のパターンマスクを載置し、紫外線照射を行う。
 その後、キュアを行い、パターンマスク及び未硬化のペースト(R)を除去して現像すると、図5(d)に示すように、CF層113(R)が形成される。
 CF層113(R)は、BM112の形状に沿って形成されており、両側のBM112の端部上面に一部が乗り上げた状態となっている。また、CF層113(R)における、画素間BM112上面に形成された部分が、サブピクセル間BM112上面に形成された部分より長くなっている。
 上記CF層113(R)形成工程を各色のCF材料について同様に繰り返すことで、CF層113(G)、(B)を形成する。これにより、各有機発光層105の位置に合わせてCF層113(G)、(B)が形成される(図5(e)、(f))。
 CF層113(G)、(B)も、CF層113(R)と同様、BM112の形状に沿って形成されており、両側のBM112の端部上面に一部が乗り上げた状態となっている。ただし、CF層113(G)、(B)においては、当該CF層の両側のBM112上面に形成された部分は延設されていない。
 以上の工程を経ることで、本実施の形態のCF12が完成する。
 この後の工程について簡単に説明すると、完成したCF12の外周部分に、所定の工程を経て完成したEL基板11と当該CF12とを封止するためのシール材(DAM)のペーストを塗布し、さらに、CF12の外周部分を除く部分に樹脂封止用の樹脂材料(FILL)を、所定の間隔を空けて滴下していく。滴下が終了すると、その後、真空状態においてEL基板11とCF12とを貼り合わせた後、焼成して封止工程を完了すると、有機EL表示パネル10が完成する。
  <本実施の形態のCFと比較用のCFとの比較>
 続いて、本実施の形態におけるCF12と比較用のCFとで、樹脂の拡がり具合にどのような違いがあるかについて説明する。ここで、比較用のCFとして、画素間BM112上に形成されたCF層の部分を延設していないものを用いる。以下、比較用のCFについて説明する。
 (比較用のCFにおけるBM212とCF層213との配置関係)
 比較用のCFにおけるBMの配置位置に関しては、図3(a)に示したものと同様である。図6(a)は、比較用のCFのBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。図6(a)に示すように、X軸方向に隣り合う3つのCF層213(R)、(G)、(B)を1単位とし、これが行列状に複数形成されている。この点については、図3(b)で示したものと同様である。ただし、比較用のCF では、CF層213(R)、(G)、(B)の各々のX軸方向及びY軸方向の幅は、同一である。
 BM212とCF層213との配置関係について、図6(b)及び図6(c)を用いて、より詳細に説明する。
 図6(b)は、比較用のCFの構成を示す部分断面図(図6(a)のC-C’断面)であり、図6(c)は、比較用のCFの構成を示す部分断面図(図6(a)のD-D’断面)である。図6(b)に示すように、各CF層213(R)、(G)、(B)は、両側のBM212の端部上面に一部が乗り上げた状態で形成されている。この点については、実施の形態1のCF12と同様である。ただし、CF層213(R)に着目すると、CF層213(R)における、画素間BM上面に形成された部分が、隣接するCF層213(B)側に延設されていない。すなわち、CF層213(R)における、画素間BM上面に形成された部分及びサブピクセル間BM上面に形成された部分の幅は、同一である。その結果、画素間BM上面に形成されたCF層213(R)の部分と当該画素間BM上面に形成されたCF層213(B)の部分との間隔l4は、サブピクセル間BM上面に形成されたCF層213(R)の部分と当該サブピクセル間BM上面に形成された、隣接するCF層213(G)の部分との間隔l5に比べて、広くなっている。間隔l5が、例えば10μmである場合には、間隔l4は例えば40μmである。
 また、図6(c)に示すように、CF層213b(B)の一端である、CF層213c(B)側のBM212上面に形成された部分も、当該CF層213c(B)側に延設されていない。そのため、BM212上面に形成された、隣接するCF層213b(B)、213c(B)の部分同士の間隔l6も、間隔l5に比べて広くなっている。間隔l5が、例えば10μmである場合には、間隔l6は例えば40μmである。
 なお、ここでは図示しないが、CF層213(R)及びCF層213(G)についても、図6(c)で示したものと同様の構成となっている。
 このように、比較用のCFでは、X軸方向及びY軸方向ともに、画素間BM212上において幅広の凹部が形成されている。
 (比較用のCFにおける樹脂の拡がり具合)
 図7(a)は、比較用のCFに樹脂2211を複数滴、滴下した状態を示す模式図及び比較用のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。図7(b)は、樹脂2211が滴下された状態における、比較用のCFの構成を示す模式図(図7(a)のE-E’断面)である。
 図7(a)上図に示すように、CF上には、樹脂2211が所定間隔を空けて複数滴、滴下される。樹脂2211が滴下された後、CF上では樹脂が拡がり始めるが、図7(a)下図、及び図7(b)に示すように、樹脂2211は、CF層上ではなく、画素間BM112上から拡がり始める。これは、CFが凹凸形状を有しており、CF層上面に比べBM上面が低い位置にあるため、より低い位置にあるBM上面が、樹脂が拡がる際の通路となるからである。なお、サブピクセル間BM上面もCF層上面に比べ低い位置にあるが、サブピクセル間BM上面においては、隣接するCF層の間隔が十分に狭い。そのため、表面張力の影響により、樹脂が拡がらないと考えられる。
 このように、比較用のCFでは、画素間BM112上面に樹脂が真っ先に拡がるため、CF層上に樹脂が拡がっていない領域が存在する。このため、CFとEL基板とを貼り合わせて構成される有機EL表示パネル10において、有機発光層に相当する領域では樹脂が充填されていない未充填部分が生じる。
 図8は、比較用のCFを用いた有機EL表示パネル1000の構成を模式的に示す部分断面端面図である。図8において白塗り領域は、樹脂が充填されていない未充填領域を示す。図8に示すように、比較用のCFを用いた有機EL表示パネル1000では、CFとEL基板とを貼り合わせる際の圧力により、有機発光層側に樹脂が一部拡がるものの、未充填部分を排除するには至っていない。
 したがって、画素間BMに対応する領域では、樹脂221が充填されているものの、有機発光層に対応する領域では、未充填領域が生じている。
 なお、ここでは、Y軸方向への拡がりについて説明したが、X軸方向への拡がりについても幅広の凹が存在するため、同様のことが言える。
 (本実施の形態のCF12における樹脂の拡がり具合)
 続いて、本実施の形態のCF12に樹脂を滴下した場合の拡がり具合について説明する。図9(a)は、実施の形態1のCFに樹脂を滴下した状態を示す模式図及び実施の形態1のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。図9(b)は、樹脂が滴下された状態における、実施の形態1のCF12の構成を示す模式図(図9(a)のF-F’断面)である。
 本実施の形態のCF12では、画素間BM上面における間隔l1はサブピクセル間BMにおける間隔l2と同一または所定の近似値の範囲内である。そのため、BM112と各CF層とで段差が生じているものの、画素間BM上面には幅広の凹部は存在していない。よって、樹脂1211は、画素間BM上面の凹部に真っ先に拡がっていくのではなく、図9(a)下図、及び図9(b)に示すように、CF12上を同心円状に拡がっていく。
 画素間BM上面の凹部にのみ樹脂が多量に拡がるということを抑制することができるので、樹脂の拡がりムラを低減することができる。
 その結果、CFとEL基板とを貼り合わせた際には、図2に示したように、画素間BMに対応する領域だけでなく、CF層に対応する領域にも樹脂が充填される。
 なお、ここでは、Y軸方向への拡がりについて説明したが、X軸方向への拡がりに
ついても、幅広の凹部が存在しないため、同様のことが言える。
 以上のように本実施の形態によれば、CF層113(R)における、画素間BM112の上面に形成された部分が、隣接するCF層113(B)側に延設されることにより、CF層113(R)における、CF層113(G)側のBM112上面に形成された部分より長くなっている。
 このため、画素間BM112の幅が、サブピクセル間BM112の幅より広くなっているものの、CF層113(R)における、画素間BM112上面に形成された部分と、隣接するCF層113(B)における、当該画素間BM112上面に形成された部分との間隔l1を狭めることができる。
 このことは、樹脂が拡がる際の通路となる凹部の幅を狭めることを意味するので、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間BM112の間隔l1に樹脂が拡がりづらくなる一方で、各CF層113上には樹脂が拡がりやすくなる。
 CF12に樹脂を滴下した際に各CF層113上に樹脂が拡がりやすくなるので、CF12とEL基板11とを貼り合わせた際の、すなわち、有機EL表示パネル10における樹脂の未充填部分を低減することができる。
 また、本実施の形態の有機EL表示パネル10では、別途特別な材料を用いて画素間BM112上の間隔l1を狭めるのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間BM112上の間隔l1を狭めるので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
  [変形例1-1]
 続いて、CFにおける各CF層をストライプ状に形成した一変形例について説明する。図10は、変形例1-1におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。図10に示すように、CF層113(R)は、X軸方向に隣接するCF層113(B)側に延設している。この点においては、図3(b)で示したCF12と共通している。ただし、変形例1-1のCF12では、各CF層113(R)、(G)、(B)がストライプ状に形成されている。すなわち、Y軸方向においては、各CF層113(R)、(G)、(B)は、サブピクセルに相当する領域毎にパターニングされるのではなく、連続して形成されている。
 これにより、Y軸方向においては、BM上面における凹部が存在しないため、各CF層113(R)、(G)、(B)上への樹脂の拡がりをより一層促進させることができる。
 なお、BM112の配置位置に関しては図3(a)で示したものと同様である。
  [変形例1-2]
 続いて、CFにおけるCF層113(R)とCF層113(B)とがX軸方向に延設している一変形例について説明する。図11(a)は、変形例1-2におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。図11(b)は、変形例1-2のCFの構成を示す部分断面図(図11(a)のG-G’断面)である。
 図11(a)に示すように、変形例1-2におけるCF12では、CF層113(R)だけでなく、CF層113(B)についてもX軸方向の幅が、CF層113(G)に比べて広くなっている。
 本変形例のCFにおけるBM112とCF層113との配置関係について、図11(b)を用いて、より詳細に説明する。
 図11(b)に示すように、CF層113(R)の、画素間BM112上面に形成された部分が延設されているだけでなく、隣接するCF層113(B)の、当該画素間BM112上面に形成された部分も延設されている。そのため、画素間BM112の中央部において、凹部が存在している。
 また、CF層113(R)の、画素間BM112上面に形成された部分と、隣接するCF層113(B)の、当該画素間BM112上面に形成された部分との間隔l7は、図4(a)における間隔l1と同一である。
 このように、CF層113(R)だけでなく、CF層113(B)もX軸方向に延設した場合であっても、画素間BM112における凹部の幅を狭めることができるので、樹脂の拡がりを促進させることができる。
 なお、BM112の配置位置に関しては図3(a)で示したものと同様である。
  [変形例1-3]
 続いて、CFにおけるCF層113(R)とCF層113(B)とがX軸方向に延設し、かつ、各CF層113(R)、(G)、(B)をストライプ状に形成した一変形例について説明する。図12は、変形例1-3におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。
 図12に示すように、CF層113(R)とCF層113(B)とがX軸方向に延設している。この点においては、変形例1-2におけるCF12と共通している。ただし、変形例1-3におけるCF12では、変形例1-1のCF12と同じように、各CF層113(R)、(G)、(B)がストライプ状に形成されている。すなわち、Y軸方向においては、各CF層113(R)、(G)、(B)は、サブピクセルに相当する領域毎にパターニングされるのではなく、連続して形成されている。
 これにより、Y軸方向においては、BM上面における凹部が存在しないため、各CF層113(R)、(G)、(B)上への樹脂の拡がりをより一層促進させることができる。
 なお、BM112の配置位置に関しては図3(a)で示したものと同様である。
  [実施の形態2]
 本実施の形態では、BMが形成されず、R,G,Bに対応する各CF層のみが形成されたCFについて説明する。
<有機EL表示パネル10の構成>
 (有機EL表示パネル10の概略構成)
 本実施の形態の有機EL表示パネル10の構成について詳細に説明する。図13は、実施の形態2の有機EL表示パネル10の要部を模式的に示す部分断面図である。図13に示すように、基板本体111の一方の面(EL基板11に対向する対向面)で、かつ、有機発光層105(R)、(G)、(B)に対応する各領域に、対応する色のCF層113(R)、(G)、(B)がそれぞれ形成されている。
 EL基板11については、実施の形態1と同様であるので、ここではその説明を省略する。
 続いて、CF12の構成について詳細に説明する。図14(a)は、実施の形態2のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。図14(b)は、実施の形態2のCFの構成を示す部分断面図(図14(a)のH-H’断面)である。図14(c)は、実施の形態2のCFの構成を示す部分断面図(図14(a)のI-I’断面)である。
 図14(a)及び図14(b)に示すように、CF層113(R)のX軸方向の幅が、CF層113(G)及びCF層113(B)のX軸方向の幅に比べて、広くなっている。
 そのため、画素間に対応する領域における、CF層113(R)とCF層113(B)との間隔l8は、CF層113(R)、(G)、(B)のX軸方向の幅を共通とした(すなわち、CF層113(R)を延設しない)場合と比較し、狭くなっている。間隔l8は、CF層113(R)とCF層113(G)との間隔l9と同一、または所定の近似値の範囲内であることが好ましい。所定の近似値の範囲内については、実施の形態1で述べた通りである。
 また、図14(a)及び図14(c)に示すように、CF層113(B)は、Y軸方向に延設している。隣接するCF層113(B)の間隔l10は、間隔l9と同一、または所定の近似値の範囲内であることが好ましい。所定の近似値の範囲内は、上述した通りである。
 なお、ここでは図示しないが、CF層113(R)及びCF層113(G)についても、図14(c)で示したものと同様の構成となっている。
 以上のように、CF層113(R)、(G)、(B)のみが形成されたCFでは、隣接するCF層間の領域が、CF全体としてみた場合に凹部となるが、上述したように、CF層113(R)をX軸方向に、かつ、各CF層113(R)、(G)、(B)をY軸方向に延設することにより、画素間に対応する領域における凹部を狭めることができる。
 このことは、樹脂が拡がる際の通路となる凹部の幅を狭めることを意味するので、CFに樹脂を滴下した場合に、隣接するCF層間に樹脂が拡がりづらくなる一方で、各CF層上には樹脂が拡がりやすくなる。
 CFに樹脂を滴下した際に各CF層上に樹脂が拡がりやすくなるので、CFとEL基板とを貼り合わせた際の、すなわち、有機EL表示パネル10における樹脂の未充填部分を低減することができる。
 また、本実施の形態の有機EL表示パネル10では、別途特別な材料を用いて隣接するCF層間の間隔を狭めるのではなく、CF層という既存材料を幅広に形成することにより隣接するCF層間の間隔を狭めるので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
 なお、各CF層113(R)、(G)、(B)が、ストライプ状に形成されていてもよいし、CF層113(R)だけでなく、CF層113(B)もX軸方向に延設していてもよいし、各CF層113(R)、(G)、(B)が、ストライプ状に形成され、かつ、CF層113(R)とCF層113(B)とがX軸方向に延設していてもよい。
(補足)
 以上、本発明に係る有機EL表示パネル10について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は上記実施の形態に限られないことは勿論である。
(1)上記実施の形態におけるEL基板11において、陽極103aと有機発光層105との間には、必要に応じて、ホール注入層、ホール輸送層またはホール注入兼輸送層が介挿されていてもよいし、陰極106と有機発光層105との間には、必要に応じて、電子注入層、電子輸送層または電子注入兼輸送層が介挿されていてもよい。
(2)上記実施の形態では、有機EL表示パネル10のCF12を例に挙げて説明したが、このCF12を無機EL表示パネルに適用してもよい。
(3)上記実施の形態では、第1領域114、第2領域115、及び第3領域116の各々を区画する隔壁として、BM112を例に挙げて説明したが、各領域を区画する隔壁として機能すればBM112に限らない。例えば、黒色顔料以外の色の顔料を含む紫外線硬化樹脂材料からなる隔壁であってもよい。
(4)上記実施の形態では、CF層113(R)における、画素間BM112上面に形成された部分は、間隔l1が間隔l2の0.5~1.5倍の範囲内に収まる程度にCF層113(B)側に延設すると説明したが、隣接するCF層113(B)に重ならないという条件を満たす限りにおいてCF層113(B)側に延設してもよい。
(5)上記実施の形態では、画素の端部に対応する領域にCF層113(B)とCF層113(R)とが形成されていたが、配置関係はこれに限定されず、例えば、画素の端部に対応する領域にCF層113(G)が形成されていてもよい。
(6)上記実施の形態では、例えば図4(b)に示すように、CF層113b(B)の一端である、CF層113c(B)側のBM112上面に形成された部分が、CF層113c(B)側に延設し、当該部分が、CF層113b(B)の他端である、CF層113a(B)側のBM112上面に形成された部分より長くなっているとしたが、これに限らず、間隔l3が上記所定の近似値の範囲内になっていれば次のような構成でもよい。例えば、BM112上面に形成された、隣接するCF層113の部分同士がそれぞれ、互いの方向に延設しているとしてもよい。
(7)上記各実施の形態では、表示装置1の外観を示さなかったが、例えば、図15に示すような外観を有するものとすることができる。
(8)上記図7(a)に比較用のCFに樹脂を滴下した際の樹脂の拡がり具合を示す模式図を示したが、図16は、実際に比較用のCFに樹脂を滴下した際の樹脂の拡がり具合を示す写真である。図16からも、樹脂が、CF層上ではなく、画素間BM上から拡がり始めることが確認できる。
(9)上記実施の形態及び上記各変形例をそれぞれ組み合わせるとしてもよい。
 本発明は、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種表示装置、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等に利用可能である。
1     表示装置
10    有機EL表示パネル
20    駆動制御部
21-24 駆動回路
25    制御回路
101   TFT基板
102   層間絶縁膜
103a  陽極
103b  補助電極
104   バンク
105   有機発光層
106   陰極
107   封止層
111   基板
112   ブラックマトリクス
113   CF層
121   樹脂封止層

Claims (15)

  1.  赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、
     前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、
     前記カラーフィルターのベースの前記EL基板側に形成され、前記第1発光部に対応する第1領域、前記第2発光部に対応する第2領域、及び前記第3発光部に対応する第3領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁と、
     前記第1領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第1領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層と、
     前記第2領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第2領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層と、
     前記第3領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第3領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層と、
     前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、
     隣接する第1画素と第2画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、
     共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、
     前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている
     EL表示パネル。
  2.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分と、
     前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第1画素側の隔壁の上面に形成された部分と、の間隔は、
     前記各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の上面に形成された、隣接するカラーフィルター層の部分同士の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内である
     請求項1記載のEL表示パネル。
  3.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第3画素側に延設されることにより、
     前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第3画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている
     請求項1ないし請求項2のいずれか1項に記載のEL表示パネル。
  4.  赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、
     前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、
     前記第1発光部に対応するベースの表面の領域である第1領域に形成され、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層と、
     前記第2発光部に対応するベースの表面であって、第1カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第2領域に形成され、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層と、
     前記第3発光部に対応するベースの表面であって、第2カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第3領域に形成され、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層と、
     前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、
     第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第1画素に隣接する第2画素側に延設されることにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域に形成された他のカラーフィルター層より幅広になっている
     EL表示パネル。
  5.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層と、
     前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層と、の間隔は、
     各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各々に形成された、隣接するカラーフィルター層の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内である
     請求項4に記載のEL表示パネル。
  6.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側に延設されている
     請求項4ないし請求項5のいずれか1項に記載のEL表示パネル。
  7.  請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のEL表示パネルを備えた
     EL表示装置。
  8.  前記第1発光部、前記第2発光部、及び前記第3発光部の各々は、有機発光部である
     請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載のEL表示パネル。
  9.  請求項8に記載のEL表示パネルを備えた
     有機EL表示装置。
  10.  赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第1工程と、
     カラーフィルターのベースを準備する第2工程と、
     前記ベース上であって、前記ベースの前記EL基板と対向させる側に、前記第1発光部に対応する第1領域、前記第2発光部に対応する第2領域、及び前記第3発光部に対応する第3領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁を形成する第3工程と、
     前記第1領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第1領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層を形成する第4工程と、
     前記第2領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第2領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層を形成する第5工程と、
     前記第3領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第3領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層を形成する第6工程と、
     前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板との間に樹脂材料を充填する第7工程とを含み、
     隣接する第1画素と第2画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、
     共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、
     前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第2画素側に延設されることにより、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている
     EL表示パネルの製造方法。
  11.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素側の隔壁の上面に形成された部分と、
     前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第1画素側の隔壁の上面に形成された部分と、の間隔は、
     前記各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の上面に形成された、隣接するカラーフィルター層の部分同士の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内である
     請求項10記載のEL表示パネルの製造方法。
  12.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第3画素側に延設されることにより、
     前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第3画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている
     請求項10ないし請求項11のいずれか1項に記載のEL表示パネルの製造方法。
  13.  赤色光を出力する第1発光部、緑色光を出力する第2発光部、及び青色光を出力する第3発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第1工程と、
     カラーフィルターのベースを準備する第2工程と、
     前記第1発光部に対応するベースの表面の領域である第1領域に、所望の赤色光を透過する第1カラーフィルター層を形成する第3工程と、
     前記第2発光部に対応するベースの表面であって、第1カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第2領域に、所望の緑色光を透過する第2カラーフィルター層を形成する第4工程と、
     前記第3発光部に対応するベースの表面であって、第2カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第3領域に、所望の青色光を透過する第3カラーフィルター層を形成する第5工程と、
     前記第1カラーフィルター層、前記第2カラーフィルター層、及び前記第3カラーフィルター層と、前記EL基板と、の間に樹脂材料を充填する第6工程とを含み、
     第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第1画素に隣接する第2画素側に延設されることにより、前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域に形成された他のカラーフィルター層より幅広になっている
     EL表示パネルの製造方法。
  14.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層と、
     前記第2画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の中で前記第1画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層と、の間隔は、
     各画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各々に形成された、隣接するカラーフィルター層の間隔と同一又は所定の近似値の範囲内である
     請求項13に記載のEL表示パネルの製造方法。
  15.  前記第1画素に対応する前記第1領域、前記第2領域、及び前記第3領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第2画素と交差する方向に隣接する第3画素側に延設されている
     請求項13ないし請求項14のいずれか1項に記載のEL表示パネルの製造方法。
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