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WO2011142295A1 - 分光反射率測定装置、及び分光反射率測定方法 - Google Patents

分光反射率測定装置、及び分光反射率測定方法 Download PDF

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WO2011142295A1
WO2011142295A1 PCT/JP2011/060575 JP2011060575W WO2011142295A1 WO 2011142295 A1 WO2011142295 A1 WO 2011142295A1 JP 2011060575 W JP2011060575 W JP 2011060575W WO 2011142295 A1 WO2011142295 A1 WO 2011142295A1
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spectral reflectance
measurement object
spectral
reflection calibration
reflection
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直哉 太田
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Gunma University NUC
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Gunma University NUC
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    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/47Scattering, i.e. diffuse reflection
    • G01N21/4738Diffuse reflection, e.g. also for testing fluids, fibrous materials
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
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    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02Details
    • G01J1/04Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0488Optical or mechanical part supplementary adjustable parts with spectral filtering

Definitions

  • the present invention relates to a spectral reflectance measuring apparatus and a spectral reflectance measuring method capable of measuring a spectral reflectance of a measurement target.
  • Spectral reflectance is a characteristic related to how much light the wavelength of an object reflects, and in a general spectroradiometer, the spectral energy distribution of light reflected from the object to be measured is Measured. Since the spectral energy distribution is the product of the spectral energy distribution of the light source irradiating the object and the spectral reflectance, the spectral reflectance is obtained by dividing the measured value by the spectral energy distribution. Therefore, the spectral energy distribution of the light source needs to be known, but if this is unknown, a standard white plate that can reflect all wavelengths equally is placed in place of the object and the same measurement is performed. The spectral energy distribution of the light source.
  • the measurement using the above spectroradiometer measures a spectral reflectance at a certain point composed of a very small area to be measured. For this reason, for example, when measuring the spectral reflectance at each part of a measurement object having a two-dimensional spread, such as a picture, the measurement must be repeated one by one, and labor and time are required. There is a problem that it takes.
  • a multispectral camera as a device that can measure the spectral reflectance at each point of the measurement target having a two-dimensional spread (see Patent Document 1).
  • a general multispectral camera is composed of a monochrome camera and a plurality of bandpass filters that transmit different wavelengths.
  • a bandpass filter is placed in front of a monochrome camera, and a measurement target is photographed through the bandpass filter.
  • a plurality of images are acquired while sequentially replacing a plurality of bandpass filters that pass different wavelengths, and the incident energy of the wavelength region that passes through each bandpass filter can be calculated from the pixel values of each image. Yes.
  • the spectral energy distribution at each point to be measured can be measured by acquiring a plurality of images taken through different bandpass filters.
  • this multispectral camera is a device that measures the energy distribution of incident light, when measuring the spectral reflectance of an object to be measured, the spectral energy distribution of the light source is similar to that of a spectroradiometer. Must be known.
  • the conventional spectroradiometer and multispectral camera described above are very expensive in equipment required for the apparatus.
  • a diffraction grating or a prism is used as a spectroscopic device, but these are generally expensive because they require precise processing.
  • a bandpass filter used in a multispectral camera must be formed with a plurality of coating layers whose thicknesses are accurately controlled, which is expensive to manufacture and each piece is expensive.
  • the spectral characteristics of conventional spectroradiometers and multispectral cameras include the characteristics of light receiving elements such as diffraction gratings, bandpass filters, and CCDs used in cameras, and the amplification factor of the electronic circuit that processes the output of the light receiving elements. It depends on. Since these characteristics are easily affected by the usage environment such as the ambient temperature, it is necessary to take measures against the usage environment and aging may occur.To maintain accuracy, periodic calibration is required. is there.
  • an object of the present invention is to measure the spectral reflectance of a measurement object regardless of the spectral energy distribution of the light source and the characteristics of the imaging device, and to reduce the cost.
  • a spectral reflectance measuring device of the present invention includes a reflection calibration plate, a plurality of optical filters, an imaging device, and an arithmetic processing device.
  • the reflection calibration plate has a plurality of reflection calibration sections having different spectral reflectances, and the spectral reflectance of each reflection calibration section is known.
  • the plurality of optical filters are configured to have different spectral transmission characteristics.
  • the imaging device captures a reflection calibration plate and a desired measurement object via each optical filter, generates a signal according to the amount of received light, and from the signal, the reflection calibration plate and An image of the measurement object is obtained.
  • the arithmetic processing device processes a plurality of images of the measurement object and the reflection calibration plate photographed through each optical filter, and derives the spectral reflectance of the measurement object by a predetermined calculation.
  • the spectral reflectance measuring apparatus of the present invention a plurality of images of the reflection calibration plate and the measurement object are acquired through each of a plurality of optical filters having different spectral transmission characteristics. Then, the spectral reflectance of the measurement object is derived by processing these images with an arithmetic processing unit. In the spectral reflectance measuring apparatus of the present invention, the spectral reflectance of the measurement object can be obtained if only the spectral reflectance of the reflection calibration unit constituting the reflection calibration plate is known.
  • the spectral reflectance measurement method of the present invention has a plurality of reflection calibration units having different spectral reflectances, and captures a reflection calibration plate having a known spectral reflectance of each reflection calibration unit and a desired measurement object. And a step of preparing a plurality of optical filters each having different spectral transmission characteristics. And it has the process of image
  • the spectral reflectance measurement method of the present invention since the spectral reflectance of the measurement object can be obtained from the pixel values of the image of the measurement object and the reflection calibration unit, only the spectral reflectance of the reflection calibration unit needs to be known. . For this reason, it is not necessary to know other optical filters, the sensitivity characteristics of the imaging device, and the like, and there is no need for calibration.
  • the spectral reflectance of the measurement object can be measured regardless of the characteristics of the imaging device and the optical filter. Further, according to the spectral reflectance measuring apparatus of the present invention, the configuration is simple and an expensive member is not required, so that the cost can be reduced.
  • FIG. 5 is a diagram showing spectral reflectances (illustrated by r 1 ( ⁇ ) to r m ( ⁇ )) of a reflection calibration unit formed on a reflection calibration plate of a spectral reflectance measurement apparatus according to an embodiment of the present invention. is there.
  • a to D are measurement results of the spectral reflectances of the four types of measurement units 1 to 4 of the measurement object measured by the spectral reflectance measurement apparatus according to the embodiment of the present invention. It is a figure which shows the base (6 bases) which extends ideal measurement spectrum space.
  • FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of a spectral reflectance measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the spectral reflectance measuring apparatus 1 includes a light source 2, a reflection calibration plate 4, an imaging device 6 that photographs a desired measurement object 3 and the reflection calibration plate 4,
  • the optical filter 5 arrange
  • Light source 2 is for irradiating a desired and the measured object 3, light l 1 in the reflective calibration plate 4.
  • the light source 2 that can be used in the present embodiment is not particularly limited, and ambient light may be used. For this reason, the light source 2 may be a component of the spectral reflectance measuring apparatus 1 as in the present embodiment, but may not be. If the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 are kept bright enough to be photographed by the imaging device 6 at the time of measurement, the spectral reflectance measurement method of the present embodiment can be implemented. Further, the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 need to be arranged under the same illumination condition. That is, the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 are irradiated with the light 11 having the same energy.
  • the reflection calibration plate 4 includes a plurality of reflection calibration units 4a having different spectral reflectances.
  • the reflection calibration plate 4 that can be used in this embodiment is a spectral reflection unit of each reflection calibration unit 4a. Limited to those with known rates.
  • the plurality of reflection calibration units 4a represent the spectral reflectance in each part of the measurement object 3 by linear combination of the spectral reflectances in each reflection calibration unit 4a for the arithmetic processing described later. Has been determined to be.
  • the imaging device 6 photographs the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 and is arranged so that the light l r reflected from the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 is incident thereon.
  • the imaging device 6 includes a CCD type or CMOS type image sensor, an optical lens that guides incident light to the image sensor, and a signal processing circuit that processes an output signal of the image sensor.
  • signal charges corresponding to the amount of light incident on the image sensor are generated. Then, the signal charge obtained by the photoelectric conversion is processed by the signal processing circuit, and an image is obtained.
  • a general CCD type digital single-lens reflex camera is used as the imaging device 6, and gamma correction is not performed in order to simplify the principle of a spectral reflectance measurement method described later. A black and white image shall be obtained.
  • the optical filter 5 is disposed on the light incident side of the imaging device 6, that is, on the front surface of an optical lens configured in a general imaging device. As a result, the light l r reflected by the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 enters the imaging device 6 via the optical filter 5.
  • a plurality of optical filters 5 each having a different spectral transmission characteristic are prepared, and each optical filter 5 is replaced for each photographing.
  • the optical filter 5 used in the present embodiment does not need to be an expensive bandpass filter used in a conventional multispectral camera or the like, but uses an inexpensive color filter made of a film having a predetermined transmittance. be able to. That is, the plurality of optical filters 5 that can be used in the present embodiment only need to have different spectral transmission characteristics, and are excellent in monochromaticity designed to transmit only a specific wavelength range. It is not limited to.
  • the optical filter 5 of the present embodiment may be a film that can transmit light within the wavelength range to be measured. In this embodiment, a desired optical filter 5 was manufactured using a color filter manufactured by Edmund Optics. Further, the light transmission characteristics of each optical filter 5 do not need to be particularly known.
  • the arithmetic processing unit 7 is composed of, for example, a general computer, processes the images of the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 photographed by the imaging device 6, and performs spectral analysis at each part of the measurement object 3 by a predetermined calculation. The reflectance is derived. A method for deriving the spectral reflectance in the arithmetic processing unit 7 will be described later.
  • the spectral reflectance measuring apparatus 1 of the present embodiment has a simple configuration and does not require any particularly expensive equipment, and can be manufactured at low cost. For this reason, a significant cost reduction can be achieved as compared with conventional spectroradiometers and multispectral cameras.
  • Spectral reflectance measurement method A spectral reflectance measuring method using the spectral reflectance measuring apparatus 1 of this embodiment will be described.
  • the spectral reflectance measurement method of this embodiment first, the measurement object 3 is irradiated with light l 1 from the light source 2, installing the imaging device 6 so that it can photograph the measuring object 3 with the reflective calibration Version 4 . Then, the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 are photographed through the optical filter 5 to obtain images of the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4.
  • the reflection calibration plate 4 and the measurement object 3 may be photographed simultaneously or separately.
  • the same light source 2 is used and photographing is performed with the same illuminance. That is, in this embodiment, if the reflection calibration plate 4 and the measurement object 3 can be photographed with the same brightness, the reflection calibration plate 4 and the measurement object 3 may be copied in one image. The reflection calibration plate 4 and the measurement object 3 may be copied on separate images.
  • This photographing is repeated while replacing the optical filter 5 to acquire the same number of images as the number of the optical filters 5.
  • the obtained image may include an image taken without attaching the optical filter 5.
  • a plurality of images obtained while replacing the optical filter 5 are input to the arithmetic processing unit 7 and a calculation described later can be performed to obtain the spectral reflectance at each part of the measurement object 3.
  • FIG. 2 is a diagram showing a portion (hereinafter referred to as a measurement unit) 3a (illustrated by spectral reflectance R ( ⁇ )) to be measured of the measurement object 3 measured in the present embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram showing a reflection calibration section 4a (shown by spectral reflectances r 1 ( ⁇ ) to r m ( ⁇ )) formed on the reflection calibration plate 4.
  • the spectral reflectance R ( ⁇ ) of the measuring unit 3a of the measuring object 3 is measured as a linear combination of the spectral reflectances r 1 ( ⁇ ) to r m ( ⁇ ) of each reflection calibrating unit 4a.
  • the spectral reflectance in the measurement unit 3a of the measurement object 3 is R ( ⁇ )
  • the spectral energy distribution of the light source 2 is I ( ⁇ )
  • the spectral sensitivity characteristic of the imaging device 6 including the optical filter 5 is f ( ⁇ ).
  • the pixel value B of the pixel corresponding to the measurement unit 3a in the image obtained by photographing the measurement object 3 is expressed by the following [Equation 1].
  • the “pixel value” is a value representing the brightness (light energy) of each pixel of the image obtained by the imaging device 6, and is a value proportional to the signal charge amount obtained by the image sensor of the imaging device 6. It is.
  • is the wavelength of light.
  • the imaging device 6 used in this embodiment is set so that gamma in gamma correction is 1, that is, the pixel value is proportional to the intensity of light incident on the image sensor of the imaging device 6. Then, the product of I ( ⁇ ) and f ( ⁇ ) is replaced by the following [Equation 2].
  • Taking an image by exchanging the plurality of optical filters 5 described in the above spectral reflectance measurement method generates pixel values B with different C ( ⁇ ) in [Equation 3].
  • n is the number of acquired images.
  • the purpose of this embodiment is to finally derive the spectral reflectance R ( ⁇ ) in the measurement unit 3a of the measurement object 3 from the pixel value B i acquired while replacing the optical filter 5.
  • the reflection calibration plate 4 is a plate in which a plurality of reflection calibration units 4a having different spectral reflectances are partitioned and arranged, and the spectral reflectance of the reflection calibration unit 4a in the partition j is expressed as r.
  • m is the number of reflection calibration units 4 a provided on the reflection calibration plate 4.
  • these spectral reflectances r j ( ⁇ ) are known.
  • the spectral reflectance R ( ⁇ ) of the measurement unit 3a of the measurement object 3 to be obtained can be expressed by a linear combination of the spectral reflectances r j ( ⁇ ) of the reflection calibration unit, as shown in the following [Equation 4]. Assume that
  • b ij is the following [ Equation 6].
  • b ij is a pixel value in the image i of the reflection calibration unit 4a in the section j of the reflection calibration plate 4 photographed simultaneously with the measurement object 3.
  • Equation 5 can be expressed by the following [Equation 8] using [Equation 7].
  • U is n ⁇ min (m, n)
  • V is an orthogonal matrix of m ⁇ min (m, n)
  • is a diagonal matrix of min (m, n) ⁇ min (m, n). is there.
  • the general inverse M ⁇ is calculated by the following [Equation 11] using these matrices.
  • Equation 11 lambda - is the diagonal matrix nonzero diagonal elements of lambda (specific values) and its inverse. However, in actual calculation, in consideration of the presence of an error, a value close to 0 is processed as 0.
  • x ( ⁇ 1 ⁇ 2 ... ⁇ m ) T is calculated from [Equation 9] by the general inverse M ⁇ of M, and then ⁇ j which is each element of x is expressed by [Equation 4].
  • the target spectral reflectance R ( ⁇ ) is derived by calculating as ⁇ j .
  • the pixel value B is obtained from the image of the measurement object 3, and the pixel value b is obtained from the image of each reflection calibration unit 4a of the reflection calibration plate 4. Then, a linear combination coefficient ⁇ is obtained from these pixel values B and b, and this is substituted into [Equation 4]. Thereby, the spectral reflectance R ( ⁇ ) in the measurement unit 3a of the measurement object 3 is obtained. Therefore, in the present embodiment, the spectral energy distribution I ( ⁇ ) of the light from the light source 2 and the spectral sensitivity characteristic f ( ⁇ ) of the imaging device 6 including the optical filter 5 are measured by the measuring unit 3a of the measuring object 3.
  • 4A to 4D are measurement results of the spectral reflectance when measured using the spectral reflectance measuring apparatus 1 of the present embodiment and the spectral radiometer of the comparative example, and the horizontal axis indicates the wavelength (nm). The vertical axis represents the spectral reflectance.
  • SR-3A trade name
  • Topcon Corporation was used as the spectroradiometer of the comparative example. In this measurement, the spectral reflectance is measured at four locations (measurement units 1 to 4) of the measurement target whose spectral reflectance is unknown by the spectral reflectance measuring apparatus 1 of the present embodiment and the spectral radiometer of the comparative example. Asked.
  • the spectral reflectance measured by the spectral reflectance measuring apparatus 1 of the present embodiment shows almost the same value as the conventional spectral radiometer. That is, it was found that the spectral reflectance measurement apparatus 1 of the present embodiment can measure the spectral reflectance with almost the same accuracy as a conventional spectral radiometer with high measurement accuracy.
  • the light that irradiates the measurement object 3 and the reflection calibration plate 4 may be ambient light, and it is not necessary to prepare the light source 2 specially. When the light source 2 is used, a general halogen lamp or the like may be used, and the spectral energy distribution or the like need not be measured in advance.
  • the spectral reflectance measuring apparatus 1 of the present embodiment can be formed with a simple configuration.
  • the spectral reflectance measuring apparatus 1 of the present embodiment even when measuring the spectral reflectance R ( ⁇ ) in each part of the measurement object 3 having a two-dimensional spread, the entire image is acquired once. Then, the pixel value of each part of the measuring object 3 can be taken out in the image processing step. Therefore, the spectral reflectance R ( ⁇ ) at each part can be obtained from the pixel value of each part of the measurement object 3 and the pixel value of the reflection calibration plate 4 in one measurement. For this reason, it is not necessary to measure point by point, and labor and time are not required.
  • the procedure for measuring the spectral reflectance R ( ⁇ ) of the measurement object 3 is as described above, but in designing the spectral reflectance measuring apparatus 1 of the present embodiment example, the reflection is performed.
  • a set S r of the spectral reflectance of the available reflective calibration unit 4a, from the set S f sensitivity characteristic of the image pickup device 6 can be realized by the filter, so that choosing a set actually used .
  • the preferred selection method will be described below.
  • c in [Equation 12] is a constant that balances the two criteria, and is set to an appropriate value according to the situation.
  • F ji and G kj are expressed by the following [ Equation 14].
  • E rk is obtained by integrating the square of the difference between the actual basis e k ( ⁇ ) and the synthesized characteristic with the wavelength, E rk is expressed by the following [ Equation 15].
  • FIG. 5 shows an example of a base that divides the measurement range into six, but the space is not limited to six. Further, the space may not be based on the base so as to have sensitivity at regular intervals with respect to the wavelength.
  • the matrix M and the vector y of [Equation 7] can be calculated by [Equation 1] and [Equation 3], which are denoted as M ⁇ and y ⁇ , respectively. From these, the spectral reflectance R ( ⁇ ) calculated by [Equation 9] and [Equation 4] is R ⁇ ( ⁇ ). Next, random numbers are added to each component of M ⁇ and y ⁇ assuming measurement noise. The random numbers to be added here are proper random numbers having an average of 0 and a fraction of 1.
  • SYMBOLS 1 Spectral reflectance measuring device, 2 ... Light source, 3 ... Measurement object, 3a ... Measurement part, 4 ... Reflection calibration plate, 4a ... Reflection calibration part, ... ⁇ Optical filter, 6... Imaging device, 7.

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Abstract

 反射校正版4と、異なる波長の光を透過する複数の光学フィルタ5と、撮像装置6と、演算処理装置7とを備えた分光反射率測定装置1において、光学フィルタ5を替えながら、測定対象物3と反射校正版4の画像を複数枚取得する。反射校正版4には、異なる分光反射率を有する複数の反射校正部4aが形成されており、各反射校正部4aの分光反射率が既知とされている。演算処理装置7において、各々の光学フィルタ5を介して撮影された測定対象物3と反射校正版4の複数枚の画像を処理し、所定の演算により測定対象物3の分光反射率を導出する。

Description

分光反射率測定装置、及び分光反射率測定方法
 本発明は、測定対象の分光反射率を測定することのできる分光反射率測定装置、及び分光反射率測定方法に関するものである。
 従来、測定対象の分光反射率を計測するために、入射する光の、それぞれの波長に関する強度(エネルギー)を測定することのできる分光放射計が用いられている。分光反射率とは、物体の表面がどのような波長の光をどの程度反射するかに関する特性であり、一般的な分光放射計では、測定対象の物体から反射されてくる光の分光エネルギー分布が測定される。分光エネルギー分布は、物体を照射している光源の分光エネルギー布分と分光反射率の積であるから、分光反射率は、測定値を分光エネルギー分布で割って求める。そのため、光源の分光エネルギー分布が既知である必要があるが、これが未知の場合には、物体の代わりに、全ての波長を均等に反射することのできる標準白色版を置いて同様の測定を行い、光源の分光エネルギー分布とする。
 以上の分光放射計を用いた測定は、測定対象の微少面積で構成される、ある一点の分光反射率を計測するものである。このため、例えば絵画等の二次元的な広がりを持った測定対象の各部分で分光反射率を測定するような場合には、一点一点、計測を繰り返さなければならず、手間と時間がかかるという問題がある。
 これに対し、二次元的な広がりを有する測定対象の各点における分光反射率を一度に測定できる機器として、マルチスペクトルカメラがある(特許文献1参照)。一般的なマルチスペクトルカメラは、モノクロカメラと、異なる波長を透過させる複数のバンドパスフィルタとで構成される。マルチスペクトルカメラでは、バンドパスフィルタをモノクロカメラの前に配置し、測定対象を、バンドパスフィルタを介して撮影する。そして、異なる波長を通過させる複数のバンドパスフィルタを次々と取り替えながら複数の画像を取得し、各画像の画素値から各バンドパスフィルタを通過する波長領域の入射エネルギーを計算できるように構成されている。このマルチスペクトルカメラを用いれば、異なるバンドパスフィルタを介して撮影された複数の画像を取得することにより、測定対象の各点での分光エネルギー布分が測定できる。
 しかしながら、このマルチスペクトルカメラは、入射する光のエネルギー布分を測定する装置であるため、測定対象物の分光反射率を測定する場合には、分光放射計と同様に、光源の分光エネルギー分布が既知である必要がある。
 また、上述した従来の分光放射計やマルチスペクトルカメラは、その装置に必要な機器が大変高価である。例えば、分光放射計では、分光装置として、回折格子かプリズムが用いられるが、これらには精密な加工が要求されるため一般的に高価になる。また、マルチスペクトルカメラに用いられるバンドパスフィルタも、その厚みを正確にコントロールされた複数のコーティング層を形成しなければならず、作製にコストがかかり、一枚一枚が高価となる。
 そして、従来の分光放射計やマルチスペクトルカメラの分光特性は、回折格子やバンドパスフィルタ、カメラに用いられるCCD等の受光素子の特性、さらには、受光素子の出力を処理する電子回路の増幅率などに依存している。これらの特性は、周囲の温度など、使用環境に影響されやすいので、使用環境に対する対策をする必要があるほか、経年変化も生じるので、精度を維持するためには、定期的な校正が必要である。
特開2002-185974号公報
 上述の点に鑑み、本発明の目的は、光源の分光エネルギー分布や、撮像装置の特性によらず測定対象物の分光反射率を測定することができ、かつ、コストの低減が図られた分光反射率測定装置、及び分光反射率測定方法を提供することにある。
 上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の分光反射率測定装置は、反射校正版と、複数の光学フィルタと、撮像装置と、演算処理装置とを備える。
 反射校正版は、異なる分光反射率を有する複数の反射校正部を有し、各反射校正部の分光反射率が既知とされている。複数の光学フィルタは、各々異なる分光透過特性を有するように構成されている。撮像装置は、反射校正版と所望の測定対象物とを、各々の光学フィルタを介して撮影するものであり、受光した光の光量に応じた信号を生成し、その信号から、反射校正版と測定対象物の画像を得る。演算処理装置は、各々の光学フィルタを介して撮影された測定対象物と反射校正版の複数枚の画像を処理し、所定の演算により測定対象物の分光反射率を導出する。
 本発明の分光反射率測定装置では、異なる分光透過特性を有する複数の光学フィルタの各々を介して、反射校正版と測定対象物の画像を複数枚取得する。そして、これらの画像を演算処理装置で処理することにより、測定対象物の分光反射率が導出される。本発明の分光反射率測定装置では、反射校正版を構成する反射校正部の分光反射率のみが既知であれば、測定対象物の分光反射率を求めることができる。
 本発明の分光反射率測定方法は、異なる分光反射率を有する複数の反射校正部を有し、各反射校正部の分光反射率が既知である反射校正版と、所望の測定対象物とを撮影する撮像装置と、各々異なる分光透過特性を持つ複数の光学フィルタとを準備する工程を有する。そして、撮像装置により、同一照明条件下で測定対象物と反射校正版とを各々の光学フィルタを介して撮影し、測定対象物と反射校正部の画像を複数枚取得する工程を有する。さらに、演算処理装置により、撮像装置で取得した測定対象物と反射校正部の画像の画素値から、測定対象物における分光反射率を導出する工程を有する。
 本発明の分光反射率測定方法では、測定対象物と反射校正部の画像の画素値から測定対象物における分光反射率を求めることができるため、反射校正部の分光反射率のみ既知であればよい。このため、他の光学フィルタや、撮像装置の感度特性などについては既知である必要はなく、また校正の必要もない。
 本発明によれば、撮像装置や光学フィルタの特性によらず、測定対象物の分光反射率を測定することができる。また、本発明の分光反射率測定装置によれば、構成が簡素であり、高価な部材を必要としないため、コストの低減が図られる。
本発明の一実施形態に係る分光反射率測定装置の概略構成図である。 本発明の一実施形態に係る分光反射率測定装置で測定する測定対象物の測定部3a(分光反射率R(λ)で図示)を示した図である。 本発明の一実施形態に係る分光反射率測定装置の反射校正版に形成された反射校正部のそれぞれの分光反射率(r(λ)~r(λ)で図示)を示した図である。 A~D 本発明の一実施形態例に係る分光反射率測定装置で測定した測定対象物の4種類の測定部1~4の分光反射率の測定結果である。 理想的な計測スペクトル空間を張る基底(6基底)を示す図である。
 以下、本発明の実施形態に係る分光反射率測定装置、及び分光反射率測定方法の一例を、図1~図5を参照しながら説明する。なお、本発明は以下の例に限定されるものではない。
 [1.分光反射率測定装置]
 図1に、本発明の一実施形態に係る分光反射率測定装置の概略構成図を示す。図1に示すように、本実施形態例の分光反射率測定装置1は、光源2と、反射校正版4と、所望の測定対象物3と反射校正版4とを撮影する撮像装置6と、撮像装置6の光入射側に配置される光学フィルタ5と、所定の演算を行う演算処理装置7とを備える。
 光源2は、所望の測定対象物3と、反射校正版4とに光lを照射するものである。本実施形態例において用いることのできる光源2は特に限定されず、環境光を用いてもよい。このため、本実施形態例のように、光源2を分光反射率測定装置1の一構成要素としてもよいが、しなくてもよい。測定時において、測定対象物3と反射校正版4とが撮像装置6で撮影できる程度の明るさに保たれれば、本実施形態例の分光反射率測定方法を実施することができる。また、測定対象物3と反射校正版4とは同一照明条件下に配置される必要がある。すなわち、測定対象物3と反射校正版4には、同じエネルギーの光lが照射される。
 反射校正版4は、異なる分光反射率を有する複数の反射校正部4aを有して構成されており、本実施形態例で用いることのできる反射校正版4は、各反射校正部4aの分光反射率が既知であるものに限られる。また、反射校正版4では、後述する演算処理のため、複数の反射校正部4aは、測定対象物3の各部分における分光反射率が、各反射校正部4aにおける分光反射率の線形結合で表されるように決定されている。
 撮像装置6は、測定対象物3及び反射校正版4を撮影するものであり、測定対象物3及び反射校正版4から反射された光lが入射されるように配置される。撮像装置6は、図示を省略するが、CCD型又はCMOS型のイメージセンサと、イメージセンサに入射光を導く光学レンズと、イメージセンサの出力信号を処理する信号処理回路とを備えている。撮像装置6では、イメージセンサに入射した光の光量に応じた信号電荷が生成される。そして、光電変換により得られた信号電荷が信号処理回路に処理され、画像が得られる。
 本実施形態例では、撮像装置6として、一般的なCCD型のデジタル一眼レフカメラを用い、また、後に説明する分光反射率測定方法の原理を単純にするために、ガンマ補正が成されていない白黒画像を得るものとする。
 光学フィルタ5は、撮像装置6の光入射側、すなわち、一般的な撮像装置に構成された光学レンズの前面に配置される。これにより、測定対象物3、及び反射校正版4に反射された光lは、光学フィルタ5を介して撮像装置6に入射する。また、本実施形態例では、各々分光透過特性が異なる光学フィルタ5が複数枚準備されており、各々の光学フィルタ5は、撮影毎に取り替えられる。
 本実施形態例で用いられる光学フィルタ5としては、従来のマルチスペクトルカメラ等に用いられる高価なバンドパスフィルタである必要はなく、所定の透過率を有するフィルムで構成された安価なカラーフィルタを用いることができる。すなわち、本実施形態例で用いることができる複数の光学フィルタ5は、各々異なる分光透過特性を有するものであればよく、特定の波長範囲のみを透過するように設計された単色性に優れたフィルタに限られるものではない。また、本実施形態例の光学フィルタ5としては、測定したい波長範囲内の光を透過できるフィルムであればよい。
 本実施形態例では、エドモンド・オプティクス社製のカラーフィルタを用いて、所望の光学フィルタ5を作製した。また、各々の光学フィルタ5の光透過特性は、特に既知である必要はない。
 演算処理装置7は、例えば一般的なコンピュータで構成され、撮像装置6で撮影した測定対象物3と反射校正版4の画像を処理し、所定の演算により、測定対象物3の各部分における分光反射率を導出する。演算処理装置7における分光反射率の導出方法については、後述する。
 以上のように、本実施形態例の分光反射率測定装置1は、構成が簡単であり、格別に高価な機材を必要としないため、安価に製作することができる。このため、従来の分光放射計やマルチスペクトラムカメラに比べて大幅なコスト低減を図ることができる。
 [2.分光反射率測定方法]
 本実施形態例の分光反射率測定装置1を用いた分光反射率測定方法について説明する。本実施形態例の分光反射率測定方法では、まず、測定対象物3を光源2からの光lで照射し、反射校正版4と共に測定対象物3を撮影できるように撮像装置6を設置する。
 そして、光学フィルタ5を介して、測定対象物3と反射校正版4とを撮影し、測定対象物3及び反射校正版4の画像を取得する。
 ここで、反射校正版4と測定対象物3の撮影は同時に行ってもよく、また別々に行ってもよい。反射校正版4と測定対象物3とを別々に撮影する場合には、同じ光源2を用いて、同じ照度でそれぞれ撮影を行う。すなわち、本実施形態例では、同じ明るさで反射校正版4と測定対象物3の撮影ができれば、1枚の画像の中に反射校正版4と測定対象物3とを写してもよく、また、別々の画像に、それぞれ反射校正版4と測定対象物3とを写してもよい。
 この撮影を、光学フィルタ5を取り替えながら繰り返し、光学フィルタ5の数と同数の画像を取得する。なお、得られる画像には、光学フィルタ5を装着しないで撮影した画像を含めてもよい。
 このようにして、光学フィルタ5を取り替えながら得られた複数の画像を演算処理装置7に入力し、後述する演算を行うことによって測定対象物3の各部分における分光反射率を得ることができる。
 [3.分光反射率の導出方法]
 以下、演算処理装置7でなされる演算処理について説明し、測定対象物3の分光反射率の導出方法を説明する。図2は、本実施形態例で測定する測定対象物3の測定したい部分(以下、測定部)3a(分光反射率R(λ)で図示)を示した図である。また、図3は、反射校正版4に形成された反射校正部4a(分光反射率r(λ)~r(λ)で図示)を示した図である。本実施形態例では、各反射校正部4aの分光反射率r(λ)~r(λ)の線形結合として、測定対象物3の測定部3aの分光反射率R(λ)が測定される。
 まず、測定対象物3の測定部3aにおける分光反射率をR(λ)、光源2の分光エネルギー分布をI(λ)、光学フィルタ5を含めた撮像装置6の分光感度特性をf(λ)とすると、測定対象物3が撮影された画像の、測定部3aに対応する画素の画素値Bは次の〔数1〕で表される。ここで、「画素値」とは、撮像装置6で得られた画像の各画素の明るさ(光エネルギー)を表す値であり、撮像装置6のイメージセンサで得た信号電荷量に比例する値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 ここで、λは、光の波長である。また、本実施形態例で用いられた撮像装置6は、ガンマ補正におけるガンマが1、すなわち、画素値が撮像装置6のイメージセンサに入射する光の強さに比例するように設定する。そして、I(λ)とf(λ)の積を以下の〔数2〕で置き換える。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 そうすると、〔数1〕は、以下の〔数3〕となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 前述の分光反射率測定方法で述べた、複数の光学フィルタ5を交換して画像を撮影することは、〔数3〕において、異なるC(λ)で画素値Bを生成していることとなる。異なるC(λ)で生成された画素値Bを、添字iを用いて区別することにし、それぞれを、C(λ)、及びB(i=1、2、3、・・・・、n)と表す。ここで、nは、取得した画像の枚数である。
 本実施形態例の目的は、光学フィルタ5を取り替えながら取得した画素値Bから最終的に測定対象物3の測定部3aにおける分光反射率R(λ)を導出することである。
 反射校正版4は、図3に示すように、複数の分光反射率の異なった反射校正部4aが区画されて並んだ版であるが、区画jにある反射校正部4aの分光反射率をr(λ)(j=1、2、・・・、m)とする。ここで、mは、反射校正版4に設けられた反射校正部4aの数である。また、前述したように、これらの分光反射率r(λ)は既知である。さらに、求めるべき測定対象物3の測定部3aの分光反射率R(λ)は、以下の〔数4〕で示すように、反射校正部の分光反射率r(λ)の線形結合で表せると仮定する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 ここで、αは、線形結合の係数である。〔数4〕のように線形結合で表せるとした仮定は、反射校正版4に形成する反射校正部4aの数を多くし、その分光反射率r(λ)(j=1、2、・・・、m)のバリエーションを適切に選ぶことで十分に満たされる。〔数3〕と〔数4〕を用いてBを計算すると、以下の〔数5〕が求められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 ただし、bijは以下の〔数6〕とする。bijは、測定対象物3と同時に撮影した反射校正版4の区画jにある反射校正部4aの画像iにおける画素値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
 この画素値bijと測定対象物3の測定部3aの画素値Bから〔数4〕の係数αを求めることにより、最終的に、測定対象物3の測定部3aの分光反射率R(λ)を導出することができる。したがって、〔数5〕によりαを求める方法を説明する。
 まず、ベクトルx、y、及び行列Mを以下の〔数7〕と定義する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
 〔数5〕は、〔数7〕を用いて、以下の〔数8〕で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
 行列Mは、一般には正方行列ではなく、さらに、フルランク(rank(M)=min(m,n))とも限らない。そこで、下記の〔数9〕のように、Mの一般逆Mにより係数の解x=(αα・・・α(肩のTは転置を表す)を求める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
 Mの一般逆Mの計算法は下記の〔数10〕に示す通りである。まず、Mを以下のように特異値分解する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000010
 ここで、Uは、n×min(m,n)、Vはm×min(m,n)の直交行列、Λは、min(m,n)×min(m,n)の対角行列である。一般逆Mはこれらの行列を用いて以下の〔数11〕により計算される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
 〔数11〕のΛは、Λの0以外の対角成分(特異値)をその逆数とした対角行列である。ただし、実際の計算では、誤差の存在を考慮し、0に近い値は、0として処理する。
 そして、Mの一般逆Mにより、〔数9〕からx=(αα・・・αを計算し、次に、xの各要素であるαを、〔数4〕のαとして計算することにより、目的の分光反射率R(λ)が導出される。
 すなわち、上述の演算方法では、測定対象物3の画像から画素値Bを求め、反射校正版4の各反射校正部4aの画像から画素値bを求める。そして、これらの画素値B及びbから線形結合の係数αを求め、これを、〔数4〕に代入する。これにより、測定対象物3の測定部3aにおける分光反射率R(λ)が求まる。したがって、本実施形態例では、光源2からの光の分光エネルギー分布I(λ)や、光学フィルタ5を含めた撮像装置6の分光感度特性f(λ)は、測定対象物3の測定部3aにおける分光反射率R(λ)を求める演算には寄与しない。このため、本実施形態例では、光源2から出射される光のエネルギー分布を測定する必要もなく、光学フィルタ5や、撮像装置6の感度特性の校正も必要ない。
 [測定結果]
 次に、本実施形態例の分光反射率測定装置1で、実際に所望の測定対象物を測定したときの測定結果を示す。この測定では、分光反射率測定装置1の撮像装置6として、キヤノン社製のEOS Kiss digital X2(商品名)を用い、RAW画像モノクロモードで撮影し、16ビットリニアのTIFFフォーマットで保存した。また、光学フィルタ5としては、エドモンド・オプティクス社製のフィルターカラーブックNT39-417(商品名)から、♯10、♯16、♯19、♯23、♯41、♯55、♯57、♯64、♯66、♯73、♯86、♯88、♯92、♯93、♯96、♯313、♯346、♯386、♯392の19枚の光学フィルタを用いた。測定では、光学フィルタ5を用いて撮影した19枚の画像と、光学フィルタ5を用いずに撮影した1枚の画像の計20枚の画像を用いた。また、反射校正版4の反射校正部4aとしては、デジタルカラーチェッカーSG(商品名)の2E~2J、3E~3J、4E~4J及び5Eの19の区画を用いた。
 図4A~図4Dは、本実施形態例の分光反射率測定装置1と、比較例の分光放射計を用いて測定したときの分光反射率の測定結果であり、横軸が波長(nm)で、縦軸が分光反射率である。比較例の分光放射計としては、トプコン社製のSR-3A(商品名)を用いた。この測定では、分光反射率が未知の測定対象物の4つの個所(測定部1~4)について、本実施形態例の分光反射率測定装置1と、比較例の分光放射計とにより分光反射率を求めた。
 図4A~図4Dの測定結果からわかるように、本実施形態例の分光反射率測定装置1で計測された分光反射率は、従来の分光放射計とほぼ同じ値を示している。すなわち、本実施形態例の分光反射率測定装置1でも、測定精度の高い従来の分光放射計とほぼ同じ精度で分光反射率が測定できることがわかった。
 上述したように、本実施形態例の分光反射率測定装置1では、反射校正版4の各反射校正部4aのそれぞれの分光反射率r(λ)(j=1、2、・・・、m)が計測の基準となるため、その他の光学フィルタ5や、撮像装置6の感度(イメージセンサそのものの感度)などには直接影響されない。このため、光学フィルタ5、撮像装置6などについては校正する必要がなく、既存のものをそのまま利用することができる。また、上述したように、測定対象物3及び反射校正版4を照射する光は環境光でもよく、光源2を特別に準備する必要もない。光源2を用いる場合は、一般的なハロゲンランプなどでよく、分光エネルギー布分なども予め計測する必要もない。このように、本実施形態例の分光反射率測定装置1は、簡素な構成で形成することができる。
 そして、本実施形態例の分光反射率測定装置1では、2次元的な広がりを持った測定対象物3の各部分における分光反射率R(λ)を測定する場合でも、一度全体の画像を取得すれば、画像処理の工程で測定対象物3の各部分の画素値を取り出すことができる。このため、一度の測定で、測定対象物3の各部分の画素値と、反射校正版4の画素値とから、各部分での分光反射率R(λ)を求めることができる。このため、一点一点計測する必要がなく、手間や時間がかからない。
 ところで、本実施形態例において、測定対象物3の分光反射率R(λ)を計測する手順は上述した通りであるが、本実施形態例の分光反射率測定装置1を設計するに当たっては、反射校正版4の各反射校正部4aの分光反射率r(λ)、及び撮像装置6の分光感度特性f(λ)をどのように設計するかに自由度がある。一般的な状況では、使用可能な反射校正部4aの分光反射率の集合Sと、フィルタによって実現可能な撮像装置6の感度特性の集合Sから、実際に使用するセットを選ぶことになる。以下にその好ましい選択方法について説明する。
 まずここでは、二つの視点から測定の好ましさを評価する。一つの視点は、r(λ)の線形結合で表現可能な分光反射率の空間が、どの程度一般的であるかという視点である。もう一つの視点は、測定された結果にどの程度の雑音(誤差)が含まれるかという点である。これら二つの視点について、理想からどの程度隔たりが有るかを表す指標E及びEを設定し、以下の式に示す両者の重み付きの和Eがもっとも小さくなるようにr(λ)及びf(λ)を選ぶ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
 ここで、〔数12〕のcは、二つの基準のバランスを取る定数であり、状況に応じて適当な値に設定する。
 計測できる分光反射率の空間に関する指標Eは次のように設定できる。一般に計測できる分光反射率の好ましい空間は、図5に示すように、波長に関して一定間隔で感度を持つような基底で張られる空間であると考えられる。そこで、実際にr(λ)で張られる空間の好ましい空間からの隔たりをEとする。具体的には以下のように計算する。まず、図5に示した各関数(理想の基底)をe(λ)(k=1、2、・・・・・、l)とし、これを最適に表現するr(λ)の線形結合の係数をγkjとする。この係数γkjは次の〔数13〕で解くことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000013
 ただし、Fji、Gkjは以下の〔数14〕で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
 そして、実際の基底e(λ)と合成された特性の差の二乗を波長で積分したものをErkとすると、Erkは、以下の〔数15〕で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000015
 このErkは基底e(λ)に対する再現度であるので、各基底ごとに計算される。したがって、〔数12〕内の指標にするためには、それらの和を取るか、最大値を採用するかが好ましい。ここで、最大値を取るとすれば、〔数12〕のEは次の〔数16〕で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000016
 なお、ここでは理想的な分光反射率の空間の例として、図5には、計測範囲を6つに分割する基底の例を示したが、6つに限定されるものではない。さらに、波長に関して一定間隔で感度を持つように基底による空間でなくてもよい。
 なお、この雑音の量は光源の分光分布I(λ)、及び計測対象の分光反射率R(λ)によって変化する。そこで、これらは、実際の測定状況で平均的と思われるもので代表させる。また、それを仮定することが困難な場合には、一定値の関数(I(λ)=1及びR(λ)=1)としてもよい。
 これらの関数が定まれば、〔数1〕、〔数3〕によって〔数7〕の行列Mおよびベクトルyが計算できるが、これらをそれぞれ、M~、y~とする。これらから〔数9〕及び〔数4〕によって計算される分光反射率R(λ)をR~(λ)とする。次に、M~及びy~の各成分に測定雑音を想定して乱数を加える。ここで加える乱数は平均0、分数1を持つ正規乱数などが適当である。乱数を加えた行列M及びベクトルyを用いて同様に〔数9〕及び〔数4〕による分光反射率R(λ)を求めた後、R~(λ)との差を二乗して波長に対して積分したDを以下の〔数17〕で求める。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
 行列M~及びベクトルy~の成分に乱数を加える度に〔数17〕の平均を〔数18〕に示すように計算し、これを〔数12〕のEとする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000018
 ここで、平均を計算するために生成するDの個数であるが、例えば、10000個程度生成させれば十分である。
 以上のように、使用可能な分光反射率の集合Sと、使用可能なフィルタによって実現可能な撮像装置の感度特性の集合Sの中から候補を選択すると、〔数12〕によってその候補に対する評価値Eが計算できることになる。このようにして、様々な候補に対して評価値Eを計算し、もっともEが小さくなる候補を選択する。
 1・・・分光反射率測定装置、2・・・光源、3・・・測定対象物、3a・・・測定部、4・・・反射校正版、4a・・・反射校正部、5・・・光学フィルタ、6・・・撮像装置、7・・・演算処理装置

Claims (7)

  1.  異なる分光反射率を有する複数の反射校正部を有し、各反射校正部の分光反射率が既知である反射校正版と、
     各々異なる分光透過特性を有する複数の光学フィルタと、
     前記反射校正版と所望の測定対象物とを、前記各々の光学フィルタを介して撮影する撮像装置であって、受光した光の光量に応じた信号を生成し、前記信号から前記反射校正版と前記測定対象物の画像を得る撮像装置と、
     前記各々の光学フィルタを介して撮影された前記測定対象物と前記反射校正版の複数枚の画像を処理し、所定の演算により前記測定対象物の分光反射率を導出する演算処理装置と、
     を備える分光反射率測定装置。
  2.  前記複数の反射校正部は、前記測定対象物の分光反射率が、各反射校正部における分光反射率の線形結合で表されるように決定されている
     請求項1に記載の分光反射率測定装置。
  3.  前記演算処理装置では、前記測定対象物の分光反射率を前記反射校正部の分光反射率の線形結合で表した場合の線形結合の係数を、前記測定対象物の画素値と前記複数の反射校正部の画素値とから導出し、
     導出された前記線形結合の係数から前記測定対象物の分光反射率を導出する
     請求項2に記載の分光反射率測定装置。
  4.  さらに、測定対象物及び反射校正版に光を照射する光源を備える
     請求項3に記載の分光反射率測定装置。
  5.  異なる分光反射率を有する複数の反射校正部を有し、各反射校正部の分光反射率が既知である反射校正版と、所望の測定対象物とを撮影する撮像装置と、各々異なる分光透過特性を有する複数の光学フィルタとを準備する工程と、
     前記撮像装置により、前記測定対象物と前記反射校正版とを、同一照明条件下において、前記各々の光学フィルタを介して撮影し、前記測定対象物と前記反射校正部の画像を複数枚取得する工程と、
     演算処理装置により、前記撮像装置で取得した前記測定対象物と前記反射校正部の画像の画素値から、前記測定対象物における分光反射率を導出する工程と、
     を有する分光反射率測定方法。
  6.  前記測定対象物における分光反射率を導出する工程では、
     演算処理装置において、前記測定対象物における分光反射率を前記反射校正部の分光反射率の線形結合で表した場合の線形結合の係数を、前記測定対象物の画素値と前記複数の反射校正部の画素値とから導出し、
     導出された前記線形結合の係数から前記測定対象物の分光反射率を導出する
     請求項5に記載の分光反射率測定方法。
  7.  前記画像を取得する工程では、さらに、前記光学フィルタを用いないで前記測定対象物と前記反射校正版の画像を取得する工程を有する
     請求項6に記載の分光反射率測定方法。
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