[go: up one dir, main page]

WO2008117652A1 - Film antireflet, procédé de fabrication d'un film antireflet, plaque de polarisation utilisant le film antireflet et dispositif d'affichage - Google Patents

Film antireflet, procédé de fabrication d'un film antireflet, plaque de polarisation utilisant le film antireflet et dispositif d'affichage Download PDF

Info

Publication number
WO2008117652A1
WO2008117652A1 PCT/JP2008/054287 JP2008054287W WO2008117652A1 WO 2008117652 A1 WO2008117652 A1 WO 2008117652A1 JP 2008054287 W JP2008054287 W JP 2008054287W WO 2008117652 A1 WO2008117652 A1 WO 2008117652A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
reflection film
low
refractive
film
index layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2008/054287
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Okano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Opto Inc
Original Assignee
Konica Minolta Opto Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Opto Inc filed Critical Konica Minolta Opto Inc
Priority to JP2009506275A priority Critical patent/JP5158075B2/ja
Publication of WO2008117652A1 publication Critical patent/WO2008117652A1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/107—Porous materials, e.g. for reducing the refractive index

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

L'invention porte sur un film antireflet qui peut réaliser une amélioration de la résistance chimique, de la propriété d'adhésion étroite et de la résistance de film (résistance aux rayures) après un test d'endurance dans des conditions de température élevée/humidité élevée par emploi d'une couche antireflet comprenant une couche à indice de réfraction faible, et qui peut être produit à faible coût ; sur une plaque de polarisation utilisant le film antireflet, et sur un dispositif d'affichage. Dans le film antireflet, la couche à indice de réfraction faible comprend au moins une microparticule de silice creuse, dont l'intérieur est poreux ou creux, et présente une valeur de pH de 2,0 à 7,5, de préférence de 2,0 à 4,0, à sa surface (surface de film). De préférence, la valeur de pH à la surface (surface de film) de la couche à indice de réfraction faible est mesurée après immersion pendant deux heures dans un bain chaud à 50°C. La couche à indice de réfraction faible comprend, de préférence, une résine de silicone modifiée pour être réactive ou un imidazole ou un dérivé de celui-ci.
PCT/JP2008/054287 2007-03-28 2008-03-10 Film antireflet, procédé de fabrication d'un film antireflet, plaque de polarisation utilisant le film antireflet et dispositif d'affichage Ceased WO2008117652A1 (fr)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009506275A JP5158075B2 (ja) 2007-03-28 2008-03-10 反射防止フィルム、それを用いた偏光板、及び表示装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007084414 2007-03-28
JP2007-084414 2007-03-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2008117652A1 true WO2008117652A1 (fr) 2008-10-02

Family

ID=39788388

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2008/054287 Ceased WO2008117652A1 (fr) 2007-03-28 2008-03-10 Film antireflet, procédé de fabrication d'un film antireflet, plaque de polarisation utilisant le film antireflet et dispositif d'affichage

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5158075B2 (fr)
TW (1) TWI448719B (fr)
WO (1) WO2008117652A1 (fr)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009066965A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料
JP2010111756A (ja) * 2008-11-05 2010-05-20 Yokohama Rubber Co Ltd:The 加熱硬化性光半導体封止用樹脂組成物およびこれを用いる光半導体封止体
JP2012185342A (ja) * 2011-03-07 2012-09-27 Konica Minolta Holdings Inc 近赤外反射フィルム、近赤外反射フィルムの製造方法及び近赤外反射体
JP2013006157A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Seiko Epson Corp 塗膜
JP2013195864A (ja) * 2012-03-22 2013-09-30 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止フィルム、表示装置、及びタッチパネル一体型表示装置
CN106526715A (zh) * 2015-09-11 2017-03-22 佳能株式会社 光学部件及其制造方法
TWI701456B (zh) * 2014-09-30 2020-08-11 日商日本板硝子股份有限公司 低反射塗層、玻璃板、玻璃基板、及光電轉換裝置
TWI852525B (zh) * 2023-05-03 2024-08-11 澤米科技股份有限公司 紅外光波段的抗反射膜結構及光學元件

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113885103B (zh) * 2021-09-26 2023-03-10 中国人民解放军国防科技大学 一种新型红外隐身材料、制备方法及应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343502A (ja) * 2000-05-30 2001-12-14 Teijin Ltd 反射防止フィルム
JP2004354740A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2006139259A (ja) * 2004-10-13 2006-06-01 Shin Etsu Chem Co Ltd 反射防止膜、反射防止膜形成用コーティング剤組成物及び反射防止膜を備えた物品
JP2006212987A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Kuraray Co Ltd 転写材
JP2006301126A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Hitachi Chem Co Ltd 低屈折率膜
JP2006330397A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止積層体及びその製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006293329A (ja) * 2005-03-14 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム及びその製造方法、並びにそのような反射防止フィルムを用いた偏光板、及びそのような反射防止フィルム又は偏光板を用いた画像表示装置。
JP4952047B2 (ja) * 2005-05-02 2012-06-13 Ｊｓｒ株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜及び反射防止膜積層体
JP5057199B2 (ja) * 2005-06-02 2012-10-24 旭硝子株式会社 中空状ＳｉＯ２微粒子分散液の製造方法、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材
JP2007011033A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Fujifilm Holdings Corp 反射防止フィルム、それを用いた偏光板及びディスプレイ装置
JP5167812B2 (ja) * 2005-07-15 2013-03-21 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 光学フィルムの処理方法、光学フィルムの処理装置及び光学フィルムの製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343502A (ja) * 2000-05-30 2001-12-14 Teijin Ltd 反射防止フィルム
JP2004354740A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP2006139259A (ja) * 2004-10-13 2006-06-01 Shin Etsu Chem Co Ltd 反射防止膜、反射防止膜形成用コーティング剤組成物及び反射防止膜を備えた物品
JP2006212987A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Kuraray Co Ltd 転写材
JP2006301126A (ja) * 2005-04-18 2006-11-02 Hitachi Chem Co Ltd 低屈折率膜
JP2006330397A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止積層体及びその製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009066965A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料
JP2010111756A (ja) * 2008-11-05 2010-05-20 Yokohama Rubber Co Ltd:The 加熱硬化性光半導体封止用樹脂組成物およびこれを用いる光半導体封止体
JP2012185342A (ja) * 2011-03-07 2012-09-27 Konica Minolta Holdings Inc 近赤外反射フィルム、近赤外反射フィルムの製造方法及び近赤外反射体
JP2013006157A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Seiko Epson Corp 塗膜
JP2013195864A (ja) * 2012-03-22 2013-09-30 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止フィルム、表示装置、及びタッチパネル一体型表示装置
TWI701456B (zh) * 2014-09-30 2020-08-11 日商日本板硝子股份有限公司 低反射塗層、玻璃板、玻璃基板、及光電轉換裝置
CN106526715A (zh) * 2015-09-11 2017-03-22 佳能株式会社 光学部件及其制造方法
US10738197B2 (en) 2015-09-11 2020-08-11 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and method for manufacturing the same
CN106526715B (zh) * 2015-09-11 2020-08-18 佳能株式会社 光学部件及其制造方法
TWI852525B (zh) * 2023-05-03 2024-08-11 澤米科技股份有限公司 紅外光波段的抗反射膜結構及光學元件

Also Published As

Publication number Publication date
TWI448719B (zh) 2014-08-11
JPWO2008117652A1 (ja) 2010-07-15
TW200907400A (en) 2009-02-16
JP5158075B2 (ja) 2013-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2008117652A1 (fr) Film antireflet, procédé de fabrication d'un film antireflet, plaque de polarisation utilisant le film antireflet et dispositif d'affichage
PL2197804T3 (pl) Sposób wytwarzania przeciwodblaskowej powłoki krzemionkowej, uzyskany produkt oraz urządzenie fotowoltaiczne zawierające ten produkt
WO2009091225A3 (fr) Composition pour couche d'alignement de cristaux liquides, son emploi dans la fabrication d'une couche d'alignement de cristaux liquides et film optique comprenant une telle couche
TWI370160B (en) Conductive polymer coating composition, method of preparing coating film using the conductive polymer coating composition, and coating film prepared using the method
WO2009091224A3 (fr) Film optique, son procédé de fabrication et son emploi dans un affichage à cristaux liquides
MY150038A (en) Adhesive composition for electronic components, and adhesive sheet for electronic components using the same
WO2008093584A1 (fr) Procédé de fabrication d'un substrat de verre pour disque magnétique et système de production pour substrat de verre pour disque magnétique
MY157487A (en) Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member
WO2010053862A8 (fr) Adhésif bicouche pour stratification de lentille
EP2023435A4 (fr) Procédé pour produire un substrat d'électrode, substrat d'électrode, convertisseur photoélectrique et pile solaire sensible aux colorants
BRPI1014324A2 (pt) composições de revestimento e revestimentos produzidos com as mesmas apresentando alta resistência a arranhadura em associação com bons resultados no teste de embutimento erichsen e boas propriedades contra lascas de pedra
CA2668813A1 (fr) Revetement photoelastique pour surveillance structurale
TW200745634A (en) Polarizing plate and its manufacturing method
WO2011139052A3 (fr) Feuille multicouche, et procédé de préparation associé
WO2009017532A8 (fr) Procédé de fabrication d'un revêtement de silice antireflet, produit résultant et dispositif photovoltaïque comprenant celui-ci
EP2352174A4 (fr) Cellule solaire à film mince au silicium et son procédé de fabrication
TW200741265A (en) Method for production of polarizing film, and liquid crystal display element
WO2012037242A3 (fr) Substrats polymères flexibles enrobés de verre pour cellules photovoltaïques
WO2007111943A3 (fr) Revetements transparents
TR201911027T4 (tr) Yapışkan kaplamalı nesnelerin üretim yöntemi, bunlarla ilgili elde edilebilir nesneler ve kullanımları.
MX2010000795A (es) Un laminado y capa compuesta que comprende un sustrato y un recubrimiento, y un proceso y aparato para reparacion de los mismos.
IL213085A0 (en) Method for producing infrared-photosensitive matrix cells adhering to an optically transparent substrate by molecular adhesion, and related sensor
CN104057669B (zh) 一种氟素离型膜的制作工艺
CN102818739A (zh) 涂料防结露性能测试系统与测试方法
WO2008078806A1 (fr) Filtre absorbant dans le proche infrarouge et son procédé de fabrication

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08721703

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2009506275

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08721703

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1