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WO2007088807A1 - 電磁波シールド膜、電磁波シールド膜の製造方法、プラズマディスプレイパネル用電磁波シールド膜、プラズマディスプレイパネル用光学フィルムおよびハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

電磁波シールド膜、電磁波シールド膜の製造方法、プラズマディスプレイパネル用電磁波シールド膜、プラズマディスプレイパネル用光学フィルムおよびハロゲン化銀写真感光材料 Download PDF

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WO2007088807A1
WO2007088807A1 PCT/JP2007/051373 JP2007051373W WO2007088807A1 WO 2007088807 A1 WO2007088807 A1 WO 2007088807A1 JP 2007051373 W JP2007051373 W JP 2007051373W WO 2007088807 A1 WO2007088807 A1 WO 2007088807A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
shielding film
electromagnetic wave
metal
wave shielding
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2007/051373
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hitoshi Adachi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Publication of WO2007088807A1 publication Critical patent/WO2007088807A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073—Shielding materials
    • H05K9/0081—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
    • H05K9/0084—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising a single continuous metallic layer on an electrically insulating supporting structure, e.g. metal foil, film, plating coating, electro-deposition, vapour-deposition

Definitions

  • Electromagnetic wave shielding film method for producing electromagnetic wave shielding film, electromagnetic wave shielding film for plasma display panel, optical film for plasma display panel, and halogen silver photographic photosensitive material
  • the present invention relates to an electromagnetic wave shielding film which can form an electromagnetic wave shielding material having high, high electromagnetic shielding properties, high transparency and transparency at the same time into a fine line pattern, and which has a high color sharpness and good color tone. And a manufacturing method thereof.
  • a plasma display panel generates electromagnetic waves in principle because it is based on the principle that a rare gas is made into a plasma state to emit ultraviolet rays and a phosphor emits light with this light.
  • a rare gas is made into a plasma state to emit ultraviolet rays and a phosphor emits light with this light.
  • near infrared rays are also emitted at this time, which causes malfunction of operation elements such as a remote controller.
  • the electromagnetic wave shielding ability can be expressed simply by the surface resistance value.
  • For translucent electromagnetic wave shielding materials for PDP, 10 ⁇ or lower is required, and for consumer plasma televisions using PDP, 2 ⁇ or lower is required. Therefore, it is required to have extremely high conductivity of 0.2 ⁇ or less.
  • Patent Document 1 Electrodeposited mesh (Patent Document 2) using a photolithography method is used.
  • a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding material using a metal mesh having the above has been proposed so far.
  • these have complicated manufacturing processes and have the disadvantages of increasing the number of intersections where the intersections of moire and metal wire portions are thickened.
  • developed silver obtained by using silver halide grain force is metallic silver. Therefore, it is possible to produce a metallic silver mesh by a manufacturing method using photographic development.
  • this manufacturing method has made it possible to produce an electromagnetic shielding material having both high electromagnetic shielding properties and high transparency at the same time relatively easily and at a relatively low cost.
  • the sharpness and color tone of the thin line pattern are not enough, and are not yet sufficient, can not meet the demands of the high level and level. Absent.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-46293
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 11-26980
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-221564
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is an electromagnetic wave shielding film having both high electromagnetic shielding properties and high transparency, and can easily form a thin line pattern.
  • the present invention provides an electromagnetic wave shielding film having a good color tone with high sharpness of fine lines and a manufacturing method thereof. Furthermore, it is providing the electromagnetic wave shielding film for plasma display panels and the optical film for plasma display panels using the said electromagnetic wave shielding film.
  • An electromagnetic wave shielding film having a metal part containing metal and a light-transmitting part, wherein the metal is composed of a compound containing the metal element, a metal ion reducing agent, and the metal ion reducing agent.
  • An electromagnetic wave shielding film which is a metal formed in the coexistence of an auxiliary agent that promotes a reaction between the compound and the compound.
  • the metal is in the presence of the metal ion reducing agent, the auxiliary agent, and a metal catalyst. 2. The electromagnetic wave shielding film as described in 1 above, wherein the electromagnetic shielding film is formed of a metal.
  • At least one layer of photosensitive silver halide particles, a metal ion reducing agent, and a photosensitizer containing an auxiliary agent that promotes the reaction of the metal ion reducing agent on the support is produced.
  • a method for producing an electromagnetic wave shielding film characterized in that a silver halide photographic light-sensitive material having a layer is exposed to light and developed to form a metallic silver portion and a light transmissive portion.
  • numerical aperture is not more than 99.9% 85% or more and the electromagnetic wave shielding film according to the 10, wherein the surface resistivity is less than 10 2 Omegazeta port 10-6 or more.
  • An electromagnetic wave shielding film for a plasma display panel comprising the electromagnetic wave shielding film as described in 10 or 11 above.
  • An optical film for a plasma display panel comprising the electromagnetic wave shielding film as described in 10 or 11 above.
  • the optical film for a plasma display panel as described in 13 above comprising an antireflection film, a hard coat film, an adhesive film, and a near-infrared absorbing film.
  • optical film for a plasma display panel as described in 13 or 14 above which has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm.
  • an electromagnetic wave shielding film having high electromagnetic wave shielding properties and high transparency at the same time which can easily form a fine line pattern and has high sharpness of fine lines and good color tone
  • An electromagnetic wave shielding film and a method for manufacturing the same can be provided.
  • an electromagnetic wave shielding film for a plasma display panel and an optical film for a plasma display panel using the electromagnetic wave shielding film can be provided.
  • the present invention provides an electromagnetic wave shielding film having a metal part containing a metal and a light transmissive part, wherein the metal comprises a compound containing an element of the metal, a metal ion reducing agent, and the gold It is a metal formed in the presence of a genus ion reducing agent and an auxiliary agent that promotes the reaction of the compound. Furthermore, the present invention is a method for producing an electromagnetic wave shielding film, comprising at least one layer of photosensitive halogen silver halide particles, a metal ion reducing agent, and an auxiliary agent that promotes the reaction of the metal ion reducing agent on a support. A silver halide photographic light-sensitive material having a photosensitive layer is exposed to light and developed to form a metallic silver portion and a light transmissive portion.
  • the metal part of the electromagnetic wave shielding film of the present invention is an electromagnetic wave shielding film part containing a metal.
  • the metal is formed from a compound containing a metal element, and when formed, a metal ion reducing agent and an auxiliary agent that promotes the reaction of the compound coexist.
  • halogenated silver is preferably used as the compound containing a metal element.
  • a silver halide photographic light-sensitive material having a halogenated silver grain emulsion layer (photosensitive layer) containing halogenated silver can be used to form an electromagnetic shielding film by forming metallic silver from the halogenated silver. .
  • the photosensitive layer (halogen silver particle emulsion layer) can contain a binder, an activator and the like of silver halide grains.
  • the halogen silver halide grains preferably used in the present invention are preferably silver halide silver grains mainly composed of AgCl, AgBr, and Agl, and have good conductivity! Silver halide grains mainly composed of AgBr containing iodine, which are preferable for fine particles having high sensitivity to light, are preferably used. It should be noted that if a large amount of iodine is contained, the sensitivity can be increased and fine particles can be obtained.
  • the contact area should be as large as possible.
  • the average grain size of the silver halide is preferably 1 to: LOOOnm (: m) in terms of the equivalent sphere diameter, and more preferably 1 to 50 nm, more preferably 1 to LOONm.
  • the sphere equivalent diameter of silver halide grains is the diameter of grains having the same volume and a spherical shape.
  • the shape of the silver halide grains is not particularly limited. For example, various shapes such as a spherical shape, a cubic shape, a flat plate shape (hexagonal flat plate shape, triangular flat plate shape, quadrangular flat plate shape, etc.), octahedral shape, tetrahedral shape, etc. It can be in any shape.
  • tabular grains having an aspect ratio of 2 or more, 4 or more, 8 or more, and 16 or less can be preferably used.
  • the particle size distribution may be wide or narrow, but a narrow distribution is preferable in order to obtain high conductivity and increase the aperture ratio.
  • the monodispersity known in the photographic industry is preferably 100 or less, and more preferably 30 or less. From the standpoint of facilitating the flow of electricity, the larger the contact area between the generated particles, the better the shape of the particles.Thus, the flat and the larger the aspect ratio, the better, but the higher the aspect ratio, the less the concentration. There is an optimal aspect ratio.
  • the halogen silver halide grains used in the present invention may further contain other elements. For example, in a photographic emulsion, it is also useful to dope metal ions used to obtain a high contrast emulsion.
  • transition metal ions such as rhodium ions, ruthenium ions, and iridium ions are preferably used because the difference between the exposed portion and the unexposed portion is easily generated when a metallic silver image is formed.
  • Transition metal ions represented by rhodium ions and iridium ions can also be compounds having various ligands. Examples of such ligands include cyanide ions, halogen ions, thiocyanate ions, nitrosyl ions, water, and hydroxide ions. Specific examples of the compound include potassium bromide rhodate and potassium iridate.
  • the content of the rhodium compound and the Z or iridium compound contained in the silver halide silver grains is 10- ⁇ to: LO- 2 with respect to the number of moles of silver in the silver halide grains. preferably be in molar ⁇ mol Ag tool 10 9 ⁇ : it is more preferable LO- 3 moles Z mol Ag.
  • halogen silver halide grains containing Pd ions, Pt ions, Pd metal, and Z or Pt metal can also be preferably used.
  • Pd and Pt may be uniformly distributed in the halogen silver particles, but are preferably contained in the vicinity of the surface layer of the halogen silver particles.
  • Te, content of Pd ion and / or Pd metal contained in the silver halide is 10 6-0 with respect to the number of moles of silver halide grains. 1 mole Z mole Ag is preferable, and 0.01 to 0.3 mol Z mol Ag is more preferable.
  • Chemical sensitization performed on a photographic emulsion can be performed in order to further improve sensitivity.
  • Chemical sensitization includes, for example, noble metal sensitization such as gold, palladium, platinum sensitization, inorganic thio or organic thio compounds, organic selenium compounds, organic tellurium compounds, selenium sensitization, tellurium sensitization, etc.
  • Chalcogen sensitization such as sensitization and reduction sensitization such as tin chloride and hydrazine can be used.
  • Chemically sensitized halogen silver halide grains can be spectrally sensitized.
  • Preferred examples of the spectral sensitizing dye include cyanine, force nolevocyanin, dicanolevoyanine, complex cyanine, hemisyanine, styryl dye, merocyanine, complex merocyanine, and holopolar monochromator. Use spectral sensitizing dyes alone or in combination. be able to.
  • Particularly useful dyes are cyanine dyes, merocyanine dyes, and complex merocyanine dyes.
  • any of the nuclei commonly used in cyanine dyes can be used as the basic heterocyclic ring nucleus.
  • the merocyanine dye or the complex merocyanine dye includes a pyrazoline-5-one nucleus, a thiohydantoin nucleus, a 2 thoxazolidine 2,4 dione nucleus, a thiazolidine 2,4 dione nucleus, a rhodanine as a nucleus having a ketomethylene structure.
  • 5- to 6-membered heterocycle nuclei such as nuclei and thiobarbituric acid nuclei can be applied Particularly preferred U
  • the sensitizing dye is a near-infrared sensitizing dye. These dyes can be referred to JP-A-2000-347343, JP-A-2004-037711 and JP-A-2005-134710. Preferred specific examples are shown below.
  • sensitizing dyes may be used alone or in combination.
  • sensitizing dyes is often used for the purpose of enlargement of the photosensitive area and supersensitization.
  • sensitizing dyes in a silver halide silver grain emulsion, they may be dispersed directly in the emulsion, or water, methanol, propanol, methylcelesolve, 2, 2, 3 , It may be dissolved in a solvent such as 3-tetrafluoropropanol alone or in a mixed solvent and added to the L agent. Further, as described in JP-B-44 23389, 44-27555, and 57-22089, an acid or base is allowed to act to form an aqueous solution, or U.S. Pat. Nos. 3,822,135, 4,006, No. 025, etc.
  • An aqueous solution or colloidal dispersion prepared by reacting a surfactant such as sodium chloride, decenorebenzenesnorephonate, etc. may be added to the emulsion.
  • a surfactant such as sodium chloride, decenorebenzenesnorephonate, etc.
  • water or a hydrophilic colloid dispersion may be added to the emulsion.
  • JP 53-102 As described in Nos. 733 and 58-105141, it may be dispersed directly in a hydrophilic colloid and the dispersion may be added to the emulsion.
  • the binder is used for the purpose of uniformly dispersing the silver halide silver grains and assisting the adhesion between the silver halide grain-containing layer and the support. You can.
  • binder examples include gelatin, polybulal alcohol (PVA) and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone (PVP), polysaccharides such as starch, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polyvinylamine, polyacrylic acid, and the like. Is mentioned. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.
  • the content of noinda contained in the silver / logogenated silver particle-containing layer is not particularly limited, and can be appropriately determined within a range in which dispersibility and adhesion can be exhibited.
  • the content of the binder in the silver halide grain-containing layer is 0.2 to LOO in terms of Ag / binder mass ratio. Power S is preferable, and 0.3 to 30 is more preferable 0.5 to More preferably, it is 15. If Ag is contained in the silver halide grain-containing layer in a mass ratio of 0.5 or more with respect to the binder, it is possible to obtain high conductivity as soon as the metal grains come into contact with each other in the heat and pressure treatment. Preferred because.
  • a plastic film, a plastic plate, glass or the like can be used as the support.
  • the raw materials for plastic films and plastic plates include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), burres such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), and polystyrene, and polycarbonate. (PC), triacetyl cellulose (TAC), etc. can be used.
  • the plastic film is preferably PET, PEN, or TAC.
  • the electromagnetic shielding material for a display requires transparency, it is desirable that the support has high transparency.
  • the total visible light transmittance of the plastic film or plastic plate is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%, and further preferably 90 to: LOO%.
  • the plasticity is used as a color tone regulator. It is possible to use a film and a plastic plate that are colored to the extent that they do not interfere with the object of the present invention.
  • the solvent used for preparing the coating solution for the photosensitive layer (halogen silver particle emulsion layer) according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include water and organic solvents (for example, methanol).
  • Alcohols such as alcohol, ethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, esters such as ethyl acetate, ethers, etc.), ions Liquids and mixed solvents thereof.
  • Photosensitive layer The content of the solvent used in the silver halide grain emulsion layer is in the range of 30 to 90% by mass with respect to the total mass of the halogenated silver grains and binder contained in the silver-containing layer. It is more preferable that it is in the range of 40 to 80% by mass.
  • the photosensitive layer (halogen silver particle emulsion layer) provided on the support is exposed.
  • the exposure can be performed using electromagnetic waves.
  • the electromagnetic wave include light such as visible light rays and ultraviolet rays, radiation rays such as electron rays and X-rays, and ultraviolet rays or near infrared rays are preferable.
  • a light source with a wavelength distribution may be used, but a narrow wavelength distribution or a light source may be used.
  • a red luminescent material for example, one or more of a red luminescent material, a green luminescent material, and a blue luminescent material may be used in combination.
  • the spectral region is not limited to the above-mentioned red, green, and blue, and phosphors that emit light in the yellow, orange, purple, or infrared region are also used.
  • mercury lamp g-line, mercury lamp i-line, etc. which are also preferred for ultraviolet lamps, are used.
  • exposure can be performed using various laser beams.
  • the exposure in the present invention is performed by using a gas laser, a light emitting diode, a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic light emitting source (SHG) that combines a solid state laser using a semiconductor laser as an excitation light source and a nonlinear optical crystal.
  • a scanning exposure method using monochromatic high-density light such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, or F 2 laser can also be used.
  • the exposure is preferably performed using a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic generation light source (SHG) that combines a solid-state laser and a nonlinear optical crystal.
  • exposure is preferably performed using a semiconductor laser.
  • an ultraviolet semiconductor specifically, an ultraviolet semiconductor, a blue semiconductor laser, a green semiconductor laser, a red semiconductor laser, a near infrared laser, and the like are preferably used.
  • the method of exposing the silver halide grain-containing layer in an image form may be performed by surface exposure using a photomask or by scanning exposure using a laser beam.
  • exposure methods such as surface contact exposure, near field exposure, reduced projection exposure, and reflection projection exposure may be used, such as condensing exposure using a lens or reflection exposure using a reflecting mirror.
  • the output of the laser may be an amount suitable for sensitizing silver halide, so it may be at a level of z / zW to 5W.
  • development processing is performed using the latent image (metallic silver) formed by the exposure as a catalyst.
  • the development processing can be performed using a conventional development processing technique used for silver halide grain photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask and the like.
  • the developer is not particularly limited, but PQ developer, MQ developer, MAA developer, etc. can be used.
  • a metal silver part preferably an image-like metal silver part is formed by performing the exposure and development processes described above, and a light transmissive part described later is formed.
  • the development processing in the present invention can include a fixing processing performed for the purpose of removing and stabilizing the halogen-free silver particles in the unexposed portions.
  • a fixing process technique used for silver halide grain photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask, and the like can be used.
  • the developing composition used in the present invention contains, as a developing agent, that is, a silver ion reducing agent, in addition to hydroquinones such as hydride quinone, sodium quinonesulfonate, chlorohydroquinone, and the like.
  • a developing agent that is, a silver ion reducing agent
  • hydroquinones such as hydride quinone, sodium quinonesulfonate, chlorohydroquinone, and the like.
  • Virazolidone, 1-phenyl-1,4-dimethyl-1-3-azol Can be used in combination with azolidone such as dong, 1-phenyl 4-methyl 4-hydroxymethyl 1-3 pyrazolidone, 1-phenyl 4-methyl-3-virazolidone, and N-methylparaaminophenol sulfate.
  • a reductone compound such as ascorbic acid or isoascorbic acid together with the above superadditive imaging agent without using hydroquinone.
  • the developer can be adjusted to a pH of 9 to 12 with an alkaline agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • the pH is generally in the range of 10 ⁇ 0.5, which has good storage stability, but can be ⁇ 11 ⁇ 0.5 for rapid processing.
  • the development processing can be carried out under processing conditions of 20 to 40 ° C. and 1 to 90 seconds.
  • the replenishing amount of the developer or the fixer can be set within a range of 5 to 216 ml per lm 2 or less. Reducing the replenishment amount is particularly effective by reducing the amount of halogen silver halide grains used by emulsion sensitization technology, and can be achieved in combination with the above development acceleration technology.
  • the developer used in the development treatment may contain an image quality improver for the purpose of improving the image quality.
  • the image quality improver include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as 1-ferro-5-mercaptotetrazole and 5-methylbenzotriazole.
  • the gradation after development processing in the present invention is not particularly limited, but is preferably more than 4.0.
  • the conductivity of the conductive metal portion can be increased while keeping the transparency of the light transmissive portion high.
  • means for setting the gradation to 3.0 or more include the aforementioned doping of rhodium ions and iridium ions.
  • sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, ammonium thiosulfate, or the like can be used as a fixing agent.
  • Aluminum sulfate, chromium sulfate, or the like can be used as a hardener for fixing.
  • a preservative for a fixing agent a developing composition Sodium sulfite, potassium sulfite, ascorbic acid, erythorbic acid and the like described in the above can be used, and in addition, citrate, oxalic acid and the like can be used.
  • N-methylisothiazole-3-one, N-methyli-thothiazol-5-chloro-3-one, N-methylisothiazole-4,5-diclo mouth 3-one 2, 2-trobromo-1 hydroxypropanol, 2-methyl-4-chlorophenol, hydrogen peroxide, etc. can be used.
  • the conductive metal part is formed by pressurizing the metal silver part formed by the exposure and development processes described above and supporting the conductive metal particles on the metal silver part.
  • the metal particles or metal filaments present in the conductive metal portion are brought into close contact with each other by heating and Z or pressurization, whereby the conductivity is improved.
  • the surface Upon pressurization, the surface is pressed on the plate and pressed while the electromagnetic wave shielding material of the present invention is passed between the rolls.
  • Combined pressurizing with a roll can be employed.
  • the magnitude of the pressurization is arbitrarily possible in the range of lkP to lOOMPa, but is preferably in the range of 10 kPa to lOMPa, more preferably 50 kPa to 5 MPa. If the pressure is less than lkP, the effect of contact between the particles cannot be obtained, and if it is more than lOOMPa, the surface can be kept smooth and the haze is increased.
  • heating is preferably performed in the range of 40 ° C to 300 ° C.
  • the heating time is adjusted in relation to the temperature, and at high temperatures it can be short and at low temperatures it can be long!
  • the heating method in the case of a -up roll, there are a method of heating the roll to a predetermined temperature in advance and a method of heating in a heating chamber such as an autoclave chamber.
  • a method of laminating a plurality of samples of a predetermined size and heating them at a time is preferable because of high productivity.
  • a polymer with a glass transition point of 40 ° C or less should be used in combination.
  • a single homopolymer or a multicomponent copolymer of two or more components can be used.
  • natural wax such as strong rubanau wax, artificial wax with chain extension or mouth gin may be used.
  • Laser heating may be employed as a heating method.
  • the type of laser light it is possible to appropriately select and use the amount of silver to be irradiated with the laser light and the relationship with the welding agent.
  • Laser light such as a conductor laser can be used. More preferred as a laser
  • YAG neodymium 3 + laser (laser beam wavelength: 1060 nm) and semiconductor laser (laser beam wavelength: 500 to 1000 nm) can be mentioned.
  • the output of the laser beam is preferably 5 to 1000W.
  • the laser may be a continuous wavelength or a pulse wave. By controlling the width of the Norse wave, it is possible to adjust the heating and find the optimum condition easily. When the laser output exceeds 1000 W, abrasion occurs and volatile evaporation tends to occur, which is not preferable.
  • the conductive metal portion has a line width of 20 ⁇ m or less and a line interval of 50 m or more.
  • the conductive metal part may have a part with a line width wider than 20 m for purposes such as ground connection.
  • the line width of the conductive metal portion is preferably less than 18 ⁇ m, more preferably less than 15 m, and even more preferably less than 14 m. Most preferred is less than 10 m, and even more preferred is less than 7 m.
  • the aperture ratio is less 99.9% 85% or more, and preferably has a surface resistivity of not more than 10 2 ⁇ port 10-6 or more. That is, the conductive metal portion in the present invention has an aperture ratio of preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 95% or more from the viewpoint of visible light transmittance. preferable.
  • the aperture ratio is the ratio of the mesh-free portion without fine lines to the whole. For example, the aperture ratio of a square grid mesh with a line width of 10 / ⁇ ⁇ and a pitch of 200 ⁇ m is 90% .
  • the "light transmissive portion” refers to a conductive material in a light transmissive electromagnetic wave shielding film (shielding material). It means a part having transparency other than the electric metal part.
  • the transmittance in the light transmissive part is
  • the transmittance indicated by the minimum value of the transmittance in the wavelength region of 400 to 750 nm excluding the contribution of light absorption and reflection of the support is 90% or more, preferably 95% or more, more preferably Is 97% or more, even more preferably 98% or more, and most preferably 99% or more.
  • the thickness of the support in the translucent electromagnetic wave shielding material is preferably 5 to 200 ⁇ m, and more preferably 30 to 150 / ⁇ ⁇ . If it is in the range of 5 to 200 m, the desired visible light transmittance can be obtained and the handling is easy.
  • the thickness of the metallic silver portion provided on the support can be appropriately determined according to the coating thickness of the silver halide particle-containing layer coating applied on the support.
  • the thickness of the metallic silver part is preferably 30 m or less, more preferably 20 m or less, and even more preferably 0.01 to 9 ⁇ m. 0.05 to 5 ⁇ m Most preferably m.
  • the thickness of the conductive metal portion is preferable for use as an electromagnetic shielding material for a display because the thinner the thickness, the wider the viewing angle of the display.
  • the thickness of the layer made of the conductive metal carried by the conductive metal portion is less than 9 ⁇ m.
  • the thickness is preferably not less than 0.1 m and less than 5 ⁇ m. More preferred is 0.1 m or more and less than 3 ⁇ m.
  • a functional layer having functionality may be separately provided as necessary.
  • This functional layer can have various specifications for each application.
  • anti-reflection layers with anti-reflective function with adjusted refractive index and film thickness non-glare layer or anti-glare layer (both have glare-preventing function) specific
  • a layer with a color tone adjustment function that absorbs visible light in the wavelength range an antifouling layer with a function that easily removes dirt such as fingerprints, a hard-coating layer that is hard to scratch, a layer with an impact absorption function, and a glass breakage
  • These functional layers may be provided on the opposite side of the halogen-containing silver particle-containing layer and the support, or may be provided on the same side.
  • These functional films can be directly bonded to the PDP and the plasma display panel body. Alternatively, it may be bonded to a transparent substrate such as a glass plate or an acrylic resin plate. These functional films can be called optical filters (or simply filters).
  • the antireflection layer provided with the antireflection function suppresses reflection of external light and suppresses a decrease in contrast, so that a metal oxide, a fluoride, a halide, a boride, a carbide, a nitride, and a sulfate are used.
  • a method of laminating inorganic materials such as materials in a single layer or multiple layers by a vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, ion beam assist method, etc., a single layer of a resin having a different refractive index such as acrylic resin, fluorine resin, etc.
  • there is a method of laminating in multiple layers there is a method of laminating in multiple layers.
  • a film that has been subjected to anti-reflection treatment can be attached to the filter.
  • a film that has been subjected to a nogrea treatment or an antiglare treatment can be pasted on the filter.
  • a coating layer can be provided.
  • a layer having a color tone adjustment function that absorbs visible light in a specific wavelength region has a characteristic that a PDP emits red light although the amount of fluorescent material that emits blue is small in addition to blue.
  • a PDP emits red light although the amount of fluorescent material that emits blue is small in addition to blue.
  • the portion that should be displayed in blue is displayed in a color in which purple is strong, and as a countermeasure against this, it is a layer that corrects colored light and contains a dye that absorbs light at around 595 nm.
  • Specific examples of the dye that absorbs the specific wavelength include, for example, azo series, condensed azo series, phthalocyanine series, anthraquinone series, indigo series, perinone series, perylene series, and dixadiazine series.
  • organic pigments such as quinacridone, methine, isoindolinone, quinophthalone, pyrrole, thioindigo, metal complex, etc., organic dyes, and inorganic pigments.
  • phthalocyanine dyes and anthraquinone dyes are particularly preferable because of their good weather resistance.
  • auxiliary agent for promoting the reaction between a metal ion reducing agent and a compound containing a metal element it is called various well-known contrast enhancers or nucleating agents in the field of photographic technology.
  • various compounds can be used. Of these compounds, nitrogen-containing organic compounds such as hydrazine compounds and tetrazolium compounds are particularly preferable.
  • a metal catalyst that acts as a catalyst when a metal is formed from a compound containing a metal element coexists.
  • latent images in a silver halide photographic system can be mentioned.
  • the silver halide grains having a silver chloride content of 60 mol% or more include a hydrazine compound or a tetrazolium compound (T Also referred to as a composite).
  • an amine compound can be used as a contrast enhancement aid.
  • the hydrazine compound is a compound having an NHNH group, and can be represented by the following general formula.
  • t and V represent an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted heterocyclic group, and V represents an optionally substituted amino group.
  • the aryl group represented by t and V represents a benzene ring or a naphthalene ring, and the heterocyclic group includes a pyridine ring or a quinoline ring.
  • the aryl group may be substituted with various substituents.
  • the substituent may be a linear or branched alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl, n-dodecyl).
  • alkoxy group preferably having 2 to 21 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy group, etc.
  • aliphatic asilamino group preferably having an alkyl group having 2 to 21 carbon atoms, such as acetylamino-containing heptylamino group, etc.
  • Aromatic acylamino groups and the like.
  • substituted or unsubstituted aromatic rings such as those described above are —CONH—, —O—, —SONH—, —NHCONH—, —CH
  • V is preferably a substituted amino group.
  • Masive Piberidiru 4 Compounds having an amino group in the skeleton are preferred.
  • hydrazine compounds can be synthesized with reference to, for example, the synthesis method described in US Pat. No. 4,269,929.
  • the hydrazine compound can be contained in the emulsion layer, in the hydrophilic colloid layer adjacent to the emulsion layer, or in another hydrophilic colloid layer.
  • it can be dissolved and dissolved in alcohols such as methanol and ethanol, ethylene glycols, ethers, ketones and the like. ⁇ silver halide per mole of 10- 6 ⁇ : L0- 1 mol well, more preferably 10- 4 ⁇ : L0- a 2 mols.
  • V in the general formula is a substituted amino group, such as (c), (d), and (e), is particularly preferable.
  • the tetrazolium compound as a contrast-increasing agent used in the present invention is represented by the following general formula.
  • each of R 1 R 2 and R 3 may be substituted! Represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
  • Preferred substituents are an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyalkyl group, a cyano group, an amino group, a hydroxy group, a halogen atom, and a nitro group.
  • ⁇ represents ⁇ -one, and ⁇ -on groups include halogen atoms, substituted or unsubstituted alkyl sulfonic acid groups having 1 to 24 carbon atoms, alkyl benzene sulfonic acid groups, alkyl carboxylic acid groups, And alkylbenzene carboxylic acid group.
  • the silver halide photographic light-sensitive material can contain an amine compound as a high-contrast aid.
  • the amine compound can be represented by the following general formula containing at least one nitrogen atom.
  • R, Q, Z, and W in the formula represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, and these alkyl groups may be bonded to a heteroatom such as nitrogen, sulfur, or oxygen.
  • a heteroatom such as nitrogen, sulfur, or oxygen.
  • L represents a divalent linking group, and a hetero atom such as sulfur, oxygen or nitrogen may be bonded to the linking group.
  • the linking group L can have 1 to 200 carbon atoms, 1 to 30 sulfur atoms, 1 to 20 nitrogen atoms, and 1 to 40 oxygen atoms, but is not particularly limited.
  • Jetylaminoethanol dimethylamino 1,2 propanediol, 5 amino 1 pentanol, jetylamine, methylamine, triethylamine, dipropylamine, 3-dimethylamino 1 propanol, 1 dimethylamino 2-propanol, bis (dimethylaminotetra) Ethoxy) thioether, bis (jetylaminopentaethoxy) thioter, bis (piperidinotetraethoxy) thioether, bis (piperidinodiethoxy) thioether, bis (disianoethylaminodiethoxy) ether, bis (Diethoxyethyl aminotetraethoxy) ether, 5-dibutylaminoethylcarbamoyl benzotriazol, 5 morpholinoethyl carbamoyl benzotriazole, 5- (2-methylimidazo one luo 2 ethylene) force Ba moil benzotriazoles
  • a near-infrared absorbing layer containing a near-infrared absorbing agent is directly applied to the same side or the opposite side of the electromagnetic wave shielding layer.
  • near infrared absorbers include polymethine, phthalocyanine, naphthalocyanine, metal complex, aminium, imonium, dimonium, anthraquinone, dithiol metal complex, naphthoquinone, indole phenol , Azo, and trimethane compounds.
  • the near-infrared absorptivity of optical filters for PDP is mainly required to prevent noise in electronic equipment if it absorbs heat rays.
  • a metal complex system an aminium system, a phthalocyanine system, a naphthalocyanine system, and a dimonium system, in which a dye having a near-infrared absorption ability having a maximum absorption wavelength of 750 to LlOOnm is preferred.
  • the absorption maximum of a nickel dithiol complex compound or a fluorinated phthalocyanine compound is 700 to 900 nm, and in practical use, usually in a longer wavelength region than the above compound.
  • Aminium-based compounds with absorption maximum, especially diimmoni When used in combination with a humic compound, an effective near infrared absorption effect can be obtained. (JP-A-10-283939, JP-A-11 73115, JP-A-11 231106, etc.).
  • the color tone correction layer contains a dye having near-infrared absorption ability
  • any one of the above-mentioned dyes may be contained, or two or more kinds may be contained.
  • an ultraviolet absorbing dye examples include known ultraviolet absorbers such as salicylic acid compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, and S triazines.
  • Compounds, cyclic immi No ester compounds and the like can be preferably used. Of these, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, and cyclic imino ester compounds are preferred.
  • a cyclic imino ester compound is particularly preferable. A good example is
  • UV-1 2- (2 Hydroxy 1,3,5 Di- ⁇ -Tamil) 2 ⁇
  • Benzotriazole UV— 2: 5 Black mouth 2— (2 Hydroxy 3 Tertiary butyl 5 Methylphenol) 1 2 ⁇ — Benzotria Zonole
  • UV-14 2, 4 Bis (2,4 dimethylphenol) 6- [2 Hydroxy 4- (3-Nyloxy * 2 Hydroxypropyloxy) 5 ⁇ Tamylphenyl] s Triazine (* indicates octyloxy group) And a mixture of a noroxy group and a decyloxy group.)
  • UV-18 2- (3,5 di-tert-butyl-2-hydroxyphenol) 2 ⁇ benzotriazolene.
  • the above-mentioned dye is preferably added to a dye layer by using a micronization machine described later and having an average particle diameter of 0.01 to: fixed to the dye layer.
  • the optical density is the maximum wavelength.
  • 0.05 force is preferably used in the range of 3.0 concentration.
  • the present invention for the purpose of imparting conductivity to the metal silver portion formed by the exposure and development processing, physical development processing and Z or plating treatment are performed for supporting the conductive metal particles on the metal silver portion. .
  • the conductive metal particles can be supported on the metallic silver part by combining the physical development process and the plating process. You can also.
  • physical development processing means that metal ions such as silver ions in a solution containing a soluble metal salt are reduced with a reducing agent on metal and metal compound nuclei to deposit metal particles.
  • This physical phenomenon processing is used for instant B & W film, instant slide film, printing plate manufacturing, and the like, and the technology can be used in the present invention.
  • the physical development process may be performed simultaneously with the development process after exposure or separately after the development process.
  • the plating treatment can be performed using electroless plating (chemical reduction plating or substitution plating), electrolytic plating, or both electroless plating and electrolytic plating.
  • electroless plating a known electroless plating technique can be used.
  • the electroless plating technique can be used for a printed wiring board, and the electroless plating is an electroless copper plating. Is preferred.
  • Chemical species contained in the electroless copper plating solution include copper sulfate and copper chloride, formalin and daroxylic acid as reducing agents, EDTA and triethanolamine as copper ligands, and other bath stability.
  • additives for improving the smoothness of the coating film include polyethylene glycol, yellow blood salt, and biviridine.
  • the electrolytic copper plating bath include a copper sulfate bath and a copper phosphate bath.
  • the plating speed at the time of the plating treatment in the present invention can be performed under moderate conditions, and further, high-speed plating of 5 mZhr or more is possible.
  • various additives such as a ligand such as EDTA can be used from the viewpoint of improving the stability of the plating solution.
  • the metallic silver portion after the development treatment and the conductive metal portion formed after the physical development treatment and the Z or plating treatment are preferably subjected to an oxidation treatment.
  • an oxidation treatment for example, when a metal is slightly deposited on the light transmitting portion, the metal can be removed, and the light transmitting portion can be made almost 100% transparent.
  • oxidation treatment examples include known methods using various oxidizing agents such as Fe (III) ion treatment.
  • the oxidation treatment can be performed after exposure and development processing of the silver halide grain-containing layer, or after physical development processing or plating treatment, and may be performed after development processing and after physical development processing or plating processing.
  • the metallic silver portion after the exposure and development treatment can be further treated with a solution containing Pd.
  • Pd may be divalent palladium ion or metallic palladium. This treatment can accelerate electroless plating or physical development speed.
  • the electromagnetic wave shield is combined with an antireflection film or an antiglare film. Furthermore, if necessary, a color having an absorption maximum in the near infrared region with a wavelength of 800 nm to 1000 nm. Oil-containing resin layer, or wavelength 380 ⁇ ! It may be preferable to combine with a resin layer containing a dye having an absorption maximum in the visible light region of ⁇ 800 nm.
  • the antireflection film can be obtained by appropriately combining a low refractive index material and a high refractive index material on the film surface.
  • Materials having a low refractive index include fluorine-based materials and silicon-based materials, but are not necessarily limited to these.
  • organic or inorganic materials can be used.
  • the material having a high refractive index include various metal oxides such as titanium oxide, indium oxide, tin oxide, yttrium oxide, bismuth oxide, and zinc oxide. These oxide thin films may be directly formed by a vacuum deposition method or a sputtering method, or the particles of these oxides may be kneaded into a resin and coated with the resin.
  • a so-called hard coat may be provided on the surface of the antireflection film for the purpose of improving wear resistance.
  • the antiglare film can be obtained by applying transparent plastic particles having a diameter of about 0.2 to 10 m together with a transparent resin. The degree of antiglare at that time can be controlled by the size of the particles, the density of the particles, the thickness of the resin, the refractive index of the particles, and the refractive index of the resin.
  • the electromagnetic wave shield according to the present invention is used as an optical filter of a plasma display, it is preferable to provide an electrode in the extended portion of the filter. This electrode is used to electrically connect the ground and the mesh pattern to ensure the electromagnetic shielding ability.
  • the configuration as an optical filter is listed as follows: Anti-reflection film Z adhesive layer Z glass substrate Z electromagnetic wave shield, anti-reflection film Z adhesive layer Z glass substrate Z electromagnetic wave shield Z Dye having absorption maximum from 800nm to lOOOnm Resin layer, anti-reflective film Z electromagnetic wave shield Z glass substrate, anti-reflective film Z8 Resin layer containing pigment with absorption maximum from OOnm to lOOOnm Z electromagnetic wave shield Z glass substrate, anti-glare film Z adhesive layer Z glass Substrate Z Electromagnetic shield, anti-glare film Z Adhesive layer Z Glass substrate Z Electromagnetic shield Z800nm to lOOOnm Pigment-containing resin layer, anti-glare film Z Electromagnetic shield Z glass substrate, anti-glare film Z800nm To lOOOnm, a resin layer containing a dye having an absorption maximum, Z electromagnetic shielding Z glass substrate, and the like.
  • the resin layer containing a dye having an absorption maximum from 380 nm to 800 nm may be used in an appropriate part of the above laminated structure.
  • adhesive material For example, kneading into a coating layer of a film, for example, a film.
  • the transmittance at the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is preferably in the range of 5 to 50%.
  • the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is set in order to selectively cut subbands that reduce the color purity of the red phosphor. In the PDP, unnecessary emission near 595 nm emitted by excitation of neon gas is also cut off. By separating the absorption maximum according to the present invention, light can be selectively cut without adversely affecting the color tone of the green phosphor.
  • the half width at the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is preferably 15 to 200 nm, preferably 20 to lOOnm, and more preferably 22 to 80 nm than force S. Is most preferred.
  • a visible filter layer is formed using a dye (dye or pigment, preferably dye).
  • a dye die or pigment, preferably dye.
  • the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm squarylium, azomethine, cyanine, oxonol, anthraquinone, azo or benzylidene compounds are preferably used.
  • the azo dyes many azo dyes described in GB539703, 575691, US2956879 and Hiroshi Horiguchi's “Review Synthetic dyes” Sankyo Publishing, etc. can be used.
  • An azo dye represented by the general formula (a6) is preferred. Examples of dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm are shown below.
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent group
  • M represents a metal atom
  • m 2 and m 3 each independently represents an integer of 1 to 4.
  • the metal atom represented by M include Fe, Co, Ni, Cu, Zn, and Cd, which are preferable transition metals, and Cu is particularly preferable.
  • the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm cyanine-based, squarylium-based, azomethine-based, xanthene-based, oxonol-based or azo-based compounds are preferably used. Examples of dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 ⁇ m are shown below.
  • This emulsion was added sodium palladium chloride acid, further after gold-sulfur sensitization using Chio sodium sulfate and chloroauric acid, a near-infrared dye is added Harogeni ⁇ 1 mole per 10 4 moles, near After infrared sensitization (the dye structure is shown in Table 1 of the specific examples), hydrazine or a tetrazolium compound (specific example numbers are shown in Table 1) as a thickening agent, an ammine compound or a pyridine compound of the accelerator ( Specific example numbers are shown in Table 1).
  • the water was adjusted to 11, and the pH was adjusted to 10.20.
  • Aluminum sulfate (Aqueous solution whose Al 2 O equivalent content is 8.1% WZV) 26.5g
  • the water was adjusted to 11, and the pH was adjusted to 5.0.
  • Type Addition S () Type Addition amount (*)
  • the amount added is the amount added per mole of silver halide (mole)
  • the sample according to the present invention is an electromagnetic shielding film having both high electromagnetic shielding properties and high transparency at the same time, and can easily form a fine line pattern. It can be seen that the color tone is high and the color tone is good, which is superior to the comparative example.
  • the sample according to the present invention is an electromagnetic shielding film having both high electromagnetic shielding properties and high transparency at the same time, and particularly has good color tone with high sharpness of fine lines. It ’s excellent.
  • the sample 301 of this invention was obtained by oxidizing with the aqueous solution containing. Next, the following evaluation was performed.
  • the obtained samples 100 to 301 were cut to 5 cm ⁇ 5 cm, and the resistance value was measured using a digital multimeter 7541 manufactured by Yokogawa Electric. Resistance was measured in a room at 23 ° C and 50% relative humidity.
  • the obtained samples 100 to 301 were measured using a spectrophotometer U-4000 type manufactured by Hitachi, Ltd. according to JIS-R-1635.
  • the wavelength of the test light was 550 nm.
  • the sample according to the present invention is an electromagnetic shielding film having both high electromagnetic shielding properties and high transparency at the same time, and it is easy to form a fine line pattern.
  • the sharpness of the color is high and the color tone is good and excellent.
  • the following antireflection film and hard coat film were applied to one side of a 100 m thick PET (polyethylene terephthalate) transparent support.
  • UV curable acrylic resin (Alonics UV-3700: Toagosei Co., Ltd.) 25.0 mass Part, tin oxide doped with indium (particle size: 0.2 to 2.0 ⁇ ⁇ ) 8.0 parts by weight, methyl ethyl ketone 24.0 parts by weight and toluene 33.0 parts by weight was applied with a Meyer bar and irradiated with ultraviolet light for 1-2 seconds with a high-pressure mercury lamp to obtain a hard coat film.
  • the obtained optical film had a total light transmittance of 94.0%, a haze value of 0.5, and a minimum reflectance of 0.5 in the visible light wavelength region, and was excellent in antireflection properties.
  • Tetraethoxysilane hydrolyzate A (preparation method is shown below) 103 parts by mass y-methacryloxypropyltrimethoxysilane
  • the mixture was prepared by mixing 25 g of tetraethoxysilane and 222 g of ethanol, adding 54 g of a 1.5% aqueous solution of citrate monohydrate, and then stirring at room temperature for 3 hours.
  • Tetraazaporphyrin shown in (P-1) below is dispersed and dissolved in ethyl acetate Z-toluene (50: 50% by mass), and contains acrylic adhesive dye so that the concentration is 1150 ppm. A diluent was used. Mix the acrylic adhesive Z dye-containing diluent (80: 20% by mass) An optical filter was produced by applying the solution to the PET support with a slide coater and drying it. When the transmittance of the filter was measured with a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi, Ltd., the absorption maximum at 590 nm was 30%.

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Abstract

　本発明は、金属を含有する金属部と光透過性部とを有する電磁波シールド膜であって、該金属は、該金属の元素を含有する化合物から、金属イオン還元剤と、該金属イオン還元剤と該化合物との反応を促進する補助剤、との共存下において形成された金属であることを特徴とする。高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜であって、細線状パターンの形成が容易にでき、かつ細線の鮮鋭性が高く、色調が良好な電磁波シールド膜及びその製造方法を提供する。さらに、当該電磁波シールド膜を活用したプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド膜及びプラズマディスプレイパネル用光学フィルムを提供する。

Description

電磁波シールド膜、電磁波シールド膜の製造方法、プラズマディスプレイ パネル用電磁波シールド膜、プラズマディスプレイパネル用光学フィルムおよび ハロゲンィ匕銀写真感光材料
技術分野
[0001] 本発明は、高 、電磁波シールド性と高!、透明性とを同時に有する電磁波シールド 材料を細線のパターンに形成可能であり、かつ細線の鮮鋭性が高ぐ色調が良好な 電磁波シールド膜及びその製造方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、電子機器の使用増大のために電磁波障害（Electro— Magnetic Interfer ence : EMI)を低減する必要性が高まっている。 EMIは、電子、電気機器の誤動作、 障害の原因になるほか、人体に対しても害を与えることが指摘されている。このため、 電子機器では、電磁波放出の強さを規格又は規制内に抑えることが要求されている
[0003] 特に、プラズマ表示パネル (PDP)は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射さ せこの光線で蛍光体を発光させる原理に基づくために原理的に電磁波を発生する。 又、このとき近赤外線も放射されるので、リモコン等の操作素子の誤動作を引き起こ すので電磁波遮蔽能と同時に近赤外線の遮蔽も求められている。電磁波遮蔽能は、 簡便には表面抵抗値で表すことができ、 PDP用の透光性電磁波遮蔽材料では、 10 ΩΖ口以下が要求され、 PDPを用いた民生用プラズマテレビにおいては、 2ΩΖ口 以下とする必要性が高ぐより望ましくは 0. 2 ΩΖ口以下という極めて高い導電性が 要求されている。
[0004] 上記の問題のうち、特に電磁波防止を解決するために、フォトリソグラフィ一法を用 V、たエッチングメッシュ（特許文献 1)ゃ電着加工メッシュ (特許文献 2) t ヽつた、開口 部を有する金属メッシュを利用した電磁波遮蔽材料の製造方法がこれまで提案され ている。し力しながら、これらは製造工程が複雑であり、かつモアレや金属線部の交 点が太る交点太りと 、つた欠点が生じて 、た。 [0005] この解決のためにハロゲン化銀粒子力 得られる現像銀は金属銀であることから、 写真現像を応用した製法で金属銀のメッシュを作製することが可能である。例えば、 ノ、ロゲンィ匕銀粒子を含む層を有する感光材料をメッシュ状の画像様に露光して現像 処理すれば、銀粒子がメッシュ状に集合した導電性金属銀部が形成される (例えば、 特許文献 3参照)。
[0006] し力しながら、この製法により、高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有す る電磁波シールド材料を、従来より比較的容易に、比較的低コストで製造できるように なったものの、電磁波シールド性と高い透明性はもとより、特に、細線状パターンの鮮 鋭性及び色調等の性能にお!、て未だ不十分で、巿場の高!、レベルの要望に対応で きるものではない。
特許文献 1 :特開 2003— 46293号公報
特許文献 2：特開平 11― 26980号公報
特許文献 3 :特開 2004— 221564号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、高い電磁波シール ド性と高 、透明性とを同時に有する電磁波シールド膜であって、細線状パターンの 形成が容易にでき、かつ細線の鮮鋭性が高ぐ色調が良好な電磁波シールド膜を提 供すること及びその製造方法を提供することである。さらに、当該電磁波シールド膜 を活用したプラズマディスプレイパネル用電磁波シールド膜及びプラズマディスプレ ィパネル用光学フィルムを提供することである。
課題を解決するための手段
[0008] 本発明の上記課題は、以下の手段により解決される。
1.金属を含有する金属部と光透過性部とを有する電磁波シールド膜であって、該金 属は、該金属の元素を含有する化合物から、金属イオン還元剤と、該金属イオン還 元剤と該化合物との反応を促進する補助剤、との共存下において形成された金属で あることを特徴とする電磁波シールド膜。
2.前記金属は、前記金属イオン還元剤と、前記補助剤と、金属触媒、との共存下に ぉ ヽて形成された金属であることを特徴とする前記 1に記載の電磁波シールド膜。
3.前記補助剤が、窒素含有ィ匕合物であることを特徴とする前記 1または 2に記載の 電磁波シールド膜。
4.前記金属部が銀を含有し、かつ前記金属イオン還元剤が銀イオン還元剤であるこ とを特徴とする前記 1〜3のいずれ力 1項に記載の電磁波シールド膜。
5.前記補助剤が、ヒドラジンィ匕合物またはテトラゾリゥム化合物であることを特徴とす る前記 3または 4に記載の電磁波シールド膜。
6.電磁波シールド膜の製造方法において、支持体上に少なくとも 1層の、感光性ノヽ ロゲン化銀粒子、金属イオン還元剤および該金属イオン還元剤の反応を促進する補 助剤を含有する感光性層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、露光、現像処理 することにより、金属銀部と光透過性部とを形成することを特徴とする電磁波シールド 膜の製造方法。
7.前記補助剤が、ヒドラジンィ匕合物またはテトラゾリゥム化合物であることを特徴とす る前記 6に記載の電磁波シールド膜の製造方法。
8.前記現像処理の後に、加熱又は加圧処理の少なくとも一方を施すことを特徴とす る前記 6または 7に記載の電磁波シールド膜の製造方法。
9.前記現像処理の後に、メツキ処理及び物理現像処理のうちのいずれか少なくとも 一つの処理を施すことにより、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性 金属部を形成することを特徴とする前記 6〜8のいずれか 1項に記載の電磁波シール ド膜の製造方法。
10.前記 6〜9のいずれか 1項に記載の電磁波シールド膜の製造方法により製造さ れたことを特徴とする電磁波シールド膜。
11.開口率が 85%以上 99. 9%以下であり、かつ表面抵抗率が 10— 6以上 102ΩΖ 口以下であることを特徴とする前記 10に記載の電磁波シールド膜。
12.前記 10または 11に記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とするプラズマ ディスプレイパネル用電磁波シールド膜。
13.前記 10または 11に記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とするプラズマ ディスプレイパネル用光学フィルム。 14.反射防止膜、ハードコート膜、粘着膜、及び近赤外線吸収膜を有してなることを 特徴とする前記 13に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルム。
15. 560〜620nmの波長範囲において、吸収極大を有することを特徴とする前記 1 3または 14に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルム。
16.前記 6に記載の電磁波シールド膜の製造方法に用いられるハロゲンィ匕銀写真 感光材料であって、感光性ハロゲンィ匕銀粒子、金属イオン還元剤および該金属ィォ ン還元剤の反応を促進する補助剤を含有する感光性層を有することを特徴とするハ ロゲン化銀写真感光材料。
発明の効果
[0009] 本発明の構成により、高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有する電磁 波シールド膜であって、細線状パターンの形成が容易にでき、かつ細線の鮮鋭性が 高ぐ色調が良好な電磁波シールド膜を提供すること及びその製造方法を提供する ことができる。さらに、当該電磁波シールド膜を活用したプラズマディスプレイパネル 用電磁波シールド膜及びプラズマディスプレイパネル用光学フィルムを提供すること ができる。
発明を実施するための最良の形態
[0010] 本発明は、金属を含有する金属部と光透過性部とを有する電磁波シールド膜であ つて、該金属は、該金属の元素を含有する化合物から、金属イオン還元剤と、該金 属イオン還元剤と該化合物との反応を促進する補助剤、との共存下において形成さ れた金属であることを特徴とする。さらに本発明は、電磁波シールド膜の製造方法で あって、支持体上に少なくとも 1層の、感光性ハロゲンィ匕銀粒子、金属イオン還元剤 および該金属イオン還元剤の反応を促進する補助剤を含有する感光性層を有する ハロゲン化銀写真感光材料を、露光、現像処理することにより、金属銀部と光透過性 部とを形成することを特徴とする。
[0011] 本発明の電磁波シールド膜の金属部は、金属を含有する電磁波シールド膜部分で ある。
金属は、金属の元素を含有する化合物から形成され、形成される際には金属イオン 還元剤と前記化合物との反応を促進する補助剤、とが共存する。 [0012] 本発明にお 、ては、金属の元素を含有する化合物としてハロゲンィ匕銀が好ましく用
V、られる。ハロゲンィ匕銀を含有するハロゲンィ匕銀粒子乳剤層 (感光性層）を有するハ ロゲン化銀写真感光材料を用い、ハロゲンィ匕銀から、金属銀を形成して電磁波シー ルド膜を作製することができる。
[0013] (ハロゲン化銀写真感光材料）
本発明において、感光性層（ハロゲンィ匕銀粒子乳剤層）は、ハロゲン化銀粒子のほ 力 バインダー、活性剤等を含有することができる。
[0014] 本発明で好ましく用いられるハロゲンィ匕銀粒子は、例えば、 AgCl、 AgBr、 Aglを主 体としたハロゲンィ匕銀粒子が好ましく用いられ、導電性のよ!、金属銀を得るためには 、光に対し感度の高い微粒子が好ましぐ沃素を含む AgBrを主体としたハロゲンィ匕 銀粒子が好ましく用いられる。なお、ヨウ素を多く含むようにすると感度も高く微粒子 にすることができる。
[0015] ノ、ロゲン化銀粒子が現像され金属銀粒子になると粒子から粒子へと電気が流れて
V、くには接触面積ができるだけ大きくなる必要がある。そのためには粒子サイズが小 さい程よいが、小さい粒子は凝集して大きな塊状になりやすぐ接触面積は逆に少な くなつてしまうので最適な粒子径が存在する。ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、球 相当径で 1〜： LOOOnm (： m)であることが好ましぐ 1〜： LOOnmであることがより好 ましぐ l〜50nmであることがさらに好ましい。尚、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは 、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
[0016] ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状 (6 角平板状、三角形平板状、 4角形平板状など)、八面体状、 14面体状など様々な形 状であることができる。感度を高くするためにアスペクト比が 2以上や 4以上、更に 8以 上であって 16以下であるような平板粒子も好ましく使用することができる。粒子サイズ の分布は、広くても狭くてもよいが、高い導電性を得て開口率を大きくするには、狭い 分布が好ましい。写真業界で知られる単分散度で 100以下、更には 30以下が好まし い。粒子の形状は、電気が流れ易くするための観点からは、生成した粒子間の接触 面積が大きい程よいのであるので、扁平でアスペクト比が大きい程よいが、アスペクト 比を大きくすると濃度が出にくくなるので、最適なアスペクト比が存在する。 [0017] 本発明で用いられるハロゲンィ匕銀粒子は、さらに他の元素を含有していてもよい。 例えば、写真乳剤において、硬調な乳剤を得るために用いられる金属イオンをドー プすることも有用である。特にロジウムイオン、ルテニウムイオンやイリジウムイオンな どの遷移金属イオンは、金属銀像の生成の際に露光部と未露光部の差が明確に生 じやすくなるため好ましく用いられる。ロジウムイオン、イリジウムイオンに代表される 遷移金属イオンは、各種の配位子を有する化合物であることもできる。そのような配 位子としては、例えば、シアン化物イオンやハロゲンイオン、チオシアナ一トイオン、 ニトロシルイオン、水、水酸ィ匕物イオンなどを挙げることができる。具体的な化合物の 例としては、臭化ロジウム酸カリウムやイリジウム酸カリウムなどが挙げられる。
[0018] 本発明において、ハロゲンィ匕銀粒子に含有されるロジウム化合物及び Z又はイリジ ゥム化合物の含有率は、ハロゲン化銀粒子の銀のモル数に対して、 10— ω〜： LO— 2モル Ζモル Agあることが好ましぐ 10— 9〜： LO— 3モル Zモル Agであることがさらに好ましい。
[0019] その他、本発明では、 Pdイオン、 Ptイオン、 Pd金属及び Z又は Pt金属を含有する ハロゲンィ匕銀粒子も好ましく用いることができる。 Pdや Ptははハロゲンィ匕銀粒子内に 均一に分布していてもよいが、ハロゲンィ匕銀粒子の表層近傍に含有させることが好ま しい。
[0020] 本発明にお 、て、ハロゲン化銀に含まれる Pdイオン及び/又は Pd金属の含有率 は、ハロゲン化銀粒子の銀のモル数に対して 10— 6〜0. 1モル Zモル Agであることが 好ましく、 0. 01〜0. 3モル Zモル Agであることがさらに好ましい。
[0021] 本発明では、さらに感度を向上させるため、写真乳剤で行われる化学増感を施すこ ともできる。化学増感としては、例えば、金、パラジウム、白金増感などの貴金属増感 、無機ィォゥ、または有機ィォゥ化合物、有機セレンィ匕合物、有機テルル化合物等に よるィォゥ増感、セレン増感、テルル増感などのカルコゲン増感、塩化錫、ヒドラジン 等還元増感等を利用することができる。
[0022] 化学増感されたハロゲンィ匕銀粒子を分光増感することができる。好ま 、分光増感 色素としては、シァニン、力ノレボシァニン、ジカノレボシァニン、複合シァニン、へミシァ ニン、スチリール色素、メロシアニン、複合メロシアニン、ホロポーラ一色素等を挙げる ことができ、当業界で用いられて 、る分光増感色素を単用或いは併用して使用する ことができる。
[0023] 特に有用な色素は、シァニン色素、メロシアニン色素、及び複合メロシアニン色素 である。これらの色素類には、その塩基性異節環核として、シァニン色素類に通常利 用される核の何れをも通用できる。すなわち、ピロリン核、ォキサゾリン核、チアゾリン 核、ピロール核、ォキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、 テトラゾール核、ピリジン核及びこれらの核に脂環式炭化水素環が融合した核;及び これらの核に芳香族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズインドレ ニン核、インドール核、ベンズォキサゾール核、ナフトォキサゾール核、ベンゾチアゾ ール核、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール核、キノリ ン核などである。これらの核は、炭素原子上で置換されてもよい。
[0024] メロシアニン色素又は複合メロシアニン色素には、ケトメチレン構造を有する核とし て、ピラゾリンー5 オン核、チォヒダントイン核、 2 チォォキサゾリジン 2, 4 ジ オン核、チアゾリジン 2, 4 ジオン核、ローダニン核、チォバルビツール酸核など の 5から 6員異節環核を適用することができる。特に好ま U、増感色素は近赤外増感 色素である。これらの色素は特開 2000— 347343号公報、特開 2004— 037711号 公報及び特開 2005— 134710号公報を参考にすることができる。好ましい具体例を 下記に示す。
[0025] [化 1]
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3
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[0027] これらの増感色素は単独に用いても良いが、それらの組み合わせを用いても良い。
増感色素の組み合わせは特に、感光領域の拡大と強色増感の目的でしばしば用い られる。
[0028] これらの増感色素をハロゲンィ匕銀粒子乳剤中に含有せしめるには、それらを直接 乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メタノール、プロパノール、メチルセ口ソルブ 、 2, 2, 3, 3—テトラフルォロプロパノール等の溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解 して孚 L剤へ添カロしてもよい。また、特公昭 44 23389号、同 44 27555号、同 57 — 22089号等に記載の様に酸又は塩基を作用させて水溶液としたり、米国特許第 3 , 822, 135号、同 4, 006, 025号等【こ記載の様【こド、デシノレベンゼンスノレホン酸ナト リウム等の界面活性剤を作用させて水溶液或いはコロイド分散物としたものを乳剤へ 添加してもよい。又、フエノキシエタノール等の実質上水と非混和性の溶媒に溶解し た後、水又は親水性コロイド分散したものを乳剤に添加してもよい。特開昭 53— 102 733号、同 58— 105141号に記載の様に親水性コロイド中に直接分散させ、その分 散物を乳剤に添加してもよ ヽ。
[0029] ノ、ロゲン化銀粒子含有層にお 、て、バインダーは、ハロゲンィ匕銀粒子を均一に分 散させ、かつハロゲン化銀粒子含有層と支持体との密着を補助する目的で用いるこ とができる。本発明においては、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバ インダーとして用いることができる力 水溶性ポリマーを用いることが好まし!/、。
[0030] バインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビュルアルコール（PVA)およびその誘 導体、ポリビニルピロリドン (PVP)、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、 ポリエチレンオキサイド、ポリビニルァミン、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらは、 官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
[0031] ノ、ロゲン化銀粒子含有層中に含有されるノインダ一の含有量は、特に限定されず 、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。ハロゲン化銀粒子 含有層中のバインダーの含有量は、 Ag/バインダー質量比で 0. 2〜： LOOであること 力 S好ましく、 0. 3〜30であることがより好ましぐ 0. 5〜15であることがさらに好ましい 。ハロゲン化銀粒子含有層中に Agをバインダーに対して質量比で 0. 5以上含有す れば、加熱加圧処理において金属粒子同士が互いに接触しやすぐ高い導電性を 得ることが可能であるため好ま 、。
[0032] 支持体としては、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラスなどを用いることがで きる。プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレン テレフタレート（PET)、ポリエチレンナフタレート（PEN)などのポリエステル類、ポリエ チレン（PE)、ポリプロピレン（PP)、ポリスチレンなどのビュル系榭脂、ポリカーボネー ト（PC)、トリァセチルセルロース (TAC)などを用いることができる。
[0033] 透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、上記プラスチックフィルムは P ET、 PEN, TACであることが好ましい。
[0034] ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は 高!、ことが望ま U、。この場合におけるプラスチックフィルム又はプラスチック板の全 可視光透過率は好ましくは 70〜100%であり、より好ましくは 80〜100%であり、さら に好ましくは 90〜： LOO%である。また、本発明では、色気調節剤として前記プラスチ ックフィルム及びプラスチック板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用 いることちでさる。
[0035] 本発明に係る感光性層（ハロゲンィ匕銀粒子乳剤層）の塗布液作製のために用いら れる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒 (例えば、メタノ ール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチ ルケトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスル ホキシド類、酢酸ェチルなどのエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれ らの混合溶媒を挙げることができる。
[0036] 感光性層（ハロゲン化銀粒子乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記銀含有層 に含まれるハロゲンィ匕銀粒子、バインダー等の合計の質量に対して 30〜90質量％ の範囲であることが好ましぐ 40〜80質量％の範囲であることがより好ましい。
[0037] (露光）
本発明では、支持体上に設けられた感光性層 (ハロゲンィ匕銀粒子乳剤層）の露光 を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光 線、紫外線などの光、電子線、 X線などの放射線等が挙げられるが、紫外線または近 赤外線が好ましい。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよぐ波長分 布の狭 、光源を用いてもょ 、。
[0038] 可視光線は必要に応じてスペクトル領域に発光を示す各種発光体が用いられる。
例えば、赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のいずれか 1種又は 2種以上が混合 されて用いられる。スペクトル領域は、上記の赤色、緑色及び青色に限定されず、黄 色、橙色、紫色或いは赤外領域に発光する蛍光体も用いられる。また、紫外線ランプ も好ましぐ水銀ランプの g線、水銀ランプの i線等も利用される。
[0039] また本発明では、露光は種々のレーザービームを用いて行うことができる。例えば、 本発明における露光は、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導体レ 一ザ一又は半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線形光学結晶を 組合わせた第二高調波発光光源 (SHG)等の単色高密度光を用いた走査露光方式 を好ましく用いることができ、さらに KrFエキシマレーザー、 ArFエキシマレーザー、 F 2レーザー等も用いることができる。システムをコンパクトで、迅速なものにするために 、露光は、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは固体レーザーと非線形光学結 晶を組合わせた第二高調波発生光源 (SHG)を用いて行うことが好ま 、。特にコン パクトで、迅速、さらに寿命が長ぐ安定性が高い装置を設計するためには、露光は 半導体レーザーを用いて行うことが好まし 、。
[0040] レーザー光源としては、具体的には、紫外半導体、青色半導体レーザー、緑色半 導体レーザー、赤色半導体レーザー、近赤外レーザなどが好ましく用いられる。
[0041] ハロゲン化銀粒子含有層を画像状に露光する方法は、フォトマスクを利用した面露 光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。この際、レンズ を用いた集光式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよぐ面々接触露光、近接 場露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いることができる。レー ザの出力は、ハロゲン化銀を感光させるのに適した量であればよいので/ z W〜5Wレ ベルでよい。
[0042] (現像処理）
本発明では、感光性層 (ハロゲンィ匕銀粒子乳剤層）を露光した後、露光によって形 成された潜像 (金属銀)を触媒として、現像処理が行われる。現像処理は、ハロゲン 化銀粒子写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用ェマルジヨンマ スク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については 特に限定はしないが、 PQ現像液、 MQ現像液、 MAA現像液等を用いることができ る。
[0043] 本発明では、上記の露光及び現像処理を行うことにより金属銀部、好ましくは画像 状金属銀部が形成されると共に、後述する光透過性部が形成される。
[0044] 本発明における現像処理は、未露光部分のハロゲンィ匕銀粒子を除去して安定化さ せる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、ハロ ゲン化銀粒子写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用ェマルジョ ンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
[0045] 本発明に用いる現像組成物は、現像主薬、即ち、銀イオン還元剤として、ハイド口 キノン、ハイド口キノンスルホン酸ナトリウム、クロルハイドロキノン等のハイドロキノン類 の他に、 1—フエニル一 3—ビラゾリドン、 1—フエニル一 4, 4—ジメチル一 3—ビラゾリ ドン、 1—フエニル一 4—メチル 4 ヒドロキシメチル一 3 ピラゾリドン、 1—フエニル 4ーメチルー 3—ビラゾリドン等のビラゾリドン類及び N—メチルパラアミノフェノール 硫酸塩等の超加成性現像主薬と併用することができる。又、ハイドロキノンを使用しな いでァスコルビン酸やイソァスコルビン酸などレダクトン類ィ匕合物を上記超加成性現 像主薬と併用することが好ましい。
[0046] 保恒剤として亜硫酸ナトリウム塩や亜硫酸カリウム塩、緩衝剤として炭酸ナトリウム塩 や炭酸カリウム塩、現像促進剤としてジエタノールァミン、トリエタノールァミン、ジェ チルァミノプロパンジオール等を含むことができる。
[0047] 現像液は水酸ィ匕ナトリウム、水酸ィ匕カリウム等のアルカリ剤で pHを 9〜12の範囲に 調節することができる。 pHは一般的には、保存性が良い 10±0. 5の範囲とされるが 、迅速処理用として ρΗ11 ±0. 5とすることもできる。現像処理は、 20〜40°C、 1〜9 0秒の処理条件で実施することができる。また現像促進剤や増感剤を使用して現像 液や定着液の補充量をそれぞれ lm2当たり 5〜216mlの範囲或いはこれ以下にす ることができる。補充量低減は、乳剤の増感技術によりハロゲンィ匕銀粒子の使用量を 低減することが特に効果的であり、上記現像促進技術と併用して達成することができ る。
[0048] 現像処理で用いられる現像液は、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有す ることができる。画質向上剤としては、例えば、 1—フエ-ルー 5—メルカプトテトラゾー ル、 5—メチルベンゾトリアゾールなどの含窒素へテロ環化合物を挙げることができる
[0049] 本発明における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、 4. 0を超 えることが好ましい。現像処理後の階調が 3. 0を超えると、光透過性部の透明性を高 く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を 3. 0以上にする 手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる
[0050] 本発明に使用する定着液は、定着剤としてチォ硫酸ナトリウム、チォ硫酸カリウム、 チォ硫酸アンモ-ゥム等を使用することができる。定着時の硬膜剤として硫酸アルミ ゥム、硫酸クロミゥム等を使用することができる。定着剤の保恒剤としては、現像組成 物で述べた亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、ァスコルビン酸、エリソルビン酸等を使 用することができ、その他にクェン酸、蓚酸等を使用することができる。
[0051] 水洗水には、防黴剤として N—メチルーイソチアゾールー 3 オン、 N—メチルーィ ソチアゾールー 5—クロロー 3—オン、 N—メチルーイソチアゾールー 4, 5—ジクロ口 —3—オン、 2 -トロ一 2 ブロム一 3 ヒドロキシプロパノール， 2—メチル 4 ク ロロフエノール、過酸ィ匕水素等を使用することができる。
[0052] (導電性金属部）
次に、本発明における導電性金属部につ!、て説明する。
[0053] 本発明では、導電性金属部は、前述した露光及び現像処理により形成された金属 銀部を加圧処理し、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させることにより形成さ れる。これにより、導電性金属部に存在する金属粒子または金属フィラメントが、加熱 及び Zまたは加圧により、密導に接触することにより導電性が向上する。
[0054] 加圧に際しては、プレート上でプレートでカ卩圧する面一面加圧やロールとロールの 間に本発明の電磁波遮蔽材料を通過させながら加圧させる-ップロール加圧や、プ レート上をロールで加圧する組み合わせた加圧を採用することができる。加圧の大き さは lkPから lOOMPaの範囲で任意に可能であるが、好ましくは 10kPa〜 lOMPa の範囲、より好ましくは、 50kPa〜5MPaである。加圧が lkPより少ないと粒子同士の 接触の効果が得られないし、 lOOMPa以上では、面を平滑に保つことができに《へ ィズが上昇するので好ましくな!/、。
[0055] また、加圧に際して加熱すると効果的になるので、 40°C〜300°Cの範囲で加熱す ることが好ましい。加熱の時間は温度との関係で調節されて、高い温度では、短ぐ 低温では長くと!、うようにすることができる。
[0056] 加熱の方法は、 -ップロールの場合には、ロールを予め所定の温度に加熱しておく 方法やオートクレープ室のような加熱室内で過熱する方法がある。所定の大きさの試 料を複数枚枚葉積層して一度に加熱する方法は、生産性が高 ヽので好適である。 加熱の効果を高めるためには、バインダーに熱可塑性の素材を単独または併用する ことが好ましい。硝子転移点が 40°C以下のポリマーを併用するとよい。そのようなポリ マーとしては、単独のホモポリマー、 2成分以上の多成分のコポリマーを使用できる。 また、力ルバナウワックスのような天然のワックスや鎖延長した人工のワックス或いは口 ジン類等を使用しても良い。
[0057] 又加熱の方法としてレーザ加熱を採用しても良い。レーザー光の種類としては、レ 一ザ一光を照射させる銀の付き量、溶着剤等との関係力 適宜選定して用いることが できる。例えば、ネオジムレーザー、 YAGレーザー、ルビーレーザー、ヘリウムーネ オンレーザー、クリプトンレーザー、ァノレゴンレーザー、 Hレーザー、 Nレーザー、半
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導体レーザー等のレーザー光をあげることができる。より好まし 、レーザーとしては、
YAG：ネオジム 3 +レーザー（レーザー光の波長： 1060nm)や半導体レーザー（レ 一ザ一光の波長： 500〜1000nm)をあげることができる。レーザー光の出力は、 5〜 1000Wであることが好ましい。レーザは連続波長でも良いし、パルス波でもよい。ノ ルス波の幅を制御すると加温の調節が可能であり、最適条件を求め易い。レーザの 出力が 1000Wを超えるとアブレーシヨンがおこり、揮発蒸散が発生し易いので好まし くない。
[0058] 本発明では、 800ηπ！〜 lOOOnmの範囲の赤外半導体レーザを使用するのが好ま しい。
[0059] 透光性電磁波遮蔽材料の用途にお!、て、上記導電性金属部の線幅は 20 μ m以 下、線間隔は 50 m以上であることが好ましい。また、導電性金属部は、アース接続 などの目的においては、線幅は 20 mより広い部分を有していてもよい。また画像を 目立たせなくする観点からは、導電性金属部の線幅は 18 μ m未満であることが好ま しぐ 15 m未満であることがより好ましぐ 14 m未満であることがさらに好ましぐ 1 0 m未満であることがさらにより好ましぐ 7 m未満であることが最も好ましい。
[0060] 本発明の電磁波シールド膜は、開口率が 85%以上 99. 9%以下であり、かつ表面 抵抗率が 10—6以上 102ΩΖ口以下であることが好ましい。即ち、本発明における導電 性金属部は、可視光透過率の点から開口率は 85%以上であることが好ましぐ 90% 以上であることがさらに好ましぐ 95%以上であることが最も好ましい。開口率とは、メ ッシュをなす細線のない部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅 10 /ζ πι、ピッ チ 200 μ mの正方形の格子状メッシュの開口率は、 90%である。
[0061] 本発明における「光透過性部」とは、透光性電磁波シールド膜 (遮蔽材料)のうち導 電性金属部以外の透明性を有する部分を意味する。光透過性部における透過率は
、前述のとおり、支持体の光吸収及び反射の寄与を除いた 400〜750nmの波長領 域における透過率の最小値で示される透過率が 90%以上、好ましくは 95%以上、さ らに好ましくは 97%以上であり、さらにより好ましくは 98%以上であり、最も好ましくは 99%以上である。
[0062] 透光性電磁波遮蔽材料における支持体の厚さは、 5〜200 μ mであることが好まし く、 30〜150 /ζ πιであることがさらに好ましい。 5〜200 mの範囲であれば所望の 可視光の透過率が得られ、かつ取り扱いも容易である。
[0063] 支持体上に設けられる金属銀部の厚さは、支持体上に塗布されるハロゲン化銀粒 子含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属銀部の厚さは 、 30 m以下であることが好ましぐ 20 m以下であることがより好ましぐ 0. 01〜9 μ mであることがさらに好ましぐ 0. 05〜5 μ mであることが最も好ましい。
[0064] 導電性金属部の厚さは、ディスプレイの電磁波遮蔽材の用途としては、薄 ヽほどデ イスプレイの視野角が広がるため好ましい。さらに、導電性配線材料の用途としては、 高密度化の要請力 薄膜ィ匕が要求される。このような観点から、導電性金属部に担 持された導電性金属からなる層の厚さは、 9 μ m未満であることが好ましぐ 0. 1 m 以上 5 μ m未満であることがより好ましぐ 0. 1 m以上 3 μ m未満であることがさらに 好ましい。
[0065] 本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。こ の機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁 波遮蔽材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防 止層や、ノングレアー層またはアンチグレアー層（共にぎらつき防止機能を有する）特 定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去し やすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する 層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。これら の機能層は、ハロゲンィ匕銀粒子含有層と支持体とを挟んで反対側の面に設けてもよ ぐさらに同一面側に設けてもよい。
[0066] これらの機能性膜は PDPに直接貼合してもよぐプラズマディスプレイパネル本体と は別に、ガラス板やアクリル榭脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの機能 性膜を光学フィルター（または単にフィルター）と呼ぶことができる。
[0067] 反射防止機能を付与した反射防止層は、外光の反射を抑えてコントラストの低下を 抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケィ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫ィ匕 物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビ ームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル榭脂、フッ素榭脂 等の屈折率の異なる榭脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反 射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。また、ノング レア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルター上に張り付けることも できる。更に必要で有ればノ、ードコート層を設けることもできる。
[0068] 特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、 PDPが青色を発 光する蛍光体が青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有しているため、青 色に表示されるべき部分が紫が力つた色で表示されるという問題があり、この対策とし て発色光の補正を行う層であり、 595nm付近の光を吸収する色素を含有する。この ような特定波長を吸収する色素としては、具体的には例えば、ァゾ系、縮合ァゾ系、 フタロシア-ン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジ才キサジ ン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チォ インジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機染料、無機顔料が挙げら れる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノ ン系色素が特に好ましい。
[0069] (硬調化剤）
本発明にお ヽては、金属イオン還元剤と金属の元素を含有する化合物との反応を 促進する補助剤として、写真技術の分野で、公知の種々の硬調化剤或いは造核剤と 呼ばれている種々の化合物を使用することができる。それらの化合物のうち、特に、 含窒素有機化合物、例えば、ヒドラジンィ匕合物、テトラゾリゥム化合物等が好ましい。
[0070] また、金属の元素を含有する化合物から金属を形成する際に触媒として作用する 金属触媒を共存させることが好ましい。例えば、銀塩写真システムにおける潜像 (銀 クラスター）などが挙げられる。 [0071] 本発明に係るハロゲンィ匕銀写真感光材料にぉ ヽて塩化銀含有率が 60モル％以上 のハロゲンィ匕銀粒子には、硬調化剤としてヒドラジンィ匕合物、またはテトラゾリゥムィ匕 合物 (Tィ匕合物ともいう）を含有することができる。さらに硬調化助剤としてアミンィ匕合 物を使用することができる。
[0072] ヒドラジンィ匕合物としては NHNH 基を有する化合物であり、代表的なものとし て下記一般式 〕で示すことができる。
[0073] 一般式〔H〕 t— NHNHCH0 U¾t— NHNHCOCO—v
式中、 t及び Vは置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいァリール基、置換さ れてもよいへテロ環基を表し、また Vは置換されてもよいアミノ基を表す。 tおよび Vで 表されるァリール基としてはベンゼン環やナフタレン環を表し、ヘテロ環基としてはピ リジン環やキノリン環を含む。ァリール基には、種々の置換基で置換されてもよぐ好 まし 、置換基として直鎖、分岐のアルキル基 (好ましくは炭素数 1から 20までの例え ばメチル、ェチル、イソプロピル、 n—ドデシル基等）、アルコキシ基 (好ましくは炭素 数 2から 21のもの、例えばメトキシ、エトキシ基等）、脂肪族ァシルァミノ基 (好ましくは 炭素数 2から 21のアルキル基をもつもの、例えばァセチルアミ入ヘプチルァミノ基等 )、芳香族ァシルァミノ基等が挙げられ、これらの他に例えば上記のような置換または 無置換の芳香族環が— CONH—、— O—、 -SO NH—、— NHCONH—、— CH
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CH N のような連結基で結合しているものも含む。また Vは置換されたァミノ基が好
2 2
ましぐピベリジルー 4 アミノ基を骨格に持つ化合物が好ましい。
[0074] これらヒドラジン化合物は例えば米国特許 4, 269, 929号明細書記載の合成法を 参考にして合成することができる。
[0075] ヒドラジンィ匕合物は乳剤層中、または乳剤層に隣接する親水性コロイド層中、更に は他の親水性コロイド層中に含有せしめることができる。添加方法はメタノールやエタ ノール等のアルコール類、エチレングリコール類、エーテル類、ケトン類等に溶解して 力 添加することができる。添力卩量はハロゲン化銀 1モル当たり 10— 6〜： L0—1モルでよく 、より好ましくは 10— 4〜： L0— 2モルの範囲である。
[0076] 本発明に好ましく用いられるヒドラジンの化合物例を下記に挙げる。
(a) 1 ホルミルー2—{ [4— (3— n—ブチルウレイド）フエ-ル] }ヒドラジン、 （b) 1 —ホルミル— 2— {4— [2— (2, 4 ジ— tertペンチルフエノキシ）ブチルアミド]フエ -ル }ヒドラジン、 (c) l - (2, 6—テトラメチルピペリジノォキザリルアミド）一 2— {4— [ 2- (2, 4 ジ— tertペンチルフエノキシ）ブチルアミド]フエ-ル}ヒドラジン、（d) l— (2, 6—テトラメチルピペリジノォキザリルアミド） 2— {4 [2—（2, 4 ジー tertぺ ンチルフエノキシ）ブチルアミド]フエ-ルスルホンアミドフエ-ル}ヒドラジン、（e) 1— ( 2, 6—テトラメチルピペリジノォキザリルアミド） 2—{ 3—[1 フエ-ルー！/ p— クロ口フエ-ルメタンチォグリシンアミドフエ-ル]スルホンアミドフエ-ル}ヒドラジン、（f
) 1—ホルミル一 2— { [4— (ォクチルーテトラエチレンオキサイド一チォ一グリシンアミ ドフエ-ル）ースルホンアミドフエ-ル] }ヒドラジンなどである。上記例示化合物の中で (c)、 (d)、 (e)のように一般式の Vが置換されたァミノ基であるタイプが特に好ま 、。
[0077] 次に本発明に用いられる硬調化剤としてのテトラゾリゥム化合物としては下記一般 式で表される。
[0078] [化 3]
Figure imgf000020_0001
[0079] 式中、 R1 R2および R3は、それぞれ置換されてもよ!、アルキル基、ァリール基、へテ 口環基を表す。好ましい置換基としては炭素数 1から 16のアルキル基、炭素数 1から 8のアルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、シァノ基、アミノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン 原子、ニトロ基である。 ΧΊまァ-オンを表し、ァ-オン性基としてはハロゲン原子、置 換または無置換の炭素数 1から 24のアルキル基を有したアルキルスルホン酸基また はアルキルベンゼンスルホン酸基、アルキルカルボン酸基、アルキルベンゼンカルボ ン酸基等である。
[0080] 本発明に好ましく用いられるテトラゾリゥム塩の化合物例を下記に挙げる。
(1) 2, 3 ジ（p—メトキシフエ-ル）一 5 フエ-ルテトラゾリゥムクロリド（2) 2, 3 ジ（ P—メチルフエ-ル）一 5—フエ-ルテトラゾリゥムクロリド
(3) 2, 3 ジ（o—メチルフエ-ル）一 5 フエ-ルテトラゾリゥムクロリド（4) 2, 3, 5 ト リ（p—メチルフエ-ル)テトラゾリゥムクロリド (5) 2, 3 ジ (p—メトキシフエニル） - 5- (p—メトキシフエ-ル)テトラゾリゥムクロリド
(6) 2, 3 ジ（p—メチルフエ-ル） 5— (p エトキシフエ-ル）テトラゾリゥムクロリド
(7) 2, 3 ジ（p ヒドロキシフエ-ル） 5— (p シァノエチルフエ-ル）テトラゾリゥ ムクロリド
(8) 2, 3, 5 トリ（p—メトキシフエニル)テトラゾリゥムクロリド
(9) 2, 3, 5 トリ（m—メチルフエ-ル)テトラゾリゥムクロリド本発明では上記を含めて 特公平 5— 58175号記載のテトラゾリゥム化合物を使用することができる。
[0081] ハロゲン化銀写真感光材料には硬調化助剤としてのアミンィ匕合物を含有することが できる。アミンィ匕合物としては少なくとも一つの窒素原子を含む下記一般式で表すこ とがでさる。
[0082] R—N (Z)—Q または R—N (Z)—L— N (W)—Q
式中の R、 Q、 Z、 Wは炭素数 2から 30の置換または無置換のアルキル基を表し、こ れらのアルキル基は窒素、硫黄、酸素などのへテロ原子と結合されていてもよい。尺と Zあるいは Qと Wは互いに飽和又は不飽和の環を形成してもよ 、。 Lは 2価の連結基 を表し、連結基の中には硫黄、酸素、窒素などのへテロ原子が結合されていてもよい 。連結基 Lの炭素数は 1から 200まで、硫黄原子は 1から 30まで、窒素原子は 1〜20 まで、酸素原子は 1から 40までそれぞれ可能であるが特に限定されるものではない。
[0083] これらのアミンィ匕合物の具体例を下記に示すがこれらに限定されるものではない。
[0084] ジェチルァミノエタノール、ジメチルァミノ 1 , 2プロパンジオール、 5 ァミノ 1 ペンタノール、ジェチルァミン、メチルァミン、トリエチルァミン、ジプロピルァミン、 3— ジメチルァミノ 1 プロパノール、 1 ジメチルァミノ 2—プロパノール、ビス（ジメ チルアミノテトラエトキシ）チォエーテル、ビス（ジェチルァミノペンタエトキシ）チォェ 一テル、ビス（ピペリジノテトラエトキシ）チォエーテル、ビス（ピペリジノジエトキシ）チ ォエーテル、ビス（ジシァノエチルアミノジエトキシ）エーテル、ビス（ジエトキシェチル アミノテトラエトキシ）エーテル、 5—ジブチルアミノエチルカルバモイルペンゾトリアゾ ール、 5 モルホリノェチルカルバモイルペンゾトリァゾール、 5—（2—メチルイミダゾ 一ルー 2 エチレン）力ルバモイルベンゾトリァゾール、 5 ジメチルアミノエチルウレ ィレンべンゾトリァゾール、 5 ジェチルアミノエチルゥレイレンべンゾトリァゾール、 1 ージェチルアミノー 2—（6 ァミノプリン）ェタン、 1 （ジメチルアミノエチル） 5—メ ルカプトテトラゾール、 1ーピベリジノエチルー 5 メルカプトテトラゾール、 1 ジメチ ルァミノ 5 メルカプトテトラゾール、 2 メルカプト 5 ジメチルアミノエチルチオ チアジアゾール、 1 メルカプト 2—モルホリルェタンなどが挙げられる。
[0085] これらのァミン化合物は例えば特開昭 57— 120434号、同 57— 129435号、同 57 — 129436号、同 60— 129746号、同 56— 94347号、同 60— 140340号、同 60— 218642号、同 60— 66248号、米国特許 3, 021, 215号、同 3, 046, 134号、同 3 , 523, 787号、同 3, 746, 545号、同 4, 013, 471号、同 4, 038, 075号、同 4, 0 72, 523号、同 4, 072, 526号等に記載の化合物も適宜選択して使用することがで きる。
[0086] (近赤外線吸収膜）
本発明の電磁波シールド膜を有する電磁波遮蔽フィルムをプラズマディスプレイ用 光学フィルムとして使用する場合には、近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収層 を、電磁波遮蔽層と同一側もしくは反対側に、直接塗布するカゝ、もしくは別の支持体 上に設けた近赤外線吸収層を有するシートを粘着剤などを介して、本発明の電磁波 遮蔽フィルムに貼り付けることにより、赤外線による電子機器の誤動作を防止すること ができる。
[0087] 近赤外線吸収剤の具体例としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシア ニン系、金属錯体系、アミニゥム系、ィモニゥム系、ジィモニゥム系、アンスラキノン系 、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフエノール系、ァゾ系、トリァリ ルメタン系の化合物などが挙げられる。
[0088] PDP用光学フィルタで近赤外線吸収能が要求されるのは、主として熱線吸収ゃ電 子機器のノイズ防止である。このためには、最大吸収波長が 750〜： L lOOnmである 近赤外線吸収能を有する色素が好ましぐ金属錯体系、アミニゥム系、フタロシアニン 系、ナフタロシアニン系、ジィモ -ゥム系が特に好ましい。
[0089] 従来知られて!/、るニッケルジチオール錯体系化合物またはフッ素化フタロシアニン 系化合物の吸収極大は、 700〜900nmであり、実用化するに当たっては、通常、上 記化合物よりも長波長域に吸収極大を有するアミ二ゥム系化合物、特にはジインモニ ゥム系化合物と組み合わせて用いることにより、有効な近赤外線吸収効果を得ること ができる。（特開平 10— 283939号公報、特開平 11 73115号公報、特開平 11 231106号公報等）。その他に、特開平 9— 230931号公報のビス（1—チォ— 2 フ エノレート）ニッケルーテトラブチルォユウム塩錯体、特開平 10— 307540号公報の ビス（1ーチォ 2—ナフトレート）ニッケルーテトラブチルアンモ-ゥム塩錯体等を挙 げることがでさる。
ジィモ二ゥム系化合物として具体的な化合物を下記に示す。
(IR- 1)： N, N, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一 η—ブチルァミノフエ-ル）一 1, 4— ベンゾキノン一ビス（ィモ -ゥム ·へキサフルォロアンチモン酸）
(IR- 2)： Ν, Ν, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一 η—ブチルァミノフエ-ル）一 1, 4— ベンゾキノン ビス（ィモ -ゥム ·過塩素酸）
(IR- 3)： Ν, Ν, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一アミルァミノフエ-ル）一 1, 4 ベンゾ キノン一ビス（ィモ -ゥム ·へキサフルォロアンチモン酸）
(IR-4)： Ν, Ν, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一 η—プロピルァミノフエ-ル）一 1, 4— ベンゾキノン一ビス（ィモ -ゥム ·へキサフルォロアンチモン酸）
(IR- 5)： Ν, Ν, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一 η—へキシルァミノフエ-ル）一 1, 4
-ベンゾキノン ビス（ィモ -ゥム ·へキサフルォロアンチモン酸）
(IR-6)： Ν, Ν, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一 iso プロピルアミノフエ-ル）一 1, 4
-ベンゾキノン ビス（ィモ -ゥム ·へキサフルォロアンチモン酸）
(IR- 7) : 7N, N, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一 η—ペンチルァミノフエ-ル）一 1, 4
-ベンゾキノン ビス（ィモ -ゥム ·へキサフルォロアンチモン酸）
(IR-8)： Ν, Ν, Ν' , Ν，一テトラキス（4 ジ一メチルァミノフエ-ル）一 1, 4 ベン ゾキノン ビス（ィモ -ゥム ·へキサフルォロアンチモン酸）
なお、近赤外線吸収能を有する色素を、色調補正層に含有させる場合、上記の色 素のうちいずれか 1種類を含有させてもよいし、 2種以上を含有させてもよい。赤外線 吸収染料の経時劣化を避けるために紫外線吸収染料を使用することが好まし 、 紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤、例えばサリチル酸系化合物、ベン ゾフエノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、 S トリアジン系化合物、環状イミ ノエステル系化合物などを好ましく使用することができる。これらの中、ベンゾフエノン 系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状ィミノエステル系化合物が好ましい。ポ リエステルに配合するものとしては、特に環状イミノエステル系化合物が好ましい。好 ましい具体例としては、
(UV-1) :2- (2 ヒドロキシ一 3, 5 ジ一 α—タミル） 2Η ベンゾトリアゾール (UV— 2) :5 クロ口 2— (2 ヒドロキシ 3 第三 ブチル 5 メチルフエ-ル )一 2Η—べンゾトリァゾーノレ
(UV— 3) :5 クロ口 2— (2 ヒドロキシ 3, 5 ジ—第三 ブチルフエ-ル） 2 Η ベンゾトリァゾーノレ
(UV— 4) :5 クロ口一 2— (2 ヒドロキシ一 3, 5 ジ α クミノレフエ-ノレ） 2Η 一べンゾトリァゾーノレ
(UV— 5):5 クロ口一 2— (2 ヒドロキシ一 3— α タミル 5 第三ォクチルフエ 二ノレ） 2Η—ベンゾトリァゾーノレ
(UV—6) :2—（3 第三ブチルー 2 ヒドロキシ 5—（2 イソォクチルォキシカル ボニルェチル）フエ-ル） 5 クロ口一 2Η ベンゾトリアゾール
(UV— 7)： 5 トリフルォロメチル 2— (2 ヒドロキシ一 3— α—タミル 5 第三ォ クチルフエ-ル） 2Η—ベンゾトリアゾール
(UV— 8) :5 トリフルォロメチル— 2— (2 ヒドロキシ— 5 第三ォクチルフエ-ル） 2Η—ベンゾトリァゾーノレ
(UV— 9) :5 トリフルォロメチル— 2— (2 ヒドロキシ— 3, 5 ジ—第三ォクチルフ ェニノレ） 2Η—ベンゾトリァゾーノレ
(UV-10)：メチル 3—（5 トリフルォロメチルー 2Η べンゾトリァゾルー 2 ィル） 5—第三ブチノレ 4 ヒドロキシヒドロシンナメート
(UV -11) :5-ブチルスルホ -ル 2— ( 2 ヒドロキシ -3- a -タミル 5 第三 ォクチルフエ-ル） 2H—ベンゾトリアゾール
(UV -12) :5-トリフルォロメチル 2— ( 2 ヒドロキシ一 3— α—タミル一 5 第三 ブチルフエ-ル）— 2Η—ベンゾトリアゾール
(UV-13) :2, 4 ビス（4 ビフエ-ルイル） 6— (2 ヒドロキシ一 4—ォクチルォ キシカルボ-ルェチリデンォキシフエ-ル） S トリァジン
(UV- 14) : 2, 4 ビス（2, 4 ジメチルフエ-ル）一 6— [2 ヒドロキシ一 4— (3— ノニルォキシ※ 2 ヒドロキシプロピルォキシ） 5 α タミルフエニル] s トリ ァジン（※はォクチルォキシ基、ノ-ルォキシ基およびデシルォキシ基の混合物を示 す。）
(UV- 15) : 2, 4, 6 トリス（2 ヒドロキシ一 4—イソォクチルォキシカルボ-ルイソ プロピリデンォキシフエ-ル）—s—トリァジン
(UV- 16)：ヒドロキシフエ-ルー 2Η ベンゾトリアゾール
(UV- 17) : 2- (2 ヒドロキシ一 5—メチルフエ-ル） 2Η ベンゾトリアゾール
(UV- 18) : 2- (3, 5 ジ—第三ブチル—2 ヒドロキシフエ-ル） 2Η ベンゾト リアゾーノレ等である。
[0091] 上記染料は、後述する微粒子化機械で平均粒子径 0. 01〜： LO μ mの微粒子にし て染料層に固定ィ匕するのが好ましぐ添加量としては光学濃度が、極大波長で 0. 05 力も 3. 0濃度の範囲で使用するのが好ましい。
[0092] (物理現像処理及びメツキ処理）
本発明では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部に導電性を付与 する目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像処理及 び Z又はメツキ処理を行う。本発明では物理現像処理又はメツキ処理のみで導電性 金属粒子を金属性部に担持させることが可能である力 さらに物理現像処理とメツキ 処理を組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部に担持させることもできる。
[0093] 本発明における「物理現像処理」とは、金属や金属化合物の核上に、可溶性金属 塩含有溶液中の銀イオンなどの金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させ ることをいう。この物理現象処理は、インスタント B&Wフィルム、インスタントスライドフ イルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができ る。また、物理現像処理は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別 途行ってもよい。
[0094] 本発明にお 、て、メツキ処理は、無電解メツキ (化学還元メツキや置換メツキ）、電解 メツキ、又は無電解メツキと電解メツキの両方を用いることができる。本発明における 無電解メツキは、公知の無電解メツキ技術を用いることができ、例えば、プリント配線 板などで用いられて 、る無電解メツキ技術を用いることができ、無電解メツキは無電 解銅メツキであることが好まし 、。
[0095] 無電解銅メツキ液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、還元剤としてホル マリンやダリオキシル酸、銅の配位子として EDTAやトリエタノールアミン等、その他、 浴の安定ィ匕ゃメツキ皮膜の平滑性を向上させるための添加剤としてポリエチレンダリ コール、黄血塩、ビビリジン等が挙げられる。電解銅メツキ浴としては、硫酸銅浴ゃピ 口リン酸銅浴が挙げられる。
[0096] 本発明におけるメツキ処理時のメツキ速度は、緩やかな条件で行うことができ、さら に 5 mZhr以上の高速メツキも可能である。メツキ処理において、メツキ液の安定性 を高める観点からは、例えば、 EDTAなどの配位子など種々の添加剤を用いることが できる。
[0097] (酸化処理）
本発明では、現像処理後の金属銀部、並びに物理現像処理及び Z又はメツキ処 理後に形成される導電性金属部には、好ましくは酸化処理が行われる。酸化処理を 行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を 除去し、光透過性部の透過性をほぼ 100%にすることができる。
[0098] 酸化処理としては、例えば、 Fe (III)イオン処理など、種々の酸化剤を用いた公知の 方法が挙げられる。酸化処理は、ハロゲン化銀粒子含有層の露光及び現像処理後、 あるいは物理現像処理又はメツキ処理後に行うことができ、さらに現像処理後と物理 現像処理又はメツキ処理後のそれぞれで行ってもよい。
[0099] 本発明では、さらに露光及び現像処理後の金属銀部を、 Pdを含有する溶液で処 理することもできる。 Pdは、 2価のパラジウムイオンであっても金属パラジウムであって もよ 、。この処理により無電解メツキ又は物理現像速度を促進させることができる。
[0100] (プラズマディスプレイ用光学フィルター）
上記電磁波シールドから、プラズマディスプレイ用光学フィルターを得るには、当該 電磁波シールドと、反射防止フィルム、もしくは、防眩フィルム、を組み合わせる。さら に、必要に応じて、波長 800nm〜1000nmの近赤外線領域に吸収極大を有する色 素を含有した榭脂層、もしくは、波長 380ηπ！〜 800nmの可視光領域に吸収極大を もつ色素を含有している榭脂層と、を組み合わせることが好ましい場合もある。
[0101] 反射防止フィルムは、フィルム表面に屈折率が低!ヽ材料と高!ヽ材料を適宜組み合 わせることで得ることができる。屈折率が低い材料としては、フッ素系の材料とシリコン 系の材料があるが必ずしもこれらに限定されるものではない。また、有機系材料でも 無機系材料でもカゝまわない。屈折率が高い材料としては、各種金属酸化物、例えば 、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化イットリウム、酸ィ匕ビスマス、酸化亜鉛 、等がある。これらの酸化物の薄膜を、真空蒸着法やスパッタリング法で直接形成し ても良いし、これら酸化物の粒子を榭脂に混練し、その榭脂を塗布してもよい。また、 反射防止フィルムの表面には、耐摩耗性を向上させる目的でいわゆるハードコートを 設けても良い。防眩フィルムとしては、直径 0. 2〜 10 m程度の透明なプラスチック 粒子を透明な榭脂とともに塗布することで得ることができる。その時の防眩の程度は、 粒子の大きさ、粒子の密度、榭脂の厚さ、粒子の屈折率、榭脂の屈折率により制御 することができる。
[0102] プラズマディスプレイの光学フィルタ一として本発明になる電磁波シールドを用いる ときには、フィルターの外延部に電極を設けることが好ましい。この電極は電磁波シ 一ルド能を確実に発現させるために、アースと網目状パターンを電気的に結合させる ために用いる。光学フィルターとしての構成を具体的に列挙すると、反射防止フィル ム Z粘着層 Zガラス基板 Z電磁波シールド、反射防止フィルム Z粘着層 Zガラス基 板 Z電磁波シールド Z800nmから lOOOnmに吸収極大を持つ色素を含有する榭 脂層、反射防止フィルム Z電磁波シールド Zガラス基板、反射防止防止フィルム Z8 OOnmから lOOOnmに吸収極大を持つ色素を含有する榭脂層 Z電磁波シールド Z ガラス基板、防眩フィルム Z粘着層 Zガラス基板 Z電磁波シールド、防眩フィルム Z 粘着層 Zガラス基板 Z電磁波シールド Z800nmから lOOOnmに吸収極大を持つ色 素を含有する榭脂層、防眩フィルム Z電磁波シールド Zガラス基板、防眩防止フィル ム Z800nmから lOOOnmに吸収極大を持つ色素を含有する榭脂層 Z電磁波シー ルド Zガラス基板、等である。 380nmから 800nmに吸収極大を有する色素を含有 する榭脂層としては、上記積層構成の適当な部分に用いれば良い。例えば、粘着材 、例えば、フィルムのコーティング層、例えば、フィルムへの練りこみである。
[0103] (560〜620nm吸収極大を有するプラズマディスプレイパネル用光学フィルム） 波長が 560乃至 620nmの範囲の吸収極大での透過率は、 5乃至 50%の範囲であ ることが望ましい。波長が 560乃至 620nmの範囲の吸収極大は、赤色蛍光体の色 純度を低下させているサブバンドを選択的にカットするために設定される。 PDPにお いては、ネオンガスの励起によって放出される 595nm付近の不要な発光もカットする 。本発明により吸収極大を分離したことで、緑の蛍光体の色調に悪影響を与えること 無ぐ選択的に光をカットできる。
[0104] 緑の蛍光体の色調への影響をさらに低下させるため、吸収スペクトルのピークをシ ヤープにすることが好ましい。具体的には、波長が 560乃至 620nmの範囲の吸収極 大での半値幅は、 15乃至 200nmであることが望ましぐ 20乃至 lOOnmであること力 S より好ましぐ 22乃至 80nmであることが最も好ましい。
[0105] 上記の吸収スペクトルを付与するために、色素 (染料または顔料、好ましくは染料） を用いて、可視フィルタ一層を形成する。波長が 500乃至 550nmの範囲に吸収極 大を持つ染料としては、スクァリリウム系、ァゾメチン系、シァニン系、ォキソノール系、 アントラキノン系、ァゾ系またはべンジリデン系の化合物が好ましく用いられる。ァゾ染 料としては、 GB539703号、同 575691号、 US2956879号および堀口博著「総説 合成染料」三共出版などに記載の多くのァゾ染料を使用することができる。一般式（ a6)で表わされるァゾ染料が好ましい。波長が 500乃至 550nmの範囲に吸収極大を 持つ染料の例を以下に示す。
[0106] [化 4]
Figure imgf000028_0001
[0107] [化 5] [6^ ] [ΐΐΐθ]
Figure imgf000029_0001
[6010]
Figure imgf000029_0002
[9^ ] [8010]
Figure imgf000029_0003
C.CTS0/.00Zdf/X3d 83 .08880/.00Z OAV
Figure imgf000030_0001
化合物 M ( 1), (R2),
(a6- 1) Cu 4-SOaNa 8- S03Na 5-S03Na
(a8— 2) Cu 4- CI,6-S03Na 8- S03Na 5-S03Na
(a6— 3) Cu 4,6,di- N02 8- S03Na 5-S03Na
[0112] R2および R3は、それぞれ独立に水素原子または一価の基を表わし、 Mは 金属原子を表わし、
Figure imgf000030_0002
m2および m3は、それぞれ独立に 1〜4の整数を表わす。 M で表わされる金属原子としては、遷移金属が好ましぐ Fe、 Co、 Ni、 Cu、 Zn、 Cdな どを挙げることができ、 Cuが特に好ましい。波長が 560乃至 620nmの範囲に吸収極 大を持つ染料としては、シァニン系、スクァリリウム系、ァゾメチン系、キサンテン系、 ォキソノール系またはァゾ系の化合物が好ましく用いられる。波長が 560乃至 620η mの範囲に吸収極大を持つ染料の例を以下に示す。
[0113] [化 10]
Figure imgf000030_0003
[0114] [化 11]
Figure imgf000031_0001
[0115] [化 12]
Figure imgf000031_0002
[0116] [化 13]
Figure imgf000031_0003
[0117] [化 14]
Figure imgf000031_0004
実施例
[0118] 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな い。
[0119] 実施例 1 水媒体中の Ag38gに対してゼラチン 6. 6gを含む、球相当径平均 0. 044 /z mの沃 臭化銀粒子 (1 = 2. 5モル％)を含有する乳剤を調製した。この際、 AgZゼラチン体 積比は 0. 65Z1とし、ゼラチン種としては平均分子量 4万のアルカリ処理低分子量 ゼラチンを用いた。また、この乳剤中には臭化ロジウム酸カリウム及び塩化イリジウム 酸カリウムを濃度が 10— 7 (モル/モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子に Rhイオン と Irイオンをドープした。この乳剤に塩化パラジウム酸ナトリウムを添加し、更に塩化金 酸とチォ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、近赤外色素をハロゲンィ匕銀 1モル当たり 10— 4モル添加し、近赤外増感 (色素構造は具体例表 1に示す。）をした 後、硬調化剤としてヒドラジン又はテトラゾリゥム化合物 (具体例の番号を表 1に示す。 )、促進剤のァミン化合物又はピリジン化合物（具体例の番号を表 1に示す)を添加し た。更に加圧、加熱時に銀粒子接触を促進するために、ロジンと力ルバナウワックス をそれぞれ 0. lg/m2、ビニルスルホン系のゼラチン硬膜剤（ゼラチン lg当たり 0. 1 モル）と共に、銀の塗布量が lgZm2 (ゼラチン付き量 lgZm2)となるようにポリエチレ ンテレフタレート（PET)上に塗布した。 PETは塗布前にあら力じめ両面にコロナ放電 処理（ 1 OOmwZm2)を施し親水化処理したものを用い一方には具体例に示されたィ モ -ゥム赤外吸収染料 (付き量 : 0.
Figure imgf000032_0001
具体例を表 1に示す)及び紫外線吸収 染料 (付き量: 0. lg/m2,具体例を表 1に示す)を平均粒子径を lOOnm以下に固 体分散させたゼラチン層 (付き量: lg/m2)と保護層 (ゼラチン層付き量: lg/m2、平 均粒子径 3 mのシリカマット剤を含む)を予め設けた。乾燥して、表 1に示す試料番 号 101〜108と、比較試料として試料番号 100を作製した。
[0120] 得られた、試料番号 100〜 108をライン Zスペース = 5 m/195 μ mの現像銀像 を与えうる格子状の描画パターンを与えるイメージセッタ（ライン Zスペース = 195 μ m/5 μ m (ピッチ 200 μ m) )を使用して近赤外半導体レーザ露光（810nm)し、下 記の現像液を用いて 25°Cで 45秒間現像し、さらに定着液を用いて現像処理を行つ た後、純水でリンスした。
[0121] (現像液組成）
ハイドロキノン 30g
1—フエニル一 3, 3—ジメチルピラゾリドン 1. 5g 臭化カリウム 3. Og
亜硫酸ナトリウム 50g
水酸化カリウム 30g
硼酸 10g
N—n—ブチルジェタノールァミン 15g
水をカ卩えて 11とし、 pHは 10. 20に調節した。
[0122] (定着液組成）
チォ硫酸アンモ-ゥム 72. 5%水溶液 240ml
亜流酸ナトリウム 17g
酢酸ナトリウム · 3水塩 6. 5g
硼酸 6. Og
クェン酸ナトリウム · 2水塩 2. Og
酢酸 90%水溶液 13. 6ml
硫酸 50%水溶液 4. 7g
硫酸アルミニウム (Al O換算含量が 8. 1%WZVの水溶液） 26. 5g
2 3
水をカ卩えて 11とし、 pHを 5. 0に調節した。
[0123] このようにして得られた、導電性金属部と光透過性部とを有するサンプルの導電性 金属部の線幅と表面抵抗値を測定した。表面抵抗値は横川電機製デジタルマルチ メーター 7541を用い抵抗値を測定した。抵抗値の測定は 23°C相対湿度 50%の部 屋で行った。作製試料の内容を表 1に、評価した性能結果を表 2に示す。
[0124] [表 1]
硬調化剤 ァミン化合物
試料名 備考
種類 添加 S ( ） 種類 添加量（*)
100 ― - - - 比較例
101 H - 1 1 X 10—3 A -10 1 xio一3 本発明
102 H― 1 2XI0"3 A -10 2X10—3 本発明
103 H - 2 1 X10— 3 A -12 1 XIO"3 本発明
104 H— 2 A -12 2X1CT3 本発明
105 T一 1 1 X10一3 A— 11 1 IO"3 本発明
106 T— 1 2 XX10"3 A -11 2X10"3 本発明
107 T- 2 o
1 xto 3 A -13 1 X10"3 本発明
108 T— 2 2X10"3 A -13 2 X 10"3 本発明
(氺）添加量はハロゲン化銀 1モル当たりの添加量（モル)
[0125] [表 2]
Figure imgf000034_0001
[0126] 表 2から明らかなように、本発明に係る試料は、高い電磁波シールド性と高い透明 性とを同時に有する電磁波シールド膜であって、細線状パターンの形成が容易にで き、特に細線の鮮鋭性が高ぐ色調が良好であり、比較例に対して優れていることが 分かる。
[0127] 実施例 2
(加圧及び加熱処理）
試料 104の現像後に、 10kPa〜100kPaの加圧と室温〜 300°Cの加熱処理を時 間変化させながらオートクレープ中で行った。作製試料 201〜205の内容と評価した 結果を表 3に示す。
[0128] [表 3] 表面抵抗値 可視光透過率
s式料名 加圧 加熱 鮮鋭性 色調 備考
( Ω/D) { % )
104 - - 0 .2 5 5 92 本発明
201 50kPa ― 0 .05 5 5 92 本発明
202 t OOkPa - 0.02 5 5 92 本発明
203 ― 80°C 0. 1 5 5 92 本発明
204 - 1 20°C 0.07 5 5 92 本発明
205 l OOkPa 1 20°C 0.01 5 5 92 本発明
[0129] 表 3から明らかなように、本発明に係る試料は、高い電磁波シールド性と高い透明 性とを同時に有する電磁波シールド膜であって、特に細線の鮮鋭性が高ぐ色調が 良好であり優れて 、ることが分かる。
[0130] 実施例 3
メツキ処理
上記のように露光、現像処理した各試料を、メツキ液 (硫酸銅 0. 06molZL、ホル マリン 0. 22mol/L、トリエタノールァミン 0. 12mol/L、ポリエチレングリコール 100 ppm、黄血塩 50ppm、 a , α '—ビピジジン 20ppmを含有する、 pH = 12. 5の無電 解 Cuメツキ液）を用い、 45°Cにて無電解銅メツキ処理を行ったのち、 lOppmの Fe (II I)イオンを含有する水溶液で酸化処理を行い、本発明のサンプル 301を得た。次に 、下記の評価を行った。
[0131] 〔評価方法〕
(表面抵抗値）
得られた試料 100〜301について、 5cm X 5cmに断裁し、横川電機製デジタルマ ルチメーター 7541を用いて抵抗値を測定した。抵抗値の測定は 23°C相対湿度 50 %の部屋で行った。
[0132] (可視光透過率）
得られた試料 100〜301につ!/、て、 JIS -R- 1635に従 、、日立製作所製分光光 度計 U— 4000型を用いて測定を行った。試験光の波長は 550nmとした。
[0133] (色調の評価）
得られたライン Zスペース = 5 m/195 μ mの格子状の描画パターンを描画した 試料 100〜301について、 3. 5cm X 5cmのサイズに断裁し、下記評価基準により目 視にて 5段階評価した。
[0134] 5 :全く着色がなぐ無色透明である。
[0135] 4 :かすかに着色が認められる。
[0136] 3 :着色が認められる力 ほとんど気にならないレベル。
[0137] 2 :着色が認められ、実用できないレベル。
[0138] 1 :強い着色が認められる。
[0139] (鮮鋭性の評価）
得られたライン Zスペース = 5 m/195 μ mの格子状の描画パターンを描画した 試料 100〜301について、 3. 5cm X 5cmのサイズに断裁し、下記評価基準により 5
0倍のルーペにて目視により 5段階評価した。
[0140] 5 :ラインとスペースの境界が明瞭に分かれており、ボケが無い。
[0141] 4：かすかに境界部分にボケが認められる。
[0142] 3 :境界部分にボケが認められる力 何とか実用できるレベル。
[0143] 2 :境界部分にボケが認められ、実用できないレベル。
[0144] 1：強!、ボケが認められる。
[0145] 上記の各種評価結果をまとめて表 4に示す。
[0146] [表 4]
Figure imgf000036_0001
[0147] 表 4から明らかなように、本発明に係る試料は、高い電磁波シールド性と高い透明 性とを同時に有する電磁波シールド膜であって、細線状パターンの形成が容易にで き、特に細線の鮮鋭性が高ぐ色調が良好であり優れていることが分力る。
[0148] 実施例 4
厚さ 100 mの PET (ポリエチレンテレフタレート）製の透明支持体に対して、一方 の側に下記の反射防止膜、ハードコート膜を塗布した。
[0149] (ハードコート膜）
紫外線硬化型アクリル榭脂（ァロニックス UV— 3700：東亜合成化学社) 25. 0質量 部、インジウムをドーピングした酸化スズ (粒子径： 0. 2〜2. 0 ^ πι) 8. 0質量部、メチ ルェチルケトン 24. 0質量部及びトルエン 33. 0質量部からなるハードコート層用塗 料をメイヤーバーにて塗布し、高圧水銀灯により紫外線を 1〜2秒照射して、ハードコ 一ト膜を得た。
[0150] (反射防止膜）
上記ハードコート膜上に、更に下記低屈折率層用塗工液を乾燥後の膜厚が 100 mになるように塗工し、 120°Cで 1時間の熱処理を行い、本発明の光学フィルムを得 た (低屈折率層の屈折率 = 1. 42)。得られた光学フィルムの全光線透過率は 94. 0 %、ヘイズ値 0. 5、可視光線の波長領域での最低反射率は 0. 5であり、反射防止性 に優れていた。
[0151] 〈低屈折率層形成用塗工液の調製〉
テトラエトキシシラン加水分解物 A (調製方法は下記に示す） 103質量部 y—メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(信越化学 (株)製、 KBM503) 1質量部
直鎖ジメチルシリコーン—EOブロックコポリマー
(日本ュニカー社 (株)製、 FZ— 2207) 0. 1質量部 中空シリカ系微粒子 (触媒ィ匕成工業 (株)製、 P— 4) 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 270質量部
イソプロピルアルコール 270質量部
(テトラエトキシシラン加水分解物 Aの調製）
テトラエトキシシラン 25gとエタノール 222gを混合し、これにクェン酸一水和物の 1. 5%水溶液 54gを添加した後に、室温にて 3時間撹拌して調製した。
[0152] 次に上記反射防止膜とハードコート膜を塗布した PET支持体の反対面に、下記色 素入りアクリル系粘着剤を塗布した。
[0153] 酢酸ェチル Zトルエン（50 : 50質量％)表剤に、下記（P— 1)で示されるテトラァザ ポルフィリンを分散'溶解させ、濃度が 1150ppmになるようにアクリル系粘着剤用色 素入り希釈剤とした。アクリル系粘着剤 Z色素入り希釈剤 (80： 20質量％)を混合し、 スライドコーターにて上記 PET支持体に塗布し、乾燥させて光学フィルタを作製した 。該フィルタについて、 日立製作所製分光光度計 U— 4100にて透過率を測定したと ころ、 590nmの吸収極大で 30%であった。
[0154] [化 15]
Figure imgf000038_0001
[0155] 上記色素入りアクリル系粘着剤面と、試料番号 301のライン Ζスペースを描画した 電磁波遮蔽層とを、気泡が入り込まないように貼り合わせ、プラズマディスプレイパネ ル用光学フィルム 401を作製した。
[0156] パイオニア製プラズマディスプレイ（PDP— 435HDL)の前面に貼られた光学フィ ルタを剥がし、代わりにプラズマディスプレイパネル用光学フィルム 401を前面ガラス 上に当てて、画面に白表示をさせて Ocean Optics社製超小型スぺクトロメータ U B2000にて赤外の発光スぺク卜ノレを柳』定したところ、 820nm、 880nm、 980nmに 強いピークが認められた。その後、試料 101 (30cm X 30cm)をパネル表面に貼付し 、 USB2000で同様の測定をした所、赤外の発光スペクトルは全て消失していること を確認した。
[0157] また、外光の映り込みについても良好であることが目視で確認され、プラズマデイス プレイパネル用光学フィルタとして十分な機能を果たして ヽることが確認された。

Claims

請求の範囲
[1] 金属を含有する金属部と光透過性部とを有する電磁波シールド膜であって、該金属 は、該金属の元素を含有する化合物から、金属イオン還元剤と、該金属イオン還元 剤と該化合物との反応を促進する補助剤、との共存下において形成された金属であ ることを特徴とする電磁波シールド膜。
[2] 前記金属は、前記金属イオン還元剤と、前記補助剤と、金属触媒、との共存下にお いて形成された金属であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の電磁波シー ルド膜。
[3] 前記補助剤が、窒素含有ィ匕合物であることを特徴とする請求の範囲第 1または 2項に 記載の電磁波シールド膜。
[4] 前記金属部が銀を含有し、かつ前記金属イオン還元剤が銀イオン還元剤であること を特徴とする請求の範囲第 1〜3項のいずれか 1項に記載の電磁波シールド膜。
[5] 前記補助剤が、ヒドラジンィ匕合物またはテトラゾリゥム化合物であることを特徴とする 請求の範囲第 3または 4項に記載の電磁波シールド膜。
[6] 電磁波シールド膜の製造方法において、支持体上に少なくとも 1層の、感光性ハロゲ ン化銀粒子、金属イオン還元剤および該金属イオン還元剤の反応を促進する補助 剤を含有する感光性層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、露光、現像処理する ことにより、金属銀部と光透過性部とを形成することを特徴とする電磁波シールド膜の 製造方法。
[7] 前記補助剤が、ヒドラジンィ匕合物またはテトラゾリゥム化合物であることを特徴とする 請求の範囲第 6項に記載の電磁波シールド膜の製造方法。
[8] 前記現像処理の後に、加熱又は加圧処理の少なくとも一方を施すことを特徴とする 請求の範囲第 6または 7項に記載の電磁波シールド膜の製造方法。
[9] 前記現像処理の後に、メツキ処理及び物理現像処理のうちのいずれか少なくとも一 つの処理を施すことにより、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金 属部を形成することを特徴とする請求の範囲第 6〜8項のいずれか 1項に記載の電 磁波シールド膜の製造方法。
[10] 請求の範囲第 6〜9項のいずれか 1項に記載の電磁波シールド膜の製造方法により 製造されたことを特徴とする電磁波シールド膜。
[11] 開口率が 85%以上 99. 9%以下であり、かつ表面抵抗率が 10— 6以上 102Ω Ζロ以 下であることを特徴とする請求の範囲第 10項に記載の電磁波シールド膜。
[12] 請求の範囲第 10または 11項に記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とする プラズマディスプレイパネル用電磁波シールド膜。
[13] 請求の範囲第 10または 11項に記載の電磁波シールド膜を有することを特徴とする プラズマディスプレイパネル用光学フィルム。
[14] 反射防止膜、ハードコート膜、粘着膜、及び近赤外線吸収膜を有してなることを特徴 とする請求の範囲第 13項に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルム。
[15] 560〜620nmの波長範囲において、吸収極大を有することを特徴とする請求の範 囲第 13または 14項に記載のプラズマディスプレイパネル用光学フィルム。
[16] 請求の範囲第 6項に記載の電磁波シールド膜の製造方法に用いられるハロゲンィ匕 銀写真感光材料であって、感光性ハロゲンィ匕銀粒子、金属イオン還元剤および該金 属イオン還元剤の反応を促進する補助剤を含有する感光性層を有することを特徴と するハロゲン化銀写真感光材料。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005277224A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 導電性パターン形成方法及び導電性パターン材料
JP2005345649A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Fuji Photo Film Co Ltd 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
JP2006012935A (ja) * 2004-06-23 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性電磁波シールド膜の製造方法および透光性電磁波シールド膜

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060008745A1 (en) * 2004-06-23 2006-01-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Translucent electromagnetic shield film, producing method therefor and emulsifier
GB0508188D0 (en) * 2005-04-22 2005-06-01 Eastman Kodak Co Method of forming conductive tracks
US20070015094A1 (en) * 2005-07-13 2007-01-18 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Electromagnetic wave shielding material, method for manufacturing the same and electromagnetic wave shielding material for plasma display panel

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005277224A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 導電性パターン形成方法及び導電性パターン材料
JP2005345649A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Fuji Photo Film Co Ltd 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
JP2006012935A (ja) * 2004-06-23 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性電磁波シールド膜の製造方法および透光性電磁波シールド膜

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