WO2007043149A1

WO2007043149A1 - 骨接合用インプラント及びその製造方法

Info

Publication number: WO2007043149A1
Application number: PCT/JP2005/018476
Authority: WO
Inventors: Chiaki Abe; Akira Shinjo; Kenichi Shimodaira
Original assignee: Homs Engineering Inc
Current assignee: Homs Engineering Inc
Priority date: 2005-10-05
Filing date: 2005-10-05
Publication date: 2007-04-19
Anticipated expiration: 2008-04-05
Also published as: JPWO2007043149A1; WO2007043149A9

Abstract

　本発明の骨接合用インプラント１０は、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体１２と、骨接合用インプラント基体１２の表面に形成された表面層１４とを有し、表面層１４は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体１２よりも多く含有することを特徴とする。このため、本発明の骨接合用インプラント１０によれば、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。

Description

骨接合用インプラント及びその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、骨接合用インプラント及びその製造方法に関する。

背景技術

[0002] 近年、整形外科用インプラントの材料として、 Ti又は Ti合金（例えば、 T1-6A1-4 V, ELI合金。）が広く用いられている（例えば、特許文献 1参照。 ) oこれは、 Ti及び T i合金が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するのにカ卩えて、骨との親和性が高いという特徴を有するからである（例えば、特許文献 1参照。）。

[0003] このため、 Ti又は Ti合金力なる整形外科用インプラントを用いることにより、整形外科用インプラントと骨とを良好に接合することが可能となる。従って、 Ti又は Ti合金力なる整形外科用インプラントは、人工関節のように永久に体内に埋め込むことを目的とした体内埋込用途の整形外科用インプラントとして好ましく用いることができる

[0004] 特許文献 1 :特開平 7— 41889号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0005] ところで、整形外科用インプラントには、上記した体内埋込用途の整形外科用インプラントのほかに、骨折治療を目的とし骨折治療終了後には体内から抜去する、骨折治療用途の整形外科用インプラント (一般的には骨接合用インプラントと呼ばれているため、以下「骨接合用インプラント」という。）がある。

[0006] し力しながら、 Ti及び Ti合金力もなる骨接合用インプラントを骨接合用インプラントとして用いた場合には、 Ti又は Ti合金が骨との親和性が高いことに起因して、骨接合用インプラントを体内に埋め込んで力骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまい、これにより、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業が困難になると、う問題がある。特に仮骨形成能の高、若、患者の場合などには、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を肖^取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力が力かって二次骨折を引き起こしたりするという問題がある。

[0007] そこで、本発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、骨折治療終了後に骨接合用インプラントを体内力抜去する作業を容易化することが可能な骨接合用インプラント及びその製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0008] (1)本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層とを有し、前記表面層は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

[0009] このため、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層が、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体よりも多く含有するため、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んで力骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力が力かって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

[0010] また、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体及び表面層のそれぞれについて最適な材料を選択することが可能となる。このため、骨接合用インプラント基体の材料として従来から実績のある Ti又は Ti合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層の材料として骨との親和性が低い材料を選択することが可能になる。

[0011] なお、本発明の骨接合用インプラントにおいては、骨との親和性が低い材料が骨接合用インプラント基体に全く含まれない場合ももちろん含まれる。 [0012] (2)上記（1)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することが好ま U 、。

[0013] このように、表面層が、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有することで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

[0014] この観点力、らいえば、上記（2)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を 20重量％以上含有することがより好ましぐ骨との親和性が低い金属を 50重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記（2)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を 10

0重量⁰ /₀含有して、てもよ、。

[0015] 上記（1)又は（2)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低ヽ金属を含有するほか、その残部として Ti又は Ti合金を含有することが好ましい。

[0016] このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高! ヽと!、う優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

[0017] (3)本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用ィンプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

[0018] このため、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層における最表面部分が、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体よりも多く含有するため、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んで力骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高、若、患者の場合などにぉ、ても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力が力かって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可會になる。

[0019] また、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体及び表面層のそれぞれについて最適な材料を選択することが可能となる。このため、骨接合用インプラント基体の材料として従来から実績のある Ti又は Ti合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層の材料として骨との親和性が低い材料を選択することが可能になる。

[0020] さらにまた、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体と表面層との密着性を十分に高めることが可能になり、より信頼性の高い骨接合用インプラントを提供することが可能になる。

[0021] (4)上記（3)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層における最表面部分は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することが好ま、。

[0022] このように、表面層における最表面部分力骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することで、表面層における最表面部分にぉ、て仮骨形成能を低、レベルに抑制することが可能になる。

[0023] この観点力、らいえば、上記 (4)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低、金属を 20重量％以上含有することがより好ましぐ骨との親和性が低い金属を 50重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記 (4)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低、金属を 100重量％含有して、てもよ、。

[0024] 上記（3)又は (4)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低ヽ金属を含有するほか、その残部として Ti又は Ti合金を含有することが好ましい。

[0025] このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高!ヽと!、う優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

[0026] (5)本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成された表面層とを有し、前記表面層は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

[0027] ところで、骨接合用インプラントにおいては、必ずしも骨接合用インプラント全体にわたって仮骨形成能が抑制されて、なければならな!/、と、う訳ではな!/、。すなわち、骨接合用インプラントの中でも、高い仮骨形成能を有していてもよい部分と、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分とが存在するのである。本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体の表面のうち低い仮骨形成能を有することが好ま、部分に、骨との親和性が低、金属を骨接合用インプラント基体よりも多く含有する表面層を形成することが可能になるため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有して、てもよ、部分には、相対的に高、仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0028] また、このように構成することにより、一の骨接合用インプラント基体に基づいて骨接合用インプラントを製造することが可能になるため、高い機械的強度を有する骨接合用インプラントを比較的容易な方法で製造することが可能になる。

[0029] (6)上記（5)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することが好ま U、。

[0030] このように、表面層が、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有することで、表面層にお、て仮骨形成能を低!、レベルに抑制することが可能になる。

[0031] この観点力、らいえば、上記（6)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を 20重量％以上含有することがより好ましぐ骨との親和性が低い金属を 50重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記（6)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を 10 0重量⁰ /₀含有して、てもよ、。

[0032] 上記（5)又は（6)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低ヽ金属を含有するほか、その残部として Ti又は Ti合金を含有することが好ましい。 [0033] このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高!ヽと!、う優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

[0034] (7)本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

[0035] このように構成することによつても、上記（5)に記載の骨接合用インプラントの場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0036] また、このように構成することによつても、上記（5)に記載の骨接合用インプラントの場合と同様に、一の骨接合用インプラント基体に基づいて骨接合用インプラントを製造することが可能になるため、高い機械的強度を有する骨接合用インプラントを比較的容易な方法で製造することが可能になる。

[0037] (8)上記（7)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層における最表面部分は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することが好ま、。

[0038] このように、表面層における最表面部分力骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することで、表面層における最表面部分にぉ、て仮骨形成能を低、レベルに抑制することが可能になる。

[0039] この観点力、らいえば、上記（8)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低、金属を 20重量％以上含有することがより好ましぐ骨との親和性が低い金属を 50重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記（8)に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低、金属を 100重量％含有して、てもよ、。

[0040] 上記（7)又は（8)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低ヽ金属を含有するほか、その残部として Ti又は Ti合金を含有することが好ましい。

[0041] このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高!ヽと!、う優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

[0042] (9)上記（1)〜（8)のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層の厚さは、 lnm〜： Lmmの範囲内にあることが好まし!/、。

[0043] すなわち、表面層の厚さを lnm以上としたのは、表面層の厚さを lnm未満とした場合には、骨との親和性を十分に低下させることができな、場合が生じるからである。一方、表面層の厚さを lmm以下としたのは、表面層の厚さを lmmを超えるものとした場合には、骨接合用インプラントと表面層との間で剥がれや割れが発生し易くなる力もである。また、表面層の厚さを lmmを超えるものとした場合には、表面層を形成するための時間が長くなり骨接合用インプラントを製造する際の生産性が低下するからである。

[0044] これらの観点からいえば、表面層の厚さは、 ΙΟΟηπ！〜 300 μ mの範囲内にあること力り好ましぐ 10 μ m〜100 μ mの範囲内にあることがさらに好ましい。

[0045] (10)上記（1)〜（9)のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、前記骨接合用インプラント基体は、 Ti又は Ti合金力もなることが好ま、。

[0046] このように構成することにより、骨接合用インプラントの大部分を占める骨接合用ィンプラント基体が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

[0047] また、上記（5)〜（8)のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、高い仮骨形成能を有していてもよい部分において、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高ヽと、う優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

[0048] (11)本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、仮骨形成能を有する第 1部分と、前記第 1部分よりも仮骨形成能が抑制された第 2部分とを有し、前記第 2部分は、骨との親和性が低い金属を、前記第 1部分よりも多く含有し、前記第 1部分と前記第 2部分とは接合されていることが好ましい。

[0049] このように構成することによつても、上記（5)又は（7)に記載の骨接合用インプラントの場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0050] (12)上記（11)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記第 2部分は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することが好ま、。

[0051] このように、第 2部分が、骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することで、第 2部分において仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

[0052] この観点からいえば、上記（12)に記載の骨接合用インプラントにおいては、第 2部分は、骨との親和性が低い金属を 20重量％以上含有することがより好ましぐ骨との親和性が低、金属を 50重量％以上含有することがさらに好ま、。

[0053] (13)上記（11)又は（12)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記第 1部分及び前記第 2部分はともに、 Ti又は Ti合金力もなることが好ましい。

[0054] このように構成することにより、骨接合用インプラントの構成部分である第 1部分及び第 2部分がともに Ti又は Ti合金力なるため、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高ヽとヽぅ優れた特徴を有する骨接合用インプラントとなる。

[0055] (14)本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が抑制された骨接合用インブラントであって、少なくとも前記骨接合用インプラントの最表面部分においては、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有することを特徴とする。

[0056] このため、本発明の骨接合用インプラントによれば、少なくとも骨接合用インプラントの最表面部分においては、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有するため、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んで力も骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力が力かって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

[0057] この観点からいえば、上記（14)に記載の骨接合用インプラントは、少なくとも骨接合用インプラントの最表面部分にぉ、て、骨との親和性が低、金属を 20重量％以上含有することがより好ましぐ骨との親和性が低い金属を 50重量％以上含有すること力 Sさらに好ましい。

[0058] なお、上記（14)に記載の骨接合用インプラントにおいては、少なくとも骨接合用ィンプラントの最表面部分にぉ、て骨との親和性が低、金属を 20重量％以上含有すればよ、ことから、 (a)骨接合用インプラントにおける骨との親和性が低、金属の含有量が不均一であって、骨接合用インプラントの最表面部分にぉ、ては骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有する一方で、骨接合用インプラントの最表面部分以外の部分にぉ、ては、骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有しな、場合のほか、（b)骨接合用インプラントにおける骨との親和性が低い金属の含有量が均一であって、骨接合用インプラントの最表面部分にぉ、ても骨接合用インプラントの最表面部分以外の部分においても、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有する場合も含まれる。

[0059] (15)上記（14)に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記骨接合用インプラントは、 Ti合金力なることが好ましい。

[0060] このように構成することにより、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を維持しながら、仮骨形成能力が低いレベルに抑制された優れた骨接合用インプラントとなる。

[0061] (16)上記（1)〜（15)のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、前記骨との親和性が低い金属は、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhから選択される 1 種又は 2種以上の金属であることが好ま、。

[0062] Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhは、骨との親和性が低、ため、上記のように

、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhから選択される 1種又は 2種以上の金属を用いることで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。また、 Zr、 Ta、 N b、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhは、耐食性に優れ、生体適合性が比較的高いため、骨接合用インプラントに用いる材料として好ましく用いることができる。

[0063] なかでも、前記骨との親和性が低、金属は、 Zrであることが特に好ま、。

[0064] Zrは、骨との親和性が低ぐ耐食性に優れ、生体適合性が高いという特徴に加えて、高強度であり、 Tiや Ti合金とのなじみがよく製造が容易であるという特徴をも有している。このため、上記のように Zrを用いることで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になるとともに、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高ぐ製造が容易であるという優れた特徴を有する骨接合用インプラントとなる。

[0065] (17)本発明の骨接合用インプラントの製造方法は、上記（1)〜(4)のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であつて、前記骨接合用インプラント基体を準備する第 1工程と、前記骨接合用インプラント基体の表面に前記表面層を形成する第 2工程とを含むことを特徴とする。

[0066] このため、本発明の骨接合用インプラントの製造方法によれば、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（1)〜(4)に記載の骨接合用インプラントを容易に製造することが可能になる。

[0067] (18)本発明の骨接合用インプラントの製造方法は、上記（5)〜（8)のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であつて、前記骨接合用インプラント基体を準備する第 1工程と、前記骨接合用インプラント基体の表面の一部に前記表面層を形成する第 2工程とを含むことを特徴とする。

[0068] このため、本発明の骨接合用インプラントの製造方法によれば、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記 (5)〜 (8)に記載の骨接合用インプラントを容易に製造することが可能になる。

[0069] (19)上記（17)又は（18)に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第 2工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングする工程を含むことが好ましい。

[0070] このような方法とすることにより、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（1) 〜（8)の、ずれかに記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可會になる。

[0071] (20)上記（17)又は（18)に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第 2工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む液体、榭脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化する工程を含むことが好ましい。

[0072] このような方法とすることによつても、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記

( 1)〜（8)の、ずれかに記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可會になる。

[0073] また、骨接合用インプラント基体が複雑な形状である場合には、このような方法とすることにより、骨接合用インプラントの表面に表面層を比較的容易に形成することができる。

[0074] (21)上記（19)又は（20)に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第 2工程は、前記骨接合用インプラントと前記表面層とを傾斜合金化するための熱処理工程をさらに含むことが好ま、。

[0075] このような方法とすることにより、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（3)

、（4)、（7)又は (8)に記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可會になる。

[0076] (22)上記（17)又は（18)に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第 2工程は、組成を変化させながら前記表面層を形成することが好ましい。

[0077] このような方法とすることによつても、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記

(3)、（4)、（7)又は (8)に記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可能になる。

[0078] (23)本発明の骨接合用インプラントの製造方法は、上記（11)〜（13)のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であつて、前記第 1部分と前記第 2部分とを準備する第 1工程と、前記第 1部分と前記第 2 部分とを接合する第 2工程とを含むことを特徴とする。

[0079] このため、本発明の骨接合用インプラントの製造方法によれば、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（11)〜（13)の、ずれかに記載の骨接合用インプラントを容易に製造することが可能になる。

[0080] (24)上記（17)〜（23)のいずれかに記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記骨との親和性が低い金属は、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rh力ら選択される 1種又は 2種以上の金属であることが好ましい。

[0081] このように、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhから選択される 1種又は 2種以上の金属を用いることで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能で、かつ、耐食性に優れ、生体適合性が比較的高い、骨接合用インプラントを製造することが可會になる。

[0082] なかでも、前記骨との親和性が低、金属は、 Zrであることが特に好ま、。

[0083] このような方法とすることにより、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になるとともに、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高ぐ製造が容易であると

V、う優れた特徴を有する骨接合用インプラントとなる。

図面の簡単な説明

[0084] [図 1]実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10を説明するために示す図である。

[図 2]実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20を説明するために示す図である。

[図 3]実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30の断面図である。

[図 4]実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40の断面図である。

[図 5]実施形態 5に係る骨接合用インプラント 50の断面図である。

[図 6]実施形態 6に係る骨接合用インプラント 60を説明するために示す図である。

[図 7]実施例における SEM写真を示す図である。

[図 8]実施例における XPSスペクトルを示す図である。

発明を実施するための最良の形態

[0085] 以下、本発明の骨接合用インプラント及びその製造方法を、図に示す実施の形態に基づいて説明する。

[0086] [実施形態 1]

図 1は、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10を説明するために示す図である。図 1 (a)は骨接合用インプラント 10の斜視図であり、図 1 (b)は骨接合用インプラント 10の断面図であり、図 1 (c)は図 1 (b)の A— A断面図である。

[0087] 実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10は、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、図 1に示すように、骨接合用インプラント基体 12と、骨接合用ィンプラント基体 12の表面に形成された表面層 14とを有している。そして、表面層 14 は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体 12よりも多く含有することを特徴としている。実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10は、骨接合用ネジである。

[0088] 実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10においては、表面層 14は、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有している。そして、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10においては、骨との親和性が低い金属として、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rh力選択される 1種又は 2種以上の金属を用いて、る。

[0089] なお、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10においては、表面層 14においては、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有させるとともに、残部を金属 Ti又は Ti合金としている。

[0090] また、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10においては、骨接合用インプラント基体 12においては、骨との親和性が低い金属の含有量を 5重量％以下とするとともに、残部を金属 Ti又は Ti合金としている。

[0091] 実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10においては、表面層 14の厚さを、 lnm 〜 lmmの範囲内の値として!/、る。

[0092] 実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10は、以上のように構成されているため、以下のような効果を有する。

[0093] すなわち、実施形態 1に骨接合用インプラント 10によれば、骨接合用インプラント基体 12の表面に形成された表面層 14が、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体 12よりも多く含有するために、骨接合用インプラント 10の表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラント 10を体内に埋め込んで力も骨折治療終了までの間に骨接合用インプラント 10の周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラント 10を体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力が力かって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。 [0094] また、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10によれば、骨接合用インプラント基体 12及び表面層 14のそれぞれにつ、て最適な材料を選択することが可能となる。このため、骨接合用インプラント基体 12としては従来から実績のある Ti又は Ti合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層 14としては骨との親和性が低ヽ材料を選択することが可能になる。

[0095] さらにまた、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10によれば、表面層 14が骨との親和性が低！ヽ金属を 5重量％以上含有することで、仮骨形成能を低!ヽレベルに抑制することが可能になる。

[0096] 実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10は、以下の工程を含む骨接合用インブラントの製造方法により製造することができる。

[0097] (1)第 1工程

Ti合金力もなる骨接合用インプラント基体 12を準備する。

[0098] (2)第 2工程

骨接合用インプラント基体 12の表面に表面層 14を形成する。表面層 14の形成は

、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhから選択される 1種又は 2種以上の金属をスノッタリングすることにより行う。

[0099] 以上の工程を行うことにより、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10を容易に製造することが可能になる。

[0100] 第 2工程は、骨との親和性が低い金属を含む金属をスパッタリングすることにより行う代わりに、骨との親和性が低、金属を含む金属を真空蒸着又はイオンプレーティングすること〖こより行うことちでさる。

[0101] また、第 2工程は、骨との親和性が低、金属 (金属イオン、金属錯体イオンを含む。

)を含む液体、榭脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化することにより行うことちでさる。

[0102] [実施形態 2]

図 2は、実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20を説明するために示す図である

。図 2 (a)は骨接合用インプラント 20の断面図であり、図 2 (b)は図 2 (a)の要部拡大図である。図 2 (b)の表面層 24においては、骨との親和性が低い金属が多く含まれる領域ほど濃、灰色となるように示して、る。

[0103] 実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20は、基本的には、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10とよく似た構成を有しているが、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10とは、表面層の構成が異なる。すなわち、実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20は、図 2 (b)に示すように、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金力もなる表面層 24を有している。そして、表面層 24における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体 22よりも多く含有することを特徴としている。実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20は、骨接合用ネジである。

[0104] このように、実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20は、表面層の構成が実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10の場合とは異なるが、表面層 24における最表面部分が、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体 22よりも多く含有するため、骨接合用インプラント 20の表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することができる。その結果、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10の場合と同様に、骨接合用インプラント 20を体内に埋め込んで力骨折治療終了までの間に骨接合用インプラント 20の周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラント 20を体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力が力かって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

[0105] また、実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20によれば、骨接合用インプラント基体 22及び表面層 24のそれぞれにつ、て最適な材料を選択することが可能となる。このため、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10の場合と同様に、骨接合用インプラント基体 22の材料として従来から実績のある Ti又は Ti合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層 24の材料として骨との親和性の低い材料を選択することが可會になる。

[0106] さらにまた、実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20によれば、骨接合用インブラント基体 22と表面層 24との密着性を十分に高めることが可能になり、より信頼性の高い骨接合用インプラントを提供することが可能になる。

[0107] 実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20は、これ以外の点では、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10と同様の構成を有するため、実施形態 1に係る骨接合用ィンプラント 10が有する効果のうち該当する効果を有する。

[0108] 実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20も、実施形態 1に係る骨接合用インブラント 20と同様に、骨接合用インプラント基体 22を準備する第 1工程と、骨接合用インプラント基体 22の表面に表面層 24を形成する第 2工程とを含む製造方法により製造することができる。

[0109] 第 2工程は、骨との親和性が低、金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして表面層 24を形成した後、骨接合用インプラント基体 22と表面層 24とを傾斜合金化するための熱処理を施すことにより行う。

[0110] また、第 2工程は、骨との親和性が低い金属を含む液体、榭脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化して表面層 24を形成した後、骨接合用インプラント基体 22と表面層 24とを傾斜合金化するための熱処理を施すことにより行うこともできる。骨接合用インプラントが複雑な形状である場合には、このような方法とすることにより、骨接合用インプラント基体の表面に表面層を比較的容易に形成することができる。

[0111] また、第 2工程は、組成を変化させながら、骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして表面層を形成することにより行うことちでさる。

[0112] さらにまた、第 2工程は、組成を変化させながら、骨との親和性が低い金属を含む液体、榭脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化して表面層を形成すること〖こより行うことちでさる。

[0113] [実施形態 3]

図 3は、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30の断面図である。

実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30は、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントである。そして、図 3に示すように、骨接合用インプラント基体 3 2と、骨接合用インプラント基体 32の表面の一部に形成された表面層 34とを有し、表面層 34は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体 32よりも多く含有することを特徴としている。実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30は、骨接合用ネジである。

[0114] 上記したように、骨接合用インプラントにおいては、必ずしも骨接合用インプラント全体にわたって仮骨形成能が抑制されて、なければならな!/、と、う訳ではな!/、。すなわち、骨接合用インプラントの中でも、高い仮骨形成能を有していてもよい部分と、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分とが存在するのである。例えば、骨接合用ネジにおいては、骨の中に入ることとなるネジ部の周囲にはもともと仮骨が形成される空間は少ないため、高い仮骨形成能を有していてもよい部分 (ネジ部 36)となる。その一方、骨の外に露出することとなる頭部の周囲には仮骨が形成される空間が広く残されているため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (頭部 38)となる。

[0115] 実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30によれば、骨接合用インプラント 30のうち低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (頭部 38)に、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体 32よりも多く含有する表面層 34を形成しているため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (頭部 38)には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分 (ネジ部 36)には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0116] また、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30によれば、一の骨接合用インブラント基体 32に基づいて骨接合用インプラントを製造することが可能になるため、高い機械的強度を有する骨接合用インプラントを比較的容易な方法で製造することが可會になる。

[0117] 実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30は、骨接合用インプラント基体 32を準備する第 1工程と、骨接合用インプラント基体 32の表面の一部に表面層 34を形成する第 2工程とを行うことにより製造することができる。

[0118] 表面層 34の形成は、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10の場合や実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20の場合と同様の方法で行うことができる。

[0119] [実施形態 4]

図 4は、実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40の断面図である。実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40は、実施形態 3に係る骨接合用インブラント 30の場合と同様に、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントである。そして、図 4に示すように、骨接合用インプラント基体 42と、骨接合用インプラント基体 42の表面の一部に形成された表面層 44とを有し、表面層 44は、骨との親和性が低、金属を、骨接合用インプラント基体 42よりも多く含有することを特徴としてヽる。実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40は、骨接合用ネジである。

[0120] 上記したように、骨接合用インプラントにおいては、必ずしも骨接合用インプラント全体にわたって仮骨形成能が抑制されて、なければならな!/、と、う訳ではな!/、。すなわち、骨接合用インプラントの中でも、高い仮骨形成能を有していてもよい部分と、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分とが存在するのである。例えば、骨接合用ネジにおいては、骨の外に露出することとなる頭部の周囲には仮骨除去のための作業空間が確保でき比較的仮骨を除去し易い環境にあるため、高い仮骨形成能を有していてもよい部分 (頭部 48)となるとも考えられる。また、骨の中に入ることとなるネジ部の周囲には仮骨除去のための作業空間を確保できずに比較的仮骨を除去し難 V、環境にあるため、低、仮骨形成能を有することが好ま、部分 (ネジ部 46)となるとち考免られる。

[0121] 実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40によれば、骨接合用インプラント 40のうち低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (ネジ部 46)に、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体 42よりも多く含有する表面層 44を形成することが可能になるため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (ネジ部 46)には、相対的に低ヽ仮骨形成能をもたせるとともに、高ヽ仮骨形成能を有してヽてもよ、部分（頭部 48)には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0122] このように、実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40は、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30の場合とは、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分と、高い仮骨形成能を有して、てもよ、部分との関係が逆になつて、るが、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30の場合と同様に、骨接合用インプラントのうち低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (ネジ部 46)に、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体 42よりも多く含有する表面層 44を形成しているため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (ネジ部 46)には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分 (頭部 48)には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0123] なお実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40は、これ以外の点では、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30と同様の構成を有するため、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30が有する効果のうち該当する効果を有する。

[0124] 実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40は、骨接合用インプラント基体 42を準備する第 1工程と、骨接合用インプラント基体 42の表面の一部に表面層 44を形成する第 2工程とを行うことにより製造することができる。

[0125] 表面層 44の形成は、実施形態 1に係る骨接合用インプラント 10の場合、実施形態 2に係る骨接合用インプラント 20の場合、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30 の場合と同様の方法で行うことができる。

[0126] [実施形態 5]

図 5は、実施形態 5に係る骨接合用インプラント 50の断面図である。

実施形態 5に係る骨接合用インプラント 50は、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントである。そして、図 5に示すように、仮骨形成能を有する第 1部分 56と、第 1部分 56よりも仮骨形成能が抑制された第 2部分 58とを有し、第 2部分 5 8は、骨との親和性が低い金属を、第 1部分 56よりも多く含有し、第 1部分 56と第 2部分 58とは接合されていることを特徴としている。実施形態 5に係る骨接合用インブラント 50は、骨接合用ネジである。

[0127] このように構成することによつても、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30や実施形態 4に係る骨接合用インプラント 40の場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (第 2部分 58)には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分 (第 1部分 56)には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0128] 実施形態 5に係る骨接合用インプラント 50は、第 1部分 56と第 2部分 58とを準備する第 1工程と、第 1部分 56と第 2部分 58とを接合する第 2工程とを行うことにより製造することができる。 [0129] [実施形態 6]

図 6は、実施形態 6に係る骨接合用インプラント 60を説明するために示す図である。図 6 (a)は骨接合用インプラント 60が体内に埋め込まれている状態を示す図であり、図 6 (b)は図 6 (a)の要部拡大図である。

[0130] 実施形態 6に係る骨接合用インプラント 60は、図 6に示すように、骨接合用プレートである。実施形態 6に係る骨接合用インプラント 60においては、骨接合用プレートの裏面が第 1部分 66に対応し、骨接合用プレートの表面及び側面が第 2部分 68に対応している。そして、実施形態 6に係る骨接合用インプラント 60においては、第 2部分 68の最表面部分に、骨との親和性が低い金属を、第 1部分 66の最表面部分よりも多く含有させることとしている。これにより、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (骨接合用プレートの表面及び側面）には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分 (骨接合用プレートの裏面）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0131] このように、実施形態 6に係る骨接合用インプラント 60は、実施形態 3〜5に係る骨接合用インプラント 30〜50の場合とは、骨接合用インプラントの種類が異なる力実施形態 3〜5に係る骨接合用インプラント 30〜50の場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分 (骨接合用プレートの表面及び側面）には、相対的に低 Vヽ仮骨形成能をもたせるとともに、高ヽ仮骨形成能を有して!ヽてもよ、部分 (骨接合用プレートの裏面）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

[0132] なお実施形態 6においては、図 6に示すように、骨接合用インプラント 60を骨に固定するための骨接合用ネジとして、実施形態 3に係る骨接合用インプラント 30を用いている。

実施例

[0133] 以下、実施例を参照しながら、本発明の骨接合用インプラントにおける仮骨形成能抑制効果を説明する。

[0134] [実施例 1]

直径 10mm、厚さ 3mmの純チタンの基板上に、スパッタリングにより厚さ 35 μ mの Zr薄膜を形成し、これを実施例 1に係る試料とした。 [0135] [比較例 1]

実施例 1における直径 10mm、厚さ 3mmの純チタンの基板をそのまま比較例 1に係る試料とした。

[0136] 次に、実施例 1に係る試料及び比較例 1に係る試料のそれぞれを、 Hanks溶液 (3 10K)中に 14日間浸漬した。その後、実施例 1に係る試料及び比較例 1に係る試料のそれぞれを Hanks溶液から出し、（1)電子プローブマイクロアナライザ（日本電子株式会ネ: ϋΧΑ— 8621MX)における走査電子顕微鏡機能による SEM写真観察及び（2)光電子分光装置（SSI社 SSX— 100)による XPSスペクトル観察を行、、リン酸カルシウムが析出しているかどうかを観察して、仮骨形成能についての評価を行つた。

[0137] 図 7は、実施例における SEM写真を示す図である。図 7 (a)は実施例 1に係る試料における SEM写真を示す図であり、図 7 (b)は比較例 1に係る試料における SEM写真を示す図である。

[0138] 図 7からも明らかなように、比較例 1に係る試料では、リン酸カルシウムの析出物が観察された（図 7 (b)中の符号 A参照。）が、実施例 1に係る試料では、リン酸カルシゥムの析出物は観察されなかった。

[0139] 図 8は、実施例における XPSスペクトルを示す図である。図 8 (a)は実施例 1に係る試料における XPSスペクトルを示す図であり、図 8 (b)は比較例 1に係る試料における XPSスペクトルを示す図である。図 8における XPSスペクトルは、約 lmmのスポット径で測定して得られたものである。

[0140] 図 8からも明らかなように、比較例 1に係る試料では、 350eV近傍にカルシウムに帰属されるシグナルが観察された（図 8 (b)中の符号 B参照。）が、実施例 1に係る試料では、そのようなシグナルは観察されなかった。

[0141] 以上の結果力も明らかなように、実施例 1に係る試料においては、比較例 1に係る試料の場合とは異なり、 Hanks溶液（310° K)中に 14日間浸漬したにもかかわらず

、リン酸カルシウムの析出が認められな力つた。このことから、実施例 1に係る試料にぉ、ては、仮骨形成能が抑制されて、ることが確認できた。

[0142] 以上、本発明の骨接合用インプラント及びその製造方法を上記の各実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の各実施形態に限られるものではなぐその要旨を逸脱しな、範囲にぉ、て種々の態様にぉ、て実施することが可能である。

符号の説明

10, 20, 30, 40, 50, 60···骨接合用インプラン K 12, 22, 32, 42, 52, 62···骨接合用インプラン卜基体、 14, 24, 34, 44, 54, 64···表面層、 36, 46···ネジ部、 38 , 48···頭部、 56, 66…第 1部分、 58, 68…第 2部分、 Α···リン酸カルシウムの析出物、 Β—Caのシグナル

Claims

請求の範囲

[1] 仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、

骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層とを有し、

前記表面層は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする骨接合用インプラント。

[2] 請求項 1に記載の骨接合用インプラントにお、て、

前記表面層は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。

[3] 仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、

骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、

前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用ィンプラント基体よりも多く含有することを特徴とする骨接合用インプラント。

[4] 請求項 3に記載の骨接合用インプラントにお、て、

前記表面層における最表面部分は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。

[5] 仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、

骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成された表面層とを有し、

[6] 請求項 5に記載の骨接合用インプラントにお、て、

[7] 仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、

骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用ィンプラント基体よりも多く含有することを特徴とする骨接合用インプラント。

[8] 請求項 7に記載の骨接合用インプラントにおいて、

[9] 請求項 1〜8のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいて、

前記表面層の厚さは、 lnm〜： Lmmの範囲内にあることを特徴とする骨接合用インプラント。

[10] 請求項 1〜9のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいて、

前記骨接合用インプラント基体は、 Ti又は Ti合金力なることを特徴とする骨接合用インプラント。

[11] 仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、

仮骨形成能を有する第 1部分と、前記第 1部分よりも仮骨形成能が抑制された第 2 部分とを有し、

前記第 2部分は、骨との親和性が低い金属を、前記第 1部分よりも多く含有し、前記第 1部分と前記第 2部分とは接合されていることを特徴とする骨接合用インブラント。

[12] 請求項 11に記載の骨接合用インプラントにお、て、

前記第 2部分は、前記骨との親和性が低、金属を 5重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。

[13] 請求項 11又は 12に記載の骨接合用インプラントにおいて、

前記第 1部分及び前記第 2部分はともに、 Ti又は Ti合金カゝらなることを特徴とする骨接合用インプラント。

[14] 仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、

少なくとも前記骨接合用インプラントの最表面部分においては、骨との親和性が低い金属を 5重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。

[15] 請求項 14に記載の骨接合用インプラントにおいて、

前記骨接合用インプラントは、 Ti合金力もなることを特徴とする骨接合用インプラン

[16] 請求項 1〜15のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいて、前記骨との親和性が低い金属は、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhから選択される 1種又は 2種以上の金属であることを特徴とする骨接合用インプラント。

[17] 請求項 1〜4のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、

前記骨接合用インプラント基体を準備する第 1工程と、

前記骨接合用インプラント基体の表面に前記表面層を形成する第 2工程とを含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。

[18] 請求項 5〜8のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、

前記骨接合用インプラント基体を準備する第 1工程と、

前記骨接合用インプラント基体の表面の一部に前記表面層を形成する第 2工程とを含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。

[19] 請求項 17又は 18に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、

前記第 2工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングする工程を含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。

[20] 請求項 17又は 18に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、

前記第 2工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む液体、榭脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化する工程を含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。

[21] 請求項 19又は 20に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、

前記第 2工程は、前記骨接合用インプラント基体と前記表面層とを傾斜合金化するための熱処理工程をさらに含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。

[22] 請求項 17又は 18に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、

前記第 2工程は、組成を変化させながら前記表面層を形成することを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。

[23] 請求項 11〜13のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、

前記第 1部分と前記第 2部分とを準備する第 1工程と、

前記第 1部分と前記第 2部分とを接合する第 2工程とを含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。

[24] 請求項 17〜23のいずれかに記載の骨接合用インプラントの製造方法において、前記骨との親和性が低い金属は、 Zr、 Ta、 Nb、 Si、 Au、 Pt、 Pd及び Rhから選択される 1種又は 2種以上の金属であることを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。