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WO2005055423A1 - フィルタ装置 - Google Patents

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WO2005055423A1
WO2005055423A1 PCT/JP2004/017460 JP2004017460W WO2005055423A1 WO 2005055423 A1 WO2005055423 A1 WO 2005055423A1 JP 2004017460 W JP2004017460 W JP 2004017460W WO 2005055423 A1 WO2005055423 A1 WO 2005055423A1
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WO
WIPO (PCT)
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filter
filter device
inductance
parallel arm
arm resonator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2004/017460
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Shigeyuki Fujita
Norio Taniguchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to US10/545,036 priority Critical patent/US20060139125A1/en
Priority to JP2005515906A priority patent/JPWO2005055423A1/ja
Publication of WO2005055423A1 publication Critical patent/WO2005055423A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/58Multiple crystal filters
    • H03H9/60Electric coupling means therefor
    • H03H9/605Electric coupling means therefor consisting of a ladder configuration
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    • H03H9/1085Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices the enclosure being defined by a non-uniform sealing mass covering the non-active sides of the SAW device
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    • H03H9/6433Coupled resonator filters
    • H03H9/6483Ladder SAW filters

Definitions

  • the present invention relates to a filter device in which a plurality of resonators are connected so as to have a ladder-type circuit configuration.
  • a filter device used as a transmission-side band filter or a reception-side band filter of a communication system about.
  • Patent Literature 1 discloses a ladder-type filter in which a plurality of one-port surface acoustic wave resonators are alternately arranged in a parallel arm and a serial arm from an input side to an output side. ing.
  • Patent Document 1 as shown in FIG. 24, a parallel arm resonator P1 is inserted in a parallel arm, and a series arm resonator S1 is inserted in a series arm.
  • Patent Document 1 discloses a ladder-type filter having a multi-stage configuration. Patent Document 1 states that a wide band and high attenuation can be realized by connecting an inductance L between the parallel arm resonator P1 and a reference potential.
  • Patent Document 2 discloses a ladder-type filter in which at least two reference potential terminals of parallel arm resonators are commonly connected.
  • FIG. 25 is a diagram showing a circuit configuration of a ladder-type filter 100 described in Patent Document 2.
  • series arm resonators S11 to S13 are arranged in a series arm connecting the input terminal 101 and the output terminal 102.
  • the parallel arm resonator P11 connects the connection point between the series arm resonators S12 and S13 and the reference potential to the parallel arm connecting the connection point between the series arm resonators Sl l and S12 and the reference potential.
  • the parallel arm resonator P12 is arranged in the parallel arm.
  • the reference potential side terminals of the parallel arm resonators Pl l and P12 are connected in common! Puru.
  • Patent Document 1 JP-A-5-183380
  • Patent Document 2 JP-A-10-163808
  • the transmission-side bandpass filter used in a 2-GHz band WCDMA demultiplexer requires that the insertion loss in the passband be 1.5 dB or less, and that the attenuation be 37 dB or more. It has been demanded.
  • the pass band on the transmitting side is 1920MHz to 1980MHz, and the frequency range is wide.
  • Patent Document 1 in the ladder-type filter described in Patent Document 1, it is said that a wideband and high attenuation is realized by connecting an inductance L to the parallel arm resonator P1 in series.
  • Patent Document 1 does not disclose any configuration for particularly improving the attenuation on the high frequency side of the pass band.
  • An object of the present invention is to provide a communication system including a first bandpass filter having a relatively low passband frequency and a second bandpass filter having a relatively high passband frequency.
  • a first bandpass filter having a relatively low passband frequency and a second bandpass filter having a relatively high passband frequency are included.
  • a filter device used as a first bandpass filter of a communication system comprising: At least one series arm resonator inserted into a series arm connecting an input terminal and an output terminal, and at least one parallel arm connecting the series arm and a reference potential. And at least one parallel arm resonator, and an inductance connected in series to the at least one parallel arm resonator.
  • a filter device characterized by being set so as to be located in or near the pass band of a second band-pass filter, which is a filter on the other side, of the generated secondary resonance.
  • the series arm resonator and the parallel arm resonator are each configured by a surface acoustic wave resonator.
  • the parallel arm resonator and the series arm resonator constituting the ladder filter are each formed of a piezoelectric thin film resonator. .
  • the piezoelectric thin-film resonator includes a substrate having an opening or a recess, a piezoelectric thin film disposed above the opening or the recess, and the piezoelectric thin-film resonator.
  • An upper electrode and a lower electrode are formed on the upper and lower surfaces of the thin film, respectively, and are arranged to face each other with the piezoelectric thin film therebetween.
  • a piezoelectric thin film support layer provided between the substrate and the piezoelectric thin film so as to cover an opening or a concave portion of the substrate is provided.
  • the ladder-type filter further includes a package to which the series arm resonator and the parallel arm resonator are connected, and the inductor includes: An inductance element connected to the parallel arm resonator outside the package.
  • the filter device further includes a mounting board on which the package is mounted, and the inductor is an inductance element built in the mounting board.
  • the filter device further includes a package on which the filter device is mounted, and the inductor device is incorporated in the package. Has been.
  • the inductance is connected in series to at least one parallel arm resonator, and the second resonance frequency filter of the sub-resonance generated by the insertion of the inductance is a second filter. It is configured so that it is located in or near the pass band of the band pass filter, so that it is possible to have a wide band and sufficient attenuation outside the band, and further reduce the insertion loss in the pass band. can do. Therefore, it is possible to provide a filter device having a wide band, low loss and high attenuation.
  • a wideband, low-loss, and high-attenuation bandpass filter is provided according to the present invention. It can be configured using a surface acoustic wave device.
  • the first band pass filter having a wide band, low loss, and high attenuation is provided according to the present invention. It can be configured using a child.
  • the piezoelectric thin-film resonator includes a substrate having an opening or a concave portion, a piezoelectric thin film disposed in the opening or the concave portion, an upper electrode formed on the upper surface of the piezoelectric thin film, and a lower electrode formed on the lower surface.
  • the vibration of the piezoelectric thin film is hardly hindered above the opening or the concave portion, so that resonance characteristics utilizing the vibration of the piezoelectric thin film can be obtained.
  • a piezoelectric thin film support layer is formed so as to cover the opening or the concave portion, a piezoelectric resonator having a structure in which a piezoelectric thin film is laminated on the piezoelectric thin film support layer is obtained. Therefore, a piezoelectric thin film resonator can be easily formed using various piezoelectric thin films.
  • the ladder-type filter may further include a package to which the series arm resonator and the parallel arm resonator are connected, and the package may be provided outside the package.
  • the inductance element may be connected outside the knock. Therefore, the filter device according to the present invention can be easily configured only by preparing inductance elements having various inductance values according to required characteristics as separate components.
  • a mounting board on which the package is mounted is further provided, and the inductor is an inductance element built in the mounting board outside the package.
  • the inductance element can be formed on the mounting substrate or at the same time as the circuit pattern in the mounting substrate. Therefore, productivity can be improved.
  • the package further includes a package on which the filter device is mounted, and the inductor is incorporated in the package, the operation of connecting the inductance outside the knockout can be omitted.
  • the package since the package has built-in inductance, the size of the filter device can be reduced.
  • FIG. 1 is a circuit diagram showing a ladder-type circuit according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view schematically showing the structure of the ladder filter of the embodiment shown in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a schematic bottom view of the ladder-type filter shown in FIG. 2.
  • FIGS. 4 (a) and 4 (b) are circuit diagrams showing modified examples of a structure in which a parallel arm resonator and an inductor connected to the parallel arm resonator are provided in the present invention.
  • FIG. 5 is a graph showing attenuations when a parallel arm resonator used alone in an embodiment of the present invention and various inductance values are connected in series to the parallel arm resonator.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating frequency characteristics.
  • Fig. 6 is a graph showing impedance-frequency when the parallel arm resonator used in the embodiment of the present invention alone and various inductance values are connected to the parallel arm resonator in series. It is a figure showing a characteristic.
  • FIG. 7 is a diagram showing attenuation frequency characteristics of the ladder filter according to the first embodiment.
  • FIG. 8 is a diagram showing attenuation-frequency characteristics of a ladder-type filter of a comparative example manufactured according to the configuration described in Patent Document 2.
  • FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the bandwidth and attenuation of the ladder-type filter of the embodiment and the inductance value of the inductance connected to the parallel arm resonator.
  • FIG. 10 shows the relationship between the bandwidth and attenuation of the ladder-type filter of the comparative example manufactured based on the prior art described in Patent Document 2 and the inductance value of the inductance connected to the parallel arm resonator.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining the difference in the frequency characteristics between the parallel arm resonator and the inductance when the lines intersect and cross each other. It is.
  • FIG. 12 is a schematic plan view showing a modification of the ladder-type filter shown in FIG. 2.
  • FIG. 13 is a schematic plan view showing another modification of the ladder-type filter shown in FIG. 2.
  • FIG. 14 is a front sectional view showing an example of a piezoelectric thin film resonator used as a series arm resonator and a parallel arm resonator in the present invention.
  • FIG. 15 is a front sectional view showing an example of a piezoelectric thin-film resonator used as a series arm resonator and a parallel arm resonator in the present invention.
  • FIG. 16 is a schematic plan view for explaining the structure of a filter device according to a modification of the present invention.
  • FIG. 17 is a front sectional view for explaining another modification of the filter device of the present invention.
  • FIG. 18 is a schematic plan view for explaining still another modified example of the filter device of the present invention.
  • FIG. 19 is a schematic front sectional view for explaining still another modified example of the filter device according to the present invention.
  • FIG. 20 is a front sectional view of a filter device according to still another modified example of the present invention.
  • FIG. 21 is a front sectional view of a filter device according to still another modified example of the present invention.
  • FIG. 22 is a front sectional view of a filter device according to another modification of the present invention.
  • FIG. 23 is a front sectional view of a filter device according to another modification of the present invention.
  • FIG. 24 is a circuit diagram showing an example of a conventional ladder-type filter.
  • FIG. 25 is a circuit diagram showing another example of a conventional ladder-type filter.
  • FIG. 1 is a circuit diagram of a ladder-type filter as a filter device according to one embodiment of the present invention.
  • the ladder-type filter 1 of the present embodiment is a transmission-side band filter used for a W-CDMA duplexer having a transmission-side band of 1920 to 1980 MHz and a reception-side band of 2110 to 2170 MHz. Therefore, the transmission side band is set lower than the reception side band. That is, the ladder-type filter 1 includes a first bandpass filter having a relatively low passband frequency and a second bandpass filter having a relatively high passband frequency. This is a filter device used as a pass filter.
  • the ladder filter 1 has a structure in which a plurality of surface acoustic wave resonators are connected so as to have a ladder circuit configuration. That is, the series arm connecting input terminal 2 and output terminal 3 Series arm resonators S21, S22, and S23 each composed of a surface acoustic wave resonator are arranged.
  • a parallel arm resonator P21 is arranged on a parallel arm extending between a connection point between the series arm resonators S21 and S22 and the reference potential.
  • An inductance L1 is connected in series with the parallel arm resonator P21 between the reference potential side terminal of the parallel arm resonator P21 and the reference potential.
  • a parallel arm resonator P22 is arranged in a parallel arm between a connection point between the series arm resonators S22 and S23 and the reference potential.
  • An inductance L2 is connected between the reference potential side terminal of the parallel arm resonator P2 and the reference potential.
  • the inductances LI and L2 are connected in series to the parallel arm resonators P21 and P22, respectively.
  • FIG. 2 is a schematic plan view showing the structure of the ladder-type filter according to the present embodiment
  • FIG. 3 is a schematic plan view of the ladder-type filter for explaining terminal electrodes formed on the bottom surface thereof.
  • the ladder-type filter 1 has a package 11.
  • FIG. 2 shows a state in which the lid material for closing the nozzle / cage 11 has been removed. That is, the package 11 has the concave portion 11a, and the surface acoustic wave element 13 is housed in the concave portion 11a.
  • the surface acoustic wave element 13 is configured using a rectangular piezoelectric substrate 14.
  • an electrode pattern By forming an electrode pattern on the piezoelectric substrate 14, a structure is shown in which the above-described series arm resonators S21-S23 and parallel arm resonators P21 and P22 are electrically connected as shown in FIG. ing.
  • FIG. 2 shows a state in which the lid material for closing the nozzle / cage 11 has been removed. That is, the package 11 has the concave portion 11a, and the surface acoustic wave element 13 is housed in the concave portion 11a.
  • the surface acoustic wave element 13 is configured using a rectangular piezoelectric substrate
  • the series arm resonators S21 to S23 and the parallel arm resonators P21 and P22 each include an interdigital electrode and reflectors arranged on both sides of the interdigital electrode in the surface wave propagation direction. It is composed of a one-port surface acoustic wave resonator provided. Note that, on both sides of the concave portion 11a of the knockout 11, step portions lib, 11c higher than the concave portion 11a are provided. Electrode lands 15a-15c and 16a-16c are formed on the steps l ib, 11c.
  • electrode pads 17a to 17d are formed on the piezoelectric substrate 13.
  • the electrode pad 17a is connected to the input end side of the series arm resonator S21. That is, it is an electrode pad arranged on the input end side of the ladder-type filter 1.
  • Electrode pad 17a is electrically connected to electrode land 15b provided on knocker 11 side by bonding wire 18a. Has been.
  • the electrode pad 17b is connected to the output terminal of the series arm resonator S23. That is, it corresponds to the output terminal of the ladder type 1 filter 1.
  • the electrode pad 17b is electrically connected to the electrode land 16a by a bonding wire 18b.
  • the electrode pad 17c is connected to the reference potential side terminal of the parallel arm resonator P21.
  • the electrode pad 17c is connected to the electrode land 16b by a bonding wire 18c.
  • the electrode pad 17d is connected to the reference potential side terminal of the parallel arm resonator P22, and is electrically connected to the electrode land 16c formed on the package 11 by a bonding wire 18d.
  • the piezoelectric substrate 13 is formed using a LiNbO substrate.
  • the interdigital electrode, the reflector and the electrode pad are made of a conductive material whose main component is A1.
  • the piezoelectric substrate material forming the surface acoustic wave resonator and the conductive material forming the electrode are not limited to the above.
  • the ladder-type filter 1 shown in FIG. 2 is actually closed by a cover material that covers the recess 11a of the knockout 1.
  • terminal electrodes 19a to 19c and 20a to 20c are formed on the bottom surface id of the package 11 of the ladder-type filter 1.
  • the terminal electrodes 19a to 19c are electrically connected to the above-described electrode lands 15a to 15c, respectively, and the terminal electrodes 20a to 20c are electrically connected to the electrode lands 16a to 16c.
  • the first and second external inductances LI and L2 are externally connected between the terminal electrodes 20 b and 20 c and the reference potential. Are electrically connected. That is, the inductances LI and L2 shown in FIG. 1 are each constituted by an external inductance element.
  • the knockout 11 is made of alumina.
  • the package 11 is not limited to alumina, and may be made of other insulating ceramics such as low-temperature sinterable ceramics LTCC or other insulating materials such as synthetic resin.
  • the parallel arm resonator P21 and the electrode pad 17c are electrically connected to each other.
  • the wiring pattern 22 intersects with the bonding wire 18d as shown by the arrow A! / ⁇
  • the inductances LI, L2 may be formed by the inductance elements prepared outside the package 11 as described above.
  • the inductances LI, L2 may be built in the package 11.
  • the inductances LI and L2 may be built in the package 11 by incorporating a spiral inductor, a microstrip, or the like in the package 11, or by housing a chip-type inductance element in the package 11.
  • the characteristic of the ladder-type filter 1 of the present embodiment is that the frequency force of the sub-resonance caused by the connection of the inductances LI and L2 is the pass band of the reception-side band-pass filter which is the other filter of the ladder-type filter 1, that is, 2110-2170 MHz. It is set so as to be located within the frequency range, particularly at the attenuation pole of the ladder-type filter 1, so that a wide band, low loss and an increased attenuation can be achieved.
  • FIG. 5 shows the transmission characteristics of the parallel arm resonator P21 and the inductance L1 of 3.5nH, 4nH and 5nH in the parallel arm resonator P21.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating transmission characteristics when connected.
  • FIG. 6 shows the impedance and frequency characteristics of the parallel arm resonator P21 alone and the inductance L1 of 3.5 nH, 4 nH and 5 nH connected to the parallel arm resonator P21.
  • FIG. 6 is a diagram showing impedance-frequency characteristics when the frequency is in the range.
  • the resonance frequency is the frequency at which the impedance crosses zero on the lower side of the pass band
  • the anti-resonance frequency is the frequency at which the absolute value of the impedance becomes a maximum value within the pass band
  • the sub-resonance frequency is This is the frequency at which the impedance crosses zero above the passband.
  • Attenuation poles are generated on the lower side of the pass band and on the higher side of the pass band.
  • the frequency at which the attenuation pole is generated substantially matches the resonance frequency and the sub-resonance frequency in FIG.
  • the sub-resonance generated by connecting the inductance L1 in series to the parallel arm resonator P21 is used as a trap, thereby increasing the amount of attenuation higher than the passband. It has a characteristic in that it aims.
  • FIG. 7 is a diagram showing the attenuation-frequency characteristics when the inductance values of the inductances LI and L2 are changed in the ladder filter 1.
  • the inductance and inductance LI and L2 are set to OnH, that is, the inductance L1 and L2 are set to 3.5 nH or 4 nH as compared to the case where they are not connected. It can be seen that the attenuation on the higher frequency side than the passband is improved.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating attenuation frequency characteristics of a ladder-type filter prepared as a comparative example.
  • a parallel arm resonator in which the reference potential side terminal of the ladder filter described in Patent Document 2 is connected in common is connected between the reference potential side terminal and the reference potential.
  • the horizontal axis represents the inductance value of the connected inductance
  • ⁇ ⁇ represents the out-of-band attenuation (the minimum attenuation in the partner passband 2110-2170MHz)
  • the reference is 3dB. Indicates bandwidth.
  • the bandwidth is not increased even if the inductance is connected and the inductance value is changed.
  • the bandwidth is expanded by increasing the inductance values of the inductances LI and L2, and the out-of-band attenuation is also increased as the inductance value increases.
  • the inductance value becomes too large, the attenuation in the re-attenuation region decreases.
  • the ladder-type filter of the comparative example even if an inductance is connected to the parallel arm resonator, the bandwidth expansion effect is not obtained.
  • the ladder-type filter of the above embodiment has a wide band, It can be seen that a high attenuation can be realized.
  • a large out-of-band attenuation can be obtained by selecting the value of the inductance value. This is thought to be due to the relationship between the sub-resonance generated in the region higher than the anti-resonance frequency due to the addition of the inductances LI and L2 and the attenuation region.
  • the frequency position of the sub-resonance generated by the connection of the inductances LI and L2 be located at or near the attenuation pole of the ladder-type filter 1, as in the above embodiment.
  • the sub-resonance is located in the pass band of the reception-side band filter which is the other-side band-pass filter, the attenuation in the other-side pass band can be increased, and as described above. Therefore, the bandwidth can be increased.
  • the inductance is 3 nH-5 nH, a sufficient amount of out-of-band attenuation and a wide bandwidth can be secured.
  • the position of the sub-resonance frequency when the inductance is 3 nH is around 2260 MHz
  • the position of the sub-resonance frequency when the inductance is 3.5 nH is 2206 MHz as shown in Table 1.
  • the frequency position of the sub-resonance is determined by the pass band of the reception-side band-pass filter of the partner band-pass filter. It may be located inside or in the vicinity thereof.
  • the vicinity of the bandpass filter of the other party in the passband of the reception-side bandpass filter is, as is clear from Fig. 9, the attenuation to around 2260MHz, which is the frequency position of the subresonance when the inductance force is S3nH. Since it can be secured, it indicates a frequency position approximately 90 MHz higher than the passband on the other side.
  • the bonding wire 18d intersects the wiring pattern 22 as shown by the arrow A. That is, the electric line from the parallel arm resonator P21 to the first inductance L1 and the line from the parallel arm resonator P22 to the second inductance L2 intersect. Therefore, in the ladder filter 1, The magnetic fluxes generated in the lines cancel each other out, and the deterioration of the attenuation when the inductances LI and L2 are increased is suppressed. Therefore, by providing the intersection A, a large amount of attenuation can be obtained. This will be described with reference to FIG.
  • the solid line in Fig. 11 is the attenuation-frequency characteristic of the ladder-type filter 1 having the intersection A, and the broken line is the same as above except that the bonding wire 18d was connected so as not to provide the intersection A.
  • 9 shows attenuation frequency characteristics of a ladder filter configured in the same manner as the embodiment. As is clear from FIG. 11, it is understood that the provision of the above-mentioned intersection A increases the out-of-band attenuation.
  • the bonding wire 18d intersects the wiring pattern 22 as shown by the arrow A.
  • the structure for providing the intersection may be changed as appropriate. Can be.
  • the bonding wire 18c connecting the electrode pad 17c and the electrode land 16b crosses the bonding wire 18d as shown by the arrow A1.
  • the bonding wire 18c intersects with the wiring pattern 23 connecting the parallel arm resonator P22 and the electrode pad 17d as shown by an arrow A2.
  • the line between one parallel arm resonator and the inductance and the line between the other parallel arm resonator and the inductance connected to the parallel arm resonator intersect with each other.
  • the structure can be variously modified.
  • the inductance element is connected between the parallel arm resonators P21 and P22 in series with the reference potential, but such a configuration can be variously modified.
  • FIG. 4 (a) two resonators P3 la and P3 lb connected in parallel are arranged in one parallel arm, and the parallel arm resonators P3 la and P31b connected in parallel are arranged.
  • the structure may be such that the inductance L3 is connected between the common connection point on the reference potential side and the reference potential.
  • two parallel arm resonators P32a and P32b may be connected in series in one parallel arm.
  • the parallel arm resonator arranged in the parallel arm may have a structure in which a plurality of parallel arm resonators are connected in series or in parallel.
  • inductance a plurality of inductance elements are connected in series with each other or in parallel with each other in one parallel arm. Make it up.
  • an inductance is not necessarily connected in series to all the parallel arm resonators.
  • an inductance should be connected in series to a reference potential side terminal of at least one of the plurality of parallel arm resonators.
  • the series arm resonators S21 to S23 and the parallel arm resonators P21 and P22 are configured by surface acoustic wave resonators. It may be constituted by a resonator.
  • Such other resonators include, for example, piezoelectric thin film resonators 41 and 51 shown in FIGS. 14 and 15.
  • the piezoelectric thin-film resonator 41 shown in Fig. 14 is configured using a substrate 42 having a concave portion 42a on the upper surface.
  • the piezoelectric thin film support layer 43 is laminated so as to cover the concave portion 42a.
  • the piezoelectric thin film 44 is arranged on the upper surface of the piezoelectric thin film support layer 43.
  • a lower electrode 45 is formed on the lower surface of the piezoelectric thin film 44, and an upper electrode 46 is formed on the upper surface.
  • the lower electrode 45 and the upper electrode 46 are partially opposed via the piezoelectric thin film 44, and the opposed portion is located above the recess 42a of the substrate 42 described above.
  • the piezoelectric thin film 44 may be formed of a suitable piezoelectric material such as ZnO or A1N.
  • the lower electrode 45 and the upper electrode 46 can be made of an appropriate conductive material such as A or Cu.
  • the substrate 42 can be made of an appropriate insulating material or a piezoelectric material as long as it can be configured to have the opening 42a.
  • a material forming the substrate 42 for example, alumina or the like can be given.
  • the piezoelectric thin film support layer 43 has a function of covering the opening 42a and supporting the piezoelectric thin film 44, and may be made of an appropriate material as long as the vibration of the piezoelectric thin film 44 is not hindered. Since such a piezoelectric thin film support layer 43 forms a diaphragm structure, it has a thickness that does not hinder the vibration of the piezoelectric thin film 44 as described above. What is necessary is just to be formed.
  • the piezoelectric thin film support layer 43 is made of, for example, SiO, AlO, or the like.
  • an opening 52 a is formed in a substrate 52.
  • the piezoelectric thin film support layer 43, the lower electrode 45, the piezoelectric thin film 44, and the upper electrode 46 are stacked on the opening 52a. That is, the configuration is the same as that of the piezoelectric thin-film resonator 41 except that a substrate 52 having an opening 52a is provided instead of the substrate 42 having the concave portion 42a shown in FIG.
  • the substrate 52 may be provided with the through-hole 52a penetrated by the concave portion opened on the upper surface. In this case, an excitation portion of the piezoelectric thin film 44 is formed above the opening 52a.
  • FIG. 16 and FIG. 17 are a schematic partially cutaway plan view and a front sectional view showing a modified example of the filter device of the present invention.
  • the filter device 61 of the present modification has a mounting board 62.
  • a package 63 is mounted on a mounting board 62.
  • a ladder-type circuit including a series arm resonator and a parallel arm resonator constituting the filter device of the present invention is configured in the knockout 63 as in the above-described embodiment. That is, a piezoelectric substrate having a circuit configuration excluding an inductance connected in series to the parallel arm resonator according to the present invention is housed.
  • the inductances LI and L2 connected in series to the above-described parallel arm resonators are configured by coil-shaped conductor patterns provided on the surface of the mounting board 62. Therefore, the conductor patterns constituting the inductances LI and L2 can be formed in the same process using the same material as the wiring 62a on the mounting board 62. Therefore, the inductances LI and L2 can be configured without complicating the manufacturing process. Further, since the inductance LI and the L2 force mounting board 62 are integrated, the number of components can be reduced.
  • the coil-shaped conductor pattern may be a meander-shaped conductor pattern.
  • a package 63 is mounted on a mounting board 66.
  • the conductor pattern forming the inductances LI, L2 is formed in the mounting board 66.
  • One ends of the inductances LI and L2, which are also the conductor pattern forces, are mounted via via-hole electrodes 67a and 67b, respectively. It is connected to wiring patterns 68a, 68b provided on the surface of the substrate 66.
  • the wiring patterns 68a, 68b are electrically connected to electrodes provided on the package 63.
  • the other ends of the inductances LI and L2 are electrically connected to terminal electrodes 70a and 70b provided on the lower surface of the mounting board 66 via via-hole electrodes 69a and 69b provided in the mounting board 66.
  • the connection via the via-hole electrodes 69a and 69b may be a connection via an electrode provided on the side surface of the mounting board 66!
  • the filter device 65 of the present modified example since the inductance LI and L2 force are incorporated in the mounting board 66, it is possible to provide the filter device of the present invention without increasing the size. Further, the built-in inductances LI and L2 can be easily obtained, for example, according to a known manufacturing method for manufacturing a ceramic multilayer substrate. Therefore, it is possible to provide the filter device 65 without increasing the number of parts and without increasing the number of manufacturing steps.
  • FIG. 18 is a schematic plan view for explaining still another modified example of the filter device of the present invention.
  • a filter element 73 is housed in a package 72.
  • the filter element 73 has the same configuration as the filter element of the ladder-type filter 1 of the first embodiment.
  • the feature of this modification is that the inductances LI and L2 are formed by forming a coil-shaped conductor pattern on the surface of the knockout 72.
  • the inductances LI and L2 may be formed by forming a conductor pattern on the surface of the knockout 72.
  • one ends of the inductances LI and L2 are electrically connected to the electrode lands on the filter element 73 by bonding wires 74a and 74b, respectively.
  • the other ends of the inductances LI and L2 are electrically connected to terminal electrodes and the like that are electrically connected to the outside via via-hole electrodes (not shown).
  • the coil-shaped conductor pattern may be a meander-shaped conductor pattern.
  • the connection via the via-hole electrode may be a connection via the side electrode! /.
  • the filter element 76 is housed in the package 72a.
  • the knockout 72a is formed of a ceramic multilayer substrate.
  • Inductances LI and L2 are built in package 72a.
  • Inductances LI and L2 are placed at multiple heights in the package 72a.
  • 76b is formed, and both are electrically connected by a via-hole electrode 76c.
  • the coil pattern 76a is electrically connected to the wiring pattern 78a through the via hole 77a.
  • the coil pattern 76b is electrically connected to the terminal electrode 79a from the via hole electrode 77b.
  • the inductance L2 has the same configuration, and the coil patterns 80a and 80b forming the inductance L2 are electrically connected by the via-hole electrode 80c.
  • the coil pattern 80a is connected to the wiring pattern 78b by the via hole electrode 81a.
  • the coil pattern 80b is electrically connected to the terminal electrode 79b by the via hole electrode 8lb.
  • a side surface electrode may be used instead of the via hole electrodes 77b and 81b.
  • the coil pattern may be a meander pattern! /.
  • the filter devices 71 and 75 of the modified examples shown in FIGS. 18 and 19 even if at least one of the inductances LI and L2 is built in the package in which the filter device is mounted. Good.
  • the work of connecting the inductance element outside of the knockouts 72 and 75 can be omitted, and the size of the electronic component including the filter device can be reduced. That is, it is possible to reduce the size of an electronic component such as a duplexer configured using the above filter device.
  • FIGS. 20-23 are front cross-sectional views showing modified examples of the filter device structure according to the present invention.
  • the package structure can be appropriately modified.
  • a package is constituted by the substrate 202, the frame member 203, and the lid member 204.
  • the SAW element 205 is mounted on the substrate 202 by a flip chip bonding method. That is, the electrode lands 206 and 207 are formed on the upper surface of the substrate 202, and are joined to the SAW element 205 and the S electrode lands 206 and 207 by metal bumps 208a and 208b.
  • the electrode lands 206 and 207 are connected to the via-horn electrodes 209a and 209b, respectively, and the terminal electrodes 210 and 211 are joined together.
  • the inductance may be appropriately configured similarly to the above-described embodiment. For example, it may be constituted by an external inductance element.
  • a filter device 221 shown in FIG. 21 employs the same package structure as filter device 201.
  • a multilayer substrate 222 is used instead of the substrate 202. It is.
  • electrode lands 206, 207 are formed, and the electrode lands 206, 207 are disposed inside the multilayer substrate 222 for internal electrodes 223, 224 for inductance configuration.
  • Honoré electrode 209a, 209b Further, the internal electrodes 223, 224 are connected to the internal electrodes 227, 228 for inductance configuration by the via-hole electrodes 225, 226.
  • Internal electrodes 227, 228 are connected to terminal electrodes 210, 211 by via horn electrodes 229, 230.
  • the inductance may be configured in the multilayer substrate 222, and the SAW element 205 may be mounted on the multilayer substrate 222 by the flip-chip bonding method as in the case of the filter device 201.
  • the filter device 241 shown in FIG. 22 has the same configuration as the filter device 201 except that an exterior resin layer 242 is used instead of the frame member 203 and the lid member 204 shown in FIG. Further, a filter device 251 shown in FIG. 23 is configured in the same manner as the filter device 221 except that an exterior resin layer 252 is used instead of the frame member 203 and the lid member 204. As described above, a part of the knock may be constituted by the outer resin layers 242 and 252.

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Abstract

 十分な減衰量を得ることができ、加えて、低損失かつ広帯域であるフィルタ装置を提供する。  通過帯域の相対的に低い第1のバンドパスフィルタまたは通過帯域が相対的に高い第2のバンドパスフィルタとを含む通信システムの第1のバンドパスフィルタとして用いられるフィルタ装置であって、入力端子2と出力端子3とを結ぶ直列腕に直列腕共振子S21~S23が挿入されており、直列腕と基準電位とを結ぶ並列腕にそれぞれ、並列腕共振子P21,P22が接続されており、少なくとも1つの並列腕共振子P21,P22に直列にインダクタンスL1,L2が接続されており、インダクタンスL1,L2の挿入により生じた副共振の共振周波数が、該ラダー型フィルタに対して相手側のフィルタである受信側または送信側帯域フィルタの通過帯域内またはその近傍に位置されている、フィルタ装置1。

Description

明 細 書
フィルタ装置
技術分野
[0001] 本発明は、複数の共振子が、梯子型回路構成を有するように接続されているフィル タ装置に関し、例えば、通信システムの送信側帯域フィルタまたは受信側帯域フィル タとして用いられるフィルタ装置に関する。
背景技術
[0002] 従来、弾性表面波装置の受信側帯域フィルタや送信側帯域フィルタとして、複数の 弾性表面波共振子を接続してなるラダー型フィルタが広く用いられて 、る。例えば、 下記の特許文献 1には、複数の一端子対弾性表面波共振子が、入力側から出力側 に向かって、並列腕及び直列腕に交互に配置されているラダー型フィルタが開示さ れている。特許文献 1では、図 24に示すように、並列腕に並列腕共振子 P1が、直列 腕に直列腕共振子 S1が挿入されている。図 24では、 1段の回路構成が示されてい るが、特許文献 1には複数段構成のラダー型フィルタが示されている。特許文献 1で は、並列腕共振子 P1と基準電位との間にインダクタンス Lを接続することにより、広帯 域かつ高減衰量を実現することができるとされて 、る。
[0003] 他方、下記の特許文献 2には、少なくとも 2個の並列腕共振子の基準電位端子同 士を共通接続したラダー型フィルタが開示されている。図 25は、特許文献 2に記載の ラダー型フィルタ 100の回路構成を示す図である。図 25に示すように、入力端子 10 1と、出力端子 102とを結ぶ直列腕に、直列腕共振子 S11— S13が配置されている。 そして、直列腕共振子 Sl l, S12間の接続点と、基準電位とを結ぶ並列腕に、並列 腕共振子 P11が、直列腕共振子 S12, S13間の接続点と、基準電位とを結ぶ並列腕 に並列腕共振子 P12が配置されている。ここでは、並列腕共振子 Pl l, P12の基準 電位側端子が共通接続されて!ヽる。
[0004] 特許文献 2に記載のラダー型フィルタ 100では、並列腕共振子 Pl l, P12を共通接 続することにより、通過帯域高域側の減衰量の拡大が図られている。
特許文献 1:特開平 5— 183380号公報 特許文献 2:特開平 10— 163808号公報
発明の開示
[0005] 近年、携帯電話機などの通信機器の発達により、これらに用いられる帯域フィルタ において、より優れた特性が求められている。例えば、 2GHz帯の WCDMA方式の 分波器に用いられている送信側帯域フィルタでは、通過帯域における挿入損失は 1 . 5dB以下であることが求められており、減衰量は 37dB以上であることが求められて いる。また、この方式では、送信側の通過帯域は 1920MHz— 1980MHzであり、周 波数範囲も広くなつている。
[0006] ところで、特許文献 2に記載の回路構成では、通過帯域高域側の減衰量が拡大さ れるとされている。し力しながら、特許文献 2に記載の回路構成を用いた場合、通過 帯域の高域側における減衰量を拡大し得るものの、同時に通過帯域幅を拡げること は困難であった。従って、上記 2GHz帯の WCDMA方式の分波器に用いられる送 信側帯域フィルタのように、十分な減衰量を有するだけでなぐ広い周波数範囲にわ たり動作し得るフィルタを提供することが困難であった。
[0007] 他方、特許文献 1に記載のラダー型フィルタでは、並列腕共振子 P1に直列にイン ダクタンス Lが接続されることにより、広帯域かつ高減衰量が実現されるとされている。 しかしながら、インダクタンス Lの最適なインダクタンス値については特に開示されて いない。また、特許文献 1では、通過帯域の高域側における減衰量を特に改善する ための構成にっ ヽては何ら示されて ヽな 、。
[0008] 本発明の目的は、通過帯域の周波数が相対的に低い第 1のバンドパスフィルタと、 通過帯域の周波数が相対的に高い第 2のバンドパスフィルタとを含む通信システム の上記第 1のバンドパスフィルタとして用いられるフィルタ装置であって、複数の共振 子を接続してなるラダー型の回路構成を有し、相対的に十分な減衰量、特に通過帯 域高域側の減衰量を十分な大きさとすることができ、加えて低損失かつ広帯域である フィルタ装置を提供することにある。
[0009] 本発明のある広い局面によれば、 通過帯域の周波数が相対的に低い第 1のバン ドパスフィルタと、通過帯域の周波数が相対的に高い第 2のバンドパスフィルタとを含 む通信システムの第 1のバンドパスフィルタとして用いられるフィルタ装置であって、ラ ダー型回路構成を有し、入力端子と出力端子とを結ぶ直列腕に挿入された少なくと も一つの直列腕共振子と、前記直列腕と基準電位とを結ぶ少なくとも一つの並列腕 に接続されている少なくとも一つの並列腕共振子と、少なくとも一つの前記並列腕共 振子に直列に接続されたインダクタンスとを備え、前記インダクタンスのインダクタンス 値が、前記インダクタンスの挿入により前記並列腕共振子に新たに生じた副共振の 周波数力 相手側のフィルタである第 2のバンドパスフィルタの通過帯域内またはそ の近傍に位置するように設定されて ヽることを特徴とするフィルタ装置が提供される。
[0010] 本発明に係るフィルタ装置のある特定の局面では、前記直列腕共振子及び並列腕 共振子が、それぞれ、弾性表面波共振子により構成されている。
[0011] 本発明に係るフィルタ装置の他の特定の局面では、ラダー型フィルタを構成して!/ヽ る並列腕共振子及び直列腕共振子が、それぞれ、圧電薄膜共振子により構成されて いる。
[0012] 本発明に係るフィルタ装置の他の特定の局面では、前記圧電薄膜共振子は、開口 部もしくは凹部を有する基板と、該開口部もしくは凹部の上方に配置された圧電薄膜 と、前記圧電薄膜の上面及び下面にそれぞれ形成されており、かつ圧電薄膜を介し て対向するように配置された上部電極及び下部電極を有する。
[0013] 本発明に係るフィルタ装置のさらに別の特定の局面では、前記基板と、前記圧電薄 膜との間に、前記基板の開口部もしくは凹部を覆ように設けられた圧電薄膜支持層 がさらに備えられている。
[0014] 本発明に係るフィルタ装置のさらに他の特定の局面では、前記ラダー型フィルタの 前記直列腕共振子及び並列腕共振子が接続されているパッケージがさらに備えられ ており、前記インダクタは、前記パッケージの外部で前記並列腕共振子に接続されて V、るインダクタンス素子である。
[0015] 本発明に係るフィルタ装置のさらに別の特定の局面では、前記パッケージが実装さ れる実装基板をさらに備え、前記インダクタが、前記実装基板に内蔵されたインダク タンス素子である。
[0016] また、本発明に係るフィルタ装置のさらに他の特定の局面では、前記フィルタ装置 が実装されているパッケージをさらに備え、前記インダクタカ 前記パッケージに内蔵 されている。
[0017] 本発明に係るフィルタ装置では、少なくとも 1つの並列腕共振子に直列にインダクタ ンスが接続されており、かつインダクタンスの挿入により生じた副共振の周波数力 相 手側のフィルタである第 2のバンドパスフィルタの通過帯域内またはその近傍に位置 するように構成されているため、広帯域であり、かつ帯域外減衰量を十分な大きさと することができ、さらに通過帯域内における挿入損失を低減することができる。従って 、広帯域、低損失かつ高減衰量のフィルタ装置を提供することが可能となる。
[0018] フィルタ装置を構成している並列腕共振子及び直列腕共振子が弾性表面波共振 子により構成されている場合には、本発明に従って、広帯域、低損失及び高減衰量 の帯域フィルタを弾性表面波装置を用いて構成することができる。
[0019] 直列腕共振子及び並列腕共振子が、圧電薄膜共振子により構成されている場合 には、本発明に従って広帯域、低損失及び高減衰量の第 1のバンドパスフィルタを、 圧電薄膜共振子を用いて構成することができる。
[0020] 圧電薄膜共振子には、開口部または凹部を有する基板と、開口部または凹部に配 置された圧電薄膜と、圧電薄膜の上面に形成された上部電極と、下面に形成された 下部電極とを有する場合には、開口部または凹部の上方において圧電薄膜の振動 が妨げられ難いため、圧電薄膜の振動を利用した共振特性を得ることができる。
[0021] また、上記開口部または凹部を覆うように圧電薄膜支持層が形成されている場合、 該圧電薄膜支持層上に圧電薄膜が積層された構造の圧電共振子が得られる。従つ て、様々な圧電薄膜を用いて圧電薄膜共振子を容易に形成することができる。
[0022] 本発明に係るフィルタ装置にお!ヽて、前記ラダー型フィルタの前記直列腕共振子 及び並列腕共振子が接続されているパッケージをさらに備え、前記インダクタカ 前 記パッケージの外部で前記並列腕共振子に接続されているインダクタンス素子であ る場合には、ノ ッケージ外においてインダクタンス素子を接続すればよい。従って、 要求特性に応じた様々なインダクタンス値のインダクタンス素子を、別部品として用意 するだけで、本発明に係るフィルタ装置を容易に構成することができる。
[0023] 上記パッケージが実装される実装基板がさらに備えられており、上記インダクタが、 上記パッケージの外部で該実装基板に内蔵されているインダクタンス素子である場 合には、該インダクタンス素子を実装基板上または実装基板内の回路パターンと同 時に形成することができる。従って、生産性を高めることができる。
[0024] フィルタ装置が実装されているパッケージをさらに備え、上記インダクタが該パッケ ージ内に内蔵されている場合には、ノ ッケージの外部でインダクタンスを接続する作 業を省略することができ、かつパッケージにインダクタンスが内蔵されているので、フ ィルタ装置の小型化を図ることができる。
図面の簡単な説明
[0025] [図 1]図 1は本発明の一実施形態のラダー型回路を示す回路図である。
[図 2]図 2は図 1に示した実施形態のラダー型フィルタの構造を模式的に示す平面図 である。
[図 3]図 3は図 2に示したラダー型フィルタの模式的底面図である。
[図 4]図 4は (a)及び (b)は、本発明において、並列腕共振子と並列腕共振子に接続 されるインダクタンスカもなる構造の各変形例を示す回路図である。
[図 5]図 5は本発明の実施形態で用いられている並列腕共振子単独、並びに該並列 腕共振子に種々のインダクタンス値のインダクタンスを直列に接続した場合の減衰量
-周波数特性を示す図である。
[図 6]図 6は本発明の実施形態で用いられている並列腕共振子単独、並びに該並列 腕共振子に種々のインダクタンス値のインダクタンスを直歹 Uに接続した場合のインピ 一ダンス -周波数特性を示す図である。
[図 7]図 7は第 1の実施形態のラダー型フィルタの減衰量 周波数特性を示す図であ る。
[図 8]図 8は特許文献 2に記載の構成に従って作製した比較例のラダー型フィルタの 減衰量 -周波数特性を示す図である。
[図 9]図 9は実施形態のラダー型フィルタの帯域幅及び減衰量と並列腕共振子に接 続されるインダクタンスのインダクタンス値との関係を示す図である。
[図 10]図 10は特許文献 2に記載の先行技術に基づいて作製された比較例のラダー 型フィルタの帯域幅及び減衰量と並列腕共振子に接続されるインダクタンスのインダ クタンス値との関係を示す図である。 [図 11]図 11は並列腕共振子とインダクタンスとの間の線路が交差して 、る場合と交 差して 、な 、場合のラダー型フィルタの減衰量 周波数特性の差を説明するための 図である。
[図 12]図 12は図 2に示したラダー型フィルタの変形例を示す模式的平面図である。
[図 13]図 13は図 2に示したラダー型フィルタの他の変形例を示す模式的平面図であ る。
[図 14]図 14は本発明で直列腕共振子及び並列腕共振子として用いられる圧電薄膜 共振子の一例を示す正面断面図である。
[図 15]図 15は本発明で直列腕共振子及び並列腕共振子として用いられる圧電薄膜 共振子の一例を示す正面断面図である。
[図 16]図 16は本発明の変形例に係るフィルタ装置の構造を説明するための模式的 平面図である。
[図 17]図 17は本発明のフィルタ装置の他の変形例を説明するための正面断面図で ある。
[図 18]図 18は本発明のフィルタ装置のさらの他の変形例を説明するための模式的平 面図である。
[図 19]図 19は本発明に係るフィルタ装置のさらに別の変形例を説明するための模式 的正面断面図である。
[図 20]図 20は本発明の更に他の変形例に係るフィルタ装置の正面断面図である。
[図 21]図 21は本発明の更に別の変形例に係るフィルタ装置の正面断面図である。
[図 22]図 22は本発明の他の変形例に係るフィルタ装置の正面断面図である。
[図 23]図 23は本発明の別の変形例に係るフィルタ装置の正面断面図である。
[図 24]図 24は従来のラダー型フィルタの一例を示すための回路図である。
[図 25]図 25は従来のラダー型フィルタの他の例を示すための回路図である。
符号の説明
1· ··ラダー型フィルタ
2…入力端子
3…出力端子 …パッケージ
a…開口部
…弾性表面波エレメント
···圧電基板
a— 15c, 16a— 16c…電極ランドa— 17d…電極ノッド
a— 18d- ··ボンディングワイヤーa— 19c…端子電極
a 20c…端子電極
···配線パターン
···配線パターン
···圧電薄膜共振子
···基板
a…凹部
…圧電薄膜支持層
…圧電薄膜
…下部電極
···上部電極
…圧電薄膜共振子
···基板
a…開口部
…フイノレタ装置
…実装基板
· "パッケージ
…フイノレタ装置
…実装基板
a, 67b…ビアホール電極a, 68b…配線パターン 69a, 69b…ビアホール電極
70a, 70b…端子電極
71· · 'フィルタ装置
72· · .ノ ッケージ
73· · -フィルタ素子
74a, 74b…ボンディングワイ
75· · 'フィルタ装置
72a- · .ノ ッケージ
78a, 78b…配線パターン
79a, 79b…端子電極
80a, 80b…コイルパターン
81a, 8 lb…ビアホール電極
S21一 S23…直列腕共振子
P21, P22…並列腕共振子
P31a, P31b…並列腕共振子
P32a, P32b…並列腕共振子
発明を実施するための最良の形態
[0027] 以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発 明を明らかにする。
[0028] 図 1は、本発明の一実施形態に係るフィルタ装置としてのラダー型フィルタの回路 図である。本実施形態のラダー型フィルタ 1は、送信側帯域が 1920— 1980MHz、 受信側帯域が 2110—2170MHzの W— CDMA方式のデュプレクサに用いられる送 信側帯域フィルタである。従って、送信側帯域が、受信側帯域よりも低くされている。 すなわち、ラダー型フィルタ 1は、通過帯域の周波数が相対的に低い第 1のバンドパ スフィルタと、通過帯域の周波数が相対的に高い第 2のバンドパスフィルタとを含む 通信システムの第 1のバンドパスフィルタとして用いられるフィルタ装置である。
[0029] ラダー型フィルタ 1は、複数の弾性表面波共振子が梯子型回路構成を有するように 接続された構造を有する。すなわち、入力端子 2と出力端子 3とを結ぶ直列腕に、そ れぞれ弾性表面波共振子からなる直列腕共振子 S21, S22, S23が配置されている 。直列腕共振子 S21, S22間の接続点と基準電位との間に延びる並列腕に並列腕 共振子 P21が配置されている。並列腕共振子 P21の基準電位側端子と基準電位と の間に、並列腕共振子 P21と直列にインダクタンス L1が接続されている。また、直列 腕共振子 S22, S23間の接続点と基準電位との間の並列腕に並列腕共振子 P22が 配置されている。並列腕共振子 P2き 2の基準電位側端子と、基準電位との間にイン ダクタンス L2が接続されて 、る。
[0030] すなわち、本実施形態のラダー型フィルタ 1では、並列腕共振子 P21, P22のそれ ぞれに、直列にインダクタンス LI, L2が接続されている。
[0031] 図 2は、本実施形態のラダー型フィルタの構造を示す模式的平面図であり、図 3は 、その底面に構成されている端子電極を説明するためのラダー型フィルタの模式的 平面図である。
[0032] 図 2に示すように、ラダー型フィルタ 1は、パッケージ 11を有する。図 2では、ノ¾ /ケ ージ 11を閉成する蓋材を取り去った状態が示されている。すなわち、パッケージ 11 は、凹部 11aを有し、凹部 11a内に、弾性表面波エレメント 13が収納されている。弹 性表面波エレメント 13は、矩形の圧電基板 14を用いて構成されている。圧電基板 1 4上に、電極パターンを形成することにより、上述した直列腕共振子 S21— S23及び 並列腕共振子 P21, P22が図 1に示すように、電気的に接続された構造が示されて いる。図 2から明らかなように、直列腕共振子 S21— S23及び並列腕共振子 P21, P 22は、それぞれ、インターデジタル電極と、インターデジタル電極の表面波伝搬方向 両側に配置された反射器とを備える一端子対弾性表面波共振子により構成されてい る。なお、ノ ッケージ 11の凹部 11aの両側には、凹部 11aよりも高い段差部 l ib, 11 cが設けられている。段差部 l ib, 11c上に、電極ランド 15a— 15c及び 16a— 16cが 形成されている。
[0033] 他方、圧電基板 13上においては、電極パッド 17a— 17dが形成されている。電極 パッド 17aは、直列腕共振子 S21の入力端側に接続されている。すなわち、ラダー型 フィルタ 1の入力端側に配置される電極パッドである。電極パッド 17aは、ボンディン グワイヤー 18aにより、ノ ッケージ 11側に設けられた電極ランド 15bに電気的に接続 されている。
[0034] 電極パッド 17bは、直列腕共振子 S23の出力端に接続されている。すなわち、ラダ 一型フィルタ 1の出力端に相当する。電極パッド 17bは、ボンディングワイヤー 18bに より電極ランド 16aに電気的に接続されて!、る。
[0035] 他方、電極パッド 17cは、並列腕共振子 P21の基準電位側端子に接続されている 。電極パッド 17cは、ボンディングワイヤー 18cにより電極ランド 16bに接続されている 。同様に、電極パッド 17dは、並列腕共振子 P22の基準電位側端子に接続されてお り、ボンディングワイヤー 18dにより、パッケージ 11に形成された電極ランド 16cに電 気的に接続されている。
[0036] 本実施形態では、上記圧電基板 13は、 LiNbO基板を用いて構成されて!ヽる。ま
3
た、上記インターデジタル電極、反射器及び電極パッドを A1を主成分とする導電性 材料により構成されている。
[0037] もっとも、本発明にお ヽて、弾性表面波共振子を構成する圧電基板材料及び電極 を構成する導電性材料は上記に限定されるものではない。
[0038] 図 2に示したラダー型フィルタ 1は、実際には、ノ ッケージ 1の凹部 11aを覆う蓋材に より閉成される。
[0039] 他方、図 3に示すように、ラダー型フィルタ 1のパッケージ 11の底面 l id上には、端 子電極 19a— 19c, 20a— 20cが形成されている。端子電極 19a— 19cは、上述した 電極ランド 15a— 15cにそれぞれ電気的に接続されており、端子電極 20a— 20cは、 電極ランド 16a— 16cに電気的に接続されている。
[0040] そして、図 3に示すように、本実施形態のラダー型フィルタ 1では、上記端子電極 20 b, 20cと基準電位との間に、外付けで第 1,第 2のインダクタンス LI, L2がそれぞれ 電気的に接続されている。すなわち、図 1に示すインダクタンス LI, L2は、外付けの インダクタンス素子によりそれぞれ構成されている。
[0041] ノ ッケージ 11は、アルミナにより構成されている。パッケージ 11は、アルミナに限定 されず、低温焼結性セラミックス LTCCなどの他の絶縁性セラミックス、あるいは合成 榭脂などの他の絶縁性材料により構成されて 、てもよ 、。
[0042] なお、図 2に示すように、並列腕共振子 P21と電極パッド 17cとを電気的に接続して V、る配線パターン 22と、ボンディングワイヤー 18dとが矢印 Aで示すように交差して!/ヽ る。
[0043] 本実施形態では、インダクタンス LI, L2は、上記のようにパッケージ 11外に用意さ れたインダクタンス素子により構成されていた力 インダクタンス LI, L2はパッケージ 11内に内蔵されていてもよい。すなわち、ノ ッケージ 11にスパイラル状インダクタや マイクロストリップなどを内蔵することにより、あるいはチップ型インダクタンス素子をパ ッケージ 11内に収納することにより、パッケージ 11内にインダクタンス LI, L2を内蔵 させてちょい。
本実施形態のラダー型フィルタ 1の特徴は、インダクタンス LI, L2の接続により生じ た副共振の周波数力 ラダー型フィルタ 1の相手側フィルタである受信側帯域フィル タの通過帯域、すなわち、 2110— 2170MHz周波数範囲内に、特にラダー型フィル タ 1の減衰極に位置するように設定されており、それによつて、広帯域、低損失及び 減衰量の拡大が図られて 、ることにある。
[0044] これを以下において説明する。
図 5は、上記ラダー型フィルタ 1にお!/、て用 、られて 、る並列腕共振子 P21の単独 の伝送特性並びに並列腕共振子 P21に 3. 5nH、 4nH及び 5nHのインダクタンス L 1が接続されている場合の伝送特性を示す図である。図 6は、上記ラダー型フィルタ 1 にお 、て用いられて 、る並列腕共振子 P21の単独のインピーダンス 周波数特性並 びに並列腕共振子 P21に 3. 5nH、 4nH及び 5nHのインダクタンス L1が接続されて いる場合のインピーダンス-周波数特性を示す図である。
[0045] なお、図 5及び図 6に示した特性における並列腕共振子と、並列腕共振子に接続さ れたインダクタンスカゝらなるトラップの共振周波数、反共振周波数及びインダクタンス の接続により表れる副共振の周波数を下記の表 1に示す。
[0046] [表 1] L *S周波数 反共振周波数 副共振周波数
Cn H] [MH z ] [MH z ] [MH z ]
0. 0 1 9 5 3 2 0 4 4
範囲外
3 . 5 2 0 4 4 2 2 0 6
(1800MHz以下)
範囲外
4. 0 2 0 4 4 2 1 5 7
(1800MHz以下)
範囲外
5. 0 2 0 4 4 2 1 0 7
(1800MHz以下)
[0047] 図 6において、共振周波数は通過帯域よりも低域側でインピーダンスがゼロを横切 る周波数、反共振周波数は通過帯域内でインピーダンスの絶対値が極大値になる 周波数、副共振周波数は通過帯域よりも高域側でインピーダンスがゼロを横切る周 波数である。
図 5において、通過帯域よりも低域側と通過帯域よりも高域側に減衰極が発生して いる。前記減衰極の発生している周波数は図 6における共振周波数、副共振周波数 と略一致する。
[0048] 図 5及び図 6から明らかなように、インダクタンス L1が接続されていない場合に比べ てインダクタンス L 1を接続することにより、特にインダクタンス L 1のインダクタンス値を 大きくすることにより、並列腕共振子 P21の反共振周波数よりも高域側における副共 振の周波数が低くなつていることがわかる。すなわち、この副共振をトラップとして利 用することにより、ラダー型フィルタの高域側における減衰量の拡大を図り得ることが わかる。本発明では、このように、インダクタンス L1を並列腕共振子 P21に直列に接 続することにより生じた副共振をトラップとして利用し、それによつて通過帯域よりも高 域側の減衰量の拡大を図ったことに特徴を有する。
[0049] 図 7は、ラダー型フィルタ 1において、インダクタンス LI, L2のインダクタンス値を変 ィ匕させた場合の減衰量-周波数特性を示す図である。図 7から明らかなように、インタ、 クタンス LI, L2を OnH、すなわち接続しなかった場合に比べて、インダクタンス L1, L2の値を、 3. 5nHまたは 4nHとすることにより、通過帯域幅が拡大し、かつ通過帯 域よりも高域側の減衰量が改善されていることがわかる。
[0050] 上記効果を明確にするために、特許文献 2に記載のラダー型フィルタと上記実施形 態のラダー型フィルタとを比較することとする。
[0051] 図 8は、比較例として用意したラダー型フィルタの減衰量周波数特性を示す図であ る。この比較例は、特許文献 2に記載のラダー型フィルタの基準電位側端子が共通 接続されて!ヽる並列腕共振子にお!ヽて、該基準電位側端子と基準電位との間にイン ダクタンスを挿入した構成にぉ 、て、インダクタンス値を変ィ匕させたことを除 ヽては、 本実施形態と同様にして作製されたラダー型フィルタである。
[0052] 図 7と図 8を比較すれば明らかなように、比較例では、通過帯域よりも低域側に減衰 極が発生し、インダクタンス LI, L2の値を大きくしたとしても、帯域幅は拡大しないこ とがわかる。上記図 7と図 8との比較をより明確にするために、上記実施形態のラダー 型フィルタ 1の帯域幅と減衰量との関係、及び上記比較例のラダー型フィルタの帯域 幅と減衰量との関係を、それぞれ、図 9及び図 10にグラフで示す。
[0053] 図 9及び図 10において、横軸は接続されるインダクタンスのインダクタンス値を、〇 は帯域外減衰量 (相手側通過帯域 2110— 2170MHzにおける最小の減衰量であ る)を、參は 3dB帯域幅を示す。
[0054] 図 10から明らかなように、比較例のラダー型フィルタでは、インダクタンスを接続し、 そのインダクタンス値を変化させても帯域幅は拡大しな 、ことがわかる。これに対して 、上記実施形態のラダー型フィルタ 1では、インダクタンス LI, L2のインダクタンス値 を増大させることにより、帯域幅は拡大していき、帯域外減衰量についても、インダク タンス値の増加に伴って増加していき、但しインダクタンス値が大きくなり過ぎると、再 度減衰域における減衰量が低下していることがわかる。
[0055] 従って、比較例のラダー型フィルタでは、並列腕共振子にインダクタンスを接続して も帯域幅拡大効果が得られな 、のに対し、上記実施形態のラダー型フィルタでは、 広帯域であり、かつ高減衰量を実現し得ることがわかる。また、図 9から明らかなように 、ラダー型フィルタ 1では、インダクタンス値の値を選択することにより、大きな帯域外 減衰量の得られることがわかる。これは、インダクタンス LI, L2の付カ卩により反共振 周波数よりも高い領域に生じる副共振と、減衰域との関係によると考えられる。すなわ ち、上記実施形態のように、上記副共振の周波数域が、ラダー型フィルタ 1の減衰極 の近傍となった場合に、減衰量を拡大し得る効果がもっとも大きくなる。また、このとき 、同時に帯域幅拡大効果も得ることができ、インダクタンス LI, L2が接続されていな い場合に比べて 2倍程度の帯域幅を確保することができる。
[0056] 従って、好ましくは、上記実施形態のように、インダクタンス LI, L2の接続により生 じた副共振の周波数位置は、ラダー型フィルタ 1の減衰極もしくはその近傍に位置す ることが望ましい。もっとも、本発明では、相手側帯域フィルタである受信側帯域フィ ルタの通過帯域内に上記副共振が位置しておれば、相手側通過帯域における減衰 量を拡大することができ、かつ前述したように帯域幅の拡大を図ることができる。また 、本実施形態においては、図 9からわ力るように、インダクタンスが 3nH— 5nHである 場合に十分な帯域外減衰量と広い帯域幅を確保することができる。ここで、インダクタ ンスが 3nHのときの副共振周波数の位置は、 2260MHz付近であり、インダクタンス が 3. 5nHのときの副共振周波数の位置は、表 1に示すように 2206MHzである。
[0057] 従って、帯域外減衰量の拡大効果は上記実施形態よりも劣るものの、本発明にお V、ては上記副共振の周波数位置は、相手側の帯域フィルタの受信側帯域フィルタの 通過帯域内またはその近傍に位置しておればよい。ここで、相手側の帯域フィルタの 受信側帯域フィルタの通過帯域内の近傍とは、図 9からわ力るように、インダクタンス 力 S3nHであるときの副共振の周波数位置である 2260MHz付近まで減衰を確保でき ることから、概ね相手側通過帯域のより 90MHz程度高い周波数位置を示すものであ る。また、フィルタの通過周波数が変化すると当然変化するため、相手側の通過帯域 の上限の周波数を基準として標準化すると、 2260/2170=約 1. 04となるので相手 側の通過帯域の上限の周波数の 1. 04倍の周波数位置に副共振の周波数をもって くればよいことがわかる。従って、相手側の帯域フィルタの受信側帯域フィルタの通過 帯域内の近傍とは、相手側の通過帯域の上限の周波数を超え、相手側の通過帯域 の上限の周波数の 1. 04倍の周波数位置までの周波数帯として定義することができ る。
[0058] 図 2に示したように、ラダー型フィルタ 1では、ボンディングワイヤー 18dが、配線パ ターン 22と矢印 Aで示すように交差されている。すなわち、並列腕共振子 P21から第 1のインダクタンス L1に至る電気的線路と、並列腕共振子 P22から第 2のインダクタン ス L2に至る線路とが交差していることになる。そのため、ラダー型フィルタ 1では、両 線路において生じる磁束が打ち消し合い、インダクタンス LI, L2を大きくした場合の 減衰量の悪化が抑制される。よって、交差部 Aを設けることにより、大きな減衰量を得 ることができる。これを図 11を参照して説明する。
[0059] 図 11の実線は、交差部 Aを有するラダー型フィルタ 1の減衰量 周波数特性であり 、破線は交差部 Aを設けないように、ボンディングワイヤー 18dを接続したことを除い ては、上記実施形態と同様にして構成されたラダー型フィルタの減衰量 周波数特 性である。図 11から明らかなように、上記交差部 Aを設けることにより、帯域外減衰量 の拡大が図られて ヽることがわかる。
[0060] なお、上記実施形態では、ボンディングワイヤー 18dが配線パターン 22と矢印 Aで 示すように交差されていたが、図 12及び図 13に示すように、交差部を設ける構造は 適宜変更することができる。図 12に示す変形例では、電極パッド 17cと電極ランド 16 bを接続しているボンディングワイヤー 18cと、ボンディングワイヤー 18dとが矢印 A1 で示すように交差されて 、る。
[0061] また、図 13に示す変形例では、ボンディングワイヤー 18cが、並列腕共振子 P22と 電極パッド 17dとを結ぶ配線パターン 23と矢印 A2で示すように交差されている。
[0062] このように、 1個の並列腕共振子とインダクタンスとの間の線路と、他方の並列腕共 振子と該並列腕共振子に接続されているインダクタンスとの間の線路を交差させる構 造は様々に変形することができる。
[0063] さらに、本実施形態では、並列腕共振子 P21, P22に直列にインダクタンス素子が 基準電位との間に接続されていたが、このような構成は様々に変形することができる 。例えば、図 4 (a)に示すように、 1つの並列腕において、互いに並列に接続された 2 個の共振子 P3 la, P3 lbを配置し、並列接続された並列腕共振子 P3 la, P31bの 基準電位側の共通接続点と基準電位との間に、インダクタンス L3を接続した構造で あってもよい。さらに、図 4 (b)に示すように、 1つの並列腕において、 2個の並列腕共 振子 P32a, P32bが直列に接続されて 、てもよ 、。
[0064] すなわち、並列腕に配置される並列腕共振子は、複数の並列腕共振子を直列また は並列に接続した構造であってもよい。また、インダクタンスについても複数のインダ クタンス素子を 1つの並列腕において、互いに直列に、または互いに並列に接続して 構成してちょい。
[0065] さらに、複数段構成のラダー型フィルタにおいて、全ての並列腕共振子に、必ずし も直列にインダクタンスが接続されて 、る構成は必ずしもな 、。
[0066] すなわち、複数の並列腕共振子の内、少なくとも 1つの並列腕共振子の基準電位 側端子に、直列にインダクタンスが接続されておればょ 、。
[0067] また、上記ラダー型フィルタ 1では、直列腕共振子 S21— S23及び並列腕共振子 P 21, P22は弾性表面波共振子で構成されていたが、弾性表面波共振子ではなぐ 他の共振子により構成されていてもよい。このような他の共振子として、例えば図 14 及び図 15に示す圧電薄膜共振子 41, 51を挙げることができる。
[0068] 図 14に示す圧電薄膜共振子 41は、上面に凹部 42aを有する基板 42を用いて構 成されている。凹部 42aを覆うように圧電薄膜支持層 43が積層されている。圧電薄膜 支持層 43の上面に、圧電薄膜 44が配置されている。圧電薄膜 44の下面には下部 電極 45力 上面には上部電極 46が形成されている。下部電極 45と上部電極 46とは 圧電薄膜 44を介して部分的に対向されており、かつ該対向部分は、前述した基板 4 2の凹部 42aの上方に位置している。
[0069] 従って、下部電極 45と上部 46との間に交流電界を印加した場合、圧電効果により 、下部電極 45と圧電薄膜 46とが対向している部分が励振され、共振特性を得ること ができる。
[0070] 上記圧電薄膜共振子 41にお 、て、圧電薄膜 44は、 ZnOや A1Nなどの適宜の圧電 材料などカゝら構成され得る。
[0071] また、下部電極 45及び上部電極 46は、 Aほたは Cuなどの適宜の導電性材料によ り構成され得る c
[0072] 基板 42は、開口 42aを有するように構成され得る限り、適宜の絶縁性材料あるいは 圧電性材料により構成され得る。基板 42を構成する材料としては、例えば、アルミナ などを挙げることができる。さら〖こ、圧電薄膜支持層 43は、開口 42aを覆い、かつ圧 電薄膜 44を支持する機能を有するものであり、かつ圧電薄膜 44の振動を妨げない 限り、適宜の材料により構成され得る。このような圧電薄膜支持層 43は、ダイヤフラム 構造を形成するものであるため、上記のように圧電薄膜 44の振動を妨げない厚みに 形成されておればよい。圧電薄膜支持層 43は、例えば SiO、 Al Oなどから構成さ
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れ得る。
[0073] 図 15に示す圧電薄膜共振子 51では、基板 52に開口部 52aが形成されている。こ の開口部 52a上に、圧電薄膜支持層 43、下部電極 45、圧電薄膜 44及び上部電極 46が積層されている。すなわち、図 14に示した凹部 42aを有する基板 42に代えて、 開口 52aを有する基板 52が設けられていることを除いては、圧電薄膜共振子 41と同 様に構成されている。このように、圧電薄膜共振子では、上面に開いた凹部でなぐ 貫通した開口部 52aが基板 52に設けられていてもよい。この場合には、開口部 52a の上方において、圧電薄膜 44の励振部分が構成されることになる。
[0074] 本発明に係るフィルタ装置では、上記インダクタは様々な形態で構成され得る。図 1 6及び図 17は、本発明のフィルタ装置の変形例を示す模式的部分切欠平面図及び 正面断面図である。本変形例のフィルタ装置 61は、実装基板 62を有する。実装基板 62上にパッケージ 63が実装されている。ノ ッケージ 63内には、上述した実施形態と 同様に、本発明のフィルタ装置を構成している直列腕共振子及び並列腕共振子から なるラダー型回路が構成されている。すなわち、本発明に従って上記並列腕共振子 に直列に接続されるインダクタンスを除いた回路構成を形成してなる圧電基板が収 納されている。
フィルタ装置 61では、前述した並列腕共振子に直列に接続される上記インダクタン ス LI, L2は、実装基板 62の表面に設けられたコイル状の導体パターンにより構成さ れている。従って、インダクタンス LI, L2を構成する導体パターンは、実装基板 62上 の配線 62aと同一材料を用いて、同じ工程で形成され得る。よって、製造工程の煩雑 化を招くことなぐインダクタンス LI, L2を構成することができる。また、インダクタンス LI, L2力 実装基板 62に一体ィ匕されているため、部品点数の低減を図ることができ る。コイル状導体パターンはミアンダ状導体パターンであってもよ 、。
[0075] 図 17に正面断面図で示す変形例のフィルタ装置 65では、実装基板 66上に、パッ ケージ 63が搭載されている。もっとも、本変形例では、実装基板 66内に、インダクタ ンス LI, L2を構成する導体パターンが形成されている。この導体パターン力もなるィ ンダクタンス LI, L2の一端は、それぞれ、ビアホール電極 67a, 67bを介して、実装 基板 66の表面に設けられた配線パターン 68a, 68bに接続されている。配線パター ン 68a, 68bは、パッケージ 63に設けられた電極に電気的に接続されている。他方、 インダクタンス LI, L2の他端は、実装基板 66内に設けられたビアホール電極 69a, 69bを介して、実装基板 66の下面に設けられた端子電極 70a, 70bに電気的に接続 されている。ビアホール電極 69a, 69bを介した接続は実装基板 66の側面に設けら れた電極を介した接続であってもよ!/、。
[0076] 本変形例のフィルタ装置 65においても、インダクタンス LI, L2力 実装基板 66内 に内蔵されているため、大型化を招くことなぐ本発明のフィルタ装置を提供すること ができる。また、上記内蔵されているインダクタンス LI, L2は、例えばセラミック多層 基板を製造する公知の製造方法に従って容易に得ることができる。よって、部品点数 の増大を招くことなぐかつ製造工程の増大を招くことなぐフィルタ装置 65を提供す ることがでさる。
[0077] 図 18は、本発明のフィルタ装置のさらに他の変形例を説明するための模式的平面 図である。図 18に示すフィルタ装置 71では、パッケージ 72内に、フィルタ素子 73が 収納されている。フィルタ素子 73は、第 1の実施形態のラダー型フィルタ 1のフィルタ 素子と同様に構成されている。この変形例の特徴は、ノ ッケージ 72の表面に、コイル 状導体パターンを形成することにより上記インダクタンス LI, L2が形成されていること にある。このように、ノ ッケージ 72の表面に、導体パターンを形成することにより、イン ダクタンス LI, L2を形成してもよい。ここでは、インダクタンス LI, L2の一端は、それ ぞれ、ボンディングワイヤー 74a, 74bにより、フィルタ素子 73上の電極ランドに電気 的に接続されている。また、特に図示はしないが、インダクタンス LI, L2の他端は、 外部と電気的に接続される端子電極等にビアホール電極(図示せず)を介して電気 的に接続されて 、る。コイル状導体パターンはミアンダ状導体パターンであってもよ V、。ビアホール電極を介した接続は側面電極を介した接続であってもよ!/、。
[0078] 図 19に示す変形例のフィルタ装置 75では、パッケージ 72a内に、フィルタ素子 76 が収納されている。ここでは、ノ ッケージ 72aがセラミック多層基板により構成されて いる。パッケージ 72aの内部に、インダクタンス LI, L2が内蔵されている。インダクタ ンス LI, L2は、パッケージ 72a内において、複数の高さ位置にコイルパターン 76a, 76bを形成し、両者をビアホール電極 76cで電気的に接続することにより構成されて いる。コイルパターン 76aが、ビアホール 77aにより配線パターン 78aに電気的に接 続されている。また、コイルパターン 76bが、ビアホール電極 77b〖こより、端子電極 79 aに電気的に接続されている。
[0079] 他方、インダクタンス L2も同様に構成されており、インダクタンス L2を構成するコィ ルパターン 80a, 80bがビアホール電極 80cにより電気的に接続されている。コイル パターン 80aが、ビアホール電極 81aにより配線パターン 78bに接続されている。また 、コイルパターン 80bが、ビアホール電極 8 lbにより、端子電極 79bに電気的に接続 されている。ビアホール電極 77b, 81bのかわりに側面電極を用いてもよい。コイルパ ターンはミアンダパターンであってもよ!/、。
[0080] 図 18及び図 19に示した各変形例のフィルタ装置 71, 75から明らかなように、フィ ルタ装置が実装されるパッケージに、上記インダクタンス LI, L2の少なくとも一方が 内蔵されていてもよい。この場合には、ノ ッケージ 72, 75の外部でインダクタンス素 子を接続する作業を省略することができるとともに、フィルタ装置が内蔵された電子部 品の小型化が図ることができる。すなわち、上記フィルタ装置を用いて構成された例 えばデュプレクサ等の電子部品の小型化を図ることができる。
[0081] 図 20— 23は、本発明に係るフィルタ装置構造の変形例を示す各正面断面図であ る。本発明に係るフィルタ装置では、パッケージ構造は適宜変形され得る。
[0082] 例えば、図 20に示すフィルタ装置 201では、基板 202と、枠状部材 203と、蓋材 20 4とによりパッケージが構造されている。ここでは、基板 202上にフリップチップボンデ イング工法により SAW素子 205が搭載されている。すなわち、基板 202の上面に電 極ランド 206, 207力形成されており、金属ノ ンプ 208a, 208bにより SAW素子 205 力 S電極ランド 206, 207に接合されている。なお、電極ランド 206, 207はビアホーノレ 電極 209a, 209b【こより端子電極 210, 211【こ接合されて!ヽる。本変形 ί列【こお ヽても 、前述した実施例と同様にインダクダンスを適宜構成すればよい。例えば、外付のィ ンダクタンス素子により構成して 、てもよ 、。
[0083] また、図 21に示すフィルタ装置 221では、フィルタ装置 201と同様のパッケージ構 造が採用されている。もっとも、ここでは、基板 202に代えて、多層基板 222が用いら れている。多層基板 222の上面には、電極ランド 206, 207が形成されており、該電 極ランド 206, 207は、多層基板 222内に配置されたインダクタンス構成用の内部電 極 223, 224【こヒ、、 ホーノレ電極 209a, 209b【こより電気的【こ接続されて!ヽる。更【こ、 内部電極 223, 224力 ビアホール電極 225, 226によりインダクタンス構成用の内 咅電極 227, 228に接続されて!ヽる。内咅電極 227, 228力 ビアホーノレ電極 229, 230により端子電極 210, 211に接続されている。このように、多層基板 222内にイン ダクタンスを構成し、多層基板 222上に、フィルタ装置 201の場合と同様にフリツプチ ップボンディング工法により SAW素子 205が搭載されていてもよい。
図 22に示すフィルタ装置 241は、図 20に示した枠状部材 203及び蓋材 204に代 えて、外装榭脂層 242を用いたことを除いてはフィルタ装置 201と同様に構成されて いる。また、図 23に示すフィルタ装置 251は、枠状部材 203及び蓋材 204に代えて 外装榭脂層 252を用いたことを除いては、フィルタ装置 221と同様に構成されている 。このように、ノ ッケージの一部を外装榭脂層 242, 252で構成してもよい。

Claims

請求の範囲
[1] 通過帯域の周波数が相対的に低い第 1のバンドパスフィルタと、通過帯域の周波 数が相対的に高い第 2のバンドパスフィルタとを含む通信システムの第 1のバンドパス フィルタとして用いられるフィルタ装置であって、
ラダー型回路構成を有し、
入力端子と出力端子とを結ぶ直列腕に挿入された少なくとも一つの直列腕共振子 と、
前記直列腕と基準電位とを結ぶ少なくとも一つの並列腕に接続されている、少なく とも一つの並列腕共振子と、
少なくとも一つの前記並列腕共振子に直列に接続されたインダクタンスとを備え、 前記インダクタンスのインダクタンス値が、前記インダクタンスの揷人により前記並歹 U 腕共振子に新たに生じた副共振の周波数が、相手側のフィルタである第 2のバンド パスフィルタの通過帯域内またはその近傍に位置するように設定されて 、ることを特 徴とするフィルタ装置。
[2] 前記直列腕共振子及び並列腕共振子が、それぞれ、弾性表面波共振子により構 成されている、請求項 1に記載のフィルタ装置。
[3] 前記直列腕共振子及び並列腕共振子が、それぞれ、圧電薄膜共振子により構成さ れている、請求項 1に記載のフィルタ装置。
[4] 前記圧電薄膜共振子は、開口部もしくは凹部を有する基板と、該開口部もしくは凹 部の上方に配置された圧電薄膜と、前記圧電薄膜の上面及び下面にそれぞれ形成 されており、かつ圧電薄膜を介して対向するように配置された上部電極及び下部電 極を有する、請求項 3に記載のフィルタ装置。
[5] 前記基板と、前記圧電薄膜との間に、前記基板の開口部もしくは凹部を覆うように 設けられた圧電薄膜支持層をさらに備える、請求項 4に記載のフィルタ装置。
[6] 前記ラダー型フィルタの前記直列腕共振子及び並列腕共振子が接続されているパ ッケージをさらに備え、前記インダクタが、前記パッケージの外部で前記並列腕共振 子に接続されているインダクタンス素子である、請求項 1一 3のいずれか 1項に記載 のフィルタ装置。
[7] 前記パッケージが実装される実装基板をさらに備え、前記インダクタが、前記実装 基板に内蔵されたインダクタンス素子であり、請求項 6に記載のフィルタ装置。
[8] 前記フィルタ装置が実装されているパッケージをさらに備え、前記インダクタが、前 記パッケージに内蔵されている請求項 1一 3のいずれか 1項に記載のフィルタ装置。
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