Verfahren und Vorrichtung zum differenzierten, zielstrukturabhängigen Beleuchten und Betrachten von Oberflächen und deren SubStrukturen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum differenzierten, zielstrukturabhängigen Beleuchten und Betrachten einer Oberfläche, bei dem eine Oberfläche mittels elliptisch polarisiertem Licht beleuchtet wird. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zum differenzierten, zielstrukturabhängigen Beleuchten und Betrachten einer Oberfläche mit wenigstens einem Beleuchtungssystem, umfassend eine Lichtquelle und eine Polarisatoreinheit, und mit wenigstens einem Betrachtungssystem, umfassend Analysatorelemente.
Allgemein bekannt ist, dass in Abhängigkeit des Beobachtungsziels von z.B. feuchten und/oder hochglänzenden Oberflächen das reflektierte Licht die Sicht erheblich beeinträchtigt.
Beispielsweise wird die Beobachtung und Erkennung von Strukturen in einem Material anhand von Lichtstreuung und/oder Reflektion unterhalb von dessen Oberfläche erschwert durch Licht, welches direkt von der Oberfläche dieses ateriales reflektiert wird. Im Bereich der Dermatologie wird z.B. die Erkennung subepidermaler Strukturen, d.h. Strukturen unterhalb der Hautoberfläche durch das von der Hautoberfläche reflektierte Licht erschwert.
Zur Untersuchung einer oberflächigen Reliefstruktur, z.B. der Hautoberfläche, wiederum benötigt man als Informationsträger bevorzugt nur das reflektierte Licht,
während das aus tiefer liegenden Schichten gestreute und/oder reflektierte Licht die Sicht beeinträchtigt.
Ferner muss zur Beurteilung des Resultates bzw. zur Steuerung vieler medizinischer oder technischer Eingriffe und Arbeiten eine Lampe ebenfalls möglichst tageslichtähnliche Beleuchtungsverhältnisse herstellen können, damit das natürliche Erscheinungsbild der Oberfläche inkl. reflektiertem und gestreutem Anteil betrachtet werden kann und das Resultat einer Arbeit auf natürliche Lichtverhältnisse zugeschnitten werden kann.
Außerdem erscheint es von Wichtigkeit, die Größe der Beleuchtungsfläche auf ein Optimum einstellen zu können, um u.a. Reflexionen an Instrumenten zu verhindern, die die Betrachtungsfläche umgebenden.
Die WO 00/11451 A1 beschreibt ein Verfahren und eine Anordnung, bestehend aus einem Beleuchtungsapparat und einer Betrachtungseinheit, welches die Aufgaben der selektiven Reliefstrukturbetrachtung und der Ausblendung von Oberflächenreflexion durch den Einsatz eines drehbaren linearen Polarisationsfilters hinter einer Lichtquelle in Verbindung mit einem feststehend angebrachten linearen Polarisationsfilter als Analysator innerhalb der Betrachtungseinheit löst. Hierbei sind während einer Untersuchung beide Apparaturen als ein zusammenhängendes System mit Halterung und Befestigungseinrichtungen zu verwenden.
Nachteilig ist es, dass dieses System nicht vorsieht, die Lichtquelle auch als konventionelle Beleuchtung mit tageslichtartigem Spektrum und unpolarisiertem Licht einzusetzen. Ferner ist es bei der ebenfalls beschriebenen Möglichkeit der Trennung von Lichtquelle und Betrachtungseinheit sehr nachteilig, dass für einen oder mehrere Betrachter mit unterschiedlichen Stellungen und Standorten relativ zur Einfallsebene des Lichtes unterschiedliche richtungsabhängige Strukturinformationen hervorgehoben werden.
Des weiteren ist aus der DE 199 10 079 C1 ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Verhinderung von Reflexionen unter Einsatz von polarisiertem Licht bekannt, die
eine Arbeitsfeldbeleuchtung mit einem linear polarisierenden Filter beschreibt, wobei das von der zu betrachtenden Oberfläche kommende Licht mit einem weiteren frei drehbaren, linearen Polarisationsfilter analysiert wird.
Diese Anordnung hat den Nachteil, dass gemäß der Fresnellschen Formeln sowohl der Anteil des von einer Oberfläche, z.B. einer Hautoberfläche, reflektierten als auch der Anteil des in das Betrachtungsmedium eindringenden Lichtes stark vom Einstrahlwinkel und der Polarisationsrichtung relativ zur Einfallsebene abhängen und damit die Bildqualität in Abhängigkeit der Position der Lichtquelle zur Betrachtungsfläche, z.B. dem Patienten, variiert.
Dies wirkt sich besonders dann nachteilig aus, wenn mehrere Betrachter trotz individuell angepasster Analysatorstellung der Betrachtungseinheit aus unterschiedlicher Richtung auf die gleiche Oberfläche schauen oder ein Einzelbetrachter seine Position relativ zur Beleuchtungsquelle und/oder Betrachtungsfläche ändert. Ferner muss der nur für linear polarisiertes Licht durchlässige drehbare Filter der Betrachtungsvorrichtung nach Positionswechsel des Betrachters neu eingestellt werden.
Oben genannte Verfahren beruhen alle auf der Verwendung von linear polarisiertem Licht zur Oberflächenbeleuchtung und dem Erhalt der Polarisationseigenschaften nach Reflexion und sukzessiver Depolarisation nach Eindringen in das zu betrachtende Material. Unter gekreuzten Polarisatoren von Beleuchtungs- und Betrachtungseinheit erhält man demgemäß eine optimale Sicht für suboberflächige Strukturelemente, während bei paralleler Filterstellung die Reliefstruktur hervorgehoben dargestellt wird. Systemimmanent sind dabei die Nachteile dieser beschriebenen Anordnungen durch Verwendung von linear polarisiertem Licht zur Beleuchtung der Oberfläche und der damit einhergehenden richtungsabhängigen Effekte.
Bekannt ist es, zur Kontraststeigerung und Reflexminderung an Computerbildschirmen, Anzeigenoberflächen etc. elliptisch polarisierende Folien direkt auf die zu betrachtenden Flächen aufzubringen.
Einige theoretische Grundlagen und die mögliche Verwendung eines zirkulär polarisierenden Filters zur Sichtverbesserung im Bereich der Biomikroskopie sind von E. Peli, Arch Ophtalmol 1985; 103:670-2 veröffentlicht.
Die WO 94/09463 offenbart ein Verfahren und Vorrichtungen, bestehend aus einem Beleuchtungsapparat und einer Betrachtungseinheit, um dielektrische bzw. depolarisierende Substanzen auf metallischen Oberflächen aufzufinden oder festzustellen. Konkret wird die Anwendung als Eiswarner bei Flugzeugtragflächen beschrieben. Vorrichtung und Verfahren dieses Dokumentes beruhen auf dem unterschiedlichen Reflexions- und Depolarisationsverhalten verschiedener Materialien, so dass hier der Effekt einer depolarisierenden Wirkung bei gleichzeitig geringer Reflexion einer ersten dielektrischen Schicht gegenüber einer polarisationserhaltenden Wirkung bei gleichzeitig starker Reflexion einer zweiten, metallischen Schicht zur Belagserkennung ausgenutzt wird. Hierbei wird der von der dielektrischen Belagsoberfläche reflektierte Lichtanteil nicht berücksichtigt. Die genannten Vorrichtungen und Verfahren sind grundsätzlich nicht zur Relief- und/oder Substrukturcharakterisierung dielektrisch einheitlicher Oberflächenbereiche vorgesehen.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum Beleuchten und Betrachten von Oberflächen und eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens aus im wesentlichen bekannten optischen Komponenten so zu konzipieren, dass das Verfahren und die Vorrichtung sowohl als konventionelles Beleuchtungssystem als auch als Beleuchtungs- und Betrachtungssystem zur optimierten Erkennung einer Reliefstruktur der Oberfläche oder suboberflächlicher Bereiche derselben einzusetzen ist und dabei aus unterschiedlichen Positionen relativ zur Lichtquelle und/oder Betrachtungsfläche für den mindestens einen Beobachter bei u.U. variierbarer Beleuchtungsfläche gleiche Strukturinformationen bei gleicher Bildqualität darzustellen sind.
Hinsichtlich des Verfahrens zum Beleuchten wird die Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass mindestens eine Lichtquelle in optionaler Verbindung mit einer Polarisatoreinheit innerhalb von mindestens einem Beleuchtungssystem so eingesetzt wird, dass bei Verwendung der Polarisatoreinheit/en elliptisch bzw. zirkulär polarisiertes Licht mit unterschiedlicher Drehrichtung bzw. unpolarisiertes Licht bei weglassen derselben zur Oberflächenbeleuchtung hergestellt werden kann. Es besteht so die Möglichkeit, die Polarisation von zirkulär iinksdrehend über elliptische Polarisation bis zirklular rechtsdrehend stufenlos zu verstellen.
Durch Oberflächenbeleuchtung mit elliptisch bzw. zirkulär polarisiertem Licht in Verbindung mit entsprechend angepassten Betrachtungssystemen werden die im Stand der Technik aufgrund der Richtungsabhängigkeit bekannten Nachteile der linearen Polarisation vermieden. Elliptisch polarisiertes Licht behält nach Reflexion seine Polarisationseigenschaft. Hier kann zur Ausblendung oder Hervorhebung des von der Oberfläche reflektierten Lichtanteils der weitgehend richtungsunabhängig beobachtbare Drehsinn und nicht, wie im Stand der Technik, die lineare Polarisationsrichtung des Lichtes ausgenutzt werden.
Mit dem mindestens einen Analysator umfassenden Betrachtungssystem wird das von der Oberfläche reflektierte Licht teilweise oder vollständig gesperrt oder durchgelassen, um entweder das von der Oberfläche reflektierte oder das an einer Substruktur dieser Oberfläche gestreute und/oder reflektierte Licht hervorgehoben zu betrachten. Die Beieuchtungsfeldgröße wird dabei bevorzugt mit einer Irisblende eingestellt.
Die Analysatorelemente für elliptisch bzw. zirkulär polarisiertes Licht können innerhalb des Betrachtungssystems erfindungsgemäß so eingesetzt werden, dass entweder über das Einstellen der Poiarisationscharakteristik des die Oberfläche ausleuchtenden Lichtes einer Lichtquelle oder das Ändern der Durchlasscharakteristik des Betrachtungssystems für einen oder mehrere Betrachter individuell einstellbar ist, ob eine Oberflächestruktur z.B. ein Relief oder suboberflächliche Strukturen hervorgehoben betrachtet werden. Der Relief- bzw.
Substrukturanteil des zur Betrachtung kommenden Bildes lässt sich in weiten Grenzen stufenlos einstellen.
Hierbei wird im Rahmen. der vorliegenden Erfindung unter dem Licht, welches an einer suboberflächigen Struktur, einer sogenannten Substruktur, gestreut und/oder reflektiert wird, das Licht verstanden, welches durch die Oberfläche eines Materiales - z.B. eines dielektrisch einheitlichen Materiales - in das Material eindringt, und dann aus demselben heraus zurückgestreut oder zurückreflektiert wird.
Diese Rückstreuung bzw. Reflexion aus tieferen Schichten erfolgt zum Teil in der Richtung des an der Oberfläche reflektierten Lichtes und kann mittels der Erfindung von diesem diskriminiert werden.
Die Rückstreuung oder Reflexion im Material erfolgt an Unregelmäßigkeiten, Einschlüssen etc, also allgemein an Strukturelementen unterhalb der beleuchteten Oberfläche, den genannten SubStrukturen.
Besonderer Vorteil der Erfindung gegenüber allen im Stand der Technik bekannten Verfahren ist es somit im wesentlichen unabhängig von der Betrachtungsrichtung und/oder Beleuchtungsrichtung entweder Bildinformationen von der gegebenenfalls strukturierten Oberfläche eines beleuchteten Materiales oder der gegebenenfalls strukturierten Tiefe desselben Materiales selektiv hervorgehoben betrachten zu können. Die sich im Normalfall aufgrund des Superpositionsprinzips ungestört überlagernden Bildinformationen können im Rahmen der Erfindung aufgrund unterschiedlicher Polarisationseigenschaften oberflächlich und suboberflächlich reflektieten bzw. gestreuten Lichtes voneinander unterschieden werden. Der Reliefbzw. Substrukturanteil des zur Betrachtung kommenden Bildes lässt sich in weiten Grenzen stufenlos einstellen.
Insofern kann mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und der Vorrichtung eine Verbesserung der Erkennung der Relief- oder Substruktur z.B. organischer oder anorganischer Materialoberflächen nur erreicht werden, wenn diese für die verwendete Lichtwellenlänge eine gewisse Transparenz aufweisen, da nur so
gewährleistet ist, dass das Licht unter die Oberfläche des Materiales gelangt und aus dem Material heraus zurückgestreut und/oder zurückreflektiert wird, d. h. voneinander separierbare Strahlenanteile vorliegen. Die Eindringtiefe kann hierbei von Material zu Material unterschiedlich sein. Ebenso kann die Eindringtiefe von der verwendeten Lichtwellenlänge abhängen und/oder eingestellt werden, so dass durch Einsatz verschiedener Wellenlängen bei der Betrachtung ein und desselben Materiales Bildinformation aus verschieden tiefen Regionen erhältlich sind.
Die erfindungsgemäße Lösung kann insbesondere im Rahmen medizinischer und ästhetisch-kosmetischer Eingriffe und Untersuchungen z.B. an der Haut als auch an beliebigen organischen und anorganischen Substanzen zum Einsatz kommen.
Das erfindungsgemäße Verfahren weist folgende Vorteile auf:
Das Beleuchtungssystem und das Betrachtungssystem können so konzipiert sein, dass vergleichbare Kontraste und Bildqualitäten für den mindestens einen Betrachter ebenfalls erreicht werden und erhalten bleiben, wenn Beleuchtungssystem und Betrachtungssystem als getrennte Einheiten zum Einsatz kommen.
Größere Flächen können heller ausgeleuchtet werden, weil das Beleuchtungssystem als eine nicht am Körper und in fester Verbindung mit dem Betrachtungssystem zu tragende Einheit flexibler dimensionierbar ist und damit deutlich leistungsfähiger ausgelegt werden kann.
Zur Ausleuchtung großer Flächen können mehrere Beleuchtungssysteme, die elliptisch polarisiertes Licht mit gleichem Drehsinn erzeugen flexibel und beweglich eingesetzt werden, ohne dass die Polarisationsfilterstellungen der verwendeten Lichtquellen zu jeder Beleuchtungs-, Betrachtungssituation neu aufeinander abgestimmt werden müssen.
Dem Beobachter stehen sehr leichte und komfortabel tragbare Betrachtungssysteme zur Verfügung.
Das Beleuchtungssystem kann so konzipiert sein, dass vergleichbare Kontraste und Bildqualitäten, d.h. Hervorhebung von Relief- oder Substruktur, für den Betrachter auch erhalten bleiben, wenn Lichtquelle und/oder Betrachtungssystem relativ zur Oberfläche bewegt oder gedreht werden bzw. von oben beleuchtet wird und Betrachter aus verschiedenen Richtungen auf eine Oberfläche z.B. eine zu therapierende Oberfläche schauen.
Dieses System ist mithin so gestaltet, dass bei Verwendung eines gemeinsamen Beleuchtungssystems für mehrere Betrachter mit gleich eingestellten Betrachtungssystemen vergleichbare Sichtverhältnisse vorliegen. Durch Veränderung der Drehrichtung des einfallenden Lichtes verändert sich auch der Betrachtungsmode für alle Beobachter gleichartig.
Es ist ebenfalls möglich, Betrachtungssysteme mit variablen Analysatoren zum Einsatz zu bringen, die es dem Beobachter überlassen, zu entscheiden, ob das von der Oberfläche reflektierte Licht durchgelassen oder gesperrt wird. Unabhängig von der eingestellten Drehrichtung des einfallenden Lichtes ist es jedem Beobachter möglich den seinen eigenen Bedürfnissen entsprechenden Betrachtungsmode zu wählen, ohne die Sicht anderer Beobachter zu beeinflussen.
Ausserdem ergibt sich als Vorteil, dass die erfindungsgemäße Apparatur mit unpolarisiertem Licht als konventionelle Lichtquelle anwendbar ist, wenn die Polarisatoreinheit entfernt wird. Durch den Einsatz einer Irisblende vor einer Abbildungslinse kann die Beleuchtungsfeldgröße bedarfsgerecht eingestellt werden.
In Verbindung mit dem erfindungsgemäßen Verfahren und dessen genannten Vorteilen zeichnet sich die dazugehörige Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens dadurch aus, dass elliptisch polarisiertes Licht von elliptisch (z.B. zirkulär) rechts- bis elliptisch (z.B. zirkulär) linksdrehnd stufenlos nach Bedarf hergestellt werden kann und die Umstellung durch einfaches Drehen an einem linearen Polarisator und/oder einem optischen Verzögerungselement des Beleuchtungssystems erfolgt. Somit kann durch Ändern der
Polarisationcharakteristik des eingestrahlten Lichtes mittels Betrachtungssystem das von einer Oberfläche reflektierte oder das an deren Substruktur gestreute Licht richtungsunabhängig hervorgehoben betrachtet werden. Der Relief- bzw. Substrukturanteil des zur Betrachtung kommenden Bildes lässt sich in weiten Grenzen stufenlos einstellen.
Anhand eines Ausführungsbeispiels und der dazugehörigen Zeichnungen wird eine erfindungsgemäße Lösung beschrieben. Hierbei zeigen:
Figur 1 : das Beleuchtungssystem
Figur 2; das Betrachtungssystem.
Die Figur 1 zeigt ein Beleuchtungssystem 1 zur Hautuntersuchung, welches z.B. als Decken-, Wand-, Tischkonstruktion oder auf einem Stativ als Hand- oder Kopflampe etc. angeordnet sein kann. In Richtung des zu Untersuchenden sind die zur Beleuchtung vorgesehenen Elemente wie folgt angeordnet:
Der anwendungsfallabhängig auszuwählenden Halogenlampe 1.1 sind bevorzugt ein UV-Filter 1.2 und ein IR-Filter 1.3 nachgeordnet. Die Beleuchtungsfeldgröße kann mit einer Irisblende 1.4 eingestellt werden. Die Beleuchtungsfelderzeugung erfolgt bevorzugt mit Hilfe eines konvexen Linsensystems, dem Objektiv 1.5. Hinter dem Objektiv 1.5 befindet sich ein linear polarisierender Filter 1.6. Diesem folgt ein λ/4 Verzögerungselement 1.7. Der linear polarisierende Filter 1.6 und das Verzögerungselement 1.7 sind gegeneinander so drehbar, dass elliptisch polarisiertes Licht mit Rechts- und Linksgang nach Bedarf hergestellt werden kann.
Das Beleuchtungssystem 1 ist so konzipiert, dass Filter 1.6 und Verzögerungselement 1.7 als Polarisatoreinheit 1.8 abnehmbar sind und das Beleuchtungssystem 1 somit ebenfalls als konventionelle Lichtquelle benutzt werden kann.
Das in Figur 2 dargestellte Betrachtungssystem 2 besteht aus einer Kopfbandlupe 2.1 und einem einschwenkbarem Analysator 2.2. Der Analysator 2.2 besteht aus
einer der betrachteten Fläche zugewandten λ/4 Verzögerungsfolie und einer unter einem Winkel von 45° zur Vorzugsrichtung des optischen Verzögerungelennentes angebrachten linearen Polfolie. Erzeugt man mit dem Beieuchtungssysteim 1 elliptisch polarisiertes Licht, das nach Reflexion (Umkehr seiner Drehrichtung) vom Analysator 2.2 des Betrachtungssystems 2 gesperrt wird, erhält man ein optimales Bild der unter der reflektierenden Oberfläche der Haut liegenden Struktur, z.B. des Verlaufs der Blutgefäße. Erzeugt man mit dem Beleuchtungssystem 1 elliptisch polarisiertes Licht das nach Reflexion (Umkehr seiner Drehrichtung) vom Analysator 2.2 des Betrachtungssystems 2 durchgelassen wird, erhält man ein optimales Bild der oberflächlichen Reliefstruktur, also z.B. der Hautfalten. Erzeugt man mit dem Beleuchtungssystem 1 nach Entfernung der Polarisatoreinheit 1.8 unpolarisiertes Licht, so ist ein weitgehend natürliches Erscheinungsbild der Oberfläche zu betrachten. Bei Verwendung der Kopfbandlupe 2.1 ist der Analysator 2.2 für diesen Betriebsmode zurückklappbar. Die Beleuchtungsfeldgrößen sind in jedem oben genannten Betriebsmode mittels der Irisblende 1.4 einstellbar.