[go: up one dir, main page]

WO2004074929A3 - Compositions radiosensibles comprenant des derives d'oxazole et elements pouvant former une image a base de telles compositions - Google Patents

Compositions radiosensibles comprenant des derives d'oxazole et elements pouvant former une image a base de telles compositions Download PDF

Info

Publication number
WO2004074929A3
WO2004074929A3 PCT/EP2004/001705 EP2004001705W WO2004074929A3 WO 2004074929 A3 WO2004074929 A3 WO 2004074929A3 EP 2004001705 W EP2004001705 W EP 2004001705W WO 2004074929 A3 WO2004074929 A3 WO 2004074929A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
aryl
sensitizes
derivatives
optionally
esters
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/EP2004/001705
Other languages
English (en)
Other versions
WO2004074929A2 (fr
Inventor
Harald Baumann
Udo Dwars
Michael Flugel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kodak Polychrome Graphics GmbH
Original Assignee
Kodak Polychrome Graphics GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kodak Polychrome Graphics GmbH filed Critical Kodak Polychrome Graphics GmbH
Publication of WO2004074929A2 publication Critical patent/WO2004074929A2/fr
Publication of WO2004074929A3 publication Critical patent/WO2004074929A3/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)

Abstract

L'invention concerne un élément radiosensible comprenant : (a) au moins un type de monomère comprenant au moins un groupe éthyléniquement insaturé susceptible d'une polymérisation radicalaire ; (b) au moins un sensibilisateur ; (c) au moins un coinitiateur pouvant former des radicaux libres avec le sensibilisateur (b) et sélectionné dans les classes de composés suivantes : métallocènes, dérivés de 1,3,5-triazine comportant un à trois groupes CX3, où X représente chlore ou brome, peroxydes, hexaarylbiimidazoles, éthers d'oxyde, esters d'oxyme, N-arylglycines et dérivés de celles-ci, composés thiol, acides N-arylpolycarboxylique, S-arylpolycarboxylique et O-arylpolycarboxylique comportant au moins deux groupes carboxyle dont au moins un est lié à l'atome N, S ou O de l'unité aryle, alkyltriarylborates, éthers de benzoïne, esters de benzoïne, trihalogénométhylarylsulfones, amines, esters d'acide N,N-dialkylaminobenzoïque, halogénures de sulfonyle aromatiques; trihalogénométhylsulfones, imides, diazosulfonates, dérivés de 9,10-dihydroanthracène, acétophénones α-hydroxy et α-amino ; et (d) éventuellement au moins un composant sélectionné parmi les liants solubles dans l'alcali, les colorants, les indicateurs d'exposition, les plastifiants, les agents de migration de chaîne, les leuco-colorants, les tensioactifs, les charges inorganiques et les inhibiteurs de thermopolymérisation. Cet élément radiosensible se caractérise en ce que le ou les sensibilisateur(s) sont un dérivé d'oxyzole correspondant à la formule (I), dans laquelle chaque substituant R1, R2, (R3) est sélectionné, indépendamment l'un de l'autre, parmi un atome d'halogène, un groupe alkyle éventuellement substitué, un groupe aryle éventuellement substitué, qui peut aussi être fusionné, un groupe aralkyle éventuellement substitué, un groupe -NR4R5, et un groupe -OR6, où R4 et R5 sont sélectionnés indépendamment l'un de l'autre parmi un atome d'hydrogène, un groupe alkyle, aryle ou aralkyle, et R6 est un groupe alkyle, aryle ou aralkyle ou un atome d'hydrogène, k, m et n représentant indépendamment 0 ou un nombre entier de 1 à 5.
PCT/EP2004/001705 2003-02-21 2004-02-20 Compositions radiosensibles comprenant des derives d'oxazole et elements pouvant former une image a base de telles compositions Ceased WO2004074929A2 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10307451.1 2003-02-21
DE2003107451 DE10307451A1 (de) 2003-02-21 2003-02-21 Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2004074929A2 WO2004074929A2 (fr) 2004-09-02
WO2004074929A3 true WO2004074929A3 (fr) 2005-01-20

Family

ID=32863852

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2004/001705 Ceased WO2004074929A2 (fr) 2003-02-21 2004-02-20 Compositions radiosensibles comprenant des derives d'oxazole et elements pouvant former une image a base de telles compositions

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE10307451A1 (fr)
WO (1) WO2004074929A2 (fr)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2098367A1 (fr) 2008-03-05 2009-09-09 Eastman Kodak Company Combinaison de sensibilisateur/initiateur pour compositions thermosensibles à action négative utilisables pour des plaques lithographiques
EP2194429A1 (fr) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Compositions de gommage avec nanoparticules pour l'amélioration de la sensibilité aux éraflures et des zones sans images des plaques d'impression lithographiques
EP2196851A1 (fr) 2008-12-12 2010-06-16 Eastman Kodak Company Précurseurs de plaque d'impression lithographique à action négative comportant une liaison réactive contenant des caractéristiques aliphatiques bi ou polycycliques
US20100151385A1 (en) 2008-12-17 2010-06-17 Ray Kevin B Stack of negative-working imageable elements
US8034538B2 (en) 2009-02-13 2011-10-11 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
US8318405B2 (en) 2009-03-13 2012-11-27 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements with overcoat
US8247163B2 (en) 2009-06-12 2012-08-21 Eastman Kodak Company Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
EP2284005B1 (fr) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Précurseurs de plaque d'impression lithographique dotés d'agents de réticulation à base de bêta-hydroxyalkylamide
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (fr) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Procédé pour le séchage de plaques d'impression lithographique consécutif à un processus à étape unique
US8329383B2 (en) 2009-11-05 2012-12-11 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US20120141935A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Bernd Strehmel Developer and its use to prepare lithographic printing plates
US20120141941A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Mathias Jarek Developing lithographic printing plate precursors in simple manner
US20120199028A1 (en) 2011-02-08 2012-08-09 Mathias Jarek Preparing lithographic printing plates
US8703381B2 (en) 2011-08-31 2014-04-22 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors for on-press development
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
JP5948543B2 (ja) * 2012-05-29 2016-07-06 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物
US8679726B2 (en) 2012-05-29 2014-03-25 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US8889341B2 (en) 2012-08-22 2014-11-18 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors and use
EP2735903B1 (fr) 2012-11-22 2019-02-27 Eastman Kodak Company Précurseurs de plaque d'impression lithographique au travail négative comprenant une matière liante hyper-ramifié
US9063423B2 (en) 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
EP2778782B1 (fr) 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Éléments sensibles au rayonnement à travail négatif
US9201302B2 (en) 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
US20170021656A1 (en) 2015-07-24 2017-01-26 Kevin Ray Lithographic imaging and printing with negative-working photoresponsive printing members
JP6207654B2 (ja) * 2016-04-07 2017-10-04 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物
US11633948B2 (en) 2020-01-22 2023-04-25 Eastman Kodak Company Method for making lithographic printing plates

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0741331A2 (fr) * 1995-05-05 1996-11-06 Bayer Corporation Système d'épreuve en couleurs utilisant une couche unique négative développable par arrachement ayant une couleur de fond améliorée
WO1997035232A1 (fr) * 1996-03-19 1997-09-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Compositions durcissables aux ultraviolets comprenant un oxyde d'acylphosphine et un azurant optique
US20020010264A1 (en) * 1997-07-30 2002-01-24 Pappas Socrates Peter Overcoat for light-sensitive materials comprising (1-vinylimidazole) polymer or copolymer

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0699496B2 (ja) * 1987-01-16 1994-12-07 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH09244253A (ja) * 1996-03-05 1997-09-19 Nitto Boseki Co Ltd パターン形成方法
DE19907957A1 (de) * 1998-02-27 1999-09-02 Ciba Geigy Ag Pigmentierte photohärtbare Zusammensetzung
US6878505B2 (en) * 2001-05-28 2005-04-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0741331A2 (fr) * 1995-05-05 1996-11-06 Bayer Corporation Système d'épreuve en couleurs utilisant une couche unique négative développable par arrachement ayant une couleur de fond améliorée
WO1997035232A1 (fr) * 1996-03-19 1997-09-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Compositions durcissables aux ultraviolets comprenant un oxyde d'acylphosphine et un azurant optique
US20020010264A1 (en) * 1997-07-30 2002-01-24 Pappas Socrates Peter Overcoat for light-sensitive materials comprising (1-vinylimidazole) polymer or copolymer

Also Published As

Publication number Publication date
WO2004074929A2 (fr) 2004-09-02
DE10307451A1 (de) 2004-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2004074929A3 (fr) Compositions radiosensibles comprenant des derives d'oxazole et elements pouvant former une image a base de telles compositions
WO2004074930A3 (fr) Compositions radiosensibles et elements pouvant former une image a base de telles compositions
JP7242748B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP7026606B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2009526251A5 (fr)
KR20190103370A (ko) 플루오레닐아미노케톤 광개시제, 이의 제조 방법 및 이를 함유하는 uv 광경화성 조성물
ATE40757T1 (de) Photopolymerisierbare zusammensetzungen auf wasserbasis und verwendung.
NO973945L (no) Molekylkompleksforbindelser som fotoinitiatorer
AR024412A1 (es) Masas dentales polimerizables.
UY27447A1 (es) Mezclas herbicidas basadas sobre 3-feniluracilos
JP2007219362A (ja) 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。
JPWO2010134549A1 (ja) 感光性樹脂組成物
JPH11167203A (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント
WO2002077710A3 (fr) Compositions de photoresine pour imagerie a courte longueur d'onde
JPS63147159A (ja) 光重合性組成物
JP2769589B2 (ja) 感光性樹脂組成物
EP1471387A3 (fr) Composition photosensible et composé utilisé dans cette composition
WO2004077153A3 (fr) Composition photosensible et son utilisation
US4548689A (en) Photocurable resin composition
DK0641759T3 (da) Anvendelse af aromatiske carboxylsyrederivater til fremstilling af farmaceutiske præparater
CN103064250A (zh) 感光性树脂组合物及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
TW201339756A (zh) 感光性樹脂組成物及使用其的感光性元件、間隔件的形成方法、以及間隔件
AR003688A1 (es) Derivados de benzoilo de accion herbicida, procedimiento para obtenerlos, compuestos intermediarios de aplicacion en dicho procedimiento, elprocedimiento de aplicacion de dichos derivados y las composiciones herbicidas que los contienen.
TW202140428A (zh) 乙氧基／丙氧基改性的吡唑啉有機物、其應用、光固化組合物及光刻膠
WO2005054951A3 (fr) Composition de photoresine a couche epaisse et procede de formation de motif de resine

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
122 Ep: pct application non-entry in european phase