WO2004058451A1

WO2004058451A1 - 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法

Info

Publication number: WO2004058451A1
Application number: PCT/JP2003/016672
Authority: WO
Inventors: Akihide Minami; Koichi Suzuki; Tamaki Horisaka
Original assignee: Hoya Corp; Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Hoya Corp; Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 2002-12-26
Filing date: 2003-12-25
Publication date: 2004-07-15
Anticipated expiration: 2005-06-26
Also published as: CN1711152A; CN100522479C; US20060140105A1; US7500904B2; JP4234991B2; JP2004213716A; AU2003292787A1; US20080220700A1

Abstract

情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板の表面を研磨することによって製造される。ガラス素板の研磨は、ガラス素板の表面を平滑に粗研磨するための１次研磨処理を施す工程と、粗研磨されたガラス素板の表面をさらに平滑に精密研磨するための２次研磨処理を施す工程との２工程に分けて行われる。１次研磨処理は、合成樹脂製の発泡体よりなる研磨パッドを用い、ガラス素板の表面に研磨剤を供給しつつ研磨パッドを摺接させ、同表面を粗研磨する処理である。研磨パッドには、１次研磨処理で使用する前に予めパッドドレス処理を施される。パッドドレス処理は、砥粒を備えたパッドドレッサーに研磨パッドを摺接させて研磨パッドの表面を磨く処理である。

Description

情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法

技術分野

この発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等に使用される情報記録媒体用ガラス基板及ぴその製造方法に関するものである。背景技術

従来、情報記録媒体用ガラス基板は、高密度での情報の記録を可能とするため、その表面をできる限り平滑にする必要がある。このため、ガラス基板は、その製造時に表面を複数段階にわたって研削及び研磨されることにより、微小な凹凸の発生が抑えられている（例えば、特開平 1 1一 1 5 4 3 2 5号公報参照）。すなわち、該ガラス基板は、粗研削と精研削及び第 1研磨と第 2研磨（ファイナル研磨）の各工程に分けて研削及び研磨される。前記第 1研磨では、研磨装置を用い、硬質ポリッシャでガラス基板の表面をその表面粗さ R m a xが 1 0 n m程度となるまで研磨する工程である。第 2研磨は、第 1研磨と同様の研磨装置を用い、硬質ポリッシャに代えて軟質ポリッシャでガラス基板の表面を研磨する工程である。そして、第 1研磨及ぴ第 2研磨の研磨剤には、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、及び、酸化ケィ素の粒子を含むコロイダルシリカ等が、必要とされる研磨精度等に応じて適宜選択され、使用される。ところで、近年のガラス基板には、より高密度に記録可能なものが要請されており、これを達成するため、その表面の平滑性を向上させる必要がある。そして、平滑性を向上させるためには、研磨を第 1研磨及び第 2研磨の 2段階に分けるだけでなく、 3段階、 4段階等のさらに多くの段階に分けて行う必要がある。しかし、研磨に係る工程を多くの段階に分けるに従い、複数の研磨装置の間でのガラス基板の移動、各工程間での洗浄等といった煩雑で長時間を要する作業が増し、生産性及び歩留まりの低下を招くという問題があった。この発明は、このような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、生産効率を向上させることができ、品質を維持しつつ、生産量の増加を図ることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。発明の開示

上記の目的を達成するために、本発明の一実施態様によれば、ガラス素板の表面を研磨することによつて製造される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法が提供される。その製造方法において、前記研磨は、ガラス素板の表面を平滑に粗研磨するための 1次研磨処理を施す工程と、粗研磨されたガラス素板の表面をさらに平滑に精密研磨するための 2'次研磨処理を施す工程との 2工程に分けて行われる。前記 1次研磨処理は、合成樹脂製の発泡体よりなる研磨パッドを用い、ガラス素板の表面に研磨剤を供給しつつ研磨パッドを摺接させ、同表面を粗研磨する処理である。当該研磨パッドには、 1次研磨処理で使用する前に予めパッドドレス処理を施され、該パッドドレス処理は、砥粒を備えたパッドドレッサーに研磨パッドを摺接させて研磨パッドの表面を磨く処理である。前記パッドドレス処理は、パッドドレッサーから研磨パッドに加えられる荷重 ( g / c m²) と、パッドドレス処理に要する作業時間（分）との積が、 5 0 0〜 3 0 0 0となるように施されることが望ましい。前記パッドドレス処理は、 1次研磨処理における単位時間当たりの研磨量を示す値である研磨レートを所定範囲に維持するように、施されることが望ましい。前記研磨レートは、パッドドレス処理を施した直後の研磨レートを基準値として、その基準値の 80〜100%に維持され、当該研磨レートが基準値の 80% 未満となったときにパッドドレス処理が施されることが望ましい。前記パッドドレッサーは、その番手が # 325〜# 600であることが望ましい。前記パッドドレッサーは、そのパッドドレッサーを研磨パッドの表面に静置した状態で、同研磨パッドの表面 1 c m²当たりに加わる重量が 0. 5〜 2. 0 g に設定されたものであることが望ましい。前記 1次研磨処理におけるガラス素板の粗研磨は、原子間力顕微鏡を用いて測定された算術平均粗さ（R _a) が 1. O nm以下になり、多機能ディスク干渉計を用いて 0. 4〜5. Ommの測定波長（λ) で測定されたうねりの高さ（Wa) が 1. O nm以下になり、かつ、三次元表面構造解析顕微鏡を用いて 0. 2〜： 1. 4mmの測定波長（λ) で測定された微小うねりの高さ（NRa) が 0. 3 nm以下になるまで、行われることが望ましい。前記 1次研磨処理は、ガラス素板の表面を前研磨と後研磨との 2段階に分けて粗研磨する処理であり、該 1次研磨処理で研磨パッドからガラス素板に加えられる荷重について、前研磨時の荷重を後研磨時の荷重よりも高めることが望ましい。前記研磨パッドは、パッドドレス処理を施された後の状態で、触針計を使用して 0. 25〜 1. 4 mmの測定波長（λ) で測定された表面の平均うねり高さが、 4〜25μπιであり、カットオフ値（XC) を 2. 5 mmとして測定された表面粗さが、 3〜8μπιであることが望ましい。前記パッドドレス処理を施す際の荷重は、 20〜100 gZcm²であることが望ましい。前記パッドドレス処理の作業時間は、 1 0〜60分であることが望ま .前記の製造方法によって製造される情報記録媒体用ガラス基板においては、原子間力顕微鏡を用いて測定された算術平均粗さ（Ra) が 0. 4 nm以下であり、多機能ディスク干渉計を用いて 0. 4〜5. Ommの測定波長（λ) で測定されたうねりの高さ（Wa) が 0. 5 nm以下であり、かつ、三次元表面構造解析顕微鏡を用いて 0. 2〜1. 4 mmの測定波長（λ) で測定された微小うねりの.高さ (NRa) が 0. 15 nm以下であることが望ましい。本発明の別の実施態様によれば、ガラス素板の表面を研磨することによって情報記録媒体用ガラス基板を製造するための研磨装置が提供される。その研磨装置は、合成樹脂製の発泡体よりなる研磨パッドと、砥粒を備えたパッドドレッサーとを備える。前記研磨パッドは前記ガラス素板の表面に研磨剤を供給しつつ、ガラス素板の表面を粗研磨する際に、ガラス素板に摺接され、前記パッドドレッサ一は、前記研磨パッドに摺接されて研磨パッドの表面を磨くために使用される。前記パッドドレッサーは円板状をなし、その直径及ぴ厚みがガラス素板の直径及び厚みとほぼ同じであることが望ましい。図面の簡単な説明

図 1はバッチ式の研磨装置の一部を破断して示す斜視図。

図 2はパッドドレッサーを示す平面図。

図 3は研磨時間とガラス基板の表面の微小うねりの高さ NR aとの関係を示すグラフ。発明を実施するための最良の形態

以下、この発明の実施形態を、図面に基づいて詳細に説明する。情報記録媒体用ガラス基板の製造時には、まず、シート状のガラス板からガラス素板が円盤状に切り出される。そのガラス素板は中心に円孔を有する。ガラス素板の表面を、研磨装置を使用して研磨することにより、ガラス基板が形成される。当該ガラス素板は、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ポロシリケートガラス、結晶化ガラス等の多成分系のガラス材料より形成されている。そして、該ガラス素板から得られたガラス基板の表面に、例えばコバルト（C o ) 、クロム（C r ) 、鉄（F e ) 等の金属又は合金よりなる磁性膜、保護膜等を形成することにより、磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が構成される。図 1に示すように、研磨装置 4 1は、互いに平行に上下に間隔を隔てて配設された円盤状の上定盤 4 2 b及び下定盤 4 2 aと、上定盤 4 2 b及ぴ下定盤 4 2 a を包囲するように配設された円環状のインターナルギヤ 4 3とを備えている。下定盤 4 2 aの中心には回転軸 4 4が突設されるとともに、同回転軸 4 4の下端外周面上には太陽ギヤ 4 5が配設されている。上定盤 4 2 bの中心には揷通孔 4 6 が形成されており、同揷通孔 4 6には回転軸 4 4が揷通されている。これら上定盤 4 2 b、下定盤 4 2 a、インターナルギヤ 4 3及び太陽ギヤ 4 5は、モータ等によりそれぞれ独立して回転するように駆動される。下定盤 4 2 a及ぴ上定盤 4 2 bの間にはこれらに挟み込まれるようにして複数のキヤリア 4 7が配設されている。同キャリア 4 7には複数の円孔 4 8が形成され、各円孔 4 8内にはガラス素板 3 1が収容されている。また、各キャリア 4 7の外周縁部にはギア 4 9がそれぞれ形成されており、これらギア 4 9は前記インターナルギヤ 4 3及び太陽ギャ 4 5にぞれぞれ嚙合されている。 . 研磨装置 4 1において、下定盤 4 2 a及び上定盤 4 2 bの表面には、合成樹脂製の発泡体よりなる研磨パッドが必要に応じて装着される。ガラス素板 3 1は、キャリア 4 7の円孔 4 8内に収容された状態で下定盤 4 2 a及び上定盤 4 2 の間、若しくは一対の研磨パッドの間に挟み込まれる。この状態で、ガラス素板 3 1の表面には、下定盤 4 2 a及ぴ上定盤 4 2 bと研磨パッドを介して図示しない供給部から研磨剤が供給される。下定盤 4 2 a及ぴ上定盤 4 2 bと研磨パッドには、それぞれの厚み方向に延びるように、図示しない複数の供給孔が形成されており、研磨剤を貯留するタンク等の供給部からこれら供給孔に研磨剤が供給される。そして、上定盤 4 2 b、下定盤 4 2 a、インターナルギヤ 4 3及び太陽ギヤ 4 5をそれぞれ回転させることにより、ガラス素板 3 1を下定盤 4 2 a及ぴ上定盤 4 2 b又は研磨パッドに接触させた状態で各キヤリア 4 7がそれぞれ自転しながら回転軸 4 4を中心に公転し、ガラス素板 3 1の表面が研磨される。次に、前記ガラス基板の製造方法について説明する。

ガラス基板は、円盤加工工程、面取り工程、ラップ工程、研磨工程及び洗浄処理工程を経て製造される。前記円盤加工工程においては、シート状のガラス板を超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断することにより、その中心に円孔を有する円盤状のガラス素板が形成される。前記面取り工程においては、ガラス素板の内外周面が研削され、外径及び内径が所定の大きさに形成されるとともに、内外周面の角部が研磨されて面取り加工される。前記ラップ工程においては、ガラス素板にラップ処理が施され、ガラス素板の全体的な反りが修正されることにより、ガラス素板が略平坦な板とされる。このラップ処理は、前記研磨装置 4 1を用い、ガラス素板 3 1の表面に研磨剤を供給しつつ、下定盤 4 2 a及び上定盤 4 2 bを摺接させて同表面を研削することにより行われる。また、ラップ処理の研磨剤には、アルミナ等の粒子を砥粒として、この抵粒を分散媒である水に分散させてスラリー状としたものが使用される。前記研磨工程においては、前記研磨装置 41を用い、下定盤 42 a及び上定盤 42 bに研磨パッドを装着した状態で、同研磨パッドをガラス素板 31の表面に摺接させることにより行われる。この研磨工程でガラス素板は、研磨パッドの摺接によってその表面が研磨され、平滑面とされる。前記洗浄処理工程においては、洗浄液を使用し、研磨後のガラス素板の表面に付着した研磨剤、研磨粉、塵埃等の付着物を除去することにより、その表面が平滑で、清浄度を高められたガラス基板が製造される。製造されたガラス基板は、その表面粗さ R aが好ましくは 0. 4 nm以下である。また、表面のうねりの高さ W aは、好ましくは 0. 5 nm以下である。加えて、表面の微小うねりの高さ NR aは、好ましくは 0. 1 5 nm以下である。なお、表面粗さ R aは、原子間力顕微鏡 (AFM) で測定された値を示すものである。表面のうねりの高さ W aは、 Ph a s e Me t r i x社製の多機能ディスク干渉計（Op t i f 1 a t) を用い、測定波長（λ) を 0. 4〜5. 0mmとして表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示すものである。表面の微小うねりの高さ N R aとは、 Z y g o社製の三次元表面構造解析顕微鏡（New V i e w200) を用い、測定波長（λ) を 0. 2〜： 1. 4 mmとして表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示すものである。ガラス基板は、表面粗さ Ra、うねりの高さ W a及び微小うねりの高さ NR a がそれぞれ 0. 4 nm、 0. 511111及ぴ0. 1 5 ηηιを超えると、その表面が荒れ、平滑性の低下した品質の低いものとなるおそれがある。このような品質の低いガラス基板の場合、情報記録媒体の表面と、この情報記録媒体に記録された情報を読み取るためのへッドとの距離を短くすることができず、高密度記録化を図りにくくなる。これは、へッドが情報記録媒体上を移動する際、へッドがその表面の凹凸に衝突したり、引っ掛かったり等の不具合が発生しやすくなるからである。従来のガラス基板の製造方法では、製造されるガラス基板の品質向上を図るため、つまりはその表面の平滑性を高めるため、研磨工程が 1次研磨処理を施すェ程、 2次研磨処理を施す工程、及ぴ 3次研磨処理を施す工程の主に 3段階の工程に分けて施される。これらの 1次研磨処理、 2次研磨処理及ぴ 3次研磨処理は、それぞれガラス素板を粗研磨、精密研磨及ぴ超精密研磨する処理である。各処理で使用する研磨装置の構成は同一である。しかし、 1次研磨処理と 2次研磨処理とでは主に使用する研磨パッドが異なり、 2次研磨処理と 3次研磨処理とでは主に使用する研磨剤が異なる。これは、各処理を経る毎に研磨されたガラス素板の平滑性を段階的に向上させるためである。そして、各処理に最適な研磨パッド、研磨剤等を選択して使用するため、それぞれの処理で研磨装置が一台ずつ割り当てられ、研磨パッドの交換に係る作業時間の削減、種類の異なる研磨剤の混合防止等が図られる。これに対し、本発明で前記研磨工程は、ガラス素板の表面を平滑に粗研磨するための 1次研磨処理を施す工程と、粗研磨されたガラス素板の表面をさらに平滑に精密研磨するための 2次研磨処理を施す工程との 2工程に分けて行われる。つまり、研磨工程を、 1次研磨処理を施す工程と、 2次研磨処理を施す工程との 2 段階の工程で終了させることを一つの特徴とし、これに基づき、作業時間の短縮化を図ることを主な目的とする。そこで、各処理について、以下に詳しく説明する。前記 1次研磨処理とは、ガラス素板の全体の厚みを所定値として、その表面に存在する小さな反り、うねり、微小うねり、チッビング、クラック等の欠陥を除去する処理をいう。これらの欠陥の中でもうねりは、ガラス素板が潜在的に有するものであり、主として前述のフロート法等でガラス素板の材料であるガラス板を製造するとき、同ガラス板の表面にスジ状に形成されるものである。つまり、これらの欠陥はガラス素板の表面からほぼ一定の厚み（深さ）の範囲内に形成されており、ガラス素板の全体の厚みを所定の値とするために表面の一部分を研磨によって除去することで、その表面の一部分とともに欠陥を除去することが可能となる。従って、 1 '次研磨処理では、ガラス素板の表面から欠陥を含む一定部分を除去することを第 1の目的とし、粗研磨による取り代が重視される。また、研磨工程はガラス素板の表面を平滑面とする目的で行われるものであり、 1次研磨処理後のガラス素板の表面が処理前よりも荒れることは、研磨工程の目的自体に反することとなる。従って、 1次研磨処理では、粗研磨されたガラス素板の表面を平滑にすることを第 2の目的とし、ガラス素板の表面から一定部分を除去しつつも、その表面を傷つけないようにすることが重視される。前記 2次研磨処理とは、ガラス素板の表面の極僅かな部分を削り取り、その表面に存在する微小うねり、微小凹凸等の微小な欠陥を修正する処理をいう。つまり、これらの微小な欠陥は、微小うねりならばその丘の部分、微小凹凸ならばその凸の部分等のように、他よりも高くなっている部分を削り取ることでその凹凸を均され、平滑にされたガラス素板の表面をさらに平滑に修正することが可能となる。従って、 2次研磨処理では、ガラス素板の表面が鏡面状の平滑面となるように磨いて均すことを目的とし、精密研磨による取り代は重視されず、ガラス素板の表面を傷つけることなく、微小な欠陥の上部のみ削り取ることが重視される。

1次研磨処理と 2次研磨処理とは、ガラス素板の表面を研磨するということでは共通するが、上で述べたようにそれぞれの目的は大きく異なる。すなわち、 1 次研磨処理では、ガラス素板の欠陥を含む表面部分をどれだけ除去するかを問題とし、取り代が重視され、ガラス素板の表面を傷つけずに削ることに主眼が置かれる。これに対し、 2次研磨処理で取り代はさほど問題とされず、ガラス素板の表面に残る欠陥のみを如何に均すかを問題とし、その表面を鏡面状の平滑面とすることが重視され、ガラス素板の表面を傷つけずに磨くことに主眼が置かれる。このため、 1次研磨処理と 2次研磨処理とでは、同じ構成の研磨装置を使用するものの、それぞれの目的に合わせ、研磨パッド及ぴ研磨剤の両方で異なるものを使用する。研磨パッドとして、 1次研磨処理では、表面部分を一定の取り代で除去する目的と、ガラス素板の表面を平滑にする目的とを満たすため、ガラス素板の表面を大きく傷つけることなく削り取ることが可能な程度の硬さを有する硬質ポリッシャが使用される。このような硬質ポリッシャには、ポリウレタン、ポリエステル等の合成樹脂製の発泡体よりなり、その表面に気泡を目視できる程度に目の粗いスポンジ状のものが使用される。硬質ポリッシャの硬度は、 J I S K 6 3 0 1 に規定される J I S Aの硬度で、好ましくは 6 5〜9 5である。また、その圧縮弾性率は、好ましくは 6 0〜 9 5 %である。そして、その圧縮率が 1〜4 %となるように下定盤 4 2 a及び上定盤 4 2 bに貼着して使用することが好ましい。

J I S Aの硬度が 6 5未満、圧縮弾性率が 6 0 %未満又は圧縮率が 4 %より高い場合、硬質ポリッシャが所望の硬さを有さず、一定の取り代に達するまでに長時間を要してしまうおそれがある。加えて、研磨時に硬質ポリッシャが変形して特にその表面に凹凸、うねり等が形成されることにより、ガラス素板の表面にうねり等の欠陥が形成され、 ·同表面を平滑にすることができなくなるおそれがある。 J I S Aの硬度が 9 5より大きい、圧縮弾性率が 9 5 %より高い、又は、圧縮率が 1 %未満の場合、硬質ポリッシャによりガラス素板の表面が傷つき、却つて表面状態が荒れてしまうおそれがある。研磨パッドとして、 2次研磨処理では、ガラス素板の表面が鏡面状の平滑面となるように磨いて均すという目的を満たすため、ガラス素板の表面を大きく削ることなく、磨くことが可能な程度の軟らかさを有する軟質ポリッシャが使用される。このような軟質ポリッシャには、ポリウレタン、ポリエステル等の合成樹脂製の発泡体よりなり、'その表面の気泡を目視することが難しい程度に目の細かいスウェード状のものが使用される。軟質ポリッシャの硬度は、日本ゴム協会標準規格 S R I S - 0 1 0 1に規定されるァスカー Cの硬度で、好ましくは 5 8〜8 5である。また、その圧縮弾性率は、好ましくは 5 8〜9 0 %である。そして、その圧縮率が 1〜5 %となるように下定盤 4 2 aと上定盤 4 2 bに貼着して使用することが好ましい。ァスカー Cの硬度が 5 8未満、圧縮弾性率が 5 8 %未満、又は、圧縮率が 5 % より高い場合、研磨時に軟質ポリッシャが変形して特にその表面に凹凸、うねり等が形成されることにより、製造されたガラス基板の表面に微小なうねりが形成されてしまうおそれがある。また、ァスカー Cの硬度が 8 5より大きい、圧縮弾性率が 9 0 %より高い、又は、圧縮率が 1 %未満の場合、軟質ポリツシャによりガラス素板の表面が傷つき、製造されたガラス基板が却って表面状態の荒れたものになるおそれがある。なお、このスウェード状の軟質ポリッシャは、スポンジ状の硬質ポリッシャとその硬さが本質的に大きく異なり、同じ基準で比較することは難しい。このことから、硬質ポリッシャを J I S Aの硬度で表し、軟質ポリッシャをァスカー Cの硬度で表している。

1次研磨処理では、研磨剤として、平均粒径 1 . 2 μπι前後の粒子を、分散媒としての水に分散させてスラリー状としたものが使用される。この粒子としては、研磨効率が優れていることから、酸化セリゥムゃ酸化ランタン等の希土類酸化物が挙げられる。これら希土類酸化物のなかでも酸化セリウムは、ガラス材料に対して化学的に作用し、その表面をより効果的かつ効率よく研磨することが可能なため、より好ましい。

2次研磨処理では、研磨剤として、 1次研磨処理で使用するものよりも粒径の小さな粒子を、分散媒としての水に分散させてスラリー状としたものが使用される。この粒子としては、コロイダルシリカ等の酸化ケィ素の粒子が挙げられる。また、粒子の平均粒径（D ₅。）は、好ましくは 0 . Ι μπι以下である。 D ₅₀が 0 . Ι μπιを超える場合、 2次研磨処理でガラス素板が傷つき、所望とする平滑性を得られなくなるおそれがある。従来の研磨工程を単純に.2工程のみで終了させることは、製造されるガラス基板の表面の平滑性等といった品質の低下、各処理における研磨時間の長時間化等の弊害を招くこととなる。これは、例えば単純に従来の 3次研磨処理を省略するのみでは、最終的に所望とするガラス基板の平滑性を得られず、また従来の 2次研磨処理を省略するのみでは、従来の 3次研磨処理に係る研磨時間が長時間化する等の理由による。特に、ガラス基板の表面の周縁部分にはスキージャンプと呼ばれる膨らみ、ロールオフと呼ばれるへこみ等が形成されやすく、研磨工程ではこの周縁部分の形状の修正も行われる。なお、周縁部分がこのような形状となる理由は、ガラス素板の内外周面の角部が面取り加工されていることから、当該表面の周縁部分では他の部分と比べ、研磨パッドの当たり具合が異なるためである。そして、従来の 2次研磨処理又は 3次研磨処理を単純に省略するのみとすれば、周縁部分の形状の修正を十分に行うことができず、この周縁部分における表面品質の低下という弊害も招くこととなる。従って、研磨工程を 2工程で終了させつつも、製造されるガラス基板の品質の維持又は向上を図るためには、 1次研磨処理及ぴ 2次研磨処理のうち少なくとも一方の処理における品質を向上させる必要がある。そこで、 1次研磨処理及ぴ 2 次研磨処理における品質の向上を図るため、各処理で使用される研磨パッドとしての硬質ポリッシャ及ぴ軟質ポリッシャは、前記研磨装置 4 1への装着後、研磨に使用する前に予めパッドドレス処理が施される。パッドドレス処理とは、ノッドドレッサーを使用し、同パッドドレッサ一の表面に研磨パッドを摺接させ、その研磨パッドの表面を磨いて表面の凹凸、荒れ等を修正して平坦面とする処理をいう。そして、パッドドレス処理は、前記研磨装置 4 1において下定盤 4 2 a及ぴ上定盤 4 2 bにそれぞれ研磨パッドを貼付した状態で、一対の研磨パッドの間にパッドドレッサーを挟み込み、下定盤 4 2 a及ぴ上定盤 4 2 bをそれぞれ回転させることによって行われる。本発明は、 1次研磨処理で使用する硬質ポリッシャのパッドドレス処理を特に重視する。これは、本発明の 1次研磨処理は、従来の 2次研磨処理による表面品質とほぼ同程度まで、粗研磨後のガラス素板の品質を向上させることを目的とするためである。特に、 1次研磨処理は取り代を重視する分、 2次研磨処理と比較してガラス素板の表面を荒らす可能性が高いため、品質向上に係る影響が大きい。これに加え、本発明の 1次研磨処理で使用する硬質ポリッシャで、従来の 2次研磨処理で使用する軟質ポリッシャとほぼ同程度の品質を如何に得るかが課題となる。そこで、本発明者等はガラス素板の表面品質に直接的に影響する硬質ポリッシャの表面の欠陥を出来る限りなくすため、パッドドレス処理に使用するパッドドレッサー、パッドドレス処理の条件等を選定することとした。なお、ここでいう表面品質とは、表面全体における品質を指し、これには表面の平滑性の善し悪しの他、その周縁部分の形状の可否等も含まれる。図 2に示すように、ノッドドレッサー 1 1は、ステンレス鋼、アルミニウム、鉄等の金属製の円板 1 2を有し、同円板 1 2の中心には円孔 1 3が設けられている。この円板 1 2において、その表面の外周寄りには、複数の砥石部 1 4が設けられている。これら砥石部 1 4は、それぞれ略扇状をなし、円板 1 2の周方向に沿って等間隔おきに配設されている。各砥石部 1 4は、ダイヤモンド製の砥粒 1 5を円板 1 2の表面に電着することにより、形成されている。そして、各砥石部 1 4に硬質ポリッシャが摺接されることにより、同硬質ポリッシャの表面が磨かれる。また、パッドドレッサー 1 1は、砥石部 1 4が設けられた分だけその厚みが増しており、硬質ポリッシャによる円板 1 2の表面への直接的な接触が抑制され、よって、硬質ポリッシャによる円板 1 2の研磨が抑制されている。パッドドレッサー 1 1のサイズは、製造されるガラス素板のサイズとほぼ同じであることが好ましい。具体的には、円板 1 2の直径が 6 5〜9 5 mm、円板 1 2の厚みと砥石部 1 4の厚みとの合計が 0 . 5〜 l mmであることが好ましい。パッドドレッサー 1 1のサイズをガラス素板のサイズとほぼ同じとすることにより、同パッドドレッサー 1 1の重量を軽減することができ、パッドドレス処理時に硬質ポリッシャの一部に偏って荷重が加わることを防止することができる。これに加え、前記研磨装置 4 1のキャリア 4 7の各円穴 4 8内にそれぞれパッドドレッサー 1 1を収容し、 1次研磨処理と同様の操作を行うことで、パッドドレス処理を施すことができる。この場合、硬質ポリッシャの表面のうち、研磨時にガラス素板の表面へ実際に接触する箇所を重点的に修正することが可能である。パッドドレッサー 1 1の重量は、同パッドドレッサー 1 1を硬質ポリツシャの表面に静置した状態で、硬質ポリッシャの表面 1 c m²当たりに加わる重量が、好ましくは 0 . 5〜2 . 0 gである。表面 1 c m²当たりに加わる重量を 0 . 5 g未満とする場合、重量軽減のために前記円板 1 2を薄くせざるを得ず、パッドドレッサー 1 1の強度が低下してしまう。このようにパッドドレッサー 1 1の強度が低下した場合、パッドドレス処理時にパッドドレッサー 1 1が歪み、却って硬質ポリッシャの表面を荒らすおそれがある。重量が 2 . O gを超えると、特に下定盤 4 2 aに貼付された硬質ポリッシャの表面にパッドドレッサー 1 1が必要以上に押し付けられるおそれがある。この場合、パッドドレス処理時に硬質ポリッシャの表面が却って荒れ、同表面に凹凸、うねり等の欠陥を形成してしまう。ノッドドレッサー 1 1において、砥石部 1 4の番手は、好ましくは # 3 2 5〜 # 6 0 0である。番手が # 6 0 0を超える場合、砥粒 1 5の粒径が小さくなること力ら、同石氐粒 1 5が円板 1 2の表面から脱落しやすく、パッドドレッサー 1 1 の耐用時間が短くなり、パッドドレッサー 1 1を頻繁に交換しなければならない。番手が # 3 2 5より小さい場合、砥粒 1 5の粒径が大きくなることから、同パッドドレッサー 1 1が硬質ポリッシャの表面を却って荒らし、同表面に凹凸、うねり等の欠陥を形成してしまう。パッドドレス処理は、パッドドレッサー 1 1から硬質ポリツシャに必要十分な荷重を加えつつ、所定の作業時間だけ行われる。パッドドレス処理の条件となる荷重と作業時間とは、パッドドレッサー 1 1から硬質ポリッシャに加えられる荷重が小さい場合には、作業時間を長く、荷重が大きい場合には作業時間を短くするというように、互いに反比例する関係にあり、それぞれの値に応じて調整される。そこで、パッドドレス処理において、荷重（g Z c m²) と、作業時間（分）とは、互いの積が、 5 0 0〜3 0 0 0となるように施されることが好ましい。荷重と作業時間との積が 5 0 0未満又は 3 0 0 0を超える場合、硬質ポリッシャにパッドドレス処理が十分に施されていない力 \ あるいは過剰なパッドドレス処理により、硬質ポリッシャの表面を却って荒らし、その表面に欠陥を形成してしまうおそれがある。具体的に、荷重は、好ましくは 2 0〜2 0 0 g Z c m²である。荷重が 2 0 g Z c m²未満の場合、硬質ポリッシャをパッドドレッサーに十分に摺接させることができず、硬質ポリッシャの表面を修正することができなくなるおそれがある。荷重が 2 0 0 g / c m²を超えると、硬質ポリッシャの表面がパッドドレッサによつて必要以上に削られ、却って同表面が荒れたり、うねりが形成されたりしてしまうおそれがある。また、作業時間は、好ましくは 1 0〜1 8 0分である。作業時間が 1 0分未満の場合、パッドドレス処理が十分に施されないか、あるいは作業時間に合わせて荷重を必要以上に加える必要がある。作業時間が 1 8 0分を超えると、これ以上はパッドドレス処理の効果は向上せず、製造時間の長時間化により、生産量の低下を招くおそれがある。パッドドレス処理を施された後の硬質ポリッシャは、ガラス素板に接触することとなる表面の平均うねり高さが、好ましくは 4〜2 5 μπιである。また、その表面粗さ力好ましくは 3〜8 μηιである。なお、平均うねり高さは、触針計を使用し、測定波長（λ) を 0 . 2 5〜. 1 . 4 mmとして測定された値である。表面粗さは、同じく触針計を使用し、カットオフ値（λθ を 2 . 5 mmとして測定された値である。パッドドレス処理で平均うねり高さを 4 μπι未満、表面粗さを 3 μπι未満とすることは難しく、長時間を要するため、却って生産量の低下を招くおそれがある。平均うねり高さが 2 5 μπι、表面粗さが 8 μπιを超える硬質ポリッシャは、その表面が荒れたものであり、同硬質ポリッシャで 1次研磨処理されたガラス素板は、表面品質の低いものとなってしまう。上記のパッドドレス処理は、必ずしも 1次研磨処理毎に行う必要はなく、 1次研磨処理における研磨レートに応じ、同研磨レートが所定範囲に維持されるように適宜施すことが好ましい。この研磨レートとは、 1次研磨処理における硬質ポリッシャによる単位時間当たりのガラス素板の取り代を示す値をいう。研磨レートは、パッドドレス処理を施した直後に測定された値を基準値とし、次にパッドドレス処理が施されるまでの間、同基準値の 8 0〜1 0 0 %に維持されることが好ましい。研磨レートが 8 0 %未満となると、研磨量の低下によるガラス素板の表面品質の低下、あるいは製造時間の長時間化を招くことになる。そして、この実施形態では、研磨レートが 8 0 %未満となったとき、パッドドレス処理が施される。このように、研磨レートに応じてパッドドレス処理を適宜施した場合、硬質ポリッシャの耐用時間を延ばすことが可能であるとともに、研磨レートを維持することにより、ガラス素板の表面品質及び製造時間を安定的に維持することが可能である。また、 1次研磨処理では、ガラス素板を前研磨と後研磨との 2段階に分けて粗研磨するこ.とが好ましい。この場合、研磨パッドからガラス素板に加える荷重について、前研磨の荷重を後研磨の荷重よりも高めることが好ましい。前研磨における荷重を高めることにより、この前研磨での研磨レートが高まり、ガラス素板の表面部分から一定の取り代を迅速に取り除くことができる。また、後研磨における荷重を低くすることにより、ガラス素板の表面を硬質ポリッシャで大きく削ることなく磨くことができ、その平滑性を高めることができる。すなわち、前研磨と後研磨とで荷重を違え、かつ前研磨での荷重を後研磨での荷重よりも高めることにより、ガラス素板の表面を一定の取り代で迅速に除去しつつも、その表面の平滑"生を高めることが可能である。このように前研磨と後研磨との 2段階に分けて粗研磨を行う場合、 1次研磨処理と 2次研磨処理との 2工程に分ける場合のような断続的なものとは異なり、前研磨と後研磨とが連続して行われる。すなわち、 1次研磨処理と 2次研磨処理とは、それぞれが割り当てられた研磨装置を使用することから、各研磨処理の間で研磨装置間におけるガラス素板の入れ替え作業を必要とする。これに対し、前研磨と後研磨とは、同一の研磨装置内において、荷重のみが変更されることにより、連続して行われる。従って、 1次研磨処理を前研磨と後研磨の 2段階に分ける場合には、研磨工程を 1次研磨処理と 2次研磨処理の 2工程に分ける場合と異なり、ガラス素板の入れ替え作業を必要としない。上記のようにして、パッドドレス処理が予め施された硬質ポリッシャを使用し、 1次研磨処理されたガラス素板は、その表面粗さが J I S B 0 6 0 1 - 1 9 9 4に規定される算術平均粗さ R aで 1 . O n m以下である。また、表面のうねりの高さ Waは、 1. 0 nm以下である。加えて、表面の微小うねりの高さ NR a は、 0. 3 nm以下である。つまり、当該ガラス素板によれば、 1次研磨処理で算術平均粗さ R aが 1. O nm以下、うねりの高さ Wa力 1. O nm以下、微小うねりの高さ NRaが 0. 3 nm以下とされることにより、従来の 1次研磨処理に比べて平滑性の向上が図られている。このため、微小うねり等の欠陥を修正するために 2次研磨処理での研磨時間を長くしたり、 2次研磨処理以降の他の研磨処理を必要としたりすることがない。従って、研磨工程を 2次研磨処理までで終了させることが可能であるとともに、同 2次研磨処理で必要とする研磨時間の短縮化が図られている。これらの中でも、特にうねりは粒径の微細な研磨剤を使用する 2次研磨処理以降の工程では十分に修正することができず、 1次研磨処理でうねりの高さ Waは 0. 7 nm以下とすることが好ましい。そして当該ガラス素板から製造されたガラス基板は、前述のように表面の品質が高、ものとなる。次に、前記実施形態によって発揮される効果について記載する。

実施形態のガラス基板は、ガラス素板に 1次研磨処理及ぴ 2次研磨処理の 2段階の工程からなる研磨工程を施して製造される。 1次研磨処理において、研磨パッドである硬質ポリッシャには、予めパッドドレス処理が施されたものが使用される。このパッドドレス処理には、金属製の円板 1 2にダイヤモンド製の砥粒 1 5を電着し、円板 1 2の表面に砥石部 14を形成したパッドドレッサー 1 1が使用されている。硬質ポリッシャは、パッドドレッサー 1 1の砥石部 14に搢接されることにより、その表面が磨かれ、荒れを修正されて平坦面とされる。そして、平坦な表面を備える硬質ポリッシャによって研磨されたガラス素板は、 1次研磨処理後の状態で前記算術平均粗さ R aが 1. 0 nm以下、表面のうねりの高さ W a力 S1. 0 nm以下、微小うねりの高さ NR aが 0. 3 nm以下という平滑性の高いものとされる。このため、製造されるガラス基板の表面の平滑性を高めるベく、 2次研磨処理より後で研磨精度の高い研磨処理を施す必要がなく、研磨工程を 2段階の工程で確実に終了させることができる。従って、研磨工程に係る工程数を減らすことが可能であり、生産効率を向上させることができ、品質を維持しつつ、生産量の増加を図ることができる。また、パッドドレッサー 1 1において、抵粒 1 5は円板 1 2に電着されている。このため、円板の表面が硬質ポリッシャへの摺接により削られたり、ダイヤモンド製の砥粒が円板から脱落したり等のような不具合の発生を防止することができ、硬質ポリッシャの表面の荒れを確実に修正することができる。

ノッドドレス処理は、パッドドレッサー 1 1から硬質ポリッシャ加えられる荷重（g Z c m²) と、作業時間（分）との積が、 5 0 0〜3 0 0 0となるように施されている。このため、硬質ポリッシャの表面を荒らしたりすることなく、その表面を必要かつ十分に修正することができる。パッドドレス処理は、 1次研磨処理毎に施されるものではなく、 1次研磨処理における研磨レートに応じ、同研磨レートが所定範囲を満たさなくなつたときに施される。また、研磨レートは、パッドドレス処理を施した直後に測定された研磨レートを基準値とし、同基準値の 8 0〜1 0 0 %に維持されている。このため、硬質ポリッシャの耐用時間を延ばしつつ、ガラス素板の表面品質及ぴ製造時間を安定的に維持することができる。パッドドレッサー 1 1の砥石部 1 4の番手は、 # 3 2 5〜# 6 0 0とされている。このため、ノッドドレス処理により、砥粒 1 5が円板 1 2から脱落したり、硬質ポリッシャの表面の荒れを修正することができなかったり、硬質ポリッシャの表面が却って荒れたり等の不具合の発生を防止することができる。従って、パッドドレッサー 1 1の耐用時間を維持しつつ、硬質ポリッシャの表面を確実に平坦面とすることができるとともに、同硬質ポリッシャによって 1次研磨処理されるガラス素板の表面の平滑性を向上させることができる。ノッドドレッサー 1 1の重量は、同パッドドレッサー 1 1を硬質ポリツシャの表面に静置した状態で、硬質ポリッシャの表面 1 c m²当たりに加わる重量が 0 . 5〜2 . O gとされている。このため、パッドドレッサー 1 1の強度低下を抑制しつつも、ノッドドレス処理時に硬質ポリッシャの表面にパッドドレッサー 1 1 が必要以上に押し付けられたりするような不具合の発生を防止することができる。従って、硬質ポリッシャの表面を確実に平坦面とすることができ、同硬質ポリッシャによって 1次研磨処理されるガラス素板の表面の平滑性を向上させることができる。以下、前記実施形態をさらに具体ィ匕した実施例について説明する。

実施例 1

ポリウレタンよりスポンジ状に形成された硬質ポリッシャに対し、図 2に示すパッドドレッサー 1 1を使用して、パッドドレス処理を施し、この硬質ポリッシャを使用してガラス素板の 1次研磨処理を行った。 1次研磨処理では、荷重 1 5 0 g Z c m²で 3 0分間の前研磨を行つた後、荷重 4 0 g Z c m²で所定時間の後研磨を行うことにより、ガラス素板を粗研磨した。このガラス素板を実施例 1の試料とした。このとき使用したパッドドレッサー 1 1の番手は # 6 0 0であり、その円板 1 2はガラス素板と同じサイズであり、厚み 0 . 6 mm、外径 6 5 mm、内径 2 0 mmであった。比較例 1

パッドドレス処理を施していない硬質ポリッシャを使用して、ガラス素板の 1 次研磨処理を行った。硬質ポリッシャには実施例 1と同様のものを使用し、また 1次研磨処理も実施例 1と同様に行った。これを比較例 1の試料とした。比較例 2

硬質ポリッシャに、ペレットドレッサーを使用してパッドドレス処理を施し、この硬質ポリッシャを使用してガラス素板の 1次研磨処理を行った。硬質ポリッシャには実施例 1と同様のものを使用し、また 1次研磨処理も実施例 1と同様に行った。これを比較例 2の試料とした。なお、ペレットドレッサーとは、ガラス素板を収容するためのキャリアとほぼ同じ大きさの直径を有する基材に、直径が 1 6 mmのダイヤモンド製の複数のペレツトを埋め込んだものものである。そして、同ペレツトドレッサーも、硬質ポリッシャの表面を修正するものではあるが、パッドドレッサー 1 1の砥粒 1 5のサイズに比べ、ペレツトの直径のサイズが明らかに異なる。実施例 1、比較例 1及ぴ比較例 2の試料について、 1次研磨処理の後研磨における研磨時間と微小うねりとの関係を図 3のグラフに示した。このグラフから、実施例 1では、研磨時間 5分で微小うねりの高さ N R aが 0 . 4 11 111から0 . 2 n mまで低減され、その後、 0 . 2 n mのまま維持されている。これに対し、比較例 1では、研磨時間に係わらず微小うねりの高さ N R aがほぼ 1 . 4 n mのままで改善されず、さらには研磨時間が 1 0分を超えると、研磨時間の経過とともに悪化する傾向まで観測された。また、比較例 2では、比較例 1のように悪化することは無くとも、初期値である 0 . 4 n mが維持され、実施例 1のように低減されることは無かった。これらの結果より、パッドドレス処理を施すことで、ガラス素板の微小うねりを悪化させることなく維持又は低減することが可能であり、パッドドレッサー 1 1を使用することで、微小うねりを低減させることが可能であることが示された。実施例 2及ぴ 3、比較例 3及ぴ 4 表 1に示す条件で、実施例 2及ぴ 3、並びに、比較例 3及ぴ 4の試科となるガラス基板を得た。なお、表 1中の「パッドドレス処理」の項では、使用したドレッサーの種類を示す。また、表 1中の「荷重」に示すように、 1次研磨処理は、前研磨及ぴ後研磨の 2段階に分けて行った。さらに、表 1中の「研磨工程所要時間」において、 + 1 5分は、研磨装置間におけるガラス素板の入れ替え時間を示す。

表 1

研磨条件 1次研磨処理 2次研磨処理 3次研磨処理研磨工程の合計時 ¾ι mm ノジド、ド、レス Λ / ッドドし、、'サ一パッド、ドレッサ一

木 W

研磨砥粒酸化七リムコロイダレ " 力

砥粒径 1 i m 0.05 β m

可盧 150g/cm²(30分） 25 100g/cm² なし

+40g/cm²(5分）

研磨工程所要 35分 +15分 10+15分 75分時間

取代 35jUm 1 U m

NRa(nm) 0.23 0.12

IS

Y Q (nm 1 0.23

夷施例研磨、ノス il し、リ卄 j一し、リサ一

3 件 TO

5ff庭氏 ^リ、口イ \"h

1 m 002 // m

150g/cm²(30分） 25 10(te/cm² なし

+40g/cm²(5分）

研磨工程所要 35分 +15分 20+15分 85分時間

取代 35jUm 1 U m

研磨 NRa(nm) 0.22 0.12

面

Ra(nm) 1.1 0.18

比較例研磨パッドドレス処ペレットドレッサ一ノッドドレッサ一パッドドレッサー

3 条件理

研磨砥粒酸化セリウム酸化セリウムコロイダルシリカ砥粒径 0.8 m 0 OR JU m

Ϊ可盧 150g/cm²(25分） 25 150g/cm² 25~100g/cm2

+40gん m²(5分)

研磨工程所要 30分 +15分 20分 +15分 10分 +15分 105分時間

取代 35 m 10 m

研磨 NRa(nm) 0.42 0.2 0.12

面

Ra(nm) 1.1 0.5 0.22 比較例研磨ノッドドレス処ペレットドレッサー / ッド、ドレッサーゾヽッドドレッサ一

4 条件理

石氐¾11圣 0.8 Mm 0.02 μ m 荷重 150_g/cm²2(25分） 25 150g/cm²2 25 100g/cm²2

+40g/cm²2(5

分）

研磨工程所要 30分 +15分 20分 +15分 20分 +15分 115分時間

取代 35 m 10 m 1 μ m 研磨 NRa(nm) 0.42 0.2 0.12

面

Ra(nm 1.1 0.5 0.19

表 1の結果から、実施例 2及ぴ 3では、 1次研磨処理後のガラス素板の微小うねりの高さ N R aがそれぞれ 0 . 2 3 n m及び 0 . 2 2 n mと低く、 2次研磨処理までで研磨工程を終了させることが十分に可能であることが示された。これに対し、比較例 3及ぴ 4では、 2次研磨処理後の微小うねりの高さ N R aがそれぞれ 0 . 2 n mであり、実施例 2及ぴ 3の 1次研磨処理後とほぼ同じ数値であった。そして、比較例 3及ぴ 4については、 3次研磨処理を施した後、やっと実施例 2 及ぴ 3の 2次研磨処理後の N R aとほぼ同じ数値となった。なお、比較例 3及び 4について、単純に 2次研磨処理のみを省略して研磨工程を行ったところ、 1次研磨処理後のガラス素板において、その周縁部分が所望とする形状を満たすものとならなかった。この周縁部分の形状は、 3次研磨処理を長時間施しても修正することができず、最終的にガラス基板に要求される最低限の仕様さえも満たすものとなり得なかった。これらの結果より、実施例 2及ぴ 3では、 1次研磨処理により、従来の研磨ェ程である比較例 3及び 4の 2次研磨処理とほぼ同じ微小うねり高さ N R aを得ることができ、 3次研磨処理を施すことなく、研磨工程を終了させることが可能であることが示された。そして、その研磨工程の合計時間において、実施例 2及ぴ 3は、比較例 3及び 4に比べ 2 0〜4 0分程度、短くすることが可能であり、短時間で品質の高いガラス基板を得ることが可能であることが示された。なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。

情報記録媒体として要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を満たすため、研磨工程よりも前の工程、研磨工程よりも後の工程又は研磨の各工程の間でガラス素板に化学強化処理を施してもよい。この化学強化処理とは、ガラス基板の組成中に含まれるリチウムイオンゃナトリゥムイオン等の一価の金属イオンを、これと比較してそのイオン半径が大きなナトリゥムイオンや力リゥムイオン等の一価の金属イオンにイオン交換することをいう。そして、ガラス基板の表面に圧縮応力を作用させて化学強化する方法である。この化学強化処理は、化学強化塩を加熱溶融して得られる化学強化処理液にガラス基板を所定時間浸漬することによつて行われる。化学強化塩の具体例としては、硝酸力リウム、硝酸ナトリウム、硝酸銀等をそれぞれ単独、あるいは少なくとも 2種を混合したものが挙げられる。化学強化処理液の温度は、ガラス基板に用いた材料の歪点よりも、好ましくは 5 0〜 1 5 0 °C程度低い温度であり、より好ましくは化学強化処理液自身の温度が 3 5 0〜4 0 0 °C程度である。ガラス基板の材料の歪点よりも 1 5 0 °C程度低い温度未満では、ガラス基板を十分に化学強化処理することができない。一方、ガラス基板の材料の歪点よりも 5 0 °C程度低い温度を超えると、ガラス基板に化学強化処理を施すときに、ガラス基板に歪みが発生するおそれがある。面取り工程の後でガラス素板の粗さ、反り、うねり等の表面状態が所望の値を満たすのであれば、ラップ工程を省略してもよい。このように構成した場合、作業時間のさらなる短縮ィヒを図ることができる。

1次研磨処理で使用する研磨パッドとして、 2次研磨処理で使用する軟質ポリッシャを使用してもよい。このように、 1次研磨処理と 2次研磨処理で同一の研磨パッドを使用する場合、研磨工程に係る 1次研磨処理及ぴ 2次研磨処理を一台の研磨装置で施すことが可能であり、研磨装置間でのガラス素板の入れ替え作業を省略することができ、製造時間のさらなる短縮化を図ることができる。パッドドレス処理を施す前に、予め研磨パッドにバフ研磨処理を施してもよい。バフ研磨処理とは、研磨装置 4 1への研磨パッドの装着に係わらず、砥石、サンドペーパー、研磨剤等の研磨材料を使用し、パッドドレス処理時よりも若干粗くなるように研磨パッドの表面を磨く処理をいう。このようにパフ研磨処理を予め施した場合、パッドドレス処理の作業時間を短縮化することができ、生産量のさらなる増加を図ることができる。

1次研磨処理において、前研磨と後研磨との 2段階に分ける際、荷重のみならず、異なる種類の研磨剤を切り替えて研磨装置に供給してもよい。この場合、前研磨の研磨剤には、後研磨の研磨剤よりも粒度の粗いものを使用することが好ましい。このように構成した場合、前研磨でさらに研磨レートを高め、後研磨でより平滑にガラス素板の表面を磨くことも可能とな'る。

Claims

請求の範囲

1 . ガラス素板の表面を研磨することによって製造される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、

前記研磨は、ガラス素板の表面を平滑に粗研磨するための 1次研磨処理を施す工程と、粗研磨されたガラス素板の表面をさらに平滑に精密研磨するための 2次研磨処理を施す工程との 2工程に分けて行われ、

前記 1次研磨処理は、合成樹脂製の発泡体よりなる研磨パッドを用い、ガラス素板の表面に研磨剤を供給しつつ研磨パッドを摺接させ、同表面を粗研磨する処理であり、

当該研磨パッドには、 1次研磨処理で使用する前に予めパッドドレス処理を施され、

該パッドドレス処理は、砥粒を備えたパッドドレッサーに研磨パッドを摺接させて研磨パッドの表面を磨く処理であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

2 . 前記パッドドレス処理は、パッドドレッサーから研磨パッドに加えられる荷重（g Z c m²) と、パッドドレス処理に要する作業時間（分）との積が、 5 0 0〜 3 0 0 0となるように施されることを特徴とする請求項 1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

3 . 前記パッドドレス処理は、. 1次研磨処理における単位時間当たりの研磨量を示す値である研磨レートを所定範囲に維持するように、施されることを特徴とする請求項 1又は請求項 2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

4 . 前記研磨レートは、パッドドレス処理を施した直後の研磨レートを基準値として、その基準値の 8 0〜1 0 0 %に維持され、当該研磨レートが基準値の 8 0 %未満となったときにパッドドレス処理が施されることを特徴とする請求項 3に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

5. 前記パッドドレッサーは、その番手が # 325〜# 600であることを特徴とする請求^ Ϊ1から請求項 4のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

6. 前記パッドドレッサーは、そのパッドドレッサーを研磨パッドの表面に静置した状態で、同研磨パッドの表面 1 c m²当たりに加わる重量が 0. 5〜 2. 0 gに設定されたものであることを特徴とする請求項 1から請求項 5の、ずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

7. 前記 1次研磨処理におけるガラス素板の粗研磨は、原子間力顕微鏡を用いて測定された算術平均粗さ（Ra) が 1. O nm以下になり、多機能ディスク干渉計を用いて 0. 4〜5. Ommの測定波長（λ) で測定されたうねりの高さ

(Wa) が 1. O nm以下になり、かつ、三次元表面構造解析顕微鏡を用いて 0. 2〜1. 4 mmの測定波長（λ) で測定された微小うねりの高さ（NRa) が 0. 3 nm以下になるまで、行われることを特徴とする請求項 1から請求項 6のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

8. 前記 1次研磨処理は、ガラス素板の表面を前研磨と後研磨との 2段階に分けて粗研磨する処理であり、該 1次研磨処理で研磨パッドからガラス素板に加えられる荷重について、前研磨時の荷重を後研磨時の荷重よりも高めることを特徴とする請求項 1から請求項 7のレ、ずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

9. 前記研磨パッドは、パッドドレス処理を施された後の状態で、触針計を使用して 0. 25〜1. 4 mmの測定波長（λ) で測定された表面の平均うねり高さが、 4〜25μηιであり、カットオフ値（λ〇）を 2. 5 mmとして測定された表面粗さが、 3〜8μπιであることを特徴とする請求項 1から請求項 7のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

10. 前記パッドドレス処理を施す際の荷重は、 S O l O O gZcm²であることを特徴とする請求項 3から請求項 5のいずれか一項に記.載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

1 1. 前記パッドドレス処理の作業時間は、 10〜 60分であることを特徴とする請求項 3から請求項 5のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

1 2. 請求項 1から請求項 7のいずれか一項に記載の製造方法によって製造される情報記録媒体用ガラス基板であって、

原子間力顕微鏡を用いて測定された算術平均粗さ（Ra) が 0. 4 nm以下であり、多機能ディスク干渉計を用いて 0. 4〜5. 0 mmの測定波長（λ) で測定されたうねりの高さ（Wa) が 0. 5 nm以下であり、かつ、三次元表面構造解析顕微鏡を用いて 0. 2〜1. 4 mmの測定波長（λ) で測定された微小うねりの高さ（NR a) が 0. 1 5 nm以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。

1 3. ガラス素板の表面を研磨することによって情報記録媒体用ガラス基板を製造するための研磨装置であつて、

合成樹脂製の発泡体よりなる研磨パッドと、砥粒を備えたパッドドレッサーとを備え、前記研磨パッドは前記ガラス素板の表面に研磨剤を供給しつつ、ガラス素板の表面を粗研磨する際に、ガラス素板に摺接され、前記パッドドレッサーは、前記研磨パッドに摺接されて研磨パッドの表面を磨くために使用されることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

1 4 . 前記パッドドレッサーは円板状をなし、その直径及ぴ厚みがガラス素板の直径及ぴ厚みとほぼ同じであることを特徴とする請求項 1 3に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。