WO2004054704A1 - 微粒子のハンドリング方法及び装置 - Google Patents
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Definitions
- fine particles having a size of 100 / m or less, drug powder, DNA, and the like developed on the substrate are used on the substrate.
- the present invention relates to a method and an apparatus for conveying, mixing, concentrating, and separating. Background art
- microchemical analyzers and medical analyzers that apply micromachining, etc.
- minute flow for guiding an analyte or a chemical solution on a substrate on which an analysis element is arranged is proposed.
- a card-shaped analyzer provided with a road-to-cavity has been proposed (conventional example 2).
- the present invention has been made based on new knowledge to solve the problems of the prior art, and has described the aggregation phenomenon of fine particles by ultrasonic radiation and the development of liquid on a flat substrate. It is an object of the present invention to provide a technique for handling fine particles by using ultrasonic waves on a substrate without using a guide such as a flow path and a cavity by utilizing the surface tension of a film. Disclosure of the invention
- the motion of the fine particles is quasi-two-dimensionally constrained by the thickness of the liquid film, Further, since the distance from the ultrasonic source is equal to or shorter than the wavelength, the fine particles dispersed in the liquid gather at the antinode of the vibration unlike the case where the ultrasonic radiation pressure is used, as described later. This difference is thought to be due to the pronounced effects of the near-field effect of ultrasonic waves and the effect of surface tension acting between the liquid film particles and the substrate.
- the present invention utilizes the new phenomenon of agglomeration of fine particles due to ultrasonic radiation and the surface tension of a liquid film spread on a flat substrate, and uses ultrasonic waves on the substrate without a guide such as a channel or cavity.
- the purpose is to provide a technology for handling fine particles.
- ultrasonic waves generally refers to various kinds of elastic waves having a high frequency as ultrasonic waves, and refers to sound waves having a frequency of about 1 kHz or more.
- the method for handling fine particles comprises the steps of: developing fine particles mixed with a solution, applying ultrasonic waves thereto, and transporting, mixing, aggregating, concentrating, or It is characterized by being separated.
- the method for handling fine particles of the present invention is characterized in that the thickness of the liquid film formed by mixing the solution and the fine particles is equal to or less than the wavelength of the applied ultrasonic wave.
- the method for handling fine particles of the present invention is characterized in that a solution and fine particles are mixed and formed. It is characterized in that the thickness of the formed liquid film is in the range of 3 to 10 times the particle diameter of the fine particles.
- an ultrasonic wave generating source is provided on a back surface of a substrate that spreads the fine particles mixed with the solution on the front surface, and ultrasonic waves are applied to the fine particles mixed with the liquid from the back surface side of the substrate. It is characterized by applying.
- the fine particle handling apparatus of the present invention is characterized in that a piezoelectric element composed of a PZT film formed on the back surface of a substrate by an aerosol deposition method is used as an ultrasonic wave generating source.
- the particle handling apparatus of the present invention is characterized in that at least two or more ultrasonic sources are provided on the back surface of the substrate, and these ultrasonic sources are sequentially operated.
- the fine particle handling apparatus of the present invention is characterized in that the fine particles are 1 or more and 100 ⁇ m or less.
- the fine particle handling apparatus of the present invention is characterized in that the ultrasonic wave applied to the fine particles mixed with the solution is 1 kHz or more.
- the fine particle handling apparatus of the present invention is characterized in that a liquid film formed by mixing the solution and the fine particles has a thickness of 1 Omm or less.
- the fine particle handling apparatus of the present invention is characterized in that the thickness of the substrate is in the range of 0.5 to 500 zm.
- the fine particle handling apparatus of the present invention is characterized in that the voltage amplitude applied to the ultrasonic generator is 30 V or less.
- the present invention it is possible to collectively handle a large amount of fine particles maintained at a high surface tension in a thin liquid film spread on a substrate, and the amount that can be handled is practically required. It is enough. It also has excellent transport response speed and stability of fine particles.
- fine particles can be handled (conveyed, aggregated, mixed, dispersed, separated, etc.) in a non-contact manner without forming a microchannel (cavity) on the substrate surface, so that the liquid film and the fine particles come into contact with each other.
- the surface is flat, making it easy to clean the device.
- the same device can be used in any direction. Transport, aggregation, and dispersion of fine particles and liquid can be performed. Further, according to the present invention, the operation is easier than conventional ones, It is possible to provide a dring device.
- FIG. 1 is a front sectional view schematically showing a fine particle handling apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.
- FIG. 2 shows an experimental example 1 according to the first embodiment of the present invention, and is an image viewed from the upper surface of the fine particle handling apparatus.
- FIG. 3 shows Experimental Example 2 according to Embodiment 1 of the present invention, and is an image viewed from the upper surface of a fine particle handling apparatus.
- FIG. 4 shows Experimental Example 3 according to Embodiment 1 of the present invention, and is an image viewed from the upper surface of the fine particle handling apparatus.
- FIG. 5 shows Experimental Example 4 according to Embodiment 1 of the present invention, and is an image viewed from the upper surface of a fine particle handling apparatus.
- FIG. 6 is a diagram showing a result of measuring a vibration state of the substrate when applying ultrasonic waves according to Embodiment 1 of the present invention with a laser displacement meter.
- FIG. 7 is a front view showing an example in which the back surface of the substrate is etched, and a piezoelectric element as an ultrasonic generation source is provided in the etched portion.
- FIG. 8 shows that a plurality of piezoelectric elements, which are ultrasonic wave generating sources, are arranged on a flat back surface of a substrate according to Embodiment 2 of the present invention, and are sequentially driven to be applied on the substrate surface.
- FIG. 4 is a front view showing a state of transporting fine particles in a liquid film.
- FIG. 9 is an explanatory diagram showing an example in which fine ultrasonic sources are arranged in a matrix according to Embodiment 2 of the present invention.
- 1 to 7 show the first embodiment.
- Fig. 1 is a front sectional view showing the outline of the particle handling apparatus. The figure on the left shows when the power is off, and the figure on the right shows when the power is on.
- the particle handling device is manufactured according to the following procedure.
- the silicon is processed by plasma etching (ICP-RIE: Inductive Plasma Coupling Reactive Etching) or chemical etching (anisotropic etching) to provide a thin Si substrate region 2 as shown in Fig. 1.
- ICP-RIE Inductive Plasma Coupling Reactive Etching
- chemical etching anisotropic etching
- a piezoelectric element 7 such as PZT provided with the upper electrode 4 and the lower electrode 5 is attached to a predetermined position on the back surface of the substrate 1.
- the piezoelectric element 7 as the ultrasonic wave generation source 3 is applied to the lower electrode 5 such as Pt by applying PZT fine particles to the lower electrode 5 by an aerosol deposition method (for example, a fine particle deposition method disclosed in Patent Publication 2002-20878).
- an aerosol deposition method for example, a fine particle deposition method disclosed in Patent Publication 2002-20878.
- the lower limit of the thickness of the PZT piezoelectric element 7 to be formed is 1 zm or more in view of the generation power of the ultrasonic waves necessary for handling the fine particles, and is 50 to reduce the driving voltage from the viewpoint of practical use as a small device. It is desirable to set it to m or less. Also, the thickness of the ⁇
- the piezoelectric elements 8 are arranged at the center of the ultrasonic source, which is the antinode of acoustic vibration, and are aggregated and concentrated.
- the particle diameter of the fine particles 8 is 5 ⁇ m, 20 ⁇ m, and 124 zm
- the thickness of the liquid film 10 is 1 to 6 mm
- the thickness of the Si substrate 1 Is 65 zm, 100 ⁇ m
- piezoelectric element (PZT layer) 7 Thickness is 10 to 15 ⁇ m
- driving ultrasonic frequency is 10 kHz, 13 kHz, 96 kHz, 144 kHz, 214 kHz
- driving voltage is 10 V earth 9 kinds of solution, water, ethylene glycol, paraffin, silicone oil It is.
- the surface of the liquid film 10 is dragged by the surface tension acting between the fine particles 8 and swells with the aggregation of the fine particles 8 .
- the applied ultrasonic vibration is cut off, the thermal vibration of the solution 9 and the substrate 1 Due to the surface tension, the fine particles 8 concentrated and collected just below the ultrasonic source are dispersed again. That is, the aggregation operation of the fine particles 8 can be performed reversibly by turning on and off the ultrasonic irradiation.
- the fine particles that aggregated during the ultrasonic irradiation are not collected statically, but create a flow between them and the liquid, and are collected while moving dynamically. Therefore, it is possible to mix different kinds of fine particles, and it is also possible to mix and react fine particles with a solution.
- the speed of aggregation of the microparticles 8 can be controlled by the drive voltage applied to the piezoelectric element 7, and it has been confirmed that the moving speed of the microparticles 8 increases as the power of the ultrasonic source (element amplitude) increases. .
- the aggregating operation can be realized by ultrasonic waves regardless of the particle diameter of the fine particles 8 and the type of the solution 9.
- the frequency of the irradiation ultrasonic wave at this time is not the resonance frequency of 1 (5 kHz with solution, 20 kHz without solution: 20 kHz).
- the aggregation speed of the fine particles 8 changes according to the viscosity of the solution or the particle size of the fine particles, in addition to the above-described driving voltage applied to the piezoelectric element 7.
- Experimental Example I in FIG. 5 is a result of examining the change in the aggregation operation when the frequency of the ultrasonic wave was changed.
- the coagulation operation could be realized over 10 kHz to 200 kHz.
- the sound wave wavelength in the solution was 7 mm to 150 mm, and the thickness of the liquid film 10 and the size of the cavity formed on the substrate 1 used in the experiment From the above, it is considered from the wavelength of the ultrasonic wave that the trapping phenomenon of the fine particles in the liquid of the present invention is considered to be due to the effect of near-field ultrasonic waves.
- the mechanism of the aggregation phenomenon of the fine particles in the liquid due to the ultrasonic radiation pressure described above is as follows.
- the amplitude (d) of the vibration part of the substrate is very small, from 1 Onm (at 10 kHz) to 2 nm (at 214 kHz). Became.
- the vibration state of the substrate 1 when ultrasonic waves were applied was measured with a laser displacement meter (manufactured by Ono Sokki Co., Ltd .: LV-16010 & Fringe Count Yuichi LV-0 201).
- a laser displacement meter manufactured by Ono Sokki Co., Ltd .: LV-16010 & Fringe Count Yuichi LV-0 201).
- Fig. 6 it was a primary vibration mode in which the maximum displacement occurred at the center of the ultrasonic source where particles were aggregated by applying ultrasonic waves.
- the method of handling fine particles of the present invention is essentially different from the principle of using vibration and gravity, such as a power feeder used to convey minute parts such as screws. confirmed.
- the solution 9 water, ethylene glycol, paraffin, and silicon oil were used as the solution 9 to be applied to prevent spontaneous evaporation and drying, but the same operation can be performed with other liquids such as alcohols. Select appropriately according to the application. Also, the force acting on the microparticles 8 by the ultrasonic wave becomes small depending on the particle size, and eventually becomes disturbed due to Brownian motion and cannot be handled. Experimentally, it was confirmed that operation was possible up to a particle diameter of about 0.5 ⁇ m. In the present invention, the thickness of the liquid film 10 is affected by the particle size of the fine particles 8 used, but is preferably about 3 to 10 times the diameter of the fine particles used experimentally.
- liquid 9 having a high viscosity or a large surface tension
- the influence of gravity can be ignored, and the liquid 9 is developed on the substrate 1 without applying a special cover to the surface of the substrate 1.
- the liquid 9 and the fine particles 8 can be used without spilling, which has an advantage that the apparatus is simplified.
- a minute cavity is provided on the substrate 1 by etching, but this is not for guiding the solution 9 but for the local and efficient ultrasonic wave in the solution 9 and the fine particles 8. This is because the thickness of the Si substrate 1 is reduced to apply the voltage, and the reflection of the sound wave from the side wall is used. This is not essential from the operating principle of the present apparatus. Therefore,
- Etching is performed on the Si substrate 1 in order to efficiently apply ultrasonic waves, and the portion where the thickness is reduced does not need to be provided on the surface of the substrate 1 on which the liquid film 10 is applied, as shown in FIG.
- the back surface of the substrate 1 may be etched, and the piezoelectric element 7 serving as the ultrasonic wave generating source 3 may be provided. That is, if ultrasonic waves are applied to the substrate 1, the fine particles 8 in the liquid film 10 generate ultrasonic waves. It is confined in the vicinity of the source 3 and does not require a guide for minute cavities or minute channels, and enables stable handling and analysis of fine particles on one flat (flat) substrate. In addition, this eliminates the need for providing a complicated flow path (cavity) and facilitates cleaning of the analyzer.
- FIG. 8 and FIG. 9 show the second embodiment.
- a plurality of piezoelectric elements ⁇ which are the ultrasonic wave generation sources 3, are arranged on the back surface of the flat Si substrate 1 and sequentially driven, and The fine particles 8 in the liquid film 10 applied on the surface can be transported.
- the operation will be described. First, when one of the plurality of arranged piezoelectric elements 7 is operated, particles 8 existing around the piezoelectric element 7 are located near the piezoelectric element 7 based on the principle of the first embodiment. Agglomerates.
- the fine particles 8 gathered in the vicinity of the piezoelectric element 7 are separated by the same principle. It is attracted to the vicinity and aggregates near the piezoelectric element 7.
- Such an arrangement of the piezoelectric elements 7 corresponds to the pattern of the conventional microchannel, and the arrangement and size thereof are selected as required for operations such as transport, mixing, and aggregation.
- Fine ultrasonic sources are arranged in a matrix as shown in Fig. 9 and driven sequentially in a single-stroke form.By combining the ultrasonic sources to be driven, the same element can be used to remove the fine particles 8 on the substrate 1. Handling in any vector direction is possible, and the device can be provided at low cost for various purposes.
- the arrangement interval of the ultrasonic sources and the switching time of each ultrasonic source are appropriately adjusted according to the viscosity of the liquid, the thickness of the liquid film, the size of the particles, the frequency and the intensity of the ultrasonic wave.
- the method and the apparatus for handling fine particles according to the present invention are capable of transporting, mixing, concentrating, transferring fine particles having a size of 100 / m or less, drug powder, DNA and the like spread on the substrate. It is useful for separation, and especially suitable for non-contact handling, analysis and diagnosis of extremely small amounts of samples dispersed in liquids in the fields of biology, medicine and pharmacy.
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Abstract
Si基板1をプラズマエッチングあるいは化学エッチングなどで加工して、薄いSi基板の領域2を設け、この領域2の底面に超音波を発生するための超音波発生源3を設ける。この超音波発生源3は、上部電極4、下部電極5の設けられたPZTなどの圧電素子7を上記基板1裏面の所定の位置に張り付ける。 圧電素子7の厚みの下限は、微粒子をハンドリングするのに必要な超音波の発生パワーからして1μm以上、また小型デバイスとして実用に供する観点から駆動電圧を低減するために50μm以下に設定することが望ましい。また、Siなどできた基板1の厚みは、PZT圧電素子7の厚みと同様に、局所的あるは効率的な超音波の印加を考慮し、500μm以下であることが望ましい。 超音波発生源3の配置された基板1底面から基板1表面に向けて1kHz以上の周波数で超音波を発生させると、基板1表面の溶液に分散していた微粒子8は、圧電素子が配置され音波振動の腹の部分となる超音波源の中心部に集まり凝集、濃縮される。
Description
明 細 書 微粒子のハンドリング方法及び装置 技術分野
この発明は、 基板上に展開された大きさが 1 0 0 / m以下の微粒子、 薬剤粉末 及び D N A等 (本明細書では、 これらを総称して単に 「微粒子」 という。) を基 板上で搬送、 混合、 濃縮、 分離する方法及び装置に関する。 背景技術
生物学、 医学、 薬学の分野では、 処理の高速化や機器の携帯性など様々な理由 から液中に分散された極微量の試料を非接触に取り扱い、 分析 ·診断する技術が 求められている。
従来、 液中に分散された微粒子をハンドリングするためにレーザ一による光輻 射や加熱による液体流れによる手法が提案されている (従来例 1 )。
また、 マイクロマシニングなどを応用した微小化学分析装置や医療用分析装置で は、 その携帯性を高めるため分析素子の配置された基板上に被分析試料や薬液をガ ィドするための微小な流路ゃキヤビティ一を設けたカード状の分析装置が提案され ている (従来例 2 )。
しかしながら、 従来例 1のように、 熱的な効果を利用した場合、 微粒子の搬送応 答速度や安定性に問題があり、 基板上に展開された薄い液膜内の強い表面張力に保 持された大量の微粒子を一括してハンドリングする事は困難で、 扱える分量も僅か で実用性に欠けていた。
また、 従来例 2の場合、 微小な流路ゃキヤビティーに付着した薬液や D NAなど の固体の分析試料はクリ一ニングが容易でなく、 使い捨ての機器にならざる得なか つた。 従って、 高度で複雑な分析を行うと高価な物になり、 その用途は限定された 物になる等の課題があった。
本発明は、 従来技術の有する問題点を解決すべく新しい知見に基づきなされた もので、 超音波輻射による微粒子の凝集現象とフラヅトな基板上に展開された液
膜の表面張力を利用し、 流路ゃキヤビティ一などのガイド無しに、 基板上で超音波 を用いて微粒子をハンドリングする技術を提供することを目的とする。 発明の開示
まず、 本発明の原理について説明する。
容器に入れた液中に分散された微粒子に超音波を照射すると、 容器内で形成され る超音波定在波節の部分の方が腹の部分より圧力が下がり、 結果、 液中に分散され た微粒子が、 節の部分に集まり濃縮される。 このことは 「超音波輻射圧による微粒 子の凝集現象」 として知られ文献 (応用物理 Vol.67, 3号, p323-326) にも記載さ れている。
これに対し、 基板上に展開あるいは塗布させた印加超音波の波長以下の薄い液膜 中の微粒子への超音波照射の場合、 液膜の厚みで微粒子の運動は擬 2次元的に拘束 され、 また、 超音波源からの距離がその波長以下であるため、 後述するように液中 に分散した微粒子は、 上記超音波輻射圧を用いた場合と異なり、 振動の腹の部分に 集まる。 この違いは、 超音波の近接場効果や液膜の微粒子や基板との間に働く表面 張力の効果などが顕著になるためと考えられる。
本発明は、 この新しい超音波輻射による微粒子の凝集現象とフラヅトな基板上に 展開された液膜の表面張力を利用し、 流路ゃキヤビティーなどのガイド無しに、 基 板上で超音波を用いて微粒子をハンドリングする技術を提供することを目的とす る。
なお、 本明細書において 「超音波」 は、 高い周波数をもつ各種の弾性波を総称 して超音波といい、 およそ 1 k H z以上の周波数の音波をいう。
上記目的を達成するため本発明の微粒子のハンドリング方法は、 溶液と混合さ れた微粒子を ¾反上に展開し、 これに超音波を印加し、微粒子と溶液を搬送、混合、 凝集、 濃縮又は分離することを特徴とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング方法は、 溶液と微粒子とが混合されて形 成する液膜の厚みが印加する超音波の波長あるいはその波長以下であることを特徴 とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング方法は、 溶液と微粒子とが混合されて形
成する液膜の厚みが微粒子の粒径の 3〜 1 0倍の範囲であること特徴とする。 また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 溶液と混合された微粒子を表面 に展開する基板の裏面に超音波発生源を設け、 前記基板の裏面側から液体と混合さ れた微粒子に超音波を印加することを特徴とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 超音波発生源として基板の裏面 にエアロゾルデポジション法で形成される P Z T膜から成る圧電素子を用いること を特徴とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 基板裏面に少なくとも 2力所以 上の超音波発生源を設け、 これらの超音波発生源を順次動作させることを特徴とす る。
また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 微粒子が 1 以上、 1 0 0〃 m以下であることを特徴とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 溶液と混合された微粒子に印加 される超音波が、 1 k H z以上であることを特徴とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 溶液と微粒子とが混合されて形 成する液膜の厚みが 1 O mm以下であることを特徴とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 基板の厚みが 0. 5〜5 0 0 z m の範囲であることを特徴とする。
また、 本発明の微粒子のハンドリング装置は、 超音波発生源に印加する電圧振 幅が 3 0 V以下であることを特徴とする。
本発明によれば、 基板上に展開された薄い液膜内の強い表面張力に保持された大 量の微粒子を一括してハンドリングする事が可能であり、 扱える分量も実用上必要 とされるに十分である。 また、 微粒子の搬送応答速度や安定性にも優れている。 また、 本発明では、 基板表面に微小流路ゃキヤビティ一を形成せず非接触で微粒 子のハンドリング (搬送、 凝集、 混合、 分散、 分離など) が行えるため、 液膜、 微 粒子の接触する表面は、 フラットで装置をクリーニングすることが容易になり、 ま た、 流路などの固定されたガイドが液膜、 微粒子の接触する基板表面に存在しない ため、同一の装置で任意の方向への微粒子、液体の搬送、凝集、分散が可能となる。 また、 本発明によれば、 従来のものに比して操作が容易であり、 また低廉なハン
ドリング装置の提供が可能である。 図面の簡単な説明
第 1図は、 この発明の実施の形態 1に係る微粒子のハンドリング装置の概略を 示す正面断面図である。
第 2図は、 この発明の実施の形態 1による実験例 1を示すもので、 微粒子のハ ンドリング装置の上面から見た画像である。
第 3図は、 この発明の実施の形態 1による実験例 2を示すもので、 微粒子のハ ンドリング装置の上面から見た画像である。
第 4図は、 この発明の実施の形態 1による実験例 3を示すもので、 微粒子のハ ンドリング装置の上面から見た画像である。
第 5図は、 この発明の実施の形態 1による実験例 4を示すもので、 微粒子のハ ンドリング装置の上面から見た画像である。
第 6図は、 この発明の実施の形態 1に係る超音波を印加した際の基板の振動状 態をレーザ一変位計で計測した結果を示す図である。
第 7図は、 基板裏面をエッチングし、 該エッチング部に超音波発生源である圧 電素子を設けた例を示す正面図である。
第 8図は、 この発明の実施の形態 2に係る、 フラットな基板裏面上に超音波発 生源である圧電素子を複数配列し、 これを順次駆動させることで、 基板表面上に塗 布された液膜内の微粒子を搬送する状態を示す正面図である。
第 9図は、 この発明の実施の形態 2に係る、 微細な超音波源をマトリックス状 に配置した例を示す説明図である。 発明を実施するための最良の形態' '
以下、本発明をより詳細に説述するために、添付の図面に従ってこれを説明する。 〔実施の形態 1〕
第 1図乃至第 7図は、 実施の形態 1を示すものである。
図 1は、 微粒子ハンドリング装置の概略を示す正面断面図であり、 左側の図が電 源 O F F時を、 右側の図が電源 O N時を示している。
微粒子ハンドリング装置は、 以下の手順で作製される。
まず、 Si¾¾lをプラズマェヅチング (ICP— RIE:誘導プラズマ結合反 応性ェヅチング) あるいは化学ェヅチング (異方性エッチング) などで加工し、 第 1図に示すような薄い S i基板の領域 2を設け (結果として微小な容器 (キヤビテ ィー) を構成することになる。)、 この領域 2の底面に超音波を発生するための超音 波発生源 3を設ける。
この超音波発生源 3は、 上部電極 4、 下部電極 5の設けられた PZTなどの圧電 素子 7を上記基板 1裏面の所定の位置に張り付ける。 このとき、 上記超音波発生発 生源 3である圧電素子 7をエアロゾルデポジション法 (例えば、 特許公開 2002 - 20878に開示されている微粒子堆積法) で P Z T微粒子を P tなどの下部電 極 5の設けられた S i基板 1に吹きつけ直接形成すると、 接着剤などを介さないた め、 発生した超音波の吸収が最小限に抑えられ、 S i基板 1上に塗布された液膜内 に超音波を広い周波数に渡り効率的に伝搬させることが可能となる。
さらに形成する P Z T圧電素子 7の厚みの下限は、 微粒子をハンドリングするの に必要な超音波の発生パワーからして 1 zm以上、 また小型デバイスとして実用に 供する観点から駆動電圧を低減するために 50 m以下に設定することが望まし い。 また、 S iなどできた ¾|反 1の厚みは、 PZT圧電素子 7の厚みと同様に、 局 所的あるは効率的な超音波の印加を考慮し、 500//m以下であることが望ましい。 次に、 この様に形成された超音波発生源 3を設けた基板 1に、 粒径 500〃 m以 下のガラス微粒子 8と溶液 9を混合したものを塗布あるは滴下し、 薄い液膜 10を 形成し、 前記超音波発生源 3の配置された基板 1底面から基板 1表面に向けて 1 k H z以上の周波数で超音波を発生させると、 基板 1表面の溶液に分散していた微粒 子 8は、 第 2図乃至第 5図に示すように圧電素子が配置され音波振動の腹の部分と なる超音波源の中心部に集まり凝集、 濃縮される。 一
第 2図乃至第 5図に示す実験例①〜④では、微粒子 8の粒径は 5〃m、 20〃m、 124 zmで、 液膜 10の厚みは 1〜 6 mm、 S i基板 1厚みは 65 zm、 100 〃m、 圧電素子 (PZT層) 7厚みは 10〜15〃m、 駆動超音波の周波数は、 1 0kHz, 13 kHz, 96kHz, 144kHz, 214 k H z、 駆動電圧は土 10V、 溶液 9の種類は、 水、 エチレングルコール、 パラフィン、 シリコンオイル
である。 このとき液膜 10面は微粒子 8との間に働く表面張力により引きずられ微 粒子 8の凝集に伴い盛り上がり、 印加している超音波振動を切ると、 溶液 9の熱振 動や基板 1との表面張力により、超音波発生源直下に濃縮、集められた微粒子 8は、 再び分散することになる。 つまり、 超音波照射の ON、 OFFにより、 この微粒子 8の凝集操作は可逆的に行うことが可能である。
また、 超音波照射中に凝集した微粒子は、 静的に集まったものでなく、 液体との 間に流れを作っており、 動的に動きながら集まったものである。 従って、 種類の異 なる微粒子を混合することも可能であり、 さらに微粒子を溶液と混合、 反応させる ことも可能である。
微粒子 8の凝集の速度は、 圧電素子 7に印加する駆動電圧で制御可能で、 超音波 源のパワー (素子の振幅) の増加に伴って、 微粒子 8の移動速度が増加することが 確認された。 また、 第 2図乃至第 4図の実験①〜③にあるように、 微粒子 8の粒子 径、溶液 9の種類に関係無く、超音波により凝集操作を実現することができる。尚、 このときの照射超音波の周波数は ¾«1の共振周波数 (溶液有り : 5kHz, 溶液 無し: 20kHz)ではない。
また、微粒子 8の凝集の速度は、上記した圧電素子 7に印加する駆動電圧の他に、 溶液の粘度、 あるいは、 微粒子の粒径に応じても凝集速度が変化する。 この性 質を利用することにより、 微粒子の分離、 あるいは微粒子と溶液との分離をする ことも可能である。
さらに、 第 5図の実験例④は、 超音波の周波数を変化させたときの凝集操作の変 化を調べた結果である。 10kHz〜200 kHzにわたり、 凝集操作を実現する ことができた。 このとき、 上述した①〜④の全ての実験において、 溶液中.の音波波 長は、 7 mm〜 150 mmで、 液膜 10の厚みや実験に用いた基板 1に形成された キヤビティーの大きさ以上で、超音波の波長から本発明の液中微粒子の 獲現象は、 近接場超音波の効果によるものと考えられ、 先述した超音波輻射圧による液中微粒 子の凝集現象とは、 メカニズムが異なることが確認された。 また、 基板振動部分 の振幅 (d) は、 1 Onm (10kHz時) 〜2nm (214kHz時) と非常に 僅かで、 単純な基板振動による粒子の凝集でも無く、 超音波による効果であること が明らかになった。
尚、 確認のために超音波を印加した際の基板 1の振動状態をレーザー変位計 (小 野測器製: L V- 1 6 1 0 &フリンジカウン夕一 L V— 0 1 2 0 )で計測した結果、 第 6図に示すように超音波印加により粒子の凝集した超音波源中央部で最大変位を する 1次の振動モードであった。 また、 同じ超音波源を設けた基板に液体を除いた 状態で微粒子 8だけを載せ、 超音波を照射したところ、 S反 1上の微粒子 8はその 場で振動するだけで、 この様な微粒子 8の凝集現象は、 全く観察されなかった。 つ まり、 本発明の微粒子のハンドリング手法は、 従来、 ネジ等の微小部品を搬送する のに使われるパ一ヅフィーダ一などの様な振動と重力を用いた原理とは本質的に異 なることが確認された。
この実施例では、 塗布する溶液 9としては自然蒸発、 乾燥を防く、ため水、 ェチレ ングルコ一ル、 パラフィン、 シリコンオイルを使ったが、 アルコール類などその他 の液体でも同様の操作が可能で、 用途により適宜選択する。 また、 超音波により微 粒子 8に働く力は、 粒径に依存して小さくなり、 最終的にはブラウン運動のため散 乱されハンドリングできなくなる。 実験的には 0.5〃 m程度の粒子径までは操作 できることが確認された。 液膜 1 0の厚みについては、 本発明の場合、 使用する微 粒子 8の粒径にも影響されるが、 実験的には使用する微粒直径の 3〜1 0倍程度が 好ましい。
尚、 液膜 1 0を形成する液体 9に高粘度あるいは表面張力の大きな液体を用いる と、 重力の影響を無視でき、 基板 1表面に特別なカバ一を掛けなくとも、 基板 1上 に展開された液体 9や微粒子 8はこぼれ落ちることなく使用することができ、 装置 が簡便化する利点がある。
また、 上記実施例の実験では、 基板 1にエッチングにより微小なキヤビティーを 設けたが、 これは溶液 9をガイドする為の物でなく、 溶液 9や微粒子 8に局所的か つ効率的に超音波を印加するために S i基板 1を薄くし、 側壁からの音波の反射を 利用するためで、 本装置の動作原理からも、 これは必須のものでは無い。 従って、
S i基板 1上で超音波を効率的に印加するためにエッチングを施し、 厚みを薄くす る箇所は、 液膜 1 0の塗布される基板 1表面に設ける必要は無く、 第 7図に示すよ うに基板 1裏面をエッチングし、超音波発生源 3である圧電素子 7を設けてもよい。 つまり、 基板 1に超音波が印加されていれば、 液膜 1 0中の微粒子 8は超音波発生
源 3近傍に拘束され、 微小キヤビティ一や微小流路などのガイドが必要でなくフラ ヅト (平面) な基板 1面上で安定した微粒子のハンドリング、 分析が可能となる。 また、 これにより複雑な流路ゃキヤビティ一を設ける必要が無く、 分析装置のクリ —ニングが容易になる。
尚、 第 7図の様な構成の場合、 圧電膜の形成は従来薄膜技術では困難で、 エア口 ゾルデポジション法により、 ノズルから P Z T微粒子を噴射し、 局所的なパ夕一二 ングを行えば容易に作製できる。
〔実施の形態 2〕
第 8図及び第 9図は、 実施の形態 2を示すものである。
実施の形態 1の基本操作を基に、 第 8図に示すようにフラットな S i基板 1裏面 上に超音波発生源 3である圧電素子 Ίを複数配列し、これを順次駆動させることで、 その表面上に塗布された液膜 1 0内の微粒子 8を搬送することができる。 次にその 動作を説明する、 まず、 複数配列された圧電素子 7の一つを動作させると、 圧電素 子 7周辺に存在する粒子 8は実施の形態 1の原理に基づき圧電素子 7の近傍に凝集 する。 次にこの圧電素子 7の駆動を停止し、 あるいは漸次弱めながら、 隣接された 圧電素子 7を徐々に駆動すると、 圧電素子 7の近傍に集まっていた微粒子 8は、 同 様の原理で圧電素子 7近傍に引き寄せられ、 圧電素子 7近傍に凝集する。 この様な 動作を隣接する複数の圧電素子 7にわたり順次駆動する事で、結果的に微粒子 8は、 基板 1上に配置された圧電素子 Ίの配列に応じて、 移動することができる。
この様な圧電素子 7の配列は、 従来の微小流路のパターンに対応するもので、 搬 送、 混合、 凝集などの操作の必要に応じて配置、 大きさを選ぶ。 また、 微細な超音 波源を第 9図に示すようにマトリックス状に配置し、 一筆書きできる形で順次駆動 すると、 駆動する超音波源の組み合わせにより同一の素子で、 基板 1上の微粒子 8 を任意のべクトル方向にハンドリングが可能となり、 様々な目的に'応じて同装置を 安価に提供することができる。 尚、 超音波源の配列間隔と各超音波源の切り替わり 時間は、 液体の粘性、 液膜の厚み、 粒子の大きさ、 超音波の周波数、 強度に応じて 適宜調整する。 産業上の利用可能性
以上のように、 本発明にかかる微粒子のハンドリング方法及び装置は、 基板上 に展開された大きさが 1 0 0 / m以下の微粒子、 薬剤粉末及び D N A等を基板上 で搬送、 混合、 濃縮、 分離するのに有用であり、 特に、 生物学、 医学、 薬学の分 野における液中に分散された極微量の試料を非接触に取り扱い、 分析 ·診断する のに適している。
Claims
請 求 の 範 囲
I . 溶液と混合された微粒子を基板上に展開し、 これに超音波を印加し、 微粒子 と溶液を搬送、 混合、 凝集、 濃縮又は分離することを特徴とする微粒子のハンドリ ング方法。
2 . 溶液と微粒子とが混合されて形成する液膜の厚みが印加する超音波の波長ある いはその波長以下であることを特徴とする請求の範囲第 1項記載の超音波微粒子ハ ンドリング方法。
3 . 溶液と微粒子とが混合されて形成する液膜の厚みが微粒子の粒径の 3〜 1 0倍 の範囲であること特徴とする請求の範囲第 1項記載の微粒子のハンドリング方法。
4 . 溶液と混合された微粒子を表面に展開する基板の裏面に超音波発生源を設け、 前記基板の裏面側から液体と混合された微粒子に超音波を印加することを特徴とす る微粒子のハンドリング装置。
5 . 超音波発生源として基板の裏面にエアロゾルデポジション法で形成される P Z T膜から成る圧電素子を用いることを特徴とする請求の範囲第 4項記載の微粒子の ハンドリング装置。
6 . S反裏面に少なくとも 2力所以上の超音波発生源を設け、 これらの超音波発生 源を順次動作させることを特徴とする請求の範囲第 4項又は 5項記載の微粒子のハ ンドリング装置。
7 . 微粒子が l〃m以上、 1 0 0〃m以下であることを特徴とする請求の範囲第 4 項乃至第 6項のいずれか 1項に記載の微粒子のハンドリング装置。
8 . 溶液と混合された微粒子に印加される超音波が、 1 k H z以上であることを特 徴とする請求の範囲第 4項乃至第 7項のいずれか 1項に記載の微粒子のハンドリ ング装置。
9 . '溶液'と微粒子とが混合されて形成する液膜の厚みが 1ひ mm以下であることを 特徴とする請求の範囲第 4項乃至第 8項のいずれか 1項に記載の微粒子のハンド リング装置。
1 0 . 基板の厚みが 0. 5〜5 0 0 /zmの範囲であることを特徴とする請求の範囲 第 4項乃至第 9項のいずれか 1項に記載の微粒子のハンドリング装置。
I I . 超音波発生源に印加する電圧振幅が 3 0 V以下であることを特徴とする請求
の範囲第 4項乃至第 1 0項のいずれか 1項に記載の微粒子のハンドリング装置 (
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