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WO2002033725A3 - Systeme et procede permettant de reguler rapidement la production d'une source d'ions en vue d'une implantation ionique - Google Patents

Systeme et procede permettant de reguler rapidement la production d'une source d'ions en vue d'une implantation ionique Download PDF

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WO2002033725A3
WO2002033725A3 PCT/US2001/051033 US0151033W WO0233725A3 WO 2002033725 A3 WO2002033725 A3 WO 2002033725A3 US 0151033 W US0151033 W US 0151033W WO 0233725 A3 WO0233725 A3 WO 0233725A3
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Donald W Berrian
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Proteros LLC
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Abstract

L'invention concerne un système et un procédé qui permettent de réguler rapidement le débit de production dans une source d'ions. La source d'ions comprend une chambre d'ionisation, un filament-cathode, une électrode miroir et une grille. La source d'ions peut être mise en oeuvre pour produire un faisceau ionique à partir de l'ionisation d'un gaz précurseur ionique présent dans la chambre d'ionisation, par des électrons émis depuis le filament. Le taux de génération d'ions est régulé par modification du potentiel de la grille relativement au filament, ce qui permet de contrôler le nombre d'électrons disponibles pour l'ionisation entre la grille et l'électrode miroir. On décrit une autre forme de réalisation permettant de réguler rapidement le débit de production dans une source d'ions. Dans cette forme de réalisation, la source d'ions comprend une chambre d'ionisation présentant des côtés mutuellement opposés et configurés pour recevoir un gaz précurseur ionique; un filament-cathode situé sur un côté de la chambre d'ionisation et pouvant être mis en oeuvre pour émettre des électrons destinés à l'ionisation du gaz précurseur ionique pour la production du faisceau ionique; et une électrode miroir présentant un potentiel associé et située sur l'autre côté de la chambre d'ionisation. L'électrode miroir est connectée à un circuit pour varier son potentiel relativement audit filament, de façon à varier le nombre des électrons disponibles dans la chambre d'ionisation aux fins de l'ionisation.
PCT/US2001/051033 2000-10-20 2001-10-19 Systeme et procede permettant de reguler rapidement la production d'une source d'ions en vue d'une implantation ionique Ceased WO2002033725A2 (fr)

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