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WO1997028127A1 - Pyridone derivatives and herbicides - Google Patents

Pyridone derivatives and herbicides Download PDF

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WO1997028127A1
WO1997028127A1 PCT/JP1997/000192 JP9700192W WO9728127A1 WO 1997028127 A1 WO1997028127 A1 WO 1997028127A1 JP 9700192 W JP9700192 W JP 9700192W WO 9728127 A1 WO9728127 A1 WO 9728127A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
alkyl
alkyl group
alkoxy
haloalkyl
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP1997/000192
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English (en)
French (fr)
Inventor
Mikio Yamaguchi
Yoshihiro Ito
Atsushi Shibayama
Yoshihiro Yamaji
Ryo Hanai
Souta Uotsu
Hideo Sadohara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Ihara Chemical Industry Co Ltd, Kumiai Chemical Industry Co Ltd filed Critical Ihara Chemical Industry Co Ltd
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Priority to AU15558/97A priority patent/AU1555897A/en
Priority to JP52748497A priority patent/JP4153039B2/ja
Priority to US09/117,456 priority patent/US6048823A/en
Priority to DE69735049T priority patent/DE69735049T2/de
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Definitions

  • the present invention relates to a pyridone derivative and a herbicide containing the same as an active ingredient.
  • 3- (substitution) 7 two Lou 4 one pyridone derivatives are known several, but at features of the present invention compound 3- (substituted) Fuweniru 6- (substituted) alkyl one 4 one pyridone Only a few compounds are known for derivatives. For example, in Chemical Abstracts Vol. 76, No. 140,407, although 3-phenyl-6-methyl-4-pyridone is described, herbicidal activity is not described. Also, in the specification of Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-167770, a 3- (substituted) phenyl-6- (substituted) alkyl-4-pyridone derivative having a rubamoyl group at the 5-position is described. Herbicidal activity is also described. However, they are different from the compounds of the present invention.
  • the present inventors have synthesized a large number of pyridone derivatives in order to solve the above-mentioned problems, and have studied variously their usefulness. As a result, they have found that certain pyridone derivatives have excellent herbicidal activity and selectivity that solve the above-mentioned problems, and have completed the present invention. [Disclosure of the Invention] That is, the present invention provides
  • R represents a C 1 through C 6 alkyl group or a C 1 ⁇ C 6 haloalkyl group
  • R 1 represents a hydrogen atom, C i ⁇ C e alkyl group, C 1 through C 6 haloalkyl group, Asechiru group, group -.
  • N represents a CR l 3R 1 4 or a group one NR 23 R 24 (.
  • R 1 is a hydrogen atom
  • R represents a C 1 through C 6 haloalkyl group
  • R 1 3 and R 1 4 is each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group, a group NR 23 R 24 or a phenyl group (the group is a halogen atom, a nitro group, a C 1 -C 6 alkyl group, .
  • R 3 represents a hydrogen atom or a halogen atom
  • R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a C ⁇ -C 6 alkoxycarbonyl C i -C 6 alkoxy group, a C 1 -C 6 alkoxycarbonyl C 1 -C 6 alkylthio group, C i -C s alkoxycarbonyl C 1 -C 6 alkylamino group, benzyloxy group
  • the group is a halogen atom, a nitro group, a C ⁇ -C 6 alkyl group or a C 1 -C 6 alkyl group.
  • C 5 may be substituted with an alkoxy group), a hydroxyl group, a thiol group, an amino group or a cyano group, and R 5 is a hydrogen atom, a halogen atom, or ⁇ ⁇ .
  • a group—CH 2 (3 to 6-membered hetero ring) (the hetero ring group of the group is a halogen atom, a nitro group, an oxo group, a C i-C 6 alkyl group, C 1 through C 6 haloalkyl group or may be substituted by C 1 through C 6 alkoxy group.), 3-Hajime Tamaki 6-membered (said group halogen atom, a nitro Group, Okiso group, C 1 through C 6 alkyl group, C ⁇ -C 6 haloalkyl group or may be substituted by C i ⁇ C 6 alkoxy group.) Or a phenyl group (in which a halogen atom, a nitro group, May be substituted with a C i -C 6 alkyl group, a C i -C 6 haloalkyl group or a C 1 -C 6 alkoxy group.) Wherein R 15 is a hydrogen atom, a C
  • R 1 0 is a hydrogen atom, diisocyanato Liu ⁇ Ko, C i ⁇ C 6 alkyl group, C 3 to C s alkenyl group, C 3 to C 6 Arukini Le group
  • R 1 1 is hydrogen atom, C l ⁇ C s alkyl group, C 3 to C 6 alkenyl group, C 3 ⁇ C s alkynyl, C 3 ⁇ c 8 cycloalkyl group, C 1 through C 6 haloalkyl Group, C3-C6 haloalkenyl group, Ci-C6 alkylsulfonyl group, C1-C6 alkylcarbonyl group, C1-C6 alkoxycarbonyl group or C3-C8 cycloalkyl C- Represents C 6 alkyl group, R 1 2 is hydrogen, C i ⁇ C 6 alkyl group, C 3 -C 6 alkenyl group, C 3 to C 6 alkynyl groups, C 3 to C 8 cycloalkyl group, (: ⁇ represents ⁇ C 6 haloalkyl group, C 3 to C 6 haloalkenyl group, a C i ⁇ C s alkylcarbox
  • a halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • C! ⁇ C6 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the C i -C 6 haloalkyl group refers to an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted by a halogen atom, and examples thereof include a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, and a penfluoroethyl group.
  • the C2-C6 alkenyl group refers to a linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, such as a vinyl group, a propenyl group, an isopropyl group, a butenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group. And the like.
  • the C 3 -C fi haloalkenyl group refers to a straight-chain or branched alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms and substituted by a halogen atom, such as a 2-chloro-2-propylenyl group or a 3-chloroalkyl group.
  • a halogen atom such as a 2-chloro-2-propylenyl group or a 3-chloroalkyl group.
  • the C3-C6 alkynyl group means a straight-chain or branched alkynyl group having 3 to 6 carbon atoms, for example, propynyl group, butyryl group, pentynyl group, hexynyl group, 3,3-dimethyl-1-yl group. Examples thereof include a monobutyl group, a 4-methyl-1-pentynyl group, and a 3-methyl-11-pentynyl group.
  • the C 3 -C 8 cycloalkyl group refers to a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a cyclopropyl group and a cyclohexyl group.
  • Examples of the 3- to 6-membered hetero group include a pyrimidinyl group, a pyridyl group, a phenyl group, a thiazolyl group, a pyrazolyl group, an oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxolanil group, a dioxolanyl group, and an oxylanyl group.
  • the compound of the present invention can be produced, for example, according to the following production method. However, the production method is not limited to these methods.
  • R 1 has the same meaning as described above, X represents a halogen atom, Et represents an ethyl group, Ac represents an acetyl group, Q ′ represents a formula,
  • R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a nitro group
  • R 5 ′ represents a hydrogen atom, a halogen atom, C 4 Cg alkyl group, C2 ⁇ C s alkenyl group, C I ⁇ C 6 haloalkyl group, a nitro group
  • R 6 ′ is a C i -C 6 alkyl group
  • C 1 through C 6 R 7 ′ represents a hydrogen atom, a C i -C 6 alkyl group, a C 3 -C 6 cycloalkyl group, a C 3 -Cg alkenyl group, a C 3 -Cs alkynyl group, a C ⁇ -C 6 haloalkyl group
  • C 1 to C 6 alkoxy represents a C 1 to C 6 alkyl group, a halogen atom or a hydroxyl group
  • R 8 ′ is a hydrogen atom, a halogen atom,
  • R 9 is C I ⁇ C6 alkyl, C3 -C6 alkenyl, C3 -C6 alkynyl group, C 1 through C 6 haloalkyl group, C3-C6 haloalkenyl group, Ci-C6 alkoxy Ci-Cg alkyl group, C3-C6 cycloalkyl group, C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkylsulfonyl C 1 through C 6 alkyl group, C 1 through C 6 alkylsulfinyl C 1 through C 6 alkyl group, C I ⁇ Cs alkyl thio C 1 through C 6 alkyl group, Benjiruokishi (in which the group halogen atom, two preparative Or a C 6 -C 6 alkyl group, a C 1 -C
  • the compound represented by the general formula [I 1-2] can be produced by halogenating the compound represented by the general formula [II-1].
  • phosphorus tribromide, thionyl bromide, thionyl chloride, hydrogen chloride or hydrogen bromide can be used as the halogenating agent.
  • the solvent for example, ethers such as getyl ether, tetrahydrofuran (THF) or dioxane, or hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene can be used.
  • THF tetrahydrofuran
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene
  • the above reaction is sometimes carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from -10 to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography
  • a compound represented by the general formula [I 1-3] can be produced.
  • a cyanating agent for example, sodium cyanide or cyanide power can be used.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as dimethyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetate and the like.
  • aliphatic ketones such as methylethyl ketone, alcohols such as methanol or ethanol, or acetonitrile, N, N-dimethylformamide (DMF) or N, N-dimethylacetamide (DMAC ) Etc.
  • the above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound represented by the general formula [I 1-4] can be produced by hydrolyzing the obtained compound represented by the general formula [II-13] in the presence of a base or an acid.
  • a base for example, an inorganic base such as sodium hydroxide or a hydroxide hydration can be used.
  • the solvent for example, alcohols such as methanol or ethanol, or polar polar solvents such as water can be used. the above The reaction is carried out in a temperature range from 110 to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound represented by [I 1-5] can be produced.
  • condensing agents for example, 1,1'-carbonyldiimidazole (CDI), 2-chloro iodide-1-methylbiphenyl dium, 1- (3-dimethylaminopropyl) -13-ethylcarbodiimide hydrochloride,
  • 3-dicyclohexylcarposimide, diphenylphosphoryl azide, or triphenylphosphine can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as diethyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, and acetone.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride
  • ethers such as diethyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene
  • acetone e.g., benzene and toluene
  • aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone
  • nonprotonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out within a temperature range from 110 ° C. to the boiling point of the solvent,
  • the compound represented by the general formula [I1-6] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [II-15] with trifluoroacetonitrile in the presence of a base.
  • a base include organic amines such as triethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -17-indene (DBU), pyridine, picolin and quinoline, and sodium methoxide.
  • An inorganic base such as potassium hydrogen carbonate can be used.
  • the solvent examples include alcohols such as methanol and ethanol, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as dimethyl ether, THF and dioxane; n-hexane; Hydrocarbons such as benzene or toluene, acetone or methyl Aliphatic ketones such as ethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound represented by the general formula [II-17] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [II-17] with an orthoformate in the presence of acetic anhydride.
  • an orthoformate for example, methyl orthoformate or ethyl ethyl orthoformate can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; Non-protonic polar solvents such as tonitrile, DMF or DMAC, carboxylic acids such as acetic acid, or acetic anhydride can be used.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride
  • ethers such as getyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene
  • Non-protonic polar solvents such as tonitrile, DMF or DMAC, carboxylic acids such as acetic acid, or acetic anhydride can be used.
  • the above reaction is carried out at a
  • the compound of the present invention represented by the general formula [II-18] can be produced by hydrolyzing the compound represented by the general formula [I1-7].
  • the base for example, an inorganic base such as sodium hydroxide or a hydroxylating power medium can be used.
  • the acid for example, sulfuric acid or hydrochloric acid can be used.
  • the solvent for example, alcohols such as methanol or ethanol, protonic polar solvents such as water, or ethers such as dioxane or THF can be used.
  • the above reaction is carried out within the range of -10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound has a keto-enol tautomer.
  • the compound represented by the general formula [II-18] by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [II-18] with the compound represented by the general formula [II-19] in the presence of a base, the compound represented by the general formula [I1-1-10] Can be produced.
  • a base for example, sodium, Inorganic bases such as sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate or potassium carbonate, or triethylamine, DBU, pyridine, bicolin or quinoline Organic amines can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as methyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; Aliphatic ketones such as ton or methylethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. In addition, if necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [II] can be produced by decarboxylation in the presence of a copper catalyst.
  • a Lewis acid for example, boron tribromide or aluminum trichloride can be used.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform or carbon tetrachloride, ethers such as dimethyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as ⁇ -hexane, benzene or toluene, acetate or methyl ethyl ketone
  • Non-protonic polar solvents such as aliphatic ketones, acetonitrile, DMF or DMAC, or alcohols such as methanol or ethanol can be used.
  • a high-boiling solvent such as quinoline can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [II-I0] may be decarboxylated in the presence of dimethyl sulfoxide, water and sodium chloride to give a compound represented by the general formula [II].
  • Invention compounds can be produced. The above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be prepared from the reaction solution Can be isolated by In addition, if necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • R, R l, the same meaning as R 2 and X are each the, R 1 9' wherein, Q is a hydrogen atom or a C i ⁇ C 6 alkyl group.
  • the compound represented by the general formula [11-3] is reacted with the compound represented by the general formula [ ⁇ 1-1] in the presence of a base, and then treated with an acid to obtain a compound represented by the general formula [11]
  • a mixture of the compound of the present invention represented by [1-2] and the compound represented by the general formula [III-13] can be produced.
  • a base for example, organic amines such as triethylamine, DBU, pyridine, picoline or quinoline, or sodium methoxide, potassium tert-butoxide, sodium hydroxide, or hydroxide hydroxide
  • Inorganic bases such as sodium carbonate, sodium carbonate, sodium acetate, sodium acetate, sodium hydrogen carbonate, and sodium hydrogen carbonate can be used.
  • Solvents such as dichloro Halogenated hydrocarbons such as rometan, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, HF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, acetone or methylethyl ketone, etc.
  • Aliphatic ketones or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • As the acid for example, hydrochloric acid or sulfuric acid can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from -10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography as necessary.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [ ⁇ 1_2] has a keto enol tautomer.
  • the obtained compound of the present invention represented by the general formula [111] and the compound represented by the general formula [II-19] or 2,4-dinitrophenoxyamine are used as bases.
  • the reaction may be carried out using a phase transfer catalyst in some cases,
  • the compound of the present invention represented by [ ⁇ ] can be produced.
  • the base for example, organic amines such as triethylamine, DBU, pyridine, picolin and quinoline, or sodium, sodium hydride, sodium methoxide, potassium tert-butoxide, water Inorganic bases such as sodium oxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium carbonate, sodium acetate, sodium acetate, sodium hydrogencarbonate and sodium hydrogencarbonate can be used.
  • the phase transfer catalyst for example, tetra-n-butylammonium bromide or benzyltriethylammonium chloride can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride, ethers such as dimethyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetone, and the like.
  • Aliphatic ketones such as methylethyl ketone, carboxylic acids such as acetic acid, or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out within the range of ⁇ 10 to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [III] can be produced by reacting the compound represented by the general formula ⁇ 11-3] with the compound represented by the general formula [111-4]. can do.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, and acetone or methylethylke.
  • aliphatic ketones such as tons, carboxylic acids such as acetic acid, alcohols such as methanol or ethanol, or non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out under anhydrous conditions, in the range of -10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the ring is closed in the presence of an acid catalyst such as paratoluenesulfonic acid.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [ ⁇ 1-2] is obtained by reacting a compound represented by the general formula [III-16] with a compound represented by the general formula [111-17].
  • the solvent include acids such as acetic acid and polyphosphoric acid, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, ⁇ -hexane, benzene and toluene.
  • Hydrocarbons or non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in the range of room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound represented by the general formula [II-6] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [II-13] with ethyl formate in the presence of a base.
  • a base for example, organic compounds such as triethylamine, DBU, viridin, bicolin or quinoline or sodium, sodium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, sodium hydroxide, hydroxide hydroxide, sodium carbonate, carbonate carbonate, sodium acetate, acetic acid Inorganic bases such as potassium, sodium bicarbonate, and bicarbonate can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetone and the like.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride
  • ethers such as getyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetone and the like.
  • aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone
  • alcohols such as methanol or ethanol
  • nonprotonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC may be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is
  • the compound represented by the general formula [111-3] can be obtained by converting the compound represented by the general formula [111-18] and the compound represented by the general formula [111-1] in the presence of a base. After the reaction, it can be produced by treating with an acid.
  • a base for example, organic amines such as lithium diisopropylamide (LDA), triethylamine, DBU, pyridine, picolin or quinoline, sodium methoxide, and potassium tert-amine Inorganic such as butoxide, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium acetate, sodium acetate, sodium hydrogencarbonate or sodium hydrogencarbonate Bases and the like can be used.
  • LDA lithium diisopropylamide
  • DBU triethylamine
  • DBU triethylamine
  • pyridine pyridine
  • picolin or quinoline sodium methoxide
  • potassium tert-amine Inorganic such as butoxide, sodium hydroxide, sodium hydro
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as methyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, and acetonitrile.
  • Non-protonic polar solvents such as ril, DMF or DMAC can be used.
  • As the acid for example, hydrochloric acid or sulfuric acid can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from -70 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography as necessary.
  • the compound represented by the general formula [111-18] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [I 1-4] with ethanol in the presence of an acid.
  • Ethanol is used as the solvent.
  • the above reaction is carried out in the range of room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography. ⁇ Production method 3>
  • R 3 represents a c-C 6 alkyl group
  • P is a group represented by the formula
  • the compound of the present invention represented by the general formula [IV-2] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [IV-1] with a Lewis acid.
  • a Lewis acid for example, boron tribromide or aluminum trichloride can be used.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetone, and the like.
  • Aliphatic ketones such as methylethyl ketone and the like, carboxylic acids such as acetic acid and non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF and DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out within the range of ⁇ 10 to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Also, if necessary Then, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the present invention compound represented by the general formula [IV] can be produced.
  • organic amines such as triethylamine, DBU, pyridine, picolin and quinoline, or sodium methoxide, potassium tert-butoxide, sodium hydroxide, hydroxylated water Inorganic bases such as sodium, sodium carbonate, sodium carbonate, sodium succinate, acetate, sodium hydrogencarbonate, sodium hydrogencarbonate and the like can be used.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; and hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene.
  • Aliphatic ketones such as acetone or methylethyl ketone, carboxylic acids such as acetic acid, or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • 3 ⁇ 4 1 8 is (: Why Represents a 1 ⁇ C 5 alkyl group or a hydrogen atom).
  • the compound of the present invention represented by the general formula [V] can be produced by subjecting the compound of the present invention represented by the general formula [V-1] to a ring-closing reaction in the presence of cesium fluoride.
  • a ring-closing reaction in the presence of cesium fluoride.
  • the i 'medium for example, N-Jetylaniline or X-dialkylanilines such as ⁇ , ⁇ : -dimethylaniline can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [VI-1] By ditrotting the compound of the present invention represented by the general formula [VI-1], the compound of the present invention represented by the general formula ': VI-2] can be produced.
  • the nitrating agent for example, nitric acid or fuming nitric acid or nitric acid or a mixed acid of fuming nitric acid and sulfuric acid can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, recrystallize or purify by column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [VI-4] is reacted with the compound of the present invention represented by the general formula [VI-2] and the compound represented by the general formula [VI-3] in the presence of a base.
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate or sodium hydrogencarbonate, or an inorganic base such as sodium carbonate
  • Organic amines such as tilamine, DBU, pyridine, picolin and quinoline can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n- hexane, benzene and toluene; Aliphatic ketones such as ton or methylethyl ketone, carboxylic acids such as acetic acid, or nonprotonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [VI-5] can be produced by reducing the compound of the present invention represented by the general formula [VI-4].
  • the reducing agent for example, iron or tin Z-hydrochloric acid can be used.
  • the solvent for example, carboxylic acids such as acetic acid, hydrocarbons such as benzene or toluene, alcohols such as methanol or ethanol, and water can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [VI] is reacted with the compound of the present invention represented by the general formula [VI-5] and the compound represented by the general formula [VI-16] in the presence of a base.
  • the compound of the present invention can be produced.
  • the base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate or carbonate, or triethylamine, DBU, pyridine, picolin, or quinolinium Organic amines such as olefins can be used.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform or carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, and acetone.
  • aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetate nitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature between -10 ° C and the boiling point of the solvent. It usually takes 1-2 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. In addition, if necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [VII-2] can be produced by nitrating the compound of the present invention represented by the general formula [VI1-1].
  • the nitrating agent for example, nitric acid or fuming nitric acid, or nitric acid or a mixed acid of fuming nitric acid and sulfuric acid can be used.
  • the above reaction is carried out within the range of —10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Also, if necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [VII-3] can be produced by reducing the compound of the present invention represented by the general formula [VII-2].
  • the reducing agent for example, iron or tin / hydrochloric acid can be used.
  • the solvent include carboxylic acids such as acetic acid, hydrocarbons such as benzene and toluene, alcohols such as methanol and ethanol, and water.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours. Eye
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [V11-3] is reacted with the compound represented by the general formula [IV-3] or [IV-4] in the presence of a base.
  • a base for example, sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate or sodium hydrogencarbonate
  • inorganic amines such as triethylamine, DBU, pyridine, bicolin and quinoline.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, and acetone.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride
  • ethers such as getyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene
  • acetone e.g., benzene and toluene
  • aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone
  • nonprotonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC
  • the resulting bis-isomer is hydrolyzed in ethanol with aqueous sodium hydroxide solution.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [VIII] is reacted by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [VII-3] with the compound represented by the general formula [VI11-1].
  • Things can be manufactured.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; acetone and Aliphatic ketones such as methylethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in the range of room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the single-arm formula [IX-1] can be produced.
  • the chlorosulfonating agent for example, chlorosulfonic acid or a mixed solution of sulfuric anhydride, sulfuric acid and carbon tetrachloride can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. In addition, if necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [IX-1] is reduced to give
  • the compound of the present invention represented by the general formula: IX-2] can be produced.
  • the reducing agent for example, a mixture of red phosphorus and iodine, zinc, or the like can be used.
  • acetic acid or the like can be used as the solvent.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [IX-3] can be produced by alkaline hydrolysis of the compound of the present invention represented by the general formula [IX-2].
  • the base for example, sodium hydroxide or potassium hydroxide can be used.
  • the solvent for example, methanol, ethanol, water or a mixture thereof can be used. The above reaction is carried out at a temperature ranging from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. C If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [IX-3] is reacted with a compound represented by the general formula [IV-3] or a compound represented by the general formula [IV-4] in the presence of a base.
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate or potassium hydrogencarbonate, or triethylamine, DBU, Organic amines such as pyridine, picolin and quinoline can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as ethyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; acetone and methylethyl.
  • Aliphatic ketones such as ketones or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [IX-3] and The present invention represented by the general formula [IX,] by reacting a compound represented by the formula il V-3 '] or a compound represented by the general formula [IV-4'] in the presence of a base;
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, hydroxylating lime, sodium carbonate, carbonic lime, sodium hydrogencarbonate or hydrogen hydride, or a triethylamine.
  • organic amines such as DBL ⁇ pyridine, picolin and quinoline.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetone and methyl.
  • Aliphatic ketones such as ethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetate nitrile, DMF or DMA C can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula UX ' by oxidizing the compound of the present invention represented by the general formula UX '), the compound of the present invention represented by the general formula (IX' ') or the general formula (IX' '')
  • the compound of the present invention can be produced.
  • the oxidizing agent for example, hydrogen peroxide, m-chloroperbenzoic acid, sodium hypochlorite or potassium monosulfate (trade name: Oxone) can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; and acetate.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride
  • ethers such as getyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene
  • acetate e.g., aliphatic ketones such as methylethyl ketone, non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC, or protonic polar solvents such as methanol, ethanol or water may be used. It can.
  • the above reaction is carried out in the range of room temperature to the boiling point
  • the compound represented by the general formula [X-1] is reacted with the compound represented by the general formula [X-1] in the presence of a base to give a compound represented by the general formula [X].
  • a base for example, sodium, sodium hydrogen hydride, sodium hydroxide, hydroxylating lime, sodium carbonate, carbonic lime, sodium hydrogen hydride, hydrogen hydride, etc.
  • Inorganic bases or organic amines such as triethylamine, DBU, pyridine, picolin and quinoline can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as dimethyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; acetone and methyl.
  • Aliphatic ketones such as ethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XI-1] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [VI-2] with sodium hydrosulfide.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, and acetone.
  • aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone, acids such as acetic acid or acetate nitrile, DMF,
  • a non-protonic polar solvent such as DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature in the range of ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XI-2] can be produced by reducing the compound of the present invention represented by the general formula [XI-1].
  • the reducing agent for example, iron or tin / hydrochloric acid can be used.
  • the solvent for example, carboxylic acids such as acetic acid, hydrocarbons such as benzene or toluene, alcohols such as methanol and ethanol, and water can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature in the range of from room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XI-3] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XI-2] with CDI.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; and acetate.
  • Aliphatic ketones such as butane or methylethyl ketone, or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF, and DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, recrystallize or purify by column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [X] is reacted by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XI-3] with the compound represented by the general formula [VI-6] in the presence of a base.
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate or carbonate, or triethylamine, DBU, pyridine, picolin, or quinolinium Organic amines such as olefins can be used.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, and getyl.
  • Ethers such as ether, THF or dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene; aliphatic ketones such as acetone or methylethyl ketone; or non-protons such as acetonitrile, DMF, DMAC A polar solvent or the like can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from -10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. In addition, if necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • R 22 represents a C c to C 6 alkyl group, a C 2 to C 6 alkenyl group or a C 3 to C 6 alkynyl group.
  • the compound of the present invention represented by the general formula: XI1-2] can be produced by brominating the compound of the present invention represented by the general formula [XI-1].
  • N-promosquen imide (NBS) or the like can be used as a brominating agent.
  • 2,2′-azobisisobutyronitrile can be used as the catalyst, and halogenated hydrocarbons such as tetrachloride carbon can be used if the catalyst is clear.
  • the above reaction may be carried out in a range of room temperature to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream in some cases, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XII-3] can be produced by oxidizing the compound of the present invention represented by the general formula [XI 1-2].
  • the oxidizing agent one prepared from sodium methoxide and 2-2 tropropane can be used.
  • the solvent for example, alcohols such as methanol and ethanol can be used.
  • the above reaction is carried out within a range of 110 to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually ends in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XII] is produced by using the compound of the present invention represented by the general formula [XI 1-3] by using hydroxylamine hydrochloride and a dehydrating agent.
  • a dehydrating agent can be used.
  • Magnesium sulfate, sodium sulfate, paratoluenesulfonic acid, etc. can be used as a dehydrating agent. They may also be mixed.
  • As the solvent for example, hydrocarbons such as n-hexane, benzene, toluene and xylene can be used.
  • the above reaction is optionally performed under a nitrogen stream at a temperature ranging from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XII] can be produced.
  • Example as acid For example, sulfuric acid or hydrochloric acid can be used.
  • the solvent for example, alcohols such as methanol or ethanol, protonic polar solvents such as water, and the like can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature in the range of 11 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography as needed.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XIII] is reacted with the compound of the present invention represented by the general formula [ ⁇ 1 ⁇ '] and the compound represented by the general formula [XUI-1] in the presence of a base.
  • the compound of the present invention can be produced.
  • the base for example, inorganic bases such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, and sodium carbonate can be used.
  • ethers such as getyl ether, THF or dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene
  • aliphatic ketones such as acetone or methylethyl ketone, or acetonitrile
  • DMF dioxane
  • a nonprotonic polar solvent such as DMAC
  • the above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XIV] is produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XII-3] with hydroquinamine hydrochloride in the presence of a base.
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium acetate, sodium acetate, sodium carbonate or sodium carbonate can be used.
  • the solvent for example, hydrocarbons such as benzene or toluene, or alcohols such as methanol or ethanol can be used.
  • the above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed within 224 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XIV] is reacted with the compound of the present invention represented by the general formula [XIV] and the compound represented by the general formula [XIV-1] in the presence of a base.
  • a base inorganic bases such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, and sodium carbonate can be used.
  • the solvent examples include ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, aliphatic ketones such as acetone and methylethyl ketone or acetonitrile, A non-protonic polar solvent such as DMF or DMAC can be used.
  • ethers such as getyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene
  • aliphatic ketones such as acetone and methylethyl ketone or acetonitrile
  • a non-protonic polar solvent such as DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction may be performed under a stream of nitrogen—10. The reaction is carried out within the range from C to the boiling point of the solvent, and usually takes 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method
  • the compound of the general formula [XIV ] can be manufactured.
  • an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium acetate, sodium acetate, sodium carbonate, or sodium carbonate as a base.
  • the solvent for example, hydrocarbons such as benzene or toluene, or alcohols such as methanol or ethanol can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of -10 ° C to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XV] is reacted with the compound of the present invention represented by the general formula [XII-2] and the compound represented by the general formula [XV-1] in the presence of a base.
  • Invention compounds can be prepared.
  • the base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate or potassium carbonate can be used.
  • ethers such as getyl ether, THF or dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene
  • aliphatic ketones such as acetate or methylethyl ketone
  • a Use non-proton 14 polar solvents such as nitrile, DMF or DMAC can do.
  • the above reaction may be carried out in a range of ⁇ 10 to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream in some cases, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XI 1-3] is reacted with the compound represented by the general formula [XV 1-1] or the general formula [XV 1-2] to obtain a compound represented by the general formula [XV 1-2]: XVI-3] can be produced.
  • the solvent include ethers such as getyl ether, THF and dioxane, and hydrocarbons such as ⁇ -hexane, benzene and toluene.
  • the above reaction may be carried out in a range of from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography if necessary.o
  • the compound of the present invention represented by the general formula (XVI-13) is reacted with dimethylsulfoxide (DMSO) and oxalyl chloride, and then oxidized by adding a base to obtain a compound of the general formula (XVI) Can be produced.
  • Organic amines such as triethylamine, DBU, pyridine, picolin and quinoline can be used as the base.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of -80 ° C to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula (XVI) is reacted with the compound of the present invention represented by the general formula (XVI) and the compound represented by the general formula (XVI-13) in the presence of a base.
  • the compound of the present invention can be produced.
  • the base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium acetate, sodium acetate, sodium carbonate, sodium carbonate or the like is used. be able to.
  • a solvent for example, hydrocarbons such as benzene or toluene or methanol Alternatively, alcohols such as ethanol can be used.
  • the above reaction is performed under a nitrogen stream in the range of -1 o ° c to the boiling point of the solvent, and usually ends in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography. Production method 10>
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XVI 1-1] is reacted with tert-butyl nitrite and copper (II) chloride to diazotize the compound of the present invention represented by the general formula [VI 1-3].
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XVII] can be produced.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, or tetrachloride carbon
  • ethers such as getyl ether, THF or dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene
  • acetonitrile Non-protonic polar solvents such as DMF, DMAC and the like
  • the above reaction may be carried out in a range of from 110 to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream in some cases, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XVIII-1] is subjected to a ring-closure reaction in the presence of cesium fluoride.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XVIII] can be produced.
  • the solvent for example, ⁇ , ⁇ -dialkyl anilines such as ⁇ , ⁇ -ethylaniline or ⁇ , ⁇ -dimethyl aniline can be used.
  • the above reaction is performed in the range of room temperature to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • [XIX] By reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XIX-1] with a compound represented by the general formula [XIX-2] optionally using a Lewis acid, [XIX: The compound of the present invention represented by the following formula can be produced. Paratoluenesulfonic acid or titanium tetrachloride can be used as the Lewis acid.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; Non-protonic polar solvents such as tritolyl, DMF or DMAC can be used.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride
  • ethers such as getyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene
  • Non-protonic polar solvents such as tritolyl, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by
  • the compound of the present invention represented by [XX] or the compound of the present invention represented by the general formula [XI X ′′] can be produced.
  • the base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate or carbonate carbonate, or triethylamine, DBU, pyridine, picolin or quinoline. Organic amines and the like can be used.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as dimethyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, and acetone.
  • aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF and DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature in the range of ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XX] and the compound represented by the general formula [XX-2] are optionally reacted in the presence of a base to give a compound of the general formula (XX) XX ′]
  • a base for example, an inorganic substance such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate or potassium carbonate Bases or organic amines such as triethylamine, DBU, pyridin, picolin and quinoline can be used.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, acetone or methyl ethyl ketone
  • ethers such as getyl ether, THF or dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene
  • acetone or methyl ethyl ketone Aliphatic ketones such as tons or non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF and DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XX1-2] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XX1-1] with ammonium thiocyanate.
  • the solvent for example, hydrocarbons such as benzene or toluene, acids such as acetic acid, or alcohols such as methanol or ethanol can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography as needed.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XX 1-3] is produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XX 1-2] with bromine or sulfuryl chloride.
  • Solvents such as dichloromethane, chloroform or tetrasalt Halogenated hydrocarbons such as activated carbon, ethers such as getyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, acids such as acetic acid, acetate or methyl ethyl ketone, etc.
  • Non-protonic polar solvents such as aliphatic ketones, acetonitrile, DMF and DMAC can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of -10 ° C to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XX 1-3] is diazotized, and in some cases, a catalyst such as copper nitrate (11) or copper oxide (I) is used.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XX] can be produced by hydrolysis.
  • sodium nitrite can be used as the diazotizing agent, and acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, water, or a mixture thereof can be used as the solvent.
  • the above reaction is carried out within the range of-> 0 to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXI] is reacted with the compound of the present invention represented by the general formula [XX ⁇ ] and the compound represented by the general formula [XXI-4] in the presence of a base.
  • the compound of the present invention can be produced.
  • the base include inorganic bases such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, hydroxide hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate, and triethylamine, DBU, pyridine, picolin and quinoline. Organic amines and the like can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride, ethers such as ethyl ether, HF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetone, and the like. Aliphatic ketones such as methylethyl ketone, or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF, and DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in the range of -10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, recrystallization or column chromatography And refined.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXI1-2] can be produced by brominating the compound of the present invention represented by the general formula [XXII-1].
  • NBS or the like can be used as a promoter.
  • 2,2'-azobisisobutyronitrile can be used as a catalyst.
  • the solvent for example, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and the like can be used. The above reaction may be carried out in a range of 110 ° C to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, if necessary. 0
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Also, purified by recrystallization or Karamukuroma Togurafi one optionally c
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXII-2] is reacted with the compound represented by the general formula [XXII-13] in the presence of a base.
  • the compound of the present invention represented by the following formula can be produced.
  • inorganic bases such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, and sodium carbonate can be used as the base.
  • the solvent examples include ethers such as getyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, aliphatic ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, acetonitrile, A non-protonic polar solvent such as DMF or DMAC or an excess of the compound represented by the general formula [XXI 1-3] can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, recrystallize or purify by column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXII ′] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XXII] with boron tribromide.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as dimethyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; and acetone.
  • aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is optionally performed under a nitrogen stream at a temperature ranging from -70 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography as needed.
  • a base for example, And inorganic bases such as sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, and sodium carbonate.
  • ethers such as dimethyl ether, THF or dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene
  • aliphatic ketones such as acetone or methylethyl ketone or acetonitrile
  • DMF Non-protonic polar solvents
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula ( ⁇ ) or the compound of the present invention represented by the general formula (XXII ′) is produced by oxidizing the compound of the present invention represented by the general formula (XXIII).
  • oxidizing agent for example, hydrogen peroxide, m-chloroperbenzoic acid, sodium hypochlorite or monosulfuric acid peroxide (trade name: Oxone) can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; and acetate.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride
  • ethers such as getyl ether, THF and dioxane
  • hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene
  • aliphatic ketones such as methylethyl ketone
  • non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF or DMAC
  • protonic polar solvents such as methanol, ethanol or water
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXIV-1] or the compound of the general formula [XXV-1] is obtained by brominating the compound of the present invention represented by the general formula [XXIV-1].
  • the compound of the present invention can be produced.
  • NBS can be used as a brominating agent.
  • 2,2'-azobisisobutyronitrile can be used as catalyst.
  • the solvent for example, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and the like can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of ⁇ 10 to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream in some cases, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Also, if necessary, H3
  • the compound of the present invention represented by the general formula: XXIV-3] can be produced by treating the compound of the present invention represented by the general formula [XXIV-2] with an acid.
  • Sulfuric acid and hydrochloric acid can be used as the acid.
  • the above reaction may be carried out in a range of ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXIV] can be produced by oxidizing the compound of the present invention represented by the general formula [XXIV-3]. It is an oxidizing agent job one lens reagent (C R_ ⁇ 3 - H2 S0 4) can be used. As the solvent, for example, ketones such as acetone can be used. The above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from -20 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours. The target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the above reaction is carried out in a range of ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXVI] can be produced by decarboxylation of the compound of the present invention represented by the general formula [XXIV] in some cases using a catalyst such as copper.
  • the reaction can be carried out using a basic solvent such as quinoline as a solvent or without a solvent.
  • the above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from 1,00 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [xxv] can be produced by fluorinating the compound of the present invention represented by the formula: ⁇ - ⁇ ].
  • potassium fluoride can be used as the fluorinating agent.
  • solvent for example, non-protonic polar solvents such as acetonitril, DMF, and DMAC can be used.
  • the above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from 110 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXV II-1] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [I 1-4] with thionyl chloride.
  • the solvent for example, ethers such as getyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, aliphatic ketones such as acetate or methylethyl ketone or acetonitrile, DMF or DMAC
  • Non-protonic polar solvents such as can be used.
  • thionyl chloride can be used as a solvent.
  • the above reaction may be carried out within a range of 110 to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream in some cases, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound represented by 1 to 33 can be produced.
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, hydroxylated lime, sodium carbonate or carbonated lime, or triethylamine, DB, pyridine, etc.
  • Organic amines such as picolin and quinoline can be used.
  • an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, hydroxide hydroxide, sodium carbonate or carbonate carbonate, or triethylamine, DBU, pyridine, picoline.
  • organic amines such as quinoline can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; Aliphatic ketones such as acetone or methylethyl ketone, or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF, and DMAC can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound represented by the general formula [XXV11-4] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [XXV11-3) with LDA.
  • LDA liquid-dimethyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as ⁇ -hexane, benzene or toluene, acetone Or aliphatic ketones such as methylethyl ketone or non-protocols such as acetate nitrile, DMF, DMAC, etc.
  • halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride
  • ethers such as dimethyl ether, THF or dioxane
  • hydrocarbons such as ⁇ -hexane, benzene or toluene
  • acetone Or aliphatic ketones such as methylethyl ketone or non-protocols such as acetate nitrile, DMF, DMAC, etc.
  • a polar solvent or the like can be used.
  • the above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from -80 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXVII] and the compound represented by the general formula [XXVIII] are reacted by reacting the compound represented by the general formula: XXVI 1-4] with phosphorus oxychloride.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dimethyl ether, dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as dimethyl ether, THF and dioxane; and hydrocarbons such as ⁇ -hexane, benzene and toluene.
  • Aliphatic ketones such as acetylone or methylethyl ketone, and nonprotonic polar solvents such as acetonitrile can be used.
  • oxychlorinated chloride can be used as a solvent.
  • the above reaction may be carried out in a range of -10 ° C to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, recrystallize and purify by column chromatography or liquid column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXVI] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [XXVII] with potassium fluoride.
  • Use solvents such as ethers such as getyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF, DMAC, etc. can do.
  • the above reaction may be carried out in a range of -10 ° C to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXVII ′′] can be produced by reacting the compound represented by the general formula [XXVII] with potassium cyanide.
  • the solvent include ethers such as diethyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, and acetone.
  • Non-protonic polar solvents such as Toril, DMF, DMAC or DMS0 can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of ⁇ 10 to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream in some cases, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, recrystallize or purify by column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXVI 1-4] and the compound represented by the general formula [XXVI 1-5] in the presence of a base the compound of the general formula [XXVIII '] And a compound of the present invention represented by the general formula [XXVII].
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate or carbonate carbonate can be used.
  • the solvent examples include ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as ⁇ -hexane, benzene and toluene, aliphatic ketones such as acetone and methylethyl ketone or acetonitrile, and DMF.
  • a non-protonic polar solvent such as DMAC, DMAC or DMS 0 can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of ⁇ 10 to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and is usually completed in 1 to 48 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization, column chromatography or liquid column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXIX-2] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XXIX-1] with boron tribromide.
  • a solvent for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform-form or carbon tetrachloride, ethers such as dimethyl ether, THF or dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, Acetone or methyl Aliphatic ketones such as ethyl ketone or non-proton polar solvents such as acetate nitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction may be carried out under a nitrogen stream at a temperature ranging from ⁇ 70 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography as needed.
  • the compound of the present invention represented by [XXIX-4] can be produced.
  • the base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, rhodium hydroxide, sodium carbonate or potassium carbonate, or triethylamine, DBU, pyridine, or the like.
  • Organic solvents such as picoline and quinoline can be used.
  • Solvents such as halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as getyl ether, THF and dioxane; It is possible to use hydrocarbons such as n-hexane, benzene or toluene, aliphatic ketones such as acetone or methylethyl ketone or non-protonic polar solvents such as acetonitrile, DMF, DMAC, etc. it can.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from -10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXIX,] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XXIX-4] with a reducing agent.
  • a reducing agent for example, iron powder or tin is used as a reducing agent, and hydrochloric acid is used in some cases.
  • the solvent for example, hydrocarbons such as benzene or toluene, esters such as ethyl acetate or methyl acetate, acids such as acetic acid, alcohols such as methanol or ethanol, or water can be used. In some cases, these can be mixed and used as officials.
  • the above reaction is carried out within a temperature range of ⁇ 10 ° C.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound represented by the general formula [XX IX] can be produced.
  • the base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, hydroxide hydroxide, sodium carbonate or potassium carbonate, or triethylamine, DBU, or pyrite.
  • Organic amines such as gin, picolin and quinoline can be used.
  • the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as getyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene, acetone and methyl ethyl ketone.
  • Non-protonic polar solvents such as aliphatic ketones such as acetylene or acetonitrile, DMF and DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out at a temperature ranging from-10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXX-1] can be produced by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [XXIX-2] with a reducing agent.
  • a reducing agent for example, iron powder or tin is used as a reducing agent, and hydrochloric acid is used in some cases.
  • the solvent for example, hydrocarbons such as benzene or toluene, esters such as ethyl acetate or methyl peroxide, acids such as acetic acid, alcohols such as methanol or ethanol, or water can be used. In some cases, these can be mixed and used.
  • the above reaction is carried out in the range of -10 ° C to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • Solvents include, for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and carbon tetrachloride, ethers such as diethyl ether, THF and dioxane, hydrocarbons such as ⁇ - hexane, benzene and toluene, and acetone. Or methylethyl Aliphatic ketones such as ketones, alcohols such as methanol or ethanol, or nonprotonic polar solvents such as acetonitrile, DMF or DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out within the range of ⁇ 10 to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Purify by recrystallization or column chromatography as needed.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXX] is reacted by reacting the compound of the present invention represented by the general formula [ ⁇ '] with the compound represented by the general formula [ ⁇ -2] in the presence of a base.
  • a base for example, an inorganic base such as sodium, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate or potassium carbonate, or triethylamine, DBU, pyridine, picolin or quinoline Organic amines and the like can be used.
  • the solvent examples include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, and carbon tetrachloride; ethers such as ethyl ether, THF and dioxane; hydrocarbons such as n-hexane, benzene and toluene; acetone and methylethylke.
  • Aliphatic ketones such as toluene and nonprotonic polar solvents such as acetonitrile, DMF and DMAC can be used.
  • the above reaction is carried out in a temperature range from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, and is usually completed in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. If necessary, purify by recrystallization or column chromatography.
  • R s' is C i ⁇ C 6 alkoxy group, C 3 ⁇ C 6 Arukiniruokishi group, C. 3 to C 6 Arukeniruokishi group Represents a C 6 -C 6 alkyl group.
  • the compound of the present invention represented by the general formula [XXXI] is produced by reacting the compound represented by the general formula: XXXI-1] with methoxymethyl chloride in the presence of Lewis acid.
  • Lewis acid for example, titanium tetrachloride or aluminum chloride can be used.
  • a solvent for example, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, or carbon tetrachloride or getyl ether,
  • Ethers such as THF or dioxane can be used.
  • the above reaction may be carried out in a range of from 110 ° C to the boiling point of the solvent under a nitrogen stream, and usually completes in 1 to 24 hours.
  • the target compound can be isolated from the reaction solution by a conventional method. Also, purified by recrystallization or column chromatography as needed 0
  • the reaction solution was poured into water, extracted with a black hole form, washed with water and a 10% aqueous solution of quinic acid, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. Thereafter, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.4 g (yield 67%) of the target product.
  • This mixture was dissolved in 15 ml of sulfuric acid and 15 ml of acetic acid, and thereto was added, under ice-cooling, 15 ml of an aqueous solution of 1.7 g (26 mmo 1) of sodium nitrite, and the mixture was stirred for 1.5 hours.
  • reaction solution was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • the organic layer was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.9 g (yield 7.2%) of the desired product.
  • the organic layer was distilled off under reduced pressure, and the obtained crude crystals were dissolved in a mixed solvent of 15 ml of ethanol and 5 ml of DMF, and 3 ml of an aqueous solution of sodium hydroxide [sodium hydroxide] 05 g (1.25 mmo 1)] and stirred at room temperature for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into water, made weakly acidic with citric acid, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Yes The organic layer was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel chromatography to obtain 0.47 g (yield: 95%) of the desired product. Melting point 16 1 to 1 63 ° C

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Description

明細書
ピリ ドン誘導体及び除草剤
[技術分野]
本発明は、 ピリ ドン誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤に関する ものである。
[背景技術]
これまでに、 3— （置換） フヱニルー 2—ピリ ドン誘導体は幾つか知られてい るが、 本発明化合物の特徴である 3— （置換） フ 二ルー 6— (置換） アルキル — 2—ピリ ドン誘導体については数例の化合物しか知られていない。 例えば特公 昭 4 6 - 3 0 1 9 0号公報明細書には 3— ( 4—クロ口フエニル） 一 6—メチル — 2 — ピリ ドンが記載されている。 また、 アメ リ カ合衆国特許 U S — 3 7 2 0 7 6 8号には 3—フエニル— 6—ェチルー 2—ピリ ドンが記載されてい る。 しかし、 何れの明細書にも除草活性についての記載はない。 一方、 3— (置 換） 7 二ルー 4一ピリ ドン誘導体は幾つか知られているが、 本発明化合物の特 徴である 3— (置換） フヱニルー 6— (置換） アルキル一 4一ピリ ドン誘導体に ついては数例の化合物しか知られていない。 例えばケミカルアブストラク ト第 7 6巻 1 4 0 4 0 7号には 3一フエニル— 6—メチル— 4 一ピリ ドンが記載され ているものの、 除草活性については記載されていない。 また、 特開昭 6 2 — 1 6 7 7 0 8号公報明細書には 5位に力ルバモイル基を有する 3— （置換） フエ ニル- 6 - (置換） アルキル- 4—ピリ ドン誘導体が記載され、 除草活性も記載 されている。 しかしながら、 本発明化合物とは異なるものである。
近年、 特に有用作物と雑草に同時に施用しても、 作物に対して害を与えずに雑 草のみを枯殺する選択作用を有する除草剤が強く要望されている。 また、 環境中 に薬剤が過剰に残留することを防止するために、 低薬量で完全な効果が得られる 薬剤の開発が望まれている。
本発明者らは上記の課題を解決するために数多くのピリ ドン誘導体を合成し、 それらの有用性について種々検討した。 その結果、 ある種のピリ ドン誘導体が上 記の課題を解決する優れた除草活性と選択性を有することを見いだし、 本発明を 完成するに至った。 [発明の開示] すなわち、 本発明は、 一般式
Q
Figure imgf000004_0001
〔I - 1〕 〔卜 2〕
(式中、 Rは C 1〜C 6アルキル基又は C 1 ~C 6ハロアルキル基を表し、 R 1 は水素原子、 C i~C eアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 ァセチル基、 基— N = CR l 3R 1 4又は基一 NR 23 R 24を表す （ただし、 R 1が水素原 子の場合は、 Rは C 1〜C 6ハロアルキル基を表す。 ） 。 R 1 3及び R 1 4はそ れぞれ独立に水素原子、 C 1 ~C 6アルキル基、 基一 NR 23 R 24又はフエ二 ル基 （該基はハロゲン原子、 二 トロ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロ アルキル基もしく は C 1〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ) を表 し、 R 2 3及び R 2 4はそれぞれ;虫立に水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C i 〜C fiハロアルキル基、 C 1〜C 6アルキルカルボニル基、 C i〜C sアルコキ シカルボニル基、 ベンゾィル基 （該基はハロゲン原子、 ニ トロ基、 C 〜C 6ァ ルキル基、 C i〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6アルコキシ基で置換さ れていてもよい。 ） 、 フヱノキシカルボニル基 （該基はハロゲン原子、 ニ トロ 基、 C i〜C 6アルキル基、 C i〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6アル コキシ基で置換されていてもよい。 ） 、 ホルミル基又は C i〜C 6アルキルスル ホニル基を表し、 R 2は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 カルボキシル基又は C 1〜C 6アルコキシカルボ二ル基を表し、 R 1 9は水素原子、 ハロゲン原子、 C l〜C 6アルコキシ基、 シァノ基又は C 1〜C 6アルキル基を表し、 Qは式
Figure imgf000005_0001
[式中、 R 3は水素原子又はハロゲン原子を表し、 R 4は水素原子、 ハロゲン原 子、 ニトロ基、 C丄〜C 6アルコキシカルボニル C i ~C 6アルコキシ基、 C 1 ~C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキルチオ基、 C i〜C sアルコキシ カルボニル C 1〜C 6アルキルァミ ノ基、 ベンジルォキシ基 （該基はハロゲン原 子、 二卜口基、 C丄〜C 6アルキル基もしくは C 1 ~C 6アルコキシ基で置換さ れていてもよい） 、 ヒ ドロキシル基、 チオール基、 ァ ミ ノ基又はシァノ基を表 し、 R 5は水素原子、 ハロゲン原子、 。 丄〜。 6アルキル基、 C 2〜C 6アルケ ニル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 ヒ ドロキシル基、 チオール基、 アミノ基、 ニトロ基、 クロロスルホニル基、 ァセチルチオ基、 シァノ基、 シァノ C i〜C 6 アルキル基、 ホルミル基、 ヒ ドロキシメチル基、 基— YR 9、 基— C R 2 1 = NOR9、 基— C〇2R 1 0、 基— COSR l O、 基— C ONR I O R I 1、 基 - S 02 N R 1 0 R 1 1、 基一 NHCONHR l 1、 基— S OR l 2、 基一 S 02 R 1 2、 ァシル基、 C i〜C 6アルコキシ C i〜C 6アルキル基、 基— C〇 2N = C R 1 3R 14、 基— C H (0H) 尺 2 1、 基—じ《[2丫1^9、 へテ 口環基又は基— CH2 CH (C 1 ) C02R 1 0を表し、 Yは酸素原子、 硫黄原 子又は基一 NR 21一を表し、 R 21は水素原子、 C I〜C 6アルキル基、 C 3 〜C 6アルケニル基又は C 3〜C 6アルキニル基を表し、 R9は C i~C 6アル キル基、 C 3〜C sアルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C 3〜C sシクロ アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 ヒ ドロキン C 1 ~C 6アルキル基、 C 3 ~C 6ハロアルケニル基、 C Q〜C 8シクロアルキル C 1〜C gアルキル 基、 C i ~C 6アルコキシ C i〜C 6アルキル基、 C i〜C 6アルコキシカルボ ニル基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル基、 C 1〜C 6ハロアルキルスルホニル 基、 C 1〜C 6アルキルチオ C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C gアルキルスルフ ィニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルキ ル基、 シァノ C 〜C 6アルキル基、 基一 CH (R 15) C〇YR l 6、 ベンジ ル基 （該基はハロゲン原子、 二ト口基、 C 1 ~C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロ アルキル基もしくは C 1〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 、 基— C H 2 (3〜6員へテロ環） （該基のへテロ環基はハロゲン原子、 ニ トロ基、 ォ キソ基、 C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6 アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 、 3~6員へテロ環基 （該基はハロゲ ン原子、 ニトロ基、 ォキソ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C }〜C 6ハロアルキル 基もしくは C i〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフエニル基 (該基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C i〜C 6アルキル基、 C i〜C 6ハロアル キル基もしくは C 1 ~C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） を表し、 R 1 5は水素原子、 C i〜C 6アルキル基又は C 3〜C 8シクロアルキル基を表 し、 R 1 6は水素原子、 C i〜C eアルキル基、 C 3〜C 6アルケニル基、 C 3 〜C 6アルキニル基、 C 3〜C 8シクロアルキル基、 C i〜C 6ハロアルキル 基、 C 3〜C 6ハロアルケニル基、 C 3~C 8シクロアルキル C 1〜C 6アルキ ル基、 C 1 〜C 6アルコキシ C 1 ~C 6アルキル基、 C i〜C 6アルキルチオ C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル 基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル C 〜C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基は ハロゲン原子、 ニトロ基、 C i〜C gアルキル基、 C丄 ~C 6ハロアルキル基も しくは C：[〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフエニル基 （該 基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル 基、 C 1 ~C 6アルコキシカルボニル C】〜C 6アルキル基もしくは C 1〜C 6 アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） を表し、 R 10は水素原子、 ナト リウ 厶原子、 C i~C 6アルキル基、 C 3〜C sアルケニル基、 C 3〜C 6アルキニ ル基、 C 3〜C 8シクロアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3〜C sハ ロアルケニル基、 C 3〜C 8シクロアルキル C 1〜C fiアルキル基、 C 〜C 6 アルコキシ C i〜C 6アルキル基、 C i〜C sアルキルチオ C i〜C sアルキル 基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C sアルキ ルスルホニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル C I 〜 C 6アルキル基、 C 3 ~ C 6アルケニルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル 基、 C 3〜C 6アルキニルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C 3〜C 8 シク口アルキルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C 6アルコキシ C 1 ~C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 ハロ C i〜C 6アルコ キシカルボニル C 1 ~C 6アルキル基、 ハロ C 3〜C 6アルケニルォキシカルボ ニル C 1〜C 6アルキル基、 ベンジルォキシカルボニル C 1 ~C 6アルキル基 (該基のベンジル基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C i~C eアルキル基、 C ， 〜 C 6ハロアルキル基もしく は C 1〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよ い。 ） 、 C 〜C 6アルキルチオカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C丄〜C fi アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1 ~C 6アルキル基、 C 1〜C fiアルキルスルホニル C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アル キル基、 C 1 ~C 6モノアルキル力ルバモイル C 1〜 C 6アルキル基、 ： ， 〜 C 6ジアルキル力ルバモイル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルチオ C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 フヱニルォキシカルボ ニル C 1〜C 6アルキル基 （該基のフヱニル基はハロゲン原子、 二 卜口基、 C 】 〜C 6アルキル基、 C 丄〜C 6ハロアルキル基もしくは C ~C 6アルコキシ基 で置換されていてもよい。 ） 、 C丄〜C 6アルコキシカルボニル C 1 〜C 6アル コキシカルボニル C ~C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基はハロゲン原子、 二 卜口基、 C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6 アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフエニル基 （該基はハロゲン原 子、 ニトロ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1 〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） を表し、 R 1 1は水素原子、 C l〜C sアルキル基、 C 3〜C 6アルケニル基、 C 3~C sアルキニル基、 C 3〜c 8シクロアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3〜C 6ハロアル ケニル基、 C i ~C 6アルキルスルホニル基、 C 1〜C 6アルキルカルボニル 基、 C 1 ~C 6アルコキシカルボニル基又は C 3〜C 8シクロアルキル C 〜 C 6アルキル基を表し、 R 1 2は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 3〜C 6 アルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C 3〜C 8シクロアルキル基、 （： 丄〜 C 6ハロアルキル基、 C 3〜C 6ハロアルケニル基、 C i〜C sアルキルカルボ ニル基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル基又は C 3〜C 8シクロアルキル C 1 〜C 6アルキル基を表し、 R 6は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 3〜C 6 アルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3~ C 6ハロアルケニル基、 C 1〜C 6アルコキシ C 1〜C 6アルキル基、 C i〜 C 6アルコキシカルボニル基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アル キル基、 シァノ C 〜C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基はハロゲン原子、 二ト 口基、 C 1 ~C 6アルキル基もしくは C i〜C 6アルコキシ基で置換されていて もよい） 又は基一 CH 2 (3〜6員へテロ環） を表し、 R 7は水素原子、 ハロゲ ン原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 3〜C 6シクロアルキル基、 C 2〜C eアル ケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C 1 ~C 6ハロアルキル基、 C i〜C fiァ ルコキシ C 1〜C 6アルキル基、 シァノ基、 C 1〜C 6ヒ ドロキシアルキル基、 基— CO 2 R 1 0、 ホルミル基、 ァシル基、 C 1〜C 6アルキルチオ C 1〜C アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜 C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルキル基、 C i ~C 6ハロアルキルチオ C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキ ル基、 C 1〜C 6ハロアルキルスルホニル C 1〜C 6アルキル基又はカルボキシ ル基を表し、 R 8は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C i〜C 6ハロアルキル 基、 ァシル基、 ハロゲン原子又はニトロ基を表し、 R2 0は水素原子、 ハロゲン 原子、 ヒ ドロキシル基、 C i ~C eアルコキシ基、 C 3 ~C 6アルケニルォキシ 基、 C 3〜C 6アルキニルォキシ基、 C 1〜C 6ハロアルコキシ基、 C 3〜C 6 ハロアルケニルォキシ基又は基— NR 1 1 R 1 2を表し、 Y' は酸素原子、 硫黄 原子、 基一 NR 2 1—又は基一 CO—を表す。 ] を表す。 } で示されるピリ ドン 誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤を提供するものである。
なお、 本明細書において、 ハロゲン原子とはフッ素原子、 塩素原子、 臭素原 子、 又はヨウ素原子を示す。
C！ ~C 6アルキル基とは炭素数 1〜 6の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示 し、 例えばメチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 イソプロピル基、 n—ブチル 基、 イソブチル基、 s e c—ブチル基、 t e r t—ブチル基、 n—ペンチル基、 イソペンチル基、 ネオペンチル基、 n—へキシル基、 イソへキシル基、 3， 3— ジメチルブチル基等を挙げることができる。
C i〜C 6ハロアルキル基とはハロゲン原子によって置換された炭素数 1〜 6 のアルキル基を示し、 例えばジフルォロメチル基、 トリフルォロメチル基、 ペン 夕フルォロェチル基等を挙げることができる。
C 2〜C 6アルケニル基とは炭素数 2〜 6の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基 を示し、 例えばビニル基、 プロぺニル基、 イソプロぺニル基、 ブテニル基、 ペン テニル基、 へキセニル基等を挙げることができる。
C 3〜C fiハロアルケニル基とはハロゲン原子によって置換された炭素数 3〜 6の直鎮又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、 例えば 2 —クロ口— 2—プロベニ ル基、 3 -クロ口— 2 _プロぺニル基等を挙げることができる。
C 3〜C 6アルキニル基とは炭素数 3〜 6の直鎮又は分岐鎖状のアルキニル基 を示し、 例えばプロピニル基、 プチ二ル基、 ペンチニル基、 へキシニル基、 3 , 3—ジメチル一 1 一プチ二ル基、 4—メチル— 1 —ペンチニル基、 3—メチル一 1 一ペンチ二ル基等を挙げることができる。
C 3〜C 8シクロアルキル基とは炭素数 3〜8のシクロアルキル基を示し、 例 えばシクロプロピル基、 シクロへキシル基等を挙げることができる。
3 ~ 6員へテロ璟基とは例えばピリ ミ ジニル基、 ピリジル基、 チェニル基、 チ ァゾリル基、 ピラゾリル基、 ォキサゾリル基、 イソォキサゾリル基、 ォキソラニ ル基、 ジォキソラニル基、 ォキシラニル基等を挙げることができる。
次に、 本発明化合物の具体例を表 1〜表 3 3に記載する。 しかしながら、 本発 明化合物はこれらの化合物に限定されるものではない。 なお、 化合物番号は以後 の記載において参照される。
(表中 *は三重結合を表す。 以下同様） (表 1 )
Figure imgf000010_0001
Figure imgf000011_0001
(表 3 ) l L口 1ク J i? pi R2 R3 R4 5 §Φ占 (T) S号
し n
し n3 f
Figure imgf000012_0001
11 _11 R 丄 0 し 1*3 し Π3 し 1 1
し ヮし し 2 5 1 l nUQ)- 111 nU し 3 13 u n π し π、し し し
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3 し n3 C1 OC3H7-1
u
丄 ΰ丄 し し C1 CHO i U し し H3 C1 CH2Br 1 u
LM3 C1 NHCONHC3H7
i 04 し r UuI«3 u n c C1 S02C1 77-7β 00 し
し H3 u r C1 SCOCH3 Ql-Q?
1 CF3 CH3 H 0CH2C02CH3 N02
1 -R 07 CF3 CH3 H p CI SCH3 147-1 0
1-88 CF3 CH3 H F CI SOCH3 147-148
1-89 CF3 CH3 H r SH NH2
1-90 CF3 CH3 H F CI CH3 115-116
1-91 CF3 CH3 H F CI SCH20CH3 100-102
1-92 CF3 NHC02CH3 H CI CI H
1-93 CF3 COCH3 H CI CI H
1-94 CF3 H H F F H 224-227 ('表 4
Figure imgf000013_0001
(表 5！ 化合物 R1 R2 R3 ≠ 融点 (°C) 番号
-125 CF3 CH3 CI CI SCH(C2H5) C02C2H5 65-67 -126 CF3 CH3 CI CI SCH20CH3 59-61 -127 CF3 CH3 CI CI SCH2C02H 209-211 -128 CF3 CH3 CI CI 108-109
-129 CF3 CH3 CI CI SCH2C02C2H40C3H7-i 59-60 -130 CF3 CH3 CI CI SCH2CO2C3H7 92-94 -131 CF3 CH3 CI 163-165
C1
-132 CF3 CH3 CI CI ' 159-160
R 5
-133 CF3 CH3 CI 0、 、 s 113-114
-134 CF3 CH3 H F CI C02C2H Br 83-84
-135 CF3 CH3 H F CI CH20H 160-161
-136 CF3 CH3 H F CI CI 158-159
-137 F3 CH3 H OC3H7 CI C02C2H5 油伏物
-138 CF3 CH3 H F CI Br 146-148
-139 CF3 CH3 H F CI CH2CH(CI) C02C2 油伏物
-140 CF3 CH3 H F CI N (CH3)S02C2H5 油伏物
-141 CF3 CH3 H F CI C02H 209-210
- 142 CF3 CH3 H F CI C02CH2C02C2H5 油伏物
-143 CF3 CH3 H F CI C02CH (CH3) C02C2H5 53-55
-144 CF3 CH3 H F CI C02 a 288-290
-145 CF3 CH3 H F CI 圆 2 75-77
-146 CF3 CH3 H F H 0CH3 104-105
-147 CF3 CH3 H F CI C0NHS02CH3 145-147
-148 CF3 CH3 H F CI 0CH2C02C4Hg 油伏物
-149 CF3 CH3 H F CI 0CH2C02C6H13 油伏物
-150 F3 CH3 H F CI 0C2H5 107-109
-151 CF3 CH3 H F CI OCH2C (CH3) =CH2 86-87
-152 CF3 CH3 H F CI 0CH2CH=CHCH3 72-74
-153 CF3 CH3 H F CI OCO2CH3 116-118 (表 6 ) 化合物 R Rl R2 R3 R5 融点 (。c) 番^ r
1- 154 CFQ J CHQ H F CI 0CQH7 85-87
1-ι55 CH3 H F CI 0CH2CF3 82-84
1-156 CF3 CH3 H CI CI I 145-147
1-157 CF3 CH3 H F CI C02CH3 98-99
1-158 CFq CHQ H F CI C02C3H7 63-64
1-159 CF3 CH3 H F CI 油伏物
1-160 CF3 CH3 H F CI 56-57
1-161 CFQ CHQ H F CI 0CH(CH j)→^| 油伏物
1-162 CF3 CH3 H F CI 118-120
Figure imgf000015_0001
1-163 CF3 CH3 H F CI OC2H40C2H5 65-66
1-164 CF3 CH3 H F CI CH=N0H 225-227
1-165 CF3 CH3 H F CI 113-114
1-166 sv
CF3 CH3 H F CI OC4H9 60-61
1-167 F3 CH3 H F CI 0CH (CH3) C2H5 油状物
1-168 CF3 CH3 H F CI 0CH2CH (CH3) 2 85-86
1-169 CF3 CH3 H F CI 0C2H40C3H7-i 61-63
1-170 CF3 CH3 H F CI 0C2H40CH3 106-108
1-171 CF3 H3 H F CI 0C2H4C1 85-86 u
f 3 H3 n c r u n^jr
1-173 CF3 CH3 H F CI 0CH2CHF2 79-80
1-174 CF3 CH3 H F CI 0CH2CH=C (CH3) 2 曲伏物
1-175 CF3 CH3 H F CI 0CH2C*CCH3 77-78
1-176 CF3 CH3 H F CI OCH (CH3) CN 油伏物
1-177 CF3 CH3 H F CI 0CH2- 100-102
1-178 CF3 NH2 H F CI 0CH2C*CH 127-129
1-179 CF3 NH2 H F CI 187-188
1-180 CF3 CH3 H F CI 102-103
1-181 CF3 CH3 H F CI OCH20C2H5 油伏物 (表 7)
Figure imgf000016_0001
('表 8 )
Figure imgf000017_0001
(表 9 )
1 *±ο
Figure imgf000018_0001
(表 1 0 )
Figure imgf000019_0001
(表 1 1 )
α- 1- 1'〕
Figure imgf000019_0002
化合物 R Rl R2 R3 R4 R5 R20 融点 cc) 番号
1' - 1 CF3 CH3 H F CI H OCH3 113-114
V- 2 CF3 CH3 H F CI H OH 174-175
Γ- 3 CF3 CH3 H F CI H 0CH2CH=CH2 97-98
Γ- 4 CF3 CH3 H F CI H 0CH2C*CH 91-93
Γ- 5 CF3 CH3 H F CI H 0CH(CH3)C*CH 102-103
Γ- 6 CF3 CH3 H F CI H 0CH(C2H5)C*CH 106-107
Figure imgf000020_0001
(表 1 3 )
Figure imgf000021_0001
(表 1 4)
Figure imgf000021_0002
(表 1 5 )
Figure imgf000022_0001
/し入
化合物 R RA R° Y ° 融点（て） 番
3 - 1 CF3 CH3 n r s CHgC^CH 150-151
6- L CF3 CH3 H r s H
c
3 - ό CF3 CH3 CH3 Γ
3 - 4 CF3 CH3 CH3 F s H
3- 5 CF3 CH3 H r S C¾CH=C¾ 143-145
3 - 6 CF3 CH3 H r s CH3 173-174
，
3 - 7 CF3 CH3 H F s C2H5 169-171
3 - 8 CF3 CH3 H F s ¾«7
3- 9 CF3 CH3 H CI 0 CH2C*CH 187-189
3-10 F3 CH3 H F NH CH2C*CH
3-11 CF3 CH3 H CI S CH2C*CH
3-12 CF3 CH3 H CI s CH2CH=CH2
3-13 CF3 CH3 H CI s CH3
3-14 CF3 CH3 H CI s C2H5
3-15 CF3 CH3 H CI s 3H7
3-16 CF3 NH2 H CI s CH2C*CH
3-17 CF3 CH3 H H s CH2C*CH
3-18 CF3 CH3 H H s CH2CH=CH2
3-19 CF3 CH3 H H s H
3-20 CF3 CH3 H CI 0 H 263-265
601-iOI 0 ID ά H ¾3 LZ-
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0 H H
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〔 ト I〕
Figure imgf000023_0002
( 9 ΐ
Z6l00IL6d£ILDd LZ\9ZIL6 O/A (表 1 7)
Figure imgf000024_0001
(表 1 8 ') 化合物 R Rl R2 R3 V R7 融点 (て）
¾号
4-61 CF3 CH3 H F F 0 CH3 187-188
4-62 CF3 CH3 H F F 0 C2H5 120-121
4-63 CF3 CH3 H F F 0 CH2Br 132-134
4-64 CF3 CH3 H F F 0 CH20CH3 98-100
4-65 CH3 H F F 0 CH20C2H5
4-66 CH3 H F F 0 CH2SCH3
4-67 CF3 CH3 H F F 0 CH2SC2H5
4-68 CF3 CH3 H F F 0 CH2S0CH3
4-69 CF3 CH3 H F F 0 CH2S0C2H5
4-70 CF3 CH3 H F F 0 CH2S02CH3
4-71 CF3 CH3 H F F 0 CH2S02C2H5
4-72 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)Br 131-133
4-73 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)0CH3 86-87
4-74 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)0C2H5 油状物
4-75 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)SCH3 109-110
4-76 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)SC2H5 148-150
4-77 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)S0CH3 119-120
4-78 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)S0C2H5 測定不可
4-79 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)S02CH3
4-80 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)S02C2H5 油伏物
4-81 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)0CH3 77-78
4-82 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)0C2H5
4 - 83 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)SCH3 油伏物
4-84 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)SC2H5
4-85 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)S0CH3 油伏物
4-86 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)S0C2H5
4 - 87 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)S02CH3 145-147
4-88 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)S02C2H5
4-89 CF3 CH3 H F F 0 CH(CH3)0H 油伏物
4-90 C 3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)0H
4-91 F3 CH3 H F F 0 3H7 100-101
4-92 CF3 CH3 H F CI 0 CH(CH3)SC2H5 85-86
4-93 CF3 CH3 H F CI 0 CH(CH3)S0C2H5 測定不可 (表 1 9 ) 化合物 R Rl R2 R3 R4 Y R7 融点（て） 番号
4-94 CF CH H F CI 0 140-141
4-95 0 CHQ H F CI 0 CH
Figure imgf000026_0001
測定不可
4-96 0 CH H F CI 0 油伏物
4-97 CFQ CHQ H F CI 0 CH(C?Hc)S02C2H5 118-120
4-98 CFQ CH OQ H F C 0 135-136
4-99 0 CH 0Q H F CI 0 131-132
4-100 CFQ CHq H F CI 0 CH?S0?C?Hi; 198-200
4-101 CFo H F CI 0 CH2SCHF2
4-102 CFQ '1 d H CI CI o CH2SCH3 158-159
4-103 CFQ CHQ H CI CI 0 CH2SOCH 77-79
4-104 CFQ CHQ H CI CI 0 164-166
4-105 CFo CHQ H CI CI 0 CH?SCク
C ΗςD 108-109
4-106 CFq CHQ H CI CI 0 155-156
4-107 CFQ O H CI CI 0 106-108
4-108 0 CHq H CI CI 0 CH(CH3)SCH3 138-139
4-109 I 0 CH¾ H CI CI 0 CH (CH3>S0CH3 80-81
4-110 CFQ CHQ H CI CI 0 CH (CHq) SOク CH3 95-96
4-111 CFQ CHQ H CI CI 0 CH(CHq)SC?Hc 99-100
4-112 " ό H CI CI 0 CH(CHQ)SOC?Hq 68-69
4-113 H CI CI 0 CH (CHQ)S0?C?HC 81-82
4-114 CFQ CHQ H CI CI 0 CH (C?H SCHQ 107-108
4-115 CF1Q CHQ H CI CI 0 CH(C?H S0CH> 123-125
4-116 0 CH 0q H CI CI 0 CH(C9Hc;)S0?CH 80-82
4-117 CHQ H CI CI 0 CH(C?H SC?HQ 87-88
4-118 0 H CI CI 0 3 測定不可
4-119 H CI CI 0 49-51
4-120 CF3 CH3 H CI CI 0 H 145-146 1 1 し u
し rt3 n Γ fl
4-122 CF3 CH3 H F CI 0 CH(CH3)SC3H7-i 油伏物
4-123 CF3 CH3 H F F 0 CH(C2H5)Br 107-108
4-124 CF3 CH3 H F F 0 CH=CHCH3 159-160
4-125 CF3 CH3 H F CI 0 C(CH3)2S02CH3
4-126 CF3 CH3 H F CI 0 CH2SOCHF2 (表 2 0 ) 化合物 R Rl R2 R R4 Y 融点 (て） 番"^
4-127 CF3 CH3 H F CI 0 CH2S02CHF2
4-128 CF3 CH3 H F CI 0 CH20C4H9 油伏物
4-129 CF3 CH3 H F CI 0 CH2oc4H9-s 油状物
4-130 CF3 CH3 H F CI 0 ?0伏物
4-131 CF3 CH3 H F CI 0 し H し (Jし 油伏物
4-132 CF3 CH3 H F CI 0 し H ig uし s 曲伏物
4-133 CF3 CH3 H F CI 0 し Η〔し UL4HQ- 1 油伏物
4-134 CF3 CH3 H F CI 0 し ^lgJ し 測定不可
4-135 CF3 CH3 H F CI 0 n、しれ3 リ2し 了 141-142
4-136 CF3 CH3 H F CI 0 し M しれ3 し 一 測定不可
4-137 CF3 CH3 H F CI 0 tn し リ2し 3^了 l 164-165
4-138 CF3 CH3 H F CI 0 し H (し ひし 了 油状物
4-139 CF3 CH3 H F CI 0 CH (し 9H OC3H7-1 油伏物
4-140 CF3 CH3 H CI CI 0 CH20C3H7 92-93
4-141 F3 CH3 H CI CI 0 し H2Uし 3Η7 83-84
4-142 CF3 CH3 H CI CI 0 CH (CH^ 0し 油伏物
4-143 CF3 CH3 H CI CI 0 CH (CH3) OC3H7- 1 33-34
4-144 CF3 CH3 H CI CI 0 CH C2H J OC3H7 油伏物
4-145 CF3 CH3 H CI CI 0 し H (し ϋし 油状物
4-146 CF3 CH3 H F CI 0 CH2Sし 3H7
4-147 CF3 CH3 H F CI 0 CH2S0C3H7
4-148 CF3 CH3 H F CI 0 H2SO2C3H7
4-149 CF3 CH3 H F CI 0 CH2SC3H7-i
4-150 CF3 CH3 H F CI 0 CH2SOC3H7- 1
4-151 CF3 CH3 H F CI 0 CH2SO2C3H7- 1
4-152 CF3 CH3 H F CI 0 CH(C2H5) SC3H7
4-153 CF3 CH3 H F CI 0 CH (C2H5) S0C3H7
4-154 CF3 CH3 H F CI 0 CH (C2H5)S02C3H7
4-155 CF3 CH3 H F CI 0 CH (C2H5)SC3H7- i
4-156 F3 CH3 H F CI 0 CH (C2H5) SOC3H7-i
4-157 CF3 CH3 H F CI 0 CH (C2H5) S02C3H7- i
4-158 CF3 CH3 H CI CI 0 CH2SC3H7
4-159 CF3 CH3 H CI CI 0 CH2SOC3H7 (表 2 1 )
Figure imgf000028_0001
(表 2 2 )
Figure imgf000029_0001
化合物 R Rl R2 R3 R4 Y R8 融点 (て） 番号
5- 1 CF3 CH3 H F CI 0 H 138-140
5- 2 CF3 CH3 H F CI 0 C2H5 H 103-105
5- 3 CF3 CH3 H F CI 0 C3H7 H 120-122
5- 4 CF3 CH3 H F CI 0 CH20H H
O- D CF3 CH3 H F CI 0 CH20CH3 H
5 - 6 CF3 CH3 H F CI 0 CH2S02CH3 H
5- 7 CF3 CH3 H F CI 0 CH2S02C2H5 H
5 - 8 CF3 CH3 H F CI 0 CH2SCH3 H
5- 9 CF3 CH3 H F CI 0 CH2SC2H5 H
5-10 CF3 CH3 H F CI 0 COCH3 H
5-11 CF3 CH3 H F CI 0 CH (0H) CH3 H
5-12 CF3 CH3 H F CI 0 H H
5-13 CF3 CH3 H F CI 0 C02C2H5 H
5-14 F3 CH3 H F CI 0 C02H H
5-15 F3 CH3 H F CI 0 CH3 COCH3
5-16 F3 CH3 H F CI s CH3 H
5-17 CF3 CH3 H F CI NH CH3 H
5-18 CF3 CH3 H F CI NH C2H5 H
5-19 CF3 CH3 H CI CI 0 CH3 H
5-20 CF3 CH3 H CI CI 0 C2H5 H
5-21 CF3 CH3 H H H 0 CH3 H
5-22 CF3 CH3 H H H 0 C2H5 H (表 2 3)
Figure imgf000030_0001
'、表 2 4 ) 化合物 R Rl R2 R3 -5 ≠ 融点 (て） 番号
6-29 CF3 CH3 H F CI NHS02C2H5
6-30 CF3 CH3 H F CI NHCH2C*CH
6-31 CF3 CH3 H F CI HCH2CO2C2H5
6-32 CF3 CH3 H F CI NHCONHCH3
6-33 CF3 CH3 H F CI C02C2H5
6-34 CF3 CH3 H F CI
6-35 CF3 CH3 H F CI COSC2H5
6-36 CF3 CH3 H F CI C02N=C (CH3) 2
6-37 CF3 CH3 H F CI CH2CH (C1) C02C2H5
6-38 CF3 CH3 H F CI S02NHCH3
6-39 CF3 CH3 H F CI CH=N0CH3
6-40 CF3 CH3 H F CI S02CH3
6-41 CF3 CH3 H F OCH2CO2C2H5 N02
6-42 CF3 CH3 C02C2H5 F CI OC3H7 170-172
6-43 CF3 CH3 C02H F CI
6-44 CF3 CH3 H F F N02
6-45 CF3 CH3 H F CI SCH3
6-46 CF3 CH3 H F CI SOCH3
6-47 CF3 CH3 H F CI CH3
6-48 CF3 CH3 H F CI CH2Br
6H9 CF3 CH3 H F CI CHO
6-50 CF3 CH3 H F CI N02
6-51 CF3 CH3 H F CI 冊 2
6-52 CF3 CH3 H F SH NH2
6-53 CF3 H C02C2H5 H CI H 130-131
6-54 CF3 H C02C2H5 F CI H 153-154
6-55 CF3 H C02C2H5 CI CI H
c o_c oco しト 3 H C02C2H F F H
6-57 CF3 H C02C2H5 F CI OC3H7 118-119
6-58 CF3 CH3 C02C2H5 F CI H 146-147
6-59 CF3 CH3 C02C2H5 F CI NHS02CH3 247-251
6-60 CF3 CH3 C02C2H5 F CI NH2 143-145
6-61 CF3 CH3 C02C2H5 H CI H 152-153 (表 2 5 ) 化合物 R R1 R2 R ≠ R5 融点 (て） 番"^
6-62 CF3 CH3 C02C2H5 H CI N02 171 -172
6-63 CF3 CH3 C02C2H5 H CI NH2 175-176
6-64 CF3 CH3 H H CI 0CH2C*CH
(表 2 6 )
Figure imgf000033_0001
化合物 R R1 R3 Y ≠ 融点 (0C)
7- 1 CF3 CH3 H F 0 CH2C*CH 169-170
7- 2 CF3 NH2 H F 0 CH2C*CH
7- 3 CF3 CH3 H F 0 H
7- 4 CF3 CH3 H F 0 CH3
7- 5 F3 CH3 H F 0 C2H5
7- 6 CF3 CH3 H F 0 3H7
7- 7 CF3 CH3 H F 0 CH(CH3) C*CH
7- 8 CF3 CH3 H F 0 CH2CH=CH2
7 - 9 CF3 CH3 H F 0 CH2C (CH3) =CH2
7-10 CF3 CH3 H F 0 CH2CH=CHCH3
7-11 CF3 CH3 H F 0 CH2C (C1) =CH2
7-12 CF3 CH3 H F 0 CH2CH=CHC1
7-13 CF3 CH3 H F 0 CH2CN
7-14 CF3 CH3 H F 0 CH2C02C2H5
7-1δ CF3 CH3 H F 0 CH20CH3
7-16 CF3 CH3 H F o nZ"\J
7-17 CF3 CH3 H F s CH2C*CH
7-18 CF3 CH3 H F s H
7-19 CF3 CH3 H F NH CH2C*CH
7-20 CF3 CH3 H F NH H
7-21 CF3 CH3 H CI 0 CH2C*CH
7-22 CF3 CH3 H CI 0 CH2CH=CH2
7-23 CF3 CH3 H CI 0 H
7-24 CF3 CH3 H H 0 CH2C*CH
7-25 CF3 CH3 H H 0 CH2CH=CH2
7-26 CF3 CH3 H H 0 H
Figure imgf000034_0001
(表 2 8 )
〔1- 2- 4〕
Figure imgf000035_0001
化合物 R Rl R2 R3 ≠ Y R7 融点 (て） 番号
9 - 1 CF3 CH3 H F CI 0 CH3 208-211
9- 2 CF3 CH3 H F CI 0 C2H5 210-213
9- 3 CF3 CH3 H F CI 0 C3H7
9- 4 CF3 CH3 H F CI 0 CH20CH3
9- 5 CF3 CH3 H F CI 0 CH20H
9- 6 CF3 CH3 H F CI 0 C02C2H5
9 - 7 CF3 CH3 H F CI 0 CH2Br
9- 8 CF3 CH3 H CI CI 0 CH3
9 - 9 CF3 CH3 H CI CI 0 C2H5
9-10 CF3 CH3 H CI CI 0 C3H7
9-11 F3 CH3 H CI CI 0 CH20CH3
9-12 CF3 CH3 H CI CI 0 CH2OH
9-13 F3 CH3 H CI CI 0 C02C2H5
9-14 CF3 CH3 H CI CI 0 CH2Br
9-15 CF3 CH3 H F CI s CH3
9-16 CF3 CH3 H F CI s C2H5
9-17 CF3 CH3 H F CI NH CH3
9-18 CF3 CH3 H F CI NH C2H5
9-19 CF3 NH2 H F CI 0 CH3
9-20 CF3 NH2 H F CI 0 C2H5
9-21 CF3 CH3 H H CI 0 CH3
9-22 CF3 CH3 H H CI 0 2H5 (表 29)
Figure imgf000036_0001
Ίし。 1ク J P pi R2 R3 R4 γ R7 R8 し ) w
](]- τ p
し n3 H CH3 H
in—？ し H p
し n3 l 门 η
C2H5 H i in u.
Lf 3 し n3 n ¾Η7 H
1Π - U p π 0
3 し n3 CH20H H in - p π π
し r3 υη3 CH20CH3 H
10- fi U η
し f3 Ln3 CH2S02CH3 H
1(1一 7
3 し Π3 u υ CH2S02C2H5 H in- Q し U η
し n3 Π CH2SCH3 H
1(1一 Q H F π
Lr3 し n3 CH2SC2H5 H
10-10 CF3 CH3 H F C1 0 COCH3 H
10-11 CH3 H F C1 0 CH(0H)CH3 H
10-12 CF3 CH3 H F C1 0 H H
10-13 CF3 CH3 H F C1 0 C02C2H5 H
10-14 CF3 CH3 H F C1 0 C02H H
10-15 CF3 CH3 H F C1 0 CH3 :0CH3
10-16 CF3 CH3 H F C1 S CH3 H
10-17 CF3 CH3 H F C1 ΝΗ CH3 H
10-18 CF3 CH3 H F C1 ΝΗ C2H5 H
10-19 CF3 CH3 H H C1 0 CH3 H
10-20 CF3 CH3 H H C1 0 C2H5 H
10-21 CF3 CH3 H CI C1 0 CH3 H
10-22 CF3 CH3 H CI C1 0 C2H5 H (表 3 0 )
Figure imgf000037_0001
化合物 R Rl R2 Rl9 R3 ≠ ≠ 融点 (。C) 番号
11- 1 CF3 CH3 H CI H CI H 48-50
11- 2 CF3 CH3 H F H CI H 120-122
11- 3 CF3 CH3 H CI H CI NHS02CH3 161-163
11- 4 CF3 CH3 H CI F CI 0CH2C*CH 119-121
11- 5 CF3 CH3 H F F CI 0CH2C*CH 100-102
11- 6 CF3 CH3 H CN F CI 0CH2C*CH 油伏物
11- 7 CF3 CH3 H CI H CI N02
11- 8 CF3 CH3 H CI H CI NH2
(表 3 1 )
a— r一 2〕
Figure imgf000037_0002
化合物 R R1 R2 R19 R3 Y R6 融点 (°C) 番号
12- 1 CF3 CH3 H CI H 0 CH2C*CH 204-206
(表 3 2 ')
Figure imgf000038_0001
Figure imgf000038_0003
(表 3 3 )
〔1-2' - 2〕
Figure imgf000038_0002
Figure imgf000038_0004
本発明化合物は、 例えば以下に示す製造法に従って製造することができる。 し かし、 その製造法はこれらの方法に限定されるものではない。
製造法 1 >
HOCH2-Q' XCH2-Q' CCH2-Q'
'ロゲン化
〔11- 1} CII-2) シァノ化剤 〔Π-3〕 加水分解
Figure imgf000039_0001
(式中、 R 1は前記と同じ意味を表し、 Xはハロゲン原子を表し、 E tはェチル 基を表し、 A cはァセチル基を表し、 Q' は式、
Figure imgf000040_0001
又は l,，
Figure imgf000040_0002
R7" 、R8, 、 R7" R2IR8' R7' R21
〔式中、 R 3、 R 20、 R 2 1及び Yはそれぞれ前記と同じ意味を表し、 R4' は水素原子、 ハロゲン原子又はニトロ基を表し、 R 5' は水素原子、 ハロゲン原 子、 C Cgアルキル基、 C2〜C sアルケニル基、 C i〜C 6ハロアルキル 基、 ニトロ基、 基一 YR9' 、 基一 SOR9' 、 基— S02R9' 又は C i~ C 6アルコキシ C丄〜C 6アルキル基を表し、 R 6' は C i〜C 6アルキル基、
C 3〜c 6アルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C i〜C 6ハロアルキル 基、 C 3 ~C 6ハロアルケニル基、 ォキシランメチル基又は C丄〜C 6アルコキ シ C 1〜C 6アルキル基を表し、 R 7' は水素原子、 C i ~C 6アルキル基、 C 3 ~C 6シクロアルキル基、 C3〜Cgアルケニル基、 C 3~Csアルキニル 基、 C }〜C 6ハロアルキル基、 C 1〜C 6アルコキシ C 1 ~C 6アルキル基、 ハロゲン原子又はヒ ドロキシル基を表し、 R 8' は水素原子、 ハロゲン原子、
C i〜Cgアルキル基、 C丄〜C 6ハロアルキル基又はニトロ基を表し、 R9 は C i〜C6アルキル基、 C3〜C6アルケニル基、 C3〜C6アルキニル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3〜C 6ハロアルケニル基、 C i〜C6アルコキ シ C i〜Cgアルキル基、 C 3〜C 6シクロアルキル基、 C 3~C6シクロアル キル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルキル 基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜Csアルキ ルチオ C 1〜C 6アルキル基、 ベンジルォキシ基 （該基はハロゲン原子、 二 ト口 基、 C Cfiアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C i〜C6アルコキシ 基等で置換されていてもよい。 ） 又は 5〜6員へテロ環基 （該基はハロゲン原 子、 ニ トロ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 丄 〜C 6 アルコキシ基等で置換されていてもよい。 ） を表す。 〕 を表す。 }
一般式 〔 I I— 1〕 で表される化合物をハロゲン化することにより、 一般式 〔I 1 - 2] で表される化合物を製造することができる。 ハロゲン化剤として例 えば三臭化リ ン、 臭化チォニル、 塩化チォニル、 塩化水素又は臭化水素等を使用 することができる。 溶媒として例えばジェチルエーテル、 テ トラヒ ドロフラン (THF) 又はジォキサン等のエーテル類あるいは n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によ つては窒素気流下で - 10 から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24 時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 ま た、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 得られた一般式 〔I I一 2〕 で表される化合物とシァノ化剤とを反応さ せることにより、 一般式 〔 I 1 — 3〕 で表される化合物を製造することができ る。 シァノ化剤として例えばシアン化ナト リゥム又はシアン化力リゥム等を使用 することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化 炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルェ一テル、 THF又はジォキサン等の エーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 アセ ト ン又 はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類、 メタノ一ル又はエタノール等のアル コール類あるいはァセ トニ卜リル、 N, N-ジメチルホルムアミ ド （DMF) 又 は N, N—ジメチルァセ トアミ ド （DMAC) 等の非プロ トン性極性溶媒などを 使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で一 10°Cか ら溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 24時間で終了する。 目的化合物は 反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又は力 ラムクロマ 卜グラフィ一にて精製する。
次に、 得られた一般式 〔I I一 3〕 で表される化合物を塩基又は酸の存在下で 加水分解することにより、 一般式 〔I 1—4〕 で表される化合物を製造すること ができる。 塩基として例えば水酸化ナトリウム又は水酸化力リゥム等の無機塩基 を使用することができる。 溶媒として例えばメ夕ノ一ル又はエタノール等のアル コール類あるいは水等のプロ ト ン性極性溶媒などを使用することができる。 上記 の反応は、 一 1 0てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終 了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要 に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィ一にて精製する。
次に、 縮合剤及び塩化マグネシウムの存在下、 一般式 〔 I I—4〕 で表される 化合物とマロ ン酸モノェチルカ リ ゥ厶塩とを反応させることにより、 一般式
〔 I 1— 5〕 で表される化合物を製造することができる。 縮合剤として例えば 1 , 1 ' 一カルボニルジイ ミダゾ一ル （C D I ) 、 ヨウ化 2—クロ口— 1ーメチ ルビリ ジニゥ厶、 1— ( 3—ジメチルァミ ノプロピル） 一 3—ェチルカルボジィ ミ ド塩酸塩、 1, 3—ジシクロへキシルカルポジイ ミ ド、 ジフエ二ルホスホリル アジド又は ト リフヱニルホスフィ ン等を使用することができる。 溶媒として例え ばジクロロメ タ ン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジ ェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼ ン又はトルエン等の炭化水素類、 ァセトン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァセ トニトリル、 DMF又は DMAC等の非プロ 卜ン性極性溶媒 などを使用することができる。 上記の反応は、 一 10°Cから溶媒の沸点温度の範 囲で行い、 通常は 1 ~24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により 単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフ ィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔 I I一 5〕 で表される化合物と 卜リフルォロアセ 卜ニトリルと を塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔 I 1— 6〕 で表される化合物を 製造することができる。 塩基として例えばト リェチルァミ ン、 1, 8—ジァザビ シクロ [5. 4. 0] 一 7—ゥンデセン （DBU) 、 ピリ ジン、 ピコ リ ン又はキ ノ リ ン等の有機ァミ ン類あるいはナ トリウムメ トキシ ド、 カリウム t e r t—ブ トキシ ド、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化力 リ ゥム、 炭酸ナ ト リ ウム、 炭酸力 リ ゥ ム、 酢酸ナト リ ウム、 酢酸力リウム、 炭酸水素ナ 卜リゥム又は炭酸水素力リウム 等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒として例えばメ夕ノ一ル又はェ タノール等のアルコール類、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等の ハロゲン化炭化水素類、 ジェチルェ一テル、 THF又はジォキサン等のエーテル 類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチル ェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類あるいはァセ トニト リル、 D M F又は D M A C 等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 - 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合 物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又 はカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔 I I 一 6〕 で表される化合物とオルトギ酸エステルとを無水酢 酸の存在下反応させ、 一般式 〔 I I一 7〕 で表される化合物を製造することがで きる。 オルトギ酸エステルとして例えばオルトギ酸メチル又はオル卜ギ酸ェチル 等を使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又 は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキ サン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 ァ セ卜ニトリル、 D M F又は D M A C等の非プロ トン性極性溶媒、 酢酸等のカルボ ン酸類あるいは無水酢酸を使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒 の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液 から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムク ロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔 I 1—7〕 で表される化合物を加水分解することにより、 一般 式 〔 I I一 8〕 で表される本発明化合物を製造することかできる。 塩基として例 えば水酸化ナトリゥム又は水酸化力リゥム等の無機塩基を使用することができ る。 酸として例えば硫酸又は塩酸等を使用することができる。 溶媒として例えば メタノール又はエタノール等のアルコール類、 水等のプロ トン性極性溶媒あるい はジォキサン又は T H F等のエーテル類などを使用することができる。 上記の反 応は、 - 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了す る。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応 じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。 なお、 本化合物にはケ トーエノ—ル互変異性体が存在する。
次に、 一般式 〔 I I一 8〕 で表される本発明化合物と一般式 〔 I I一 9〕 で表 される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔 I 1— 1 0〕 で 表される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナトリウム、 水素化ナ ト リ ウム、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ ト リ ゥム又は炭 酸カリウム等の無機塩基あるいは ト リェチルァミ ン、 D B U、 ビリジン、 ビコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類を使用することができる。 溶媒として例えばジ クロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチ ルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又 はトルエン等の炭化水素類、 ァセ トン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ 卜ン 類あるいはァセ トニト リル、 D M F又は D M A C等の非プロ 卜ン性極性溶媒など を使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行 い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離す ることができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて 精製する。
次に、 得られた一般式 〔 I 1 — 1 0〕 で表される本発明化合物とルイス酸とを 反応させた後、 水を加えることにより、 一般式 〔 1 1— 1 1〕 で表される本発明 化合物を製造し、 次に銅触媒の存在下で脱炭酸し、 一般式 〔 I I〕 で表される本 発明化合物製造することができる。 ルイス酸として例えば三臭化ホウ素又は三塩 化アルミニウム等を使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 η—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等 の炭化水素類、 アセ ト ン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ ト ン類、 ァセ トニ トリル、 D M F又は D M A C等の非プロ 卜ン性極性溶媒あるいはメタノール又は エタノール等のアルコール類などを使用することができる。 また、 脱炭酸はキノ リ ン等の高沸点溶媒を使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸 点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から 常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
また、 別法として一般式 〔 I I 一 I 0〕 で表される本発明化合物をジメチルス ルホキシ ドと水及び塩化ナ 卜 リ ウムの存在下で脱炭酸し、 一般式 〔 I I〕 で表さ れる本発明化合物製造することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点温 度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法 により単離することができる。 また、 必要に応じて再: ¾晶又はカラムクロマ トグ ラフィ一にて精製する。
く製造法 2 >
Figure imgf000045_0001
αト 4〕 [ΠΙ-8)
(式中、 Q ' 、 R、 R l、 R 2及び Xはそれぞれ前記と同じ意味を表し、 R 1 9 ' は水素原子又は C i〜C 6アルキル基を表す。 ）
—般式 〔1 1—3〕 で表される化合物と一般式 〔Ι Π— 1〕 で表される化合物と を塩基の存在下反応させた後、 酸で処理することにより、 一般式 〔11 1一 2〕 で表 される本発明化合物と一般式 〔I I I一 3〕 で表される化合物との混合物を製造する ことができる。 塩基として例えばト リェチルァミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機ァ ミ ン類あるいはナ ト リ ウムメ トキシ ド、 カ リ ウム t e r t —ブトキシ ド、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リウ厶、 炭酸ナ ト リウム、 炭酸力リウム、 酢酸ナ ト リウム、 酢酸力リウム、 炭酸水素ナ卜リゥム又は炭酸水 素力リウム等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒として例えばジクロ ロメ タン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチル エーテル、 丁 H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 ァセトン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケトン類 あるいはァセトニトリル、 D M F又は D M A C等の非プロ 卜ン性極性溶媒などを 使用することかできる。 酸として例えば塩酸又は硫酸等を使用することができ る。 上記の反応は、 _ 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は〗〜 2 4 時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 ま た、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。 なお、一 般式 〔Π 1 _ 2〕 で表される本発明化合物にはケトーエノール互変異性体が存在す る。
次に、 得られた一般式 〔1 1 1一 2〕 で表される本発明化合物と一般式 〔 I I 一 9〕 で表される化合物又は 2 , 4 —ジニトロフヱノキシァミ ンとを塩基の存在 下、 場合によっては相間移動触媒を使用し、 反応させることにより、 一般式
〔Ι Π〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばトリ ェチルァミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類ある いはナ ト リウム、 水素化ナ ト リウム、 ナト リウムメ 卜キシ ド、 カリウム t e r t —ブトキシ ド、 水酸化ナ トリウム、 水酸化力リウム、 炭酸ナ ト リウム、 炭酸力リ ゥム、 酢酸ナトリウム、 酢酸力リウ厶、 炭酸水素ナ卜リゥム又は炭酸水素力リゥ ム等の無機塩基などを使用することができる。 相間移動触媒として例えばテトラ 一 n—プチルアンモニゥムブロ ミ ド又はべンジルトリェチルアンモニゥ厶クロリ ド等を使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム 又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルェ—テル、 T H F又はジォ キサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 ァセトン又はメチルェチルケトン等の脂肪族ケトン類、 酢酸等のカルボン酸類あ るいはァセトニトリル、 D M F又は D M A C等の非プロ トン性極性溶媒などを使 用することができる。 上記の反応は、 ― 1 0てから溶媒の沸点温度の範囲で行 い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離す ることができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ 一にて 精製する。 また、 別法として、 一般式 Π11— 3〕 で表される化合物と一般式 〔111— 4〕 で表される化合物とを反応させても一般式 〔III〕 で表される本発明化合物を製造 することができる。 溶媒として例えばジクロロメ タン、 クロロホルム又は四塩化 炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等の エーテル類、 n-へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又 はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類、 酢酸等のカルボン酸類、 メタノール 又はエタノール等のアルコール類あるいはァセ トニ ト リル、 DM F又は DMA C 等の非プロ ト ン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は無水条件 で、 - 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 24時間で終了す る。 場合により中間体のアミ ド誘導体を単離した後、 パラ トルエンスルホン酸等 の酸触媒存在下に閉環させる。 目的化合物は反応液から常法により単離すること ができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製す る。
また、 一般式 〔Π1— 2〕 で表される本発明化合物は別法として、 一般式 〔III 一 6〕 で表される化合物と一般式 〔111一 7〕 で表される化合物とを反応させても 製造することができる。 溶媒として例えば酢酸又はポリ リン酸等の酸類、 ジクロ ロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチル エーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 η—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類あるいはァセ トニ ト リル、 DMF又は DMAC等の非プ 口 トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 室温から ¾媒の 沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液か ら常法により単雜することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロ マ トグラフィ一にて精製する。
また、 一般式 〔ΠΙ— 6〕 で表される化合物は一般式 〔I I一 3〕 で表される化 合物とギ酸ェチルとを塩基の存在下反応させることにより製造することができ る。 塩基として例えばトリェチルァ ミ ン、 DBU、 ビリ ジン、 ビコリ ン又はキノ リ ン等の有機ァ ϊン類あるいはナ卜 リゥ厶、 水素化ナ トリゥ厶、 ナト リウムメ 卜 キシ ド、 ナ ト リウムエトキシ ド、 カリウム t e r t—ブトキシ ド、 水酸化ナ ト リ ゥム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナト リウム、 炭酸力リゥム、 酢酸ナ ト リウム、 酢酸 カリウム、 炭酸水素ナ ト リゥム又は炭酸水素力リゥム等の無機塩基などを使用す ることができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭 素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等の エーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 アセ トン又 はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ トン類、 メタノ一ル又はエタノール等のアル コール類あるいはァセ トニ ト リル、 DM F又は DM AC等の非プロ 卜ン性極性溶 媒などを使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲 で行い、 1〜24時間で終了する。 場合により塩を単離した後、 酢酸等により酸 性にして取り出す。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
また、 一般式 〔111— 3〕 で表される化合物は別法として、 一般式 〔111一 8〕 で表される化合物と一般式 〔111— 1〕 で表される化合物とを塩基の存在下反応さ せた後、 酸で処理することにより製造することができる。 塩基として例えばリチ ゥ厶ジィソプロピルァミ ド （L D A) 、 トリェチルァミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機ァミ ン類あるいはナ トリゥ厶メ トキシ ド、 力リウ ム t e r t—ブトキシ ド、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化力リ ウム、 炭酸ナ ト リゥ ム、 炭酸力リウム、 酢酸ナト リウム、 酢酸力リウム、 炭酸水素ナ ト リゥム又は炭 酸水素力リ ゥ厶等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒として例えばジ クロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチ ルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又 はトルエン等の炭化水素類あるいはァセトニ卜 リル、 DMF又は DM AC等の非 プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 酸として例えば塩酸又は硫酸 等を使用することができる。 上記の反応は、 - 70°Cから溶媒の沸点温度の範囲 で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単 離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィー にて精製する。
また、 一般式 〔111一 8〕 で表される化合物は一般式 〔I 1—4〕 で表される化 合物を酸の存在下でェタノールと反応させることにより製造することができる。 溶媒としてはェタノ一ルを使用する。 酸として例えば塩酸又は硫酸等を使用する ことができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1 ~24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。 <製造法 3 >
Figure imgf000049_0001
〔式中、 R 3、 R4' 及び R 9はそれぞれ前記と同じ意味を表し、 R 1 7は c ~C 6アルキル基を表し、 Pは式
Figure imgf000049_0002
(式中、 R、 R l、 2及び1^ 1 9' はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） を表 す。 〕
一般式 〔 I V— 1〕 で表される本発明化合物とルイス酸とを反応させて、 一般 式 〔I V— 2〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 ルイス酸とし て例えば三臭化ホゥ素又は三塩化ァルミ二ゥム等を使用することができる。 溶媒 として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化 水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサ ン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチルェチルケ トン等 の脂肪族ケトン類、 酢酸等のカルボン酸類あるいはァセトニトリル、 DMF又は DMA C等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応 は、 ― 1 0てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了す る。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応 じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製する。
次に、 一般式 〔 I V— 2〕 で表される本発明化合物と一般式 〔 I V— 3〕 で表 される化合物、 一般式 〔 I V— 4〕 で表される化合物又は塩化ジフエ二ルョー ド ニゥム （R 9がフヱニル基の場合） とを塩基の存在下反応させるか、 あるいは一 般式 〔 I V— 5〕 で表される化合物とをァゾジカルボン酸ジェチル及び卜 リフエ ニルホスフィ ンの存在下反応させることにより、 一般式 〔 I V〕 で表される本発 明化合物を製造することができる。 塩基と して例えば 卜 リエチルァ ミ ン、 D B U、 ピリジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類あるいはナ ト リウム メ トキシ ド、 カリウム t e r t —ブトキシ ド、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リゥ 厶、 炭酸ナ トリウム、 炭酸力リゥ厶、 醉酸ナ トリウム、 酢酸力リゥ厶、 炭酸水素 ナト リウム又は炭酸水素力リウム等の無機塩基などを使用することができる。 溶 媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭 化水素類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキ サン、 ベンゼン又は卜ルェン等の炭化水素類、 ァセ 卜ン又はメチルェチルケ トン 等の脂肪族ケ トン類、 酢酸等のカルボン酸類あるいはァセ トニト リル、 D M F又 は D M A C等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応 は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目 的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再 結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
製造法 4 >
Figure imgf000050_0001
(式中、 P、 1? 3及び尺 4 はそれぞれ前記と同じ意味を表し、 ！¾ 1 8は(： 1〜 C 5アルキル基又は水素原子を表す。 ）
一般式 〔V— 1〕 で表される本発明化合物をフッ化セシウムの存在下、 閉環反 応させることにより一般式 〔V〕 で表される本発明化合物を製造することができ る。 i'容媒と して例えば N—ジェチルァニリ ン又は Ν , λ: —ジメチルァニリ ン 等の X —ジアルキルァニリ ン類を使用することができる。 上記の反応は、 室 温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目的化合 物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又 はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
製造法 5 >
〕
Figure imgf000051_0001
(式中、 P、 R 3、 R D 、 R l 7、 X及び Yはそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ）
一般式 〔V I — 1〕 で表される本発明化合物を二トロ化することにより、 一般 式 '： V I — 2〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 ニトロ化剤と して例えば硝酸もしくは発煙硝酸又は硝酸もしくは発煙硝酸と硫酸との混酸等を 使用することができる。 上記の反応は、 一 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行 い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離す ることができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィ一にて 精製する。
次に、 一般式 〔V I— 2〕 で表される本発明化合物と一般式 〔V I — 3〕 で表 される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔V I — 4 ] で表 される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナ ト リ ウム、 水 素化ナトリウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥ厶、 炭酸ナトリウム、 炭酸力 リウ厶、 炭酸水素ナトリゥム'又は炭酸水素力リゥム等の無機塩基あるいは卜リェ チルァミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを 使用することができる。 ¾媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホル厶又は四 塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン 等のエーテル類、 n -へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 ァセ ト ン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類、 酢酸等のカルボン酸類あるいは ァセ トニト リル、 D M F又は D M A C等の非プロ 卜ン性極性溶媒などを使用する ことができる。 上記の反応は、 一 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常 は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することが できる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製す る。
次に、 一般式 〔V I— 4〕 で表される本発明化合物を還元することにより、 一 般式 〔V I— 5〕 で表される本発明化合物を製造できる。 還元剤として例えば鉄 又はすず Z塩酸等を使用することができる。 溶媒として例えば酢酸等のカルボン 酸類、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 メタノール又はエタノール等のァ ルコール類あるいは水などを使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶 媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目的化合物は反応 液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラム クロマ 卜グラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔V I— 5〕 で表される本発明化合物と一般式 〔V I 一 6〕 で表 される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔V I〕 で表され る本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナト リウム、 水素化 ナト リウム、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ トリゥ厶又は炭酸力リ ゥム等の無機塩基あるいはトリェチルァミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリ ン又は キノ リ ン等の有機ァミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えばジク ロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチル エーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 ァセ 卜ン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ トン類 あるいはァセ 卜二トリル、 D M F又は D M A C等の非プロ トン性極性溶媒などを 使用することができる。 上記の反応は、 - 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行 い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離す ることができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて 精製する。
<製造法 6 >
Figure imgf000053_0001
R9-X ClV- 3] 又は RnNCO
CVIII- 1] R9S02CH3 [IV- 4]
Figure imgf000053_0002
(式中、 P、 R 3、 R 4 ' 、 R 9、 R 1 1及び Xはそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ）
一般式 〔V I 1— 1〕 で表される本発明化合物をニトロ化することにより、 一 般式 〔V I I— 2〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 ニトロ化 剤として例えば硝酸もしくは発煙硝酸又は硝酸もしくは発煙硝酸と硫酸との混酸 等を使用することができる。 上記の反応は、 — 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲 で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単 離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィ一 にて精製する。
次に、 一般式 〔V I I - 2 } で表される本発明化合物を還元することにより、 一般式 〔V I I - 3 ) で表される本発明化合物を製造することができる。 還元剤 として例えば鉄又はすず/塩酸等を使用することができる。 溶媒として例えば酢 酸等のカルボン酸類、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 メタノール又はェ タノール等のアルコール類あるいは水などを使用することができる。 上記の反応 は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目 的化合物は反応液から常法により単離することかできる。 また、 必要に I じて再 結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔V 1 1— 3〕 で表される本発明化合物と一般式 〔 I V— 3〕 又 は一般式 〔 I V— 4〕 で表される化合物とを塩基の存在下反応させることによ り、 一般式 〔V I I〕 で表される本発明化合物を製造することかできる。 塩基と して例えばナ ト リウム、 水素化ナ ト リ ウム、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化力 リ ゥ ム、 炭酸ナ ト リウム、 炭酸力リウム、 炭酸水素ナ ト リウム又は炭酸水素力リウ厶 等の無機塩基あるいはト リェチルァミ ン、 DBU、 ピリ ジン、 ビコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えばジクロロ メタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエー テル、 TH F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トル ェン等の炭化水素類、 ァセトン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ トン類ある いはァセ トニト リル、 DM F又は DMA C等の非プロ 卜ン性極性溶媒などを使用 することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常 は 1〜24時間で終了する。 一般式 〔 I V— 4〕 で表される化合物との反応の場 合、 生じたビス体をエタノール中で水酸化ナ ト リゥ厶水 ¾液により加水分解す る。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応 じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
また、 一般式 〔V I I— 3〕 で表される本発明化合物と一般式 〔VI 11— 1〕 で 表される化合物とを反応させることにより、 一般式 〔VIII〕 で表される本発明化 合物を製造することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム 又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォ キサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 ァセトン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類あるいはァセ トニトリル、 DM F又は DM AC等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上 記の反応は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了 する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に 応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
く製造法 7 >
Figure imgf000055_0001
(式中、 P、 R 3、 R 4' 、 R 9、 R 1 0、 R 1 1、 R 1 2及び xはそれぞれ前 記と同じ意味を表す。 ）
—般式 〔V I I— 1〕 で表される本発明化合物をクロロスルホン化剤と反応さ せることにより、一股式 〔I X— 1〕 で表される本発明化合物を製造することが できる。 クロロスルホン化剤として例えばクロロスルホン酸又は無水硫酸、 硫酸 及び四塩化炭素の混合液等を使用することができる。 上記の反応は、 一 1 0°Cか ら溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は 反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又は力 ラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔 I X— 1〕 で表される本発明化合物を還元することにより、一 般式 ： I X— 2〕 で表される本発明化合物を製造することかできる。 還元剤とし て例えば赤リ ンとヨウ素との混合物又は亜鉛等を使用することができる。 溶媒と して例えば酢酸等を使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点 温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常 法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜 グラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔 I X— 2〕 で表される本発明化合物をアルカリ加水分解するこ とにより、 一般式 〔 I X— 3〕 で表される本発明化合物を製造することができ る。 塩基として例えば水酸化ナ 卜リウム又は水酸化力リウム等が使用できる。 溶 媒として例えばメタノール、 エタノール、 水又はこれらの混合液等を使用するこ とができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る c また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製する。 次に、 一般式 〔 I X— 3〕 で表される本発明化合物と一般式 〔 I V— 3〕 で表 される化合物又は一般式 〔 I V— 4〕 で表される化合物とを塩基の存在下反応さ せることにより、 一般式 〔 I X〕 で表される本発明化合物を製造することができ る。 塩基として例えばナト リウム、 水素化ナト リウム、 水酸化ナ トリウム、 水酸 化力リウム、 炭酸ナト リウム、 炭酸力リウム、 炭酸水素ナ 卜リゥム又は炭酸水素 カリウム等の無機塩基あるいは ト リェチルァミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリ ン 又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えば ジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェ チルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン 又はトルエン等の炭化水素類、 ァセトン又はメチルェチルケトン等の脂肪族ケト ン類あるいはァセトニトリル、 D M F又は D M A C等の非プロ トン性極性溶媒な どを使用することができる。 上記の反応は、 一 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲 で行い、 通常は 1 〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単 離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一 にて精製する。
上記と同様の方法により、 一般式 〔 I X— 3〕 で表される本発明化合物と一般 式 i l V— 3' 〕 で表される化合物又は一般式 〔 I V— 4' ： で表される化合物 とを塩基の存; 下反応させることにより、 一般式 〔 I X， 〕 で表される本発明化 合物を製造することができる。 塩基として例えばナ ト リウム、 水素化ナ ト リゥ ム、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナト リウム、 炭酸力リゥム、 炭酸 水素ナ 卜リゥム又は炭酸水素力リゥム等の無機塩基あるいは卜 リェチルァミ ン、 DBL\ ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リン等の有機アミ ン類などを使用すること ができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等の ハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル 類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチル ェチルケ トン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァセ 卜二ト リル、 DM F又は DMA C 等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 ― 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合 物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又 はカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 U X' ) で表される本発明化合物を酸化することにより、 一般 式 〔I X''〕 で表される本発明化合物又は一般式 〔I X'''〕 で表される本発明化 合物を製造することができる。 酸化剤として例えば過酸化水素、 m—クロ口過安 息香酸、 次亜塩素酸ソーダ又は過酸化モノ硫酸カリウム （商品名ォキソン） 等が 使用できる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等 のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテ ル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ ト ン又はメチ ルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類、 ァセ トニト リル、 DMF又は DMAC等の 非プロ 卜ン性極性 ¾媒あるいはメタノール、 ェタノール又は水等のプロ トン性極 性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒の沸点温度の 範囲で行い、 通常は 1 ~24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法によ り単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜グラフ ィ一にて精製する。
また、 一般式 〔 I X— 1〕 で表される化合物と一般式 〔X— 1〕 で表される化 合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔X〕 で表される本発明化 合物を製造することができる。 塩基として例えばナ ト リウム、 水素化ナ 卜 リ ゥ ム、 水酸化ナ ト リゥム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ ト リウム、 炭酸力リゥ厶、 炭酸 水素ナ 卜 リ ゥム又は炭酸水素力リゥム等の無機塩基あるいは 卜 リェチルァミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用すること ができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等の ハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル 類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチル ェチルケ ト ン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァセ トニト リル、 D M F又は D M A C 等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 ー 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目的化合 物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又 はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
<製造法 8 >
Figure imgf000058_0001
(式中、 P、 R 3、 R 6及び Xは前記と同じ意味を表す。 ）
一般式 〔V I— 2〕 で表される本発明化合物と水硫化ナ トリウムとを反応させ ることにより、 一般式 〔X I— 1〕 で表される本発明化合物を製造することがで きる。 溶媒として例えばジクロロメ タン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロ ゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチルェチ ルケ 卜ン等の脂肪族ケ トン類、 酢酸等の酸類あるいはァセ トニ卜 リル、 D M F、 D M A C等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応 は、 - 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了す る。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応 じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I— 1〕 で表される本発明化合物を還元することにより、 一 般式 〔X I - 2 ] で表される本発明化合物を製造できる。 還元剤として例えば鉄 又はすず/塩酸等を使用することができる。 溶媒として例えば酢酸等のカルボン 酸類、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 メタノール、 エタノールなどのァ ルコール類あるいは水などを使用することができる。 上記の反応は、 室温から ¾ 媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1 ~ 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応 液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラム クロマ 卜グラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I— 2〕 で表される本発明化合物と C D I とを反応させるこ とにより、 一般式 〔X I— 3〕 で表される本発明化合物を製造できる。 溶媒とし て例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素 類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 ァセ 卜ン又はメチルェチルケ トン等の脂 肪族ケ トン類あるいはァセトニト リル、 D M F、 D M A C等の非プロ トン性極性 溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 — 1 0 °Cから溶媒の沸点温度 の範囲で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法に より単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラ フィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I— 3〕 で表される本発明化合物と一般式 〔V I— 6〕 で表 される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔X で表され る本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナ ト リウム、 水素化 ナトリウム、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナト リゥ厶又は炭酸力リ ゥム等の無機塩基あるいは 卜 リエチルァミ ン、 D B U、 ピリジン、 ピコリ ン又は キノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えばジク ロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチル エーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 ァセ トン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ トン類 あるいはァセトニト リル、 DMF、 DMAC等の非プロ トン性極性溶媒などを使 用することができる。 上記の反応は、 - 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行 い、 通常は 1〜 24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離す ることができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて 精製する。
、製造法 9 >
Figure imgf000061_0001
(式中、 P、 R 3、 R 4 , 、 R 9、 R l 1及び Xはそれぞれ前記と同じ意味を表 し、 R 2 2は c 丄 ~ c 6アルキル基、 C 2〜C 6アルケニル基又は C 3〜C 6ァ ルキニル基を表す。 ）
一般式 〔X I 1 — 1〕 で表される本発明化合物をブロモ化することにより、 一 般式 ：X I 1 - 2 ] で表される本発明化合物を製造することができる。 ブロモ化 剤として N -プロモスクシンイ ミ ド （N B S ) 等を使用することができる。 触媒 として 2 , 2 ' ーァゾビスイソプチロニ卜リルを使用し、 ¾媒として冽えば四塩 化炭素等のハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。 次に、 一般式 〔X I 1— 2〕 で表される本発明化合物を酸化することにより、 一般式 〔X I I— 3〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 酸化剤 としてナ ト リウムメ 卜キシ ドと 2—二トロプロパンより調製したもの等を使用す ることができる。 溶媒として例えばメタノール、 エタノール等のアルコール類な どを使用することができる。 上記の反 は、 場合によっては窒素気流下で一 1 0 てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合 物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又 はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I 1 - 3 ] で表される本発明化合物をヒ ドロキシルアミ ン塩 酸塩と脱水剤を使用することにより、 一般式 〔X I I〕 で表される本発明化合物 を製造することができる。 脱水剤として硫酸マグネシウム、 硫酸ナトリウム、 パ ラ トルエンスルホン酸等を使用することができる。 また、 これらを混合する場合 もある。 溶媒として例えば n—へキサン、 ベンゼン、 トルエン又はキシレン等の 炭化水素類などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気 流下で- 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了す る。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応 じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、 一般式 〔X I I〕 で表される本発明化合物を加水分解することにより、 一般式 〔Χ Π Ι' ] で表される本発明化合物を製造することができる。 酸として例 えば硫酸、 塩酸を使用することができる。 溶媒として例えばメ タノール又はエタ ノール等のアルコール類あるいは水等のプロ トン性極性溶媒などを使用すること ができる。 上記の反応は、 一 1 o °cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1 〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製する。 次に、 一般式 〔Χ Ι 1 Ι ' 〕 で表される本発明化合物と一般式 〔X U I— 1〕 で表 される化合物を塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔X I I I〕 で表される 本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナ トリウム、 水素化ナ ト リウム、 水酸化ナ トリウム、 水酸化力リゥ厶、 炭酸ナト リゥム又は炭酸力リゥ ム等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒として例えばジェチルエーテ ル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は卜ルェ ン等の炭化水素類、 ァセトン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類あるい はァセトニ ト リル、 D M F又は D M A C等の非プロ トン性極性溶媒などを使用す ることができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で一 1 0 °Cから溶媒 の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1 〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液 から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムク ロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I I— 3〕 で表される本発明化合物とヒ ドロキアミ ン塩酸塩 とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔X I V 〕 で表される本発明 化合物を製造することができる。 塩基として例えばナトリウム、 水素化ナト リゥ 厶、 水酸化ナト リウム、 水酸化力リゥム、 酢酸ナ ト リウム、 酢酸力リゥム、 炭酸 ナ トリウム又は炭酸力リウ厶等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒と して例えばベンゼン又は トルエン等の炭化水素類あるいはメタノール又はエタ ノール等のアルコール類などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によ つては窒素気流下で一 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 〜 2 4 時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単雜することができる。 ま た、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I V 〕 で表される本発明化合物と一般式 〔X I V— 1〕 で 表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔X I V〕 で表さ れる本発明化合物を製造することができる。 塩基として咧ぇは 'ナ トリウム、 水素 化ナ 卜リゥ厶、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リ ゥ厶、 炭酸ナ ト リゥム又は炭酸力 リゥ厶等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒と して例えはジェチル エーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n-へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 ァセ トン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ 卜ン類 あるいはァセ トニトリル、 DMF又は DMA C等の非プロ トン性極性溶媒などを 使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で— 10。Cか ら溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は 反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又は力 ラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
また、 別法と して一般式 〔X I 1 — 3〕 で表される本発明化合物と一般式 〔X I V- 2) で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔X I V〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えば ナトリウム、 水素化ナ ト リウム、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リゥ厶、 酢酸ナ ト リウム、 酢酸力リウム、 炭酸ナ ト リゥム又は炭酸力リウム等の無機塩基などを使 用することができる。 溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あ るいはメタノール又はエタノール等のアルコール類などを使用することができ る。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で - 10°Cから溶媒の沸点温度の 範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法によ り単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフ ィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I I— 2〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XV— 1〕 で 表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔XV〕 で表され る本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナ ト リウム、 水素化 ナトリウム、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リウム、 炭酸ナ トリゥ厶又は炭酸力リ ゥム等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒として例えばジェチルエー テル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トル ェン等の炭化水素類、 ァセ 卜ン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ 卜ン類ある いはァセ 卜ニト りル、 DMF又は DMAC等の非プロ 卜ン 14極性溶媒などを使用 することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で - 1 0てから溶 媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応 液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラム クロマトグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I 1 - 3] で表される本発明化合物と一般式 〔XV 1 - 1] 又は一般式 〔XV 1 - 2] で表される化合物を反応させることにより、 一般式 〔XV I— 3〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 溶媒として例 えばジェチルエーテル、 TH F又はジォキサン等のエーテル類、 η —へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類などを使用することができる。 上記の反応 は、 場合によっては窒素気流下で— 10°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通 常は 1〜 24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離すること ができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製す る o
次に、 一般式 〔XV I一 3〕 で表される本発明化合物をジメチルスルホキシ ド (DM S O) と塩化ォキザリルと反応させた後、 塩基を加えることにより酸化 し、 一般式 〔XV I〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 塩基と して トリェチルァミ ン、 DBU、 ピリジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロロホ ルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。 上 記の反応は、 場合によっては窒素気流下で - 80°Cから溶媒の沸点温度の範囲で 行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離 することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜グラフィ一に て精製する。
次に、 一般式 〔XV I〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XV I一 3〕 で表 される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式 〔XV Γ 〕 で表さ れる本発明化合物を製造することかできる。 塩基として例えばナ ト リ ウム、 水素 化ナトリウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化力リゥム、 酢酸ナ ト リウム、 酢酸力リ ゥム、 炭酸ナ卜 リウム又は炭酸力リ ゥム等の無機塩基などを使用することができ る。 ¾媒として例えばベンゼン又は トルエン等の炭化水素類あるいはメタノール 又はエタノール等のアルコール類などを使用することができる。 上記の反^は、 場合によっては窒素気流下で- 1 o°cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することがで きる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ卜グラフィ一にて精製する。 製造法 10 >
COOR10
Figure imgf000066_0001
[VII- 3] [XVII - 1]
(式中、 P、 R 3、 R ' 及び R 1 0は前記と同じ意味を表す。 、
一般式 〔V I 1 -3) で表される本発明化合物を亜硝酸 t e r t一ブチルと塩 化銅 （ I I) を反応させジァゾ化した後、 一般式 〔XV I 1— 1〕 で表される化 合物と反応させることにより、 一般式 〔XV I I〕 で表される本発明化合物を製 造することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩 化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等 のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはァ セトニト リル、 DMF又は DMAC等の非プロ 卜ン性極性 ¾媒などを使用するこ とができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で一 10 から溶媒の沸 点温度の範囲で行い、 通常は 1 ~24時間で終了する。 目的化合物は反応液から 常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製する。
Figure imgf000067_0001
〔XVIII〕 CH2Rl8
(式中、 P、 R 3、 R4' 及び R 1 8はそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ） 一般式 〔XVIII— 1〕 で表される本発明化合物をフッ化セシウムの存在下、 閉 環反応させることにより一般式 〔XVIII〕 で表される本発明化合物を製造するこ とができる。 溶媒として例えば Ν, Ν—ジェチルァニリ ン又は Ν, Ν—ジメチル ァニリ ン等の Ν， Ν—ジアルキルァニリン類を使用することができる。 上記の反 応は、 室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1 ~24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて 再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
く製造法 1 2 >
Figure imgf000067_0002
(式中、 Q' 、 R 1 3 R 1 4、 R 23及び R 24はそれぞれ前記と同じ意味を 表す。 ）
一般式 〔X I X— 1〕 で表される本発明化合物を一般式 〔X I X— 2〕 で表さ れる化合物とを場合によってはルイス酸を使用し反応させることにより、 一般式 〔X I X： で表される本発明化合物を製造することができる。 ルイス酸としてパ ラ トルエンスルホン酸又は四塩化チタンを使用することができる。 溶媒として例 えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベン ゼン又は トルエン等の炭化水素類あるいはァセ 卜二 卜リル、 DM F又は DM AC 等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 一 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合 物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又 はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X I X— 1〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XX - 1〕 で 表される化合物とを場合によっては塩基の存在下反応させることにより、 一般式
〔XX〕 で表される本発明化合物又は一般式 〔X I X''〕 で表される本発明化合 物を製造することができる。 塩基として例えばナトリウム、 水素化ナ ト リウム、 水酸化ナ ト リウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ トリウム又は炭酸力リゥム等の無機 塩基あるいはト リェチルァミ ン、 DBU、 ピリジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の 有機ァミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等 の炭化水素類、 ァセ 卜ン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァ セ トニ卜 リル、 DMF、 DMA C等の非プロ トン性極性溶媒などを使用すること ができる。 上記の反応は、 - 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1 〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。 次に、 一般式 〔XX〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XX - 2〕 で表され る化合物とを場合によつては塩基の存在下反応させるこ とによ り、 一般式 (XX '〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナ ト リウム、 水素化ナトリウム、 水酸化ナト リウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ 卜 リ ゥ厶又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリェチルァミ ン、 DBU、 ピリ ジ ン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用することができる。 溶媒 として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化 水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n _へキサ ン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチルェチルケ トン等 の脂肪族ケ トン類あるいはァセ トニ卜 リル、 DMF、 DMAC等の非プロ トン性 極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 一 1 0°Cから溶媒の沸点 温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常 法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜 グラフィ一にて精製する。
く製造法 1 3 >
〔
Figure imgf000069_0001
(式中、 P、 R 3、 R 6及び Xはそれぞれ前記と同じ意味を表す。 ）
—般式 〔XX 1— 1〕 で表される本発明化合物をチオシアン酸アンモニゥムと 反応させることにより、 一般式 〔XX 1 - 2〕 で表される本発明化合物を製造す ることができる。 溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 酢酸 等の酸類あるいはメタノール又はエタノール等のアルコール類を使用することが できる。 上記の反応は、 一 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製する。 次に、 一般式 〔XX 1 - 2〕 で表される本発明化合物を臭素又は塩化スルフリ ルと反応させることにより、 一般式 〔XX 1 — 3〕 で表される本発明化合物を製 造することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロロホルム又は四塩 化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等 のエーテル類、 n -へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 酢酸等の 酸類、 ァセ トン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァセ トニ 卜 リル、 DMF、 DMAC等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができ る。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で— 10°Cから溶媒の沸点温度の 範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法によ り単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフ ィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XX 1— 3〕 で表される本発明化合物をジァゾ化を行なった 後、 場合によっては硝酸銅 （ 1 1) 、 酸化銅 （I ) などの触媒を使用することに より加水分解して、 一般式 〔XX 〕 で表される本発明化合物を製造すること ができる。 ジァゾ化剤として例えば亜硝酸ナ 卜リウムを使用し、 溶媒として例え ば酢酸、 塩酸、 硫酸、 水又はそれらの混合物を使用することができる。 上記の反 応は、 - 】 0てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了す る。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応 じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XX Γ 〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XX I—4〕 で 表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔XX I〕 で表 される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナ ト リウム、 水 素化ナト リウム、 水酸化ナト リウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ 卜 リウム又は炭酸 カリウム等の無機塩基あるいはトリェチルァミ ン、 DBU、 ピリ ジン、 ピコリ ン 又はキノ リ ン等の有機ァミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えば ジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェ チルエーテル、 丁 HF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン 又はトルエン等の炭化水素類、 ァセ トン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ ト ン類あるいはァセ トニトリル、 DMF、 DMAC等の非プロ トン性極性溶媒など を使用することができる。 上記の反応は、 ― 10°Cから溶媒の沸点温度の範囲で 行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離 することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一に て精製する- く製造法〗 4 >
Figure imgf000071_0001
(式中、 P、 R3、 R 4' 及び R 18は前記と同じ意味を表し、 R 25は水素原 子又はアルキル基を表す。 ）
一般式 〔XX I I— 1〕 で表される本発明化合物をブロモ化することにより、 一般式 〔XX I 1 - 2} で表される本発明化合物を製造することができる。 プロ モ化剤として例えば NB S等を使用することができる。 触媒として例えば 2， 2' ーァゾビスイソプチロニトリルを使用することができる。 溶媒として例えば 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。 上記の反応 は、 場合によっては窒素気流下で一 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通 フ 0
常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離すること ができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製す る c
次に、 一般式 〔XX I I— 2〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XX I I一 3〕 で表される化合物を塩基の存在下反応させる こ とによ り 、 一般式 〔XX I I〕 で表される本発明化合物を製造することかできる。 塩基として例え ばナ トリウム、 水素化ナ トリウム、 水酸化ナ トリウム、 水酸化力リゥ厶、 炭酸ナ 卜リ ウ厶又は炭酸力リゥム等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒とし て例えばジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサ ン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチルェチルケ ト ン等 の脂肪族ケ トン類、 ァセ トニト リル、 DMF又は DMA C等の非プロ ト ン性極性 溶媒あるいは過剰の一般式 〔XX I 1 - 3) で表される化合物を使用することが できる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で- 1 0°Cから溶媒の沸点温 度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法 により単雜することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグ ラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XX I I〕 で表される本発明化合物を三臭化ホウ素と反応させ ることにより、 一般式 〔XX I I ' 〕 で表される本発明化合物を製造することが できる。 溶媒として例えばジクロロメ タン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハ ロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル 類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチル ェチルケトン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァセ トニト リル、 DMF又は DMA C 等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 場合に よっては窒素気流下で- 70°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製する。 次に、 一般式 〔XX I 1— 2〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XXIII— 1〕 で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔XXIII〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナ 卜 リ ゥ ム、 水素化ナ ト リ ウム、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化力リ ゥム、 炭酸ナ ト リ ウム又 は炭酸力リ ゥ厶等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒として例えばジ ェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼ ン又はトルエン等の炭化水素類、 ァセ トン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァセ トニトリル、 DMF又は DMAC等の非プロ 卜ン性極性 ¾媒 などを使用することができる。 上記の反応は、 一 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範 囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により 単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムク ロマ トグラフ ィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XXIII〕 で表される本発明化合物を酸化することにより、 一般 式 〔ΧΧΙΙΓ 〕 で表される本発明化合物又は一般式 〔XXII '〕 で表される本 発明化合物を製造することができる。 酸化剤として例えば過酸化水素、 m -クロ 口過安息香酸、 次亜塩素酸ナ 卜 リウム又は過酸化モノ硫酸力リゥム （商品名ォキ ソン） 等が使用できる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四 塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン 等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 ァセ ト ン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類、 ァセ トニ 卜 リル、 DMF又は DMAC等の非プロ トン性極性溶媒あるいはメタノール、 エタノール又は水等の プロ ト ン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 室温から溶媒 の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液 から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムク ロマ 卜グラフィ一にて精製する。
製造法 1 5 >
Figure imgf000074_0001
')
Figure imgf000074_0002
(式中、 P、 R 3、 R ' 及び R 10は前記と同じ意味を表す。 ）
一般式 〔XX I V— 1〕 で表される本発明化合物をブロモ化することにより、 —般式 〔XX I V - 2〕 で表される本発明化合物又は一般式 〔XX V— 1〕 で表 される本発明化合物を製造することができる。 ブロモ化剤として例えば NB Sを 使用することができる。 触媒として例えば 2, 2' -ァゾビスイソプチロニトリ ルを使用することができる。 溶媒として例えば四塩化炭素等のハロゲン化炭化水 素類などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で ― 1 0てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目 的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再 フ 3
结晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
一般式 〔XX I V— 2〕 で表される本発明化合物を酸処理することにより、 一 般式 ：XX I V— 3〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 酸とし ては硫酸、 塩酸を使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気 流下で - 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了す る。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応 じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
—般式 〔XX I V— 3〕 で表される本発明化合物を酸化することにより、 一般 式 〔XX I V 〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 酸化剤とし てはジョ一ンズ試薬 （C r〇 3— H2 S04) を使用することができる。 溶媒と して例えばァセトン等のケ 卜ン類などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で - 20°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することがで きる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製する。 一般式 〔XX I V' 〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XX I V - 4 j で表 される化合物とを触媒の存在下反応させることにより、 一般式 〔XX I V〕 で表 される本発明化合物を製造することができる。 触媒としては硫酸、 パラ トルエン スルホン酸等を使用することができる。 また、 溶媒として一般式 〔XX I V—
4〕 で表される化合物を使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては 窒素気流下で - 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で 終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必 要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
一般式 〔XX I V 〕 で表される本発明化合物を場合によっては銅などの触媒 を使用し脱炭酸させることにより、 一般式 〔XXV I〕 で表される本発明化合物 を製造することができる。 溶媒として例えばキノ リ ンなどの塩基性 ' 媒を使用す るか又は無溶媒で行うことができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下 で 1,00°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて 再結晶又はカラムクロマ 卜グラフィ一にて精製する。 フ 4
一 ¾式 ：χχν— ι〕 で表される本発明化合物をフッ素化剤反) 'させることに より、 一般式 〔xxv〕 で表される本発明化合物製造することができる。 フッ素 化剤として例えばフッ化カリゥムを使用することができる。 溶媒として例えばァ セ トニト リル、 DMF又は DMAC等の非プロ トン性極性溶媒などを使用するこ とができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で一 10°Cから溶媒の沸 点温度の範囲で行い、 通常は〗〜 24時間で終了する。 目的化合物は反応液から 常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
製造法 1 6 >
Figure imgf000077_0001
〔XXVII， '〕
(式中、 Q' は前記と同じ意味を表し、 R 2 6は c i〜C 6アルキル基を表 す。 ）
一般式 〔I 1—4〕 で表される本発明化合物を塩化チォニルと反応させること により、 一般式 〔XXV I I— 1〕 で表される本発明化合物を製造することがで きる。 溶媒として例えばジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル 類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ ト ン又はメチル ェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類あるいはァセトニ ト リル、 DMF又は DMAC 等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することかできる。 また、 塩化チォニルを 溶媒として使用することもできる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で 一 1 0てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 24時間で終了する。 目 的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再 結晶又はカラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XXV 1 1— 1〕 で表される化合物と一般式 〔XXV I I 一 2〕 で表される化合物とを場合によっては塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔XXV 1 1 - 33 で表される化合物を製造することができる。 塩基とし て例えばナ トリウム、 水素化ナトリウム、 水酸化ナ トリウム、 水酸化力リゥ厶、 炭酸ナ ト リ ゥム又は炭酸力 リ ゥム等の無機塩基あるいは 卜 リェチルァ ミ ン、 DBじ、 ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用すること ができる。 塩基として例えばナ ト リ ウム、 水素化ナ ト リウム、 水酸化ナ 卜 リ ゥ ム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ トリウム又は炭酸力リゥム等の無機塩基あるいは 卜 リエチルァミ ン、 DBU、 ピリ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類な どを使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又 は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキ サン等のェ一テル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 ァ セ ト ン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類あるいはァセ トニ ト リル、 DMF、 DMAC等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記 の反応は、 場合によっては窒素気流下で— 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行 い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離す ることができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ 卜グラフィ一にて 精製する。
次に、 一般式 〔XXV I 1 - 3) で表される化合物を LD Aと反応させること により、 一般式 〔XXV 1 1 — 4〕 で表される化合物を製造することができる。 ί容媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化 炭化水素類、 ジェチルエーテル、 TH F又はジォキサン等のエーテル類、 η—へ キサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセトン又はメチルェチルケ 卜 ン等の脂肪族ケ トン類あるいはァセ 卜二ト リル、 DMF、 DMA C等の非プロ 卜 フフ
ン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素 気流下で— 80 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜 24時間で終了 する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に 応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製する。
次に、 一般式 ：XXV I 1 -4] で表される化合物をォキシ塩化リ ンと反応さ せることにより、 一般式 〔XXV I I〕 で表される本発明化合物及び一般式 〔XXVIII〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 溶媒として例え ばジェチルァニリ ン、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲ ン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 η —へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチルェチル ケ トン等の脂肪族ケトン類あるいはァセトニトリル等の非プロ トン性極性溶媒な どを使用することができる。 また、 ォキシ塩化リ ンを溶媒としても使用すること ができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で- 10°Cから溶媒の沸点 温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常 法により単雜することができる。 また、 必要に応じて再結晶、 カラムクロマ トグ ラフィ一又は液体カラムクロマ トグラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XXV I I〕 で表される化合物をフッ化カリウムと反応させる ことにより、 一般式 〔XXV I Γ 〕 で表される本発明化合物を製造することが できる。 溶媒として例えばジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテ ル類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類あるいはァセ トニト リル、 DMF、 DMA C等の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができ る。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で - 10°Cから ¾媒の沸点温度の 範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法によ り単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフ ィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XXV I I〕 で表される化合物をシアン化カリウムと反応させ ることにより、 一般式 〔XXV I I ''〕 で表される本発明化合物を製造すること ができる。 溶媒として例えばジェチルェ一テル、 THF又はジォキサン等のエー テル類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはァセ トニ トリル、 D M F、 D M A C又は D M S 0等の非プロ トン性極性溶媒などを使用す ることができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で— 10てから ¾媒 の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液 から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムク 口マ トグラフィ 一にて精製する。
次に、 一般式 〔X X V I 1 — 4〕 で表される本発明化合物と一般式 〔XXV I 1— 5〕 で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔XXVIII'〕 で表される本発明化合物及び一般式 〔XXV I I で表 される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナト リウム、 水 素化ナ ト リ ウム、 水酸化ナト リ ウム、 水酸化力 リ ゥム、 炭酸ナ 卜 リ ゥム又は炭酸 力リゥム等の無機塩基などを使用することができる。 溶媒として例えばジェチル エーテル、 TH F又はジォキサン等のエーテル類、 η -へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 ァセ 卜ン又はメチルェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類 あるいはァセ トニ トリル、 DMF、 DMAC又は DMS 0等の非プロ 卜ン性極性 溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 場合によっては窒素気流下で - 10てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜48時間で終了する。 目 的化合物は反応液から常法により単雜することができる。 また、 必要に応じて再 結晶、 カラムクロマ 卜グラフィ一又は液体カラムクロマ トグラフィ 一にて精製す る。
- 1〕
Figure imgf000081_0001
(式中、 P、 R3、 R6、 R 17、 R 21及び Xはそれぞれ前記と同じ意味を表 す。 ）
一般式 〔XXI X— 1〕 で表される本発明化合物を三臭化ホウ素と反応させる ことにより、 一般式 〔XX I X— 2〕 で表される本発明化合物を製造することが できる。 ¾媒として例えばジクロロメ タン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハ ロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 TH F又はジォキサン等のエーテル 類、 n—へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ ト ン又はメチル ェチルケ ト ン等の脂肪族ケ 卜ン類あるいはァセ 卜二 ト リル、 D M F又は D M A C 等の非プロ 卜ン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 場合に よっては窒素気流下で- 7 0 °Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1 〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離することができ る。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製する。 次に、 一般式 〔X X I X— 2〕 で表される本発明化合物と一般式 〔X X I X— 3〕 で表される化合物とを塩基の存在下反応させる こ とによ り、 一般式
〔X X I X— 4〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 塩基として 例えばナ ト リウム、 水素化ナトリウム、 水酸化ナ トリウム、 水酸化力リウ厶、 炭 酸ナ ト リ ウム又は炭酸カ リ ゥム等の無機塩基あるいは ト リ ェチルァ ミ ン、 D B U、 ピリ ジン、 ピコリン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用すること ができる c 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等の ハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル 類、 n—へキサン、 ベンゼン又は トルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチル ェチルケ トン等の脂肪族ケ トン類あるいはァセ トニトリル、 D M F、 D M A C等 の非プロ トン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 _ 1 0 °C から溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜2 4時間で終了する。 目的化合物 は反応液から常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又は カラムクロマ 卜グラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔X X I X— 4〕 で表される本発明化合物を還元剤と反応させる ことにより、 一般式 〔X X I X， 〕 で表される本発明化合物を製造することがで きる。 還元剤として例えば鉄粉、 スズなどを使用し、 場合によっては塩酸を使用 する。 溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 酢酸ェチル又は 酢酸メチル等のエステル類、 酢酸等の酸類、 メタノール又はエタノール等のアル コール類あるいは水を使用することができる。 また、 場合によってはこれらを混 合して ί吏用することができる。 上記の反応は、 ― 1 0 °Cから溶媒の沸点温度の範 囲で行い、 通常は 1〜 2 4時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により 単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフ ィ一にて精製する。 次に、 一般式 〔XX I X' j で表される本発明化合物と一般式 〔XX I X— 5 j で表され.る化合物とを塩基の存在下反応させるこ とによ り 、 一般式 〔XX I X〕 で表される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例え ばナ ト リ ウム、 水素化ナ ト リ ウム、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナ ト リウム又は炭酸カリ ウム等の無機塩基あるいはト リェチルァ ミ ン、 DBU、 ピ リ ジン、 ピコリ ン又はキノ リ ン等の有機アミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化 炭化水素類、 ジェチルエーテル、 THF又はジォキサン等のエーテル類、 n—へ キサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセトン又はメチルェチルケ 卜 ン等の脂肪族ケ トン類あるいはァセ トニト リル、 DMF、 DMA C等の非プロ 卜 ン性極性溶媒などを使用することができる。 上記の反応は、 ― 1 0°Cから溶媒の 沸点温度の範囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液か ら常法により単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロ マ 卜グラフィ一にて精製する。
次に、 一般式 [XX I X— 2〕 で表される本発明化合物を還元剤と反応させる ことにより、 一般式 〔XXX— 1〕 で表される本発明化合物を製造することがで きる。 還元剤として例えば鉄粉、 スズなどを使用し、 場合によっては塩酸を使用 する。 溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 酢酸ェチル又は 酔酸メチル等のエステル類、 酢酸等の酸類、 メタノール又はエタノール等のアル コール類あるいは水を使用することができる。 また、 場合によってはこれらを混 合して使用することができる。 上記の反応は、 ー 10°Cから溶媒の沸点温度の範 囲で行い、 通常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により 単離することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフ ィ一にて精製する。
次に、 一般式 〔XXX— 1〕 で表される本発明化合物を CD Iと反応させるこ とにより、 一股式 〔ΧΧΧ' ) で表される本発明化合物を製造することができ る。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲ ン化炭化水素類、 ジェチルェ一テル、 TH F又はジォキサン等のエーテル類、 η 一へキサン、 ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、 アセ トン又はメチルェチル ケ トン等の脂肪族ケ トン類、 メ タノール又はエタ ノール等のアルコール類あるい はァセトニ ト リル、 DMF又は DMAC等の非プロ ト ン性極性溶媒などを使用す ることができる。 上記の反応は、 - 1 0てから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通 常は 1〜 24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単離すること ができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィーにて精製す る。
次に、 一般式 〔ΧΧΧ' 〕 で表される本発明化合物と一般式 〔ΧΧΧ— 2〕 で 表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、 一般式 〔XXX〕 で表 される本発明化合物を製造することができる。 塩基として例えばナト リウム、 水 素化ナト リウム、 水酸化ナト リウム、 水酸化力リゥ厶、 炭酸ナト リゥム又は炭酸 カリウム等の無機塩基あるいは卜リエチルァミ ン、 DB U、 ピリ ジン、 ピコリ ン 又はキノ リ ン等の有機ァミ ン類などを使用することができる。 溶媒として例えば ジクロロメタン、 クロ口ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、 ジェ チルエーテル、 T H F又はジォキサン等のエーテル類、 n—へキサン、 ベンゼン 又はトルエン等の炭化水素類、 ァセ トン又はメチルェチルケ 卜ン等の脂肪族ケ ト ン類あるいはァセトニト リル、 DMF、 DMAC等の非プロ トン性極性溶媒など を使用することができる。 上記の反応は、 一 1 0°Cから溶媒の沸点温度の範囲で 行い、 通常は 1 ~24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単雜 することができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマ トグラフィ一に て精製する。
^製造法 1 8 >
Figure imgf000084_0001
(式中、 尺 3及び1¾ 4' はそれぞれ前記と同じ意味を表し、 R s' は C i ~C 6 アルコキシ基、 C 3 ~C 6アルキニルォキシ基、 C 3〜 C 6アルケニルォキシ 基、 C ~C 6アルキル基を表す。 ） 一般式 ：XXX I— 1〕 で表される化合物とメ トキシメチルクロリ ドとをルイ ス酸の存在下反応させることにより、 一般式 〔XXX I〕 で表される本発明化合 物を製造することができる。 ルイス酸としては例えば四塩化チタン又は塩化アル ミニゥ厶等を使用することができる。 溶媒として例えばジクロロメタン、 クロ口 ホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類あるいはジェチルエーテル、
THF又はジォキサン等のエーテル類などを使用することができる。 上記の反応 は、 場合によっては窒素気流下で一 10°Cから溶媒の沸点温度の範囲で行い、 通 常は 1〜24時間で終了する。 目的化合物は反応液から常法により単雜すること ができる。 また、 必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製す る 0
[発明を実施するための最良の形態]
次に、 実施例を挙げて本発明化合物の製造法、 製剤法及び用途を具体的に説明 する。 しかしながら、 本発明はこれらに限定されるものではない。 まず、 本発明 化合物の具体的製造例を記載する。 製造例 1
5— （4—クロロー 2—フルオロー 5—イソプロボキシフヱニル） 一 3—ェトキ シカルボニル— 2— ト リフルォロメチルー 4 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 6 — 57) の製造
4—クロロー 2—フルオロー 5—イソプロポキシベンジルブロ ミ ド （中間体番号 1 5 - 1) の製造
4一クロロー 2—フルオロー 5—ィソプロポキシベンジルアルコール 1 24 g (0. 56 mo 1 ) をジェチルェーテル900m lに溶解し、 三臭化リン 55 g (0. 2 Omo 1 ) を氷冷下これに滴下した。 室温で 3時間撹拌した後、 氷水中 にあけジェチルエーテルで抽出した。 水、 炭酸水素ナ卜リゥム水溶液で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 ジェチルエーテルを減圧下にて留去 して目的物 143 g (収率 89%) を得た。 4一クロロー 2—フルォロー 5—イ ソプロボキシフェニルァセ トニト リノレ （中間 体番号 1 5 - 2 ) の製造
シアン化ナト リウム 2 6 g (0. 53mo l ) を DMF 700m l に溶解し、 4—クロロー 2—フルオロー 5—イ ソプロポキシベンジルブ□ ミ ド 1 4 3 (0. δ Omo 1 ) を室温でこれに滴下した。 室温で 8時間攬拌した後、 水中に あけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操 した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去して目的物 1 07 g (収率 92%) を得た。
4一クロロー 2—フルオロー 5—ィソプロポキシフエニル酢酸 （中間体番号 1 5 一 3 ) の製造
4一クロロー 2—フルォロー 5—イ ソプロポキシフエ二ルァセ トニ ト リル 1 07 g ( 0. 47 m o 1 ) をエタノール 400m lに溶解し、 水酸化力リウム 1 00 g (1. 78mo 1 ) を加え 1時間還流した。 ェタノールを減圧下にて留 去した後、 得られた残渣を水中にあけジェチルエーテルで洗浄した後、 クェン酸 で酸性としてから酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネ シゥムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶をジィ ソプロピルエーテルで洗浄して目的物 70 g (収率 6 1 %) を得た。 融点 75〜 76°C
1 H - M R (300MH z、 CDC I 3) <5値： 1. 35 ( 6 H, d) 、 3. 66 (2H, s) 、 4. 4 5 ( 1 H, m) 、 6. 84 ( 1 H， d) 、 7. 1 6 ( 1 H， d) p pm
4—クロロー 2—フルォロ一 5—イソプロポキシフエ二ルァセ ト酢酸ェチル （中 間体番号 1 5— 4) の製造
4 -クロロー 2—フルオロー 5—イソプロボキシフエ二ル酢酸 47 g ( 0. 1 9mo l ) を THF 300m lに溶解し、 CD I 34 g (0. 2 1 mo l ) を 加え室温で 3時間撹拌した。 この反応溶液にマロン酸モノエチルカリウム 50 g CO. 29 m o 1 ) 及び無水塩化マグネシゥム 28 g ( 0. 29 m 0 1 ) を加え 60°Cで 3時間搜拌した。 THFを減圧下にて留去した後、 得られた残渣を水中 にあけ、 1 N塩酸で p H 1としてから酢酸ェチルで抽出した。 水、 炭酸水素ナ 卜 リゥム水溶液で洗净後、 有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾操した。 酢酸ェチル を減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶を n -へキサンで洗浄して目的物 35 g (収率 58 %) を得た。 融点 57 ~ 58 °C
1 H-NMR (300MH z、 CD C 1 3) 5値： 1. 28 (3 H, t) 、 1. 35 (6 H， d) 、 3. 5 1 ( 2 H, s) 、 3. 8 2 (2 H, s ) 、 4. 1 9
( 2 H, t ) 、 4. 4 7 ( 1 H, m) 、 6. 7 7 ( 1 H, d ) 、 7. 1 2
( 1 H， d) p pm
4一アミノー 1 _ (4一クロロー 2—フルオロー 5—ィソプロポキシフヱニル） 一 3—エトキシカルボ二ルー 5, 5, 5— ト リフルオロー 3—ペンテン _ 2—ォ ン （中間体番号 1 5— 7) の製造
エタノール 400 m 1に 4—クロロー 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエ 二ルァセ ト酢酸ェチル 35 g ( 0. l l mo l ) 、 酢酸ナ ト リウム 1 1 g (0. 1 3 mo 1 ) を加え、 加熱還流下ト リフルォロアセ トニト リル [ト リフルォロア セ トア ミ ド 8 4 g ( 0. 6 8 m o l ) 及び五酸化二リ ン 9 6 g ( 0. 68 mo 1 ) をトルエン中で加熱還流させて発生させた。 ] を吹き込みながら 6 時間攬拌した。 エタノールを減圧下にて留去した後、 得られた残渣を水中にあけ 酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操し た。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶をジイソプロピルエー テル、 n—へキサンで洗浄して目的物 22 g (収率 48%) を得た。 融点 58〜 59°C
1 H-NMR (300MH z、 CDC 1 3) S値： 1. 28 (6 H, d) 、 1.
35 (3 H, t ) 、 3. 5 1 ( 2 H, s) 、 3. 83 ( 2 H, s ) 、 4. 2 0 (2 H, q) 、 6. 77 ( 1 H, d) 、 7. 1 3 ( 1 H, d ) p pm
4—ァセ トキシー 5— (4—クロロー 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエ二 ル） 一 2— ト リフルォロメチルニコチン酸ェチル （中間体番号 1 6— 4) の製造
4—アミ ノー ； I一 （4一クロロー 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエ二 ル） 一 3—ェ 卜キシカルボ二ルー 5， 5 , 5 , ー 卜 リ フルオロー 3—ペンテン一 2—オン 22 g (53 mm o l ) 、 オルトギ酸ェチル 1 5 g ι 1 0 1 mmo 1 ) を無水酢酸 1 00m lに溶解し、 加熱還流下 8時間攬拌した。 無水酢酸を減圧下 にて留去した後、 得られた残渣を熱水中にあけ 1時間撹拌した後、 酢酸ェチルで 抽出した。 水、 炭酸水素ナ卜リウム水溶液で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシ ゥムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去して目的物 23 g (収率 92%) を得た。
5 - (4一クロロー 2—フルオロー 5—イソプロボキシフヱニル） 一 3—ェ トキ シカルボ二ルー 2— ト リ フルォロメチル— 4 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 6 - 57 ) の製造
4ーァセ トキシ一 5— （4一クロ口一 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエ ニル） 一 2—ト リ フルォロメチルニコチン酸ェチル 23 g ( 50 mm o 1 ) をェ タ ノ 一ル 3 0 m 1 に溶解し、 水酸化力 リ ウム 6 g ( 1 0 7 mm o l ) 、 水 1 5m lを加え 60°Cで 1時間撹拌した。 エタノールを減圧下にて留去した後、 得られた残渣を水中にあけクェン酸で酸性としてから酢酸ェチルで抽出した。 水 で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて 留去して目的物 20 g (収率 95%) を得た。 融点 1 1 8 ~ 1 1 9 °C
1 H-NMR (300MH z、 CDC 1 3) S値： 1. 38 ( 6 H, d) 、 1.
46 ( 3 H, t ) 、 4. 54 ( 2 H, q) 、 6. 98 ( 1 H, d) 、 7. 2 6 ( 1 H, d) 、 8. 54 ( 1 H, s ) 、 1 1. 66 ( 1 H, s ) p p m 製造例 2
5— （4一クロロー 2—フルオロー 5—イソプロポキシフヱニル） 一 3—ェ トキ シカルボ二ルー 1ーメチルー 2— ト リ フルォロメチルー 4 ( 1 H) —ピリ ドン
(化合物番号 6 - 42) の製造
5— （4一クロロー 2—フルオロー 5—イソプロボキンフエニル） 一 3—エト キシカルボ二ルー 2— ト リ フルォロメ チルー 4 ( 1 H) 一ピ リ ドン 2 0 g (47 mo 1 ) を DMF 1 50m lに溶解し、 氷冷下で 60 %水素化ナト リウム 2. 1 g (5 3 mm o 1 ) を加え、 室温で 1 5分間撹拌した後、 ヨウ化メチル 1 4 g (9 9 mmo 1 ) を加えた。 室温で 8時間撹拌した後、 水中にあけ酢酸ェ チルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸 ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ フィ—で精製して目的物 6 g (収率 2 8%) を得た。 融点 1 7 0~ 1 7 2°C 1 H-NMR (4 00MH z、 CDC 1 3) <5値： 1. 4 0 (9 H, m) 、 3. 8 5 ( 3 H, s ) 、 4. 4 0 ( 2 H, q) 、 4. 5 1 ( 1 H, m) 、 7. 1 7 (1 H, d) 、 7. 4 0 (1 H, d) 、 7. 6 3 ( 1 H, s) p pm 製造例 3
5 - (4一クロ口一 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエニル） 一 1 一メチル 一 2— トリフルォロメチル— 4 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 6— 7) の製造 5 - (4—クロロー 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエニル） 一 3—エ ト キシカルボ二ルー 1ーメチルー 2— トリフルォロメチル一 4 ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 7 g ( 1. 6 mm o l ) 、 塩化ナトリウム 1 5 g (2. 5mmo l ) 及 び水 0. 1 m 1 をジメチルスルホキシ ド 5 m 1 に加え、 1 90°Cで 3時間撹拌し た。 冷却後、 この反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有 機層を無水硫酸マグネシゥムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリ力ゲルカラ厶クロマ トグラフィ一で精製して目的物 0. 1 0 g (収率 1 7 %) を得た。 融点 1 50〜 1 5 1 °C 製造例 4
5 - ( 2, 4ージクロ口フエニル） 一 1—メチルー 2— トリフルォロメチル一 4 C 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 6— 3) の製造
5— （2, 4—ジクロロフヱニル） 一 3—エトキシカルボ二ルー 1 ーメチルー 2— トリフルォロメチルー 4 ( 1 H) —ピリ ドン 4. 1 g ( 1 0. 4 mmo 1 ) をジクロロメタン 1 0 0m l に溶解し、 ― 6 0°Cに冷却下 3 N三臭化ホウ素ジク ロロメタン溶液 1 0m 1を滴下した。 室温で 3時間撹拌した後、 氷水にあけ析出 した結晶をろ集した後、 水で洗浄した。 これを減圧乾燥して粗結晶を得た。 キノ リ ン 5 Om 1にこの粗結晶及び銅 0. 04 g (0. 6 mm o'l ) を加え、 1 70 てで 1時間撹拌した。 この反応溶液を水中にあけ析出した粗結晶をろ集した。 こ の粗結晶を少量の DMFに溶解し、 不溶物をろ過した後、 ろ液を水中にあけ析出 した結晶をろ集した。 水で結晶を洗浄後、 これを乾燥して目的物 0. 9 g (収率
26 %) を得た。 融点 205〜 206 CC 製造例 5
3— （2, 4—ジフルオロフェニル） 一 1一メチル一 6— トリフルォロメチル一
2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1一 1 2 ) の製造
3— (2, 4ージフルオロフェニル） 一 6— トリフルォロメチルー 2 H—ピラン — 2—オン （中間体番号 17- 1) の製造
カリウム t e r t—ブトキシ ド 7. 7 g (69mmo l ) を THF 200m i に溶解し、 氷冷下 2 , 4 — ジフルオロ フ ェニルァセ トニ ト リ ル 1 0 g
(65mmo 1 ) を滴下した。 1 0分後、 （E) — 4—エトキシ - 1 , 1, 1— 卜リフルオロー 3—ブテン- 2—オン 1 3. 5 g (6 9 mm o I ) を滴下した 後、 室温で 4時間撹拌した。 THFを減圧下にて留去した後、 得られた残渣を水 中にあけ、 1 N塩酸で p H 1としてから酢酸ェチルで抽出した。 水、 炭酸水素ナ 卜リゥム水溶液で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾操した後、 酢酸ェ チルを減圧下にて留去した。 得られた残渣に港塩酸 1 50m lを加え、 加熱還流 下 4時間撹拌した。 この反応溶液を氷水中にあけ酢酸ェチルで抽出した後、 水で 洗浄した。 有機雇を無水硫酸マグネシウムで乾操した後、 酢酸ェチルを減圧下に て留去した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一で精製して目 的物 1 3. 8 g (収率 76%) を得た。 融点 98〜 1 00て
! H-NMR (400MH Z , C D C I 3) 5値： 6. 78 ( 1 H, d) 、 6.
95 (2 H, m) 、 7. 52 ( 1 H, d) 、 7. 56 ( 1 H, q p p m
3— ( 2 , 4—ジフルオロフヱニル） 一 1ーメチルー 6— トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 - 1 2) の製造 3— (' 2 , 4ージフルオロフェニル） 一 6— ト リフルォロメチル一 2 Η—ビラ ンー 2—オン 1 3. 8 g ( 50 mm o 1 ) をエタノール 1 50m i に溶解し、 4090メチルァミ ンメタノール溶液 5. 5 g (70 mm 0 1 ) を加え、 加熱還流 下 6時間撹拌した。 氷水中にあけ酢酸ェチルで抽出し、 1 N塩酸、 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した 後、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマ トグラフィ一で精製して目的物 3.
8 g (収率 26%) を得た。 融点 1 23〜 1 24 °C
1 H-NMR (400MH z、 CDC 1 3) <5値： 3. 70 (3 H, s) 、 6. 75 ( 1 H, d) 、 6. 90 ( 2 H, m) 、 7. 4 3 ( 1 H, d) 、 7. 5 8 ( 1 H, m) p p m 製造例 6
3— （4一クロロー 2—フルォ口フエニル） 一 1ーメチルー 6— 卜リフルォ口メ チル— 2 (1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1— 2) の製造
4一クロロー 2—フルオロフヱニル酢酸ェチルの製造
4—クロ口— 2—フルオロフェニル酢酸 1 8 g ( 9 6 mm 0 1 ) 、 硫酸 2.
3 gをエタノール 300 m 1に加え、 4時間還流させた。 冷却後エタノールを留 去し、 酢酸ェチルを加え、 水、 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液で洗浄した。 有機 層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 ¾媒を留去し、 粗結晶を n—へキサンで洗 浄して目的物 1 9 g (88mmo 1 ) を得た。 融点 53〜 54 °C
3— （ 4一クロ□一 2 _フルオロフェニル） _ 6— トリフルォロメチルー 2 H— ピラン— 2—オン （中間体番号 1 7— 4) の製造
T H F 4 0 m I に溶解した 4 —クロロー 2—フルォ口フェニル酢酸ェチル 1 9 g (88mmo l ) を、 一 6 5〜一 60 °Cに冷却下の L D A— T H F¾液 [1. 6 N— n—ブチルリチウム 83 m 1 ( 1 3 3 mm 0 1 ) 、 ジイソプロピル ァミ ン 1 5. 2 g ( 1 5 Ommo 1 ) 及び THF 200m lより調整した。 ] に 滴下し、 1時間撹拌した。 次に 4一エトキシ— 1， 1, 1—ト リフルオロー 3— ブテン— 2—オン 30 g ( 1 80mm o 1 ) を滴下した後、 冷却を止め、 室温で 1時間撹拌した。 大半の THFを留去した後、 1 N塩酸を加え酢酸ェチルで抽出 し、 水で洗浄した。 溶媒を留去した後、 濃塩酸 3 00 m lを加え 4時間還流し た。 冷却後水を加え、 酢酸ェチルで抽出し、 水、 飽和炭酸水素ナ ト リ ウム水溶液 で洗浄した。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去し得られた残 渣をシ リ カ ゲルカ ラ ム ク ロ マ ト グラ フ ィ 一 で精製して目的物 1 6 g ( 55 mm o 1 ) を得た。 融点 1 07〜 1 08。C
3— （4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメ チル— 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1— 2) の製造
3— （ 4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 6— 卜 リ フルォロメチルー 2 H —ピラン一 2—オン 9. 3 g (32 mm o l ) をメ タノール 1 60m lに加え、 氷冷下 4 0%メチルア ミ ン/メ タノール溶液 3 · 8 g (48 mm o I ) を滴下 し、 氷冷下で 2時間撹拌した。 この反応溶液に 1 0%クェン酸水溶液を加え、 酸 性とした後、 酢酸ェチルで抽出し、 水で洗浄した。 有機層を無水硫酸マグネシゥ ムで乾燥後、 溶媒を留去した。 得られた残澄をトルエン 1 60m lに溶解し、 パ ラ トルエンスルホン酸 0. 4 g (2. 1 mmo 1 ) を加え 4時間還流した。 冷却 後、 水で洗浄した後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を留去し た。 得られた残渣をシリ力ゲルクロマトグラフィ一で精製して目的物 5. 7 g (1 9mmo 1 ) を得た。 融点 1 03〜 1 04 °C 製造例 7
3 - ( 2 , 4ージクロ口フエニル） 一 1ージフルォロメチルー 6—メ チルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1— 8 ) の製造 な一 (2, 4ージクロ口フエニル） 一 a—ヒ ドロキシメチレンァセ トニ ト リルの 製造
無水エタノール中に金厲ナト リウム 6. 0 gを加え、 ナ ト リ ウムエトキシ ドの エタノール溶液を調製した後、 70°Cに加温下、 2, 4—ジクロロフヱ二ルァセ トニ卜 リル 3 7. 2 g及びギ酸ェチル 2 2. 2 gの混液を加えた。 添加後、 さら に 2時間加熱還流した後、 一昼夜放置した。 反応液を 0 °Cに冷却した後、 ろ過 し、 ジェチルェ一テルにて洗净した後、 ろ集したナ ト リゥ厶塩を 1 3 0 m lの蒸 留水に加え、 0°Cで冷却下酢酸 9 m 1を滴下した. 滴下後 3 0分間程室温で撹拌 した後、 析出した沈澱物をろ集し、 水で洗浄した。 これを乾燥して目的物 3 1.
7 g (収率 7 4 %) を得た。 融点 1 6 2 - 1 6 3 °C
3 - ( 2, 4ージクロロフヱニル） 一 6—メチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドンの製造 a - ( 2 , 4—ジクロ口フエニル） 一 α—ヒ ドロキシメチレンァセ トニ卜リル 及びァセトン 8. 8 gをポリ リン酸 1 1 0 gとよく混合し、 約 1 3 0 °Cに加熱し た。 この温度で発熱反応が開始した。 必要に応じ加熱しながら 1 3 0〜 1 4 0。C で 3 0分間保持した。 冷却した混合物を氷水に注ぎ、 この懸濁液を 1 8時間撹拌 した。 この粗製物を酢酸ェチル及び過剰量の希水酸化力リゥム水溶液と撹拌して アルカリ性とする。 析出した沈澱物をろ集し、 水、 酢酸ェチル、 ジェチルエーテ ルで順次洗浄して目的物 8. 0 g (収率 4 5 %) を得た。 融点 2 6 6〜 2 6 8 °C
3 - ( 2 , 4 —ジクロロフエニル） 一 1 —ジフルォロメチルー 6—メチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1 一 8 ) の製造
3— （2, 4—ジクロ口フエニル） 一 6—メチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 4. 0 g、 テ トラプチルアンモニゥ厶ブロミ ド 0. 8 g、 水酸化カリウム 2. 6 gを TH F 1 0 0 m 1 に溶解し、 0 °Cで冷却下クロロジフルォロメ タ ンを吹き込ん だ。 吹き込みを終えた後、 さらに室温で 1時間撹拌を続け反応を終了とした。 次 に溶媒を減圧留去した後、 酢酸ェチルで抽出し、 水洗後、 有機層を無水硫酸マグ ネシゥムで乾燥した。 溶媒を留去し、 得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマ 卜グラフィ一で精製して目的物 0 · 7 0 g (収率 1 4 %) を得た。 融点 8 3 ~
8 5 °C 製造例 8
1 一アミ ノー 3— ( 2 , 4—ジクロ口フエニル） 一 6— ト リフルォロメチルー 2 U H) —ピリ ドン （化合物番号 1— 5 ) の製造
6 0 %水素化ナト リ ウム 1 0 gに DMF l O m l を加え、 氷冷下 3—
(2, 4ージクロ口フエニル） 一 6— ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) 一ピリ ド ン 0. 72 gを加え、 室温でさらに 30分間撹拌した後、 室温で 2， 4—ジニ ト 口フヱノキシァミ ン 0. 47 gを加えた。 次に 50。Cにて 1時間撹拌し、 反応を 終了とした。 反応終了後、 反応液を水洗し、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を無 水硫酸マグネシゥムで乾燥後、 溶媒を留去し粗製物を得た。 この粗製物をシ リ カ ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物 0. 50 g (収率 68%) を得 た。 融点 98〜 1 00。C 製造例 9
3— （4一クロ口一 2—フルオロー 5—ヒ ドロキンフエニル） 一 1, 5—ジメチ ルー 6—トリフルォロメチル— 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1— 79) の 製造
3 - (4—クロロー 2—フルォロ一 5—イ ソプロボキシフエニル） 一 1, 5— ジメチル一 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) — ピリ ドン 1. 3 g (1 0.
4 mm 0 1 ) をジクロロメタン 20m lに溶解し、 一 60°Cに冷却下これに、 3 N三臭化ホゥ素ジクロ口メタン溶液 6. 6m 1を滴下した。 室温で 3時間撹拌 した後、 この反応 ¾液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 無水硫 酸マグネシウムで乾操し、 有機層を減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物 0. 8 g (収率 69%) を得 た。 融点 207〜 208 °C 製造例 1 0
3— （4一クロ口一 2—フルオロー 5—プロパルギルォキシフエニル） — 1 , 5 ―ジメチルー 6—トリフルォロメチル— 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1 一 76) の製造
DMF 1 0m lに 3— （4—クロロー 2—フルオロー 5—ヒ ドロキシフヱ二 一 1. 5—ジメチルー 6— ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) 一ピリ ドン◦ . 20 g ( 0. 6mmo l ) 、 炭酸力リウム 0. l g (0. 7 mm o 1 ) 及びプロ パルギルブロ ミ ド 0. l g (0. 8 mm 0 1 ) を加え、 60°Cで 2時間撹拌し た。 この反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無 水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた 残渣をシリカゲルカラムクロマ トグラフィーで精製して目的物 0. 1 2 g (収率
53 %) を得た。 融点 107〜 108 °C 製造例 1 1
5 - (4一クロ口一 2—フルオロー 5—フエノキシフエニル） 一 1ーメチルー 2 —トリフルォロメチル— 4 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 6 - 1 9) の製造 メタノール 1 0m lに 5— （4一クロロー 2—フルオロー 5—ヒ ドロキシフエ ニル） 一 1ーメチル一 2— ト リ フルォロメチルー 4 ( 1 H) —ピリ ドン 0.
30 g ( 0. 9 3 mm 0 1 ) . 塩化ジフエ二ルョ一 ドニゥ厶 0. 5 g ( 1. 6mmo 1 ) 及びナ卜リウ厶メ トキシ ド 0. 06 g (1. 1 mmo 1 ) を加え、 室温で 1 2時間攬拌した。 この反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水 で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて 留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラ厶ク口マ トグラフィ一で精製して目 的物 0. 17 g (収率 46%) を得た。 融点 1 59〜 161 °C 製造例 1 2
5 - ( 4一クロロー 2—フルオロー 5—シクロペンチルォキシフエニル） 一 1— メチルー 2— ト リ フルォロメチル - 4 ( 1 H) — ピリ ドン （化合物番号 6— 14) の製造
THF 3m lに 5— （4一クロロー 2—フルオロー 5—ヒ ドロキシフエニル） 一 1ーメチルー 2— ト リ フルォロメチルー 4 ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 30 g (0. 93 mmo 1 ) . トリフヱニルホスフィ ン 0. 37 g (l. 4 mmo 1 ) 及びシクロペンタノ一ル 0. 1 2 g (l. 4 mmo 1 ) を加え、 氷冷下、 ァゾジ カルボン酸ジェチル 0. 2 g (1. 1 mmo 1 ) を滴下した。 室温で 2時間撹拌 した後、 この反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層 を無水硫酸マグネシウムで乾操した- 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得ら れた残渣をシリ力ゲルカラムクロマ 卜グラフィ一で精製して目的物 0. 3 0 g (収率 83 %) を得た。 融点 1 52〜 1 54 °C 製造例 1 3
5— 〔 7—クロ口一 5—フルオロー 2—メチルベンゾフラン一 4一ィル） 一 1一 メチル— 2— ト リフルォロメチルー 4 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 9一 1 ) の製造
N, N—ジェチルァニリ ン 50 m 1に 5— （ 4一クロ口一 2—フルオロー 5— プロパルギルォキシフヱニル） 一 1 ーメチルー 2— ト リ フルォロメチルー 4
(1 H) —ピリ ドン 0. 64 g (l. 8mmo l ) 、 フッ化セシウム 0. 56 g
(3. 7mmo l ) を加え、 1 80〜 200°Cで 2. 5時間撹拌した。 この反応 ¾液を水中にあけ醉酸ェチルで抽出した。 濃塩酸、 水、 炭酸水素ナトリウム水溶 液で洗净後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下に て留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ卜グラィ一で精製して目 的物 0. 50 g (収率 75%) を得た。 融点 208 ~ 2 1 1。C
1 H- MR (400MH z、 CDC 1 3) ： 2. 46 (3 H, s) 、 3. 80 (3 H, s) 、 6. 3 1 ( 1 H, s) 、 7. 0 1 ( 1 H, s ) 、 7. 07
( 1 H, d) 、 7. 57 ( 1 H, d ) p p m 製造例 14
3 - (2, 4ージフルオロー 5—二トロフエニル） 一 1—メチルー 6—トリフル ォロメチル— 2 (1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1一 1 00) の製造
3— (2, 4ージフルオロフェニル） 一 1ーメチルー 6—トリフルォロメチル 一 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 3. 7 g ( 1 3 mm 0 1 ) を硫酸 20m lに i容解し、 氷 冷下発煙硝酸 0. 9 g ( 1 4mmo 1 ) を滴下し、 氷冷下 30分間撹拌した。 反 応溶液を氷水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 有機層を炭酸水素ナトリウム水 ¾ 液、 水で洗净後、 無水硫酸マグネシゥムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留 去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一で精製して目的 物 4. 2 g 収率 9 8 %) を得た。 融点 1 1 5〜 1 1 8て
1 H- MR ( 4 0 0 MH z、 C DC 1 3) 5値： 3. 7 1 (3 H, s ) 、 6. 8 1 ( 1 H, d ) 、 7 - 1 3 ( 1 H, t ) 、 7. 5 7 ( 1 H, d ) 、 8. 4 3 ( 1 H, m) p p m
製造例 1 5
3— C 2 -フルオロー 4ーメ トキシカルボニルメ トキシー 5—二 トロフヱニル） 一 1—メチル一 6— トリフルォロメチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 - 8 6) の製造
T H F 2 0 m l に氷冷下 6 0 %水素化ナ ト リ ウ ム 0. 2 4 g ( 6 . Ommo 1 ) を懸濁させ、 グリコール酸メチル 0. 3 2 g (6. 6mmo l ) を 加え、 1 5分間撹拌した。 これに 3— （2, 4—ジフルォ口- 5—二 卜口フエ二 ル） 一 1ーメチルー 6— トリ フルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 2 g (6. Oramo 1 ) 加え、 室温で 3時間撹拌した。 水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗净後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下に て留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一で精製して 目的物 1. 5 7 g (収率 6 5 %) を得た。
1 H - M R ( 4 00MH z、 CDC I 3 ) 5値： 3. 7 0 ( 3 H, s 、 3. 8 4 ( 3 H, s ) , 4. 8 1 ( 2 H, s ) 、 6. 7 6 C 1 H, d ) 、 6. 7 8 ( 1 H, d) 7. 5 3 ( 1 H, d) 、 8. 2 6 ( 1 H, d) p pm 製造例 1 6
3— （7—フルオロー 2, 3—ジヒ ドロー 1 , 4 _ベンゾォキサジン一 3—オン — 6—ィル） — 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) 一 ピリ ドン (化合物番号 2 - 4) の製造
3 - (2—フルオロー 4ーメ トキシカルボニルメ トキシ一 5—二 トロフエ二 ル） 一 1 一メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン 1. 5 g ( 3. 7 mm o 1 ) を酢酸 5 0 m 1 に溶解し、 加熱還流下、 鉄粉 0. 6 4 g C 1 1. 5 mmo 1 ) を加え、 1時間撹拌した。 反応液をろ過し、 ろ液を減圧下 にて留去し、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有 機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシ リ 力ゲルカラ厶ク ロマ 卜グラフ ィ 一で精製して目的物 0. 9 δ g (収率 8 0 %) を得た。 融点 2 1 6〜 2 1 8て
1 H- MR (4 0 0 MH z , C D C 1 3 ) S値： 3. 6 9 ( 3 H, s ) 、 4 - 6 0 ( 2 H, s) 、 6. 7 8 ( 1 H, d) 、 6. 8 0 ( 1 H, d) 、 7. 1 8 ( 1 H, d) 、 7. 5 3 ( 1 H, d) 、 8. 4 7 ( 1 H, s ) p p m 製造例 1 7
3— :7—フルオロー 2， 3—ジヒ ドロー 4一 （2—プロビニル） 一 1 , 4一べ ンゾォキサジンー 3—オン一 6—ィル] 一 1 —メチルー 6—ト リフルォロメチル 一 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 2— 1 ) の製造
3— (7—フルオロー 2, 3—ジヒ ドロー 1, 4一ベンゾォキサジン一 3—ォ ンー 6—ィル） 一 1—メチルー 6— ト リフルォロメチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン 0. 3 g (0. 8 7mmo 1 ) を DMF 1 m 1 に溶解し、 氷冷下で 6 0 %水素化 ナトリウム 0. 0 4 g ( 1 mmo 1 ) を加え室温で 1 5分撹拌した後プロパルギ ルブロミ ド 0. 1 2 g ( l mmo l ) を加えた。 室温で 3時間撹拌した後、 水中 にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾 操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラム クロマトグラフィ一で精製して目的物 0. 2 4 g (収率 7 2 %) を得た。 融点 1 6 6〜 1 6 8。C
1 H-NMR (4 0 0MH z、 C DC 1 3) <5値： 2. 24 ( 1 H, t ) 、 3. 6 8 C 3 H, s) 、 4. 6 3 (2 H, s) 、 4. 6 8 C 2 H, d) 、 6. 7 6
( 1 H, d ) 、 6. 8 3 ( 1 H, d) 、 7. 4 0 ( 1 H, d ) 、 7. 5 1
( 1 H, d) p pm 製造例 1 8
3— (' 4—クロロー 2—フルオロー 5—二トロフヱニル） _ 1 ーメチルー 6— 卜 リフルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 — 5 8) の製造 3— （ 4一クロロー 2—フルオロフニニル） 一 1ーメチルー 6— 卜 り フルォロ メチルー 2 ( 1 H ) —ピリ ドン 1. 0 g 3. 3 mm 0 1 ) を濃硫酸 1 0 m i に 溶解し、 氷冷下発煙硝酸 25 g (4. Ommo 1 ) を滴下し、 そのまま 1時 間撹袢した。 この反応 ¾液を氷水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水、 飽和炭酸 水素ナ卜リゥム水溶液で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾操した。 酢 酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマトグ ラフィーで精製して目的物 1. 1 g (収率 96%) を得た。 融点 1 3 9〜 1 40 。C 製造例 1 9
3— （5—アミ ノ ー 4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチル— 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1— 59) の製造
3— （4一クロロー 2—フルォロ一 5—二 トロフエニル） 一 1—メチルー 6— トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン 1. 0 g ( 2. 8mmo 1 ) 、 すず 1. 3 g ( 1 1 mmo 1 ) をエタ ノ ール 3 ◦ m 1 に懸濁させ、 室温で濃塩酸 5m lを加え 1時間撹拌した。 反応終了後、 水中に注ぎ、 反応溶液を中和し、 不 溶物をろ過してからろ液を酢酸ェチルで抽出した。 水、 飽和炭酸水素ナトリウム 水溶液で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシゥムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧 下にて留去した後、 得られた粗結晶をジィソプロピルエーテルで洗净して目的物 0. 90 g (収率 98 %) を得た。 融点 1 55 ~ 1 57 °C 製造例 20
3 - (4一クロロー 2—フルオロー 5—メチルスルホニルァ ミ ノ フエニル） ー 1 一メチルー 6— ト リ フルォロメチル— 2 ( 1 H) — ピリ ドン （化合物番号 1 一 60 ) の製造
3— ( 5—ァ ミ ノ一 4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 1一メチル _ 6— ト リ フルォロメチルー 2 (1 H) —ピリ ドン 0. 9 g (2. 8 mmo 1 ) 、 ト リ ェチルァ ミ ン 0. 6 g (5. 9 mmo 1 ) をジクロロメ タン 20 m 1に溶解し、 氷冷下メチルスルホニルクロリ ド 0. 7 g (6. 1 mmo 1 ) を滴下した。 室温 で 2時間撹拌後塩化アンモニゥム水溶液で希釈した。 酢酸ェチルで抽出後、 水、 飽和食塩水で洗浄し、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを 減圧下にて留去した後得られたビススルホン体の粗結晶をエタノール 25m 1に 溶解し、 室温で 0. 5 N水酸化ナトリウム水溶液 1 0 m！ (5. Ommo l ) を 加えて 1時間撹拌した。 水中にあけクェン酸で酸性にし、 酢酸ェチルで抽出し た。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧 下にて留去した後、 得られた粗結晶を n—へキサンで洗浄して目的物 0. 80 g (収率 72 %) を得た。 融点 1 1 3〜 1 1 4 V 製造例 2 1
3— （' 4 _クロ口一 5—クロロスノレホニルー 2—フルオロフヱニル） 一 1—メチ ル— 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1— 84 ) の 製造
3 - (4—クロ口一 2—フルオロフヱニル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロ メチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン 2. 9 g ( 9. 5 mmo 1 ) をクロ口スルホン酸 70 gに溶解し、 1 00°Cで 5時間加熱撹拌した。 冷却後、 氷水に少しずつ滴下 してから酢酸ェチルで抽出し、 水、 飽和炭酸水素ナ ト リ ウム水溶液で洗浄後、 有 機層を無水硫酸マグネシゥムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶を n—へキサンで洗浄して目的物 3. 3 g (収率 86 %) を得 た。 融点 77〜78°C 製造例 22
3— （ 5—ァセチルチオ一 4一クロ口一 2—フルオロフヱニル） 一 1 —メチルー
6—トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1—85) の製造 酢酸 50m lに 3— （4—クロロー 5—クロロスルホニルー 2—フルォロフェ ニル） _ 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン 3. 1 g (7. 7mmo l ) 、 赤リ ン 1. 2 g (38mmo l ) 及びヨウ素 0. 1 2 g (0. 47 mmo 1 ) を加え、 1時間加熱還流した。 冷却後、 不溶物をろ過し、 大半の酢酸を留去した後、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水、 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシゥムで 乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシ リカゲルカラ ムクロマ 卜グラフィ一で精製して目的物 2. 8 g (収率 9 8%) を得た。 融点
9 1〜 92 °C 製造例 23
3— （： 4一クロロー 2—フルオロー 5—メルカプトフエニル） 一 1一メチル一 6 ―卜リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) -ピリ ドン （化合物番号 1— 42) の製造
3— （ 5—ァセチルチオ— 4一クロ口一 2—フルオロフェニル） ー 1一メチル 一 6— ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン 2. 8 g (7. 7 mm o 1 ) をメ タ ノ ール 3 0m l に溶解し、 氷冷下 1規定水酸化ナ 卜リゥム水溶液 8. 5m 1 (8. 5mmo 1 ) を滴下した。 室温で 1時間撹拌後、 水中にあけクェン 酸で酸性にし、 酢酸ェチルで抽出した。 水、 飽和食塩水で洗净後、 有機層を無水 硫酸マグネシウムで乾操した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後得られた粗結 晶を n—へキサンで洗净して目的物 2. 4 g (収率 93%) を得た。 融点 14 1 〜 1 42。C 製造例 24
3 - (4一クロロー 2—フルオロー 5—メチルチオフユニル） 一 1ーメチルー 6 -トリ フルォロメチルー 2 C 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1— 87 ) の製造 アセ ト ン 20m lに 3— （4一クロロー 2—フルオロー 5 _メルカプトフエ二 ル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン 0. 8 g (2. 4 mm 0 1 ) 、 ョゥ化メチル 0. 5 g (3. 5mmo 1 ) 及び炭酸力 リ ゥ ム 0. 5 g (3. 6mmo 1 ) を懸濁させ、 加熱還流下 1時間撹拌した。 冷却 後、 不溶物をろ過した後、 溶媒を留去した後得られた残渣をシ リカゲルカラムク 口マトグラフィ一で精製して目的物 0. 7 g (収率 84 %) を得た。 融点 1 47 〜 1 50て 製造例 2 5 3— <: 4一クロロー 2 _フルオロー 5—メチルスルフィ二ルフヱニル） 一 1 —メ チル— 6— 卜リフルォロメチル— 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 一 8 8 ) の製造
3— （ 4—クロ口一 2—フルオロー 5—メチルチオフエニル） 一 1 ーメチルー 6 — ト リ フ ルォ ロ メ チ ルー 2 ( 1 H ) 一 ピ リ ド ン 0 . 3 0 g 0 . 8 5 mm o 1 ) をクロロホルム 1 0m l に溶解し、 氷冷下 8 0 %m—クロ口過安 息香酸 0. 2 0 g (0. 93mmo 1 ) を加え 2時間撹拌した反応終了後、 飽和 亜硫酸ナト リ ゥム水溶液、 飽和炭酸水素ナト リ ゥム水溶液で洗浄し、 有機層を無 水硫酸マグネシウムで乾操した。 溶媒を減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶 を n—へキサンで洗浄して目的物 0. 24 g (収率 7 6%) を得た。 融点 1 4 7 〜 1 4 80C 製造例 2 6
3— （4一クロロー 2—フルオロー 5—メチルスルホニルフヱニル） — 1 —メチ ルー 6—トリフルォロメチル— ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 — 7 3) の 製造
3— （4—クロ口一 2—フルオロー 5—メチルチオフエニル） 一 1 —メチルー 6 — ト リ フ ルォ ロ メ チル 一 2 ( 1 H ) — ピ リ ド ン 0 . 3 0 g ( 0 . 8 5 mm o 1 ) をクロ口ホルム 1 0m l に溶解し、 氷冷下 8 0 %m—クロ口過安 息香酸 0. 4 0 g ( 1. 8 6 mmo 1 ) を加え 2時間撹拌した。 反応終了後、 飽 和亜硫酸ナ卜リウム水溶液、 飽和炭酸水素ナ卜リゥム水溶液で洗浄し、 有機層を 無水硫酸マグネシウムで乾操した。 溶媒を減圧下にて留去した後、 得られた粗結 晶を n—へキサンで洗浄して目的物 0. 2 5 g (収率 7 3 %) を得た。 融点 1 44〜 1 4 5。C 製造例 2 7
3— （ 4—クロロー 2—フルオロー 5—メチルスルファモイルフヱニル） 一 1 一 メチルー 6— ト リ フルォロメ チルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 一 7 1 ) の製造 クロ口ホルム 2 5 m 1に 3— （4—クロロー 5—クロロスルホニル一 2 _フル オロフニニル） _ 1ーメチルー 6 _ ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H — ピリ ドン 0. 6 g ( 1. 5 m m o 1 ) 及びメ チルァ ミ ン塩酸塩 1. 8 g ( 2 6. 7 mm 0 1 ) を加え、 氷冷下、 卜リエチルァ ミ ン 6. 0 g (59. 4 mmo 1 ) を滴下し、 室温で 2時間撹拌した。 この反応溶液を水中にあけクロ口ホルムで抽 出し、 水、 1 0%クニン酸水溶液で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾 操した。 溶媒を減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ トグラフィ一で精製して目的物 0. 4 g (収率 67%) を得た。 融点 1 5 0〜 1 5 1て 製造例 28
3— (4—クロ口— 2—フルオロー 5—ブロモメチルフエニル） 一 1—メチルー 6—トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1— 82) の製造 3— （4一クロ口一 2—フルオロー 5—メチルフエニル） 一 1ーメチルー 6— トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 2. 63 g (8. 2 3 mmo 1 ) と NB S 1. 46 g (8. 23 mm o l ) を 1 00m lの四塩化炭素に溶かした。 加熱還流下撹拌しながら 2 , 2 ' —ァゾビスイ ソプチロニ ト リ ル 0. 2 7 g
( 1. 67 mmo 1 ) をゆっく りと加えた後、 さらに 5時間反応させた。 冷却 後、 不溶物をろ過し、 有機層を水洗して硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減 圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一で精 製して目的物 2. 67 g (収率 8 1 %) を得た。 融点 1 1 7〜 1 1 8°C 製造例 29
5 - [ 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) 一 ピリ ドン一 3—ィ ル] — 2—クロロー 4一フルォロベンズアルデヒ ド （化合物番号 1 — 8 1 ) の製 造
ナ ト リウムメ トキシ ド 0. 1 5 g (2. 78mmo l ) を 5m lのエタノール に溶かし、 2—ニ トロプロパン 0. 27 g (2. 98mmo 1 ) を滴下して室温 で 1時間撹拌した。 これに 3— (4—クロ口一 2—フルォロ— 5—ブロモメチル フエニル） 一 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン 1. 0 2 g ( 2. 5 6 mm 0 ） を加えてそのままー晚撹拌した。 反応混合物を氷水 中にあけエーテルで抽出し、 硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下にて留 去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ卜グラフィ一で精製して目的 物 0. 6 8 g (収率 Ί Ί ¾、 を得た。 融点 1 6 2〜 1 6 3 °C 製造例 3 0
3— （4—クロ口一 5—シァノ ー 2 _フルオロフェニル） 一 1 —メチルー 6— ト リ フルォロメチル— 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 — 1 1 9 ) の製造
5 - [ 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) -ピリ ドン一 3—ィ ル] 一 2 — ク ロ ロ ー 4 — フ ルォ ロベ ン ズアルデ ヒ ド 0. 5 0 g ( 1 . 5 0 mm o 1 ) , ヒ ドロキシルア ミ ン塩酸塩 0. 1 2 g ( l . 6 6 mm o 1 ) , 硫酸マグネシウム 0. 6 7 g及びパラ トルエンスルホン酸 0. 1 0 gを 5m lの キシレン中で加熱還流した。 反応終了後反応混合物を水中にあけ酢酸ェチルで抽 出し、 水、 炭酸水素ナ ト リ ウム水溶液で洗浄した。 溶媒を減圧下にて留去した 後、 粗生成物をイソプロピルエーテルで洗浄して目的物 0. 4 9 g (収率 9 9 %) を得た。 融点 1 8 0〜 1 8 1 °C 製造例 3 1
5 - ( 1 —メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン一 3 —ィ ル） — 2 -クロ口— 4—フルォ口安息香酸 （化合物番号 1 — 1 4 1 ) の製造
3— (4—クロ口一 5—シァノー 2—フルオロフェニル） 一 1ーメチルー 6— ト リフルォロメチルー 2 ( 1 H ) —ピリ ドン 0. 5 0 g ( 1. 5 1 m m 0 1 ) を 7 0 %—硫酸 5 m 1中 7 0 °Cで 1時間撹拌した。 冷却後氷水中にあけクロ口ホル ムで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下にて留去した後目的物 0. 5 1 g (収率 9 6 %) を得た。 融点 2 0 9〜 2 1 0 °C 製造例 3 2
5— （ 1 一メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン一 3—ィ ル） — 2—クロ口— 4—フルォロ安息香酸ィソプロピル （化合物番号 1— 66 ) の製造
5 - ( 1—メチル一 6— ト リフルォロメチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン一 3—ィ ル） — 2—クロ口— 4—フルォロ安息香酸 0. 20 g (0. 57mmo l ) 及び 炭酸カリウム 0. 16 g (l. 14 mmo 1 ) を DMF 5 m 1に懸濁し、 これに ヨウ化イソプロピル 0. 1 5 g (0. 86 mmo 1 ) を室温で滴下して、 そのま ま 1 日撹拌した。 反応混合物を水中にあけエーテル抽出し有機層を水洗して硫酸 マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリカ ゲルカラムクロマ トグラフィーで精製して目的物 0. 22 g (収率 1 00%) を 得た。 融点 90〜92°C 製造洌 33
3— （4—クロロー 2—フルオロー 5—プロパルギルォキシメチルフエニル） 一 1一メチルー 6— トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1一 1 99) の製造
水素化ナ ト リウム 0. 04 g (l. 1 Ommo 1 ) を DMF 5 m 1に懸濁し、 これにプロパルギルアルコール 0. 06 g (1. 1 0 mmo l ) を室温で滴下 して 30分間撹拌した。 3— （4—クロ口一 2—フルォロ— 5—プロモメチルフ ェニル） 一 1 ーメチルー 6— ト リフルォロメチルー 2 ( 1 H) 一 ピリ ドン 0.
40 g ( 1. 00 mmo 1 ) を 5m 1の DM Fに溶かして滴下し、 2時間撹拌 した。 反応混合物を水中にあけエーテルで抽出した。 硫酸マグネシウムで乾操 後、 溶媒を減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ ラフィ一で精製して目的物 0. 34 g (収率 9 1 %) を得た。 融点 99〜 1 0 1 。C 製造例 34
3— [4—クロロー 2—フルオロー 5— （1ーヒ ドロキシブチル） フヱニル] 一 1ーメチルー 6—トリフルォロメチル— 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1一 1 93) の製造 窒素雰囲気下、 5— ( 1—メチル— 6— ト リフルォロメチル— 2 I 1 H ) —ピ リ ドン一 3—ィル） 一 2—クロロー 4一フルォロベンズアルデヒ ド 1. 00 ( 3. 0 Ommo 1 ) を 20m )の THFに溶かして撹拌し、 0°Cで 2. 0Mマ グネシゥム— n—プロピルブロミ ド T H F溶液 3. 0 m 1 (6. 00 mm o 1 ) を滴下した。 滴下終了後、 室温までゆつく りと昇温させ一晩放置した。 反応終了 後、 塩化アンモニゥム水溶液で処理した後、 エーテルで抽出し有機層を水洗し た。 硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を'减圧下にて留去した後、 得られた残渣を シリカゲルカラムクロマ トグラフィ ーで精製して目的物 0. 4 3 g (収率 38 °6) を得た。 融点 1 20〜1 22°C 製造例 35
3 - [4 _クロロー 2—フルオロー 5— (1—才キソブチル） フエニル] 一 1一 メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1 ― 1 94) の製造
塩化ォキザリル 0. 2 1 g (l. 64 mm o l ) をジクロロメ タン 1 0m l に 溶解し、 — 65°Cに冷却した。 窒素雰囲気下、 ジメチルスルホキシ ド 0. 1 7 g (2. 1 8mmo 1 ) をゆっく りと滴下して 1 5分間撹拌した。 これに 3— [4 —クロロー 2—フルオロー 5— （ 1—ヒ ドロキシブチル） フエニル] 一 1ーメチ ルー 6— ト リ フルォロ メ チルー 2 ( 1 H) 一 ピリ ドン 0. 3 1 g ( 0. 82mmo 1 ) を 1 0m lのジクロ口メタンに溶かして滴下し、 そのまま 1時間 撹拌した。 さらにトリェチルァミ ン 0. 4 2 g (4. 1 mmo 1 ) を滴下した 後、 室温まで昇温した。 これに塩化アンモニゥム水溶液を加えた後、 酢酸ェチル で抽出した。 有機層を水洗後、 硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を減圧下にて留 去した後、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマトグラフィ一で精製して目的 物 0. 29 g (収率 94 %) を得た。
1 H- NMR (300MH z, CDC 1 3) σ値： 0. 99 ( 3 H, t ) 、 1. 74 C2 H, s e x t ) 、 2. 94 (2H， t ) 、 3. 70 ( 3 H. s ) 、 6. 7 8 ( 1 H, d) 、 7. 25 ( 1 H， d) 、 7. 5 3 ( 1 H, d) 、 7. 7 5 ( 1 H, d ) p p m 製造例 36
5 - ( 1一メ チル _ 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H ) — ピリ ドン一 3—ィ ル） _ 2—クロロー 4—フルォロベンズアルデヒ ドォキシムー 0—メチルエーテ ル （化合物番号 1一 72) の製造
5 - ( 1—メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン一 3—ィ ル） 一 2 — ク ロ ロ ー 4 一 フ ルォ ロベン ズアルデ ヒ ド 0. 4 0 g ( 1 . 2mmo 1 ) 、 メ トキシア ミ ン塩酸塩 0. 1 5 g ( 1. 8 mm o 1 ) 及び炭酸ナ ト リ ウム 0. 1 3 g (l. 2mmo 1 ) を 1 0m 1のエタノール中で 1時間加熱 還流した。 冷却後、 溶媒を減圧下にて留去した後、 酢酸ェチルで抽出し、 有機層 を水洗した。 硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を減圧下にて留去した後、 得られ た粗結晶をイソプロピルエーテルで洗净して目的物 0. 26 g (収率 60%) を 得た。 融点 1 06〜1 07°C 製造例 37
2—クロ口一 3— [2—クロロー 4一フルオロー 5— (1—メチル 6— ト リ フル ォロメチル一 2 ( 1 H) ピリ ドン一 3—ィル） ] フェニルプロ ピオン酸ェチル (化合物番号 1— 1 39) の製造
亜硝酸— t e r t—プチル 0. 48 g (4. 68mmo l ) 、 塩化銅 （ I I ) 0. 5 0 g ( 3 . 7 4 m m o l ) 及びァ ク リ ノレ酸ェチノレ 6 . 5 g (65 mm o l ) を 1 5m lのァセトニトリル中で撹拌し、 氷冷下 3 _ (5—ァ ミ ノー 4一クロロー 2—フルオロフェニル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメ チルー 2 (1 H) —ピリ ドン 1. 00 g (3. 1 1 mmo 1 ) の 30 m 1ァセ 卜 二トリル懸濁液を滴下し、 一晩放置した。 希塩酸で反応を停止させた後、 エーテ ルで抽出し、 有機層を水洗し硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下にて留 去した後、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ卜グラフィ一で精製して目的 物 0. 56 g (収率 4 1 %) を得た。
1 H-NMR (300MH z、 CDC 1 3) ひ値： 1. 27 (3 H, t) 、 3. 27 ( 1 H, d d) 、 3. 5 1 ( 1 H, d d) 、 3. 6 9 (3 H, s) 、 4. 23 ； 2 H, m) 、 4. 57 ( 1 H, d d) 、 6. 76 ( 1 H, d) 、 7. 22 ( 1 H, d) 、 7. 4 8 ( 1 H, d) 、 7. 50 ( 1 H, d) p pm 製造例 38
3— （4—クロ口一 6—フルオロー 2—メチルベンゾフラン一 7—ィル） 一 1— メチル一 6— ト リフルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 5— 1 ) の製造
3— [ 4—クロロー 2—フルオロー 6—プロパルギルォキシフエニル] 一 1一 メチルー 6— ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン 2. 7 8 g (7. 73 mm 0 1 ) とフッ化セシウム 2. 35 g (1 5. 46 mm o 1 ) を N, N- ジェチルァニリン 50m 1中で 1 80°Cに加熱して 1時間反応させた。 溶媒を減 圧下にて留去した後、 酢酸ェチルで抽出して有機雇を希塩酸で洗浄した。 硫酸マ グネシゥムで乾燥後、 溶媒を減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリ力ゲル カラムクロマ トグラフィーで精製して目的物 0. 58 g (収率 2 1 %) を得た。 融点 1 38 ~ 140。C 製造法 39
3— [2—フルオロー 4—クロ口一 5— （2—プロピニルォキシ） フエニル] 一 1一べンジリデンアミ ノー 6— トリフルォロメチル一 2 ( 1 H ) —ピリ ドン （化 合物番号 1 - 226 ) の製造
トルエン 1 0m lに 3— [2—フルオロー 4—クロロー 5— （2—プロピニル ォキシ） フヱニル] 一 1一アミ ノー 6— トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 2 8 g ( 0. 7 8 m m o 1 ) 、 ベンズアルデヒ ド 0. 1 g ( 0. 95 mmo 1 ) 及び 1 N四塩化チタン/ジクロロメタン溶液 1滴を加え、 室温で 8時間撹拌した。 反応終了後、 反応 ¾液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水、 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液で洗浄した後、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥 し、 酢酸ェチルを減圧下留去した。 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ トグ ラフィ ーで精製して目的物 0. 24 g (収率 6 9 %) を得た。 融点 1 3 5〜 1 36°C 1 H - N" M R " 00 M H z、 CDC 1 3 ) < 値： 2. 5 2 ( 1 H, t ) 、 4. 7 5 2 H, d) 、 6. 83 ( 1 H, d) 、 7. 2 4 ( 1 H, d.) 、 7. 3 5
( 1 H, d ) 、 7. 5 0 ( 2 H, m) 、 7. 9 1 ( 2 H, d ) 、 9. 8 1
( 1 H, s ) p p m 製造法 40
3— （ 6—フルオローべンゾチアゾリ ンー 2—オン一 5—ィル） 一 1ーメチルー 6—トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 3— 2) の製造 酢酸 4 Om lに 3— （5—ァミノ一 2—フルオロフェニル） 一 1—メチル一 6 — ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 1 0. 3 g ('3 6 mmo 1 ) を溶 角？し、 チォシアン酸アンモニゥム 6. 8 g (89mmo 1 ) を加え室温で 2時間 撹拌した。 この反応溶液に氷冷下臭素 6. 6 g (4 1 mm o 1 ) の酢酸溶液を加 えさらに室温で 8時間撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を水中にあけアンモニア 水を加えアルカリ性にした。 析出した結晶をろ集し、 得られた粗結晶を酢酸ェチ ルで洗净して 2—ァミノべンゾチアゾールの混合物 8. O g得た。 この混合物を 硫酸 1 5 m 1 、 酢酸 1 5 m l に溶解し、 氷冷下亜硝酸ナ ト リ ウム 1. 7 g (26mmo 1 ) の水溶液 1 5m lを加え 1. 5時間攬拌した。 1 5て以下で硝 酸銅 （ I I ) 三水和物 3 3 g (0. 1 4 m 0 1 ) の水溶液 20 0 m l を加え、 30分撹拌した後、 酸化銅 （ I ) 3. 6 g ( 25 mmo 1 ) を加えさらに 30分 間撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を酢酸ェチルで抽出し、 有機層を水で洗浄 し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得られた残渣を シリ カゲルカラムク ロマ トグラフ ィ 一で精製して目的物 0. 9 g (収率 7. 2 %) を得た。
1 H-N R ( 3 00 MH z, CDC I 3 +DMS O - 5値： 3. 6 6
( 3 H, d) 、 6. 6 8 ( 1 H, s ) 、 6. 7 3 ( 1 H, d ) 、 6. 8 9 ( 1 H, s) 、 7. 37 (1 H， d) p p m 製造例 4 1
3— [6—フルオロー 3— （2—プロビニル） 一べンゾチアゾリ ン一 2—オン一 5—ィル — 1 —メチルー 6— ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H ) —ピリ ドン （化 合物番号 3 - 1 ) の製造
D M F 1 0 m i に 3— ( 6—フルォロ一ベンゾチアゾリ ン一 2—オン一 5—ィ ル） 一 1 —メ チルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H ) — ピリ ドン 0. 4 g ( 1. 2 mm 0 1 ) , 炭酸力リウ厶 0. 1 8 g ( 1. 3 mmo 1 ) 及び臭化プロ パルギル 0. 1 5 g ( 1. 3mmo l ) を加え、 70。Cで 2時間加熱撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出し、 有機層を水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥ厶で乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得られた残渣をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィ 一で精製して目的物 0. 3 2 g (収率 7 2%) を 得た。 融点 1 5 0〜： I 5 1 °C
1 H- NMR (3 0 0 MH z、 C D C 1 3 ) S値： 2. 3 0 ( 1 H, t ) 、 3. 7 3 (3 H, s) 、 4. 7 3 ( 2 H, d) 、 6. 8 0 ( 1 H, d) 、 7. 2 7 ( 1 H, d) 、 7. 4 5 ( 1 H, d) 、 7. 5 6 ( 1 H, d) p pm 製造例 4 2
3— (2—ブロモメチルー 7—クロロー 5—フルォロベンゾフラ ン一 4ーィル） - 1 ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2— ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 4 - 7) の製造
3— （7—クロ口一 5—フルオロー 2—メチルベンゾフラン一 4一ィル） 一 1 ーメチルー 6— ト リフルォロメチル一 2— ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 9 8 g (2.
7 2 mm 0 1 ) を四塩化炭素 2 5 m l に溶解し、 N B S 0. 5 1 g ( 2.
8 6 m m 0 1 ) と 2， 2 ' —ァゾビスイ ソプチロニ 卜 リ ル 0. 0 4 g ( 0. 2 7 mmo 1 ) を加え 2時間還流した。 ろ過によりコハク酸イ ミ ドを除去した 後、 四塩化炭素を減圧下にて留去し、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェチルで抽 出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸ェチルを 減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶を n—へキサンで洗浄して目的物 0.
94 g (収率 7 9%) を得た。 融点 1 4 2〜 1 4 4。C
1 H - NMR ( 3 00 MH z , C D C 1 3 ) S値： 3. 7 3 ( 3 H, s ) 、 4. 5 6 ( 2 H, s ) 、 6. 6 6 ( 1 H, s ) 、 6. 8 0 ( 1 H, d) 、 7. 2 0 { 1 H, d ) 、 7. 55 U H. d ) p p m 製造例 43
3— （7 _ク ロロー 5 _フルオロー 2—メ トキシメ チルべンゾフラ ン一 4—ィ ル） 一 1—メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2— ( 1 H) —ピリ ドン （化合物 番号 4 - 4) の製造
3 - (2—ブロモメチル一 7—ク ロ口一 5—フルォロベンゾフラ ン一 4ーィ ル） 一 1 ーメ チルー 6— ト リ フルォロメ チルー 2— ( 1 H) — ピリ ドン 0. 38 g (0. 87 mm o l ) をメタノール 1 0m lに溶解し、 水酸化ナ ト リ ウム 0. 04 g ( 1. 04 mmo 1 ) を加え 1時間加熱還流した。 メ タノールを減圧 下にて留去した後、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄 後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去し た後、 得られた粗結晶を n—へキサンで洗浄して目的物 0. 3 1 g (収率 9 2 %) を得た。 融点 1 36~ 1 37°C
1 H-NMR (300 MH z、 CDC 1 3) <5値： 3. 44 ( 3 H, s) 、 3 73 (3 H, s) 、 4. 5 6 (2 H, s) 、 6. 5 9 ( 1 H, s ) 、 6. 8 0 ( 1 H, d) 7. 1 7 ( 1 H, d) 、 7. 54 ( 1 H, d) p p m 製造例 44
3 - (7—クロロー 5—フルオロー 2—ヒ ドロキシメチルべンゾフラン一 4—ィ ル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2— （1 H) —ピリ ドン （化合物 番号 4 - 5) の製造
3— （7—クロロー 5—フルオロー 2—メ トキシメチルべンゾフラン一 4—ィ ル） 一 1—メ チル一 6— ト リ フルォロメ チル一 2— ( 1 H ) 一 ピリ ドン 0. 2 0 g ( 0. 5 1 mm o l ) をジクロロメタン 1 0m l に溶解し、 — 6 5てで 1. 0M三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液 1. 54m l ( 1. 54 mmo 1 ) を 加えた。 一 65てで 1時間撹拌し、 水中にあけ室温で 30分撹拌した後、 ジクロ ロメタンで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 ジクロロメタンを減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶を n—へキサンで洗浄 して目的物 0. 1 9 g 収率 99%) を得た。 融点 1 4 5〜 1 4 7て
1 H- R ( 300 MH z、 CDC 1 3) 5値： 3. 73 ( 3 H, s ) 、 4. 55 ( 2 H. s ) 、 6. 6 6 ( 1 H, s) 、 6. 80 ( 1 H, d) 、 7. 2 0 ( 1 H, d ) 7. 55 ( 1 H, d) p p m 製造例 45
3— （7—クロロー 5—フルオロー 2—メチルチオメチルベンゾフラ ンー 4ーィ ル） - 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2— (1 H) —ピリ ドン （化合物 番号 4— 44) の製造
3— （ 2—ブロモメチル一 7—クロ口一 5—フルォロベンゾフラ ン一 4—ィ ル） 一 1 — メ チルー 6— ト リ フルォロメ チル一 2— ( 1 H) 一 ピリ ドン 0. 3 1 g CO. 7 1 mmo l ) を THF 20m lに溶解し、 メ タンチオール 30% メ タ ノール溶液 0. 0 1 4 g (0. 85mmo l ) と炭酸カ リ ウム 1 2 g
(0. 85mmo 1 ) を加え室温で 8時間撹拌した。 THFを減圧下にて留去し た後、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られ た粗結晶を n—へキサンで洗浄して目的物 0. 28 g (収率 98%) を得た。 1 H-NiMR ( 300 MH z、 CDC 1 3) 5値： 2. 1 7 (3 H, s) 、 3. 73 ( 3 H, s) 、 3. 7 9 (2 H, s) 、 6. 4 7 ( 1 H, s ) 、 6. 80
(1 H， d) 、 7. 1 4 ( 1 H, d) 、 7. 54 ( 1 H, d ) p pm 製造例 4 6
3 - [ 7—クロロー 5—フルオロー 2— （ 1ーメチルスルフィニルプロ ビル） ベ ンゾフラン一 4一ィル] 一 1ーメチルー 6— 卜 リ フルォロメチル一 2— ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 4— 57) の製造
製造例 45と同様にして得られた 3— [7—クロ口一 5—フルオロー 2 _ (メ チルチオプロピル） ベンゾフランー 4 -ィル] 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロ メチルー 2— ( 1 H) —ピリ ドン 0. 20 g (0. 4 6 1 mmo l ) をメ タ ノー ル 1 5m lに溶解し、 水 5m l とォキソン 0. 23 g (0. 369 mm o l ) を 加え、 室温で 2時間撹拌した。 不溶物をろ過により除去した後、 メ タノールを減 圧下にて留去し、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄 後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去し た後、 得られた残渣をシ リ力ゲルカラ厶クロマ トグラフィ —で精製して目的物
0. 1 1 g (収率 52%) を得た。 融点 1 25〜 1 27 °C 製造例 47
3— [7—クロロー 5—フルオロー 2— （ 1ーメチルスルホニルプロピル） ベン ゾフラン一 4一ィル] — 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2— ( 1 H) - ビリ ドン （化合物番号 4— 58) の製造
3— 〔7 _クロロー 5—フルオロー 2— （ 1ーメチルチオプロ ピル） ベンゾフ ラン _ 4一ィル] 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2— ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 2 0 g (0. 4 6 1 mmo l ) をメ タ ノ ール 1 5 m l に ¾解し、 水 5m l とォキソン 0. 57 g (0. 9 22 mm o 1 ) を加え、 室温で 2時間撹拌 した。 不溶物をろ過により除去した後、 メタノールを減圧下にて留去し、 得られ た残渣を水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグ ネシゥムで乾燥した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリ 力ゲルカラムクロマ トグラフィ ーで精製して目的物 0. 1 8 g (収率 85%) を 得た。 融点 14 6〜 1 48°C 製造例 48
3— （7—クロロー 2—ジブ口モメチルー 5—フルォ口べンゾフラン一 4ーィ ル） _ 1 -メチルー 6— ト リ フルォロメチル一 2— ( 1 H) —ピリ ドン （化合物 番号 4 - 27) の製造
3— （ 7—クロ口一 5—フルオロー 2—メチルベンゾフラン一 4一ィル） 一 1 —メチルー 6— ト リ フルォロメチル一 2— ( 1 H) —ピリ ドン 1. 5 0 g (4. 1 7 mm 0 1 ) を四塩化炭素 3 0 m 1 に溶解し、 N B S 2. 9 7 g ( 1 6. 6 8 m m 0 1 ) と 2， 2 ' —ァゾビスイ ソプチロニ 卜 リ ル 0. 2 1 g ( 1. 25mmo 1 ) を加え 1 0時間加熱還流した。 ろ過によりコハク酸ィ ミ ドを除去 した後、 四塩化炭素を減圧下にて留去した後、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェ チルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸 ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマトグラ フィ—で精製して目的物 0. 97 g (収率 45%) を得た。 融点 1 07〜 1 09 。C
1 H - N λ4 R ( 300 M H z、 C D C 1 3 ) 5値： 3. 74 (3 Η, s ) 、 6. 6 5 ( 1 H, s) 、 6. 8 1 ( 1 H, d) 、 6. 8 2 ( 1 H, s ) 、 7. 2 6 ( 1 H, d) 、 7. 55 (1 H, d) p pm 製造例 4 9
3— （5, 7—ジクロロー 2— ト リブ口モメチルべンゾフラン一 4一ィル） 一 1 —メチル— 6— トリフルォロメチルー 2— ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 4―
40 ) の製造
3 - ( 5 , 7—ジクロロー 2—メチルベンゾフラン一 4 _ィル） 一 1一メチル — 6 — ト リ フルォロ メ チル一 2 — ( 1 H) 一 ピリ ドン 1. 9 2 g ( 5. 1 0 mm o 1 ) を四塩化炭素 7 0 m 1 に溶解し、 NB S 3. 8 1 g ( 2 1 . 4 2 m m 0 1 ) と 2 , 2 ' —ァゾビスイ ソプチロニト リ ル 0. 3 3 g (' 2. 0 Ommo 1 ) を加え 1 5時間還流した。 ろ過によりコハク酸イ ミ ドを除去した 後、 四塩化炭素を減圧下にて留去した後、 得られた残渣を水中にあけ酢酸ェチル で抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸ェチ ルを減圧下にて留去した後、 得られた残澄をシリ力ゲルカラムクロマ卜グラフィ 一で精製して目的物 0. 1 9 g (収率 6%) を得た。 融点 225〜227 °C 1 H-NMR (300MH z、 CDC 1 3) S値： 3. 75 ( 3 H, s) 、 6. 84 ( 1 H, d) 、 6. 9 3 ( 1 H, s) 、 7. 5 0 ( 1 H, d) 、 7. 5 7 ( 1 H, s ) p p m 製造例 50
3 - ( 7—クロロー 5—フルオロー 2—ホルミ ルべンゾフラン一 4一ィル） 一 1 —メチル— 6 _ ト リ フルォロメチル一 2— ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 4一 46 ) の製造
硫酸 1 5m lに 3— (7—クロ口— 2—ジブ口モメチルー 5—フルォロベンゾ フラン一 4—ィル） 一 1—メチルー 6— 卜 リフルォロメチル一 2— ( 1 H) —ピ リ ドン 29 g ( 0. 56 mm 0 1 ) を加え 50てで 1時間撹拌した後、 水中 にあけジェチルエーテルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシゥ ムで乾燥した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得られた粗結晶を n-へキ サンで洗浄して目的物 0. 20 g (収率 96%) を得た。
1 H-NMR (30 OMH Z, C D C 1 3) S値： 3. 75 (3 H, s ) 、 6. 84 ( 1 H, d) 、 7. 4 2 ( 1 H, d) 、 7. 4 6 ( 1 H, s ) 、 7. 6 1
( 1 H, d) 、 9. 90 ( 1 H, s ) p p m 製造例 5 1
3— （ 2—カルボキン一 7—クロ口一 5—フルォロベンゾフラン一 4一ィル） 一 1ーメチルー 6—トリフルォロメチル— 2— （ 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 4 - 26) の製造
3— （ 7—クロロー 5—フルオロー 2—ホルミルべンゾフラン一 4一ィル） 一
1一メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2— （ 1 H) —ピリ ドン 0. 3 7 g (0. 99mmo 1 ) をァセ トン 20m 1に溶解し、 - 20°Cでジョ一ンズ試薬 (C r 03 -H2 S04) を加えた。 _ 20°Cで 2時間撹拌した後、 水中にあけ 酢酸ェチルで抽出した。 水酸化ナトリゥム水溶液を加えアル力リ性として水層を 酢酸ェチルで洗浄し、 塩酸を加えて酸性とした後、 酢酸ェチルで抽出した。 水で 洗浄後、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸ェチルを減圧下にて留 去した後、 得られた粗結晶をジィソプロピルエーテルで洗诤して目的物 0.
29 g (収率 75 %) を得た。 融点 233〜 235て
1 H-NMR ( 300 MHz, CDC 1 3) S値： 3. 79 C 3 H, s) 、 6. 87 (1 H, d) 、 7. 38 ( 1 H, d) 、 7. 47 ( 1 H, s ) 、 7. 6 1 ( 1 H, d) p pm 製造例 52 3— '·'？ 一クロ口一 2—エ トキシカルボニル一 5—フルォロベンゾフラ ン一 4— ィル） — 1—メチル一 6— ト リ フルォロメチル一 2— 1 H) —ピリ ドン （化合 物番号 4 - 6) の製造
3— ( 2—力ルボキシ一 7—クロロー 5—フルォロベンゾフランー 4一ィル） 一 1一メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 2— ( 1 H) — ピリ ドン 0. 08 ( 0. 2 1 mmo 1 ) をエタノール 1 0m 1に溶解し、 硫酸 4. 0 m g (0. 04mmo 1 ) を加え 2時間還流した。 エタノールを減圧下にて留去した後、 得 られた残渣を水中にあけジェチルエーテルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層を無 水硫酸マグネシウムで乾燥した。 ジェチルエーテルを減圧下にて留去した後、 得 られた粗結晶を n -へキサンで洗浄して目的物 0. 0 9 g (収率 9 9%) を得 た。 融点 1 1 8〜 1 20°C
1 H - M R ( 300 MH z、 CDC 1 3) 5値： 1. 4 1 ( 3 H, t ) 、 3. 7 5 (3 H， s) 、 4. 4 3 ( 2 H, q) 、 6. 82 ( 1 H, d) 、 7. 34 ( 1 H, d) 、 7. 38 (1 H， s) 、 7. 57 ( 1 H, d) p pm 製造例 53
3 - ( 7—クロロー 5—フルォロベンゾフラン一 4一ィル） 一 1—メチルー 6— トリフルォロメチルー 2— ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 4— 28) の製造 3— （ 2—カルボキシ一 7—クロロー 5—フルォロベンゾフラン一 4一ィル） 一 1—メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 2— ( 1 H) — ピリ ドン 0. 2 9 g (0. 74 mmo l ) をキノ リ ン 1 5m l に溶解し、 銅粉 0. 0 5 g ( 0. 75mmo 1 ) を加え 2 1 0°Cで 1 5分撹拌した後、 ろ過により銅を除去し、 水 中にあけ塩酸を加え酸性としたのち酢酸ェチルで抽出した。 水で洗浄後、 有機層 を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 酢酸ェチルを減圧下にて留去した後、 得ら れた残 i査をシ リ カゲルカラムクロマ 卜グラフ ィ 一で精製して目的物 0. 1 8 g (収率 70%) を得た。 融点 1 78〜 1 79 °C
1 H-NMR ( 300MH z、 CDC 1 3 ) S値： 3. 74 (3 H, s ) 、 6. 66 ( 1 H, d) 、 6. 8 1 ( 1 H, d) 、 7. 20 (1 H, d) 、 7. δ 6 ( 1 H, d) 、 7. 7 2 ( 1 H, cl ) p pm 製造法 5 4
3— （4—クロ口フエニル） 一 4一クロロー 1 —メチル一 6— ト リフルォロメチ ルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 1 — 1 ) 、 3— （4一クロ口フエ二 ル） _ 2—クロ口一 1 一メチル一 6— トリフルォロメチル一 4 ( 1 H) 一ピリ ド ン （化合物番号 1 3— 1 ) の製造
3— （4ークロロフヱニル） 一 2， 4ージォキソ一 1一メチル一 6— ト リフルォ ロメチル一 1 , 2， 3, 4—テ トラヒ ドロピリ ジンの製造
トルエン 2 0 0 m l に 4 一 ク ロ口フ エニルァセチルク ロ リ ド 6. 7 g
( 3 5 mm o 1 ) 、 3—メチルァミ ノー 4, 4, 4— ト リ フルォロクロ 卜ン酸ェ チル 1 4. 0 g (7 1 mmo 1 ) を加え、 加熱還流下 8時間撹拌した。 反応終了 後、 反応溶液を水、 飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 卜 ルェンを減圧下留去し、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマ 卜グラフィ一で 精製した。 このクロ トン酸エステルを TH F 2 0 m 1 に溶解し、 — 6 5〜― 6 0 °C冷却下の L DA— THF溶液 [1. 6 N— n _ブチルリチウム—へキサン溶液 5 4 m i ( 8 6 m m o l ) 、 ジ イ ソ プ ロ ピ ルア ミ ン 1 1 . 3 g
C 1 1 2mmo l ) , THF 2 0 0 m lより調製] に滴下し、 室温で 2時間撹拌 した。 反応終了後、 過剰の THFを留去し、 1 0 %クェン酸水溶液を加え、 析出 した粗結晶を酢酸ェチルで洗浄し目的物 3. 6 g (収率 3 4 %) を得た。
1 H-NMR (3 0 0MH z、 DMS 0- d 6) <5値： 3. 3 9 (3 H, s ) 、 5. 8 2 ( 1 H, s) 、 7. 1 4 (2 H， d) 、 7. 4 0 (2 H, d) p pm
3— （4一クロ口フエニル） 一 4一クロ口 _ 1 一メチル一 6— ト リフルォロメチ ル - 2 ( 1 H ) —ピリ ドン （化合物番号 1 1 一 1 ) 、 3— （4—クロ口フエ二 ル） 一 2—クロ口一 1 一メチル一 6— トリフルォロメチル一 4 ( 1 H) 一ピリ ド ン （化合物番号 1 3— 1 ) の製造
ォキシ塩化リ ン 8. 3 g (4 2. 3 mm o 1 ) 、 ジェチルァ二リ ン 3 0 m 1 に 3— （4一クロロフヱニル） 一 2， 4ージォキソー 1 一メチル一 6— ト リフルォ ロ メ チル一 1 , 2， 3 , 4 — テ ト ラ ヒ ドロ ピ リ ジ ン 3 . 3 g ( 1 0 . 9mmo 1 ) を加え 1 0 0~ 1 2 0°Cで 4時間撹拌した。 反応溶液を減圧下留去 し、 得られた残渣に ¾酸ェチルを加え、 水、 飽和炭酸水素ナ卜リゥム水 g液で洗 浄し、 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得ら れた残渣を高速液体クロマ 卜グラフィ一で分離精製して目的物 2 -ピリ ドン体 (化合物番号 1 1 — 1 ) 1. 3 g (収率 3 7 °/ό) 及び 4一ピリ ドン体 （化合物番 号 1 3— 1 ) 1. 0 8 (収率2 9 %) をそれぞれ得た。
2—ピリ ドン体 （化合物番号 1 1 - 1 ) 融点 4 8〜 5 0 °C
1 H - N M R (3 00MH z、 C D C 1 3 ) S値： 3. 7 4 (3 H, s ) 、 6. 6 2 ( 1 H, s ) 、 7. 1 7 (2 H， d) 、 7. 3 9 (2 H, d) p pm
4一ピリ ドン体 （化合物番号 1 3— 1 ) 融点 8 8〜 9 0 °C
1 H-NMR (3 0 OMH z、 CD C 1 3) 値： 3. 7 7 (3 H, s ) 、 6. 9 6 C 1 H, s) 、 7. 1 5 (2 H, d) 、 7. 4 1 (2 H, d ) p pm 製造例 5 5
3 - (4一クロ口一 3—二 トロフヱニル） 一 4一クロ口一 1一メチル一 6— ト リ フルォロメチル— 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 1 1 — 7) の製造
濃硫酸 2m l に 3— （4—クロ口フエニル） — 4一クロロー 1 _メチル— 6— 卜 リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) —ピリ ドン 0. 2 g (0. 6 2mmo 1 ) を溶 解し、 氷冷下発煙硝酸 0. 04 g (0. 6 4 mmo 1 ) を加え 1時間撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を氷水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 有機層を水、 飽和 炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機雇 を減圧下留去し、 得られた粗結晶をイ ソプロピルエーテルで洗浄し、 目的物 2 1 g (収率 9 1 %) を得た。
1 H-NMR (3 00MH z、 CDC 1 3) 5値： 3. 74 (3 H. s) 、 6. 6 6 ( 1 H, s) 、 7. 4 0 ( 1 H, d d) 、 7. 6 1 ( 1 H, d) 、 7. 5 9 ( 1 H, s ) 、 7. 8 2 ( 1 H, d ) p p m 製造例 5 6 3— （3—アミ ノ ー 4—クロ口フエニル） 一 4一クロロー 1一メチル _ 6 _ト リ フルォロメチル— 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1 1— 8 ) の製造
エタノール 20m lに 3— （ 4一クロロー 3—二 トロフエニル） 一 4—クロ口 一 1ーメチルー 6—ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 5 g ( 1 · 37mmo 1 ) を溶解し、 室温撹拌下スズ 0. 8 g (6. 78mmo l ) を加え 1時間撹拌した。 反応終了後、 過剰のエタノールを減圧下留去し、 酢酸ェチルと 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液を加えて析出物をろ過した後、 水、 1 0%クェン 酸水溶液で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで有機層を乾燥した。 有機層を減圧下 留去し、 得られた粗結晶をイソプロピルエーテルで洗浄して目的物 0. 40 g (収率 87 %) を得た。
1 H-NMR (300MH z、 CDC 1 3) 5値： 3. 74 ( 3 H, s) 、 4. 06 (2 H, s) 、 6. 54 ( 1 H， d d) 、 6. 59 (1 H， s) 、 6. 62 ( 1 H， d) 、 7. 27 ( 1 H， d) p pm 製造例 57
3— （4—クロロー 3—メチルスルホニルア ミ ノフ χニル） 一 4一ク ロロー 1— メチルー 6—トリフルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1 1一 3) の製造
ジクロロメタン 20m lに 3— (3—ァ ミ ノ一 4—クロ口フエニル） 一4—ク ロロ一 ； I—メチルー 6—ト リ フルォロメチル一 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 4 g ( 1 - 1 9 m m 0 1 ) 、 メ チルスルホニル ク ロ リ ド 0. 3 g ( 2. 6 2 mm o l ) を溶解し、 氷冷下 ト リ エチルァ ミ ン 0. 3 g ( 2. 96mmo 1 ) を加え、 室温で 1時間撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を水中に あけジクロロメ タンで抽出した。 有機層を水、 1 0 %クェン酸水溶液で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得られた粗結晶をェ 夕ノール 1 5m l と DMF 5m lの混合溶媒に溶解し、 水酸化ナ卜リ ゥム水溶液 3 m 1 [水酸化ナ ト リ ウム 05 g (1. 25 mmo 1 ) ] を加え、 室温で 1 時間搜拌した。 反応終了後、 反応溶液を水中にあけクェン酸で弱酸性にし、 酢酸 ェチルで抽出した。 有機層を水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有 機層を減圧下留去し、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマ 卜グラフ ィ —で精 製して目的物 0. 47 g (収率 95%) を得た。 融点 1 6 1〜 1 63 °C
1 H- MR ( 400 MH z、 CDC 1 3) <5値： 3. 02 (3 H, s , 3. 7 5 (3 H, s ) 、 6. 60 ( 1 H, s) 、 6. 9 2 ( 1 H, s ) 、 7. 0 6 ( 1 H, d d) 、 7. 2 6 ( 1 H, s ) 7. 4 7 ( 1 H, d ) 、 7. 5 9 ( 1 H, d) p pm 製造例 58
3— (4—クロ口フエニル） 一 4ーフルォロー 1—メチル一 6— ト リ フルォロメ チル— 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 1 1一 2 ) の製造
ジメチルスルホキシ ド 1 0m lに 3— （4一クロ口フエニル） 一 4 _クロロー 1一メチル _ 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H ) —ピリ ドン 0. 33 g ( 1. 0 9 mm 0 1 ) 、 フ ッ化カ リ ウム 0. 05 g (0. 8 6 mmo 1 ) を溶解し、 1 20°Cで 2時間加熱撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を氷水中にあけ酢酸ェチ ルで抽出した。 有機層を水、 飽和食塩水溶液で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで 乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得られた残渣をシリ 力ゲル力ラムクロマ トグ ラフ ィ —で精製して目的物 0. 1 2 g (収率 3 8 %) を得た。 融点 1 2 0〜 1 22°C
1 H- MR (30 OiVIH z、 CDC 1 3) c 直： 3. 4 2 ( 3 H, d) 、 6. 20 ( 1 H, d) 、 7. 1 6 (2H, d) 、 7. 40 ( 2 H, d) p pm 製造例 59
3 - [2—フルオロー 4一クロロー 5— （2—プロピニルォキシ） フエニル] 一 4ーシァノ ー 1—メチルー 6— ト リフルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化 合物番号 1 1— 6) の製造
ジメチルスルホキシ ド 1 0 m 1に 3— [ 2—フルオロー 4 _クロロー 5— （2 —プロピニルォキシ） フヱニル] — 4—クロロー 1ーメチルー 6— ト リ フルォロ メチルー 2 (1 H) —ピリ ドン 0. 30 g (0. 76 mm 0 1 ) . シアン化力 リ ゥム 0. 06 g (0. 9 2mmo 1 ) を溶解し、 1 20 °Cで 2曰間加熱撹拌し た。 反応終了後、 反応溶液を氷水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 有機層を水、 飽和食塩水溶液で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧下留 去し、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマ トグラフィ—で精製して目的物
0. 09 g (収率 29 %) を得た。 屈折率 1. 5684
1 H- MR (400MH z, CDC 1 3) S値 ： 2. 50 ( 1 H, t 、 3.
78 ( 3 H, s ) 、 4. 7 1 ( 2 H, m) 、 6. 9 0 ( 1 H， d) 、 7. 2 0 ( 1 H, s ) 、 7. 25 ( 1 H, d) p pm 製造法 60
3— (2—クロロー 4ーヒ ドロキシ一 5—ニ トロフヱニル） _ 1一メチル一 6— 卜 リ フルォロメチルー 2 C 1 H) —ピリ ドンの製造 （化合物番号 1— 278 ) の ジクロロメタン 1 50m lに 3— （2—クロロー 4—メ トキシー 5—二 トロフ ェニル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチル— 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 1 0. 3 g (28. 6mmo l ) を溶解し、 ドライアイス—アセ トン浴で冷却下、 3 N 三臭化ホウ素ノジクロロメタン溶液 30m l (9 Ommo 1 ) を滴下した。 室温 まで温度を上げ 2時間撹拌した後、 氷水中にあけジクロロメ タンで抽出した。 有 機層を水、 飽和炭酸水素ナ卜リゥム水溶液で洗浄した後、 無水硫酸マグネシゥム で乾燥し、 有機層を減圧下留去して目的物 8. 0 g (収率 80%) を得た。 製造例 6 1
3— （5—ァ ミ ノ一 2—クロ口一 4ーヒ ドロキシフエニル） 一 1—メチル一 6— ト リ フルォロメチル— 2 ( 1 H) 一ピリ ドンの製造 （化合物番号 1— 279) エタノール 1 00m lに 3— (2—クロロー 4—ヒ ドロキシー 5—二 卜口フエ ニル） 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン 8. 0 g (23mmo 1 ) 、 スズ 8. 2 g (6 9mmo 1 ) を加え、 室温撹拌下濃塩酸 5m 1を加え、 1時間撹拌した。 反応終了後、 過剰のエタ ノールを減圧下留去 し、 飽和炭酸水素ナトリゥム水 ¾液で中和後、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を 水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧下留去して目的物 6. 5 g (収率 90%) を得た。
1 H - M R ( 30 0 MH z, C DC 1 3 ) S値： 3. 74 ( 3 H, s ) 6.
8 3 ( 1 H, d) 、 7. 2 3 ( 1 H, d) 、 7. 3 0 ( 1 H, d) 、 7. 5 7 ( 1 H, d) p pm 製造例 62
3— （6—クロ口べンゾォキサゾリ ン一 2—オン一 5—ィル） 一 1—メチルー 6 — トリフルォロメチル— 2 ( 1 H) —ピリ ドン （化合物番号 3— 20) の製造
THF 5m lに 3— （5—ァ ミ ノ 一 2—クロ口一 4ーヒ ドロキシフエニル） 一 1一メチル一 6— トリフルォロメチル一 2 ( 1 H) 一ピリ ドン 0. 6 g ( 1. 9mmo 1 ) 及び CD I 0. 3 5 g (2. 2mmo 1 ) を溶解し、 加熱還流下 1 時間撹拌した。 反応終了後、 水中にあけ酢酸ェチルで抽出した。 有機層を水で洗 浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得られた残渣 をシ リカゲルカラムクロマ トグラフィ ーで精製して目的物 0. 4 1 g (収率 63 %) を得た。 融点 263〜265 °C
1 H-NMR (400MH z、 CDC 1 3) 5値： 3. 78 (3 H, s) 、 6.
84 ( 1 H, s ) 、 6. 85 ( 1 H, d) 、 7. 28 ( 1 H, s ) 、 7. 46 ( 1 H, cl) p pm 製造例 63
3— [6—クロ口— 3— (2—プロピニル） 一ベンゾォキサゾリ ン一 2—オン一 5—ィル] 一 1—メチル一 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化 合物番号 3 - 9 ) の製造
DMF 1 0m lに 3— （6—クロ口べンゾォキサゾリ ン一 2 _オン一 5—ィ ル） 一 1 -メチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン 0. 20 g (0. 58 mm 0 1 ) を溶解し、 室温で 60 %水素化ナ ト リ ウム 0. 0 2 6 g (0. 65mmo 1 ) を加え、 0. 5時間撹拌した。 さらに、 臭化プロパルギル 0. 09 g (0. 76 mmo 1 ) を加え、 室温で 2時間撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出し、 有機層を水で洗浄し、 無水硫酸マグ ネシゥムで乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得られた残渣をシ リカゲルカラム クロマ卜グラフィ —で精製して目的物 0. 1 7 g (収率 7 8%) を得た。 融点 1 87〜 1 89。C
1 H - XMR ( 400 MH z、 C D C 1 3 ) 5値： 2. 38 ( 1 H, t ) 、 3. 72 (3 H, s、 ） 、 4. 60 (2 H, d) 、 6. 80 ( 1 H, d) 、 7. 1 8 ( 1 H, s 7. 37 (1 H， s) 、 7. 43 ( 1 H, d) p pm 製造例 64
3— [2—クロロー 4一 （ 1一エ トキシカルボ二ルェ 卜キシ） 一 5—二 トロフエ ニル] 一 1ーメチルー 6— ト リ フルォロメチルー 2 ( 1 H) — ピリ ドンの製造 (化合物番号 1— 280)
DMF 1 0m lに 3— （2—クロロー 4ーヒ ドロキシー 5—二 トロフユニル） - 1ーメチルー 6— ト リフルォロメチルー 2 ( 1 H) -ピリ ドン 0. 8 g (2.
2 mm 0 、 炭酸カリ ウム 0. 4 2 g (3. 0 mm o 1 ) 及び 2—ブロモプロ ピオン酸ェチル 0. 5 6 g (3. 3mmo l ) を加え、 60°Cで 2時間加熱撹拌 した。 反応終了後、 反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽出し、 有機層を水で洗 浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧下留去し、 得られた残渣 をシ リカゲルカラムクロマトグラフィ—で精製して目的物 0. 90 g (収率 94 %) を得た。 製造例 65
3— （7—クロ口一 2, 3—ジヒ ドロ一 2—メチル一 1, 4—ベンゾォキサジン 一 3—オン一 6—ィル） 一 6— ト リ フルォロメチル一 1一メチル一 2 ( 1 H) 一 ピリ ドン （化合物番号 2' - 2) の製造
エタノール 1 0m lに 3— [2—クロロー 4一 （ 1一エ トキシカルボニルエ ト キシ） 一 5—二 トロフ ヱニル] 一 1 一メチル一 6— ト リ フルォロメ チル一 2 ( 1 H ) 一 ピ リ ド ン 0. 9 0 g ( 2. O mm o l ) 、 ス ズ l g ( 8. 5mmo 1 ) を加え、 室温撹拌下濃塩酸 2m 1を加え、 1時間撹拌した。 反応終 了後、 過剰のエタノールを減圧下留去し、 飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液で中和 後、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥 した。 有機層を減圧下留去して目的物 0. 7 g (収率 9 1 %) を得た。
1 H- MR ( 3 0 0 MH z , C DC 1 3 ) 5値： 1. 6 3 ( 3 H, d) 、 3. 7 0 ( 3 H, d) 、 4. 6 7 ( 1 H， q ) 、 6. 7 7 ( 1 H. d ) 、 6. 8 3 ( 1 H, s ) 、 7. 0 8 ( 1 H, s ) 、 7. 3 5 ( 1 H, d, J = 7. 8 0 ) P P m 製造例 6 6
3— [7—クロロー 2, 3—ジヒ ドロー 2—メチルー 4 一 （2—プロピニル） 一 1， 4一べンゾォキサジン一 3—オン一 6—ィル] — 6— ト リフルォロメチルー
1一メチル— 2 ( 1 H) 一ピリ ドン （化合物番号 2' 一 1 ) の製造
DMF l Om l に 3— （7 -クロロー 2, 3—ジヒ ドロー 3—メチルー 1. 4 一べンゾォキサジン一 3—オン一 6—ィル） 一 6— トリフルォロメチル一 1 ーメ チルー 2 ( 1 H) —ピリ ドン 0. 4 0 g ( 1. 1 mmo 1 ) を溶解し、 室温でこ れに 60%水素化ナト リウム 0. 0 5 g ( l . 201010 1 ) を加ぇ、 0. 5時間 撹拌した。 さらに、 これに臭化プロパルギル 0. 2 g ( 1. 7 mmo 1 ) を加 え、 室温で 2時間撹拌した。 反応終了後、 反応溶液を水中にあけ酢酸ェチルで抽 出した。 有機層を水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 有機層を減圧 下留去し、 得られた残渣をシリ力ゲルカラムクロマ 卜グラフィ—で精製して目的 物 0. 3 4 g (収率 7 7 %) を得た。 融点 2 0 3〜 204。C
1 H-NMR ( 3 0 0MH z、 C DC 1 3) 5値： 1. 6 0 ( 3 H, d) 、 2.
2 4 ( 1 H, t ) 、 3. 7 1 ( 3 H, d) 、 4. 6 6 ( 3 H, m) 、 6. 7 8 ( 1 H, d) 、 7. 1 3 (2 H, d) 、 7. 4 6 ( 1 H, d) p pm 製造例 6 7
4一クロ口一 2—フルオロー 5—メ トキシベンジルクロリ ド （中間体番号 1 5― 1 5 ) の製造
1 N四塩化チタンのジクロ口メタン溶液に 2—クロ口一 4—フルォロアニソ一 ル 1 7. 6 g (0. 1 1 mo 1 ) を溶解し、 室温でこれにメ トキシメチルクロリ ド 88. 3 g U . 1 0 m o 1 ) を滴下後、 室温で 5時間撹拌した。 S)T、終了 後、 反応溶液を水中にあけ室温で 2時間撹拌した後、 水層を除去した。 有機層を 無水硫酸マグネシゥムで乾燥し、 ¾媒を留去した後、 得られた残渣をシリ力ゲル カラムクロマ トグラフィ ーで精製して目的物 1 5. 5 g (収率 68%) を得た。
1 H - N M R ( 300 MHz, CDC 1 3) <5値： 3. 89 ( 3 H, s) 、 5.
00 ( 2H, s) 、 6. 97 ( 1 H, d) 、 7. 1 8 ( 1 H, d ) p pm 次に、 本発明化合物のいくつかについて 1 H— NMRデータを以下に示す。
Figure imgf000126_0001
Figure imgf000127_0001
Figure imgf000128_0001
Figure imgf000129_0001
(P'HI) Si ·9 (s ΉΖ) ( Ήΐ)90 〜
■ (P 'H£)0i ·ε (m 'H9)6丄ト ΛΙ ( 'HS)9S 'I SS 'I I0Z- -I
(P 'HDA9 'L (P 'HI) 6f 'L (P 'ΗΐΠΖ Ι (P ·Ηΐ)9ί "9 s s ' s · - -I
Figure imgf000130_0001
(Ρ "HDSS .L (1 ΉΙ)96 ·9
(Ρ ΉΙ)18'9 (Ρ ·Η1)99 '9 (ΡΡ ΉΌ682 (s ·ε
ΟΟΕ (s'H£)9 Ήϊ)9Ζ 'Ζ (m 'HDiO Ζ (1 Ή£)60Ί
(Ρ 'HDZS Ί ειοαο 0 *Η1)88 '9 (Ρ Ήΐ)6Α '9 (Ρ 'Η ·9 (1 'in 'ε οοε (Ρ'ΗΕ)ε丄 Έ (S ' 07 ("· ΉΖ) 10 Ζ Ήϋεο'ΐ £8
(Ρ Ή1)Ζ9 'L (1 Ήΐ)68 ·9
(Ρ Ή1)6Ι '9 (Ρ 'HD1S 9 0 Ήΐ)ΐε (ρ Ήε)ει ε
008 Η Έ Φ ¾)Z6"I 0 'H£)02 (1 Ή8)96 Ό Z8-
(Ρ 'Η Ά ειοαο (1 Ή1)Ι6 "9 (Ρ Ήΐ)ΐ8'9 (Ρ 'm)LL '9 Ήΐ) 1^
οοε (s 'H£)£i Έ (b ΉΖ) 10 Έ (Ρ 'HE)S8'1 Ήε)0ΐΊ 08
(Ρ "HI)S9 'L επαο (ΓΗΙ 6·9 (Ρ "Ηΐ)08 '9 (Ρ'ΗΙ)09 '9 Φ ΉΙ)89
οοε (s WZL τ (m Ή2)29 "2 (PP 'HS)9i'l G 'H8)SS'l
(P'HI)SS'丄 0 Ήΐ)ΐ6'9 (P'HI) 9 (Ρ 'HOiS ·9
ΟΟΙ' (s'HZUS (s Ή8)69 Έ ΉΖ)09 Έ (1 'H£)9Z'I
(Ρ'ΗΙ) '丄 (Ρ'Ηΐ)6Ι'丄 (Ρ 'HI) 18 '9 (s Ήΐ)Ι9 "9 Έ9 '9 ( HI) 80 ' 0 οοε s 'm U £ s Ή£ 95 'Ζ Ί 'Ζ (Ρ 6S-
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(Ρ 'Ηΐ)Ι8 ·9 (s 'HI) 99 ·9 (b 'ΗΌ II ' (s Ήε)ει ε
V
(P "HDfS 'L (P Ήΐ)8ΐ 'L
nL 'H nH i fi o^ (b 'HI) II ' (s Ήε)ε丄 ε
one V1" Π L G r nc 3 1 (p Ήε)9ε'ΐ (p Ήε)οε ι OCT.
301
(P 'HDSS 'L (P Ήΐ)8Ι 'i
(P Ήΐ)Ι8'9 (s Ή099 ·9 (b 'HI) II (s 'H£)£i Έ
nc» L (P 'H£)09 I (1 ·Ηε)88 Ό
(P 'HDSS .L (Ρ Ή08Ι 'ί
(P 'HI) 18 '9 (s Ήΐ)Ζ9 '9 ΉΟΠ (s Ήε)ει ·ε
οοε (u 'HZ)S9 Ί (m 18 ·ΐ (P 'H8)ii'I (ΐ Ήε)90'ι η\- -
(P 'HOES 'L (P Ήΐ)Η Ί (Ρ ΉΙ)08 '9
ειααο (s'HI)6 9 (b 'HD99 ^ (s 'HS) 11 Έ ( 'H¾OS '£ 8ΐ Έ
οοε (m Ήΐ)38'ΐ (P W iS Ί (P Ή£)06 Ό (ΡΉ8)68 Ό εει-
(P 'HDSS 'L (P 'Hi Ί (P 'HI) 089 (s Ήΐ)6{' ·9
(m ΉΌΖ1 '卜 -£9 - (s Ήε)ει ( 'Ηΐ) 'ε〜 'ε
οοε (ui 'HS)iS ~IE'l (P 'HSU I■ [ 'ΐΓΙ "HE) ZQ Ό '58 Ό ζζν -ト
(P 'HI)£9 'L (P ΉΌΐΊ 'L (P Ήΐ)08 '9 (s 'HT)0S .9
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οοε (i" 'H2)19"I~IS"l ( as'H2US'I (1 Ήε) 06 Ό ιει
(Ρ 'H SS 'L
1 (P Ήΐ)91 'ί (P 'HI)6i ·9 (s 'HDiS '9 (s ΉΖ)6 1
ηηρ (s Ήε)ε丄 τ (p ' ε ·ε 0"'HIU8'I (Ρ Ή9)16Ό οετ
(P "HI)S .L (Ρ 'HDfl 'ί
ειοαο (P 'HI) 6丄 ·9
Figure imgf000133_0001
(PP ΉΖ) 19 (s 'HE)Si 'ε
οοε (b "HDZS Έ (m ·ΗΖ)6 (P "HE) 61.1 (1 ·Ηε) 16 Ό 6ΖΙ -ί-
(uidd) HW
ζ謂
( ΐ f拏） τετ
3d LZ19ZIL6 O/A (表 42)
Figure imgf000134_0001
次に、 前記一般式 U I— 2〕 、 一般式 〔 1 1— 3〕 、 一般式 〔 I I一 4〕 、 一般式 〔1 1— 5〕 、 一般式 〔1 1—6〕 、 一般式 〔1 1—7〕 、 一般式 〔ΠΙ - 3〕 及び一般式 〔ΠΙ— 8〕 で示される中間体化合物の代表例を表 43〜表 46に 記載する。 これら中間体化合物は文献未記載の新規化合物である。 (表 43)
Figure imgf000135_0001
Figure imgf000135_0002
表 43に示した化合物のいくつかについて 1 H— NMRデータを以下に示す < OAV卜〕d M
Figure imgf000136_0001
(表 4 5 )
Figure imgf000137_0001
中間体 R3 ≠' R5" 融点 (て）又 (i
番号 NMR
16- 1 H CI H 92-94
16- 2 F CI H
16- 3 CI CI H
16- 4 F CI OC3H7- 1
(表 4 6 )
Figure imgf000137_0002
中間体 R R2 R3 ≠' R5 ' 融点 (て）又 (i
W NMR
17- 1 CF3 H F F H 98-100
17- 2 CF3 CH3 CI CI H 147-149
17- 3 CF3 H F CI OCH3 121-122
17- 4 CF3 H F CI H 107-108
17- 5 CF3 H CI CI H
17- 6 CF3 H CI CI OCH3 132-134 本発明の除草剤は、 一般式 〔 I 一 1〕 又は一般式 〔 1 — 2〕 で示されるピリ ド ン誘導体を有効成分としてなる。 本発明化合物を除草剤として使用するには本発 明化合物それ自体で用いてもよいが、 製剤化に一般的に用いられる担体、 界面活 性剤、 分散剤または補助剤等を配合して、 粉剤、 水和剤、 乳剤、 微粒剤または拉 剤等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、 例えばタルク、 ベン トナイ ト、 ク レ一、 カオリ ン、 珪藻土、 ホワイ ト力一ボン、 パーミキユライ ト、 炭酸カルシゥ ム、 消石灰、 砂、 硫安、 尿素等の固体担体、 イソプロピルアルコール、 キシレ ン、 シクロへキサン、 メチルナフタレン等の液体担体等かあげられる。
界面活性剤及び分散剤としては、 例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、 ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、 アルコール硫酸エステル塩、 アルキルァ リールスルホン酸塩、 リグニンスルホン酸塩、 ポリオキシエチレングリ コール エーテル、 ポリオキシエチレンアルキルァリールエーテル、 ポリオキシエチレン ソルビタンモノアルキレート等があげられる。 補助剤としては、 例えばカルボキ シメチルセルロース、 ポリエチレングリコール、 アラビアゴム等があげられる。 使用に際しては適当な瀵度に希釈して散布するかまたは直接施用する。
本発明の除草剤は茎葉散布、 土壌施用または水面施用等により使用することが できる。 有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、 扮剤また は粒剤とする場合は 0. 0 1 ~ 1 0 % (重量） 、 好ましくは 0. 05〜5% (重 量） の範囲から適宜選ぶのがよい。 また、 乳剤及び水和剤とする場合は 1〜 50 °/6 (重量） 、 好ましくは 5〜30% (重量） の範囲から適宜選ぶのがよい。 本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、 対象雑草、 発生傾向、 環 境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、 粉剤及び粒剤のようにそのま ま使用する場合は、 有効成分として 1 0アール当り 0. 1 g~5 k g、 好ましく は 1 g〜 1 k gの範囲から適宜選ぶのがよい。 また、 乳剤及び水和剤とする場合 のように液状で使用する場合は、 0. 1~50, O O O p pm、 好ましくは 1 0 〜1 0, 000 p p mの範囲から適宜選ぶのがよい。
また、 本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、 殺菌剤、 他の除草剤、 植物生長 調節剤、 肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。 化合物、 添加剤の 種類及び配合比率は、 これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能であ る。 以下の説明において 「部」 は重量部を意味する。
く製剤例 1〉 水和剤
化合物 （ 2— 1 ) の 1 0部にポリオキンエチレンォクチルフエニルエーテルの 0. 5部、 —ナフタレンスルホン酸ホルマリ ン縮合物ナ ト リ ウム塩の 0. 5 部、 珪藻土の 20部、 クレーの 69部を混合粉碎し、 水和剤を得る。
〈製剤例 2〉 水和剤
化合物 （ 1— 14) の 1 0部にポリオキシエチレンォクチルフエ二ルェ一テル の 0. 5部、 /!?—ナフタレンスルホン酸ホルマリ ン縮合物ナ ト リウム塩の 0. 5 部、 珪藻土の 20部、 ホワイ トカーボンの 5部、 ク レーの 64部を混合粉砕し、 水和剤を得る。
く製剤例 3〉 水和剤
化合物 （6— 1 9) の 1 0部にポリオキシエチレンォクチルフヱニルエーテル の 0. 5部、 ーナフタレンスルホン酸ホルマリ ン縮合物ナト リウム塩の 0. 5 部、 珪藻土の 20部、 ホワイ 卜カーボンの 5部、 炭酸カルシウムの 64部を混合 粉砕し、 水和剤を得る。
〈製剤例 4〉 乳剤
化合物 （2— 7) の 30部にキシレンとィソホロンの等量混合物 60部、 界面 活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレー 卜、 ポリオキシエチレンアルキ ルァリ一ルポリマー及びアルキルァリ一ルスルホネー 卜の混合物の 1 0部を加 え、 これらをよくかきまぜることによって乳剤を得る。
〈製剤例 5 > 粒剤
化合物 （6— 9) の 1 0部、 タルクとベン 卜ナイ トを 1 ： 3の割合で混合した 増量剤の 80部、 ホワイ 卜カーボンの 5部、 界面活性剤ポリオキシエチレンソル ビ夕ンアルキレート、 ボリオキシエチレンアルキルァリ一ルポリマ一及びアルキ ルァリールスルホネー 卜の混合物の 5部に水 1 0部を加え、 よく練ってペース ト 状としたものを直径 0. 7 mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に 0. 5~ l mmの長さに切断し、 粒剤を得る。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。 尚、 比較剤とし て、 次に示す化合物を用いた。
特公昭 46 - 30 1 90号公報
Figure imgf000139_0001
明細書記載化合物 〈試験例 1〉 水田土壌処理による除草効果試験
1 00 cm 2のプラスチックポッ トに水田土壌を充填し、 代搔後、 タイヌビエ
(E c ) 、 コナギ （Mo) 及びホタルイ （S c ) の各種子を播種し、 水深 3 c m に湛水した。 翌日、 製剤例 1に準じて調製した水和剤を水で希釈し、 水面滴下し た。 施用量は、 有効成分を 1 0アール当り 1 00 gとした。 その後、 温室内で育 成し、 処理後 2 1 日目に表 47の基準に従って除草効果を調査した。 結果を表 48〜表 55に示す。
(表 47)
指数 除草効果 （生育抑制程度） 及び薬害
5 90 %以上の抑制の除草効果、 薬害
4 70 %以上 90 %未満の除草効果、 薬害
3 50%以上 70%未満の除草効果、 薬害
2 30 %以上 50 %未満の除草効果、 薬害
1 1 0%以上 30%未満の除草効果、 薬害
0 0 %以上 1 0 %未満の除草効果、 薬害
(表 4 8 ) 化合物番号 除 早 X力 果
Ε c Μ ο S c 丄 δ 5 5
1 一
0 5 5 5
1
6 5 5 5
1 一
0 5 5 5
1 一
丄 1 5 5 5
1
丄 5 5 5
1
丄 0 5 5 5
1 一
丄 4 5 5 5
1
丄 5 5 5
1
丄 b 5 δ 5
1
丄 ί 5 5 5
1
丄 b 5 5 5 丄 5 5 5
1
n f)
ά U 5 5 5
1
Δ 丄 5 5 5
1 _ ο 5 5 5
1 一
η η 5 5 5
1
4 5 5 5
1 一
と 0 5 5 5
1 一
Ο
Δ D 5 5 5
1 一
2 7 5 5 5
2 9 5 5 5
3 0 5 5 5
3 2
3 3 5 5 5
3 6 5 5 5
3 8 5 5 5
4 0 5 5 5
4 1 5 5 5 (表 4 9 ) 化合物番号 除 草 効 果
E c Mo S c
1 - 43 5 5 5
1 - 44 5 5 5
1 - 45 5 5 5
1 - 46 5 5 5
1 - 47 5 5 5
1 - 48 5 5 5
1 - 49 5 5 5
1 - 5 1 5 5 5
1 - 53 5 5 5
1 - 54 5 5 5
】 一 58 5 5 5
1 - 60 5 5 5
1 - 61 5 5 5
1 - 62 5 5 5
1 - 64 5 5 5
1 - 65 5 5 5
1 - 66 5 5 5
1 - 67 5 5 5
1 - 68 5 5 5
1 - 69 5 5 5
1 - 70 5 5 5
1 - 7 1 5 5 5
1 - 72 5 5 5
1 - 73 5 5 5
1 - 75 5 5 5
1 - 76 5 5 5
1 - 77 5 5 5
1 - 78 5 5 5
1 - 80 5 5 5 (表 50) ρへ
化合物番^ J トホ 早 効
b c M 0 C
1 一 8 1 5 5 b
1 - 82 5 5
丄 — 8 f 5
1 一 88 5 5 5
1 一 90 5 5 5
「
1 ― 91 0 5 5
1 - 97 5 5 5
1 - 99 5 5 5
1 - 1 02 5 5 5
「 「
1 - 103 5 5 5
「
1 - 104 5 5 5
「
1 - 105 5 5 5
「 「
1 - 106 5 5 5
1 - 10 5 5 5
1 - 108 5 5 b
1 - 1 1 2 5 5 5
「
1 - 1 1 5 5 5 5
「 「
1 - 1 1 9 5 5 5
「 「
1 - 1 21 5 5 5
1 - 1 22 5 5 5
1 - 123 5 5 5
「 丄 一 1 24 5 5 5
1 - 1 26 5 5 5
1上 - 1 27 5
1 - 128 5 5 4
1 - 130 5 5 5
1 - 1 3 1 5 5 5
1 - 1 33 5 5 5
1 - 1 34 5 5 5 (表 5 化合物番号 除 草 効 果
E c o S c
1 - 1 35 5 δ 5
1 - 136 5 5 5
1 - 138 5 5 5
1 - 1 39 5 5 5
1 - 140 5 5 5
1 - 141 5 5 5
1 - 142 5 5 5
1 - 143 5 5 5
1 - 144 5 5 5
1 - 145 5 5 5
1 - 147 5 5 5
1 - 149 5 5 5
1 - 150 5 5 5
1 - 1 51 5 5 5
1 - 1 52 5 5 5
1 - 153 5 5 5
1 - 154 5 5 5
1 - 155 5 5 5
1 - 1 57 5 5 5
1 - 1 58 5 5 5
1 - 1 59 5 5 5
1 - 1 60 5 5 5
1 - 161 5 5 5
1 - 162 5 5 5
1 - 1 63 5 5 5
1 - 1 64 5 5 5
1 - 1 65 5 5 5
1 - 1 66 5 5 5
1 - 167 5 5 5 (表 52) 化合物番号 除 早 カ 果
E c Μ 0 S c
1 - 1 68 5 5 5
1 - 1 69 5 5 5
1 - 170 5 5 5
1 - 171 5 5 5
1 - 172 5 5 5
1 - 173 5 5 5
1 - 174 5 5 5
1 - 1 75 5 5 5
1 - 1 76 5 5 5
1 - 177 5 5 5
1 - 1 78 5 5 5
1 - 1 79 5 5 5
1 - 1 80 5 5 5
1 - 1 8 1 5 0 5
1 - 1 82 5 5 5
1 - 183 5 5 5
1 - 1 84 5 5 5
1 - 1 86 5 5 4
1 - 1 87 5 5 5
1 - 1 88 5 5 5
1 - 1 89 5 5 5
1 - 1 90 5 5 5
1 - 1 91 5 5 5 丄 一 丄 ο ς C
0
1 - 1 93 5 5 5
1 - 194 5 5 5
1 - 1 95 5 5 5
1 - 1 96 5 5 5
1 - 1 97 5 5 5 (表 53 ) 化合物番号 除 草 効 果
E c Mo S c
1 - 198 5 5 5
1 - 1 99 5 5 5
1 - 200 5 5 5
1 - 201 5 5 5
1 -202 5 5 5
1 - 203 5 5 5
1 - 204 5 5 5
1 - 205 5 5 5
1 - 206 5 5 5
1 - 207 5 5 5
1 - 208 5 5 5
1 - 209 5 5 5
1 - 21 0 5 5 5
1 - 2 1 1 5 5 5
1 - 212 5 5 4
1 - 256 5 5 5
1 - 257 5 5 5
1 ' - 1 5 5 5
1' - 3 5 5 4
Γ 一 4 5 5 5
1' - 5 5 5 5
1， - 6 5 5 5
2 一 1 5 5 5
2 - 2 5 5 5
2 - 4 5 5 5
2 - 7 5 5 5
2 - 1 1 5 5 5
2 - 12 5 5 5
2 - 1 3 5 5 5 (表 5 4 ) 化合物番号 早 ¾J 呆
T匕 C M o o C
2 cr 一 1 5 5 5 0 cr
2 一 1 6 0 b 0
2 一 1 7 Ό 0 0
2 一 1 8 5 Ό 0
2 一 1 9 5 0
2 一 2 0 5 5 5
2 一 2 1 5 5 5 一 2 5 5 5 5
2 一 2 6 5 5 5
2 - 2 7 5 5 5
2 一 2 9 5 5 5
c
2 一 3 0 0 b
r-
2 一 3 1 b 0 Ό
2 一 3 2 5 5 5
2 . - 1 5 5 5
3 一 1 5 5 5
3 一 5 5 5 5
3 一 6 5 5 5
3 一 7 5 5 5
3 一 9 5 5 5
4 一 2 5 0 5
4 一 1 b b 5
4 一 3 c
0 D 5 一 4 5 5 5
4 一 5 5 5 5
4 一 6 5 5 5
4 一 7 5 5 5
4 一 1 0 5 5 5
4 一 1 3 5 5 5 (表 5 5 ) 化合物番号 除 草 効 果
E c M o S c
4 ― 1 6 5 5 5
4 - 2 4 5 5 5
4 一 2 6 0 5 5
4 一 2 7 5 5 5
4 一 2 8 5 5 5
4 一 2 9 0 5 5
4 一 3 0 5 5 5
4 一 3 1 5 5 5
4 一 3 2 5 5 5
4 一 3 3 5 5 5
4 一 3 4 5 5 5
5 一 1 5 5 5
5 - 2 5 5 5
5 一 3 5 5 5
6 - 1 5 5 5
6 一 7 5 5 5
6 一 8 5 5 5
6 一 9 5 5 5
6 一 1 0 δ 5 δ
6 一 1 4 5 0 b
6 - 1 9 5 5 5
7 一 1 5 5 5
9 一 1 5 5 5
9 一 2 5 5 5
1 1 一 6 5 5
5
く試験例 2 > 畑地土壌処理による除草効果試験
1 2 0 c m 2プラスチッ クポ ッ トに砂を充填し、 ヒェ （ E c ) 、 メ ヒシバ
( D i ) 、 ォオイヌ夕デ （ P 0 ) 、 ァオビュ （A m) 、 シロザ （ C h ) 、 コゴメ ガヤッリ （C i ) の各種子を播種して覆土した。 製剤例 1に準じて調製した水和 剤を水で希釈し、 1 0アール当り有効成分が 1 0 0 gになる様に、 1 0アール当 り 1 0 0 1を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成 し、 処理 2 1 日目に表 4 7の基準に従って、 除草効果を調査した。 結果を表 5 6〜表 6 2に示す。
(表 56 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P o Am C h C i
1 一 1 5 δ D 5 5 5
1 一 2 5 0 5 5 5 5
1 一 3 5 0 5 5 5 5
1 一 5 δ 5 5 5 5 5
1 - 1 1 5 5 5 5 5 5
1 - 14 5 5 5 5 5 5
1 - 15 5 5 5 5 5 5
1 - 1 6 5 5 5 5 5 5
1 - 1 7 5 ¾ 5 5 5 5
1 - 1 8 0 5 5 5 5 5
1 - 20 5 5 5 5 5 5
1 - 21 5 5 5 5 5 5
1 - 24 5 5 5 5 5 5
1 - 25 5 5 5 5 5 5
1 - 26 δ 5 5 5 5 5
1 - 27 5 5 5 5 5 5
1 - 29 5 5 5 5 5 5
1 - 30 5 5 5 5 5 5
1 - 32 5 5 5 5 5 5
1 - 38 5 5 5 5 5 5
1 - 4 1 5 5 5 5 5 5
1 - 43 5 5 5 5 5 5
1 - 44 5 5 5 5 5 5
1 - 5 1 4 5 5 5 5 5
1 - 52 5 5 5 5 5 5
1 - 60 5 5 5 5 5 5
1 - 6 1 5 5 5 5 5 5
1 - 62 5 5 5 5 5 5
1 - 64 5 5 5 5 5 5 (表 57 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P o Am C h C i
1 - 65 5 5 5 5 5 5
1 - 66 5 5 5 5 5 5
1 - 67 5 5 5 5 5 5
1 - 69 5 5 5 5 5 5
1 - 7 1 5 5 5 5 5 5
1 - 72 5 5 5 5 5 5
1 - 73 4 5 5 5 5 5
1 - 76 5 5 5 5 5 5
1 - 77 5 5 5 5 5 5
1 - 78 5 5 5 5 5 5
1 - 80 5 5 5 5 5 5
1 - 81 5 5 5 5 5 5
1 - 82 4 5 5 5 5 5
1 - 87 5 5 5 5 5 5
1 - 88 4 5 5 5 5 5
1 - 90 5 5 5 5 5 5
1 - 91 5 5 5 5 5 5
1 - 99 5 5 5 5 5 5
1 - 1 02 5 5 4 5 5 5
1 - 1 03 4 5 5 5 5 5
1 - 104 5 5 5 5 5 5
1 - 1 05 5 5 5 5 5 5
1 - 1 06 5 5 5 5 5 5
1 - 1 08 5 5 5 5 5 5
1 - 1 1 2 5 5 5 5 5 5
1 - 1 19 5 5 5 5 5 5
1 - 1 21 5 5 5 5 5 5
1 - 1 22 5 5 5 5 5 5
1 - 126 5 5 5 5 5 5 (表 58 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P 0 Am C h C i
1 - 1 31 5 5 5 5 5 5
1 - 1 33 5 5 5 5 5 5
1 - 1 34 5 5 5 5 5 5
1 - 1 35 5 5 5 5 5 5
1 - 1 36 5 5 5 5 5 5
1 - 1 38 5 5 5 5 5 5
1 - 140 5 5 5 5 5 5
1 - 14 1 4 5 5 5 5 5
1 - 143 5 5 5 5 5 5
1 - 144 5 5 5 5 5 5
1 - 1 48 5 5 5 5 5 5
1 - 149 5 5 5 5 5 5
1 - 1 50 5 5 5 5 5 5
1 - 1 5 1 5 5 5 5 5 5
1 - 152 5 5 5 5 5 5
1 - 1 54 5 5 5 5 5 5
1 - 1 55 5 5 5 5 5 5
1 - 1 57 5 5 5 5 5 5
1 - 1 58 5 5 5 5 5 5
1 - 159 5 5 δ 5 5 5
1 - 1 60 5 5 5 5 5 5
1 - 1 61 5 5 5 5 5 5
1 - 1 62 5 5 5 5 5 5
1 - 1 63 5 5 5 5 5 5
1 - 1 64 5 5 5 5 5 5
1 - 165 5 5 5 5 5 5
1 - 1 66 5 5 5 5 5 5
1 - 167 5 5 5 5 5 5
1 - 1 68 5 5 5 5 5 5 (表 59 除 早 効 果
化合物番 E c D i ο Am し h し 1
1 - 1 69 5 δ 5 5 5
1 - 1 / 0 0 5 5 5 5 5
1 一 1 丄 5 5 5 5 5 5
（ 「
1 - 1 / 2 δ 5 5 5 5 5
「
1 - 1 3 5 5 5 5 5 5
「 「 「 「
1 - 1 74 5 5 5 5 5 5
「
1 - 1 75 5 5 5 5 5 5
「 「 「
1 - 1 / 6 5 5 5 5 5 5
「 「
1 - 1 / 8 0 5 δ 0 5 5
「
1 - 1 9 5 5 5 5 「 5 5
1 — 1 81 5 5 5 5 5 5
「 「
1 - 1 82 5 5 5 5 5 5
1 - 1 84 5 5 5 5 5 5
「 「 「 「
1 - 185 5 5 4 5 5 5
「 「
1 - 1 86 5 5 5 5 5 5
1 - 1 87 5 5 5 5 5 5
1 - 1 88 5 5 5 5 5 5
「 「 「 「 「
1 - 1 89 5 5 5 5 5 5
厂
1 - 1 90 5 5 5 5 5 5
1 - 1 91 0 5 5 5 5 5
1 — 1 92 5 5 5 5 5 5
「
1 ~ 1 93 5 5 5 5 5 5
「 「
1 - 1 94 5 5 5 5 「
5 5
1 1 c
丄 ー 丄 Q C
y t> 5 o Ό r 0 b Ό
1 - 1 96 5 5 5 5 5 5
1 - 1 97 5 5 5 5 5 5
1 - 1 99 5 5 5 5 5 5
1 - 200 5 5 5 5 5 5
1 - 201 5 5 5 5 5 5 (表 60 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P 0 Am C h C i
1 - 202 5 5 0 5 5 5
1 - 203 5 5 5 5 5 5
1 - 204 5 5 5 5 5 5
1 -205 5 5 5 5 0 5
1 - 206 5 5 5 5 5 5
1 - 207 5 5 5 5 5 5
1 - 208 5 5 5 5 5 5
1 - 209 4 4 5 5 5 5
1 - 21 0 5 4 5 5 5 5
1 - 2 1 1 5 5 5 5 5 5
1 - 256 5 5 5 5 5 5
1 -257 5 5 5 5 5 5
1, 一 1 5 5 5 5 5 5
Γ 一 3 5 5 5 5 5 5
Γ 一 4 5 5 5 5 5 5
1, 一 5 5 5 5 5 0 5
1. 一 6 5 5 0 5 5 5
2 一 1 5 5 5 5 5 5
2 - 2 5 5 0 5 5 5
2 - 4 5 5 5 5 5 5
2 - 7 5 5 5 5 5 5
2 - 10 5 5 5 5 5 5
2 - 1 1 5 5 5 5 5 5
2 - 1 2 5 5 5 5 5 5
2 - 1 3 5 5 5 5 5 5
2 - 14 5 5 5 5 5 5
2 - 1 5 5 5 5 5 5 5
2 - 1 6 5 5 5 5 5 5
2 - 1 7 5 5 5 5 5 5 (表 6 1 ) 除 草 効
化合物番号 E c D i P o A m C h C i 丄 5 5 5 5 5 5
0
丄 5 5 5 5 5 5 ά 0
0 5 5 5 5 5 5 ― 0 5 5 5 5 5 5 o
L ί 5 5 5 5 5 5 一 y 5 5 5 5 5 5 o — 丄 5 5 5 5 5 5
L 一 o 5 5 5 5 5 5 一 1 5 5 5 5 5 5
0 ― 1 5 5 5 5 5 5
c
O 一 b 5 5 5 5 5 5 o ― D 5 5 5 5 5 5
O ― 7 5 5 5 5 5 5 n
0 ― 9 5 5 5 5 5 5 一 丄 5 5 5 5 5 5
4 一 5 5 5 5 5 5
A Q
4 ― 5 5 5 5 5 5
4 一 4 5 5 5 5 5 5 一 b 5 5 5 5 5 5 一 ί 5 5 5 5 5 5
A 一 丄 u 5 5 5 5 5 5
4 一 1 3 5 5 5 5 5 5
4 一 1 6 5 5 5 5 5 5
4 - 2 4 4 5 5 5 5 5
4 - 2 6 5 5 5 5 5 5
4 一 2 7 4 5 5 5 5 5
4 一 2 8 4 5 5 5 5 5
4 一 2 9 5 5 5 5 5 5
4 一 3 0 5 δ 5 5 5 5 (表 6 2 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D Ρ 0 A m C h C i
4 一 3 1 0 5 5 5 5 5
4 一 3 2 5 5 5 5 5 5
4 一 3 3 5 5 5 5 5 5
4 - 3 4 5 5 5 5 5 5
4 一 3 5 5 5 Ό 5 5 5
4 一 3 6 5 5 5 5 5 5
4 一 3 7 5 5 5 0 5 5
5 一 1 5 5 5 5 5 5
5 一 2 5 5 5 5 5 5
5 - 3 5 5 5 5 5 5
6 一 2 4 5 5 5 5 5
6 一 7 5 5 5 5 5 5
6 一 8 5 5 0 5 5 5
6 — 9 5 5 5 5 5 5
6 一 1 0 δ 5 5 5 5 5
6 一 1 4 5 5 5 5 5 5
r-
6 一 1 9 D 0 Ό □ 0 5
7 一 1 5 5 5 5 5 5
一 1 5 5 5 5 5 5
9 一 2 5 5 δ 5 5 5
1 1 - 6 5 5 5 5 5 5
比 較 剤 0 0 0 0 0 0
〈試験例 3〉 畑地茎葉処理による除草効果試験
1 2 0 c m 2プラスチッ クポ ッ トに砂を充填し、 ヒェ （ E c ) 、 メ ヒ シバ
( D i ) 、 ォオイヌタデ （ P 0 ) 、 ァオビュ （A m ) 、 シロザ （ C h ) 、 コゴメ ガヤッリ （C 1 ) の各種子を播種し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて 調製した水和剤を水に希釈し、 1 0アール当り有効成分が 1 0 0 gになる様に、 1 0アール当り 1 0 0 1を小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理し た。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4日目に表 4 7の基準に従って、 除草効果 を調査した。 その結果を表 6 3〜表 6 9に示す。 —は未試験を表す =
(表 63 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P 0 Am C h C i
1 一 2 0 5 0 5 0 5
1 - 3 5 5 5 5 5 5
1 一 5 5 5 5 5 5 5
1 - 1 1 5 5 5 5 5 5
1 - 13 5 5 5 5 5 5
1 - 14 5 5 5 5 5 5
1 - 1 5 5 5 5 5 5 5
1 - 1 6 5 5 5 5 5 5
1 - 17 5 5 Ό 5 5 5
1 - 18 5 5 5 5 5 5
1 - 19 5 5 5 5 5 5
1 - 20 5 5 5 5 5 5
1 - 21 5 5 5 5 5 5
1 一 22 5 5 5 5 5 5
1 - 24 5 5 5 5 5 5
1 - 25 5 5 5 5 5 5
1 - 26 5 5 5 5 0 5
1 - 27 5 5 5 5 5 5
1 - 29 5 5 5 5 5 5
1 - 30 5 5 5 5 5 5
1 - 32 5 5 5 5 5 5
1 - 33 5 4 4 5 5 5
1 - 38 5 5 5 5 5 5
1 - 41 5 5 5 5 5 5
1 - 43 5 5 5 5 5 5
1 - 44 5 5 5 5 5 5
1 - 45 5 5 5 5 5 5
1 - 46 5 5 5 5 5 5
「
1 - 48 5 5 5 5 0 5 (表 64 ) 八
除 早 ¾J 果
化合物番号 E c D P o Am C h C
1 - 49 5 5 5 5 5 5
1 - δ 1 4 5 5 5 5 5
1 - 54 5 5 4 5 5 5
1 一 60 5 5 5 5 5 5
1 - 61 5 5 5 5 5 5
1 - 62 5 5 5 5 5 5
1 - 63 5 5 5 5 5 5
1 - 64 5 5 5 5 5 5
1 - 65 5 5 5 5 5 5
1 - 66 5 5 5 5 5 5
1 - 67 5 5 5 5 5 5
1 - 68 5 5 5 5 5 5
1 - 69 5 5 5 5 5 5
1 - 70 5 5 5 5 5 5
1 - 71 5 5 5 5 5 5
1 - 72 5 5 5 5 5 5
1 - 76 5 5 5 5 5 5
1 一 77 5 5 5 5 5 5
1 一 78 5 5 5 5 5 5
1 - 80 5 5 5 5 5 5
1 - 81 5 5 5 5 5 5
1 - 82 4 5 5 5 5 5
1 - 84 5 5 5 5 5 5 ο 「 「
5 0 5 5 5 5
1 - 90 5 5 5 5 5 5
1 - 91 5 5 5 5 5 5
1 - 99 5 5 5 5 5 5
1 - 102 5 5 5 5 5 5
1 - 1 04 5 5 5 5 5 5 (表 65) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P 0 Am C h C i
1 - 1 05 0 5 5 5 D 5
1 - 1 06 5 5 5 5 5 5
1 - 1 08 5 5 5 5 5 5
1 - 1 1 6 4 4 5 5 5 5
1 - 1 1 9 5 5 5 5 5 5
1 - 1 21 5 5 5 5 5 5
1 - 1 22 5 5 5 5 5 5
1 - 1 23 4 5 5 5 5 5
1 - 1 24 5 5 5 5 5 5
1 - 1 25 5 5 5 5 5 5
1 - 1 26 5 5 5 5 5 5
1 - 1 27 4 5 5 5 5 5
1 - 1 29 5 5 5 5 5 5
1 - 1 33 0 5 5 5 5 5
1 - 1 34 5 5 5 5 5 5
1 - 1 35 5 5 5 5 5 5
1 - 1 36 5 5 5 5 5 5
1 - 1 38 5 5 5 5 5 5
1 - 1 39 5 5 5 5 5 5
1 - 140 4 5 5 5 5 5
1 - 14 1 5 5 δ 5 5 5
1 - 1 42 5 5 5 5 5 5
1 - 1 43 5 5 5 5 5 5
1 - 144 5 5 5 5 5 5
1 - 145 5 5 5 5 5 5
1 - 148 5 5 5 5 5 5
1 - 149 5 5 δ 5 5 5
1 - 1 50 5 5 5 5 5 5
1 - 1 5 1 5 5 0 5 5 5 (表 66 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P 0 Am C h C i
1 - 1 52 5 5 5 5 5 5
1 - 1 54 5 5 5 5 5 5
1 - 1 55 5 5 5 5 5 5
1 - 1 57 5 5 5 5 5 5
1 - 1 58 5 5 5 5 5 5
1 - 1 59 5 5 5 5 5 5
1 - 1 60 5 5 5 5 5 5
1 - 1 61 5 5 5 δ 5 5
1 - 1 62 5 5 5 5 5 5
1 - 1 63 5 5 5 5 5 5
1 - 1 64 5 5 5 5 5 5
1 - 1 65 5 5 5 5 5 5
1 - 1 66 4 5 5 5 5 5
1 - 1 67 5 5 5 5 5 5
1 - 1 68 5 5 5 5 5 5
1 - 1 69 5 5 5 5 5 5
1 - 170 5 5 5 5 5 5
1 - 171 5 5 5 5 5 5
1 - 1 72 5 5 5 5 5 5
1 - 1 73 5 5 5 5 5 5
1 - 1 74 5 5 5 5 5 5
1 - 175 5 5 5 5 5 5
1 - 1 76 5 5 5 5 5 5
1 - 1 78 5 5 5 5 5 5
1 - 1 79 5 5 5 5 5 5
1 - 1 80 4 4 5 5 5 5
】 一 1 8 1 5 5 5 5 5 5
1 - 1 82 5 5 5 5 5 5
1 - 1 83 4 5 5 5 5 5 (表 67) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P 0 Am C h C i
1 - 1 84 5 5 5 5 5 5
1 - 1 87 5 5 5 5 5 5
1 - 1 88 5 5 5 5 5 5
1 - 189 5 5 5 5 5 5
1 - 1 90 5 5 5 5 5 5
1 - 1 91 5 5 5 5 5 5
1 - 1 92 5 5 5 5 5 5
1 - 1 93 5 5 5 5 5 5
1 - 1 94 5 5 5 5 5 5
1 - 1 95 5 5 5 5 5 5
1 - 1 96 5 5 5 5 5 5
1 - 1 97 5 5 5 5 5 5
1 - 1 98 5 5 5 5 5 5
1 - 1 99 4 5 5 5 5 5
1 - 200 5 5 5 5 5 5
1 -201 4 5 5 5 5 5
1 - 202 5 5 5 5 5 5
1 -203 5 5 5 5 5 5
1 - 204 5 5 5 5 5 5
1 - 205 5 5 5 5 5 5
1 - 206 5 5 5 5 5 5
1 - 207 5 5 5 5 5 5
1 - 208 5 5 5 5 5 5
1 -2 1 0 4 5 5 5 5 5
1 -21 1 4 5 5 5 5 5
1 -256 5 5 5 5 5 5
1 ' 一 1 5 5 5 5 5 5
Γ 一 3 5 5 5 5 5 5
1, 一 4 5 5 5 5 5 5 (表 6 8 ) p入 pa
除 草 ヌカ 果
化合物番号 Ε c D l P 0 A m C h し 1
5 5 5 5 5 5
1 a
丄 D 5 5 5 5 5 5
9 ― 1
丄 5 5 5 5 5 5
9 ― 0 5 5 5 5 5 5 ― A 5 5 5 5 5 5
7 5 5 5 5 5 5 o ―
丄 U 5 5 5 5 5 5
9 ― 丄 丄 5 5 5 5 5 5
9 1丄 o c» 5 5 5 5 5 5 一 1
丄 \ Q 5 5 5 5 5 5 > 丄 *ί 5 5 5 5 5 5
1
C 丄 c《J: 5 5 5 5 5 5
9 ― 丄 ο 5 5 5 5 5 5 ― 1丄 / 5 5 5 5 5 5
9 ― 1
丄 Q ί? 5 5 5 5 5 5
0 ― 0 5 5 5 5 5 υ 5 5 5 5 5 5 q 5 5 5 5 5 5
Ο 丄 5 5 5 5 5 5
9 1
丄 5 5 5 5 5 5
3 1 5 5 5 5 5 5
3 5 5 5 5 5 5 5
3 6 5 5 5 5 5 5 c c c c c
3 7 0 D o D 0 D
4 1 5 5 5 5 5 5
4 2 5 5 5 5 5 5
4 - 3 5 5 5 5 5 5
4 - 4 5 5 5 5 5 5
4 5 5 5 5 5 5 5 (表 6 9 ) 除 草 効 果
化合物番号 E c D i P ο A m C h C i
4 - 6 δ 4 0 5 5 5
4 一 7 5 5 δ 5 5 5
4 一 1 0 5 5 0 5 5 5
4 一 1 6 5 5 D 5 5 5
4 一 2 4 4 5 Ό 5 5 5
4 - 2 7 4 5 5 5 5 5
4 一 2 8 4 5 5 5 5 5
4 一 2 9 5 5 5 5 5 5
4 一 3 1 5 5 5 5 5 5
4 一 3 2 5 5 5 5 5 5
4 一 3 3 0 5 5 5 5 5
4 - 3 4 5 5 5 5 5 5
4 一 3 5 5 5 δ 5 5 5
4 - 3 6 5 5 5 5 5 5
4 一 3 7 5 5 5 5 5 5
0 ― 1 5 5 5 5 5 5
5 一 2 5 5 5 5 5 5
5 一 3 5 5 5 5 5 5
6 一 2 4 5 5 5 5 5
6 一 7 5 5 5 5 5 5
6 一 8 5 5 δ 5 5 5
6 一 9 5 5 5 5 5 5
6 ― 1 0 5 5 5 5 5 5
6 一 1 4 5 5 5 5 5 5
6 - 1 9 5 5 5 5 5 5
7 一 1 5 5 5 5 5 5
9 一 1 5 5 5 5 5 5
9 一 2 5 5 5 5 5 5 比較 1 0 0 0 5 1 〈試験例 4 } 畑地土壌処理による作物選択性試験
6 0 0 c m 2 プラスチッ クポ ッ トに砂を充填し、 ヮ タ （G o ) 、 メ ヒ シパ'
(D i J 、 エノ コログサ （S e) 、 ォオイヌタデ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （A b) の各種子を播種して覆土した。 翌日、 製剤咧 1 に準じて調製した水和剤の所定有効成分量 （a i , g/ 1 0 a ) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。 その後、 温 室内で育成し、 処理後 2 1日目に表 47の基準に従って除草効果及び薬害を調査 した。 試験結果を表 70〜表 73に示す。 —は未試験を表す。
(表 70 ) 化合物 量 除 草 効 果 mm a 1. g
番 / 1 0 a Di Se Po Am Ch Ab Go
1 - 1 4 6 3 D Ό • Ό 0
1 6 5 ― 5 5 5 4 0
1 - 1 5 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 6 ― 5 5 5 5 5 0
1 - 1 6 6 3 ― 5 5 5 5 5 0
1 6 ― 5 5 5 5 5 0
1 - 1 7 6 3 ― 5 5 5 5 4 0
1 6 一 δ 5 5 5 5 0
1 - 1 8 6 3 ― 5 〇 5 5 5 1
1 6 ― 5 5 5 5 5 1
1 - 25 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 - 27 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 6 ― 5 5 5 5 5 1
1 - 30 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 6 ― 5 5 5 5 5 0
1 - 4 1 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 - 43 6 3 ― 5 5 5 5 4 0
1 一 44 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 - 65 6 3 ― 5 0 5 5 5 0
1 6 ― 5 5 5 5 5 0
1 - 7 1 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 - 72 6 3 ― 5 5 5 5 5 0
1 6 一 5 5 5 5 5 0
] — 87 ί 6 3 1
1 - 90 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 9 1 6 3 5 5 5 5 5 1
1 6 5 5 5 5 5 0
1 - 1 1 9 6 - 3 5 5 5 5 5 0
1 - 1 22 6 . 3 5 5 5 5 5 0 (表 7 1 ) 化合物 * 里 除 草 カ 果 宝 a i， g
/ 1 0 a Di Se Po Am Ch Ab Go
1 - 1 36 6 3 5 5 5 〇 0 1
1 - 1 38 6 3 5 5 5 5 4 1
1 - 1 50 6 3 5 5 5 5 5 0
1 - 1 5 1 6 3 5 5 5 0 〇 1
1 - 1 54 6 3 5 5 5 5 5 0
1 - 1 55 6 3 5 5 5 5 5 0
1 6 5 5 5 5 5 0
1 - 1 60 6 3 5 5 5 5 5
1
1 - 1 67 6 3 5 5 5 5 5
1
1 - 1 70 6 • 3 5 5 5 5 0
1
1 - 1 7 1 6 . 3 5 5 5 5 5
1 - 172 6 . 3 5 5 5 5 5
1
1 - 173 6 . 3 5 5 5 5 5
1
1 - 178 6 . 3 5 5 5 5 5
1
1 . 6 5 5 5 5 5
1
1 - 1 79 6 3 5 5 5 5 5 0
1 - 1 81 6 . 3 一 5 5 5 5 5 0
1 - 1 82 6 • 3 一 5 5 5 5 0 0
1 - 1 87 6 . 3 一 5 5 5 5 5 0
1 - 1 88 6 - 3 5 5 5 5 5 0
1 - 1 89 6 . 3 5 5 5 5 5 0
1 - 1 9 1 6 . 3 5 5 5 5 5 1
1 - 1 92 β o . O Q 5 5 5 5 5 0
1 - 194 6 • 3 二 5 5 5 5 5 1
1 - 1 96 6 . 3 5 5 5 5 5 0
1 - 1 97 6 • 3 5 5 5 5 5 1
1 - 202 6 . 3 5 5 5 5 5 1
1 • 6 5 5 5 5 5 1
1 - 205 6 . 3 5 5 5 5 4 1 (表 7 2 ) 化合物 薬 量 除 草 効 果 ^ま a 1 ，
S / 1 0 a Di Se Ρο Am Ch Ab Go 一
1 2 0 7 6 3 ― 5 0 5 5 5 0 一
1 2 0 8 6 3 ― 「
0 4 5 5 5 1 一
1， 1 6 3 ― 0 5 5 5 5 0
1 ' 4 6 3 5 5 5 5 5 0 ΐ ' 一 5 6 3 ― 5 5 5 5 5 0
1 6 ― 4 5 5 5 5 0
2 一 1 1 6 5 5 5 5 5 5 2
2 一 7 6 3 5 5 5 5 5 5 1
1 6 5 4 5 5 4 5 0
2 一 1 5 6 3 ― 5 5 5 5 5 0
2 一 2 5 6 3 ― 5 5 5 5 5 0
1 6 ― 5 0 5 5 5 0
2 一 2 6 6 3 一 5 5 5 5 5 1
2 ' 一 1 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
3 一 1 6 3 ― δ 5 5 5 5 1
1 6 ― 5 5 5 5 5 0
4 ― 1 6 3 一 5 5 5 5 5 1
1 6 ― 5 5 5 5 5 0
4 一 2 6 3 5 5 5 5 5 2
1 6 ― 5 5 5 5 5 1
4 ― 3 6 3 ― 5 5 5 5 5 0
4 4 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
1 . 6 5 5 5 5 5 0
4 5 6 . 3 5 5 5 5 5 2
4 7 6 3 5 5 5 5 5 1
4 2 8 6 3 5 5 5 5 5 1
1 6 5 5 5 5 5 0
5 2 6 . 3 5 5 5 5 5 1
6 9 6 - 3 5 5 5 5 5 0 (表 7 3 ) 化合物 ί¾ 里 除 草 ヌカ 、
a i , g
畨 / 1 0 a Di Se Po Am Ch Ab Go
「
6 一 1 0 6 3 5 5 5 5 5 5 1
1 6 5 4 5 5 5 4 0
「 「
6 一 1 9 6 3 5 ΰ 5 5 5 5 0
1 • 6 5 5 5 5 D 3 0
7 - 1 6 . 3 5 5 5 5 1
9 一 1 6 • 3 5 5 5 5 5 5 0
1 . 6 5 5 4 5 5 5 0
9 一 9 6 . 3 5 5 5 5 δ 5 0
1 . 6 5 5 5 5 5 5 0
〈試験例 5 > 畑地土壌処理による作物選択性試験
6 0 0 c m 2ブラスチッ クポッ トに砂を充填し、 コムギ （T r ) 、 メ ヒ シバ
(D i ) 、 ェノコログザ （S e) 、 ォオイヌ夕デ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （A b) の各種子を播種して覆土した。 翌日、 製剤例 1 に準じて調製した水和剤の所定有効成分量 （a i , g/ 1 0 a ) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 0 0 1を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。 その後、 温 室内で育成し、 処理後 2 1日目に表 4 7の基準に従って除草効果及び薬害を調査 した。 試験結果を表 7 4〜表 7 6に示す。 —は未試験を表す。
163
(表 7 4 ')
Figure imgf000170_0001
(表 ( )
Figure imgf000171_0001
(表 76 )
Figure imgf000172_0001
〈試験例 6 > 畑地土壌処理による作物選択性試験
6 0 0 cm 2プラスチッ クポッ トに砂を充填し、 ダイズ （G 1 ) 、 メ ヒシバ
(D i ) 、 ェノ コログザ （ S e ) 、 ジ ョ ンソ ングラス （S o) 、 ォオイ ヌ 夕デ
(P 0 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播種 して覆土した。 翌日、 製剤例 1 に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
(a 1 , gZl 0 a) を水で希釈し、 10アール当り 1 00 1を小型噴霧器で土 壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内で育成し、 処理後 2 1 日目に表 47の 基準に従って除草効果及び薬害を調査した。 試験結果を表 77〜表 79に示す。 -は未試験を表す。 (表 77 ) 化合物 朵 里 除 草 ヌカ 果 薬害 a i , g
番 / 1 0 a Di Se So Po Am Ch Ab Gl
1 一 1 5 1. 6 5 5 5 5 5 ノ
「
1 一 1 6 1 - 6 5 5 5 5 5 1
1 - 1 7 1 - 6 5 5 5 5 5 0
1 - 1 8 1. 6 5 5 5 5 5 1
1 - 25 6. 3 5 5 5 5 5 2
1 - 30 1 - 6 5 5 5 5 5 1
1 - 43 6. 3 5 5 5 5 4 1
1 - 44 6. 3 5 5 5 5 5 1
1 - 65 6. 3 5 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 5 1
1 - 72 6. 3 5 5 5 5 5 2
1. 6 5 5 5 5 5 1
1 - 87 6. 3 5 5 5 5 5 1
1 - 90 6. 3 5 5 5 5 5 2
1. 6 5 5 5 5 5 2
1 - 9 1 6. 3 5 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 5 0
1 - 1 1 9 6. 3 5 5 5 5 5 2
1 — 1 22 6. 3 5 5 5 5 5 2
1 - 1 36 6. 3 5 5 5 5 5 1
1. 6 5 5 5 5 4 0
1 - 1 38 6. 3 5 5 0 5 4 2
1 - 1 50 5 5 5 5 5 1
1 - 1 5 1 6. 3 二 5 一— 5 5 5 5 0
1 - 1 54 6. 3 5 5 5 5 5 1
1 - 1 55 6. 3 5 5 5 5 5 0
1. 6 5 5 5 5 5 0
1 - 1 60 6. 3 5 5 5 5 5 1
1 - 1 67 6. 3 5 5 5 5 5 1 8 化合物 5*ί 里 除 草 効 果 薬害 a i， g
番 / 1 0 a Di Se So Po Am Ch Ab Gl
- 1 7 0 6 3 5 ― 5 5 5 5 2
- 1 7 1 6 3 ― 5 ― 5 5 5 5 1
- 1 7 3 6 3 ― 5 一 5 5 5 5 1
- 1 8 1 6 3 ― 5 ― 5 5 5 5 1
- 1 8 2 6 3 ― 5 一 5 5 5 5 1
- 1 8 7 6 3 ― 5 ― 5 5 5 5 1
- 1 8 8 6 3 ― 5 ― 5 5 5 5 1 一 1 8 9 6 3 ― D ― 5 5 5 5 1
- 1 9 1 6 3 ― 5 ― 5 D 5 5
- 1 9 2 6 3 ― 5 ― 5 5 5 5 1 一 1 9 4 6 3 ― 5 ― 5 5 5 5 1 一 1 9 7 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
- 2 0 2 1 6 ― 5 ― 5 5 5 5
- 2 0 5 6 3 ― 5 ― 5 5 5 4 1
- 2 0 7 6 3 ― 5 5 5 5 5 1
- 2 0 8 6 3 ― 5 4 5 5 5 一 1 6 3 ― 5 一 5 5 5 5 1
- 4 6 3 ― 5 5 5 5 5 1 一 5 6 3 ― 5 ― 5 5 5 5
1 6 ― 4 ― 5 5 5 5 1 一 1 6 3 5 5 5 5 5 5 5 1
1 6 5 5 5 5 5 5 5 0 一 7 6 3 5 5 5 5 5 5 5 0
1 6 \ c; <J n u 一 1 5 6 3 5 5 5 5 5 1
- 2 5 6 3 5 5 5 5 5 1
1 6 5 5 5 5 5 0 一 2 6 6 3 5 5 5 5 5 1
' - 1 6 3 5 5 5 5 5 1 (表 79 J 化合物 朵 里 除 草 力 果
a i g
番 / 1 0 a Di Se So Po Am Ch Ab Gl
3 一 1 6 3 5 5 5 5 5 1
4 ― 1 6 . 3 5 5 5 5 5 2
1 . 6 5 5 5 5 0 1
4 一 2 1 . 6 5 5 5 5 δ 1
4 一 3 6 . 3 5 5 5 5 5 1
4 ― 4 6 3 5 5 5 5 5 2
4 ― 5 6 3 5 5 5 5 5 2
4 ― 7 6 . 3 5 5 5 0 5 1
4 一 28 1 6 5 5 5 5 5 2
δ 9 O o 5 5 5 5 5 1
6 9 6 . 3 5 5 5 5 5 δ 0
6 1 0 1 • 6 5 4 5 5 5 5 4 0
6 1 9 6 • 3 5 5 5 5 5 5 δ 0
1 6 5 5 4 5 5 3 3 0
7 1 6 . 3 5 5 5 5 1
9 - 2 1 • 6 5 5 5 5 5 5 5 1
く試験例 7〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
6 ◦ 0 c m 2プラスチックポッ トに砂を充填し、 トウモロコシ （Z e) 、 エノ コ ロ グサ （ S e ) 、 ォオイ ヌ タデ （ P o ) 、 ァオ ビュ （Am) 、 シロザ
(C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播種して覆土した。 翌日、 製剤例 1に準じ て調製した水和剤の所定有効成分量 （a i , g/ 1 0 a) を水で希釈し、 1 0 アール当り 1 00 1を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。 その後、 温室内 で育成し、 処理後 2 1日目に表 47の基準に従って除草効果及び薬害を調査し た。 試験結果を表 80〜表 82に示す。 (表 80) 化合物 ί¾ 里 除 早 効 果 薬害 a i . β.
畨 / 1 0 a Se Po Am Ch Ab Ze
1 - 1 5 1 6 5 5 5 5 δ 1
1 - 1 6 6 3 5 5 5 5 5 1
1 6 5 5 5 5 5 0
1 - 1 7 6 3 5 5 5 5 4 1
1 6 5 5 5 5 5 1
1 - 18 6 3 5 5 5 5 5 2
1 6 5 5 5 5 5 1
1 - 25 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 30 6 3 5 5 5 5 5 2
1 6 5 5 5 5 5 1
1 - 4 1 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 43 6 3 5 5 5 5 4 1
1 - 44 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 65 6 3 5 5 5 5 5 2
1 6 5 5 5 5 5 1
1 - 72 1 6 5 5 5 5 5 0
1 - 87 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 90 6 3 5 5 5 5 5 2
1 6 5 5 5 5 5 1
1 - 9 1 6 3 5 5 5 5 5 2
1 6 5 5 5 5 5 1
1 - 1 1 9 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 1 22 6 3 5 5 5 5 5 1 丄 丄 0 1 6 o ς 0 0 0 1
1 - 1 38 6 3 5 5 5 5 4 2
1 - 1 50 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 1 54 6 . 3 5 5 5 5 5 1
1 - 1 55 6 3 5 5 5 5 5 0
1 • 6 5 5 5 5 5 0 (表 8 1 ) 化合物 f¾ 里 除 草 効 果 ¾1圭 a i ， g
W / 1 0 a Se Ρο Am Ch Ab Ze
- 1 6 0 6 3 5 0 5 0 0 1
1
- 1 6 7 6 3 5 5 5 5 5 0
1
- 1 7 1
1 6 3 δ 5 5 5 5 0
1 - 1 7 2 6 3 5 5 5 5 5 2
1 - 1 7 3 6 3 5 5 5 5 5 1
1 - 1 7 8 1 • 6 5 5 5 5 5 2
1 - 1 7 9 6 • 3 5 5 5 5 5
1
- 1 8 2 6 3 5 5 5 5 5
1 1
- 1 8 7 0 5 5 5
1 6 . 3 5
1 一
1 1 8 8 6 • 3 5 5 5 5 5
1 - 1 8 9 6 . 3 5 5 5 5 5 1 1 一 1 9 1 6 . 3 5 5 5 5 5 1 1 一 1 9 2 6 . 3 5 Ό 5 5 5
1 - 1 9 4 6 . 3 δ 5 5 0 5
1 - 1 9 6 6 - 3 5 5 5 5 5 1
- 1 9 7 6 • 3 5 5 5 5 5
1 1
- 2 0 2 1 . 6 5 5 5 5 5
1 1
- 2 0 5 6 • 3 5 5
1 5 5 4
- 2 0 7
1 6 . 3 5 5 5 5 5 1 1 - 2 0 8 6 3 5 4 5 5 5 1 一
1 ' 1 6 3 5 5 5 5 5 1 一 4 6 . 3 5 5 5 5 5 一 5 p υ. . o Q 5 5 5 5 5
1 6 4 5 5 5 5
2 一 2 5 1 6 5 5 5 5 5
2 一 2 6 6 3 5 5 5 5 5
3 一 1 6 3 5 5 5 5 5 2
1 6 5 5 5 5 5 2 表 82；
Figure imgf000178_0001
く試験例 8 ) 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600 c m 2プラスチックポッ 卜に砂を充填し、 ヮ夕 （G o) 、 ォオイヌタデ
(P 0) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播種 し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分量
( a i， g/ 1 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 0 CMを小型噴霧器で植 物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4日 目に表 47の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。 その結果を表 83に示 す。
(表 83) 化合物 除 草 効 果 薬害
a i , g
¾■ / 1 0 a P o Am C h A b G o
1 - 1 82 1 . 6 5 5 5 5 2
1 - 1 87 1 • 6 5 5 5 5 2
1 一 1 94 1 . 6 5 5 5 5 2 く試験洌 9〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
600 c m 2プラスチックポッ トに砂を充填し、 コムギ （ T r ) 、 ォオイヌ夕 デ （Poj 、 ァオビュ （Αιτυ 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （Ab) の各種子を播 種し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分 量 （ a i , g/ 1 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 00 1を小型噴霧器で 植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4 日目に表 47の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。 その結果を表 84〜 表 86に示す。
(表 84 ) 化合物 5¾ 里 除 草 効 果 薬害 a i , g
杳 可 /1 0 a P o Am C h A b T r
1 - 1 6 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 20 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 22 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 25 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 26 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 30 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 3 1 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 38 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 4 1 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 43 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 44 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 48 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 52 1. 6 5 5 5 5 1
1 - 62 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 65 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 69 1. 6 5 5 5 5 1
1 - 9 1 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 06 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 1 9 1. 6 5 5 5 4 2
1 - 1 22 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 25 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 26 1. 6 5 5 5 5 2
「
1 - 1 34 1. 6 5 5 0 5 2
1 - 1 58 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 59 1. 6 5 5 5 5 1
1 - 1 60 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 62 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 70 1. 6 5 5 5 5 1
1 - 1 7 1 1. 6 5 5 5 5 2 (表 85： 化合物 ' 楽 里 除 草 効 果 薬害 a i , g
杳 /10 a P o Am C h A b T r
1 - 176 1. 6 5 5 5 5 1
1 - 178 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 79 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 8 1 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 82 1. 6 5 5 5 5 1
1 - 1 84 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 87 1. 6 5 5 5 5 2
1 一 1 91 1. 6 5 5 5 5 2
「
一
1 1 94 1. 6 5 5 5 0 1
1 - 1 96 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 1 97 1. 6 5 5 5 5 2
1 一 1 99 1. 6 5 5 5 5 2
1 一 200 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 20 1 1. 6 5 5 5 5 2
0 2
1 - 202 1. 6 5 5 5
1 - 203 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 204 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 208 1. 6 5 5 5 5 2
1 - 5 1. 6 5 5 5 5 1
2 - 1 1. 6 5 5 5 5 2
2 一 1 8 1. 6 5 5 5 5 2
2 一 1 9 1. 6 5 5 5 5 1
2 - 25 1. 6 5 5 5 5 2
2 - 26 1. 6 5 5 5 5 2
2 - 31 1. 6 5 5 5 5 2
3 一 0 1. 6 5 5 5 5 1
3 一 6 1. 6 5 5 5 5 2
3 一 7 1. 6 5 5 5 5 2
4 一 1 1. 6 δ 5 5 5 2 (表 8 6 化合物 薬 量 除 草 効 果
a i , g
/ 1 0 a P o Am C h A b T r
4 2 1. 6 5 5 0 5 2
4 3 1. 6 5 5 5 5 2
4 5 1. 6 5 5 5 5 2
4 2 7 1. 6 5 0 5 5 2
4 2 8 1. 6 5 5 5 5 2
4 3 2 1. 6 5 5 5 5 2
4 3 3 1. 6 5 δ 5 5 2
4 ― 34 1. 6 5 5 5 5 2
4 3 5 1. 6 5 5 0 5 2
4 3 6 1. 6 5 5 5 5 2
4 38 1. 6 5 5 5 5 2
4 3 9 1. 6 5 5 5 5 2
5 2 1. 6 5 5 5 5 2
5 3 1. 6 5 5 5 5 1
7 1 1. 6 5 5 5 5 2
く試験例 1 0〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
6 0 ◦ c m 2プラスチックポッ トに砂を充填し、 ダイズ （G 1 ) 、 ォオイヌタ デ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （A b) の各種子を播 種し、 温室內で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有効成分 量 （a i , g/ 1 0 a) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 0 0 1を小型噴霧器で 植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室內で育成し、 処理 1 4 日目に表 4 7の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。 その結果を表 8 7に 示す。 (表 8 7 ) 化合物 里 除 草 効 果 ¾害
a i , g
番 / 1 0 a P o Am C h A b G 1 一 2 2 1. 6 5 0 5 5 2
1
- 2 6 1. 6 5 5 5 5 2
1
- 5 2 1. 6 5 5 5 5 2
1
一 6 9 1. 6 5 5 5 5 2
1
- 1 1 9 1. 6 5 5 5 4 2
1
1 一 1 2 6 1. 6 5 5 5 5 2
- 1 5 9 1. 6 5 5 5 5 2
1
- 1 7 1 1. 6 5 5 5 5 2
1
一 1 84 1. 6 5 5 5 5 2
1
9
l o t 丄 . D J Ό o 0
- 1 9 9 1. 6 5 5 5 5 2
- 208 1. 6 5 5 5 5 2
4 - 3 1. 6 5 5 5 5 2
4 - 3 2 1. 6 5 5 5 5 2
5 一 2 1. 6 5 δ 5 5 2
く試験例 1 1〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
6 0 0 c m 2プラスチックポッ トに砂を充填し、 トウモロコシ (Z e ) 、 ォォ ィヌタデ （P o) 、 ァオビュ （Am) 、 シロザ （C h) 、 ィチビ （A b) の各種 子を播種し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1に準じて調製した水和剤の所定有 効成分量 （a i ， g/ 1 0 a ) を水で希釈し、 1 0アール当り 1 0 0 1を小型噴 霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処 理 1 4日目に表 4 7の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。 その結果を表 8 8〜表 9 0に示す。 (表 88)
Figure imgf000184_0001
(表 8 9 :) 八
化合物 5¾ 里 早 幼 果
a i , g
番 ■π / 1 0 a P o A m C h A b Z e 一 1 8 4 1 . 6 5 0 5 5 1
1
― 「
1 8 7 1 . 6 5 5 5 5
1 「 「
- 1 9 1 1 . 6 0 5 0 5 ノ
1
― ，
1 9 4 1 - 6 5 δ 5 5 1
1
― 「
1 9 6 1 . 6 5 5 5 5 ノ
1 「 「
1 9 7 1 . 6 5 5 5 5 ノ
1
1 9 9 1 . D 5 5 5 5 2
1
― 「
2 0 0 1 . D 5 5 5 5
1
― 2 0 1 1 . 6 5 0 5 5 2
1
― 2 0 3 1 . 6 5 5 5 5 2
1
- 2 0 4 1 . 6 5 5 5 5 y
1
― 2 0 8 1 . 6 5 5 5 5
1 ,
― 「 「 「
5 1 . 6 5 5 5 5 1
― 「 「
2 1 0 . 1 5 5 5 5 0 ο ― 1 7 1 . fa 5 5 5 5 2
2 1 8 1 . 6 5 5 5 5 2
2 ― 1 9 1 . 6 5 5 5 5 1
2 - 2 5 1 . 6 5 5 5 5 9
2 2 6 1 . 6 δ 5 5 5 2
2 ― 3 1 1 . 6 5 5 5 5 2
3 一 0 1 . 6 5 5 5 5 2
「 「 「 「
3 6 1 . 6 5 5 5 5 2
「 「 「
4 3 1 . o 5 5 5 5 y
4 4 1 . 6 5 5 5 5 2
4 5 1 . 6 5 5 5 5 1
4 2 6 1 . 6 5 5 5 5 1
4 2 7 1 . 6 5 5 5 5 2
4 2 8 1 . 6 5 5 5 5 2
4 3 2 1 . 6 5 5 5 5 2 表 90 ) 化合物 * 里 除 草 効 果 圭
a i , g
番 /1 0 a P o A m C h A b Z e
4 33 1. 6 5 5 5 5 2
Λ 38 1丄 . R o J o D 9
5 2 1. 6 5 5 0 δ 2 δ 3 1. 6 5 5 5 δ 2
6 9 1. 6 5 5 5 5 1
6 1 0 1. 6 4 5 5 5 1
7 1 1. 6 5 5 5 5 2

Claims

請求の範囲
-般式
Figure imgf000187_0001
CI - 1〕 〔I - 2〕
{式中、 Rは C i〜C 6アルキル基又は C i〜C 6ハロアルキル基を表し、 R 1 は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 ァセチル基、 基一 N=CR 1 3 R 14又は基— NR 23 R 24を表す （ただし、 R 1が水素原 子の場合は、 Rは C；[〜C 6ハロアルキル基を表す。 ） 。 R 1 3及び R 1 4はそ れぞれ独立に水素原子、 C 1〜C 6アルキル基、 基— 23 R 24又はフエ二 ル基 （該基はハロゲン原子、 二ト口基、 C 1 ~C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロ アルキル基もしくは C丄〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） を表 し、 R 2 3及び R 2 4はそれぞれ独立に水素原子、 C i〜C sアルキル基、 ェ 〜C 6ハロアルキル基、 C i〜C 6アルキルカルボニル基、 C C gアルコキ シカルボニル基、 ベンゾィル基 （該基はハロゲン原子、 ニ トロ基、 C C sァ ルキル基、 C i ~C 6ハロアルキル基もしくは C i〜C 6アルコキシ基で置換さ れていてもよい。 ） 、 フエノキシカルボニル基 （該基はハロゲン原子、 ニ トロ 基、 C i〜C 6アルキル基、 C丄〜C 6ハロアルキル基もしくは C丄〜C 6アル コキシ基で置換されていてもよい。 ） 、 ホルミル基又は C i〜C 6アルキルスル ホニル基を表し、 R 2は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 カルボキシル基又は C 1〜C 6アルコキシカルボ二ル基を表し、 R 1 9は水素原子、 ハロゲン原子、
C i〜C sアルコキシ基、 シァノ基又は C丄〜C 6アルキル基を表し、 Qは式
Figure imgf000188_0001
[式中、 R 3は水素原子又はハロゲン原子を表し、 R 4は水素原子、 ハロゲン原 子、 ニトロ基、 C 1 ~C 6アルコキシカルボニル C 〜C 6アルコキシ基、 C 〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキルチオ基、 。 丄〜じ ^^アルコキシ カルボニル C 1〜C 6アルキルァミ ノ基、 ベンジルォキシ基 （該基はハロゲン原 子、 ニトロ基、 C 1〜C 6アルキル基もしくは C 1〜C 6アルコキシ基で置換さ れていてもよい） 、 ヒ ドロキシル基、 チオール基、 ァミノ基又はシァノ基を表 し、 R 5は水素原子、 ハロゲン原子、 C i ~C 6アルキル基、 C 2〜C 6アルケ ニル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 ヒ ドロキシル基、 チオール基、 アミ ノ基、 ニトロ基、 クロロスルホニル基、 ァセチルチオ基、 シァノ基、 シァノ C 1〜C 6 アルキル基、 ホルミ ル基、 ヒ ドロキシメチル基、 基一 YR 9、 基- C R 2 1 - 0 R 9. 基— C〇 2 R 1 0、 基— C〇SR l O、 基一 C ONR I O R I 1、 基 - S 02 1 0 R 1 1、 基一 NHC ONHR l 1 基一 S OR l 2、 基— S 02 R 1 2、 ァシル基、 C i〜C 6アルコキシ C i〜C 6アルキル基、 基— C〇 9 N = CR 1 3 R 1 4、 基— CH (OH) R 2 、 基— CH 2YR9、 へテ 口環基又は基—CH2 CH (C 1 ) C02 R 1 0を表し、 Yは酸素原子、 硫黄原 子又は基一 NR 2 1—を表し、 R 2 1は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 3 〜C βアルケニル基又は C 3〜C 6アルキニル基を表し、 R 9は C i〜C 6アル キル基、 C 3〜C fiアルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C 3〜C gシクロ アルキル基、 C 1〜 C 6ハロアルキル基、 ヒ ドロキン C 1〜C 6アルキル基、 Cつ〜 C 6ハロアルケニル基、 C Q ~C S シクロアルキル C i〜C gアルキル 基、 C i〜C 6アルコキシ C i〜C 6アルキル基、 C i〜C 6アルコキシカルボ ニル基、 C 1〜 C 6アルキルスルホニル基、 C 1〜C 6ハロアルキルスルホニル 基、 C 〜C 6アルキルチオ C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C sアルキルスルフ ィニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1 ~C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルキ ル基、 シァノ C ，〜C 6アルキル基、 基— CH (R 1 5) COYR 1 6、 ベンジ ル基 （該基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロ アルキル基もしくは C 1 ~C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ：） 、 基— CH 2 (3〜 6員へテロ環） （該基のへテロ環基はハロゲン原子、 ニトロ基、 ォ キソ基、 C i ~C eアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6 アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 、 3〜6員へテロ環基 （該基はハロゲ ン原子、 ニトロ基、 ォキソ基、 C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル 基もしくは C 1〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフヱニル基 (該基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C 1 ~C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアル キル基もしくは C i ~C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ) を表し、 R 1 5は水素原子、 C 1 ~C 6アルキル基又は C 3〜C 8シクロアルキル基を表 し、 R 1 6は水素原子、 C i C gアルキル基、 C 3〜C 6アルケニル基、 C 3 〜C 6アルキニル基、 C 3 ~C 8シクロアルキル基、 C i〜C 6ハロアルキル 基、 C 3 ~C 6ハロアルケニル基、 C 3〜C 8シクロアルキル C 1〜C 6アルキ ル基、 C 1 ~ C 6アルコキシ C 1〜 C 6アルキル基、 C i〜C sアルキルチオ c 1〜c 6アルキル基、 c i C gアルキルスルフィニル c i〜C sアルキル 基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基は ハロゲン原子、 ニトロ基、 C i〜C 6アルキル基、 C i ~C 6ハロアルキル基も しくは C】〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフエニル基 （該 基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C i〜C 6アルキル基、 C i〜C 6ハロアルキル 基、 C ~C 6アルコキシカルボニル C 1 ~C 6アルキル基もしくは C 〜C 6 アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） を表し、 R 1 0は水素原子、 ナトリウ ム原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 3〜C sアルケニル基、 C 3〜C sアルキニ ル基、 C 3〜 C 8シクロアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 〜 C 6ノヽ ロアルケニル基、 C 3〜C 8シクロアルキル C 〜C βアルキル基、 C i ~C s アルコキシ C i〜C sアルキル基、 C ：!〜 アルキルチオ C i〜C gアルキル 基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C gアルキ ルスルホニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル C I 〜 C 6アルキル基、 C 3〜C 6アルケニルォキシカルボニル C I 〜C 6アルキル 基、 C 3〜C 6アルキニルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C Q~C g シクロアルキルォキシカルボニル C 1 〜C 6アルキル基、 C i 〜C sアルコキシ C 〜C 6アルコキシカルボニル C I〜C 6アルキル基、 ハロ C i〜C 6アルコ キシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 ハロ C 3〜C 6アルケニルォキシカルボ ニル C 1〜C 6アルキル基、 ベンジルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基 (該基のベンジル基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C i〜C 6アルキル基、 じ 〜 C 6ハロアルキル基も しく は C 1 〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよ い。 ) 、 C 1〜C 6アルキルチオカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C 6 アルキルスルフィニル C 1〜C fiアルコキシカルボニル C 1〜 C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アル キル基、 C 1 〜C 6モノアルキル力ルバモイル C 1〜 C 6アルキル基、 C 〜 C 6 ジアルキル力ルバモイノレ C 1 〜C 6アルキル基、 C i〜C 6アルキルチオ C i 〜C eアルコキシ力ルボニル C 1〜C 6アルキル基、 フヱノキシカルボニル C 1 〜C 6アルキル基 （該基のフヱ二ル基はハロゲン原子、 二 卜口基、 C 1〜 C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6アルコキシ基で 置換されていてもよい。 ) 、 C i〜C 6アルコキシカルボニル C i〜C 6アルコ キシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基はハロゲン原子、 二ト 口基、 C i〜C sアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6ァ ルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフヱニル基 （該基はハロゲン原子、 二卜口基、 C i〜C 6アルキル基、 C 丄〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1 〜 C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） を表し、 R 1 1は水素原子、 C 1 〜C 6アルキル基、 C 3〜〇 6アルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 〇 3〜 C gシクロアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3〜C 6ハロアルケニル 基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル基、 C 1〜C 6アルキルカルボニル基、 〜C 6アルコキシカルボニル基又は C q〜C 8シク口アルキル C 1〜C 6アルキ ル基を表し、 R 1 2は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 3〜C 6アルケニル 基、 C 3〜C fiアルキニル基、 C 3〜C 8シクロアルキル基、 C i〜C sハロア ルキル基、 C 3〜 C 6ハロアルケニル基、 C 1〜C 6アルキルカルボニル基、 C }〜C 6アルコキシカルボニル基又は C 3〜C 8 シクロアルキル C i〜C 6ァ ルキル基を表し、 R 6は水素原子、 C C eアルキル基、 C 3〜C 6アルケニ ル基、 C 3~C 6アルキニル基、 C 1 ~C 6ハロアルキル基、 C 3〜C 6ハロア ルケニル基、 C 1〜C 6アルコキシ C 1〜C 6アルキル基、 C C gアルコキ シカルボニル基、 C 1 ~C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 シァ ノ C 1〜C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基はハロゲン原子、 二ト口基、 C I〜 C 6アルキル基もしくは C I〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい） 又は 基— CH 2 (3〜6員へテロ環） を表し、 R 7は水素原子、 ハロゲン原子、 C I 〜C 6アルキル基、 C 〜 C 6 シクロアルキル基、 C 2〜C 6アルケニル基、 C 3〜c 6アルキニル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C i〜C sアルコキシ C 1〜C 6アルキル基、 シァノ基、 C C e ヒ ドロキンアルキル基、 基一 CO 2 R 1 0、 ホルミル基、 ァシル基、 C 1〜C 6アルキルチオ C 1〜C 6アル キル基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル基、 C i ~C sァ ルキルスルホニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C 6ハロアルキルチオ C ι〜 C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキルスルホニル C I〜C 6アルキル基又はカルボキシル基を 表し、 R 8は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 丄 ~C 6ハロアルキル基、 ァ シル基、 ハロゲン原子又はニトロ基を表し、 R 2 0は水素原子、 ハロゲン原子、 ヒ ドロキシル基、 C i〜C 6アルコキシ基、 C 3〜 C 6アルケニルォキシ基、
C 3〜 C 6アルキニルォキシ基、 C 1〜C 6ハロアルコキシ基、 C 3〜C sハロ アルケニルォキシ基又は基一 NR 1 1 R 1 2を表し、 γ' は酸素原子、 硫黄原 子、 基— NR 2 1一又は基一 C O—を表す。 ] を表す。 } で示されるピリ ドン誘 導体。 2
式
Figure imgf000192_0001
{式中、 Rは C i〜C 6アルキル基又は C i ~C 6ハロアルキル基を表し、 R 1 は水素原子、 C 〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 ァセチル基、 ァミ ノ基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニルァミ ノ基又は C 1〜C 6アルキル力 ルポニルァミ ノ基を表す （ただし、 R 1が水素原子の場合は、 Rは 1〜 6ハ 口アルキル基を表す。 ） 。 R 2は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 カルボキシ ル基又は C 1〜C 6アルコキシカルボ二ル基を表し、 Qは式
Figure imgf000192_0002
[式中、 R 3は水素原子又はハロゲン原子を表し、 R 4は水素原子、 ハロゲン原 子、 ニトロ基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルコキシ基、 C 1 ~C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキルチオ基、 C i〜C gアルコキシ カルボニル C 1〜C 6アルキルァミ ノ基、 ベンジルォキシ基 （該基はハロゲン原 子、 ニトロ基、 C】〜C 6アルキル基もしくは C 丄 ~C 6アルコキシ基で置換さ れていてもよい） 、 ヒ ドロキシル基、 チオール基、 ァ ミ ノ基又はシァノ基を表 し、 R 5は水素原子、 ハロゲン原子、 C i〜C eアルキル基、 C 2〜C eアルケ ニル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 ヒ ドロキシル基、 チオール基、 ア ミ ノ基、 ニトロ基、 クロロスルホニル基、 ァセチルチオ基、 シァノ基、 ホルミル基、 ヒ ド ロキシメチル基、 基一 YR 9、 基一 CH = NOR 9、 基— C O 2 R 1 0、 基一 C 0 S R 1 0、 基一 CONR l O R 1 1 , 基— S 02 NR 1 0 R ^ 1 , 基— Η C 0 Ν Η R 1 1、 基一 SOR 1 2、 基一 SO g R 1 2、 ァシル基、 C ！ C 6アルコキシ C C 6アルキル基、 基— C〇 2N = CR l 3 1 4又は基— CH 2 CH (C 1 ) C〇 2R 1 0を表し、 R 6は水素原子、 C i C 6アルキル 基、 C 3 C 6アルケニル基、 C 3 C 6アルキニル基、 C i C 6ハロアルキ ル基、 C 3 C 6ハロアルケニル基、 C i C 6アルコキシ C i C sアルキル 基、 C 1 ~C 6アルコキシカルボニル基、 シァノ C 1 C 6アルキル基又はォキ シランメチル基を表し、 R 7は水素原子、 ハロゲン原子、 C丄〜C 6アルキル 基、 C <5 C 6シクロアルキル基、 C 3 C sアルケニル基、 C 3~C 6アルキ ニル基、 C 1 C 6 ヽロアルキル基、 C 1 C 6アルコキシ C 1 C 6アルキル 基、 シァノ基、 C 1 ~C 6ヒ ドロキシアルキル基、 基一 C〇 2 R 1 0、 ァシル 基、 C 1 C 6アルキルスルホニル C 1 C 6アルキル基、 C i C 6アルキル チォ C 1 C 6アルキル基、 C 1 C 6アルキルスルフィニル C 1 C 6アルキ ル基又はカルボキシル基を表し、 R 8は水素原子、 C i C 6アルキル基、 C i C 6ハロアルキル基、 ァシル基、 ハロゲン原子又はニトロ基を表し、 Yは酸素 原子、 硫黄原子又は基— NH—を表し、 R 9は C 1 ~C 6アルキル基、 C 3 C sアルケニル基、 C 3 C 6アルキニル基、 C 3 ~C 8シクロアルキル基、 C 1 ~C 6 、口アルキル基、 ヒ ドロキン C 1 C 6アルキル基、 3〜じ 6ハ口 アルケニル基、 C 3 ~C 8シクロアルキル C C 6アルキル基、 C i C gァ ルコキシ C i ~C 6アルキル基、 C 1 ~C 6アルキルスルホニル基、 C i C 6 ハロアルキルスルホニル基、 C 1 ~C 6アルキルチオ C 1 C 6アルキル基、 C 1 C 6アルキルスルフィニル C 1 C 6アルキル基、 C丄〜C 6アルキルス ルホニル C 1 ~ C 6アルキル基、 シァノ C 丄 〜 C 6アルキル基、 基— C H (R 1 5) C 0 YR 1 6、 ベンジル基 （該基はハロゲン原子、 二 卜口基、 C ！ C 6アルキル基、 C 1 C 6ハロアルキル基もしくは C 1 C 6アルコキシ基で 置換されていてもよい。 ） 、 5 6員へテロ環基 （該基はハロゲン原子、 ニトロ 基、 C C sアルキル基、 C 1 C 6ハロアルキル基もしくは C C 6アル コキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフヱニル基 （該基はハロゲン原子、 二 トロ基、 C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C 〜C 6 アルコキシ基で置換されていてもよい。 、 を表し、 R 1 0は水素原子、 c γ 〜
C 6アルキル基、 C 3〜C eアルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C つ〜 C 8シクロアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3〜C 6ハロアルケニル 基、 C 3〜C 8シクロアルキル C 〜C 6アルキル基、 C i〜C 6アルコキシ C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルチオ C 1〜C 6アルキル基、 （： 〜 C 6アルキルスルフィニル C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルホ二 ル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキル 基、 C 3〜C 6アルケニルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C Q〜C g アルキニルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C 3〜C 8シクロアルキル ォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C 〜じ ^アルコキシ C i〜C 6アル コキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 ハロ C 1〜C アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 ハロ C 3〜C 6アルケニルォキシカルボニル C 1〜C 6 アルキル基、 ベンジルォキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基 （該基のベンジル 基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C sハロアルキル 基もしくは c 丄〜c 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 、 C i C eT ルキルチオカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C ι〜〇 6アルコキシ力ルポニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルス ルホニル C 1〜C fiアルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基、 C 1 〜C 6モ ノアルキルァミ ノカルボニル C I〜C 6アルキル基、 C 1 ~C 6ジアルキルァミ ノカルボニル C 1 〜C 6アルキル基、 C i ~C sアルキルチオ C i〜C 6アルコ キシカルボニル C 1 ~C 6アルキル基、 フェニルォキシカルボニル C 1〜C 6ァ ルキル基 （該基のフェニル基はハロゲン原子、 二 卜口基、 C 〜C 6アルキル 基、 C 〜C 6ハロアルキル基もしくは C i〜C 6アルコキシ基で置換されてい てもよい。 ） 、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルコキシカルボ二 ル C I〜C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基はハロゲン原子、 二トロ基、 C 1〜 C 6アルキル基、 C 丄〜C 6ハロアルキル基もしくは C 〜C 6アルコキシ基で 置換されていてもよい。 ） 又はフヱニル基 （該基はハロゲン原子、 ニトロ基、 C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基もしくは C i〜C eアルコキ シ基で置換されていてもよい。 ) を表し、 R 1 1は水素原子、 C 1 〜 C 6アルキ ル基、 C 3〜C 6アルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C 3〜〔 8シクロア ルキル基、 C 1 〜C 6ハ口アルキル基、 C 3〜C 6ハロアルケニル基又は C 3〜 C 8シクロアルキル C 〜C 6アルキル基を表し、 R 1 2は水素原子、 C eアルキル基、 C 3〜C 6アルケニル基、 C 3 ~C 6アルキニル基、 C Q 〜 C gシクロアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3〜C sハロアルケニル 基又は C 3〜C g シクロアルキル C i〜C eアルキル基を表し、 R 1 3及び R 1 4はそれぞれ独立に水素原子、 C i〜C 6アルキル基又はフヱニル基 （該基 はハロゲン原子、 二ト口基、 C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基 もしくは C ~C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） を表し、 R 1 5は 水素原子、 C 1〜C 6アルキル基又は C 3〜C 8 シク口アルキル基を表し、 R 1 6は水素原子、 C i ~C 6アルキル基、 C 3〜C sアルケニル基、 C 3〜 C 6アルキニル基、 C 3〜C 8シクロアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 3〜C 6ハロアルケニル基、 C 3〜C sシクロアルキル C i 〜C gアルキル 基、 C 1〜C 6アルコキシ C 1〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルチオ C.1 〜C 6アルキル基、 C i〜C 6アルキルスルフィニル C i〜C 6アルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルキル基、 ベンジル基 （該基はハロ ゲン原子、 ニトロ基、 C 丄 ~C 6アルキル基、 C 丄〜C 6ハロアルキル基もしく は C 〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい。 ） 又はフエニル基 （該基は ハロゲン原子、 ニトロ基、 C i〜C 6アルキル基、 C ~C 6ハロアルキル基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル C 1〜C 6アルキル基もしくは C 1〜C 6アル コキシ基で置換されていてもよい。 ） を表す。 ] を表す。 } で示されるピリ ドン 誘導体。
3 - 一般式が
〔I一 1〕
Figure imgf000195_0001
である請求項 1記載のピリ ドン誘導体。
4. 一般式が
Figure imgf000196_0001
である請求項 1記載のピリ ドン誘導体 c
δ . 一般式が
Figure imgf000196_0002
(式中、 Rが C丄〜C 6ハロアルキル基を表す。 ） である請求項 1記載のピリ ド ン誘導体。
6. —般式が
Figure imgf000196_0003
(式中、 Rが C i〜C 6ハロアルキル基を表す。 である請求項 1記載のピリ ド ン誘導体。
7. 一般式が
Figure imgf000196_0004
(式中、 Rが C 1〜C 6ハロアルキル基を表し、 r 2 が水素原子又は C i ' C 6アルキル基を表し、 R 1 9' 力く水素原子又は C 1〜C 6アルキル基を表し. 0' が式、
Figure imgf000197_0001
〔式中、 R 3、 R 20、 R 2 1及び Yはそれぞれ前記と同じ意味を表し、 R 4' は水素原子、 ハロゲン原子又はニトロ基を表し、 R 5' は水素原子、 ハロゲン原 子、 C i〜C sアルキル基、 C 2~C 6アルケニル基、 C i〜C sハロアルキル 基、 ニトロ基、 基— YR 9' 、 基一 SOR 9' 、 基—S02 R 9' 又は C i〜 C 6アルコキシ C丄 ~C 6アルキル基を表し、 R 6' は C i〜C 6アルキル基、 C 3〜C sアルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C i〜C gハロアルキル 基、 C 3〜C 6ハロアルケニル基、 ォキシランメチル基又は C丄〜C 6アルコキ シ C 〜C 6アルキル基を表し、 R 7' は水素原子、 C i〜C 6アルキル基、 C 3 ~C 6シクロアルキル基、 C 3〜C 6アルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル 基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C 1〜C 6アルコキシ C 1〜C 6アルキル基、 ハロゲン原子又はヒ ドロキシル基を表し、 R 8' は水素原子、 ハロゲン原子、 C l〜C sアルキル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基又はニトロ基を表し、 R 9' は C i〜C 6アルキル基、 C 3〜C 6アルケニル基、 C 3〜C 6アルキニル基、 C 1〜C 6ハロアルキル基、 C q〜C 6ハロアルケニル基、 C i C gアルコキ シ C i〜C 6アルキル基、 C 3 ~C 6シクロアルキル基、 C 3~C 6シクロアル キル C I〜C gアルキル基、 C 1〜C 6アルキルスルホニル C 1〜C 6アルキル 基、 C 1〜C 6アルキルスルフィニル C 1〜C 6アルキル基、 C i〜C fiアルキ ルチオ C I ~C 6アルキル基、 ベンジルォキシ基 （該基はハロゲン原子、 二卜口 基、 C i C sアルキル基、 C丄〜C 6ハロアルキル基もしくは C 1〜C 6アル コキシ基で置換されていてもよい。 ） 又は 5〜 6員へテロ環基 （該基はハロゲン 原子、 ニ トロ基、 C 丄〜C 6アルキル基、 C i ~C 6ハロアルキル基もしく は C i〜C 6アルコキシ基で置換されていてもよい c ) を表す。 ： を表す： I であ る請求項 1記載のピリ ドン誘導体の製造中間体。
8. 一般式が
Figure imgf000198_0001
{式中、 Z' が塩素原子、 臭素原子 （ただし、 R 3' が塩素原子の場合を除 く。 ） 、 カルボキシル基、 C 1〜C 6アルコキシカルボニル基又はシァノ基を表 し、 R 3' が塩素原子又はフッ素原子を表し、 R 5' が C i〜C 6アルコキシ 基、 C 3〜C 6アルケニルォキシ基、 C 3〜C 6アルキニルォキシ基又は C i〜 C 6アルキル基を表す。 } である請求項 1記載のピリ ドン誘導体の製造中間体。 9. 請求項 1記載のピリ ドン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
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