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TWM673454U - 半導體製程用晶圓載具 - Google Patents

半導體製程用晶圓載具

Info

Publication number
TWM673454U
TWM673454U TW114205335U TW114205335U TWM673454U TW M673454 U TWM673454 U TW M673454U TW 114205335 U TW114205335 U TW 114205335U TW 114205335 U TW114205335 U TW 114205335U TW M673454 U TWM673454 U TW M673454U
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
wafer carrier
longitudinal notch
baffle
wafer
longitudinal
Prior art date
Application number
TW114205335U
Other languages
English (en)
Inventor
楊茂森
Original Assignee
正永科技有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 正永科技有限公司 filed Critical 正永科技有限公司
Priority to TW114205335U priority Critical patent/TWM673454U/zh
Publication of TWM673454U publication Critical patent/TWM673454U/zh

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  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

一種半導體製程用晶圓載具,其內兩側設有滑槽支撐件,用以支撐一晶圓的邊緣;其特徵在於: 晶圓載具的一側邊,設有一縱向缺槽;一自動限位裝置,裝設在縱向缺槽內,其包括: 在縱向缺槽左、右兩側的上下位置,分別設有對應之傾斜向的導槽;一殼體,設在縱向缺槽的外側面,用以遮蓋縱向缺槽;一擋板,裝設在縱向缺槽內,其相對於縱向缺槽之傾斜向導槽,設有二支橫向導柱,係可在導槽內滑動,俾使晶圓載具的底面離開一平台時,擋板藉由重力沿著在導槽的傾斜方向,向下且同時向內位移,底端部凸伸出縱向缺槽,此時擋板將滑槽支撐件閉鎖,防止晶圓掉落;再者,當晶圓載具到達一平台時,其凸伸出縱向缺槽的擋板,被平台的頂撐反作用力,向上且同時向外位移,此時擋板將滑槽支撐件解鎖。藉此,即可達到使晶圓載具自動閉鎖或解鎖之功效增進。

Description

半導體製程用晶圓載具
本創作係有關一種半導體製程用晶圓載具,尤指一種可使晶圓載具自動閉鎖或解鎖之結構設計。
首按,晶圓加工為半導體製造業之基礎,惟於半導體製程中因需要搬運移動晶圓,而為了方便人員攜帶、機械手臂對晶圓進行抓取、置放等操作,且利於對晶圓進行加工等,以及減少晶圓受到汙損等情事;為此通常在晶圓存放或搬運的過程中,係將晶圓分層地放置於一晶圓載具(Wafer Cassette/Wafer Carrier,俗稱提籃)之中,避免外在環境汙染晶圓以確保晶圓的品質符合後續製程要求,並在需要時透過機械手臂將晶圓取出。
次按,如圖1及圖2所示,習用放置晶圓的晶圓載具10係透過兩側滑槽支撐件11支撐晶圓(W)的邊緣,而晶圓(W)的中心部分不受到支撐,以利機械手臂取出晶圓。惟查,一般在搬運過程中,晶圓(W)容易發生滑動,甚至整疊晶圓(W)自兩側滑槽支撐件11中掉落出來,造成極大的損失。為此,目前的晶圓載具10有在盒體的兩側邊皆各設有一可迴轉的「ㄈ」型擋桿12,該「ㄈ」型擋桿12平時是收合在晶圓載具10,如圖1A、1B所示,此時晶圓(W)可自由進出。等晶圓(W)存放在晶圓載具10完成後,正常的SOP程序係如需將該「ㄈ」型擋桿12由側邊迴轉約230度,然後擋在晶圓(W)的前側,用以限制晶圓(W)在搬運過程的滑動或自支撐件11中掉落出來。但,現場人員或是疏忽,抑或是遺忘,而未如圖1B所示SOP程序,將該「ㄈ」型擋桿12由側邊迴轉後擋在晶圓(W)的前側。以致於在搬運晶圓載具(提籃) 10時,稍不留意而傾斜,導致昂貴的晶圓(W)滑落出來,造成重大的損失。
因此,只依賴該「ㄈ」型擋桿12一種限位功能,且其在操作時必須另外仰賴現場人員進行按壓解扣及撥轉180度的動作。所以,單靠一種人工閉鎖操作,在使用上仍然不夠安全,因此仍有改善空間。
是以,如何改良習用晶圓載具10其限位方式,為本創作所要解決的課題。
本創作之主要目的,係在提供一種半導體製程用晶圓載具,其具有自動限位晶圓的晶圓載具,通過限位元件的設置,能夠提高晶圓片在晶圓載具內固定的穩定性,避免了晶圓片在搬運過程中出現滑動而掉落的情況,防止晶圓受到損傷之功效增進。
本創作之又一目的,則在提供一種半導體製程用晶圓載具,其完全無需人員操作,藉由晶圓載具之限位元件的垂落重力,及底面接觸平台時的反向頂撐作用力,達到使晶圓載具自動閉鎖或解鎖之功效增進。
為達上述目的,本創作所採用之手段包含:一晶圓載具,其盒內兩側設有滑槽支撐件,用以支撐一晶圓的邊緣;其特徵在於: 該晶圓載具於其中一側邊,設有一縱向缺槽;一自動限位裝置,係裝設在該縱向缺槽內,其包括: 在該縱向缺槽左、右兩側的上下位置,分別設有對應之傾斜向的導槽;一殼體,設在該縱向缺槽的外側面,用以遮蓋該縱向缺槽;一擋板,係裝設在該縱向缺槽內,其相對於該縱向缺槽之傾斜向導槽,設有二支橫向導柱,該橫向導柱係可在該導槽內滑動,俾使該晶圓載具的底面離開一平台時,該擋板藉由重力沿著在該導槽的傾斜方向,向下且同時向內位移,底端部凸伸出該縱向缺槽,此時該擋板將該滑槽支撐件閉鎖,防止該晶圓掉落;再者,當該晶圓載具到達一平台時,其凸伸出該縱向缺槽的該擋板之底端部,被該平台的頂撐反作用力,向上且同時向外位移,此時該擋板將該滑槽支撐件解鎖。
依據前揭特徵,在一較佳實施例中,該導槽的傾斜方向底端延伸為一縱向短槽。
依據前揭特徵,在一較佳實施例中,該擋板之底端部形成一扁平狀。
依據前揭特徵,在一較佳實施例中,該擋板之頂端部設有一凹孔,用以裝設一彈性元件及一圓頭頂件,該圓頭頂件係頂觸該縱向缺槽的頂面,施予該擋板一向下的彈性作用力。
依據前揭特徵,在一較佳實施例中,該晶圓載具其中一側邊設有一「ㄈ」型擋桿,而該自動限位裝置設在該「ㄈ」型擋桿的對應側邊。
依據前揭特徵,在一較佳實施例中,該殼體相對於該導槽的位置,設有二個斜面,當該殼體遮蓋該縱向缺槽後,才形成完整的導槽形體。
藉助上述技術特徵,本創作具有如下之功效增進需再闡明者: 一、 本創作之晶圓載具完全無需人員操作,僅藉由晶圓載具之擋板限位元件的垂落重力,及底面接觸平台時的反向頂撐作用力,即可達到使晶圓載具自動閉鎖或解鎖,如此一來,縱使現場人員因疏忽或遺忘而未將「ㄈ」型擋桿撥轉230度的動作,但仍有自動閉鎖這第二道安全保障,確保晶圓載具使用上絕對安全之功效增進。 二、 本創作具有自動限位晶圓的晶圓載具,通過限位元件的設置,能夠提高晶圓在晶圓載具內固定的穩定性,避免了晶圓在搬運過程中出現滑動而掉落的情況,防止晶圓受到損傷之功效增進。
以下係藉由特定的具體實施例說明本創作之實施方式,熟習此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地了解本創作之其他優點與功效。本創作亦可藉由其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用,在不悖離本創作之精神下進行各種修飾與變更。
首先,請參閱圖3~圖8所示,本創作「半導體製程用晶圓載具」較佳實施例包含有:一晶圓載具10,其內兩側設有滑槽支撐件11,用以支撐一晶圓(W)的邊緣,本實施例中,該晶圓載具10其中一側邊設有一「ㄈ」型擋桿12,但不限定於此;惟查,上揭構成係屬先前技術(Prior Art),非本案之專利標的,容不贅述。
本創作其主要特徵在於:該晶圓載具10於該「ㄈ」型擋桿12的另一側邊13,設有一縱向缺槽14(Z-Z軸);一自動限位裝置20,係裝設在該縱向缺槽14內,其包括:在該縱向缺槽14左、右兩側的上下位置,分別設有對應之傾斜向的導槽141。
本實施例中,該自動限位裝置20只有一個,且設在該「ㄈ」型擋桿12的對應邊,但不限定於此;在另一可行實施例中,可以不需要該「ㄈ」型擋桿12,而裝設有第二個自動限位裝置20,如此亦可實施,容不贅述。
一殼體21,設在該縱向缺槽14的外側面,用以遮蓋該縱向缺槽14;一擋板22,係裝設在該縱向缺槽14內,其相對於該縱向缺槽14之傾斜向導槽141,設有二支橫向導柱23,該橫向導柱23係可在該導槽141內滑動。
如圖4A~圖4B所示,本實施例中,該斜向之導槽141的形成係可利用該殼體21相對於該導槽141的位置,設有二個斜面211,當該殼體21遮蓋該縱向缺槽14後,才形成完整的導槽141形體。這樣的設計是方便該擋板22上的二支橫向導柱23置入該導槽141中。
本實施例中,該擋板22之底端部221形成一扁平狀,俾便於伸出該縱向缺槽14的底面。再者,該擋板22之頂端部設有一凹孔222,用以裝設一彈性元件24及一圓頭頂件25,該圓頭頂件25係頂觸該縱向缺槽14的頂面,施予該擋板22一向下的彈性作用力。如此可確保該擋板22順利垂落,但不限定於此。
如圖5A~圖6B所示,本創作之設計,當該晶圓載具10的底面離開一平台30時,該擋板22藉由重力(G)沿著在該導槽141的傾斜方向,向下且同時向內位移,底端部221凸伸出該縱向缺槽14,此時該擋板22將該滑槽支撐件11閉鎖,防止該晶圓(W)掉落。
本實施例中,該導槽141的傾斜方向底端延伸為一縱向短槽142(Z-Z軸)。如圖6B所示,該縱向短槽142的設計可以防止搬運過程中,該晶圓(W)邊緣往前作用(X-X軸)的側向推力(P)(Y-Y軸),因撐張而推動該擋板22向上滑動,造成該滑槽支撐件11解鎖。所以,該縱向短槽142的設計具有增進使用上安全之功效。
再者,如圖7A~圖7B所示,當該晶圓載具10到達一平台30時,其凸伸出該縱向缺槽14的該擋板22之底端部221,被該平台30的頂撐反作用力(F),向上且同時向外位移,此時該擋板22將該滑槽支撐件11解鎖。
藉助上述技術特徵,本創作具有如下之功效增進需再闡明者: 一、本創作之晶圓載具10完全無需人員操作,僅藉由晶圓載具10之擋板22限位元件的垂落重力,及底面接觸平台30時的反向頂撐作用力,即可達到使晶圓載具10自動閉鎖或解鎖,如此一來,縱使現場人員因疏忽或遺忘而未將「ㄈ」型擋桿12撥轉230度的動作,但仍有自動閉鎖這第二道安全保障,確保晶圓載具10使用上絕對安全之功效增進。 二、本創作具有自動限位晶圓的晶圓載具10,通過限位元件的設置,能夠提高晶圓(W)在晶圓載具10內固定的穩定性,避免了晶圓(W)在搬運過程中出現滑動而掉落的情況,防止晶圓(W)受到損傷之功效增進。
綜上所述,本創作所揭示之構造,為昔所無,且確能達到功效之增進,並具可供產業利用性,完全符合新型專利要件,祈請 鈞局核賜專利,以勵創新,無任德感。
惟,上述所揭露之圖式、說明,僅為本創作之較佳實施例,大凡熟悉此項技藝人士,依本案精神範疇所作之修飾或等效變化,仍應包括在本案申請專利範圍內。
10:晶圓載具 11:滑槽支撐件 12:「ㄈ」型擋桿 13:側邊 14:縱向缺槽 141:導槽 142:縱向短槽 20:自動限位裝置 21:殼體 211:斜面 22:擋板 221:底端部 222:凹孔 23:橫向導柱 24:彈性元件 25:圓頭頂件 30:平台 (F):反作用力 (G):重力 (P):推力
圖1A 係習用一種半導體製程用晶圓載具的外觀立體圖,顯示閉鎖。 圖1B 係習用一種半導體製程用晶圓載具的外觀立體圖,顯示解鎖。 圖2 係本創作一較佳實施例之外觀立體圖。 圖3 係本創作一較佳實施例之另一角度立體圖。 圖4A 係本創作之主要結構的分解立體圖。 圖4B 係本創作之主要結構的分解側視圖。 圖5A 係本創作之主要結構的剖視立體圖。 圖5B 係本創作之主要結構的另一角度剖視立體圖。 圖6A 係本創作之主要結構的剖視圖,顯示閉鎖。 圖6B 係圖6A中6B所指的放大圖。 圖7A 係本創作之主要結構的剖視圖,顯示解鎖。 圖7B 係圖7A中7B所指的放大圖。 圖8 係本創作之使用狀態參考圖。
10:晶圓載具
11:滑槽支撐件
13:側邊
14:縱向缺槽
141:導槽
142:縱向短槽
20:自動限位裝置
21:殼體
22:擋板
221:底端部
222:凹孔
23:橫向導柱
24:彈性元件
25:圓頭頂件
30:平台
(F):反作用力

Claims (6)

  1. 一種半導體製程用晶圓載具,包含有: 一晶圓載具,其內兩側設有滑槽支撐件,用以支撐一晶圓的邊緣; 其特徵在於: 該晶圓載具於其中一側邊,設有一縱向缺槽; 一自動限位裝置,係裝設在該縱向缺槽內,其包括: 在該縱向缺槽左、右兩側的上下位置,分別設有對應之傾斜向的導槽; 一殼體,設在該縱向缺槽的外側面,用以遮蓋該縱向缺槽; 一擋板,係裝設在該縱向缺槽內,其相對於該縱向缺槽之傾斜向導槽,設有二支橫向導柱,該橫向導柱係可在該導槽內滑動,俾使該晶圓載具的底面離開一平台時,該擋板藉由重力沿著在該導槽的傾斜方向,向下且同時向內位移,底端部凸伸出該縱向缺槽,此時該擋板將該滑槽支撐件閉鎖,防止該晶圓掉落;再者,當該晶圓載具到達一平台時,其凸伸出該縱向缺槽的該擋板之底端部,被該平台的頂撐反作用力,向上且同時向外位移,此時該擋板將該滑槽支撐件解鎖。
  2. 如請求項1所述之半導體製程用晶圓載具,其中,該導槽的傾斜方向底端延伸為一縱向短槽。
  3. 如請求項1所述之半導體製程用晶圓載具,其中,該擋板之底端部形成一扁平狀。
  4. 如請求項1所述之半導體製程用晶圓載具,其中,該擋板之頂端部設有一凹孔,用以裝設一彈性元件及一圓頭頂件,該圓頭頂件係頂觸該縱向缺槽的頂面,施予該擋板一向下的彈性作用力。
  5. 如請求項1所述之半導體製程用晶圓載具,其中,該晶圓載具其中一側邊設有一「ㄈ」型擋桿,而該自動限位裝置設在該「ㄈ」型擋桿的對應側邊。
  6. 如請求項1所述之半導體製程用晶圓載具,其中,該殼體相對於該導槽的位置,設有二個斜面,當該殼體遮蓋該縱向缺槽後,才形成完整的導槽形體。
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