TWM644099U - 光罩盒次元件的檢測裝置 - Google Patents

Abstract

一種光罩盒次元件的檢測裝置，包含：一承托平台、一光源模組、一攝影模組及一控制模組，光源模組包括一同軸光源及一高度調整機構，高度調整機構連接同軸光源及承托平台的至少其中一者，攝影模組連接同軸光源並鏡頭朝向承托平台，控制模組訊號連接攝影模組及高度調整機構，控制模組控制高度調整機構調整同軸光源與承托平台的相對距離。本創作的光罩盒次元件的檢測裝置可特別針對光罩盒上的次元件進行光學檢查。

Description

光罩盒次元件的檢測裝置

本創作係關於一種檢測裝置，更特別的是關於一種光罩盒次元件的檢測裝置。

在半導體領域的先進微影製程中，特別是EUV（極紫外光）微影製程，對製程環境的潔淨度要求極高。若有塵粒（particle）汙染光罩，則會造成微影製程的缺陷。為達到潔淨度與保護光罩的需求，一般使用光罩盒以阻攔外界的塵粒。因此光罩盒本身的潔淨度以及表面是否存在缺陷（刮擦痕）便很重要。

然而，光罩盒上的次元件，其材料多為塑膠、相對不抗刮擦的金屬或玻璃；次元件相對於光罩盒本體更容易受到磨損，然而這些磨損對光罩盒的危害程度較低，也就是次元件相對於光罩盒的本體可容許更多的刮擦痕等缺陷。若將次元件與光罩盒本體採相同的光學檢查標準，將很難有次元件通過光學檢查。

因此，為解決習知光罩盒上的次元件進行檢查的種種問題，本創作提出一種光罩盒次元件的檢測裝置。

為達上述目的及其他目的，本創作提出一種光罩盒次元件的檢測裝置，其包含：一承托平台；一光源模組，包括一同軸光源及一高度調整機構，該高度調整機構連接該同軸光源及該承托平台的至少其中一者；一攝影模組，連接該同軸光源並鏡頭朝向該承托平台；以及一控制模組，訊號連接該攝影模組及該高度調整機構，該控制模組控制該高度調整機構調整該同軸光源與該承托平台的相對距離。

於本創作之一實施例中，該同軸光源為外同軸光源。

於本創作之一實施例中，該同軸光源為內同軸光源。

於本創作之一實施例中，該光源模組更包括一側向光源，訊號連接該控制模組，該同軸光源的照射方向與該承托平台的表面的夾角的角度，大於該側向光源的照射方向與該承托平台的表面的夾角的角度。

於本創作之一實施例中，更包括一分析模組，訊號連接該控制模組，該分析模組依據該控制模組接收到的一影像，分析該影像中的一光罩盒次元件的缺陷。

藉此，本創作的光罩盒次元件的檢測裝置可一併同時檢查光罩盒本體與其上的次元件，以不同的清晰程度對光罩盒上的不同位置進行光學檢查。

為充分瞭解本創作，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本創作做一詳細說明。本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的目的、特徵及功效。須注意的是，本創作可透過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用，在不悖離本創作的精神下進行各種修飾與變更。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本創作的申請專利範圍。說明如後：

如圖1A、圖1B及圖2A所示，本創作第一實施例之光罩盒表面高速檢查系統100，其包含：一櫃體1、一夾持模組2、一第一檢查裝置3a、一第二檢查裝置3b及一行程控制器4。

櫃體1可為一乾淨（高清潔度）、密封的無塵室專用櫃，以杜絕外部的塵粒汙染內部空間。參考圖1B，櫃體1的內部空間劃分有一自動器械區13、一第一檢查區11及一第二檢查區12，第一檢查區11及第二檢查區12分別相鄰於自動器械區13。

夾持模組2為機械手臂等自動化器械，設置於自動器械區13，夾持模組2可依接收到的指令執行夾取、翻轉、移動運輸等動作。夾持模組2的結構並不限定，例如為六軸機械手臂，可在六個軸向上高靈敏且精細地工作。

第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b分別設置於第一檢查區11及第二檢查區12。在本實施例中，第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b係為利用光學的方式進行檢查的裝置，但本創作不限於此，在其他實施例中，第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b可為利用其他原理（例如電學、力學）的裝置，或其混合。任何可用於檢查光罩盒表面的檢查裝置都可以作為本創作的第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b。

參考圖2A，行程控制器4訊號連接夾持模組2、第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b。行程控制器4例如為控制晶片或控制電路，主要用於控制夾持模組2的工作行程以及第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b的啟動。例如行程控制器4可控制夾持模組2工作以分開或組合一光罩盒（圖未示），以及使夾持模組2在自動器械區13及第一檢查區11往復移動以運送光罩盒的一第一部分（例如上蓋），行程控制器4還控制夾持模組2在自動器械區13及第二檢查區12往復移動以運送光罩盒的一第二部分（例如下蓋）。

參考圖3A，以下將說明如何利用本創作的光罩盒表面高速檢查系統100，執行本創作的光罩盒表面高速檢查方法。

如圖3A所示，首先，於步驟S101，以夾持模組2夾持一光罩盒並將該光罩盒分成第一部分及第二部分。第一部分及第二部分例如為上蓋及下蓋，或下蓋及上蓋。若光罩盒表面高速檢查系統100沒有另外設置光罩盒載入區，光罩盒載入區可整合在自動器械區13中，本步驟S101在自動器械區13中完成對光罩盒的拆分。

接著，於步驟S102，行程控制器4控制夾持模組2以夾持著光罩盒的第一部分的狀態，從自動器械區13移動至第一檢查區11，當夾持模組2進入第一檢查區11，行程控制器4控制第一檢查裝置3a啟動，以檢查該第一部分。

接著，於步驟S103，在該第一部分進行檢查的時候，行程控制器4控制夾持模組2回到自動器械區13，並且行程控制器4控制夾持模組2以夾持著光罩盒的第二部分的狀態，從自動器械區13移動至第二檢查區12。此時行程控制器4控制第二檢查裝置3b啟動，以檢查該第二部分。換句話說，當光罩盒被拆成二個部分後，夾持模組2將拆分的光罩盒各部分分別進入二個檢查區獨立地檢查，以盡量在相同的一段時間內分頭檢查光罩盒上蓋的各表面以及光罩盒下蓋的各表面，以加速對光罩盒的各部分及各表面的表面檢查。

接著，於步驟S104，當檢查完畢後，行程控制器4控制夾持模組2以夾持著光罩盒的第二部分的狀態，從第二檢查區12移回自動器械區13，並控制夾持模組2以夾持著光罩盒的第一部分的狀態，從第一檢查區11移回自動器械區13，以將第一部分及第二部分組合成完整的光罩盒。組合方式可為使光罩盒的上蓋及下蓋彼此對準並蓋合，或以其他機械方式將光罩盒的二個部分重新組合成一體。

當此光罩盒被移走並且下一個光罩盒被置入後，行程控制器4可控制夾持模組2、第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b繼續重複上述行程。於是，本創作的光罩盒表面高速檢查系統100可不斷地高速檢查各個光罩盒的表面清潔度及/或其他缺陷。相對於其他先前技術，本創作可大幅縮短檢查時間，並確保光罩盒在檢查過程中保持乾淨、不受損傷。

進一步地，本創作又提出第二實施例。在第二實施例的光罩盒表面高速檢查系統200中，如圖1C及圖2C所示，夾持模組2可進一步包括一第一夾持臂21及一第二夾持臂22，以提升運送及檢查效率。第一夾持臂21及第二夾持臂22皆為機械手臂等自動化器械，設置於自動器械區13，第一夾持臂21及第二夾持臂22可依接收到的指令執行夾取、翻轉、移動運輸等動作。第一夾持臂21及第二夾持臂22的結構並不限定，例如為六軸機械手臂，可在六個軸向上高靈敏且精細地工作。第一夾持臂21及第二夾持臂22雖然在示意圖中以分開的兩個機械手臂表示，但也可以整合於一個機械手臂中。

如圖3B所示，首先，於步驟S301，以第一夾持臂21及第二夾持臂22夾持一光罩盒並將該光罩盒分成第一部分及第二部分。第一部分及第二部分例如為上蓋及下蓋，或下蓋及上蓋。這部分的動作以行程控制器4控制第一夾持臂21及第二夾持臂22偕同工作。此外，若光罩盒表面高速檢查系統200沒有另外設置光罩盒載入區，光罩盒載入區可整合在自動器械區13中，本步驟S301在自動器械區13中完成對光罩盒的拆分。

接著，於步驟S302，行程控制器4控制第一夾持臂21以夾持著光罩盒的第一部分的狀態，從自動器械區13移動至第一檢查區11，同時行程控制器4控制第二夾持臂22以夾持著光罩盒的第二部分的狀態，從自動器械區13移動至第二檢查區12。當第一夾持臂21進入第一檢查區11，行程控制器4控制第一檢查裝置3a啟動，以檢查該第一部分；另一方面，當第二夾持臂22進入第二檢查區12，行程控制器4控制第二檢查裝置3b啟動，以檢查該第二部分。換句話說，當光罩盒被拆成二個部分後，第一夾持臂21及第二夾持臂22各持一部分並分別進入二個檢查區獨立地檢查，以在相同的一段時間內同時分頭檢查光罩盒上蓋的各表面以及光罩盒下蓋的各表面，以加速對光罩盒的各部分及各表面的表面檢查。

接著，於步驟S303，當檢查完畢後，行程控制器4控制第一夾持臂21以夾持著光罩盒的第一部分的狀態，從第一檢查區11移回自動器械區13，並控制第二夾持臂22以夾持著光罩盒的第二部分的狀態，從第二檢查區12移回自動器械區13。並控制第一夾持臂21及第二夾持臂22組合光罩盒。組合方式可為使光罩盒的上蓋及下蓋彼此對準並蓋合，或以其他機械方式將光罩盒的二個部分重新組合成一體。

當此光罩盒被移走並且下一個光罩盒被置入後，行程控制器4可控制第一夾持臂21、第二夾持臂22、第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b繼續重複上述行程。於是，本創作的光罩盒表面高速檢查系統200可不斷地高速檢查各個光罩盒的表面清潔度及/或其他缺陷。相對於其他先前技術，本創作可大幅縮短檢查時間，並確保光罩盒在檢查過程中保持乾淨、不受損傷。

進一步地，在本實施例中，如圖1C所示，其中櫃體1外側更設有一光罩盒載入區14，用以載入光罩盒。櫃體1設有一載入門141，載入門141分隔自動器械區13及光罩盒載入區14。第一夾持臂21及第二夾持臂22可在光罩盒載入區14偕同夾持光罩盒，並進行拆分/組合，或者是夾持光罩盒進入自動器械區13再進行拆分/組合。在這個例子中，光罩盒載入區14還兼作載出區（光罩盒同進同出）。在這種情況下，行程控制器4控制第一夾持臂21在光罩盒載入區14及第一檢查區11（經過自動器械區13）往復移動以運送光罩盒的第一部分，以及行程控制器4控制第二夾持臂22在光罩盒載入區14及第二檢查區12（經過自動器械區13）往復移動以運送光罩盒的第二部分。

在本創作的第三實施例的光罩盒表面高速檢查系統300中，如圖1D所示，櫃體1外側更設有一光罩盒載出區15（不同於原有的光罩盒載入區14），櫃體1設有一載出門151，載出門151分隔自動器械區13及光罩盒載出區15。第一夾持臂21及第二夾持臂22可在光罩盒載入區14偕同夾持光罩盒，並進行拆分，或是夾持光罩盒進入自動器械區13再進行拆分；然後組合光罩盒時可在自動器械區13進行組合，或是在光罩盒載出區15進行組合（光罩盒不同位置載入載出）。這個過程為，行程控制器4控制第一夾持臂21在光罩盒載入區14、第一檢查區11及光罩盒載出區15往復移動（中途經過自動器械區13）以運送送光罩盒的第一部分，以及行程控制器4控制第二夾持臂22在光罩盒載入區14、第二檢查區12及光罩盒載出區15往復移動（中途經過自動器械區13）以運送光罩盒的第二部分。如此一來可使得光罩盒的載入載出形成一個流水線。

進一步地，如圖1A及至圖1B所示，光罩盒表面高速檢查系統100還可進一步包括一人機介面5，用以手動地人控制光罩盒表面高速檢查系統100。人機介面5訊號連接行程控制器4，人機介面5例如為鍵盤、按鍵或觸控螢幕等裝置。

進一步地，光罩盒表面高速檢查系統100還可進一步包括一清潔裝置，訊號連接行程控制器4，當光罩盒的某個部分被判定為不符合要求時（例如有塵粒或有缺陷），行程控制器4控制夾持模組2夾持該部分並移動至清潔裝置以重新清潔並再檢查。清潔裝置例如為風刀或其它能吸附、吹撫塵粒的裝置，也可以為提供清潔流體的裝置。

如圖2A、圖2C及圖4A至圖4C所示，本創作的第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b，其詳細的構造可以為一種光罩盒表面的光學檢查裝置3，其包含：一承托平台31、一光源模組32、一攝影模組33及一控制模組34。

承托平台31用以承托一光罩盒或光罩盒的部分（上蓋或下蓋），承托平台31具有一承托表面311，光罩盒或光罩盒的部分便置於承托表面311以供表面檢查。

光源模組32包括一第一光源321及一第二光源322。第一光源321以一第一方向照射向承托表面311（如圖4B所示），第二光源322以一第二方向照射向承托表面311（如圖4C所示），其中第一方向與承托表面311的夾角的角度，大於第二方向與承托表面311的夾角的角度，較佳為相差45度以上。

攝影模組33的鏡頭朝向承托表面311，用以拍攝光罩盒或光罩盒的部分的表面影像。攝影模組33例如為具有電荷耦合器件（Charge-coupled Device，CCD）的攝影裝置，較佳為高速CCD，以快速拍射光罩盒的表面影像。

控制模組34訊號連接攝影模組33、第一光源321、第二光源322及行程控制器4。當光罩盒表面的光學檢查裝置3作為光罩盒表面高速檢查系統100的第一檢查裝置3a及/或第二檢查裝置3b時，控制模組34還訊號連接行程控制器4。當行程控制器4命令光罩盒表面的光學檢查裝置啟動檢查時（或在其他例子中，控制模組34接收外部指令啟動檢查），控制模組34控制第一光源321及第二光源322的其中一者開啟以及另一者關閉，並控制攝影模組33拍攝，以分別得到第一光源321下的影像及第二光源322下的影像。控制模組34例如為控制晶片或控制電路。

當光源的角度相差甚大時，可綜合判斷同一個位置的影像是否真有塵粒或缺陷的存在，避免誤判。在本實施例中，第一光源321為同軸光源（圖4A顯示為外同軸光源），第二光源322為側向光源，分別以垂直於承托表面311的同軸光以及側向光照射承托表面311，以取得兩種光源下的影像。側向光源可為環型側光機構，以環繞鏡頭朝向的方向發射側光，但本創作不限於此。

接下來將說明如何應用本創作的光罩盒表面的光學檢查裝置3，以執行本創作的光罩盒表面的光學檢查方法。

如圖7所示，首先，於步驟S201，控制模組34使第一光源321以第一方向照射一光罩盒部件（參考圖4B），此時第二光源322須關閉。光罩盒部件可為光罩外盒或內盒整體、光罩外盒或內盒的一部分構件，例如上蓋或下蓋。光罩盒部件設置於承托表面311上，由於光罩盒部件要檢查的表面與承托表面311平行，故省略顯示光罩盒部件。

接著，參考圖6，於步驟S202，控制模組34控制攝影模組33拍攝該光罩盒部件P的一部分表面而得到一第一影像P1。

接著，參考圖4C，於步驟S203，控制模組34控制第二光源322以第二方向照射該光罩盒部件（此時第一光源321須關閉），其中第一方向與承托表面311的夾角的角度，大於第二方向與承托表面311的夾角的角度，即相對於第一光源321的正光源，第二光源322為側光源。

接著，參考圖6，於步驟S204，控制模組34控制攝影模組33拍攝該光罩盒部件P的相同部分表面而得到一第二影像P2。

最後，於步驟S205，依據第一影像P1及第二影像P2判斷是否存在缺陷。控制模組34可進一步包含一分析子模組，內建有數據庫以分析拍攝所得到的影像資料。

由於攝影模組33恐難以一次攝得完整清晰的光罩盒部件P的全影像，且光罩盒部件P的各表面高低不同，因此較佳的實施方式為，分多次拍攝光罩盒部件P以逐步獲得光罩盒部件P的全部影像。如圖6所示，攝影模組可往X軸、Y軸或其他方向移動，以逐步拍攝整個光罩盒部件P。因此，本創作的光罩盒表面的光學檢查裝置3可更包括一動力模組35，訊號連接控制模組34。動力模組35例如為伺服馬達、步進馬達或汽缸等可受電訊號控制並提供往復移動動力的常規機構。在一個例子中，動力模組35動力連接承托平台31，控制模組34控制承托平台31相對攝影模組33移動。在其他例子中，也可改為動力模組35動力連接攝影模組33，控制模組34控制攝影模組33相對承托平台31移動。兩種方式都可以達成攝影模組33與承托平台31在承托表面311上的相對水平移動。第一光源321、第二光源322通常與攝影模組33整合在同一個機構上，因此攝影模組33移動時，第一光源321、第二光源322也跟著移動，以提供穩定的光源。

進一步地，上述的步驟S205的判斷可等待整個光罩盒部件P都被拍攝完畢後才進行分析，也可以每一個部分表面分別被攝得第一影像P1及第二影像P2後即進行分析。

進一步地，由於光罩盒部件P上的塵粒、缺陷尺寸多半極為為小，可能為微米等級，往往小於動力模組35的移動誤差，故攝影模組33難以在移動過後重新回到同一個位置拍攝相同的塵粒或缺陷。因此較佳的拍攝方式為，攝影模組33停留在同一個位置時，分別拍攝第一影像P1及第二影像P2，再移動到下一個位置。如此要面臨的問題是，如何快速切換第一光源321與第二光源322的啟閉，以加速拍攝的進程。

如圖2B所示，在本創作的實施例中，提出在光罩盒表面的光學檢查裝置3增設一切換開關36。切換開關36訊號連接控制模組34、第一光源321及第二光源322，以控制第一光源321與第二光源322的快速啟閉。切換開關36可以有多種形式，在本實施例中，切換開關36包括一第一繼電器361及一第二繼電器362，第一繼電器361設置於控制模組34及第一光源321的訊號路徑，第二繼電器362設置於控制模組34及第二光源322的訊號路徑。繼電器（Relay）也稱電驛，可作為自動開關，藉由第一繼電器361及第二繼電器362，可輪流切換第一光源321與第二光源322的開啟與關閉，從而加速拍攝與檢查的進程。繼電器作為一種成本低廉且安全、迅速可靠的實施方式，然而本創作的切換開關36不限於此。在其他實施例中，切換開關36例如是閘流電晶體（Thyristor）、開關二極體、開關三極體、電子雙向開關積體電路、光電耦合器等多種形式，也可以為調變器（modulator）以調變訊號控制第一光源321與第二光源322的快速啟閉。在其他例子中，還可以使用快門（Shutter）或以機械的方式控制光路的阻斷等方式來達成切換。例如第一光源321與第二光源322來自相同的主光源但分別行經不同的光路，在光路的分歧處設置可轉動的鏡子以將光線導至其中一光路而讓另一光路失去光線，以達成快速切換的目的。

進一步地，如圖5所示，本創作的光罩盒表面的光學檢查裝置3’相對於光罩盒表面的光學檢查裝置3，改採用內同軸光源作為第一光源321’。外同軸光源或內同軸光源皆可作為本創作的第一光源，唯內同軸光源具有體積小、低耗能，超高亮度且發熱量低的優勢，通常與攝影模組33整合為一體式的機構。

雖然本創作的第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b，其可為光罩盒表面的光學檢查裝置3，但不代表本創作的光罩盒表面的光學檢查裝置3必須綁定在光罩盒表面高速檢查系統100中實施。光罩盒表面的光學檢查裝置3可獨立實施為一檢查裝置，或與其他類型的裝置組合成另外的系統。

如圖8A至圖9所示，本創作又提出一種光罩盒次元件的檢測裝置6。本創作的光罩盒表面高速檢查系統100中的第一檢查裝置3a及第二檢查裝置3b的至少其中一者可替換為光罩盒次元件的檢測裝置6，然而光罩盒次元件的檢測裝置6也可單獨實施，其作為一種主要用於檢查光罩盒上的次元件（例如依附在光罩盒本體上的一些塑膠件、金屬件或玻璃視窗等等）的檢測裝置，也可以與其他類型的裝置組合成另外的系統。光罩盒次元件的檢測裝置6包含：一承托平台61、一光源模組62、一攝影模組63及一控制模組64。

承托平台61用以承托一光罩盒或光罩盒的部分（上蓋或下蓋），承托平台61具有一承托表面611，光罩盒或光罩盒的部分便置於承托表面611以供表面檢查。

光源模組62包括一同軸光源621及一高度調整機構623，其中高度調整機構623連接同軸光源621及承托平台31的至少其中一者。同軸光源621可為外同軸光源或內同軸光源，圖8A中以外同軸光源為表示，然而其也可以改為類似圖5的內同軸光源。高度調整機構623例如為伺服馬達、步進馬達或汽缸等可受電訊號控制並在高度方向上提供往復移動動力的常規機構。在圖8A中以高度調整機構623連接同軸光源621作為示例，然而也可以改為高度調整機構623連接承托平台31，或連接同軸光源621及承托平台61二者。

攝影模組63連接同軸光源621並鏡頭朝向承托平台61。攝影模組63例如為常規的非遠心鏡形式的攝影機，可接收多角度的入射光。

控制模組64訊號連接攝影模組63及高度調整機構623。若光罩盒次元件的檢測裝置6作為光罩盒表面高速檢查系統100的第一檢查裝置3a或第二檢查裝置3b的其中一者，控制模組64還訊號連接行程控制器4。控制模組64例如為控制晶片或控制電路。控制模組64控制高度調整機構623調整同軸光源621與承托平台31的相對距離，以使攝影模組63（連動於同軸光源621）接收不同量的入射光，以產生銳利或模糊的不同效果。

例如圖8B所示，當同軸光源621與承托平台61的相對距離較長的時候，拍攝的影像較銳利；反之如圖8C所示，當同軸光源621與承托平台61的相對距離較短的時候，攝影模組63拍攝的影像較為模糊。而在判定光罩盒表面是否具有塵粒或缺陷的時候，可以以較銳利的方式（同軸光源621與承托平台61的相對距離較長）拍攝光罩盒上的表面，再以較為模糊的方式（同軸光源621與承托平台61的相對距離較短）拍攝光罩盒上的次元件。由於光罩盒上的次元件（材料多為塑膠、相對不抗刮擦的金屬或玻璃）相對於本體更容易受到磨損，然而這些磨損對光罩盒的危害程度較低，也就是次元件相對於光罩盒的本體可容許更多的刮擦痕等缺陷。若將次元件與光罩盒本體採相同的光學檢查標準，將很難有次元件通過光學檢查。

因此在攝影模組63拍攝次元件的影像時，控制模組64可控制高度調整機構623調整同軸光源621與承托平台31的相對距離，使相對距離縮短，而拍攝出較模糊的影像。反之，當攝影模組63改為拍攝光罩盒本體時，控制模組64可控制高度調整機構623調整同軸光源621與承托平台31的相對距離，使相對距離增加，以拍攝出較為銳利清晰的影像，以維持對光罩盒本體的光學檢查水準。

綜上所述，本創作的光罩盒次元件的檢測裝置6可一併同時檢查光罩盒本體與其上的次元件，以不同的清晰程度對光罩盒上的不同位置進行光學檢查。

進一步地，在本實施例中，光源模組62更包括一側向光源622，其中同軸光源621的照射方向與承托表面611的夾角的角度，大於側向光源622的照射方向與承托表面611的夾角的角度。側向光源622的設置以及光學檢查原理，如同前述的光罩盒表面的光學檢查裝置3的第二光源322，故不再贅述。

進一步地，在本實施例中，光罩盒次元件的檢測裝置6更包括一切換開關，訊號連接控制模組64、同軸光源621及側向光源622。切換開關可包括一第一繼電器及一第二繼電器。其中第一繼電器設置於控制模組64及同軸光源621的訊號路徑，第二繼電器設置於控制模組64及側向光源622的訊號路徑。此實施例的第一繼電器及第二繼電器的原理、功效與前述的光罩盒表面的光學檢查裝置3的第一繼電器361及第二繼電器362相同，故不再贅述。光罩盒次元件的檢測裝置6的切換開關也不限定繼電器的實施方式，而同樣可為前述的多種可能實施方式。

進一步地，如圖9所示，在本實施例中，光罩盒次元件的檢測裝置6更包括一分析模組65，訊號連接控制模組64。分析模組65依據控制模組64接收到的影像，分析該影像中的一光罩盒次元件的缺陷。分析模組65內建有數據庫以分析拍攝所得到的影像是否存在缺陷。

本創作在上文中已以實施例揭露，然熟習本項技術者應理解的是，該實施例僅用於描繪本創作，而不應解讀為限制本創作之範圍。應注意的是，舉凡與該實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本創作之範疇內。因此，本創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。

100:光罩盒表面高速檢查系統 200:光罩盒表面高速檢查系統 300:光罩盒表面高速檢查系統 1:櫃體 11:第一檢查區 12:第二檢查區 13:自動器械區 14:光罩盒載入區 141:載入門 15:光罩盒載出區 151:載出門 2:夾持模組 21:第一夾持臂 22:第二夾持臂 3:光學檢查裝置 3’:光罩盒表面的光學檢查裝置 31:承托平台 311:承托表面 32:光源模組 321:第一光源 321’:第一光源 322:第二光源 33:攝影模組 34:控制模組 35:動力模組 36:切換開關 361:第一繼電器 362:第二繼電器 3a:第一檢查裝置 3b:第二檢查裝置 4:行程控制器 5:人機介面 6:光罩盒次元件的檢測裝置 61:承托平台 611:承托表面 62:光源模組 621:同軸光源 622:側向光源 623:高度調整機構 63:攝影模組 64:控制模組 65:分析模組 P:光罩盒部件 P1:第一影像 P2:第二影像 S101~S104:步驟 S201~S205:步驟 S301~S303:步驟

圖1A係為根據本創作第一實施例之光罩盒表面高速檢查系統之立體示意圖。 圖1B係為根據本創作第一實施例之光罩盒表面高速檢查系統之俯瞰示意圖。 圖1C係為根據本創作第二實施例之光罩盒表面高速檢查系統之俯瞰示意圖。 圖1D係為根據本創作第三實施例之光罩盒表面高速檢查系統之俯瞰示意圖。 圖2A係為根據本創作第一實施例之光罩盒表面高速檢查系統之方塊圖。 圖2B係為根據本創作實施例之光罩盒表面的光學檢查裝置之方塊圖。 圖2C係為根據本創作第二實施例之光罩盒表面高速檢查系統之方塊圖。 圖3A係為根據本創作第一實施例之光罩盒表面高速檢查方法之流程圖。 圖3B係為根據本創作第二實施例之光罩盒表面高速檢查方法之流程圖。 圖4A係為根據本創作實施例之光罩盒表面的光學檢查裝置之立體示意圖。 圖4B係為根據本創作實施例之光罩盒表面的光學檢查裝置之第一光源照射示意圖。 圖4C係為根據本創作實施例之光罩盒表面的光學檢查裝置之第二光源照射示意圖。 圖5係為根據本創作實施例之另一種態樣的光罩盒表面的光學檢查裝置之立體示意圖。 圖6係為根據本創作實施例之擷取第一影像、第二影像之示意圖。 圖7係為根據本創作實施例之光罩盒表面的光學檢查方法之流程圖。 圖8A係為根據本創作實施例之光罩盒次元件的檢測裝置之立體示意圖。 圖8B係為根據本創作實施例之光罩盒次元件的檢測裝置之長距拍攝示意圖。 圖8C係為根據本創作實施例之光罩盒次元件的檢測裝置之短距拍攝示意圖。 圖9係為根據本創作實施例之光罩盒次元件的檢測裝置之方塊圖。

6:光罩盒次元件的檢測裝置

61:承托平台

611:承托表面

62:光源模組

621:同軸光源

622:側向光源

623:高度調整機構

63:攝影模組

Claims (5)

1. 一種光罩盒次元件的檢測裝置，其包含： 一承托平台； 一光源模組，包括一同軸光源及一高度調整機構，該高度調整機構連接該同軸光源及該承托平台的至少其中一者； 一攝影模組，連接該同軸光源並鏡頭朝向該承托平台；以及 一控制模組，訊號連接該攝影模組及該高度調整機構，該控制模組控制該高度調整機構調整該同軸光源與該承托平台的相對距離。
2. 如請求項1所述之光罩盒次元件的檢測裝置，其中該同軸光源為外同軸光源。
3. 如請求項1所述之光罩盒次元件的檢測裝置，其中該同軸光源為內同軸光源。
4. 如請求項1所述之光罩盒次元件的檢測裝置，其中該光源模組更包括一側向光源，訊號連接該控制模組，該同軸光源的照射方向與該承托平台的表面的夾角的角度，大於該側向光源的照射方向與該承托平台的表面的夾角的角度。
5. 如請求項1所述之光罩盒次元件的檢測裝置，更包括一分析模組，訊號連接該控制模組，該分析模組依據該控制模組接收到的一影像，分析該影像中的一光罩盒次元件的缺陷。