TWM581288U - Mask structure applied to an illuminated keyboard - Google Patents

Abstract

本創作提供一種應用於發光鍵盤之遮罩結構，供以設置於發光鍵盤之一背光模組內，包含一擴散型反射片本體及一遮光層。擴散型反射片本體為薄膜狀結構體，且具有複數穿孔，該些穿孔供複數鍵帽之鍵腳通過。遮光層塗覆於擴散型反射片本體之上表面，且遮光層與各穿孔之邊緣夾設形成一留白區，其中留白區具有透光性質，以形成一均勻亮圈於鍵帽四周。藉此，利用均勻亮圈即可有效地消除發光鍵盤之各鍵帽於發光時的大角度漏光所造成之熱點現象，大幅提升鍵盤之美觀性與出光品味。

Description

應用於發光鍵盤之遮罩結構

本創作係與發光鍵盤組件領域相關，尤其是一種應用於發光鍵盤之遮罩結構。

隨著科技之發展與進步，電腦已為現今生活中不可或缺的電子產品。無論是桌上型電腦或是可攜式之筆記型電腦，係需透過輸入設備如滑鼠鍵盤等裝置予以操控，鑒於目前民眾使用習慣的變化，越來越常出現於昏暗環境下使用電腦裝置之情況，尤其是具可攜功能之筆記型電腦更是如此。然而，於昏暗環境下，由於光線不足，是以常會產生無法辨識鍵盤文字的現象發生，因而降低使用者之使用便利性。

為解決前述現象，相關業者遂提出結合發光功能之鍵盤，以讓鍵盤自身可發出光線，提升在昏暗環境使用下的辨識觀看效能。習用的發光鍵盤係透過設置於鍵盤內的出光模組來提供光線，而使每一按鍵上的字符得以被照亮顯示。然而，目前實際產品上係遭遇出光均勻度不佳之問題，由於發光鍵盤中的各種結構會對出光造成影響，因此會讓各按鍵產生如局部區域過亮、過暗等出光不均的問題，進而造成光學品味下降以及不適於使用者辨識觀看之問題。

有鑑於此，本創作人係集結相關技術經驗，遂而提出一種應用於發光鍵盤之遮罩結構，希冀可解決前述按鍵出光品味不足的問題。

本創作之一目的，旨在提供一種應用於發光鍵盤之遮罩結構，係可大幅增進出光效能，進而提升發光鍵盤之出光品味。

為達上述目的，本創作於一實施方式係揭露一種應用於發光鍵盤之遮罩結構，供以設置於發光鍵盤之一背光模組內，包含：一擴散型反射片本體，為薄膜狀結構體且具有複數穿孔，該複數穿孔供複數鍵帽之鍵腳通過；及一遮光層，其係塗覆於該擴散型反射片本體之上表面，且該遮光層與各該穿孔之邊緣夾設形成一留白區，其中，該留白區具有透光性質，以形成一均勻亮圈於該鍵帽之四周。藉此，透過此遮罩結構即可改善按鍵出光時產生的大角度漏光所造成之熱點現象缺失，賦予發光鍵盤均勻且美觀之出光效果。

於另一實施方式中，本創作係揭示各該留白區為方框形，且各該留白區之邊框寬度係介於0.85mm～1.15mm，藉此係可具有較佳之光線導引效能，使光線透過遮罩結構出光時形成之光圈均勻度更為提升。

基於前述實施方式，於再一實施方式中揭露各該留白區之邊框寬度較佳為1mm，以具備最佳之出光效果。

此外，較佳者，於一實施方式中係揭示該擴散型反射片本體為一白色反射片，且厚度為0.02~0.05mm。藉此，係具備更佳之透光效能而讓光圈之亮度更為均勻。

進一步地，於一實施方式中該遮光層係為一黑色油墨塗層，以防止光線於非預期區域透出，進而影響出光效能。

前述各實施方式之遮罩結構，係可搭配其他組件而構成應用於發光鍵盤之背光模組，於一實施方式中係揭示一種應用於發光鍵盤之背光模組，供以設置於複數個鍵帽之底側，包含：一遮罩結構，包含一擴散型反射片本體及一遮光層，該擴散型反射片本體，為薄膜狀結構體且具有複數穿孔，該複數穿孔供複數鍵帽之鍵腳通過，該遮光層，其係塗覆於該擴散型反射片本體之上表面，且該遮光層與各該穿孔之邊緣夾設形成一留白區，其中，該留白區具有透光性質；一導光板，設於該遮罩結構底側，且該導光板具有複數開孔及複數第一破孔，該等第一破孔係對應鍵帽位置設置；及複數發光源，對應該等開孔設置，以提供側入式光線予該導光板；藉此當發光源之光線透過導光板導引射出至遮罩結構時，透過遮罩結構即可於鍵帽四周形成均勻亮圈，進而消除亮暗不均之熱點現象。

基於前述背光模組之實施方式，同樣地，於再一實施方式中係可使各該留白區為方框形，且各該留白區之邊框寬度係介於0.85mm～1.15mm，藉此係可具有較佳之光線導引效能，使光線透過遮罩結構出光時形成之光圈均勻度更為提升。

較佳者，再一實施方式中係揭露各該留白區之邊框寬度較佳為1mm，以具備最佳之出光效果。

此外，於一實施方式中係揭示該擴散型反射片本體為一白色反射片，且厚度為0.02~0.05mm。藉此，可使擴散型反射片本體具備更佳之透光效能而讓光圈之亮度更為均勻。

進一步地，於一實施方式中該遮光層係為一黑色油墨塗層，以防止光線於非預期區域透出，進而影響出光效能。

較佳者，於一實施方式中，該等穿孔之尺寸係大於該等第一破孔，藉此除利於鍵帽設置亦可具備更佳之出光效果。

此外，為使導光板之出光更為均勻，於一實施方式中該等開孔係位於該導光板之中央區域，且至少一個該發光源係朝向該導光板之一短邊發光。

或者，於另一實施方式中，該等開孔係位於該導光板之中央區域，且該導光板具有相對設置之二短邊，至少一個該發光源係朝向任一該短邊發光，至少一個該發光源係朝向另一該短邊發光，藉此亦可達到較佳之光線使用。

基於前一實施方式所述，進一步地，於再一實施方式中係可使至少一個該發光源係朝向與該導光板之一長邊發光，且該長邊與該等短邊係相互垂直，以讓導光板之各區域皆具備足夠之光線接收量進而投射出均勻光線至遮罩結構處。

綜上所述，本創作之應用於發光鍵盤之遮罩結構，係透過透光且具備光線擴散效能之留白區，讓光線經由遮罩結構出光而受到鍵帽所反彈的亮點可被消除而形成均勻亮圈，解決大角度漏光造成的亮暗不均問題，提升發光鍵盤於使用時的出光效能。更進一步地，為讓均勻亮圈之成效更佳，係可針對各留白區之邊框寬度於以設定，以及選用適合的擴散型反射片本體材料與遮光層材料，以讓遮罩結構發揮更佳之光線處理效能。同時，應用遮罩結構之背光模組即可藉由留白區之設置，更為有效地提升整體出光效果與效率，降低漏光與眩光等光線不佳視覺表現。

如前述，為改善發光鍵盤的按鍵出光缺失，以提升發光鍵盤上各按鍵之發光表現，是以本創作人係提出針對應用於鍵盤內的遮罩結構予以改良設計之技術手段，以透過遮罩結構進一步地提升各按鍵之發光效能。請參閱第1～5圖，其係為本創作較佳實施方式之遮罩結構示意圖、遮罩結構剖面示意圖、遮罩結構與鍵帽應用示意圖、遮罩結構搭配導光板與發光源之分解示意圖及於鍵帽四周形成均勻亮圈之應用示意圖。本創作於此提出一種應用於發光鍵盤之遮罩結構1，供以設置於發光鍵盤之一背光模組2內，遮罩結構1包含一擴散型反射片本體10及一遮光層11，而背光模組2之說明則請容後詳述。

擴散型反射片本體10係為薄膜狀結構且具有複數穿孔101，該些穿孔10供複數鍵帽3之鍵腳30通過。遮光層11塗覆於擴散型反射片本體1之上表面，且遮光層11與各穿孔10的邊緣夾設形成一留白區12，其中留白區12具有透光性質，以形成一均勻亮圈A於鍵帽3之四周，可參閱第5圖所示，其中第5圖所示之均勻亮圈A大小非表示實際尺寸，係為一較佳之說明示意。藉此，當光線通過遮罩結構1時而通過穿孔101處以提供光線予各鍵帽3時，利用具透光性質之各留白區A，即可透過擴散與透光特性在鍵帽3四周形成均勻亮圈A，消除光線自穿孔101射出時的大角度漏光所造成的亮暗不均熱點現象，同時透過遮光層11結構係可避免光線自非預期區域形成出光，進而影響出光表現以及造成光線能量之損耗。

特別一提的是，遮罩結構1得以形成均勻亮圈A效果之原因在於，擴散型反射片本體10是薄膜狀結構，而具備透光特性，且擴散型反射片之性質係可將經過遮罩結構1至鍵帽3最終形成出光時受到鍵帽3反彈的亮點予以散射，因此遮罩結構1接收光線後，即可透過留白區12在鍵帽3四周形成前述之均勻亮圈A呈現。於本實施方式中，遮罩結構1之擴散型反射片本體10較佳為一白色反射片，且厚度為0.02~0.05mm，以兼具擴散光線與透光效能，使得光圈的成形更為均勻美觀。其中，實際應用上，擴散型反射片本體10可選用SKC ^®公司之SW83G型號之白色反射片，並在其上表面塗覆遮光層11以形成本創作所述之遮罩結構1。其中，第2及3圖所示之遮光層11與擴散型反射片本體10之厚度僅為利於示意說明之用，實際上的遮光層11與擴散型反射片本體10之厚度係為極薄狀態。

此外，較佳者，各留白區12為方框形，且各留白區12的邊框寬度D係介於0.85mm～1.15mm，如此係可更佳地改善側視眩光，而於鍵帽3四周形成均勻亮圈A。其中，於本實施方式中，係以各留白區12之邊框寬度D較佳為1mm為例，以兼顧均勻光圈A之亮度與均勻度等出光效果。

而為使遮光層11確實達到遮蔽光線之效能，係可選用深色油墨塗覆於擴散型反射片本體10上而形成遮光層11，深色油墨可例如為黑色、灰色或棕色油墨等，於本實施方式中則以遮光層11為一黑色油墨塗層為例，然本創作並不侷限於此。

具體應用上，遮罩結構1所設置之背光模組2內，更包含了一導光板20及複數發光源21，可參閱第4圖所示。遮罩結構1之具體特徵如前各段落所述，包含擴散型反射片本體10及遮光層11，擴散型反射片本體10具有多個穿孔101，以供鍵帽3之鍵腳30通過，遮光層11塗覆於擴散型反射片本體10上表面，而使遮光層11與穿孔101邊緣夾設形成留白區12，且留白區12具有透光性質，以形成均勻亮圈於鍵帽3四周。導光板20設於遮罩結構1之底側，並具有複數開孔201及複數第一破孔202，該些第一破孔201對應鍵帽3位置設置。發光源21對應開孔201設置，以提供側入式光線予導光板20，藉此當發光源21之光線透過導光板20導引射出至遮罩結構1時，利用遮罩結構1即可有效地使受到鍵帽3反射形成的光點形成散射，進而於鍵帽3四周形成均勻亮圈A，有效地消除肇因於大角度漏光所造成亮暗不均熱點現象。

同樣地，遮罩結構1應用於前述背光模組2時，亦可使各留白區12為方框形，且各留白區12之邊框寬度D介於0.85mm～1.15mm。較佳者，留白區12邊框寬度D可為1mm左右，以使光線於鍵帽3出光時，可於鍵帽3周緣形成均勻亮圈A。

而遮罩結構1之擴散型反射片本體10係可選用一白色反射片，且厚度為0.02~0.05mm，以更利於擴散型反射片本體10使光線予以散射形成光圈，例如可選用SKC ^®公司之SW83G型號之白色反射片。而遮光層11則可為黑色油墨塗層，以具備較佳之遮光效果，當然除了黑色油墨外，深色油墨如灰色或茶色油墨亦可。

為利於安裝鍵帽3以及讓光線具備更佳之出光效能，較佳者，擴散型反射片本體10上之各穿孔101係大於導光板20上的第一破孔202，並且在導光板20欲對應設置各鍵帽3的位置上，係可更開設有複數個第二破孔203，以供鍵帽3之鍵腳30與發光鍵盤中之卡扣組件穿設，而使穿過穿孔101之鍵帽3鍵腳30得以和卡扣組件相互固定設置，該些第二破孔203例如為長形穿孔或是對應各卡扣組件大小設置之小型孔洞皆可。藉此，具有較大尺寸之穿孔101，即可讓鍵帽3穿過而與遮罩結構1下方的導光板20對齊組設。惟前述之卡扣組件與鍵腳相互組設等技術內容已為發光鍵盤領域中之既有技藝，於此即不再贅述。

此外，為使導光板20各區域接收之光線能量更為相等，以避免自導光板20出光時即產生亮暗不均問題，視導光板20、發光源21等規格條件，係可使該些開孔201位於導光板20之中央區域，且至少一個發光源21a係朝向導光板20之一短邊204發光。或是使導光板20具有相對設置之二短邊204，至少一個發光源21a係朝向任一短邊204發光，至少一個發光源21b係朝向另一短邊204發光等方式提供側入光線予導光板20。在發光源21a、21b朝向兩短邊204發光之情況下，亦可更進一步地使至少一個發光源21c朝向導光板20之一長邊205發光，其中長邊205係與短邊204相互垂直，以提升導光板20各區域所接收之光線能量均勻度。

綜上所述，本創作之應用於發光鍵盤之遮罩結構，係透過透光且具備光線擴散效能之留白區，讓光線經由遮罩結構出光而受到鍵帽所反彈的亮點可被消除而形成均勻亮圈，解決大角度漏光造成的亮暗不均問題，提升發光鍵盤於使用時的出光效能。有別於過往為解決鍵帽出光不均之方案，本創作不使用如遮蔽導光板間隙、使導光板形成漸縮破孔、另外設置介質層或多層不同效用的薄膜、或是故意遮蔽開口之部分側面等十分複雜且不易生產之調整手段，而是透過在遮罩結構預留之留白區，以藉由留白區之特性來調整光學表現，解決大角度漏光、側視眩光等不佳出光呈現。而更進一步地，為讓均勻亮圈之成效更佳，係可針對各留白區之邊框寬度予以設定，以及選用適合的擴散型反射片本體材料與遮光層材料，以讓遮罩結構發揮更佳之光線處理效能。同時，應用遮罩結構之背光模組即可藉由留白區之設置，更為有效地提升整體出光效果與效率，降低漏光與眩光等光線不佳視覺表現。

1‧‧‧遮罩結構 10‧‧‧擴散型反射片本體 101‧‧‧穿孔 11‧‧‧遮光層 12‧‧‧留白區 2‧‧‧背光模組 20‧‧‧導光板 201‧‧‧開孔 202‧‧‧第一破孔 203‧‧‧第二破孔 204‧‧‧短邊 205‧‧‧長邊 21‧‧‧發光源 21a‧‧‧發光源 21b‧‧‧發光源 21c‧‧‧發光源 3‧‧‧鍵帽 30‧‧‧鍵腳 A‧‧‧均勻亮圈 D‧‧‧邊框寬度

第1圖，為本創作較佳實施方式之遮罩結構示意圖。 第2圖，為本創作較佳實施方式之遮罩結構剖面示意圖。 第3圖，為本創作較佳實施方式之遮罩結構與鍵帽應用示意圖。 第4圖，為本創作較佳實施方式遮罩結構搭配導光板與發光源之分解示意圖。 第5圖，為本創作較佳實施方式於鍵帽四周形成均勻亮圈之應用示意圖。

Claims (5)

1. 一種應用於發光鍵盤之遮罩結構，供以設置於發光鍵盤之一背光模組內，包含： 一擴散型反射片本體，為薄膜狀結構體且具有複數穿孔，該複數穿孔供複數鍵帽之鍵腳通過；及 一遮光層，其係塗覆於該擴散型反射片本體之上表面，且該遮光層與各該穿孔之邊緣夾設形成一留白區，其中，該留白區具有透光性質，以形成一均勻亮圈於該鍵帽之四周。
2. 如申請專利範圍第1項所述之應用於發光鍵盤之遮罩結構，其中，各該留白區為方框形，且各該留白區之邊框寬度係介於0.85mm～1.15mm。
3. 如申請專利範圍第2項所述之應用於發光鍵盤之遮罩結構，其中，各該留白區之邊框寬度較佳為1mm。
4. 如申請專利範圍第1項所述之應用於發光鍵盤之遮罩結構，其中，該擴散型反射片本體為一白色反射片，且厚度為0.02~0.05mm。
5. 如申請專利範圍第1項所述之應用於發光鍵盤之遮罩結構，其中，該遮光層係為一黑色油墨塗層。