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TWM450428U - 噴孔片改良之霧化裝置 - Google Patents

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TWM450428U
TWM450428U TW101220206U TW101220206U TWM450428U TW M450428 U TWM450428 U TW M450428U TW 101220206 U TW101220206 U TW 101220206U TW 101220206 U TW101220206 U TW 101220206U TW M450428 U TWM450428 U TW M450428U
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TW
Taiwan
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groove
orifice
hole
perforation
stepped
Prior art date
Application number
TW101220206U
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English (en)
Inventor
Dun-Ying Fang
yao-fang Gu
Yu-Da Chen
mei-hui Huang
Yi-Hui Peng
Original Assignee
Microbase Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Microbase Technology Corp filed Critical Microbase Technology Corp
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Priority to US13/845,100 priority patent/US10144030B2/en
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Priority to US16/163,570 priority patent/US20190047011A1/en

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Description

噴孔片改良之霧化裝置
本創作係屬於液體霧化設備的領域，尤指一種噴孔片改良之霧化裝置，且該噴孔片係設有至少一階梯型第一通孔者，以提昇霧化效果者。
按，噴孔片改良之霧化裝置可常見於噴霧器或墨水匣等物品，其係利用電子震盪原理所產生之高頻率振波，將如：藥水、香水或墨水等溶液之分子結構打散，使其成為霧狀分子而噴出。
傳統的噴孔片改良之霧化裝置係包括一驅動元件及一噴孔片件，其中，該驅動元件設於該第一通孔片之一側，且該第一通孔片係為金屬材質而製成，其表面係設有複數個霧化孔，當該驅動元件供電後而產生高頻率之振波，使該第一通孔片係因為共振而產生形變彎曲，以將一待霧化液體的分子結構打散形成更小的霧化分子並自該等霧化孔噴出。但，該第一通孔片係為金屬材質製成，該等霧化孔之間係為固定距離，且該等霧化孔的型態並無法任意加工，對於待霧化液體之抗化性不佳，也會影響到該噴孔片改良之霧化裝置之霧化特性及霧化效能。再者，金屬製之該霧化片經長時間的高速振盪後，易產生材料脆化或疲勞等現象，致使該能量傳導元件破裂，進而減損振盪效果令霧化效果下降。
因而有所謂複合式霧化片的結構設計，如中華民國新型專利第M425720號「霧化結構」，其中該霧化結構係包含一驅動元件、一結構片及一霧化片。該結構片設置於該驅動元件之一側，該結構片呈一圓盤形，並具有複數個穿孔，各該穿孔之間分別形成至少一肋條而形成導水通道。該霧化片夾設於該驅動元件及該結構片之間，並可以高分子材料所製成，以克服習知以金屬材質製成之霧化片易因金屬疲勞及脆化，及易受腐蝕性液體侵蝕之問題。該結構片可與該霧化片及該驅動元件以黏著劑緊密結合，以克服高分子材料所製成之霧化片剛性不足導致振盪能量無法達到預期霧化效率之問題。
然而，本創作人有鑑於該種霧化片進有單一型式的該等霧化孔，對於實際上的霧化效率並無助益，而對該等霧化孔的型式進行設計改良，進而發展出呈階梯形之該等霧化孔的該霧化片設計，以大幅提昇其霧化效果。
本創作之一目的，旨在提供一種噴孔片改良之霧化裝置，俾於一噴孔片上設有複數個階梯形噴孔，該等階梯形噴孔包含至少一穿孔及至少一凹槽，以供被暫時儲放一液體，當該噴孔片被振動後，使該液體被霧化並透過該穿孔噴出，以提昇其霧化效果。
本創作之次一目的，旨在提供一種噴孔片改良之霧化裝置，俾設有一能量傳導元件，以作為一驅動元件的能量傳導用途，並可作為該噴孔片的結構支撐體，且該能量傳導元件亦能作為該液體的輸送流道，以提昇組裝後的妥善率，並能有效提昇霧化效果。
為達上述目的，本創作之噴孔片改良之霧化裝置，其包括：一能量傳導元件，其二側面係分別為一入口側及一出口側，該能量傳導元件上係設有至少一第一通孔，以將一液體由該入口側輸入；一噴孔片，設於該能量傳導元件之至少一側面以封閉該第一通孔，藉該能量傳導元件支撐該噴孔片，且該噴孔片係對應該第一通孔處而設有至少一階梯形噴孔以作為該液體之輸送通道；及一驅動元件，設於該能量傳導元件之至少一側面，供電後而提供該能量傳導元件所需之振動能量，使通過該第一通孔之該液體被暫時儲放於該階梯形噴孔內，復經振動霧化後而透過該穿孔由該出口側噴出。其中，該能量傳導元件係以金屬材質而製成之圓環形結構體，該驅動元件係呈圓環形結構體而形成有一第二通孔，且該第二通孔之圓徑係大於等於該第一通孔之圓徑，該噴孔片夾設於該能量傳導元件及該驅動元件之間。其中，該噴孔片係選自如：聚亞醯胺(Polyimide)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)及聚醚 醚酮(PEEK)等高分子聚合物其中之一者而製成。
於各種實施例中，該階梯形噴孔係具有一階乃至於多階設置，其階數係與該噴孔片之厚度有關。
於一實施例中，本創作之該階梯形噴孔係具有一第一凹槽及至少一穿孔，該第一凹槽係位於該噴孔片相對於該入口側之一側，該穿孔位於該第一凹槽內而使該階梯形噴孔之剖面形成一階設置。再者，該第一凹槽之形狀係選自圓形、矩形、長條型、星形及十字形狀等其中之一者，且該第一凹槽及該穿孔之深度比例係介於1：1~4：1之間。應注意的是，該穿孔係可為錐形孔設置。
於另一實施例中，本創作之該階梯形噴孔係具有一第一凹槽、至少一第二凹槽及至少一穿孔，該第一凹槽係位於該噴孔片相對於該入口側之一側，該第二凹槽係位於該第一凹槽內，該穿孔位於該第二凹槽內而使該階梯形噴孔之剖面形成二階設置。再者，該第一凹槽及該第二凹槽之形狀係分別選自圓形、矩形、長條型、星形及十字形狀等其中之一者，且該第一凹槽、該第二凹槽及該穿孔之深度比例係介於1：1：1~6：5：4之間。應注意的是，該穿孔係可為錐形孔設置。
於再一實施例中，本創作之該階梯形噴孔係具有一第一凹槽、至少一第二凹槽、至少一第三凹槽及至少一穿孔，該第一凹槽係位於該噴孔片相對於 該入口側之一側，該第二凹槽係位於該第一凹槽內，該第三凹槽係位於該第二凹槽內，該穿孔位於該第三凹槽內而使該階梯形噴孔之剖面形成三階設置。該第一凹槽、該第二凹槽及該第三凹槽之形狀係分別選自圓形、矩形、長條型、星形及十字形狀等其中之一者。該第一凹槽、該第二凹槽、該第三凹槽及該穿孔之深度比例係介於1：1：1：1~5：4：3：3之間。應注意的是，該穿孔係可為錐形孔設置。
為使 貴審查委員能清楚了解本創作之內容，僅以下列說明搭配圖式，敬請參閱。
第一實施例
請參閱第1、2、3~6圖，係為本創作第一實施例的立體分解圖及其組裝後的剖視圖，以及其噴孔片的各種實施態樣。如圖中所示，本創作之噴孔片改良之霧化裝置1係包括一能量傳導元件11、一噴孔片12及一驅動元件13。
其中該能量傳導元件11係以金屬材質而製成之圓環形結構體，其二側面係分別為一入口側111及一出口側112，該能量傳導元件11上係設有一第一通孔113，以將一液體2由該入口側111輸入。
該噴孔片12係選自如：聚亞醯胺(Polyimide)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)及聚醚醚酮(PEEK)等高分子聚合物其中之一者而製成，該噴孔片12係設 於該能量傳導元件11之一側面以封閉該第一通孔113，藉該能量傳導元件11支撐該噴孔片12，且該噴孔片12係對應該第一通孔113處而設有至少一階梯形噴孔121以作為該液體2之輸送通道，且該階梯形噴孔121係具有一第一凹槽1211及至少一穿孔1212，該第一凹槽1211係位於該噴孔片12相對於該入口側111之一側，該穿孔1212位於該第一凹槽1211內而使該階梯形噴孔121之剖面形成一階設置。應注意的是，該第一凹槽1211之形狀係選自圓形、矩形、長條型、星形、十字形狀等其中之一者，且該第一凹槽1211及該穿孔1212之深度比例係介於1：1~4：1之間，因加工的關係，該穿孔1212係呈現錐形孔。請參閱第11圖，於另一實施例中，該穿孔1212的形狀或可為C型環形。
該驅動元件13同樣係呈圓環形結構體而於圓心處形成有一第二通孔131，且該第二通孔131之圓徑係大於等於該第一通孔113之圓徑，該驅動元件13設於該能量傳導元件11之一側面，使該噴孔片12被夾設於該能量傳導元件11及該驅動元件13之間，該驅動元件13供電後而提供該能量傳導元件11所需之振動能量，使通過該第一通孔113之該液體2被暫時儲放於該階梯形噴孔121內，復經振動霧化後而透過該穿孔1211由該出口側112噴出。
以下為本創作第一實施例之該噴孔片12的實施 態樣，如第3圖所示，該噴孔片12的中心位置係具有一個呈圓形之該階梯形噴孔121，且該階梯形噴孔121僅有單一數量之該凹槽1211及該穿孔1212，該凹槽1211及該穿孔1212係呈同心圓設置。如第4圖所示，該噴孔片12的中心位置同樣具有一個呈圓形之該階梯形噴孔121，且該階梯形噴孔121設有單一之該凹槽1211以及複數量之該等穿孔1212，該等穿孔1212係平均設置於該凹槽1211內。如第5圖所示，該噴孔片12上係設有複數量呈圓形之該等階梯形噴孔121，且該每一階梯形噴孔121設有單一數量之該凹槽1211及該穿孔1212，該每一凹槽1211內之該穿孔1212係同心設置。如第6圖所示，該噴孔片12上係設有複數量呈圓形之該等階梯形噴孔121，且該每一階梯形噴孔121設有單一數量之該凹槽1211以及複數量之該等穿孔1212，該等穿孔1212係平均設置於該凹槽1211內。
第二實施例
請參閱第7、8圖，係為本創作第二實施例之噴孔片的上視圖及其剖視圖。如圖中所示，第二實施例之一噴孔片改良之霧化裝置3同樣包括一能量傳導元件31、一噴孔片32及一驅動元件33，其中該能量傳導元件31及該驅動元件33之構造係與該第一實施例中所述者相同，且組裝方式也相同，於此不再贅述。其最大的差異係該噴孔片32係具有單一 數量之一階梯形噴孔321或複數量之該等階梯形噴孔321，且數量係根據需求而增減。應注意的是，該階梯形噴孔321係具有一第一凹槽3211、一第二凹槽3212及一穿孔3213，且該第一凹槽3211、該第二凹槽3212及該穿孔3213係呈同心設置，該第一凹槽係位於該噴孔片32之一側面，該第二凹槽3212係位於該第一凹槽3211內，該穿孔3213位於該第二凹槽3212內而使該階梯形噴孔321之剖面形成二階設置，本實施例中，該第一凹槽3211之形狀係呈十字形狀，該第二凹槽3212之形狀係呈圓形。應注意的是，本實施例中之該第一凹槽3211、該第二凹槽3212及該穿孔3213之深度比例係介於1：1：1~6：5：4之間。
第三實施例
請參閱第9、10圖，係為本創作第三實施例之噴孔片的上視圖及其剖視圖。如圖中所示，第三實施例之一噴孔片改良之霧化裝置4同樣包括一能量傳導元件41、一噴孔片42及一驅動元件43，其中該能量傳導元件41及該驅動元件43之構造係與前述該等實施例所述者相同，且組裝方式也相同，於此不再贅述。其中之該噴孔片42亦同樣可具有單一數量之一階梯形噴孔421或複數量之該等階梯形噴孔421，且數量係根據需求而增減。應注意的是，該階梯形噴孔421係具有一第一凹槽4211、一第二 凹槽4212、一第三凹槽4213及複數個穿孔4214，該第一凹槽4211、該第二凹槽4212及該第三凹槽4213均呈圓形且為同心圓設置，該第一凹槽4211係位於該噴孔片42之一側面，該第二凹槽4212係位於該第一凹槽4211內，該第三凹槽4213係位於該第二凹槽4212內，該等穿孔4214係平均分布於該該第三凹槽4213內而使該階梯形噴孔421之剖面形成三階設置。而，該第一凹槽4211、該第二凹槽4212、該第三凹槽4213及該等穿孔4214之深度比例係介於1：1：1：1~5：4：3：3之間。
唯，以上所述者，僅為本創作之較佳實施例而已，並非用以限定本創作實施之範圍，故該所屬技術領域中具有通常知識者，或是熟悉此技術所作出等效或輕易的變化者，在不脫離本創作之精神與範圍下所作之均等變化與修飾，皆應涵蓋於本創作之專利範圍內。
 【第一實施例】
1‧‧‧噴孔片改良之霧化裝置
11‧‧‧能量傳導元件
111‧‧‧入口側
112‧‧‧出口側
113‧‧‧第一通孔
12‧‧‧噴孔片
121‧‧‧階梯形噴孔
1211‧‧‧第一凹槽
1212‧‧‧穿孔
13‧‧‧驅動元件
131‧‧‧第二通孔
2‧‧‧液體
【第二實施例】
3‧‧‧噴孔片改良之霧化裝置
31‧‧‧能量傳導元件
32‧‧‧噴孔片
321‧‧‧階梯形噴孔
3211‧‧‧第一凹槽
3212‧‧‧第二凹槽
3213‧‧‧穿孔
33‧‧‧驅動元件
【第三實施例】
4‧‧‧噴孔片改良之霧化裝置
41‧‧‧能量傳導元件
42‧‧‧噴孔片
421‧‧‧階梯形噴孔
4211‧‧‧第一凹槽
4212‧‧‧第二凹槽
4213‧‧‧第三凹槽
4214‧‧‧穿孔
43‧‧‧驅動元件
第1圖，為本創作第一實施例的立體分解圖。
第2圖，為本創作第一實施例組裝後的剖視圖。
第3圖，為本創作第一實施例之噴孔片的實施態樣(一)。
第4圖，為本創作第一實施例之噴孔片的實施態樣(二)。
第5圖，為本創作第一實施例之噴孔片的實施態樣(三)。
第6圖，為本創作第一實施例之噴孔片的實施態樣(四)。
第7圖，為本創作第二實施例之噴孔片的上視圖。
第8圖，為本創作第二實施例之噴孔片的剖視圖。
第9圖，為本創作第三實施例之噴孔片的上視圖。
第10圖，為本創作第三實施例之噴孔片的剖視圖。
第11圖，為本創作第一實施例之噴孔片的另一實施態樣的結構示意圖。
1‧‧‧噴孔片改良之霧化裝置
11‧‧‧能量傳導元件
111‧‧‧入口側
112‧‧‧出口側
113‧‧‧第一通孔
12‧‧‧噴孔片
121‧‧‧階梯形噴孔
1211‧‧‧第一凹槽
1212‧‧‧穿孔
13‧‧‧驅動元件
131‧‧‧第二通孔
2‧‧‧液體

Claims (15)

  1. 一種噴孔片改良之霧化裝置，其包括：一能量傳導元件，其二側面係分別為一入口側及一出口側，該能量傳導元件上係設有至少一第一通孔，以將一液體由該入口側輸入；一噴孔片，設於該能量傳導元件之至少一側面以封閉該第一通孔，藉該能量傳導元件支撐該噴孔片，且該噴孔片係對應該第一通孔處而設有至少一階梯形噴孔以作為該液體之輸送通道；及一驅動元件，設於該能量傳導元件之至少一側面，供電後而提供該能量傳導元件所需之振動能量，使通過該第一通孔之該液體被暫時儲放於該階梯形噴孔內，復經振動霧化後而透過該階梯形噴孔由該出口側噴出。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該能量傳導元件係以金屬材質而製成之圓環形結構體，該驅動元件係呈圓環形結構體而形成有一第二通孔，且該第二通孔之圓徑係大於等於該第一通孔之圓徑，該噴孔片夾設於該能量傳導元件及該驅動元件之間。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該噴孔片係選自如：聚亞醯胺(Polyimide)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)及聚醚醚酮(PEEK)等高分子聚合物其中之一者而 製成。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該階梯形噴孔係具有一第一凹槽及至少一穿孔，該第一凹槽係位於該噴孔片相對於該入口側之一側，該穿孔位於該第一凹槽內而使該階梯形噴孔之剖面形成一階設置。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該第一凹槽之形狀係選自圓形、矩形、長條型、星形及十字形狀等其中之一者。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該第一凹槽及該穿孔之深度比例係介於1：1~4：1之間。
  7. 如申請專利範圍第4項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該穿孔係為錐形孔。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該階梯形噴孔係具有一第一凹槽、至少一第二凹槽及至少一穿孔，該第一凹槽係位於該噴孔片相對於該入口側之一側，該第二凹槽係位於該第一凹槽內，該穿孔位於該第二凹槽內而使該階梯形噴孔之剖面形成二階設置。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該第一凹槽及該第二凹槽之形狀係分別選自圓形、矩形、長條型、星形及十字形狀等其中之一者。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該第一凹槽、該第二凹槽及該穿孔之深度比例係介於1：1：1~6：5：4之間。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該穿孔係為錐形孔。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該階梯形噴孔係具有一第一凹槽、至少一第二凹槽、至少一第三凹槽及至少一穿孔，該第一凹槽係位於該噴孔片相對於該入口側之一側，該第二凹槽係位於該第一凹槽內，該第三凹槽係位於該第二凹槽內，該穿孔位於該第三凹槽內而使該階梯形噴孔之剖面形成三階設置。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該第一凹槽、該第二凹槽及該第三凹槽之形狀係分別選自圓形、矩形、長條型、星形及十字形狀等其中之一者。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該第一凹槽、該第二凹槽、該第三凹槽及該穿孔之深度比例係介於1：1：1：1~5：4：3：3之間。
  15. 如申請專利範圍第12項所述之噴孔片改良之霧化裝置，其中，該穿孔係為錐形孔。
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