TWI908001B - 衛生洗淨裝置以及廁所裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種衛生洗淨裝置及廁所裝置，其在防止源於照光部增加的成本增加的同時，通過短時間的除菌光的照射，能夠抑制噴嘴收納部及盆部中的菌的增殖。其為被設置在具有承接污物的盆部的大便器上的衛生洗淨裝置，其特徵為，具備：局部洗淨噴嘴，具有朝著使用者的局部吐出洗淨水的吐水口且進行進入及後退；殼體，具有在使局部洗淨噴嘴已後退的狀態下能夠收納局部洗淨噴嘴的噴嘴收納部；及照光部，照射具有除菌作用的光即除菌光，從照光部同時對噴嘴收納部及盆部照射除菌光。

Description

衛生洗淨裝置以及廁所裝置

本發明的方式通常涉及一種衛生洗淨裝置及廁所裝置。

廁所裝置中，已周知在位於殼體內部的噴嘴收納部和位於殼體外部的盆部中，因菌的增殖而容易產生可見髒物。在這樣的廁所裝置中，例如已周知如下技術，即對菌容易增殖的部分照射紫外線等除菌光，由此抑制菌的增殖，並抑制可見髒物產生(例如，專利文獻1)。菌如果單位面積的菌數量超過規定值，則成為可見髒物。另外，通常來講，通過發射照度與照射時間的乘積即積算發射照度，表示基於紫外線照射的抑制菌的增殖的強度。如果將紫外線照射開始時刻的單位面積的菌數量作為初始菌數量，則以不會從初始菌數量達到成為可見髒物的菌數量的方式，通過紫外線照射抑制菌的增殖，由此能夠抑制可見髒物產生。

現有技術中，雖然通過紫外線對噴嘴收納部的內側進行殺菌，但是無法對盆部的表面進行殺菌，針對這樣的課題，專利文獻1中，將照射紫外線的照光部移動到殼體內部及盆部，由此通過共通的照光部能夠對噴嘴收納部及盆部這雙方照射紫外線。像這樣，專利文獻1中，通過照光部的共通化，與在成為照射對象的噴嘴收納部及盆部分別設置照光部的情況相比，能夠實現成本降低。 專利文獻

專利文獻1：日本國特開2020-186531號公報

但是，在專利文獻1所記載的廁所裝置中，由於利用共通的照光部，因此需要依次對噴嘴收納部及盆部照射紫外線，存在照射順序結束為止會花費時間的問題。由於菌通過分裂增殖，對於時間以2次方增殖。也就是說，如果照射遲緩，則需要殺死的菌數量(初始菌數量)對於經過時間以2次方增殖。通常來講，基於光照射的抑制菌的增殖的效果，以對於積算發射照度，所減少的菌數量的位數予以表現。例如，基於殺菌射線的照射的抑制菌的增殖的效果，在5mJ/cm ²下以3位數減少。由於用於抑制成為可見髒物而應維持的菌數量為規定值以下，因此如果初始菌數量較多，則用於使菌數量處於規定值以下所需的積算發射照度也會變大。通過在有菌附著後儘量較早時間開始照射光，由此能夠用更少的積算發射照度將菌數量減少到規定值以下(或者，能夠將菌數量保持在規定值以下)，能夠抑制成為可見髒物。

本發明是基於這樣的問題的認識而進行的，目的在於提供一種衛生洗淨裝置及廁所裝置，其在防止源於照光部增加的成本增加的同時，通過短時間的除菌光的照射，能夠抑制噴嘴收納部及盆部中的菌的增殖。

第1發明是一種衛生洗淨裝置，被設置在具有承接污物的盆部的大便器上，其特徵為，具備：局部洗淨噴嘴，具有朝著使用者的局部吐出洗淨水的吐水口且進行進入及後退；殼體，具有在使前述局部洗淨噴嘴已後退的狀態下能夠收納前述局部洗淨噴嘴的噴嘴收納部；及照光部，照射具有除菌作用的光即除菌光，從前述照光部同時對前述噴嘴收納部及前述盆部照射前述除菌光。

根據該衛生洗淨裝置，對噴嘴收納部及盆部，從共通的照光部照射除菌光，因此能夠防止成本增加。另外，對噴嘴收納部及盆部，同時照射除菌光，因此能夠在附著於噴嘴收納部及盆部的初始菌數量儘量少的狀態下開始照射除菌光。因此，能夠減小用於抑制菌的增殖所需的積算發射照度。當將發射照度做成相同時，與依次照射相比，同時開始照射時能夠通過更短時間的照射來達到規定的積算發射照度，能夠抑制菌的增殖。從而，在防止源於照光部增加的成本增加的同時，通過短時間的除菌光的照射，能夠抑制噴嘴收納部及盆部中的菌的增殖。由此，能夠提供一種抑制髒物產生並衛生性較高的衛生洗淨裝置。

第2發明是如下衛生洗淨裝置，其特徵為，在第1發明中，前述除菌光被照射的前述噴嘴收納部的內面的發射照度的平均值，大於前述除菌光被照射的前述盆部的表面的發射照度的平均值。

除菌光的照射物件中，噴嘴收納部位於殼體的內部，盆部位於殼體的外部。盆部在每一次使用者對廁所裝置(大便器)的使用中被清洗。另一方面，例如當男性站著小便時，局部洗淨噴嘴不會被使用，因此局部洗淨噴嘴及噴嘴收納部不會被清洗。也就是說，盆部中，在每一次廁所裝置被使用時，通過清洗沖下菌，因此菌數量容易下降。與此相對，噴嘴收納部中，即使廁所裝置已被使用，有時也不會被清洗，因此菌數量難以下降。因此，與盆部相比，噴嘴收納部的菌數量有時更多。如果菌數量增加，則用於抑制菌的增殖所需的積算發射照度變大。因此，通過使除菌光被照射的噴嘴收納部的內面的發射照度的平均值，大於除菌光被照射的盆部的表面的發射照度的平均值，由此能夠使在菌數量容易大於盆部的噴嘴收納部中的除菌強度，大於盆部中的除菌強度。從而，能夠高效地抑制噴嘴收納部及盆部中的菌的增殖。由此，能夠高效地抑制噴嘴收納部及盆部中的髒物產生。

第3發明是如下衛生洗淨裝置，其特徵為，在第1發明中，前述照光部被設置在前述殼體的內部。

與盆部相比，有可能噴嘴收納部的清洗次數更少且菌數量更多。如果菌數量增加，則用於抑制菌的增殖所需的積算發射照度變大。通常來講，雷射以外的光源，如果距離越近則從光源發射的發射照度越大。通過將照光部設置在殼體的內部，由此對噴嘴收納部，能夠以與盆部相比更大的發射照度照射除菌光。因此，通過將照光部設置在殼體的內部，從而即使從共通的照光部同時對菌數量容易多於盆部的噴嘴收納部和盆部照射除菌光，也能夠使噴嘴收納部中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間和盆部中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間之差較小，因此能夠縮短除菌光的照射時間。

第4發明是如下衛生洗淨裝置，其特徵為，在第1發明中，以肛門洗淨位置為基準，前述盆部具有：盆後部，位於與前述肛門洗淨位置相比更靠近後方的位置；及盆前部，位於與前述肛門洗淨位置相比更靠近前方的位置，前述除菌光被照射的前述盆後部的表面的發射照度的平均值，大於前述除菌光被照射的前述盆前部的表面的發射照度的平均值。

如上前述，如果菌數量變多，則用於使菌數量處於規定值以下所需的積算發射照度也變大。肛門洗淨位置相當於使用者已就座於便座時的通常的肛門位置。就座於便座的使用者以前傾姿勢進行排便。這樣，包含於大便中的有機物附著於位於與肛門洗淨位置相比更靠近後方的位置的盆後部的可能性較高。即，盆後部與盆前部相比更容易附著成為菌的食物的有機物，成為菌容易增殖的環境，因此初始菌數量較多。因而，通過使除菌光被照射的盆後部的表面的發射照度的平均值，大於除菌光被照射的盆前部的表面的發射照度的平均值，由此能夠使在初始菌數量容易多於盆前部的盆後部中的除菌強度，大於盆前部中的除菌強度。從而，能夠高效地抑制盆後部及盆前部中的菌的增殖。由此，即使從共通的照光部同時對初始菌數量容易多於盆前部的盆後部和盆前部照射除菌光，也能夠使盆後部中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間和盆前部中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間之差較小，因此能夠縮短除菌光的照射時間，能夠高效地抑制盆部中的髒物產生。

第5發明是一種廁所裝置，其特徵為，具備：第1～第4發明的任意一個前述的衛生洗淨裝置；及前述大便器。

根據該廁所裝置，對噴嘴收納部及盆部，從共通的照光部照射除菌光，因此能夠防止成本增加。另外，對噴嘴收納部及盆部，同時照射除菌光，因此與依次照射除菌光的情況相比，能夠通過更短時間的照射來抑制菌的增殖。從而，在防止源於照光部增加的成本增加的同時，通過短時間的除菌光的照射，能夠抑制噴嘴收納部及盆部中的菌的增殖。由此，能夠提供一種抑制髒物產生並衛生性較高的廁所裝置。

根據本發明的形態，能夠提供一種衛生洗淨裝置及廁所裝置，其在防止源於照光部增加的成本增加的同時，通過短時間的除菌光的照射，能夠抑制噴嘴收納部及盆部中的菌的增殖。

以下，參照圖示對本發明的實施方式進行說明。 圖1是表示實施方式所涉及的廁所裝置的立體圖。 如圖1所示，廁所裝置1具備大便器800和設置在其上的衛生洗淨裝置100。大便器800是所謂西式大便器。大便器800具有承接污物的盆部801。關於大便器800，在以後進行敘述。

衛生洗淨裝置100具有殼體400、便座200、便蓋300。便座200及便蓋300分別開閉自如地軸支撐於殼體。

並且，本申請說明書中，將從背靠便蓋300而就座於便座200的使用者觀察的上方、下方、前方、後方、右側方、左側方分別作為「上方」、「下方」、「前方」、「後方」、「右側方」、「左側方」。

在殼體400的內部，內置有對就座於便座200的使用者的「「臀部」」等進行洗淨的身體洗淨功能部等。另外，例如在殼體400的內部，設置有檢測使用者對便座200的就座的就座檢測感測器404(參照圖2)。當就座檢測感測器404檢測出就座於便座200的使用者時，如果使用者例如對遙控器等操作部500進行操作，則能夠使局部洗淨噴嘴(以下，為了便於說明，簡單地稱為「噴嘴」)473進入大便器800的盆部801內或者從盆部801內後退。並且，在圖1所示的衛生洗淨裝置100中，表示了噴嘴473已進入盆801內的狀態。

在噴嘴473的頂端部，設置有一個或多個吐水口474。吐水口474朝著使用者的局部吐出洗淨水。噴嘴473從設置於其頂端的吐水口474噴射水，從而能夠洗淨就座於便座200的使用者的「臀部」。

圖2是表示實施方式所涉及的衛生洗淨裝置的主要部分結構的框圖。 圖2中同時表示了水路系統及電系統的主要部分結構。

如圖2所示，衛生洗淨裝置100具有導水部20。導水部20具有從自來水管或貯水水箱等供水源10到噴嘴473的管路20a。導水部20通過管路20a向噴嘴473引導從供水源10供給的水。管路20a例如由以下說明的電磁閥431、換熱器單元440、流路切換部472等各部分及連接這些各部分的多個配管所形成。

在導水部20的上游側設置有電磁閥431。電磁閥431是可開閉的電磁閥，根據來自設置在殼體400內部的控制部405的指令而控制水的供給。換言之，電磁閥431對管路20a進行開閉。通過使電磁閥431處於打開狀態，從而使從供水源10供給的水在管路20a中流動。

在電磁閥431的下游設置有調壓閥432。當供水壓較高時，調壓閥432將管路20a內的壓力調整為規定的壓力範圍內。在調壓閥432的下游設置有止回閥433。當管路20a內的壓力降低時等，止回閥433抑制水向止回閥433的上游側發生逆流。

在止回閥433的下游設置有換熱器單元440(加熱部)。換熱器單元440具有加熱器，加熱從供水源10供給的水而例如升溫至規定的溫度。即，換熱器單元440生成溫水。

換熱器單元440為例如使用陶瓷加熱器等的瞬間加熱式(瞬間式)的換熱器。瞬間加熱式的換熱器與使用貯熱水水箱的貯熱水加熱式換熱器相比，能夠以更短的時間將水升溫至規定的溫度。並且，換熱器單元440並不局限於瞬間加熱式的換熱器，而是還可以是貯熱水加熱式的換熱器。另外，加熱部並不局限於換熱器，而是例如還可以是利用微波加熱的加熱部等採用其他加熱方式的加熱部。

換熱器單元440被連接於控制部405。控制部405例如根據使用者對操作部500的操作而控制換熱器單元440，從而將水升溫至通過操作部500設定的溫度。

在換熱器單元440的下游設置有流量感測器442。流量感測器442檢測從換熱器單元440吐出的水的流量。即，流量感測器442檢測在管路20a內流動的水的流量。流量感測器442被連接於控制部405。流量感測器442向控制部405輸入對流量的檢測結果。

在流量感測器442的下游設置有電解槽單元450。電解槽單元450對在內部流動的自來水進行電解，從而從自來水生成含有次氯酸的液體(功能水)。電解槽單元450被連接於控制部405。電解槽單元450根據控制部405的控制而生成除菌水(功能水)。

電解槽單元450中生成的功能水例如還可以是含有銀離子、銅離子等金屬離子的溶液。另外，電解槽單元450中生成的功能水還可以是含有電解氯、臭氧等的溶液。或者，電解槽單元450中生成的功能水還可以是酸性水或鹼性水。

在電解槽單元450的下游設置有真空破壞器(VB)452。真空破壞器452例如具有：用於使水流動的流路；用於向流路內引入空氣的吸氣口；及對吸氣口進行開閉的閥結構。例如在流路中有水流動時，閥結構堵住吸氣口，在水停止流動的同時開放吸氣口而向流路內引入空氣。即，在導水部20無水流動時，真空破壞器452向管路20a內引入空氣。閥結構例如使用浮閥。

真空破壞器452如上前述地向管路20a內引入空氣，從而例如促進管路20a的比真空破壞器452更靠近下游的部分的排水。真空破壞器452例如促進噴嘴473的排水。像這樣，真空破壞器452排出噴嘴473內的水而向噴嘴473內引入空氣，從而例如抑制噴嘴473內的洗淨水及盆部801內積攢的污水等向供水源10(上水)側發生逆流。

在真空破壞器452的下游設置有壓力調變部454。壓力調變部454使在導水部20的管路20a內的水流具有脈衝或加速，使從噴嘴473或噴嘴清洗部478的吐水部478a吐出的水具有脈衝。即，壓力調變部454改變在管路20a內流動的水的流動狀態。壓力調變部454被連接於控制部405。壓力調變部454根據控制部405的控制而改變水的流動狀態。壓力調變部454改變管路20a內的水的壓力。

在壓力調變部454的下游設置有流量調整部471。流量調整部471對水勢(流量)進行調整。在流量調整部471的下游設置有流路切換部472。流路切換部472進行向噴嘴473及噴嘴清洗部478的供水的開閉及切換。流量調整部471及流路切換部472還可以作為一個單元而被設置。流量調整部471及流路切換部472被連接於控制部405。由控制部405控制流量調整部471及流路切換部472的動作。

在流路切換部472的下游設置有噴嘴473、噴嘴清洗部478及噴霧噴嘴479。噴嘴473受來自噴嘴馬達476的驅動力，進入便器800的盆801內或者從盆801內後退。噴嘴馬達476構成噴嘴驅動部，根據來自控制部405的指令而使噴嘴473進入或後退。

噴嘴清洗部478從吐水部478a噴射除菌水(功能水)，從而對噴嘴473的外周面473c(主體)進行清洗及除菌。並且，噴嘴清洗部478還可以從吐水部478a噴射水而對噴嘴473的外周面473c進行清洗。噴霧噴嘴479將水或功能水做成霧狀而噴向盆部801。在該例子中，設置有不同於用於洗淨人體的噴嘴473的噴霧噴嘴479。並不局限於此，還可以將用於向盆部801噴吐霧狀液體的吐水口設置於噴嘴473。

另外，在流路切換部472的下游設置有臀部洗淨流路21、輕柔洗淨流路22、下身洗淨流路23。臀部洗淨流路21及輕柔洗淨流路22借由導水部20向臀部洗淨吐水口474b引導從供水源10供給的水或在電解槽單元450中生成的功能水。下身洗淨流路23借由導水部20向下身洗淨吐水口474a引導從供水源10供給的水或在電解槽單元450中生成的功能水。

另外，在流路切換部472的下游設置有表面清洗流路24及噴霧用流路25。表面清洗流路24借由導水部20向噴嘴清洗部478引導從供水源10供給的水或在電解槽單元450中生成的功能水。噴霧用流路25借由導水部20向噴霧噴嘴479引導從供水源10供給的水或在電解槽單元450中生成的功能水。

控制部405通過控制流路切換部472來對臀部洗淨流路21、輕柔洗淨流路22、下身洗淨流路23、表面清洗流路24、噴霧用流路25這各流路的開閉進行切換。像這樣，分別對下身洗淨吐水口474a、臀部洗淨吐水口474b、噴嘴清洗部478、噴霧噴嘴479等的多個吐水口，流路切換部472切換連通於管路20a的狀態與並未連通於管路20a的狀態。

從電源電路401向控制部405供電，控制部405根據來自人體檢測感測器403、就座檢測感測器404、流量感測器442、操作部500等的信號對電磁閥431、換熱器單元440、電解槽單元450、壓力調變部454、流量調整部471、流路切換部472、噴嘴馬達476等的動作進行控制。

另外，控制部405例如根據人體檢測感測器403或就座檢測感測器404的檢測資訊對照光部600進行控制。照光部600向噴嘴473的周邊(後述的噴嘴收納部480等)及盆部801照射具有除菌作用的光即除菌光。關於照光部600，在以後進行敘述。

人體檢測感測器403檢測靠近便座200的使用者(人體)。換言之，人體檢測感測器403檢測衛生洗淨裝置100附近的使用者。控制部405例如回應人體檢測感測器403對使用者的檢測而自動打開便蓋300。

另外，殼體400中還可以適當設置有向就座於便座200的使用者的「臀部」等吹出暖風而進行烘乾的「暖風烘乾功能」機構以及「除臭單元」、「室內取暖單元」等各種機構(追加功能部)。但是，本發明中，還可以並不一定設置這些追加功能部。

圖3(a)及圖3(b)是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的剖視圖。 圖3(a)是表示噴嘴473已後退而被收納在噴嘴收納部480的狀態的剖視圖。圖3(b)是表示噴嘴473已進入的狀態的剖視圖。

如圖3(a)所示，殼體400具有噴嘴收納部480。在噴嘴473已後退的狀態下，噴嘴收納部480可收納噴嘴473的整體。即，噴嘴收納部480是在殼體400內部中收納噴嘴473的部分。

噴嘴收納部480具有：底部481a，位於噴嘴473的下方；側壁部481b，設置在噴嘴473(底部481a)的左右兩側；及開口482，設置在噴嘴收納部480的前端。在該例子中，底部481a是構成殼體400底面的殼板400a的一部分。在該例子中，側壁部481b是構成殼體400側面的殼板400a或殼罩400b的一部分。左右方向上，當在殼體400的側面與噴嘴473之間設置有其他零件時(也就是說，當設置有覆蓋噴嘴473側方的其他零件時)，該零件的側面相當於側壁部481b。由底部481a及側壁部481b構成噴嘴收納部480的內壁481。噴嘴收納部480的上方被構成殼體400上面的殼罩400b所覆蓋。也就是說，在該例子中，殼罩400b構成內壁481的上面部。上下方向上，當在殼罩400b與噴嘴473之間設置有其他零件時(也就是說，當設置有覆蓋噴嘴473上方的其他零件時)，該零件相當於內壁481的上面部。在噴嘴收納部480設置有可進退地支撐噴嘴473的噴嘴支撐部484。

底部481a向大便器800的盆部801內部傾斜。由此，從噴嘴清洗部478、下身洗淨吐水口474a、臀部洗淨吐水口474b吐出的除菌水，從底部481a流落到大便器800的盆部801內。

噴嘴支撐部484在噴嘴473的下方支撐噴嘴473。噴嘴支撐部484在從後方朝向前方的方向上向下方傾斜。噴嘴473一邊相對於噴嘴支撐部484進行滑動一邊進入或後退。在噴嘴收納部480例如還可以設置收納噴嘴473的筒狀的構件。此時，在筒狀的構件中，位於噴嘴473的下方的部分相當於底部481a，位於噴嘴473的側方的部分相當於側壁部481b，位於噴嘴473的上方的部分相當於上面部。

在使噴嘴473向殼體400的內部已後退的狀態下，噴嘴清洗部478設置在噴嘴473的頂端。噴嘴清洗部478具有形成有吐水孔的吐水部478a，該吐水孔朝著噴嘴473的外周面473c吐出除菌水及水。在噴嘴收納部480的前端設置有開口482。開口482設置在殼體400前面的下側。噴嘴清洗部478位於開口482的後方。例如當噴嘴473進行進退時，噴嘴清洗部478從吐水部478a噴射除菌水或水，由此對噴嘴473的外周面473c(主體)進行清洗。

如圖3(a)所示，在並不被使用的狀態下，噴嘴473被收納在噴嘴收納部480。如圖3(b)所示，當通過噴嘴473進行局部洗淨時，噴嘴473相對於噴嘴收納部480向前下方進行滑動。例如，在噴嘴473到達規定位置為止的期間，通過來自噴嘴清洗部478的吐水清洗噴嘴473。

當噴嘴473到達規定位置時，從下身洗淨吐水口474a或臀部洗淨吐水口474b朝著使用者的局部吐出水，由此進行洗淨。當局部洗淨結束時，噴嘴473朝著噴嘴收納部480向後上方進行滑動。例如，在噴嘴473被收納於噴嘴收納部480的期間，通過來自吐水部478a的吐水清洗噴嘴473。噴嘴473後退到規定位置並被收納於噴嘴收納部480。

此時，來自吐水部478a的吐水(除菌水)，流經噴嘴收納部480的內部，其大部分從開口482流落到大便器800的盆部801內。但是，例如因噴嘴收納部480的形狀及除菌水的表面張力等，而除菌水有時會殘留於噴嘴收納部480的內壁481。在這樣殘留的水中，隨著時間的經過，除菌成分的濃度發生降低。這樣，噴嘴收納部480的內部成為容易產生菌或黴的環境。

圖4(a)及圖4(b)是表示實施方式所涉及的廁所裝置的剖視圖。 圖5(a)及圖5(b)是表示實施方式所涉及的廁所裝置的大便器的立體圖及俯視圖。 圖4(a)及圖4(b)是在圖5(b)所示的A1-A2線的位置上的剖視圖。

如圖4(a)所示，大便器800具有；承接污物的凹狀的盆部801；及將污物與水一起排出的排水部802。盆部801具有承接部804和設置在承接部804上的內緣部805。內緣部805是形成大便器800的上緣部的環狀部分。內緣部805具有上面806。上面806是與已被關閉的便座200的背面204相對的面。盆部801相當於圖4(b)中以網格狀表示的部分。盆部801內積攢著積水801w。

圖5(a)是表示大便器800的立體圖、圖5(b)是表示大便器800的俯視圖。大便器800具有設置在內緣部805的吐水口811。吐水口811向盆部801內吐出用於從盆部801內排出污物(例如使用者的排泄物等)的清洗水。

例如，如果使用者通過設置在操作部(遙控器)500等的開關進行便器清洗操作，或者使用者從便座200站立，則從吐水口811向盆部801內供給清洗水的便器清洗被執行。由此，盆部801內的污物被排出到排水部802，盆部801的表面被清洗。像這樣，由於盆部801接觸污物，因此包含於污物的有機物容易附著於盆部801。因此，盆部801是因將有機物作為食物的菌的增殖而容易產生髒物的部位。

作為抑制菌的增殖的手段，除了前述的除菌水之外，還有使用離子或臭氧等的手段。雖然離子或臭氧等是用於通過氣流來實現對髒物抑制物件部位的效果的手段，但是氣流難以控制有效範圍，未被完全控制的氣流有可能引起源於殼體內部的電子零件等的腐蝕或樹脂材料的老化等的功能停止等故障。另一方面，能夠限定髒物抑制物件部位而照射光。關於樹脂材料的老化，根據波長及照射物件材料而適當管理照射量，由此能夠避免發生故障。

現有技術中，雖然通過紫外線對噴嘴收納部的內側進行殺菌，但是無法對盆部內側的表面進行殺菌，針對這樣的課題，專利文獻1中，將照射紫外線的照光部移動到噴嘴收納部及盆部，由此通過共通的照光部能夠對噴嘴收納部及盆部這雙方照射紫外線。像這樣，專利文獻1中，由於利用共通的照光部600，因此能夠降低照光部增設帶來的成本。

但是，專利文獻1中，由於利用共通的照光部依次對噴嘴收納部及盆部照射紫外線，因此存在照射順序結束為止會花費時間的問題。由於菌通過分裂增殖，對於時間以2次方增殖。也就是說，如果照射遲緩，則需要殺死的菌數量(初始菌數量)對於經過時間以2次方增殖。由於用於抑制成為可見髒物而應維持的菌數量為規定值以下，因此如果初始菌數量較多，則用於使菌數量處於規定值以下所需的積算發射照度也會變大。通過在有菌附著後儘量較早時間開始照射光，由此能夠用更少的積算發射照度將菌數量減少到規定值以下(或者，能夠將菌數量保持在規定值以下)，能夠抑制成為可見髒物。

於是，本實施方式中，從共通的照光部600同時對噴嘴收納部470及盆部801照射除菌光。

圖6是表示實施方式所涉及的廁所裝置的一個例子的剖視圖。 圖6是在圖5(b)所示的A1-A2線的位置上的剖視圖。 如圖6所示，衛生洗淨裝置100具備照射具有除菌作用的光即除菌光的照光部600。除菌作用例如是抑制菌的增殖的作用。

通過除菌光的照射，能夠消殺或惰性化附著於物件的菌的至少一部分而抑制(除菌)菌的增殖。除菌光的波長為250nm～480nm。較佳為除菌光例如包含紫外線。通過本發明者研究的結果，知道了照射具有250nm～300nm附近的波長的光，能夠改寫菌與黴等的DNA而將其惰性化成無法增殖。另外，知道了通過照射具有300～480nm附近的波長的光，使光作用於菌與黴等在體內保持的水分而生成活性氧，通過該活性氧能夠消殺或惰性化菌。並且，本發明者確認了通過對自來水照射具有365nm波長的光，在自來水中可生成過氧化氫。這點表示，在自由基生成的過程中，水中生成過氧化氫。另外，本發明者確認了通過對水中的菌照射具有300nm～480nm波長的光，能夠對水中的菌進行除菌。在該例子中，照光部600被設置於便蓋300的背面。

照光部600例如具有至少一個發光部(發光體)。包含於照光部600的發光部既可以是一個還可以是多個。發光部例如是LED(Light Emitting Diode)。發光部並不限定於LED，而是例如還可以是LD(Laser Diode)或OLED(Organic Light Emitting Diode)等。另外，代替發光素子，還可以使用冷陰極管或熱陰極管。例如，發光部借由基板被連接於圖2所示的控制部405，根據控制部405的控制而亮燈及滅燈。控制部405通過控制發光部的亮燈及滅燈來控制照光部600的作動。另外，控制部405例如還可以通過調整外加於發光部的電壓來控制發光部的全部光通量。

圖6中，照光部600朝著噴嘴收納部480及盆部801照射具有除菌作用的除菌光。通過除菌光的照射，抑制噴嘴收納部480及盆部801中的菌的增殖。另外，由此抑制噴嘴收納部480及盆部801中的髒物產生。照光部600對噴嘴收納部480的至少一部分和盆部801的至少一部分照射除菌光。照光部600還可以對噴嘴收納部480整體照射除菌光。照光部600還可以對盆部801整體照射除菌光。

例如，當發光部為殺菌燈時(也就是說，當除菌光為殺菌射線時)，抑制有可能存在於廁所裝置1的菌的增殖所需的最低積算發射照度為5mJ/cm ²。殺菌射線是波長為260nm附近的紫外線。如果從發光部對噴嘴收納部480及盆部801照射5mJ/cm ²以上的積算發射照度的除菌光，則能夠抑制菌的增殖並抑制髒物產生。

如圖6所示，對噴嘴收納部480及盆部801，從共通的照光部600照射除菌光，因此能夠防止成本增加。另外，對噴嘴收納部480及盆部801，同時照射除菌光，因此能夠在附著於噴嘴收納部480及盆部801的菌數量儘量少的狀態下開始照射除菌光。因此，能夠減小用於抑制菌的增殖所需的積算發射照度。當將發射照度做成相同時，與依次照射相比，同時開始照射時能夠通過更短時間的照射來達到規定的積算發射照度，能夠抑制菌的增殖。從而，在防止源於照光部600增加的成本增加的同時，通過短時間的除菌光的照射，能夠抑制噴嘴收納部480及盆部801中的菌的增殖。由此，能夠提供抑制髒物產生並衛生性較高的衛生洗淨裝置100(廁所裝置1)。

如前前述，當除菌光為殺菌射線時，抑制菌的增殖所需的積算發射照度為5mJ/cm ²以上。由於積算發射照度是發射照度與照射時間的積，因此例如當花1.4個小時抑制菌的增殖時，要求1μW/cm ²以上的發射照度。在發射照度的測定中，例如如果除菌光的波長為250～300nm的範圍內，則使用紫外線積算光量計C9536/ H9535(濱松光子學株式會社)，如果除菌光的波長為300～410nm的範圍內，則使用紫外線積算光量計C9536/ H9958(濱松光子學株式會社)，如果除菌光的波長為350～450nm的範圍內，則使用ACCU-CALTM50-LED UV照度計(Dymax Corporation)來能夠進行測定。例如可基於JIS Z 8000-7：2022的方法來測定發射照度。

而且，較佳為除菌光被照射的噴嘴收納部480的內面的發射照度的平均值，大於除菌光被照射的盆部801的表面的發射照度的平均值。

噴嘴收納部480的內面是噴嘴收納部480的內壁481的表面。當在噴嘴收納部480的開口482處設置有可開閉的噴嘴蓋483(參照圖9)時，噴嘴蓋483構成噴嘴收納部480的一部分。此時，噴嘴蓋483的背面(後方側的面)也包含於噴嘴收納部480的內面。如前前述，盆部801的表面指圖4(b)中以網格狀表示的部分的表面。

發射照度的平均值是在將算出對象面(噴嘴收納部480的內面或盆部801的表面)以一定的劃分面積(例如，1mm×1mm劃分)劃分時，測定並算出一個單位劃分面積中被照射的發射照度，將測定出的發射照度的總計除以劃分數量的值。在一定的單位劃分面積的照度的測定中，例如還可以使用如紫外線積算光量計C9536/H9958(濱松光子學株式會社)這樣的測定器。

除菌光的照射物件中，噴嘴收納部480位於殼體400的內部，盆部801位於殼體400的外部。盆部801在每一次使用者對廁所裝置1(大便器800)的使用中被清洗。另一方面，例如當男性站著小便時，噴嘴473不會被使用，因此噴嘴473及噴嘴收納部480不會被清洗。也就是說，盆部801中，在每一次廁所裝置1被使用時，通過清洗沖下菌，因此菌數量容易下降。與此相對，噴嘴收納部480中，即使廁所裝置1已被使用，有時也不會被清洗，因此菌數量難以下降。因此，與盆部801相比，噴嘴收納部480的菌數量有時更多。如果菌數量增加，則用於抑制菌的增殖所需的積算發射照度變大。因此，使除菌光被照射的噴嘴收納部480的內面的發射照度的平均值，大於除菌光被照射的盆部801的表面的發射照度的平均值，由此能夠使在菌數量容易大於盆部801的噴嘴收納部480中的除菌強度，大於盆部801中的除菌強度。從而，能夠高效地抑制噴嘴收納部480及盆部801中的菌的增殖。由此，能夠高效地抑制噴嘴收納部480及盆部801中的髒物產生。

較佳為除菌光被照射的噴嘴收納部480的內面的發射照度的平均值例如為4μW/cm ²以上、100mW/cm ²以下。較佳為除菌光被照射的盆部801的表面的發射照度的平均值例如為1μW/cm ²以上、25mW/cm ²以下。

圖7是表示實施方式所涉及的廁所裝置的一個例子的剖視圖。 圖7是圖5(b)所示的A1-A2線的位置上的剖視圖。 如圖7所示，對噴嘴收納部480及盆部801照射除菌光的共通的照光部600較佳為設置在殼體400的內部。

如前前述，與盆部801相比，有可能噴嘴收納部480的清洗次數更少且菌數量更多。如果菌數量增加，則用於抑制菌的增殖所需的積算發射照度變大。通常來講，雷射以外的光源，如果距離越近則從光源發射的發射照度越大。通過將照光部600設置在殼體400的內部，由此對噴嘴收納部480，能夠以與盆部801相比更大的發射照度照射除菌光。因此，通過將照光部600設置在殼體400的內部，從而即使從共通的照光部600同時對菌數量容易多於盆部801的噴嘴收納部480和盆部801照射除菌光，也能夠使噴嘴收納部480中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間和盆部801中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間之差較小，因此能夠縮短除菌光的照射時間。

當在殼體400的內部設置照光部600而照射噴嘴收納部480及盆部801時，較佳為通過設置在噴嘴收納部480前端的開口482來對盆部801照射除菌光。開口482是例如被底部481a、側壁部481b、殼罩400b所圍住的部分。另外，還可以在殼體400的內部設置照光部600，而通過設置在底部481a的開口來對盆部801照射除菌光。此時，設置在底部481a的開口還可以被透明材料所充滿，透過透明材料對盆部801照射除菌光。當設置有可開閉開口482的噴嘴蓋483時(參照圖9)，還可以在殼體400的內部設置照光部600，從底部481a與噴嘴蓋483的間隙對盆部801照射除菌光。

而且，較佳為除菌光被照射的盆後部801b的表面的發射照度的平均值，大於除菌光被照射的盆前部801a的表面的發射照度的平均值。

圖8(a)及圖8(b)是實施方式所涉及的廁所裝置的盆前部及盆後部的示意圖。 圖8(a)是在圖5(b)所示的A1-A2線的位置上的剖視圖。 如圖8(a)及圖8(b)所示，以肛門洗淨位置OW為基準，盆部801分為盆前部801a與盆後部801b。肛門洗淨位置OW是在噴嘴473進入最大長度的狀態下，沿向從臀部洗淨吐水口474b吐出的水W的吐出方向的直線與內緣部805的上面806的延長面S1發生交叉的點。肛門洗淨位置OW相當於使用者已就座於便座200時的通常的肛門位置。在圖8(a)及圖8(b)中，表示了在肛門洗淨位置OW處與延長面S1正交的鉛直面S2。盆前部801a是在盆部801中位於與鉛直面S2(肛門洗淨位置OW)相比更靠近前方的位置的部分。盆後部801b是在盆部801中位於與鉛直面S2(肛門洗淨位置OW)相比更靠近後方的位置的部分。

就座於便座200的使用者以前傾姿勢進行排便。這樣，包含於大便中的有機物附著於位於與肛門洗淨位置OW相比更靠近後方的位置的盆後部801b的概率較高。即，盆後部801b與盆前部801a相比更容易附著成為菌的食物的有機物，成為菌容易增殖的環境，因此初始菌數量較多。如上前述，如果初始菌數量較多，則用於使菌數量處於規定值以下所需的積算發射照度也變大。於是，通過使除菌光被照射的盆後部801b的表面的發射照度的平均值，大於除菌光被照射的盆前部801a的表面的發射照度的平均值，由此能夠使在初始菌數量容易多於盆前部801a的盆後部801b中的除菌強度，大於盆前部801a中的除菌強度。從而，能夠高效地抑制盆前部801a及盆後部801b中的菌的增殖。由此，即使從共通的照光部600同時對初始菌數量容易多於盆前部801a的盆後部801b和盆前部801a照射除菌光，也能夠使盆後部801b中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間和盆前部801a中用於使菌數量處於規定值以下所需的時間之差較小，因此能夠縮短除菌光的照射時間，能夠高效地抑制盆部801中的髒物產生。

並且，還可以適當改變噴嘴收納部480及照光部600的具體結構。

圖9是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的一個例子的剖視圖。 如圖9所示，在噴嘴收納部480還可以設置有可開閉噴嘴收納部480的開口482的噴嘴蓋483。噴嘴蓋483例如當噴嘴473進入時處於打開狀態，當噴嘴473已後退時處於關閉狀態。另外，照光部600還可以設置在殼體400的內部，且設置在與噴嘴473的前端相比更靠近上方的位置。在殼體400的內部，通過將照光部600設置在與噴嘴473的前端相比更靠近上方的位置，由此將除菌光也能夠照射到噴嘴蓋483的背面(後方側的面)，能夠高效地對噴嘴收納部480及盆部801照射除菌光。

圖10是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的一個例子的剖視圖。 如圖10所示，在噴嘴收納部480還可以設置有可開閉噴嘴收納部480的開口482的噴嘴蓋483。另外，照光部600還可以設置在殼體400的內部，且設置在噴嘴473與噴嘴收納部480的底部481a之間。髒物容易產生的部位例如是水容易殘留的部位。作為水容易殘留的部位，例如可例舉水滴滑落後積攢的噴嘴收納部480的底部481a和因表面張力而水容易停留的噴嘴收納部480的端部481c、噴嘴蓋483的背面下部483a等。通過在噴嘴473與底部481a之間設置照光部600，由此能夠高效地對水容易殘留且髒物容易產生部位照射除菌光。

圖11(a)及圖11(b)是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的一個例子的剖視圖及主視圖。 圖11(b)中，表示了已拆下殼罩400b及噴嘴蓋483的狀態。 如圖11(a)及圖11(b)所示，在噴嘴收納部480還可以設置有可開閉噴嘴收納部480的開口482的噴嘴蓋483。另外，照光部600還可以設置在噴嘴473的側方。通過將照光部600設置在噴嘴473的側方，由此與圖10所示的例子同樣，能夠高效地對水容易殘留且髒物容易產生部位照射除菌光。

另外，較佳為在照光部600與盆部801之間設置開口482等間隙。通過設置間隙，照光部600通過間隙能夠對盆部801照射除菌光。

圖12是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨的噴嘴周邊的一個例子的剖視圖。 如圖12所示，在噴嘴473的頂端部的下方，還可以並未設置有底部481a。也就是說，還可以切除位於噴嘴收納部480下方的底部481a的至少一部分。另外，還可以並未設置有底部481a。通過在噴嘴473的頂端部的下方並不設置底部481a，由此即使對盆部801中的位於殼體400正下方的部分，也能夠高效地照射除菌光。

在該例子中，殼板400a具有：第1部分491，位於噴嘴的下方且在前後方向上延伸；及第2部分492，從第1部分491的前端向下方延伸。第2部分492構成噴嘴收納部480的內壁481的一部分。從照光部600照射的除菌光的一部分被照射到第2部分492。

圖13是表示實施方式所涉及的廁所裝置的噴嘴蓋周邊的一個例子的示意圖。 如圖13所示，在噴嘴蓋483已關閉的狀態下，從殼體400內的照光部600對噴嘴收納部480及盆部801照射除菌光，由此能夠以使用者可目視確認的狀態使噴嘴蓋483的附近發光。此時，照光部600朝著盆部801(與內緣部805相比更靠近下方的位置)照射用於抑制菌的增殖的除菌光，同時朝著與內緣部805相比更靠近上方的位置照射用於使使用者目視確認的光(例如除菌光)。例如，從噴嘴蓋483的附近，直接向與內緣部805相比更靠近上方的位置，發出用於使使用者目視確認的光。用於使使用者目視確認的光的光通量(向與內緣部805相比更靠近上方的位置發出的光的光通量)，較佳為小於朝著盆部801發出的光的光通量(向與內緣部805相比更靠近下方的位置發出的光的光通量)。用於使使用者目視確認的光的光通量(向與內緣部805相比更靠近上方的位置發出的光的光通量)還可以為0。

將從照光部600發出的全部光的光通量的綜合作為全部光通量，並將光通量的單位作為(W)。「目視確認」指使用者的眼睛能看到光。另外，通過用光通量除以面積的發射照度來表示照射到盆部801表面的光的強度。即使極微量的發射照度，人的眼睛也能夠感知。因此，用於目視確認所需的發射照度，還可以小於用於抑制菌的增殖所需的發射照度。因而，使用於目視確認的從噴嘴蓋483附近直接向與內緣部805相比更靠近上方的位置發出光的光通量，小於朝著盆部801發出的光通量，由此在使使用者目視確認的同時，能夠高效地抑制髒物。

在噴嘴蓋483的整體或一部分中，可使用透明或半透明的材料。作為此時的材料，例如可例舉聚丙烯或聚碳酸酯、丙烯、ABS(丙烯腈、丁二烯、苯乙烯的共聚物合成樹脂)、PBT(聚對苯二甲酸丁二醇酯)、PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)等。

可任意時間進行除菌光的照射。除菌光的照射既可以在洗手間內沒有使用者的狀態下進行，還可以在洗手間內有使用者的狀態下進行。另外，除菌光的照射例如一天中照射用於使菌數量處於規定值以下所需的積算發射照度以上的除菌光即可，既可以連續進行，還可以斷續進行。

實施方式還可以包含以下的構成。

構成1 一種衛生洗淨裝置，被設置在具有承接污物的盆部的大便器上，其特徵為， 具備：局部洗淨噴嘴，具有朝著使用者的局部吐出洗淨水的吐水口且進行進入及後退； 殼體，具有在使前述局部洗淨噴嘴已後退的狀態下能夠收納前述局部洗淨噴嘴的噴嘴收納部； 及照光部，照射具有除菌作用的光即除菌光， 從前述照光部同時對前述噴嘴收納部及前述盆部照射前述除菌光。

構成2 構成1所記載的衛生洗淨裝置，其特徵為，前述除菌光被照射的前述噴嘴收納部的內面的發射照度的平均值，大於前述除菌光被照射的前述盆部的表面的發射照度的平均值。

構成3 構成1或2所記載的衛生洗淨裝置，其特徵為，前述照光部被設置在前述殼體的內部。

構成4 構成1～3的任意一個所記載的衛生洗淨裝置，其特徵為， 以肛門洗淨位置為基準，前述盆部具有：盆後部，位於與前述肛門洗淨位置相比更靠近後方的位置；及盆前部，位於與前述肛門洗淨位置相比更靠近前方的位置， 前述除菌光被照射的前述盆後部的表面的發射照度的平均值，大於前述除菌光被照射的前述盆前部的表面的發射照度的平均值。

構成5 一種廁所裝置，其特徵為， 具備：構成1～4的任意一個所記載的衛生洗淨裝置； 及前述大便器。

如以上前述，根據實施方式，能夠提供一種衛生洗淨裝置及廁所裝置，其在防止源於照光部增加的成本增加的同時，通過短時間的除菌光的照射，能夠抑制噴嘴收納部及盆部中的菌的增殖。

以上，對本發明的實施方式進行了說明。但是，本發明並不局限於以上所記述的內容。關於前述的實施方式，只要具備本發明的特徵，則本領域技術人員追加適當設計變更的發明也包含在本發明的範圍內。例如，衛生洗淨裝置及廁所裝置所具備的各要素的形狀、尺寸、材質、配置、設置方式等並不局限於例示的內容，而是可進行適當變更。另外，只要技術上可行，則可以對前述的各實施方式所具備的各要素進行組合，只要包含本發明的特徵，則對這些進行組合的技術也包含在本發明的範圍內。

1:廁所裝置 10:供水源 20:導水部 20a:管路 21:臀部洗淨流路 22:輕柔洗淨流路 23:下身洗淨流路 24:表面清洗流路 25:噴霧用流路 100:衛生洗淨裝置 200:便座 204:背面 300:便蓋 400:殼體 400a:殼板 400b:殼罩 401:電源電路 403:人體檢測感測器 404:就座檢測感測器 405:控制部 431:電磁閥 432:調壓閥 433:止回閥 440:換熱器單元 442:流量感測器 450:電解槽單元 452:真空破壞器(VB) 454:壓力調變部 471:流量調整部 472:流路切換部 473:噴嘴 473c:外周面 474:吐水口 474a:下身洗淨吐水口 474b:臀部洗淨吐水口 476:噴嘴馬達 478:噴嘴清洗部 478a:吐水部 479:噴霧噴嘴 480:噴嘴收納部 481:內壁 481a:底部 481b:側壁部 481c:端部 482:開口 483:噴嘴蓋 483a:背面下部 484:噴嘴支撐部 491:第1部分 492:第2部分 500:操作部 600:照光部 800:大便器 801:盆部 801w:積水 801a:盆前部 801b:盆後部 802:排水部 804:承接部 805:內緣部 806:上面 811:吐水口 OW:肛門洗淨位置 S1:延長面 S2:鉛直面

[圖1]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的立體圖。 [圖2]是表示實施方式所涉及的衛生洗淨裝置的主要部分結構的框圖。 [圖3(a)]及[圖3(b)]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的剖視圖。 [圖4(a)]及[圖4(b)]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的剖視圖。 [圖5(a)]及[圖5(b)]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的大便器的立體圖及俯視圖。 [圖6]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的一個例子的剖視圖。 [圖7]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的一個例子的剖視圖。 [圖8(a)]及[圖8(b)]是實施方式所涉及的廁所裝置的盆前部及盆後部的示意圖。 [圖9]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的一個例子的剖視圖。 [圖10]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的一個例子的剖視圖。 [圖11(a)]及[圖11(b)]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨噴嘴周邊的一個例子的剖視圖及主視圖。 [圖12]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的局部洗淨的噴嘴周邊的一個例子的剖視圖。 [圖13]是表示實施方式所涉及的廁所裝置的噴嘴蓋周邊的一個例子的示意圖。

100:衛生洗淨裝置

200:便座

300:便蓋

400a:殼板

400b:殼罩

473:噴嘴

480:噴嘴收納部

481a:底部

481b:側壁部

482:開口

600:照光部

800:大便器

801:盆部

801w:積水

802:排水部

804:承接部

805:內緣部

806:上面

Claims (6)

1. 一種衛生洗淨裝置，被設置在具有承接污物的盆部的大便器上，其特徵為， 　　具備：局部洗淨噴嘴，具有朝著使用者的局部吐出洗淨水的吐水口且進行進入及後退； 　　殼體，具有在使前述局部洗淨噴嘴已後退的狀態下能夠收納前述局部洗淨噴嘴的噴嘴收納部； 　　及照光部，照射具有除菌作用的光即除菌光， 　　從前述照光部同時對前述噴嘴收納部及前述盆部照射前述除菌光， 　　前述照光部被設置在前述殼體的內部，對於前述盆部之整體照射前述除菌光。
2. 如請求項1所述的衛生洗淨裝置，其中，前述除菌光被照射的前述噴嘴收納部的內面的發射照度的平均值，大於前述除菌光被照射的前述盆部的表面的發射照度的平均值。
3. 如請求項1所述的衛生洗淨裝置，其中， 　　以肛門洗淨位置為基準，前述盆部具有：盆後部，位於與前述肛門洗淨位置相比更靠近後方的位置；及盆前部，位於與前述肛門洗淨位置相比更靠近前方的位置， 　　前述除菌光被照射的前述盆後部的表面的發射照度的平均值，大於前述除菌光被照射的前述盆前部的表面的發射照度的平均值。
4. 一種衛生洗淨裝置，被設置在具有承接污物的盆部的大便器上，其特徵為， 　　具備：局部洗淨噴嘴，具有朝著使用者的局部吐出洗淨水的吐水口且進行進入及後退； 　　殼體，具有在使前述局部洗淨噴嘴已後退的狀態下能夠收納前述局部洗淨噴嘴的噴嘴收納部； 　　及照光部，照射具有除菌作用的光即除菌光， 　　從前述照光部同時對前述噴嘴收納部及前述盆部照射前述除菌光， 　　前述噴嘴收納部，係具有位於前述局部洗淨噴嘴之下方之底部， 　　前述照光部，係於前述殼體之內部，設在前述局部洗淨噴嘴與前述底部之間，並朝向前方及下方照射前述除菌光。
5. 一種衛生洗淨裝置，被設置在具有承接污物的盆部的大便器上，其特徵為， 　　具備：局部洗淨噴嘴，具有朝著使用者的局部吐出洗淨水的吐水口且進行進入及後退； 　　殼體，具有在使前述局部洗淨噴嘴已後退的狀態下能夠收納前述局部洗淨噴嘴的噴嘴收納部； 　　照光部，照射具有除菌作用的光即除菌光； 　　及便蓋， 　　從前述照光部同時對前述噴嘴收納部及前述盆部照射前述除菌光， 　　前述照光部被設置在前述便蓋之背面，對於前述盆部之整體照射前述除菌光。
6. 一種廁所裝置，其特徵為， 　　具備：如請求項1～5中任意一項所述的衛生洗淨裝置； 　　及前述大便器。