TWI898815B

TWI898815B - 相位檢測方法

Info

Publication number: TWI898815B
Application number: TW113133006A
Authority: TW
Inventors: 柳榮華
Original assignee: 南韓商Ｐｓｉ系統股份有限公司
Priority date: 2024-09-09
Filing date: 2024-09-09
Publication date: 2025-09-21

Abstract

本發明公開適用幾何相位光學器件的相移方式的相位檢測裝置。根據本實施例的一實施方式，提供相位檢測裝置，其特徵在於，包括使具有通過干涉儀生成的不同的圓形偏振光的物體光及參照光相移的光學掩膜，上述光學掩膜包括：光學陣列，包括使上述物體光及上述參照光以規定的光軸旋轉角度的兩倍相位延遲的幾何相位光學像素，以及圓偏振光分束器，使透射上述光學陣列的圓偏振光成分中一部分圓偏振光成分透射。

Description

相位檢測方法

本實施例涉及利用幾何相位光學器件以相移方式檢測物體光的光特性的相位檢測裝置。

該部分中描述的內容僅提供本實施例的背景資訊，並不構成現有技術。

光學檢查技術從以往的2D形狀檢查發展到3D形狀檢查。多種技術中試圖檢測包括從物體反射的光的強度在內的相位或偏振光特性。其中，相移干涉儀(Phase Shifting Interferometry)方法的構成光學系統和計算演算法簡單，因而利用為測定3D形狀的基本方法。

以往的相移方法使用壓電式換能器(PZT，Piezo-electric Transducer)或液晶可變延遲器(LCVR，Liquid Crystal Variable Retarder)之類的器件檢測從物體表面反射的物體光的強度和相位。此時，以往的相移方法通過依次調整從基準鏡反射的參照光的相位，拍攝相移的多個干涉條紋，利用干涉條紋檢測上述的資訊。

但是，以往的相移方法需要通過伴隨PZT或LCVR的依次調整的多次拍攝得到相移干涉條紋，因而在得到相移干涉條紋的過程中會存在細微的時間間隔。當在這種時間間隔期間從環境引入不規則的振動時，以往的相移方法存在相位檢測性能下降的問題。但是，現實中在進行大量生產的一般的產業現場常存在不規則的多種振動，因而在產業現場以往的相移方法難以期待高的相位檢測性能。

作為避免引入振動導致的錯誤的方法，研究使用多個攝像機同時拍攝多個相移干涉條紋的方法。但是，該方法需要使與物體的相同位置相對應的各個攝像機的像素相互精密匹配，因而需要用於匹配的單獨的裝置或工作。並且，該方法需要用於配置多個攝像機的追加的空間，難以緊湊(Compact)地實現光學系統，使用多個高價攝像機，因而存在檢查裝置的費用變高的缺點。

因此，需要開發克服以往的相移方法的時間序列拍攝導致的弱於振動的缺點，不使用多個攝像機，結構簡單，包括低價的光學系統的新的相位檢測裝置的技術。

本發明的一實施例的一目的在於，提供利用幾何相位光學器件具有簡單的結構的同時強於外部振動而檢測物體光的光特性的相位檢測裝置。

根據本實施例的一實施方式，提供相位檢測裝置，其特徵在於，包括使具有通過干涉儀生成的不同的圓形偏振光的物體光及參照光相移的光學掩膜，上述光學掩膜包括：光學陣列，包括使上述物體光及上述參照光以規定的光軸旋轉角度的兩倍相位延遲的幾何相位光學像素，以及圓偏振光分束器，使透射上述光學陣列的圓偏振光成分中一部分圓偏振光成分透射。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述干涉儀包括：光源，提供可干涉的光；以及光源分束器，將光分割為物體光及參照光。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述圓偏振光分束器中各向異性物質或各向異性結構體由螺旋形結構形成。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述圓偏振光分束器使向與上述螺旋形結構相同的旋轉方向旋轉的圓偏振光反射，使向相反方向旋轉的圓偏振光透射。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述相位檢測裝置還包括檢測透射上述圓偏振光分束器的物體光及參照光形成的干涉條紋的檢測部。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述檢測部獲得多個相移干涉條紋圖像。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，當入射到一偏振光時，上述光學陣列使與入射的光相同的偏振光成分及以光軸旋轉角度的兩倍相位延遲的相反偏振光成分出射。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述光學像素入射到相鄰的多個光學像素之間相同地點的物體光。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，相鄰的各個光學像素具有不同的光軸旋轉角度。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述光學像素入射到至少三個相鄰的光學像素之間相同地點的物體光。

根據本實施例的一實施方式，提供相位檢測方法，相位檢測裝置檢測物體光的相位，其特徵在於，包括：檢測過程，檢測透射光學掩膜由檢測部檢測到的物體光及參照光的干涉條紋；獲得過程，根據幾何相位光學像素的光軸旋轉角度將上述檢測過程中檢測到的干涉條紋進行分組，以獲得多個干涉條紋圖像；以及檢測過程，利用上述獲得過程中獲得的多個干涉條紋圖像檢測物體光的光學特性。

根據本實施例的一實施方式，其特徵在於，上述光學掩膜包括：光學陣列，包括使上述物體光及上述參照光以規定的光軸旋轉角度的兩倍相位延遲的幾何相位光學像素；以及圓偏振光分束器，使透射上述光學陣列的圓偏振光成分中一部分圓偏振光成分透射。

如上所述，根據本實施例的一實施方式，具有利用幾何相位光學器件具有簡單的結構的同時可檢測物體光的光特性的優點。

並且，根據本實施例的一實施方式，具有僅通過一次拍攝，也可獲得多個相移干涉條紋圖像，可強於外部振動的優點。

100:相位檢測系統

110:相位檢測裝置

120:伺服器

130:檢測對象

140:基準鏡

210:干涉儀

220:光學掩膜

230:檢測部

240:控制部

250:存儲器部

310:光源

320:分束器

410:光學陣列

420:圓偏振光分束器

610、810:各向異性結構體

710a~710d:光學像素

S1310、S1320、S1330:步驟

T_x、T_y:週期

Λ:大小

θ:光軸旋轉角度

圖1為表示根據本發明的一實施例的相位檢測系統的結構的圖。

圖2為表示根據本發明的一實施例的相位檢測裝置的結構的圖。

圖3為表示根據本發明的一實施例的干涉儀的結構的圖。

圖4為表示根據本發明的一實施例的光學掩膜的結構的圖。

圖5為說明根據本發明的一實施例的光學陣列的光學特性的圖。

圖6a及圖6b為表示構成根據本發明的一實施例的光學陣列的物質的物質特性的圖。

圖7為表示根據本發明的一實施例的光學陣列的結構的圖。

圖8為表示根據本發明的一實施例的圓偏振光分束器的結構和手性體積光柵特性的圖。

圖9為說明根據本發明的一實施例的圓偏振光分束器的光學特性的圖。

圖10為說明根據本發明的一實施例的光學掩膜的光學特性的圖。

圖11為例示根據本發明的一實施例的相位檢測裝置的光學特性檢測過程的圖。

圖12a及圖12b為表示根據本發明的一實施例的檢測部檢測的、相移的干涉條紋的像素結構的圖。

圖13為表示根據本發明的一實施例的相位檢測裝置檢測檢測對象的光學特性的方法的流程圖。

本發明可進行多種變更，可具有多種實施例，將特定實施例例示於圖中進行詳細說明。但是，其不將本發明局限於特定的實施方式，應理解為包括本發明的思想及技術範圍中所包括的所有變更、等同技術方案乃至代替技術方案。在說明各個圖的過程中，將類似的參照號用於類似的結構要素中。

第一、第二、A、B等術語可用於說明多種結構要素，但上述結構要素不應局限於上述術語。上述術語僅以區別一個結構要素和另一個結構要素的目的使用。例如，在不脫離本發明的申請專利範圍的情況下，第一結構要素可命名為第二結構要素，類似地，第二結構要素也可命名為第一結構要素。“和/或”這一術語包括多個相關的記載專案的組合或多個相關的記載專案中的一個專案。

當一個結構要素與另一個結構要素“相連接”或“相連”時，可與該另一個結構要素直接相連接或相連，但應理解為中間還可存在有其他結構要素。相反，當一個結構要素與另一個結構要素 “直接相連接”或“直接相連”時，應理解為中間不存在有其他結構要素。

本申請中使用的術語僅用於說明特定的實施例，並不試圖限定本發明。單數的表述除非上下文中有明確不同的含義，則包括複數的表述。本申請中“包括”或“具有”等術語應被理解為不預先將說明書上所記載的特徵、數字、步驟、動作、結構要素、部件或它們的組合的存在或附加可能性排除。

除非有不同的定義，則包括技術或科學術語在內在此使用的所有術語具有與本發明所屬技術領域的普通技術人員通常所理解的含義相同的含義。

通常使用的詞典上定義的之類的術語應被解釋為具有與相關技術的上下文上所具有的含義相一致的含義，除非本申請中有明確定義，則不被解釋為理想或過度形式性的含義。

並且，本發明的各個實施例中所包括的各個結構、過程、工序或方法等可在技術上互不矛盾的範圍內共用。

參照圖1，根據本發明的一實施例的相位檢測系統100包括相位檢測裝置110及伺服器120。

相位檢測系統100即時檢測檢測對象的三維形狀。相位檢測系統100測定從檢測對象(例如，半導體、顯示器件等)反射的物體光的光學特性來檢測檢測對象的三維形狀。其中，測定的光學特性包括物體光的相位、振幅及偏振光成分。

相位檢測裝置110如上所述地即時檢測檢測對象的三維形狀，將檢測結果傳送到伺服器120。相位檢測裝置110可由多種產業領域中的用於驗收產品的計算裝置、PC、伺服器、微伺服器、執行多接入邊緣計算(MEC，Multi-Access Edge Computing)的邊緣計算伺服器、自助服務終端或非移動計算裝置等實現，執行上述的動作。

相位檢測裝置110利用網路介面(未圖示)與伺服器120執行通信。網路介面(未圖示)可由近距離通信部(short-range wireless communication unit)、藍牙通信部、藍牙低能耗(BLE，Bluetooth Low Energy)通信部、近距離無線通訊部(Near Field Communication unit)、WLAN(Wi-Fi)通信部、紫蜂(Zigbee)通信部、紅外線(IrDA，infrared Data Association)通信部、Wi-Fi直連(WFD，Wi-Fi Direct)通信部、超寬頻(UWB，Ultra Wideband)通信部或Ant+通信部等實現。相位檢測裝置110可利用網路介面(未圖示)與伺服器120共用檢測對象的光學特性及由此檢測到的三維形狀。

伺服器120與相位檢測裝置110進行通信，從相位檢測裝置110接收檢測結果。

圖2為表示根據本發明的一實施例的相位檢測裝置的結構的圖，圖11為例示根據本發明的一實施例的相位檢測裝置的光學特性檢測過程的圖。

參照圖2，根據本發明的一實施例的相位檢測裝置110包括干涉儀210、光學掩膜220、檢測部230、控制部240及存儲器部250。

干涉儀210向檢測對象照射光，生成包括檢測對象的光學特性的干涉光。干涉儀210可由圖3所示的結構實現。

圖3為表示根據本發明的一實施例的干涉儀的結構的圖。

參照圖3，根據本發明的一實施例的干涉儀210包括光源310及分束器320。

光源310朝向分束器320照射光。

分束器320使從光源310照射的光向檢測對象130及基準鏡140分支，從各個物件130、140反射的光向相同的路徑進行。分束器320使從光源310照射的光向檢測對象130及基準鏡140分支，形成從檢測對象130反射的物體光和從基準鏡140反射的基準光。分束器320通過使物體光及基準光中的一種反射，使另一種透射，使兩光向相同的路徑進行，並干涉。

干涉儀210通過由這種結構實現，生成包括檢測對象的光學特性的干涉光，使干涉光向光學掩膜220進行。

圖3中表示干涉儀210僅包括分束器320，不一定局限於此，只要是包括馬赫-曾德爾(Mach-Zehnder)干涉儀或塞格納克(Sagnac)干涉儀等的雙光束(Two Beam)干涉儀，就可由任一種代替。

重新參照圖2，光學掩膜220入射到經過干涉儀210的干涉光，生成多個相移干涉條紋。光學掩膜220通過利用幾何相位(Geometrical Phase)光學器件，如以往，即使不包括多個拍攝或多個檢測部，也可生成多個相移干涉條紋。光學掩膜220的具體的結構及動作示於圖4至圖10中。

圖4為表示根據本發明的一實施例的光學掩膜的結構的圖。

參照圖4，根據本發明的一實施例的光學掩膜220包括光學陣列410及圓偏振光分束器420。

光學陣列410入射到干涉儀210中干涉的干涉光，誘導相移(Phase Shift)，本身對干涉光以不同的多個角度誘導相移。

如圖5及圖6a及圖6b所示，光學陣列410由幾何相位光學器件實現，對入射的干涉光誘導相移。

圖5為說明根據本發明的一實施例的光學陣列的光學特性的圖，圖6a及圖6b為表示構成根據本發明的一實施例的光學陣列的物質的物質特性的圖，圖7為表示根據本發明的一實施例的光學陣列的結構的圖。

光學陣列410由幾何相位光學器件實現。光學陣列410可由圖6a所示的具有超表面(Meta Surface)的結構體實現，或由包括液晶(Liquid Crystal)的結構體實現。

光學陣列410可由圖6a所示的具有超表面的結構體實現。具有超表面的各向異性結構體610可由具有矩形截面和高柱狀的高折射率物質形成，以每個局部位置旋轉的形態配置。具有小於傳播波長的納米大小的高折射率物質的矩形截面呈現光學各向異性，其旋轉配置誘導光軸的旋轉。具有超表面的各向異性結構體610可通過用於精密製作納米大小的結構體的電子束光刻(E-beam Lithography)工序或半導體工序製造。

或者，如圖6b所示，光學陣列410可由基於液晶的各向異性結構體610實現。基於液晶的各向異性結構體610本身呈現各向異性物質的特性，因而結構體610能夠以每個局部位置如同作為液晶整列方向的Φ(x)值的配置旋轉的形態配置，誘導幾何相位(Geometrical Phase)效果。當光學陣列410由基於液晶的各向異性結構體實現時，可相對低廉地生產。

像這樣，由幾何相位光學器件實現的光學陣列410具有圖5所示的光學特性。光學陣列410產生各向異性物質的光軸方向差異引起的追加的幾何學相移現象。由此，當光學陣列410通過相位延遲(Phase Retardance)由具有Γ的各向異性物質實現時，若單向圓偏振光向光學陣列410入射，則輸出如下所述的出射光。

其中，T意味著鐘斯矩陣(Jones Matrix)，Eⁱⁿ意味著向光學陣列410入射的入射光，E^GP意味著從光學陣列410輸出的出射光，意味著右圓偏振光，意味著左圓偏振光，θ意味著各向異性物質的光軸旋轉角度，n_e意味著各向異性物質的快軸(Fast Axis)的折射率，n_o意味著各向異性物質的慢軸(Slow Axis)的折射率，t意味著向各向異性物質的光進行方向的厚度。

根據上述的公式，當一偏振光向光學陣列410入射時，分別出射與入射的光相同的偏振光成分(出射光相關公式內cos項被包括的成分)及以各向異性物質的光軸旋轉角度的兩倍相移(延遲)的相反偏振光成分(出射光相關公式內sin項被包括的成分)。

另一方面，如圖7所示，具有這種特徵的光學陣列410由誘導幾何相位(Geometrical Phase)效果的各向異性物質實現，包括以陣列形態實現的多個光學像素710a至710d。

此時，光學像素710a至710d並不如同現有技術，入射到各個像素(檢測對象的)不同地點的干涉光，而是入射到多個(至少三個)相鄰的各個光學像素710a至710d(檢測對象的)相同地點的干涉光。只是，入射到相同地點的干涉光的各個光學像素710a至710d同樣由具有上述性質的各向異性物質實現，具有不同的光軸旋轉角度。例如，如圖7中所例示，當假設橫向(x軸方向)及縱向(y軸)相鄰的四個光學像素710a至710d入射到相同地點的干涉光時，各個光學像素710a至710d可具有0°、45°、90°、135°的光軸旋轉角度。

由此，通過各個光學像素710a至710d的入射光中相移(延遲)的偏振光成分中發生光軸旋轉角度的兩倍的0°、90°、180°、270°的相移。

像這樣，當將光學陣列410內入射到相同地點的干涉光的光學像素710a至710d的數量設定為n，將檢測部230內像素的大小設定為Λ時，光學陣列410內光學像素710a至710d能夠以nΛ週期反復而配置。圖7中光學像素710a至710d橫向及縱向相鄰配置，因而可在光學陣列410內分別向橫向及縱向方向每個2Λ的週期反復而配置。

具有這種光學像素710a至710d配置的光學陣列410即使將干涉光僅入射到一次，也可獲得用於分析檢測對象的光學特性的所有相移干涉條紋。由此，光學陣列410可從根本上切斷如同以往，在均獲得具有不同的相移角的干涉條紋的過程中振動之類的擾動引起的影響，也不需要具有多個檢測部。只需僅在一個檢測部230的前端配置厚度極薄的光學掩膜220即可，因而可具有簡單的結構，光學掩膜220或包括其的相位檢測裝置110的整個體積可變得相當小。

重新參照圖4，從光學陣列410出射的各個偏振光成分的光向圓偏振光分束器420入射。圓偏振光分束器420具有圖8所示的特性，可如圖9所示地進行動作。

圖8為表示根據本發明的一實施例的圓偏振光分束器的結構和手性體積光柵特性的圖，圖9為說明根據本發明的一實施例的圓偏振光分束器的光學特性的圖，圖10為說明根據本發明的一實施例的光學掩膜的光學特性的圖。

參照圖8，圓偏振光分束器420具有螺旋形結構性，即，手性特性(Chirality)。將各向異性結構體810的分子方向向縱軸(y軸)方向依次旋轉並整列的器件稱為手性(Chiral)器件。例如，當在液晶分子均朝向規定的方向的向列(Nematic)液晶中追加手性摻雜劑(Chiral Dopant)時，手性摻雜劑可誘導向列液晶的手性整列。此時，手性特性的週期T_y可根據手性摻雜劑的濃度決定。

並且，當利用多種方法以使液晶邊界表面具有整列週期T_x的方式整列時，手性液晶整列層可利用體積光柵(Volume Grating)製作。通常，體積光柵中的光的傳播滿足根據弗洛凱(Floquet)定理的、入射光和出射光的傳播常數和其光柵向量(Grating Vector)之間的布拉格(Bragg)衍射條件。

通過具有這種條件，圓偏振光分束器420如圖9所示地進行動作。圓偏振光分束器420使自身入射的光中具有與自身的螺旋形結構相同的旋轉方向的圓偏振光成分反射，使向其相反方向旋轉的圓偏振光成分透射。更具體地，圓偏振光分束器420中根據入射光的圓偏振光方向選擇性地呈現體積光柵特性，因而可根據入射光的偏振光方向選擇性地執行鏡像或分束器的功能。例如，當圓偏振光分束器420如圖9所示地具有左螺旋性(Left Helicity)時，可使自身入射的光中左圓偏振光成分反射，僅使右圓偏振光成分透射。

光學掩膜220包括具有上述特性的光學陣列410及圓偏振光分束器420，如圖10所示地進行動作。

如上所述，當與單向(例如，左圓偏振光)偏振光的物體光不同的單向(例如，右圓偏振光)偏振光的參照光分別向光學陣列410入射時，各個光分別向與經過光學陣列410並在無相移的情況下入射的光相同的偏振光成分及相移的相反偏振光成分出射。

從光學陣列410出射的光入射到圓偏振光分束器420，僅使入射的偏振光成分中一偏振光成分(例如，左圓偏振光)反射，使剩餘一偏振光成分透射。透射的一偏振光成分中的一種為不相移的光，剩餘一種相當於以光軸旋轉角度的兩倍相移的光。透射圓偏振光分束器420的成分受到干涉，形成干涉條紋，向檢測部230進行。

例如，當將光學陣列410的厚度Γ調整為π/2時，經過光學掩膜220的干涉光形成有以下的干涉條紋。

其中，意味著入射光中物體光成分，意味著入射光中基準光成分，意味著透射光學陣列410的物體光成分，意味著透射光學陣列410的基準光成分，意味著利用圓偏振光分束器140使物體光的左圓偏振光成分反射，使右圓偏振光成分透射，意味著利用圓偏振光分束器140使物體光的右圓偏振光成分反射，使左圓偏振光成分透射。

重新參照圖2，檢測部230將透射光學掩膜220的多個相移干涉條紋進行受光，基於受光的干涉條紋測定從檢測對象反射的物體光的光學特性。如圖12a及圖12b所示，檢測部230可根據光軸旋轉角度獲得與相同的角度相對應地相移的(多個)相移干涉條紋圖像。

參照圖12a及圖12b，檢測部230可根據光軸旋轉角度將與相同的角度相對應地相移的多個干涉條紋進行分組，可獲得多個相移干涉條紋。檢測部230可從獲得的多個相移干涉條紋檢測物體光的光學特性(相位、振幅、偏振光)。

檢測部230可將從光學掩膜220以不同的角度遷移的干涉條紋受光至少三個，因而可分別將物體光的振幅、基準光的振幅、相對於基準光的物體光的相位檢測如下。

經過上述過程，檢測部230可檢測物體光的相位及振幅。

並且，檢測部230可利用受光的多個干涉條紋檢測物體光的偏振光狀態。檢測部230可從左圓偏振光的振幅、左圓偏振光的相位、右圓偏振光的振幅及右圓偏振光的相位檢測表示偏振光的斯托克斯參數(Stokes' parameter，{S0、S1、S2、S3})。檢測部230可根據如下公式檢測斯托克斯參數。

其中，A_r意味著右圓偏振光的振幅，Φ_r意味著右圓偏振光的相位，A_l意味著左圓偏振光的振幅，Φ_l意味著左圓偏振光的相位。

此時，各個斯托克斯參數運算如下。

S ₂=2A _x A _ycos(Φ_y-Φ_x),

S ₃=2A _x A _ysin(Φ_y-Φ_x)

檢測部230可如同上述過程從物體光的振幅和相位檢測偏振光狀態。

由此，即使相位檢測裝置110從檢測對象將干涉光僅入射到一次，檢測部230也可檢測物體光的光學特性。由此，檢測部230可檢測像素大小為Λ的(檢測對象的)三維形狀。

重新參照圖2，控制部240控制相位檢測裝置110內各個構成的上述動作。控制部240通過執行存儲於存儲器部250的程式，可控制相位檢測裝置110內各個構成的上述動作。並且，控制部240可由一個或多個處理器構成，可由中央處理器(CPU)、應用處理器(AP)、數位訊號處理器(DSP，Digital Signal Processor)等之類的通用處理器或圖形處理器(GPU)或視覺處理單元(VPU，Vision Processing Unit)之類的圖形專用處理器實現。

存儲器部250可存儲用於使相位檢測裝置110內各個構成的上述的動作執行的一個以上的指令(Instructions)。

存儲器部250可由快閃記憶體類型(Flash Memory Type)、硬碟類型(Hard Disk Type)、多媒體卡微型(Multimedia Card Micro Type)、卡式記憶體(例如，SD或XD記憶體等)、隨機存取記憶體(RAM，Random Access Memory)、靜態隨機存取記憶體(SRAM，Static Random Access Memory)、唯讀記憶體(ROM，Read-Only Memory)、電可擦除可程式設計唯讀記憶體(EEPROM，Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)、可程式設計唯讀記憶體(PROM，Programmable Read-Only Memory)、磁記憶體、磁片或光碟等實現。

檢測部230檢測透射光學掩膜220的物體光及參照光的干涉條紋(步驟S1310)。檢測部230檢測透射光學掩膜220的、向與一偏振光的物體光相同的方向偏振光的參照光形成的干涉條紋。

檢測部230根據幾何相位光學像素的光軸旋轉角度將檢測到的干涉條紋進行分組，獲得多個干涉條紋圖像(步驟S1320)。

檢測部230利用獲得的多個干涉條紋圖像檢測物體光的光學特性(步驟S1330)。

圖13中記載為依次執行各個過程，但其僅屬於例示性地說明本發明的一實施例的技術思想。換句話說，只要是本發明的一實施例所屬技術領域的普通技術人員，就可在不脫離本發明的一實施例的本質特性的範圍內變更執行各個圖中所記載的順序，或並存執行各個過程中一種以上的過程，可多樣地修改及變形來適用，因而圖13不局限於時間序列的順序。

另一方面，圖13所示的過程可在電腦可讀記錄介質中由電腦可讀代碼實現。電腦可讀記錄介質包括存儲電腦系統可讀數據的所有種類的記錄裝置。即，電腦可讀記錄介質包括磁存儲介質(例如，唯讀記憶體、軟碟、硬碟等)及光學讀取介質(例如，唯讀光碟、高密度數位視訊光碟等)之類的存儲介質。並且，電腦可讀記錄介質分散於通過網路連接的電腦系統，能夠以分散方式存儲電腦可讀代碼並執行。

以上的說明僅屬於例示性地說明本實施例的技術思想，只要是本實施例所屬技術領域的普通技術人員，就可在不脫離本實施例的本質特性的範圍內進行多種修改及變形。因此，本實施例用於說明本實施例的技術思想，而不用於對其進行限定，本實施例的技術思想的範圍不局限於這種實施例。本實施例的保護範圍應根據所附的申請專利範圍解釋，與其等同範圍內的所有技術思想應被解釋為包括在本實施例的申請專利範圍內。

100:相位檢測系統

110:相位檢測裝置

120:伺服器

Claims

一種相位檢測方法，相位檢測裝置檢測物體光的相位，包括：檢測過程，檢測透射光學掩膜由檢測部檢測到的該物體光及參照光的干涉條紋；獲得過程，根據幾何相位光學像素的光軸旋轉角度將上述檢測過程中檢測到的干涉條紋進行分組，以獲得多個干涉條紋圖像；以及檢測過程，利用上述獲得過程中獲得的多個干涉條紋圖像檢測該物體光的光學特性，其中上述光學掩膜包括：光學陣列，包括使上述物體光及上述參照光以規定的光軸旋轉角度的兩倍相位延遲的幾何相位光學像素；以及圓偏振光分束器，使透射上述光學陣列的圓偏振光成分中一部分圓偏振光成分透射。