[go: up one dir, main page]

TWI892871B - 偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置 - Google Patents

偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置

Info

Publication number
TWI892871B
TWI892871B TW113140003A TW113140003A TWI892871B TW I892871 B TWI892871 B TW I892871B TW 113140003 A TW113140003 A TW 113140003A TW 113140003 A TW113140003 A TW 113140003A TW I892871 B TWI892871 B TW I892871B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
polarizing element
protrusions
optically functional
functional film
Prior art date
Application number
TW113140003A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202507345A (zh
Inventor
佐佐木浩司
樹
渋谷和幸
Original Assignee
日商迪睿合股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2020109985A external-priority patent/JP7240357B2/ja
Application filed by 日商迪睿合股份有限公司 filed Critical 日商迪睿合股份有限公司
Publication of TW202507345A publication Critical patent/TW202507345A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI892871B publication Critical patent/TWI892871B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60—VEHICLES IN GENERAL
    • B60K—ARRANGEMENT OR MOUNTING OF PROPULSION UNITS OR OF TRANSMISSIONS IN VEHICLES; ARRANGEMENT OR MOUNTING OF PLURAL DIVERSE PRIME-MOVERS IN VEHICLES; AUXILIARY DRIVES FOR VEHICLES; INSTRUMENTATION OR DASHBOARDS FOR VEHICLES; ARRANGEMENTS IN CONNECTION WITH COOLING, AIR INTAKE, GAS EXHAUST OR FUEL SUPPLY OF PROPULSION UNITS IN VEHICLES
    • B60K35/00—Instruments specially adapted for vehicles; Arrangement of instruments in or on vehicles
    • B60K35/20—Output arrangements, i.e. from vehicle to user, associated with vehicle functions or specially adapted therefor
    • B60K35/21—Output arrangements, i.e. from vehicle to user, associated with vehicle functions or specially adapted therefor using visual output, e.g. blinking lights or matrix displays
    • B60K35/23—Head-up displays [HUD]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60—VEHICLES IN GENERAL
    • B60K—ARRANGEMENT OR MOUNTING OF PROPULSION UNITS OR OF TRANSMISSIONS IN VEHICLES; ARRANGEMENT OR MOUNTING OF PLURAL DIVERSE PRIME-MOVERS IN VEHICLES; AUXILIARY DRIVES FOR VEHICLES; INSTRUMENTATION OR DASHBOARDS FOR VEHICLES; ARRANGEMENTS IN CONNECTION WITH COOLING, AIR INTAKE, GAS EXHAUST OR FUEL SUPPLY OF PROPULSION UNITS IN VEHICLES
    • B60K35/00—Instruments specially adapted for vehicles; Arrangement of instruments in or on vehicles
    • B60K35/60—Instruments characterised by their location or relative disposition in or on vehicles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/01—Head-up displays
    • G02B27/0101—Head-up displays characterised by optical features
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/01—Head-up displays
    • G02B27/0149—Head-up displays characterised by mechanical features
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60—VEHICLES IN GENERAL
    • B60K—ARRANGEMENT OR MOUNTING OF PROPULSION UNITS OR OF TRANSMISSIONS IN VEHICLES; ARRANGEMENT OR MOUNTING OF PLURAL DIVERSE PRIME-MOVERS IN VEHICLES; AUXILIARY DRIVES FOR VEHICLES; INSTRUMENTATION OR DASHBOARDS FOR VEHICLES; ARRANGEMENTS IN CONNECTION WITH COOLING, AIR INTAKE, GAS EXHAUST OR FUEL SUPPLY OF PROPULSION UNITS IN VEHICLES
    • B60K2360/00—Indexing scheme associated with groups B60K35/00 or B60K37/00 relating to details of instruments or dashboards
    • B60K2360/20—Optical features of instruments
    • B60K2360/25—Optical features of instruments using filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/01—Head-up displays
    • G02B27/0101—Head-up displays characterised by optical features
    • G02B2027/0118—Head-up displays characterised by optical features comprising devices for improving the contrast of the display / brillance control visibility
    • G02B2027/012—Head-up displays characterised by optical features comprising devices for improving the contrast of the display / brillance control visibility comprising devices for attenuating parasitic image effects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Transportation (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本發明的目的是提供一種具有良好的偏光特性並且散熱性和在製造時的成本方面優良的偏光元件。為了解決上述問題， 本發明的偏光元件1具備有由透明的無機材料構成的基板10；由透明材料構成、且具有沿著所述基板10表面設置的基底部21和以格子狀從所述基底部21突出的突起部22的柵結構體20；形成於所述突起部22上，由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成的光學機能膜30。

Description

偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置
本發明是有關於具有良好的偏光特性並且散熱性和製造時的成本優良的偏光元件及偏光元件的製造方法，並且有關於具有優良的偏光特性和耐熱性的抬頭顯示器裝置。
近年來，已經開發了許多用於在車輛的前玻璃(Front glass)或傳送帶(conveyor)等的半透過板（以下統稱為「顯示面」）上顯示影像的車輛用抬頭顯示器裝置。車輛用抬頭顯示器裝置例如是影像顯示裝置，其配置在車輛的儀表板上，將影像光投射在前玻璃上，並且將駕駛信息顯示為虛擬圖像。由於駕駛員可以通過前玻璃同時看到風景與虛擬圖像，因此與安裝在前玻璃範圍之外的諸如公知的液晶顯示器之類的顯示裝置相比，有駕駛員的視線移動小的優點。
但是，關於上述抬頭顯示器裝置，由於顯示圖像從下方朝向前玻璃面（上方）射出，因此太陽光會以與顯示圖像的射出方向相反的方向進入並入射到顯示元件上。在抬頭顯示器裝置中，出於小型化的要求和放大顯示圖像的目的，通常設置有用於反射和放大顯示圖像的反射器，在這種情況下，入射在抬頭顯示器上的太陽光會在顯示元件的附近聚光，而恐怕會引起因熱而導致顯示元件的劣化或故障。
因此，以防止太陽光入射至顯示元件為目的，而開發出在抬頭顯示器中設置反射型偏光元件的技術。例如，專利文獻1公開了一種抬頭顯示器，其中在反射器和顯示元件之間設置反射型偏光元件(線柵偏光板(Wire grid polarizer))。
這裡，作為設置在上述使用的抬頭顯示器中的偏光元件，例如，可舉出由雙折射樹脂的偏光元件構成的偏光元件、在透明基板上平行延伸的多個導體（金屬細線）的線柵型偏光元件、由膽固醇相液晶構成的偏光元件。其中，作為偏光特性優良的偏光元件，經常使用線柵型偏光元件。在線柵型偏光元件中，由金屬等所構成導體線以特定的間距排列成格子狀而形成線柵，藉由使所述線柵的排列間距成為比入射光（例如可見光的波長）小的間距（二分之一以下），則平行於導體線而振蕩的電場矢量分量的光幾乎都可以被反射，且垂直於導體線的電場矢量分量的光幾乎都可以被透過，結果可以將其用作產生單一偏光的偏光元件，因為可以反射和再利用沒有透過的光，所以這從光的有效利用的觀點來看也是期望的。
作為這樣的線柵型偏光元件，例如，專利文獻2中公開了一種線柵偏光板，其具備有具有格子狀的凸部的樹脂基材、以覆蓋所述樹脂基材的格子狀的凸部及其側面的至少一部分的方式設置的介電層、以及設置在介電層上的金屬線。 而且，專利文獻3中公開了一種線柵偏光板，此線柵偏光板具有由在表面上具有沿特定方向延伸的凹凸結構的樹脂等構成的基材、設置成不均勻地分佈在凹凸結構的凸部的一側表面上的導體。此線柵偏光板在垂直於凹凸結構的延伸方向的剖面中，對於作為兩個相鄰凸部之間的距離的間距以及凸部的高度進行調整。 現有技術文件 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2018-72507號公報 專利文獻2：日本專利特開2008-83657號公報 專利文獻3：日本專利特開2017-173832號公報
發明欲解決的問題 通常，在車輛內部使用的設備所需的溫度環境是-40至105°C，但特別是在夏天的車輛內部的儀表板上搭載的抬頭顯示器等，考慮到在高溫環境下使用的情況，而需要高耐熱性和散熱性。然而，專利文獻1〜3的技術基本上是使用了樹脂基材的線柵偏光元件，線柵偏光板本身不具有充分的耐熱性和散熱性。而且，使用了上述樹脂基材的線柵偏光元件通常是使用雙面膠帶（OCA：光學透明膠黏劑）來黏貼在玻璃基材上，而有因膜基材的波紋度而存在雜散光的問題、因熱而使偏光膜翹曲的問題，而所以有進一步改善的需求。
另外，在專利文獻3的線柵偏光元件中，由於在製造時在基材表面形成格子狀的凹凸形狀，因此，考慮到加工性和散熱性，很難選擇材料，還存在難以同時實現偏光特性和散熱性的問題。
此外，對於公知的線柵偏光元件，由於通常藉由光微影技術或蝕刻技術來形成其表面的凹凸形狀，因此存在製造成本飛漲和不適合大量生產的問題。
鑑於這樣的情況而做出了本發明，本發明的目的是提供一種具有良好的偏光特性並且散熱性和在製造時的成本方面優良的偏光元件及偏光元件的製造方法。本發明的另一個目的是提供一種具有優良的偏光特性和耐熱性的抬頭顯示器裝置。 解決問題的技術手段
作為解決上述問題的反覆的深入研究的結果，本發明人發現藉由使偏光元件的基板由透明的無機材料構成，並且使形成了凹凸結構的柵結構體具有沿著所述基板表面設置的基底部和以格子狀從所述基底部突出的突起部，可以維持優良的偏光特性的同時並提高散熱效果。此外，上述柵結構體具有基底部和突起部，由於此基底部和突起部能夠藉由諸如奈米壓印等技術來形成，因此與使用光微影技術或蝕刻技術的情況相比，能夠降低製造成本並且能夠大量生產。
基於上述發現而完成了本發明，其發明內容如下： (1)一種偏光元件，包括： 基板，由透明的無機材料構成； 柵結構體，由透明材料構成，且具有沿著所述基板表面設置的厚度為30μm以下的基底部和以格子狀從所述基底部突出的突起部；以及 光學機能膜，形成於所述突起部上，由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成， 所述光學機能膜形成於所述突起部的頂端及側面的一部分，並覆蓋所述突起部的高度的60%以上。 (2)上述(1)記載的偏光元件中，所述基底部的厚度為1nm以上。 (3)上述(1)或(2)記載的偏光元件中，當從與所述偏光元件的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面中觀察時，所述突起部的形狀為矩形、梯形、多邊形或橢圓形。 (4)上述(1)至(3)任一項記載的偏光元件中，所述光學機能膜未形成於所述基底部上。 (5)上述(1)至(4)任一項記載的偏光元件中，構成所述基板的無機材料與構成所述柵結構體的材料不同。 (6)上述(1)至(5)任一項記載的偏光元件中，更包括以至少覆蓋所述光學機能膜的表面的方式形成的保護膜。 (7)上述(6)記載的偏光元件中，所述保護膜包含撥水性塗層或撥油性塗層。 (8)上述(1)至(4)任一項記載的偏光元件中，所述光學機能膜由至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成。 (9)上述(8)記載的偏光元件中，所述光學機能膜更具有介電膜，所述介電膜位於所述反射膜與所述吸收膜之間。 (10)一種偏光元件的製造方法，包括：在由無機材料構成的基板上形成由透明材料構成的柵結構體材料的步驟；藉由對所述柵結構體材料施行奈米壓印，形成具有沿著所述基板表面設置的厚度為30μm以下的基底部和以格子狀從所述基底部突出的突起部的柵結構體的步驟；以及於所述突起部形成由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成的光學機能膜的步驟，將所述光學機能膜以於所述突起部的頂端及側面的一部分，覆蓋所述突起部的高度的60%以上的方式形成。 (11)上述(10)記載的偏光元件的製造方法中，形成所述光學機能膜的步驟包括藉由濺鍍射或蒸鍍法，從多個方向對所述突起部交替地進行成膜。 (12)一種抬頭顯示器裝置，包括如上述(1)至(9)任一項記載的偏光元件。 (13)上述(12)記載的抬頭顯示器裝置中，在所述偏光元件的周圍設置有散熱構件。 發明的效果
根據本發明，可以提供一種具有良好的偏光特性並且散熱性和在製造時的成本方面優良的偏光元件及偏光元件的製造方法。此外，根據本發明，可以提供一種具有優良的偏光特性和耐熱性的抬頭顯示器裝置。
在下文中，將根據需要參照附圖具體描述本發明的偏光元件的實施型態和本發明的抬頭顯示器的實施型態。應當注意，為了便於描述，圖1至圖13中公開的一些構件以與實際構件不同的比例和形狀示意性地示出。
＜偏光元件＞ 首先，將描述本發明的偏光元件的一實施型態。 如圖1中的（a）和（b）所示，本發明的偏光元件是偏光元件1，其具備有由透明的無機材料構成的基板10；由透明材料構成、且具有沿著所述基板10表面設置的基底部21和以格子狀從所述基底部21突出的突起部22的柵結構體20；形成於所述突起部22上，由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成的光學機能膜30。
偏光元件1的基板10由熱傳導性高的無機材料構成，並且使形成了凹凸結構的柵結構體20具有沿著所述基板10表面設置的基底部21和以格子狀從所述基底部21突出的突起部22，藉此可以由無機材料的基板10和具有薄的基底部21的柵結構體20構成，結果在熱阻值方面可以得到有利的效果，可以在實現優良的偏光特性的同時提高散熱效果。此外，如上所述，柵結構體20具有基底部21和突起部22，由於此基底部21和突起部22能夠藉由諸如奈米壓印等技術來形成，與使用光微影技術或蝕刻技術的情況相比，能夠可以降低製造中涉及的成本和複雜性。 另一方面，公知的膜型式的有機偏光板使用很多有機材料，並且基板（基底膜）或雙面膠帶（OCA：光學透明黏合劑）和柵結構體的厚度變大，因此與本發明的偏光元件相比，散熱性和耐熱性差。
在下文中，將描述本發明的偏光元件的一個實施型態的構成構件。 (基板) 如圖1中的(a)所示，本發明的偏光元件1包括基板10。 所述基板10由透明的無機材料構成。藉由使用無機材料作為基板10，基板10的熱傳導性提高，因此可以謀求偏光元件1的散熱性的提升。 而且，在本說明書中，所謂的「透明」意思是指屬於使用波段（可見光和紅外光的波段）的波長的光的透過率高，例如，該光的透過率為70％以上。由於所述偏光元件1使用了對使用波段的光透明的材料，因此不會對偏光元件1的偏光特性和光的透過性產生不利影響
作為所述基板10的材料，例如可舉出各種玻璃、石英、水晶、藍寶石等。其中，作為所述基板10的材料，較佳為熱傳導率1.0W/m·K以上的材料，更佳為熱傳導率8.0W/m·K以上的材料。這是為了可以獲得更優良的散熱性。
而且，關於所述基板10的形狀，並沒有特別限定，可以根據偏光元件1所需的性能適當地選擇。例如，所述基板10可以配置為具有板狀或彎曲表面。另外，從不對偏光元件1的偏光特性造成影響的觀點來看，所述基板10的表面可以是平坦面。 此外，關於所述基板10的厚度TS，並沒有特別限定，例如可以在0.3mm至10.0mm的範圍內。
(柵結構體) 在本發明的偏光元件的實施型態中，如圖1中的（a）所示，在所述基板10上更具備有柵結構體20，所述柵結構體20由透明材料構成，且具有沿著所述基板10表面設置的基底部21和以格子狀從所述基底部21突出的突起部22。 所述柵結構體20藉由在表面形成了格子狀的突起部22上設置後述的光學機能膜30而可以得到所希望的偏光特性。
從所述柵結構體20的形成了突起部22的面入射的光，在後述的光學機能膜30具有吸收性能的情況下，在通過該光學機能膜30時一部分光被吸收並衰減。此外，在所述光學機能膜30具有反射性能的情況下，在通過該光學機能膜30時，所述入射光的一部分被反射。在通過所述光學機能膜30的光中，在與突起部22的長度方向（吸收軸方向或反射軸方向）正交的方向（透過軸方向）上具有電場分量的光以高透過率透過偏光元件1。另一方面，在透過所述光學機能膜30的光中，在與突起部22的長度方向平行的方向（吸收軸方向或反射軸方向）上具有電場分量的光其一大部分被光學機能膜30反射和/或吸收。因此，在本發明的偏光元件的實施型態中，藉由具備後述的光學機能膜30，可以形成單一偏光。應當注意，此種偏光效果即使對於從所述基板10的背面側入射的光，也可以獲得同樣的效果。
所述柵結構體20具有如圖1中的(a)所述的基底部21。所述基底部21是沿著所述基板10的表面設置的用於支撐所述突起部22的部分。在藉由奈米壓印形成所述柵結構體20的凹凸形狀(突起部22)的情況下，不可避免地形成所述基底部21。而且，藉由在所述柵結構體20中形成基底部21，其與直接在所述基板10上形成所述突起部22的情況下相比，由於可以提高突起部22的強度，因此可以提高所述柵結構體20的耐久性，此外，由於所述基底部21在整個表面上與所述基板10密接，因此可以提高所述柵結構體20的耐剝離性。
而且，關於所述基底部21的厚度TB，並沒有特別限定，從可以更可靠地支撐所述突起部22的觀點、從可以容易地進行壓印成型的觀點來看，較佳為1nm以上，更佳為10nm以上。另外，從確保良好的散熱性的觀點來看，所述基底部21的厚度TB較佳為50μm以下，更佳為30μm以下。
此外，如圖1中的（a）和（b）所示，所述柵結構體20具有從所述基底部21突出的突起部22。如圖1中的（b）所示，突起部22在以本發明的偏光元件1的吸收軸方向或反射軸方向為長邊方向上延伸，藉由存在多個突起部22而形成格子形狀。
在此，如圖1中的（a）和（b）所示，當在與偏光元件1的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面上觀察時，所述突起部22的形成間隔P需要短於使用波段的光的波長。這是為了獲得上述偏光作用。更具體而言，從兼具有所述突起部22的製造容易性和偏光特性的觀點來看，所述突起部22的形成間隔P較佳為50nm〜300nm，更佳為100nm〜200nm，特佳為100nm〜150nm。
而且，如圖1中的（a）和（b）所示，當在與偏光元件1的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面上觀察時，所述突起部22的寬度W沒有特別限定。但是，從兼顧製造容易性和偏光特性的觀點來看，較佳為20nm〜150nm左右，更佳為30nm〜100nm左右。 而且，關於所述突起部22的寬度W，可以藉由使用掃描式電子顯微鏡或透過式電子顯微鏡來觀察並進行測量。在本發明中，可以使用掃描式電子顯微鏡或透過式電子顯微鏡來觀察與偏光元件1的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面，對任意四個位置的突起部22測定在高度H的中心位置的寬度，將其算術平均值設為突起部22的寬度W。
另外，如圖1中的（a）所示，當在與偏光元件1的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面上觀察時，關於所述突起部22的高度H，並沒有特別限定，從兼顧製造容易性和偏光特性的觀點來看，較佳為50nm〜300nm左右，更佳為100nm〜250nm左右。 而且，所述突起部22的高度H可以藉由使用掃描式電子顯微鏡或透過式電子顯微鏡來觀察並進行測量。在本發明中，可以使用掃描式電子顯微鏡或透過式電子顯微鏡來觀察與偏光元件1的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面，對任意四個位置的突起部22測定在寬度W的中心位置的高度，將其算術平均值設為突起部22的高度H。
關於所述柵結構體20的突起部22的形狀，為了獲得偏光特性，除了突起部22以格子狀從所述基底部21突出之外，並沒有特別限定。 作為觀察與偏光元件1的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面時的形狀，例如如圖2所示，可以具有矩形、梯形、三角形、鐘形等形狀。藉由具有這些形狀，可以容易的在所述突起部22上形成光學機能膜30，並且可以賦予偏光元件1偏光特性，並且這些形狀也可以藉由奈米壓印來形成，從製造容易性的觀點來看是有利的。此外，如圖25所示，形成在所述基底部21的以格子狀突出的突起部22之間的凹部的形狀可以是矩形、梯形、三角形、鐘形等。這些形狀可以在考慮到奈米壓印形成時的脫模性等生產性，而適當地選擇這些較佳的形狀。
而且，關於構成所述柵結構體20的材料，只要是透明材料就沒有特別限定，可以使用公知的有機材料和無機材料。 例如，從確保透明性和製造容易性的觀點來看，較佳是使用各種類型的熱硬化性樹脂、各種類型的紫外線硬化性樹脂、玻璃（旋塗玻璃：SOG）等作為所述柵結構體20的材料。
此外，關於構成所述柵結構體20的材料，可以使用與所述基板10相同的材料，也可以使用不同的材料。但是，從製造容易性和製造成本的觀點來看，構成所述柵結構體20的材料較佳是不同材料。另外，在所述柵結構體20和所述基板10的材料不同的情況下，由於兩者的折射率不同，因此可以容易的調整偏光元件1整體的折射率
另外，關於形成所述柵結構體20的方法，只要是能夠形成上述基底部21和突起部22的方法即可，並沒有特別限定。例如，可以使用藉由光微影或壓印的凹凸形成方法。 其中，從能夠在短時間內容易地形成凹凸圖案、並能夠可靠地形成所述基底部21的觀點來看，較佳是藉由壓印形成所述柵結構體20的基底部21及突起部22。
在藉由所述奈米壓印形成所述柵結構體20的基底部21及突起部22的情況下，例如，在所述基板10上，塗布用於形成所述柵結構體20的材料（柵結構體材料）後，將形成有凹凸的模具壓靠在所述柵結構體材料上，並且在這種狀態下照射紫外線或實施加熱，藉此可以使所述柵結構體材料硬化。結果，可以形成具有所述基底部21及所述突起部22的柵結構體20。
(光學機能膜) 在本發明的偏光元件的實施型態中，如圖1中的（a）所示，在所述柵結構體20的突起部22上形成光學機能膜30，光學機能膜30由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成。 所述光學機能膜30可以藉由吸收和/或反射一部分的入射光而賦予偏光元件1期望的偏光特性。
關於構成光學機能膜30的反射膜，如圖1中的（a）所示，藉由形成在所述柵結構體20的突起部22上，入射到偏光元件1的光中的與所述突起部22的長度方向平行的方向（反射軸方向）上的具有電場分量的光可以被反射。
構成所述反射膜的材料，只要是對使用波段的光具有反射性的材料即可，並沒有特別限定。例如，可舉出鋁(Al)、銀(Ag)、銅(Cu)、鉬(Mo)、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鎳(Ni)、鎢(W)、鐵(Fe)、矽(Si)、鍺(Ge)和碲(Te)等元素單體，以及包含一種或多種這些元素的合金。
關於構成所述光學機能膜30的吸收膜，如圖1中的（a）所示，藉由形成在所述柵結構體20的突起部22上，入射到偏光元件1上的光中的與突起部22的長度方向平行的方向（吸收軸方向）上的具有電場分量的光可以被吸收。被吸收的光被轉換成熱並藉由上述基板10而散熱。
構成所述吸收膜的材料，只要是能夠吸收使用波段的光的材料即可，並沒有特別限定。例如，可舉出包含介電材料和非介電材料的材料。
作為所述介電材料，例如，可舉出Si、Al、鈹(Be)、鉍(Bi)、Ti、鉭(Ta)和硼(B)等元素的氧化物；Si和B的元素的氮化物；鎂(Mg)和鈣(Ca)等元素的氟化合物；Si、Ge、碳、冰晶石等。這些介電材料可以單獨使用或兩種以上組合使用。在組合使用兩種以上的介電材料的情況下，可以混合使用兩種以上的介電材料，或者可以在膜厚度方向上使用不同的介電材料。
作為所述非介電材料，例如，可舉出選自Fe、Ta、Si、Ti、Mg、W、Mo和Al所組的群組中的至少一種元素的單質（但不包括Si單質）或合金。作為合金，可舉出FeSi合金和TaSi合金等。從反射率和透過率的觀點出發，FeSi合金的Fe含量較佳為50atm％以下，更佳為10atm％以下。從反射率和透過率的觀點來看，TaSi合金的Ta含量較佳為40atm％以下。這些非介電材料可以單獨使用或兩種以上組合使用。在組合使用兩種以上的非介電材料的情況下，可以混合使用兩種以上的非介電材料，或者可以在膜厚度方向上使用不同的非介電材料。
這些材料之中，較佳是介電材料包含Si和Si氧化物中的至少一種（例如，二氧化矽），並且非介電材料包含金屬。作為金屬，例如，可舉出選自Fe、Ta、W、Mo和Al所組的群組中的至少一種金屬的單質或該金屬的合金。藉由將Si和Si氧化物中的至少一種與金屬結合而陶瓷金屬化，使所述吸收膜的耐熱性趨於進一步提高。
而且，所述吸收膜中的非介電材料的含量可以在膜厚度方向上變化。藉由這種變化使偏光元件1的光學特性趨於進一步提。此外，可以藉由調整非介電材料的含有率的變化模式來調整吸收軸反射率Rs的最小點處的波長。
此外，構成所述光學機能膜30的多層膜是至少包括上述反射膜和吸收膜兩者的膜。藉由將多層膜用作所述光學機能膜30，可以同時獲得所述反射膜的反射光的作用和所述吸收膜的吸收光的作用，並且可以獲得更優良的偏光特性。
所述多層膜可以具有所述反射膜和所述吸收膜的兩層結構，並且也可以是在所述反射膜和所述吸收膜之間更具有介電膜的三層結構。 在具有所述介電膜的情況下，所述介電膜較佳是形成為使得入射的光透過所述吸收膜並且使由所述反射膜反射的偏光的相位偏移半個波長的膜厚。具體的膜厚被適當地設置在可以調節偏光的相位並增強干涉效果的1nm～500nm的範圍內。
而且，作為所述介電膜的材料，可以使用SiO 2、Al 2O 3和MgF 2等的一般材料。此外，介電膜的折射率較佳為大於1.0，且為2.5以下。而且，由於所述吸收膜的光學特性受到周圍折射率的影響，因此可以藉由介電膜的材料來控制偏光特性。
而且，如圖3所示，所述光學機能膜30較佳是形成在所述突起部22的至少頂端上。 藉由在所述突起部22的頂端形成所述光學機能膜30，因此可以更加可靠地發揮上述光的反射作用和光的吸收作用，並且可以進一步提高偏光元件1整體的偏光性能。
此外，如圖3所示，所述光學機能膜30較佳是未形成在所述基底部21上。在所述基底部21上形成有所述光學機能膜30的情況下，由於光的透過受到阻礙，因此恐怕會導致偏光元件1的偏光特性降低。
此處，為了不在所述柵結構體20的基底部21上而是在所述突起部22的頂端上形成所述光學機能膜30，如圖3所示，較佳是相對於所述柵結構體20的突起部22從傾斜方向進行所述光學機能膜30的濺鍍或蒸鍍。藉此，可以僅在所述突起部22的頂端形成所述光學機能膜30。關於用於形成所述光學機能膜30的濺鍍或蒸鍍的角度θ，具體而言，相對於所述基板10的表面，而為大約5°至70°。
如此，在形成由透明材料構成的所述柵結構體20之後，藉由濺鍍或蒸鍍法形成所述光學機能膜30，可以容易地變更成膜條件、材料和膜厚度。另外，由於在所述光學機能膜30為多層膜的情況下也可以容易地應對，因此可以藉由組合金屬、半導體和介電材料來利用干涉效應來設計膜，與公知技術不同，當形成所述光學機能膜30時，不必考慮可以蝕刻的材料構成等。藉此，還可以容易地調節平行於所述柵結構體20的偏光波的吸收率（衰減量）和垂直於所述柵結構體20的偏光波的透過率（透過量）。另外，藉由在形成所述柵結構體20之後，形成上述光學機能膜30，由於不需要真空乾蝕刻裝置等的設備，也沒有必要配合複雜的製程和蝕刻材料來準備氣體和去毒裝置之類的安全裝置，因此可以減少諸如設備投資和維護等的運行成本，而可以獲得成本優勢。
關於所述光學機能膜30的形成狀態，例如，如圖3所示，可以為僅在所述柵結構體20的突起部22的頂端形成所述光學機能膜30的狀態。 而且，如圖4所示，相對於所述柵結構體20的突起部22而從傾斜方向藉由濺鍍形成所述光學機能膜30的情況下，所述光學機能膜30成為在所述突起部22的頂端中，在濺鍍的照射源側大量的突出的形成狀態。 另外，如圖5所示，所述光學機能膜30成為不僅在所述柵結構體20的突起部22的頂端，還以覆蓋側面的一部分方式突出的形成狀態。
關於所述光學機能膜30，從獲得更好的對比度的觀點來看，如圖5和圖26所示，較佳是所述光學機能膜30形成在所述柵結構體20的突起部22的頂端和側面的一部分上。由於所述光學機能膜30不僅覆蓋所述突起部22的頂端，而且還覆蓋側面，因此提高了偏光元件的吸收性能和/或反射性能，結果，獲得了更優良的對比度。 此外，作為所述光學機能膜30的形成條件，例如，如圖26所示，藉由相對於所述柵結構體20的突起部22從多個方向交替進行濺鍍或蒸鍍法，可以在所述柵結構體20的突起部22的頂端和側面的一部分上形成所述光學機能膜30。
而且，在所述光學機能膜30形成在所述柵結構體20的突起部22的頂端和側面的情況下，較佳是所述光學機能膜30未形成在所述柵結構體20的基底部21。這是為了保持優良的透過性。此外，如圖4所示，當在與所述偏光元件的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面上觀察時，可以僅在所述突起部22的單一側面上形成所述光學機能膜30，但是從能夠不依賴於入射光的方向而獲得更優良的偏光特性的觀點來看，較佳是以覆蓋所述突起部22的兩個側面的方式形成所述光學機能膜30。
此外，如圖26所示，形成在所述突起部22的側面的一部分上的所述光學機能膜30較佳是形成在覆蓋所述突起部22的高度H的10％以上的範圍內（HX：光學機能膜覆蓋突起部的高度範圍÷H：突起的高度×100％≥10％）。藉由使所述光學機能膜30覆蓋所述突起部的高度H的10％以上，因此可以實現更優良的對比度。
關於所述光學機能膜30的厚度，並沒有特別限定，並且可以根據所述柵結構體20的形狀和所述光學機能膜30所要求的性能適當地變更。 例如，在所述光學機能膜30為吸收膜的情況下，可以設為5至100nm。而且，在所述光學機能膜30為反射膜的情況下，可以設為5至200nm。此外，在所述光學機能膜30為多層膜的情況下，可以設為10至400nm。
(其他構件) 在本發明的偏光元件的實施型態中，可以進一步設置除上述的基板10、柵結構體20和光學機能膜30以外的構件。
例如，如圖6中的（a）和（b）所示，本發明的偏光元件的實施型態較佳為更具備有形成為至少覆蓋所述光學機能膜30的表面的保護膜40。 藉由形成所述保護膜40，可以進一步提高偏光元件的耐刮擦性、防污性和防水性。
而且，關於所述保護膜40，較佳是更包括撥水性塗層或撥油性塗層。這是為了可以更進一步提高偏光元件的防污性和防水性。
關於構成保護膜40的材料，只要可以增強偏光元件的耐刮擦性，防污性和防水性即可，並沒有特別限定。 例如，可舉出使用由介電材料構成的膜，並且更具體而言，可以使用無機氧化物、矽烷系撥水材料等。作為所述無機氧化物，可舉出Si氧化物和鉿(Hf)氧化物。矽烷系撥水材料可以是含有全氟癸基三乙氧基矽烷（Perfluorodecyl triethoxysilane，FDTS）等氟系矽烷化合物、也可以是含有十八烷基三氯矽烷（Octadecyl Trichlorosilane，OTS）等非氟系矽烷化合物。 在這些材料中，較佳是包含所述無機氧化物和所述氟系撥水材料中的至少一種。藉由所述保護膜40含有所述無機氧化物，可以進一步提高偏光元件的耐刮擦性，並且藉由所述保護膜40含有所述氟系撥水材料，可以進一步提高的防污性和防水性。
而且，關於所述保護膜40，可以形成為至少覆蓋所述光學機能膜30的表面，並且如圖6中的（a）所示，較佳是可以形成為至少覆蓋所述柵結構體20及所述光學機能膜30的表面。此外，如圖6中的（b）所示，也可以形成為覆蓋所述偏光元件1的整體。
另外，在本發明的偏光元件的實施型態中，如圖7所示，較佳是設置散熱構件50以覆蓋所述基板10，因此可以更有效地釋放來自所述基板10的熱。 在此，關於散熱構件50，只要是散熱效果高的構件即可，並沒有特別限定。例如，可舉出散熱器、散熱體(heat sink)、熱散佈器(heat spreader)、晶片座(die pad)、熱管(heat pipes)、金屬蓋和框體。
在此，圖8是對實際製作的本發明的偏光元件使用掃描式電子顯微鏡（SEM）放大拍攝的照片。 從圖8中的（a）可以看出，在所述基板10上形成有具有格子狀的突起部22的柵結構體20。此外，從圖8中的（b）和（c）可以看出，所述柵結構體20中形成有沿著所述基板10的表面設置的基底部21和從所述基底部21突出的突起部22。此外，從圖8中的（d）可以看出，在所述突起部22的頂端形成有由吸收膜構成的光學機能膜30。
＜偏光元件的製造方法＞ 接著，將說明本發明的偏光元件的製造方法。 如圖9中的（a）至（d）所示，本發明的偏光元件的製造方法包括： 在由無機材料構成的基板10上，形成由透明材料構成的柵結構體材料23的步驟（圖9中的（a））； 藉由對所述柵結構體材料23施行奈米壓印（圖9中的（b）），形成具有沿基板10的表面設置的基底部21和以格子狀從所述基底部21突出的突起部22的柵結構體20的步驟（圖9中的（c））； 在所述突起部22上形成由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成的光學機能膜30的步驟（圖9中的（d））。 經過上述步驟，可以製造不會引起成本增加和製造複雜性、且具有優良的偏光特性和散熱性的偏光元件1。
另一方面，在公知的線柵偏光元件的製造方法中，如圖10中的（a）至(e)所示，為了製作凸柵形狀，在由玻璃等的無機材料構成的基板10上，使用濺鍍或蒸鍍等使鋁等的金屬膜80成膜，並使用濺鍍或蒸鍍等以在金屬膜80上層疊的方式而使由吸收使用波段的光的材料等構成的光學機能膜材料層31成膜（圖10中的（a））。之後，使用光微影技術圖案化抗蝕劑罩幕70（圖10中的（b））。之後，藉由真空乾蝕刻裝置等對光學機能膜材料層31和金屬膜80進行蝕刻，以形成由金屬膜80與光學機能膜30構成的凸形狀（圖10中的（c））。例如，此時，在無法獲得抗蝕劑罩幕70與光學機能膜材料層31/金屬膜80之間的蝕刻選擇比的情況下，藉由濺鍍等在光學機能膜材料層31上進一步使SiO 2等的氧化膜成膜，並在該氧化膜上藉由光微影技術形成抗蝕劑罩幕70。然後，在剝離抗蝕劑罩幕70之後（圖10中的（d）），藉由CVD等使作為保護膜40的SiO 2膜等成膜，並且配合需要還進行撥水/撥油塗層處理。 雖然圖10中的（a）至（e）示出了製造基本結構的吸收型線柵偏光元件的製程，在金屬膜和吸收膜之間插入SiO 2等的介電膜，在考慮到吸收層是多層膜的情況下，則需要更複雜的製程。因此，可以推斷由如圖10中的（a）至（e）所示的製程製造的公知的線柵偏光元件，製造所需的費用和時間將增加而變得昂貴。另外，在進行偏光元件的量產的情況下，根據生產量，必須要準備多台用於形成小於光的波長的凸形狀的高精度和昂貴的蝕刻裝置和光微影裝置，預計設備投資也將更為昂貴。
而且，關於在本發明的偏光元件的製造方法中所使用的由無機材料構成的基板10，可以使用與上述本發明的偏光元件中說明的基板10相同的基板。
此外，關於在本發明的偏光元件的製造方法中在所述基板10上形成的柵結構體材料23，可以使用與上述本發明的偏光元件中說明的柵結構體20中所使用的材料相同的材料。
另外，關於所述柵結構體材料23的膜厚可以對應藉由奈米壓印形成的柵結構體20的基底部21及突起部22的尺寸來適當調整。
在本發明的偏光元件的製造方法中，對所述柵結構體材料23施行奈米壓印（圖9中的（b）），關於奈米壓印的條件，並沒有特別限定。 例如，如圖9中的（b）所示，使用複製品原盤（也可以使用原版原盤）進行奈米壓印，同時藉由對所述柵結構體材料23進行UV照射、加熱等，使其在被壓印的狀態下硬化後，藉由使複製品原盤脫模，從而可以轉印成形出形成有基底部21及突起部22的柵結構體20。
而且，關於所述奈米壓印所使用的原盤，例如，如圖11中的（a）至（e）所示，可以藉由光微影技術來製作。 首先，在原盤基材61上使原盤用金屬膜62成膜後(圖11中的(a))，形成抗蝕劑罩幕70(圖11中的(b))、對原盤用金屬膜62施行蝕刻(圖11中的(c))。蝕刻後，藉由剝離抗蝕劑罩幕70，得到具備原盤基材61及原盤用凸部63的原盤60(圖11中的(d))。 而且，所述原盤60根據需要也可以更具備有脫模膜塗層64(圖11中的(e))。藉由具備所述脫模膜塗層64，在對所述柵結構體材料23施行奈米壓印後(圖9中的(b))，可以更容易的進行脫模。
此外，在本發明的偏光元件的製造方法中，關於形成在所述突起部22上的光學機能膜30的形態，可以使用與在上述本發明的偏光元件中說明的光學機能膜30相同的條件。
而且，本發明的偏光元件的製造方法，如圖9中的（d）所示，根據需要也可以進一步形成保護膜40，所述保護膜40形成為覆蓋所述柵結構體20及所述光學機能膜30的表面。 關於所述保護膜的態樣，可以使用與在上述本發明的偏光元件中說明的保護膜40相同的條件。
＜抬頭顯示器裝置＞ 接著，對本發明的抬頭顯示器裝置的一實施型態進行說明。 如圖12所示，本發明的抬頭顯示器裝置100的實施型態具備上述本發明的偏光元件1。 藉由使抬頭顯示器裝置100具備本發明的偏光元件1，可以提高偏光特性和耐熱性。對於組裝了公知的偏光元件的抬頭顯示器，由於散熱性差，若考慮到長期使用和未來的高亮度化/放大顯示，認為耐熱性並不足夠。
而且，在本發明的抬頭顯示器裝置100的實施型態中，關於所述偏光元件1的配置位置，並沒有特別限定。例如，如圖12所示，抬頭顯示器裝置100具備：光源2、射出顯示圖像的顯示元件3以及將顯示圖像反射到顯示面5的反射器4，並且在所述顯示元件3與所述反射器4之間設置所述偏光元件1。 藉由將本發明的偏光元件1用作放置在所述顯示元件3前面的預偏光板，由於可以使從顯示元件3射出的顯示圖像透過，同時抑制太陽光入射至顯示元件3，因此可以進一步提高抬頭顯示器的耐熱性和耐久性。
在本發明的抬頭顯示器裝置100的實施型態中，如圖12所示，顯示元件3例如是使液晶密封在對所使用波段的光透明的一對基板中的透過型液晶面板，在其前後貼合有圖式未繪示出的偏光元件。此貼合前後的偏光元件的偏光軸彼此為正交的關係。藉由將LED等的光源2配置在顯示元件3的後面側（與顯示圖像的射出方向相反的一側）並照明顯示元件3，而可以射出顯示圖像。 配置在所述顯示元件3的前面側（顯示圖像的射出方向的前方）上的偏光元件1被配置為使得貼合在所述顯示元件3的前側偏光元件和偏光軸在同一方向上，而使從顯示元件3射出的顯示圖像透過。透過偏光元件1的顯示圖像藉由被相對於顯示元件3以大約45°的角度配置的鏡子（反射鏡4）反射，並射出到前玻璃表面（顯示面5），駕駛員（人）將顯示圖像視覺辨別為虛擬圖像。構成這些抬頭顯示器裝置的各個構件都收納在殼體中。
此外，如圖13所示，在本發明的抬頭顯示器裝置100的實施型態中，較佳為在所述偏光元件1的周圍設置散熱構件50。因此可以更有效地釋放所述偏光元件1的熱，並且可以進一步提高裝置的耐熱性。 在此，關於散熱構件50，與在上述本發明的偏光元件1中說明的散熱構件50相同。
而且，圖12和圖13所示的抬頭顯示器裝置100的構成是最低限度且基本的構成，並且構成本發明的抬頭顯示器裝置的各個構件並不限定於圖12和13的構件，可以根據所要求的性能等適當地設置其他構件。
另外，如上所述，本發明的抬頭顯示器裝置中，關於所述偏光元件1的設置位置，並沒有特別的限制，可以對應抬頭顯示器裝置的構成和所要求的性能適當選擇。 例如，儘管圖式未繪示出，但是可以在所述顯示元件3與所述光源2之間設置所述偏光元件1。 儘管圖式未繪示出，所述偏光元件1也可以組裝在所述反射器4中。 此外，設置在抬頭顯示器裝置中的蓋部6也可以由所述偏光元件1構成。 實施例
接下來，將基於實施例具體地說明本發明。但是，本發明並不限定於以下實施例。
＜實施例1＞ 如圖6中的（b）所示，製作偏光元件1的模型，偏光元件1的模型具備有由玻璃構成的基板10；由紫外線硬化性樹脂（丙烯酸系樹脂）構成，且具有沿著所述基板10表面設置的基底部21和以格子狀從所述基底部21突出的突起部22的柵結構體20；形成於所述突起部22上，由吸收光的Ge吸收膜構成的光學機能膜30；以及由SiO 2構成的保護膜40。 然後，關於所製作的偏光元件1的模型，如下面的（1）至（9）所示，改變柵結構體20和光學機能膜30的條件，並且對於波長430nm～680nm的光的光學特性（透過軸透過率：Tp，吸收軸透過率：Ts，透過軸反射率：Rp，吸收軸反射率：Rs，對比度：CR）進行評價。 而且，關於所製作的模型的光學特性，藉由使用嚴格耦合波分析（Rigorous Coupled Wave Analysis，RCWA）方法的電磁場模擬來進行驗證。在模擬中使用了光柵求解器開發(Grating Solver Development)公司的分級模擬器Gsolver。
(1)柵結構體的材料的種類 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在柵結構體20的材料使用由SOG構成的SiO 2的情況下、柵結構體20的材料使用為紫外線可硬化性樹脂的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）的情況下的對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖14。
根據圖14的結果，確認了在由SiO 2形成柵結構體20的情況下和在由PMMA形成柵結構體20的情況下可以獲得同等的特性。從此結果來看，藉由以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20，由於無機材料和有機材料都可以獲得同等的特性，因此可以考慮所需的特性、可靠性和量產性來選擇適當的材料。
(2)柵結構體的基底部的厚度 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在改變柵結構體20的基底部21的厚度TB的情況下的對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖15。
根據圖15的結果，確認了當基底部21的厚度TB從0nm至30000nm以一定間隔變化時，改變基底部21的厚度對偏光特性影響很小。然而，可看出當基底部21的厚度超過30000nm（30μm）時，Tp和Ts的特性改變。從此結果來看，能夠配合包括密著性在內的可靠性來將基底部21的厚度調整在一定範圍，不需要在量產製程中執行基底層的管理等嚴密的製程管理，可以獲得成本優勢。
(3)柵結構體的突起部的高度 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在改變柵結構體20的突起部22的從基底部21突出的高度H的情況下的對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖16。
根據圖16的結果，確認了當突起部22的高度從20nm至400nm以一定間隔變化時，幾乎不會對偏光特性造成影響。從此結果來看，藉由以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20，不需要執行突起部22高度H的管理等嚴密的製程管理，在考慮到量產性的情況下，突起部22的高度H越低製造越容易，並且在考慮產量和可靠性的情況下的優點就越大。
(4)吸收膜的厚度 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在改變作為光學機能膜30的吸收膜的厚度(附著在突起部22上的吸收膜的最厚部分的厚度)的情況下的對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖17。
根據圖17的結果，確認了當吸收膜的厚度從10nm至50nm以一定間隔變化時，偏光特性改變。因此，在以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20之後，使吸收膜成膜，並且藉由控制此吸收膜的厚度，可以控制光學特性，特別是Rs和Ts，可以根據客戶的需求藉由僅控制吸收膜的厚度來使偏光特性最佳化。
(5)吸收膜的材料的種類 關於偏光元件1的模型，繪製比較了當作為光學機能膜30的吸收膜的材料在使用Ge的情況和在使用FeSi的情況對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖18。
根據圖18的結果，確認了藉由改變吸收膜的材料的種類，而來改變偏光特性。因此，藉由在以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20後，使吸收膜成膜，藉由改變此吸收膜的種類，來控制光學特性，特別是Rs和Ts，可以根據客戶的需求藉由吸收膜材料的選擇來使偏光特性最佳化。另外，可以推斷出，藉由形成組合了金屬、半導體和介電質的多層結構，可以利用干涉效果，並且可以進一步使偏光特性最佳化。
(6)吸收膜的寬度 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在改變形成在柵結構體20的各突起部21上的光學機能膜30的平行於入射光的透過軸的寬度（即，與柵結構的長度方向正交的方向上的寬度）的情況下的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖19。
根據圖19的結果，確認了藉由改變吸收膜的寬度，而改變偏光特性。因此，藉由在以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20後，使吸收膜成膜，藉由改變此吸收膜的寬度，可以控制光學特性，特別是Rs、Rp、Tp，可以根據客戶的需求藉由吸收膜材料的選擇來使偏光特性最佳化。
(7)吸收膜的形成狀態 關於偏光元件1的模型，繪製比較了當形成狀態變更為如圖3所示的僅在突起部22的頂端上形成吸收膜的情況、如圖4所示的在突起部22的頂端的單側形成厚的吸收膜的情況、如圖5所示的在突起部22的頂端的兩側上形成厚的吸收膜的情況的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖20。
根據圖20的結果，確認了藉由改變吸收膜附著到柵結構體20的各突起部21的方式，而改變偏光特性。因此，藉由改變在傾斜方向上的濺鍍的角度θ、從兩側進行濺鍍，可以控制光學特性，特別是Rs和Ts，並且可以根據客戶需求來使偏光特性最佳化。
然後，根據圖17-20的結果，藉由以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20，並在其上使吸收膜成膜，藉由控制吸收膜的成膜方法（材料、厚度、成膜寬度、突起部的頂端上的形成狀態等），可以根據客戶的需求調整偏光特性。而且同樣地，藉由形成和控制反射膜或多層膜可以獲得期望的偏光特性。
(8)反射膜的厚度 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在改變作為光學機能膜30的反射膜的厚度(附著在突起部22上的反射膜的最厚部分的厚度)的情況下的對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖21。
根據圖21的結果，當反射膜的厚度從30nm至100nm以一定間隔變化時，偏光特性改變。因此，在以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20之後，使反射膜成膜，並且藉由控制此反射膜的厚度，可以控制光學特性，特別是Rs和Ts，可以根據客戶的需求藉由僅控制反射膜的厚度來使偏光特性最佳化。
(9)反射膜覆蓋突起部的高度範圍 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在改變作為光學機能膜30而形成在突起部22的頂端與側面的反射膜的覆蓋在突起部22的範圍（光學機能膜所覆蓋的高度範圍HX與突起部的高度H之比）的情況下的對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果中，關於Tp、Rp、Ts、Rs示於圖27中的（a），關於對比度示於圖27中的（b）。 根據圖27的結果，當反射膜的覆蓋突起部22的突起部側面的比率（HX/H）較大時，可以在保持良好的光學特性的同時提高對比度特性。在圖27中的（b）中，反射膜的覆蓋突起部22的突起部側面的比率大到60％、76％和92％，藉此CR特性進一步提高。因此，在以對使用波段的光透明的材料形成柵結構體20之後，使光學機能膜30成膜，藉由控制光學機能膜30的在柵結構體20的突起部22的側面上的成膜範圍，可以控制光學特性，特別是對比度，並且可以根據客戶的需求實現偏光特性。 （沒有在基底部21上形成，如果光學機能膜30的一部分形成在基底部21上，則Tp特性將劣化。）
(10)光學機能膜的種類 關於偏光元件1的模型，繪製比較了在改變作為光學機能膜30的吸收膜、反射膜和介電膜的組合的情況下的對於波長430nm～680nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。比較結果示於圖22中的（a）。在圖22中的（a）中，「Ge」表示光學機能膜30由Ge的吸收膜構成，「Al100」表示光學機能膜30由具有膜厚100nm的Al的反射膜構成，「Ge/Al」表示光學機能膜30是Ge的吸收膜和具有膜厚100nm的Al的反射膜的層疊體「Ge/SiO 2_10/Al50」表示光學機能膜30是Ge的吸收膜、由SiO 2構成的具有膜厚10nm的介電膜以及具有膜厚50nm的Al的反射膜的層疊體。此外，圖22中的（b）僅示出了圖22中的（a）所示的光學特性中的CR的結果。
根據圖22中的（a）的結果，藉由根據目的選擇光學機能膜的種類並成膜為吸收膜（Ge）或反射膜（Al）而可以控制Rs，並可以製作吸收型偏光元件、反射型偏光元件。另外，藉由堆疊反射膜（Al）和吸收膜（Ge）而可以提供相較於單獨的吸收膜，進一步減小Rs的吸收型偏光元件。 此外，根據圖22中的（a）和（b）的結果，可看出反射膜（Al）/介電膜（SiO 2）/吸收膜（Ge）的組合可以維持與反射膜和吸收膜的兩層結構同等的偏光特性，同時根據圖22中的（b）的結果可以提高對比度。 如此，可以根據客戶的需求藉由光學機能膜的構成來使偏光特性最佳化。
＜實施例2＞ 如圖6中的（b）所示，實際製作偏光元件1的樣品，偏光元件１具備有由玻璃構成的基板10；由紫外線硬化性樹脂（丙烯酸系樹脂）構成，且具有沿著所述基板10表面設置的基底部21和以格子狀從所述基底部21突出的突起部22的柵結構體20；形成於所述突起部22，由吸收光的Ge吸收膜構成的光學機能膜30；以及由Al 2O 3構成的保護膜40。 對製作的偏光元件1的樣品進行以下（1）和（2）試驗。
(1)製備的樣品的柵結構體的觀察 在此，圖23中的（a）及（b）是對實際製作的本發明的偏光元件的剖面使用掃描式電子顯微鏡（SEM）放大拍攝的照片。 根據圖23中的（a）和（b）的照片，可以看出柵結構體20形成有沿基板10的表面設置的基底部21和從所述基底部21突出的突起部22。而且，從圖23中的（b）可以看出在所述突起部22的頂端形成有由吸收膜構成的光學機能膜30。此外，可以看出形成有覆蓋基底部21、從基底部21突出的突起部22、在所述突起部22的頂端的由吸收膜構成的光學機能膜30，以及覆蓋這些整體的保護膜40。而且，此次是使用ALD（原子層沉積）膜形成方法形成此保護膜40，並且使用Al 2O 3作為材料成膜成厚度8nm。
(2)製備的樣品的耐熱性 對製作的偏光元件1的樣品進行高溫試驗。高溫試驗是在150℃下放置800小時的條件下進行。 圖24繪製比較了高溫試驗前的對於波長430nm～680 nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值，以及高溫試驗（150°C，放置800小時後）的對於波長430nm～680 nm的光學特性（Tp、Rp、Ts、Rs、CR）的平均值。
從圖24的結果可以確認，本發明的偏光元件即使在150℃的高溫環境下放置800小時，也不會顯著改變偏光特性。因此，可理解即使在用於車載的設備所要求的溫度環境中也可以安全地使用，並且可以根據客戶的需求提供偏光元件。 產業上利用性
根據本發明，可以提供一種具有良好的偏光特性並且散熱性和在製造時的成本方面優良的偏光元件及偏光元件的製造方法。此外，根據本發明，可以提供一種具有優良的偏光特性和耐熱性的抬頭顯示器裝置。
1:偏光元件 2:光源 3:顯示元件 4:反射器 5:顯示面 6:蓋部 10:基板 20:柵結構體 21:基底部 22:突起部 23:柵結構體材料 30:光學機能膜 31:光學機能膜材料層 40:保護膜 50:散熱構件 60:原盤 61:原盤基材 62:原盤用金屬膜 63:原盤用凸部 64:脫模膜塗層 70:抗蝕劑罩幕 80:金屬膜 100:抬頭顯示器裝置 H:高度 HX:光學機能膜所覆蓋的高度範圍 TB:厚度 TS:厚度 P:間隔 θ:角度
圖1是示意性示出本發明的偏光元件的一實施型態的圖，（a）是示意性示出本發明的偏光元件的一個實施型態的剖面圖，（b）是示意性示出本發明的偏光元件的一實施型態的平面圖。 圖2是示意性示出本發明的偏光元件的柵結構體的突起部的剖面形狀的一例的圖。 圖3是示意性示出本發明的偏光元件的一實施型態的剖面圖。 圖4是示意性地示出本發明的偏光元件的一實施型態的剖面圖。 圖5是示意性地示出本發明的偏光元件的一實施型態的剖面圖。 圖6中(a)是示意性示出本發明的偏光元件的實施型態的剖面圖，(b)是示意性示出本發明的偏光元件的另一實施型態的剖面圖。 圖7是示意性示出本發明的偏光元件的實施型態的立體圖。 圖8是對本發明的偏光元件的一實施型態使用掃描式電子顯微鏡（SEM）放大拍攝的照片，（a）是觀察上表面的狀態，（b）是觀察剖面的狀態，（c）是（b）進一步放大觀察的狀態，（d）是（c）進一步放大觀察的狀態。 圖9是用於說明本發明的偏光元件的製造方法的一實施型態的圖，（a）是在基板上形成柵結構體材料的狀態，（b）是對柵結構體材料實施奈米壓印的狀態， （c）是在基板上形成柵結構體的狀態，（d）是在柵結構體的突起部上形成光學機能膜，並且進一步在柵結構體和光學機能膜的表面上形成保護膜的狀態。 圖10是用於說明以往的偏光元件的製造方法的一例的圖，（a）是在基板上形成金屬材料和光學機能膜材料的狀態，（b）是在光學機能膜材料上形成抗蝕劑罩幕的狀態，（c）是對金屬材料和光學機能膜材料進行蝕刻之後的狀態，（d）是剝離抗蝕劑罩幕後的狀態，（e）是在表面上形成保護膜的狀態。 圖11是示出製造用於柵結構材料的奈米壓印的模具的製程的一例的圖，（a）是在基板上形成金屬材料的狀態，（b）是在金屬材料上形成抗蝕劑罩幕的狀態，（c）是對金屬材料進行蝕刻後的狀態，（d）是剝離抗蝕劑罩幕後的狀態，（e）是在所獲得的模具的表面上形成脫模塗層的狀態。 圖12是示意性地示出本發明的抬頭顯示器裝置的一實施型態的剖面圖。 圖13是示意性地示出本發明的抬頭顯示器裝置的另一實施型態的剖面圖。 圖14是在實施例1中比較了在改變柵結構體的材料的情況下的光學特性的曲線圖。 圖15是在實施例1中比較了在改變柵結構體的基底部的厚度的情況下的光學特性的曲線圖。 圖16是在實施例1中比較了在改變柵結構體的突起部的高度的情況下的光學特性的曲線圖。 圖17是在實施例1中比較了在改變形成在突起部上的吸收膜的厚度的情況下的光學特性的曲線圖。 圖18是在實施例1中比較了在改變形成在突起部上的吸收膜的材料的情況下的光學特性的曲線圖。 圖19是在實施例1中比較了在改變形成在突起部上的吸收膜的寬度的情況下的光學特性的曲線圖。 圖20是在實施例中比較了在改變形成在突起部上的吸收膜的形成狀態的情況下的光學特性的曲線圖。 圖21是在實施例中比較了在改變形成在突起部上的反射膜的厚度的情況下光學特性的曲線圖。 圖22中的（a）是在實施例中比較了在改變形成在突起部上的光學機能膜中的膜的組合的情況下的光學特性的曲線圖，（b）是以容易理解的方式僅示出了（a）所示的光學特性中的CR的結果。 圖23中的（a）是對實際製作的本發明的偏光元件的剖面使用掃描式電子顯微鏡（SEM）放大拍攝的照片，（b）是將（a）的一部分進一步放大的照片。 圖24是在實施例中比較了高溫試驗前後的光學特性的曲線圖。 圖25是示意性地表示本發明的偏光元件的柵結構體的基底部中的在突起部之間的凹部的剖面形狀的一例的圖。 圖26是示意性地示出本發明的偏光元件的一實施型態的剖面圖。 圖27中的（a）是在實施例中比較了在改變形成在突起部的頂端與側面的一部分的反射膜覆蓋在突起部的範圍（光學機能膜所覆蓋的高度範圍與突起部的高度之比）的情況下的光學特性的曲線圖，（b）是在實施例中比較了在改變形成在突起部的頂端與側面的一部分的反射膜覆蓋在突起部的範圍的情況下的對比度的曲線圖。
1:偏光元件
10:基板
20:柵結構體
21:基底部
22:突起部
30:光學機能膜
H:高度
TB:厚度
TS:厚度
P:間隔

Claims (13)

  1. 一種偏光元件，包括：基板，由透明的無機材料構成；柵結構體，由透明材料構成，且具有沿著所述基板表面設置的厚度為30μm以下的基底部和以格子狀從所述基底部突出的突起部，所述柵結構體的所述基底部及所述突起部同時形成；以及光學機能膜，形成於所述突起部上，由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成，所述光學機能膜形成於所述突起部的頂端及側面的一部分，並覆蓋所述突起部的高度的60%以上。
  2. 如請求項1所述的偏光元件，其中所述基底部的厚度為1nm以上。
  3. 如請求項1或2所述的偏光元件，其中當從與所述偏光元件的吸收軸方向或反射軸方向正交的剖面中觀察時，所述突起部的形狀為矩形、梯形、多邊形或橢圓形。
  4. 如請求項1或2所述的偏光元件，其中所述光學機能膜未形成於所述基底部上。
  5. 如請求項1或2所述的偏光元件，其中構成所述基板的無機材料與構成所述柵結構體的材料不同。
  6. 如請求項1或2所述的偏光元件，更包括以至少覆蓋所述光學機能膜的表面的方式形成的保護膜。
  7. 如請求項6所述的偏光元件，其中所述保護膜包含撥水性塗層或撥油性塗層。
  8. 如請求項1或2所述的偏光元件，其中所述光學機能膜由至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成。
  9. 如請求項8所述的偏光元件，其中所述光學機能膜更具有介電膜，所述介電膜位於所述反射膜與所述吸收膜之間。
  10. 一種偏光元件的製造方法，包括：在由無機材料構成的基板上形成由透明材料構成的柵結構體材料的步驟；藉由對所述柵結構體材料施行奈米壓印，同時形成具有沿著所述基板表面設置的厚度為30μm以下的基底部和以格子狀從所述基底部突出的突起部的柵結構體的步驟；以及於所述突起部形成由吸收光的吸收膜、反射光的反射膜或至少具有所述吸收膜和所述反射膜的多層膜構成的光學機能膜的步驟，將所述光學機能膜以於所述突起部的頂端及側面的一部分，覆蓋所述突起部的高度的60%以上的方式形成。
  11. 如請求項10所述的偏光元件的製造方法，其中形成所述光學機能膜的步驟包括藉由濺鍍射或蒸鍍法，從多個方向對所述突起部交替地進行成膜。
  12. 一種抬頭顯示器裝置，包括如請求項1至9任一項所述的偏光元件。
  13. 如請求項12所述的抬頭顯示器裝置，其中在所述偏光元件的周圍設置有散熱構件。
TW113140003A 2019-06-28 2020-06-29 偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置 TWI892871B (zh)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019121708 2019-06-28
JP2019-121708 2019-06-28
JP2020009067 2020-01-23
JP2020-009067 2020-01-23
JP2020109985A JP7240357B2 (ja) 2019-06-28 2020-06-25 偏光素子、偏光素子の製造方法及びヘッドアップディスプレイ装置
JP2020-109985 2020-06-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202507345A TW202507345A (zh) 2025-02-16
TWI892871B true TWI892871B (zh) 2025-08-01

Family

ID=74060149

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109121854A TWI862612B (zh) 2019-06-28 2020-06-29 偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置
TW113140003A TWI892871B (zh) 2019-06-28 2020-06-29 偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109121854A TWI862612B (zh) 2019-06-28 2020-06-29 偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US12510700B2 (zh)
EP (1) EP3992679A4 (zh)
JP (1) JP7625503B2 (zh)
CN (2) CN114072707B (zh)
TW (2) TWI862612B (zh)
WO (1) WO2020262616A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022145422A1 (ja) * 2020-12-28 2022-07-07 デクセリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光素子、ワイヤグリッド偏光素子の製造方法、投影表示装置及び車両
JP7563261B2 (ja) * 2021-03-19 2024-10-08 株式会社リコー 光偏向素子、画像投影装置、ヘッドアップディスプレイ、レーザヘッドランプ、ヘッドマウントディスプレイ、物体認識装置および移動体
WO2024120642A1 (en) * 2022-12-08 2024-06-13 Spherify Gmbh Foil and foil assembly for shading the earth
TWI888937B (zh) * 2023-12-14 2025-07-01 晶瑞光電股份有限公司 具複數多邊型網格之多層膜光學片及其製作方法
WO2025158883A1 (ja) * 2024-01-22 2025-07-31 ソニーグループ株式会社 光検出装置およびシート

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201007230A (en) * 2008-07-10 2010-02-16 Asahi Glass Co Ltd Wire grid-type polarizing element and manufacturing method thereof
TW201819992A (zh) * 2016-08-22 2018-06-01 美商魔法飛躍股份有限公司 奈米光柵方法及設備
CN109557605A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 迪睿合株式会社 偏振光元件及其制造方法、以及光学设备

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7215393B2 (en) * 2000-07-28 2007-05-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflective plate and display device using the plate
JP2003122267A (ja) * 2001-10-04 2003-04-25 Koninkl Philips Electronics Nv 光反射体及びそれを用いた表示装置
US6853491B1 (en) * 2003-11-26 2005-02-08 Frank Ruhle Collimating optical member for real world simulation
JP2006003447A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Sony Corp 偏光分離素子及びその製造方法
JP4275692B2 (ja) 2005-10-17 2009-06-10 旭化成株式会社 ワイヤグリッド偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
WO2007053579A2 (en) * 2005-10-31 2007-05-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Short-wavelength polarizing elements and the manufacture and use thereof
JP2008181113A (ja) 2006-12-27 2008-08-07 Toray Ind Inc 反射型偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
US20080316599A1 (en) * 2007-06-22 2008-12-25 Bin Wang Reflection-Repressed Wire-Grid Polarizer
EP2194075B1 (en) * 2007-09-28 2013-01-09 Asahi Glass Company, Limited Photocurable composition, method for producing fine patterned body, and optical device
JP2009192586A (ja) * 2008-02-12 2009-08-27 Asahi Kasei E-Materials Corp ワイヤグリッド型偏光素子及びそれを用いた表示装置
JP5291435B2 (ja) * 2008-10-31 2013-09-18 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光子及びその製造方法
WO2011002042A1 (ja) * 2009-07-01 2011-01-06 旭硝子株式会社 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法およびワイヤグリッド型偏光子の製造方法
JP5672702B2 (ja) * 2010-01-08 2015-02-18 セイコーエプソン株式会社 偏光素子、偏光素子の製造方法、電子機器
JP2011227130A (ja) * 2010-04-15 2011-11-10 Asahi Glass Co Ltd ワイヤグリッド型偏光子の製造方法
KR101622056B1 (ko) 2011-10-14 2016-05-17 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 와이어 그리드 편광판 및 투영형 영상 표시 기기
JP2014002927A (ja) * 2012-06-19 2014-01-09 Dainippon Printing Co Ltd 表示装置
JPWO2014027458A1 (ja) * 2012-08-14 2016-07-25 日本電気株式会社 偏光素子、光学装置及び映像表示装置
WO2014027459A1 (ja) * 2012-08-14 2014-02-20 日本電気株式会社 光学素子、光学装置及び映像表示装置
JP6100492B2 (ja) * 2012-09-05 2017-03-22 デクセリアルズ株式会社 偏光素子、プロジェクター及び偏光素子の製造方法
JP2015007763A (ja) 2013-05-27 2015-01-15 旭化成イーマテリアルズ株式会社 映像表示システム及び映像表示装置の設定方法
JP2015210416A (ja) 2014-04-28 2015-11-24 日本電気硝子株式会社 光学素子及びその製造方法
KR20170079671A (ko) * 2015-12-30 2017-07-10 코오롱인더스트리 주식회사 와이어 그리드 편광판 및 이를 포함한 액정표시장치
JP6833450B2 (ja) 2016-10-27 2021-02-24 旭化成株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置
JP6302040B1 (ja) * 2016-12-28 2018-03-28 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP6230689B1 (ja) * 2016-12-28 2017-11-15 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP6312917B1 (ja) * 2017-02-07 2018-04-18 デクセリアルズ株式会社 無機偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP2019061125A (ja) * 2017-09-27 2019-04-18 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
CN109581568B (zh) * 2017-09-28 2022-05-24 迪睿合株式会社 偏振光板及具备该偏振光板的光学设备
US20210132276A1 (en) * 2017-10-20 2021-05-06 Indiana University Research And Technology Corporation Polymer infrared polarizer
TWI702424B (zh) * 2017-10-24 2020-08-21 日商旭化成股份有限公司 影像顯示裝置、線柵偏光板及其製造方法、線柵偏光板之觀測方法、及、線柵偏光板之偏光軸方向之推定方法
JP7059575B2 (ja) * 2017-11-13 2022-04-26 凸版印刷株式会社 赤外線潜像デバイス
JP2019144334A (ja) * 2018-02-19 2019-08-29 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP7327907B2 (ja) * 2018-04-25 2023-08-16 デクセリアルズ株式会社 偏光板及び偏光板の製造方法
JP6826073B2 (ja) * 2018-05-31 2021-02-03 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP7356291B2 (ja) * 2019-08-23 2023-10-04 デクセリアルズ株式会社 偏光板及び光学機器

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201007230A (en) * 2008-07-10 2010-02-16 Asahi Glass Co Ltd Wire grid-type polarizing element and manufacturing method thereof
TW201819992A (zh) * 2016-08-22 2018-06-01 美商魔法飛躍股份有限公司 奈米光柵方法及設備
CN109557605A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 迪睿合株式会社 偏振光元件及其制造方法、以及光学设备

Also Published As

Publication number Publication date
US12510700B2 (en) 2025-12-30
CN114072707A (zh) 2022-02-18
EP3992679A1 (en) 2022-05-04
JP7625503B2 (ja) 2025-02-03
TW202109096A (zh) 2021-03-01
CN118915222A (zh) 2024-11-08
WO2020262616A1 (ja) 2020-12-30
TWI862612B (zh) 2024-11-21
JP2022008903A (ja) 2022-01-14
EP3992679A4 (en) 2023-08-09
US20220260768A1 (en) 2022-08-18
CN114072707B (zh) 2024-08-16
TW202507345A (zh) 2025-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI892871B (zh) 偏光元件、偏光元件的製造方法以及抬頭顯示器裝置
US9360608B2 (en) Polarizing element
JP6770037B2 (ja) 液晶プロジェクター
US9477024B2 (en) Polarizing element, projector and method of manufacturing polarizing element
JP5776729B2 (ja) 偏光素子、及び透過型液晶プロジェクター
KR20150007247A (ko) 편광판, 및 편광판의 제조 방법
JP5936727B2 (ja) 偏光素子
JP2010066571A (ja) 偏光素子及びその製造方法、並びに液晶プロジェクタ
JP6577641B2 (ja) 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
US11971568B2 (en) Polarizing plate, manufacturing method thereof, and optical device
JP7333168B2 (ja) 偏光素子、偏光素子の製造方法及び光学機器
JP7240357B2 (ja) 偏光素子、偏光素子の製造方法及びヘッドアップディスプレイ装置
JP7553226B2 (ja) 偏光板及びそれを備えた光学機器
JP7075372B2 (ja) 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP7219735B2 (ja) 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器