[go: up one dir, main page]

TWI892681B - 光罩盒承載裝置 - Google Patents

光罩盒承載裝置

Info

Publication number
TWI892681B
TWI892681B TW113120984A TW113120984A TWI892681B TW I892681 B TWI892681 B TW I892681B TW 113120984 A TW113120984 A TW 113120984A TW 113120984 A TW113120984 A TW 113120984A TW I892681 B TWI892681 B TW I892681B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
base
box
carrier device
target
supporting
Prior art date
Application number
TW113120984A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202547759A (zh
Inventor
呂易軒
朱芳吟
陳薇云
羅銘模
賴弘哲
杜林炘
Original Assignee
家碩科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 家碩科技股份有限公司 filed Critical 家碩科技股份有限公司
Priority to TW113120984A priority Critical patent/TWI892681B/zh
Priority to US18/882,725 priority patent/US20250379079A1/en
Application granted granted Critical
Publication of TWI892681B publication Critical patent/TWI892681B/zh
Publication of TW202547759A publication Critical patent/TW202547759A/zh

Links

Classifications

    • H10P72/1906
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • H10P72/30

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

一種光罩盒承載裝置,適用於具有一第一規格或一第二規格的一目標盒體。該光罩盒承載裝置包含有一基座、一底座、複數個承載柱、一轉動件以及一夾持件。該底座可活動地設置在該基座上。該複數個承載柱設置在該底座的周邊。該複數個承載柱在該底座之複數個位置係對應於該第一規格之一第一承載區與該第二規格之一第二承載區的一重疊區,其中該複數個承載柱係用來承載該目標盒體。該轉動件設置在該底座下以調整該底座相對於該基座之一水平度。該夾持件設置在該基座,用以止抵該目標盒體的一側邊。

Description

光罩盒承載裝置
本發明係提供一種光罩盒承載裝置,尤指一種可以共用於不同規格盒體的光罩盒承載裝置。
傳統的光罩載台機構只用來承載與夾持光罩盒,並且不能適用於不同廠商的光罩盒。傳統光罩載台機構包含基部、承載部以及夾持部。承載部自基部往外延伸。夾持部以可活動方式設置在基部,並且鄰近於承載部。使用者將光罩盒放置在承載部後,可再操作夾持部去夾住光罩盒的側邊,讓光罩盒定位在承載部上,就能放入各型機台進行後續處理。若要使用別家廠商的光罩盒,則需根據該家廠商的光罩盒規格找出相應的另一個光罩載台機構,以同樣步驟承載且夾持此規格的光罩盒,才能放入機台進行後續處理。由此可知,每一個傳統光罩載台機構只能適用於單一規格的光罩盒,故使用上極為不便,亦耗費高額的硬體成本。因此,如何設計一種可以共用於不同規格的光罩體的光罩載台機構,即為相關機構設計產業的發展目標。
本發明係提供一種可以共用於不同規格盒體的光罩盒承載裝置,以解決上述之問題。
本發明之申請專利範圍係揭露一種光罩盒承載裝置,適用於具有一第一規格或一第二規格的一目標盒體。該光罩盒承載裝置包含有一基座、一底座、複數個承載柱、一轉動件以及一夾持件。該底座可活動地設置在該基座上。該複數個承載柱設置在該底座的周邊。該複數個承載柱在該底座之複數個位置係對應於該第一規格之一第一承載區與該第二規格之一第二承載區的一重疊區,其中該複數個承載柱係用來承載該目標盒體。該轉動件設置在該底座下以調整該底座相對於該基座之一水平度。該夾持件設置在該基座,用以止抵該目標盒體的一側邊。
本發明之申請專利範圍另揭露該光罩盒承載裝置另包含至少一橋接柱,該橋接柱的兩端分別固設在該基座以及可活動地連結該底座。該光罩盒承載裝置另包含一感測器,設置在該底座並且鄰近該複數個承載柱,用以偵測該目標盒體是否擺放在該複數個承載柱。該光罩盒承載裝置另包含一驅動器,電連接該感測器與該夾持件,用來改變該夾持件相對於該目標盒體之位置。該光罩盒承載裝置另包含複數個限位柱,設置在該底座並且鄰近該複數個承載柱。
本發明之光罩盒承載裝置係設計對齊於不同規格目標盒體之重疊區的承載柱,以使光罩盒承載裝置可通用於不同廠商的光罩盒。此外,基座與底座之間可選擇性設置轉動件以調整光罩盒的水平度;限位柱可以涵蓋不同規格的目標盒體的外尺寸,故還需利用驅動器牽引夾持件,由夾持件推動目標盒體止抵於限位柱以達到定位功能;感測器則是用於偵測目標盒體是否放置到承載柱與限位柱。只要目標盒體放置到光罩盒承載裝置上,感測器偵測到目標盒體就會自動致發驅動器,讓不同規格的目標盒體都能全面相容於本發明的光罩盒承載裝置。
10:光罩盒承載裝置
12:基座
14:底座
16:承載柱
18:轉動件
20:夾持件
22:橋接柱
24:感測器
26:驅動器
28:限位柱
30:承托面部
32:包覆面部
34:支撐面部
36:止擋部
O:目標盒體
A1:第一承載區
A2:第二承載區
A3:重疊區
第1圖與第2圖為本發明不同實施例之光罩盒承載裝置之示意圖。
第3圖與第4圖為本發明不同實施例之光罩盒承載裝置及其目標盒體之示意圖。
第5圖為本發明實施例之不同規格的多種目標盒體的疊合示意圖。
請參閱第1圖至第4圖,第1圖與第2圖為本發明不同實施例之光罩盒承載裝置10之示意圖,第3圖與第4圖為本發明不同實施例之光罩盒承載裝置10及其目標盒體O之示意圖。光罩盒承載裝置10係應用於放置光罩的目標盒體O。目標盒體O可分為上蓋與下蓋,其外型可分別如第3圖與第4圖所示,故本發明係針對目標盒體O的上蓋提出第1圖所示之光罩盒承載裝置10,以及針對目標盒體O的下蓋提出第2圖所示之光罩盒承載裝置10。然需特別一提的是,第1圖所示之光罩盒承載裝置10可選擇性微調後用於承載目標盒體O的下蓋,第2圖所示之光罩盒承載裝置10也可選擇微調後用於承載目標盒體O的上蓋,其變化端視設計需求而定。
光罩盒承載裝置10可適用於具有不同規格的目標盒體O,其適用數量可為兩種或兩種以上,本說明書係以光罩盒承載裝置10適用不同規格的兩種目標盒體O為示例,如前述的光罩盒上蓋與光罩盒下蓋,然實際應用當不限於此。請參閱第5圖,第5圖為本發明實施例之不同規格的多種目標盒體O的疊合示意圖。如第5圖所示,第一規格的目標盒體O可具有第一承載區A1,第二規格的目標盒體O可具有第二承載區A2,而第一承載區A1與第二承載區A2的通用範圍屬 於共用非汙染區,可定義為重疊區A3,意即碰觸到此重疊區A3不會影響目標盒體O之作用。
光罩盒承載裝置10可至少包含基座12、底座14、承載柱16、轉動件18、夾持件20、橋接柱22、感測器24、驅動器26以及限位柱28。橋接柱22的兩端可分別固設在基座12與可活動地連結底座14,以使底座14可相對於基座12移動;舉例來說,轉動件18可設置在底座14下,用來調整底座14相對於基座12的水平度。轉動件18可為安裝在基座12與底座14之間的水平調整螺絲、或是具有類似功能的其它零組件。一般來說,橋接柱22會設置在基座12與底座14的四個邊角,然其數量與位置不限於此,端依設計需求而定。
複數個承載柱16可分別設置在底座14的周邊,用來承載具有第一規格或具有第二規格的目標盒體O。複數個承載柱16在底座14的複數個位置係分別對應於第一承載區A1與第二承載區A2的重疊區A3。本發明中,各承載柱16可至少包含承托面部30,用來止抵於重疊區A3,如第1圖所示的右邊兩個承載柱16、和第2圖所示的四個承載柱16。在部分實施例中,各承載柱16可進一步包含包覆面部32,其係連接於承托面部30以用來止擋在目標盒體O的側邊,如第1圖所示的左邊兩個承載柱16。承載柱16的形狀、數量與位置不限於此,端依設計需求而定。
夾持件20係設置在基座12的交錯於複數個承載柱16的位置,並且電連接於感測器24與驅動器26。夾持件20可用來止抵於目標盒體O的相同或不同於承載柱16所止擋的側邊。感測器24可設置在底座14並且鄰近複數個承載柱16,用來偵測目標盒體O是否擺放在複數個承載柱16上。驅動器26可設置在基座12, 用來改變夾持件20相對於目標盒體O的位置。當感測器24偵測到目標盒體O擺放在複數個承載柱16時,可利用驅動器26移動夾持件20以緊密止抵於目標盒體O來限制其移動。夾持件20的數量與位置不限於圖示態樣,端依設計需求而定。
限位柱28則會設置在底座14並且鄰近複數個承載柱16。限位柱28通常設置在基座12與底座14的四個邊角,然其數量與位置不限於此,端依設計需求而定。限位柱28可包含支撐面部34以及止擋部36。支撐面部34相對於底座14的距離可相同於承托面部30相對於底座14的距離,以使限位柱28與承載柱16可共同承托目標盒體O。止擋部36為複數個,可分別設置在支撐面部34的不同側邊,用來限制目標盒體O在多個方向的移動。
綜上所述,本發明的光罩盒承載裝置係設計對齊於不同規格目標盒體之重疊區的承載柱,以使光罩盒承載裝置可通用於不同廠商的光罩盒。此外,基座與底座之間可選擇性設置轉動件以調整光罩盒的水平度;限位柱可以涵蓋不同規格的目標盒體的外尺寸,故還需利用驅動器牽引夾持件,由夾持件推動目標盒體止抵於限位柱以達到定位功能;感測器則是用於偵測目標盒體是否放置到承載柱與限位柱。只要目標盒體放置到光罩盒承載裝置上,感測器偵測到目標盒體就會自動致發驅動器,讓不同規格的目標盒體都能全面相容於本發明的光罩盒承載裝置。
以上所述僅為本發明之較佳實施例,凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾,皆應屬本發明之涵蓋範圍。
10:光罩盒承載裝置
12:基座
14:底座
16:承載柱
18:轉動件
20:夾持件
22:橋接柱
24:感測器
26:驅動器
28:限位柱
30:承托面部
32:包覆面部
34:支撐面部
36:止擋部

Claims (12)

  1. 一種光罩盒承載裝置,適用於具有一第一規格或一第二規格的一目標盒體,該光罩盒承載裝置包含有: 一基座; 一底座,可活動地設置在該基座上; 複數個承載柱,設置在該底座的周邊,該複數個承載柱在該底座之複數個位置係對應於該第一規格之一第一承載區與該第二規格之一第二承載區的一重疊區,其中該複數個承載柱係用來承載該目標盒體; 一轉動件,設置在該底座下以調整該底座相對於該基座之一水平度;以及 一夾持件,設置在該基座,用以止抵該目標盒體的一側邊。
  2. 如請求項1所述之光罩盒承載裝置,其中該光罩盒承載裝置另包含至少一橋接柱,該橋接柱的兩端分別固設在該基座以及可活動地連結該底座。
  3. 如請求項1所述之光罩盒承載裝置,其中該複數個承載柱之各承載柱係包含一承托面部,用來止抵於該重疊區。
  4. 如請求項3所述之光罩盒承載裝置,其中該承載柱另包含一包覆面部,連接於該承托面部,用來止擋在該目標盒體的另一側邊。
  5. 如請求項1所述之光罩盒承載裝置,其中該轉動件係為一水平調整螺絲,安裝在該基座與該底座之間。
  6. 如請求項1所述之光罩盒承載裝置,其中該夾持件設置在不同於該複數個承載柱的位置。
  7. 如請求項1所述之光罩盒承載裝置,其中該光罩盒承載裝置另包含一感測器,設置在該底座並且鄰近該複數個承載柱,用以偵測該目標盒體是否擺放在該複數個承載柱。
  8. 如請求項7所述之光罩盒承載裝置,其中該感測器係電連接該夾持件,該感測器在偵測到該目標盒體擺放在該複數個承載柱時,驅動該夾持件止抵於該目標盒體。
  9. 如請求項7所述之光罩盒承載裝置,其中該光罩盒承載裝置另包含一驅動器,電連接該感測器與該夾持件,用來改變該夾持件相對於該目標盒體之位置。
  10. 如請求項1所述之光罩盒承載裝置,其中該重疊區係為具有該第一規格之該目標盒體和該第二規格之該目標盒體的一共用非汙染區。
  11. 如請求項1所述之光罩盒承載裝置,其中該光罩盒承載裝置另包含複數個限位柱,設置在該底座並且鄰近該複數個承載柱。
  12. 如請求項11所述之光罩盒承載裝置,其中該複數個限位柱之各限位柱係包含一支撐面部以及二止擋部,該二止擋部分別設置在該支撐面部之兩不同側邊。
TW113120984A 2024-06-06 2024-06-06 光罩盒承載裝置 TWI892681B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW113120984A TWI892681B (zh) 2024-06-06 2024-06-06 光罩盒承載裝置
US18/882,725 US20250379079A1 (en) 2024-06-06 2024-09-11 Photomask box carrying device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW113120984A TWI892681B (zh) 2024-06-06 2024-06-06 光罩盒承載裝置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TWI892681B true TWI892681B (zh) 2025-08-01
TW202547759A TW202547759A (zh) 2025-12-16

Family

ID=97523963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW113120984A TWI892681B (zh) 2024-06-06 2024-06-06 光罩盒承載裝置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20250379079A1 (zh)
TW (1) TWI892681B (zh)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1412262B1 (en) * 2000-07-10 2008-05-21 Entegris, Inc. Smif container including an electrostatic dissipative reticle support structure
TWM456583U (zh) * 2012-11-20 2013-07-01 Ming-Sheng Chen 光罩傳送盒結構
TWI415209B (zh) * 2005-04-04 2013-11-11 Entegris Inc 罩幕標準機械介面晶圓盒之環境控制
US20170052460A1 (en) * 2015-08-20 2017-02-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Mask container and mask container storing system
US20170294326A1 (en) * 2016-04-06 2017-10-12 Entegris, Inc. Substrate container with window retention spring
CN208937907U (zh) * 2018-11-07 2019-06-04 广州仕元光电股份有限公司 一种四边形光罩的定位夹紧结构和一种光罩盒
TWI720693B (zh) * 2019-11-18 2021-03-01 家登精密工業股份有限公司 光罩容器
CN108375872B (zh) * 2017-01-25 2022-04-15 家登精密工业股份有限公司 极紫外光光罩容器
TWM644162U (zh) * 2023-03-30 2023-07-21 家碩科技股份有限公司 降低粉塵汙染的光罩內盒承載裝置及光罩內盒的光學檢查設備
CN219872109U (zh) * 2023-04-25 2023-10-20 江西兆驰半导体有限公司 一种便于机械开合的光罩版盒
JP2024041454A (ja) * 2022-09-14 2024-03-27 信越ポリマー株式会社 基板収納容器

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1412262B1 (en) * 2000-07-10 2008-05-21 Entegris, Inc. Smif container including an electrostatic dissipative reticle support structure
TWI415209B (zh) * 2005-04-04 2013-11-11 Entegris Inc 罩幕標準機械介面晶圓盒之環境控制
TWM456583U (zh) * 2012-11-20 2013-07-01 Ming-Sheng Chen 光罩傳送盒結構
US20170052460A1 (en) * 2015-08-20 2017-02-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Mask container and mask container storing system
US20170294326A1 (en) * 2016-04-06 2017-10-12 Entegris, Inc. Substrate container with window retention spring
CN108375872B (zh) * 2017-01-25 2022-04-15 家登精密工业股份有限公司 极紫外光光罩容器
CN208937907U (zh) * 2018-11-07 2019-06-04 广州仕元光电股份有限公司 一种四边形光罩的定位夹紧结构和一种光罩盒
TWI720693B (zh) * 2019-11-18 2021-03-01 家登精密工業股份有限公司 光罩容器
JP2024041454A (ja) * 2022-09-14 2024-03-27 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
TWM644162U (zh) * 2023-03-30 2023-07-21 家碩科技股份有限公司 降低粉塵汙染的光罩內盒承載裝置及光罩內盒的光學檢查設備
CN219872109U (zh) * 2023-04-25 2023-10-20 江西兆驰半导体有限公司 一种便于机械开合的光罩版盒

Also Published As

Publication number Publication date
US20250379079A1 (en) 2025-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102126693B1 (ko) 얼라인먼트 장치, 반도체 웨이퍼 처리장치 및 얼라인먼트 방법
KR20220044088A (ko) 충돌 방지 거리 구조를 갖는 레티클 포드
KR20080039195A (ko) 플라즈마 반응 시스템의 작업편 회전 장치
TWI892681B (zh) 光罩盒承載裝置
JPH07114233B2 (ja) 基板の位置決め装置
JP4620365B2 (ja) 支持ステージに対して基板を位置決めするアライメント装置および基板較正システム
US4820930A (en) Photomask positioning device
US11143640B2 (en) Rotating buffer station for a chip
US11059137B2 (en) Tool set for use in position adjustment of positioning pins
TW202547759A (zh) 光罩盒承載裝置
US6934661B2 (en) Wafer edge detector
KR102134034B1 (ko) 웨이퍼 치핑 검사 및 로봇 반복 정밀도 검사 가능한 얼라이너 및 상기 얼라이너에 의한 웨이퍼 치핑 검사방법
JP2010165725A (ja) 基板搭載装置
JP5115363B2 (ja) ウェハのアライメント装置、それを備えた搬送装置、半導体製造装置、および半導体ウェハのアライメント方法
JP2004172480A (ja) ウェハ検査装置
US12183609B2 (en) Wafer carrier with reticle template for marking reticle fields on a semiconductor wafer
CN118448323B (zh) 一种晶圆的传输装置及晶圆测试系统
US20240345492A1 (en) Sensor system
CN104991426B (zh) 多光束干涉光刻辅助曝光装置
TWI711115B (zh) 基板傳送設備、半導體製程機台及基板傳送方法
US20240412997A1 (en) High-precision in-situ verification and correction of wafer position and orientation for ion implant
JP3181265U (ja) 基板搬送装置
KR20250162556A (ko) 기판을 정렬하기 위한 시스템 및 방법
JPH07142348A (ja) 露光装置
KR100611069B1 (ko) 얼라인 마크를 이용하여 오버레이 보정 및 정렬 보정을수행하는 방법