TWI886110B

TWI886110B - 估計移動目標之性質之方法及裝置

Info

Publication number: TWI886110B
Application number: TW109100823A
Authority: TW
Inventors: 羅伯特傑拉法斯
Original assignee: 荷蘭商Ａｓｍｌ荷蘭公司
Priority date: 2019-01-30
Filing date: 2020-01-10
Publication date: 2025-06-11
Also published as: US20220086998A1; TW202041103A; KR20210118390A; CN113728728B; NL2024753A; KR102892674B1; US11758639B2; CN113728728A; WO2020156975A1

Abstract

本發明係關於一種裝置，其包括：一診斷系統，其經組態以與沿著一軌跡行進的一當前目標且在該當前目標進入一目標空間之前以診斷方式相互作用；一第一偵測裝置，其經組態以偵測第一光；一第二偵測裝置，其經組態以偵測第二光；及一控制系統，其與該第一偵測裝置及該第二偵測裝置通信。該第一光包括：自該當前目標與該診斷系統之間的相互作用產生之光；及自一先前目標產生的電漿發射之光。該第二光包括自該先前目標產生的該電漿發射之該光。該控制系統經組態以：基於自該第一偵測裝置及該第二偵測裝置的各別輸出產生之第一信號及第二信號產生一分析信號；及基於該產生之分析信號估計該當前目標之一性質。

Description

估計移動目標之性質之方法及裝置

所揭示主題係關於一種用於在雷射產生的電漿極紫外光光源中沿著目標之軌跡量測該目標之態樣的系統及方法。

極紫外(EUV)光(例如，具有約50奈米或更小之波長之電磁輻射(有時亦稱作軟x射線)，且包括處於約13奈米之波長之光)可用於光微影製程中以在基板(例如，矽晶圓)中產生極小特徵。

用以產生EUV光之方法包括但未必限於將具有發射譜線在EUV範圍內之元素(例如氙、鋰或錫)之材料轉換成電漿狀態。在一種此類方法(常常稱為雷射產生電漿「LPP」)中，可藉由運用可被稱作驅動雷射之經放大光束照射目標材料(例如，呈材料之小滴、板、帶、串流或叢集之形式)而產生所需電漿。對於此製程，通常在例如真空腔室之密封容器中產生電漿，且使用各種類型之度量衡設備來監視電漿。

在一些一般態樣中，一種方法包括使得在診斷系統與沿著朝向目標空間的軌跡行進之當前目標之間能夠實現相互作用，當前目標包括當轉換成電漿時發光之分量。該方法亦包括：在第一偵測區域處偵測第一光；在第二偵測區域處偵測第二光；基於由偵測到的第一光產生之第一信號及由偵測到的第二光產生之第二信號，產生分析信號；以及基於產生的分析信號，估計當前目標之性質。第一光包括自先前目標產生的電漿發射之光以及自當前目標與診斷系統之間的實現的相互作用產生之光。第二光包括自先前目標之電漿發射之光。

實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言，由目標分量產生之電漿發射之光可以包括：在EUV波長範圍內之極紫外(EUV)光及在EUV波長範圍外之非EUV光。

可以藉由抑制由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光的至少一部分來偵測第二偵測區域處之第二光。藉由基於以下各者中之一或多者來過濾由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光：由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光的光譜性質、偏振性質及/或空間性質，可以抑制由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光。

當前目標與診斷系統之間的相互作用可以包括：當前目標與診斷系統之第一診斷探針之間的第一相互作用；及當前目標與診斷系統之第二診斷探針之間的第二相互作用。當前目標與第二診斷探針之間的第二相互作用可以在與當前目標與第一診斷探針之間的第一相互作用發生的位置及時間不同的位置及時間處發生。

藉由將診斷系統導引朝向當前目標，使得診斷系統及當前目標在沿著當前目標軌跡的區域處相互作用，可以使得在診斷系統與當前目標之間能夠實現相互作用。藉由將診斷光束導引朝向當前目標，可以將診斷系統導引朝向當前目標。

當前目標之性質可以藉由估計以下各者中之一或多者來估計：當前目標到達空間中特定位置之時間；當前目標之速率、速度及/或加速度；及當前目標到達空間中特定位置與另一目標到達空間中該特定位置之間的時間間隔。

該方法可以包括若所估計的目標性質在可接受的規格之外，則調整導引朝向目標空間的輻射脈衝之一或多種性質。

藉由在前面的(例如，緊接前面的)目標已經與先前輻射脈衝相互作用期間或之後偵測第一光及第二光，可以偵測第一光及第二光。

自先前目標的電漿發射之光的光譜頻寬可以實質上寬於由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光的光譜頻寬。由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光可以包括自當前目標反射或散射的來自診斷系統的光。

藉由自第一信號電子減去第二信號，可以自第一信號及該信號產生分析信號。藉由將第一信號及第二信號數位化，以及運算第二數位化信號與第一數位化信號的每個帶有時戳之樣品之間的差，可以自第一信號及第二信號產生分析信號。

藉由偵測自當前目標與診斷系統之間的實現的相互作用產生之光的量，可以在第二偵測區域處偵測第二光。在第二偵測區域處自當前目標與診斷系統之間的實現的相互作用產生之光的偵測量可以小於在第一偵測區域處偵測的自當前目標與診斷系統之間的實現的相互作用產生之光的量。

在其他一般態樣中，一種裝置包括：診斷系統，其經組態以與沿著軌跡行進的當前目標且在該當前目標進入目標空間之前以診斷方式相互作用；第一偵測裝置，其經組態以偵測第一光；第二偵測裝置，其經組態以偵測第二光；及控制系統，其與第一偵測裝置及第二偵測裝置通信。該第一光包括：自該當前目標與該診斷系統之間的相互作用產生之光，及自先前目標產生的電漿發射之光。該第二光包括自先前目標產生的電漿發射之光。該控制系統經組態以：基於自該第一偵測裝置及該第二偵測裝置的各別輸出產生之第一信號及第二信號產生分析信號；及基於產生的分析信號估計該當前目標之性質。

實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言，該裝置亦可以包括目標遞送系統，該目標遞送系統經組態以各自沿著朝向目標空間的軌跡釋放複數個目標。每個目標包括當轉換成電漿時發射極紫外(EUV)光之分量。

該裝置亦可以包括光學源，該光學源經組態以產生導引朝向目標空間之輻射脈衝。由先前目標產生的電漿係由於先前目標與先前輻射脈衝之間的相互作用而產生的。

診斷系統可以包括診斷光束，並且由當前目標與診斷光束之間的相互作用產生的診斷光可以包括自當前目標反射或散射的診斷光束。

第一偵測裝置可以包括第一光偵測器，並且第二偵測裝置可以包括第二光偵測器。第一光偵測器及第二光偵測器中之每一者可以包括以下各者中之一或多者：光電二極體，該等光電二極體之輸出係與自所偵測之光產生的電流相關之電壓信號；光電晶體；光相依電阻；及光電倍增管。第一光偵測器及第二光偵測器可以具有近似相等的檢視角度及收集角度。第二偵測裝置可以包括阻擋器件，該阻擋器件經組態以限制由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生的至少大部分光免於到達第二光偵測器。阻擋器件可以包括位於目標空間與第二光偵測器之間的光學路徑中之濾光器，該濾光器經組態以抑制由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光。濾光器可以包括以下各者中之一或多者：光譜濾光器、偏振濾光器及空間濾光器。第一偵測裝置可以包括阻擋器件，該阻擋器件的帶通與由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生之光的波長重疊。

診斷系統可以包括第一診斷探針及第二診斷探針，該第一診斷探針及該第二診斷探針各自經組態以與當前目標在其沿著軌跡行進時並且在進入目標空間之前以診斷方式相互作用，當前目標與診斷探針之間的各相互作用發生在不同的位置及不同的時間。

該裝置可以包括：光學源，其經組態以產生導引朝向目標空間的複數個輻射脈衝；及致動系統，其與控制系統及光學源通信。該致動系統可以經組態以在所估計的性質在可接受的規格之外時調整導引朝向目標空間的輻射脈衝之一或多種性質。

由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生的光的光譜頻寬可以實質上窄於自先前目標產生的電漿發射之光的光譜頻寬。

控制系統可以包括與第一偵測裝置及第二偵測裝置通信的電子模組，該電子模組經組態以自第一信號電子減去第二信號。

在其他一般態樣中，一種估計移動目標之性質之方法包括沿著朝向目標空間之軌跡釋放當前目標，該當前目標包括當轉換成電漿時發光之分量。該方法包括在第一偵測區域處，偵測由當前目標與診斷系統之間的相互作用產生的診斷光以及由先前目標產生的電漿發射的背景光，該診斷光之光譜頻寬實質上窄於該背景光之光譜頻寬。該方法包括限制一定量的診斷光免於穿過第二偵測區域，並且允許所有背景光穿過第二偵測區域。該方法亦包括在第二偵測區域處偵測背景光以及基於以下各者產生分析信號：由在第一偵測區域處偵測到的光產生之信號，及由在第二偵測區域處偵測到的光產生之背景信號。該方法包括基於產生的分析信號，估計當前目標之性質。

實施方案可包括以下特徵中之一或多者。舉例而言，在第一偵測區域處偵測診斷光及背景光以及在第二偵測區域處偵測背景光可以包括在第一偵測區域及第二偵測區域處均偵測背景光。

該方法亦可以包括限制一定量的背景光免於穿過第一偵測區域。限制該量的背景光免於穿過第一偵測區域可以允許背景光的一部分到達第一偵測區域，背景光的允許部分與到達第一偵測區域的診斷光具有相同的功率等級。

100:度量衡裝置

105:診斷系統

106:診斷探針

110:目標

110':目前目標

110c:當前目標

110p:先前目標

111:複數個

115:目標空間

120:第一偵測裝置

130:第二偵測裝置

140:光

142:光/寬帶光學輻射

144:電漿

150:控制系統

155:目標遞送系統

200:度量衡裝置

205:診斷系統

206:診斷光束

220:第一偵測裝置

222:第一光偵測器

223:信號

224:阻擋器件

230:第二偵測裝置

232:第二光偵測器

233:信號

234:阻擋器件

250:控制系統

351:控制裝置

360:EUV光光源

361:EUV光

362:EUV光

364:輻射脈衝/輻射脈衝光束

366:輸出裝置

368:腔室

370:EUV光收集器

372:光學源

374:致動系統

450:控制系統

451:控制裝置

452:信號處理模組

453:診斷控制模組

454:光學源致動模組

456:光學源模組

457:目標遞送模組

458:記憶體

459i:輸入器件

459o:輸出器件

465:處理器

470:控制系統

510:目標

510m:經修改目標

515_1:第一目標部位

515_2:第二目標部位

564A:初步輻射脈衝光束

564B:主輻射脈衝光束

572:光學源

573_1:第一光學放大器系統

573_2:第二光學放大器系統

576_1:第一光產生器

576_2:第二光產生器

577_1:光束

577_2:光束

578c:光束路徑組合器

578s:光束路徑分離器

579:光學系統

605A:診斷系統

605B:診斷系統

605C:診斷系統

606A:診斷光束

606B_1:診斷光束

606B_2:診斷光束

606C_1:診斷光束

606C_2:診斷光束

607A:光源

607B:光源

607C_1:光源

607C_2:光源

608A:光學元件

608B:光學組件

608C_1:光學組件/光學元件

611A:光束

611B:光束

611C_1:光束

611C_2:光束

640A:光

640B_1:光

640B_2:光

640C_1:光

640C_2:光

700:程序

705:步驟

710:步驟

715:步驟

720:步驟

725:步驟

823:第一信號

823_1:峰

823_2:峰

823_3:峰

823_4:峰

833:第二信號

880:分析信號

880_1:電壓峰

880_2:電壓峰

900:度量衡裝置

906:診斷光束

920:第一偵測裝置

923:信號

924:偏振濾光器

930:第二偵測裝置

932:第二偵測器

933:信號

934:阻擋器件/偏振濾光器

940:診斷光

941:偏振器

1000:度量衡裝置

1100:度量衡裝置

1105:診斷系統

1106:診斷探針

1110:目標

1110c:當前目標

1111:串流

1115:目標空間

1120:第一偵測裝置

1130:第二偵測裝置

1140:診斷光

1142:寬帶光學輻射

1144:發光電漿

1150:控制系統

1151:控制裝置

1155:目標遞送系統

1160:EUV光光源

1161:EUV輻射

1162:EUV光

1164:輻射脈衝

1166:輸出裝置

1168:EUV腔室

1170:EUV光收集器

1171:反射表面

1172:光學源

1173:孔隙

1174:致動系統

1260:EUV光光源

1262:輻射光束

1266:微影裝置

B:輻射光束

C:目標部分

dp:距離

IF:中間焦點/虛擬源點

IL:照明系統

IL1:琢面化場鏡面器件

IL2:琢面化光瞳鏡面器件

IL3:輻射強度

ILB:輻射光束

M1:圖案化對準標記

M2:圖案化對準標記

MA:圖案化器件

MT:支撐結構

P1:基板對準標記

P2:基板對準標記

PM:第一定位器

PS:投影系統

PS1:位置感測器/反射元件

PS2:位置感測器/反射元件

PSB:圖案化光束

PW:第二定位器

t:時間

t_1:時戳

t_2:時戳

t1:時間

t2:時間

TR:軌跡

W:基板

WT:基板台

x:位置

x1:位置

x2:位置

△d:分離度

圖1A係度量衡裝置之示意圖及方塊圖，該度量衡裝置包括用於判定導引朝向目標空間之目標之一或多種性質的第一及第二偵測裝置；圖1B係診斷探針與每個目標及目標空間相互作用之診斷區域之實施方案的示意圖；圖2係圖1A之度量衡裝置之實施方案的示意圖及方塊圖；圖3A係在極紫外(EUV)光光源中實施的圖1A之度量衡裝置之實施方案之第一視圖的示意圖及方塊圖；圖3B係圖3A的在極紫外(EUV)光光源中實施的圖1A之度量衡裝置之實施方案之第二視圖的示意圖及方塊圖；圖4係亦包括圖1A或圖2的度量衡裝置之控制系統的實施方案的圖3A及圖3B的EUV光光源之控制裝置的實施方案之方塊圖；圖5係圖3A及圖3B的EUV光光源之光學源的實施方案的示意圖及方塊圖，且亦示出來自與目標空間中之目標相互作用之光學源的輻射脈衝；圖6A係產生單個診斷光束之診斷系統之實施方案的示意圖及方塊圖；圖6B係自單個光源產生兩個診斷光束之診斷系統之實施方案的示意圖及方塊圖；圖6C係自各別光源產生兩個診斷光束之診斷系統之實施方案的示意圖及方塊圖；圖7係由圖1A、圖2、圖3A或圖3B之度量衡裝置執行之程序的流程圖；圖8係來自圖1A、圖2、圖3A或圖3B之度量衡裝置的各別第一及第二偵測裝置的輸出信號之實例的示意圖，示出由控制系統執行之信號處理及由信號處理產生之分析信號；圖9係圖1A之度量衡裝置之另一實施方案的示意圖及方塊圖；圖10係圖1A之度量衡裝置之另一實施方案的示意圖及方塊圖；圖11係包括圖1A之度量衡裝置的實施方案的EUV光光源之實施方案的示意圖及方塊圖；圖12係其中可以包括圖1A之裝置的EUV光光源之實施方案的方塊圖；以及圖13係示出圖12的EUV光光源之更多細節的方塊圖。

參看圖1A，度量衡裝置100包括診斷系統105，該診斷系統105經組態以產生一或多個診斷探針106，該一或多個診斷探針106與沿著軌跡TR行進的當前目標110c且在當前目標110c進入目標空間115之前以診斷方式相互作用。度量衡裝置100可以在EUV光光源(諸如圖3A及圖3B中所示之EUV光光源360)內實施，該EUV光光源使用目標110，該目標110藉由使目標110與輻射脈衝364(如圖3A及圖3B所示)在目標空間115中相互作用而至少部分地轉換成電漿144。

軌跡TR通常沿著-X軸延伸，不過軌跡TR可以與Z及/或Y軸部分重疊。度量衡裝置100包括經組態以偵測第一光之第一偵測裝置120。第一光包括由當前目標110c與診斷系統105之間的相互作用產生之光140，以及由目標空間115內之一或多個先前目標110p產生的電漿144發射之光142。先前目標110p係任何一個在當前目標110c到達目標空間115之前到達目標空間115的目標。先前目標110p可以係與當前目標110c相鄰的目標，或者在先前目標110p與當前目標110c之間可以存在其他目標。在圖1A中，先前目標110p已經產生了電漿144，因為其已經與目標空間115中之輻射脈衝相互作用，並且由於此種相互作用，先前目標110p藉由至少部分地轉換成電漿144而被改變。因此，在圖1A(以及在圖2及圖3A中)中示意性地以與當前目標110c不同的方式描繪了先前目標110p。圖1至圖3A中之目標110、當前目標110c及先前目標110p的示意性描繪僅出於說明目的。此等目標之實際幾何形狀、密度及性質可能與圖1至圖3A所示的不同。舉例而言，當前目標110c可以係不同於球形之形狀，並且先前目標 110p可以具有不同於所示形狀之形狀，或者可以係空間中分散的一組粒子。

度量衡裝置100亦包括與第一偵測裝置120通信之控制系統150。控制系統150經組態以至少基於來自第一偵測裝置120的輸出來估計當前目標110c之一或多種性質。當前目標110c的估計性質可以係與當前目標110c相對於目標空間115之運動、到達或位置有關之性質。舉例而言，控制系統150可以估計以下各者中之一或多者：當前目標110c到達空間中特定位置(諸如目標空間115)之時間；當前目標110c之速率、速度或加速度；或當前目標110c到達空間中特定位置與另一目標到達空間中該特定位置之間的時間間隔。因此，EUV光光源360可以使用當前目標110c的判定或估計之性質來調整或控制導引至目標空間115的後續輻射脈衝之態樣，以確保在目前目標110'(其可以係當前目標110c)到達目標空間115時，後續輻射脈衝到達目標空間115(或目標空間115內的最佳位置)(參見圖3A及圖3B)。

沿著朝向目標空間115的軌跡TR導引複數個111目標(各自通常指定為110)。每個目標110包括在轉換成電漿144時發射極紫外(EUV)光(諸如圖3A及圖3B中所示之EUV光361)之分量。此等目標110自產生區域(諸如自目標遞送系統155)導引朝向目標空間115行進(例如，以彈道方式)。目前目標110'之性質(諸如到達或運動)藉由以下方式估計：用由診斷系統105產生之診斷探針106在當前目標110c沿著軌跡TR行進時探測該當前目標，偵測診斷探針106與當前目標110c之間的相互作用之態樣，以及在控制系統150之控制下分析此等偵測到之態樣。

令人遺憾的是，在第一偵測裝置120處偵測到的第一光中可能存在大量的寬帶光學輻射(亦即光142)，並且此種光142會干擾由控制系統150執行之計算及分析。之所以發生此種干擾，係因為電漿144係由一或多個先前目標110p產生的，該一或多個先前目標110p在當前目標110c與診斷探針106相互作用之前進入目標空間115，並且此電漿144發射寬帶光學輻射142。因此，此寬帶光學輻射142亦稱為電漿閃漏(plasma flash leakage)信號。寬帶光學輻射142之強度遠大於光140之強度。因此，寬帶光學輻射142干擾由診斷探針106與當前目標110c之間的直接相互作用產生之信號。因此，第一偵測裝置120既偵測自當前目標110c與診斷探針106之間的相互作用產生的(吾人所樂見的信號)光140，又偵測自一或多個先前目標110p產生的電漿144發射的(非吾人所樂見的信號)光142。

寬帶光學輻射142在很大程度上係非偏振的。此外，如下所述，寬帶光學輻射142傾向於包括三個不同的波長帶。寬帶光學輻射142包括EUV光(諸如在圖3A及圖3B所示的EUV光光源361中收集的EUV光361)。此EUV光具有約50nm或更小的波長範圍。寬帶光學輻射142亦包括波長範圍與由於診斷探針106與目標110的相互作用而產生之光140的波長重疊之光。最後，寬帶光學輻射142包括波長範圍包括第一偵測裝置120可以偵測的波長範圍在內之光。

度量衡裝置100經設計以有效地抑制由一或多個先前目標110p產生的電漿144發射之寬帶光學輻射142對由控制系統150執行之計算及分析的影響，該計算及分析用於判定當前目標110c之性質，且藉此估計目前目標110'之性質。度量衡裝置100，且特定言之控制系統150，能夠藉由直接阻止或減少由當前目標110c與診斷探針106之間的相互作用產生之光140的量到達佈置在第一偵測裝置120附近之第二偵測裝置130，從而抑制寬帶光學輻射142對用於判定當前目標110c之性質的計算的影響。如此，第二偵測裝置130經組態以偵測第二光，該第二光包括相對更多(或實質上僅)由先前目標110p產生的電漿144發射之寬帶光學輻射142。因此，第二光具有少得多(或在阻擋完美時沒有)由於當前目標110c與診斷探針106之間的相互作用而產生之光140。因此，第二偵測裝置130獲得了非吾人所樂見的電漿閃漏信號之極好的表示，非吾人所樂見的電漿閃漏信號促成在第一偵測裝置120處偵測到的信號中存在之雜訊。

換言之，第一偵測裝置120及第二偵測裝置130經組態或置放以接收由於當前目標110c與診斷探針106之間的相互作用而產生之光140以及寬帶光學輻射142兩者。區別在於，第一偵測裝置120對光140更敏感，而第二偵測裝置130對寬帶光學輻射142更敏感。

控制系統150與第二偵測裝置130通信以在控制系統150正在自第一偵測裝置120接收輸出的同時接收來自第二偵測裝置130之輸出。控制系統150自利用第一偵測裝置120輸出之信號減去或去除利用第二偵測裝置130輸出之信號(其係雜訊之良好表示)，從而獲得自當前目標110c與診斷探針106之間的相互作用產生之光140的基本上無雜訊的表示，如參看圖7及圖8更詳細論述的。以此種方式，相對於僅使用來自單個偵測裝置之輸出的先前設計，度量衡裝置100能夠準確且有效地估計當前目標110c之性質。

此外，度量衡裝置100有效地減少或消除了由於非吾人所樂見的電漿閃漏信號(寬帶光學輻射142)引起之雜訊，且無需施加時間閘控或可能需要在診斷探針106與當前目標110c之間進行更仔細對準的其他幾何要求。另外，度量衡裝置100不需要(或執行)如下分析，該分析將需要完全抑制來自由先前目標110p產生之電漿144發射的寬帶光學輻射142之信號。亦即，第一偵測裝置120及第二偵測裝置130均自寬帶光學輻射142接收非吾人所樂見的電漿閃漏信號。度量衡裝置100不需要自寬帶光學輻射142去除光譜分量。實際上，去除寬帶光學輻射142之所有光譜分量係非常困難的，並且即使並非不可能，一些寬帶光學輻射142仍然會洩漏通過任何可以使用之帶通濾光器。度量衡裝置100不需要寬帶光學輻射142在很大程度上被阻擋或去除。

通常，由當前目標110c與診斷探針106之間的相互作用產生之光140的光譜頻寬實質上窄於由先前目標110p產生的電漿144發射之光142之光譜頻寬。因此，將光142稱為寬帶光學輻射。舉例而言，光140之光譜頻寬可以比光142之整體光譜頻寬低數百倍。

相對於各別第一偵測裝置120及第二偵測裝置130之「第一光」及「第二光」的指定並不意謂光到達各別第一偵測裝置120及第二偵測裝置130之時間的特定順序。術語「第一」及「第二」僅用於區分兩個不同的裝置120、130，並且不傳達與第一光及第二光的時序有關的任何資訊。舉例而言，第一光(由第一偵測裝置120偵測)可以在第二偵測裝置130偵測第二光的同時在第一偵測裝置120處發生並且經偵測。或者，第一光可以在第二光到達第二偵測裝置130的時間之前或之後到達第一偵測裝置120。

隨著診斷探針106與目標空間115之間的距離dp減小，存在於第一光中的寬帶光學輻射142的量(由第一偵測裝置120偵測)增加。度量衡裝置100使得在距離dp減小的情況下能夠探測當前目標110c。此外，有益的是確保一或多個診斷探針106與目標空間115之間的距離dp足夠小，以解決當前目標110c在其接近目標空間115時之脈衝減速。當前目標110c之脈衝減速的產生係由於來自一或多個先前目標110p產生之電漿144的力。此外，此等脈衝力隨著距目標空間115之距離增加而幅度減小。因此，在一些實施方案中，將診斷探針106置放在距離目標空間115足夠近的距離dp處，以量測或解決當前目標110c之減速。

舉例而言，為了準確地調整將與目標空間115中之目前目標110'(其可以係當前目標110c)相互作用的後續輻射脈衝之態樣，需要估計當前目標110c之運動。對於第一近似，當前目標110c之位置與起始位置、當前目標110c之速度及當前目標110c之加速度有關。為了使此第一近似成為一個好的假設，速度及加速度應實質上恆定。在某些情況下，可以假定加速度為零(0)。當前目標110c之速度在前面的電漿事件(其在先前目標110p與先前輻射脈衝相互作用時發生)之後發生變化(在此實例中，其減速)，因為當前目標110c由於來自電漿144之力而出現脈衝減速。因此，如圖1B之實施方案所示，有益的是在最後一次脈衝事件之後，亦即在前面的先前目標110p(其可以係緊接著前面的先前目標)已經與先前輻射脈衝相互作用之後或期間，量測當前目標110c之性質(諸如速度)。在前面的先前目標110p與先前輻射脈衝之間的相互作用之後，當前目標110c迅速減速，且接著隨著減速在短時間段之後實質上下降，可以認為當前目標110c之速度基本上恆定。當前目標110c自一速度(在自先前目標110p產生電漿之前)減速至當前速度。因為診斷探針106足夠靠近目標空間115(以及由前面的先前目標110p與先前輻射脈衝之相互作用產生的電漿144)，所以可以安全地假定沒有其他作用力來改變當前目標110c且對當前目標110c之性質的估計更加準確。因此，度量衡裝置100在圖1B中描述之此實施方案中甚至更有用，其中第一偵測裝置120不僅偵測診斷光(光140)，而且亦偵測寬帶光學輻射142，該寬帶光學輻射142之強度相對更高，且因此由於診斷探針106距離電漿144如此之近而實質上會干擾光140。實際上，會更難以自光140中空間濾除寬帶光學輻射142，因為在診斷探針106更靠近目標空間115並因此更靠近電漿144之情況下，寬帶光學輻射142之強度相對於光140更大。

參看圖2，示出了度量衡裝置200之實施方案。度量衡裝置200包括與控制系統250通信之第一偵測裝置220及第二偵測裝置230。第一偵測裝置220包括第一光偵測器222，且第二偵測裝置230包括第二光偵測器232。第一光偵測器222及第二光偵測器232中之每一者可包括光電二極體、光電晶體、光相依電阻及光電倍增管中之一或多者。在其他實施方案中，第一光偵測器222及第二光偵測器232中之每一個包括一或多個熱偵測器，諸如熱電偵測器、輻射熱計或校準的電荷耦合器件(CCD)或CMOS。

第一光偵測器222及第二光偵測器232之輸出係與由在各別第一光偵測器222及第二光偵測器232處偵測到的光產生之電流相關的各別信號223、233(諸如電壓信號)。第一光偵測器222及第二光偵測器232具有近似相等的檢視角度及收集角度。舉例而言，第一光偵測器222及第二光偵測器232之檢視角度及收集角度在XYZ座標系中可以近似相等。可以假設第一光偵測器222係線性偵測器，使得第一光偵測器222輸出之信號係與光140關聯的信號及與寬帶光學輻射142關聯的信號之線性疊加。類似地，可以假設第二光偵測器232亦係線性偵測器。

在一些實施方案中，第一光偵測器222及第二光偵測器232 使用相同的機制來偵測或感測光。在其他實施方案中，第一光偵測器222及第二光偵測器232使用不同的機制來偵測或感測光。第一光偵測器222及第二光偵測器232均應基於相同的依賴性來偵測光，使得控制系統250可以分別對自偵測器222、232輸出之信號223、233進行分析。

診斷系統205產生診斷光束206作為診斷探針106。診斷光束206經導引朝向軌跡TR，使得在當前目標110c穿過診斷光束206時，產生光140。在一些實施方案中，診斷光束206在近紅外區域中具有中心波長。舉例而言，光140可以係診斷光束206的一部分，其自當前目標110c反射或散射。第一偵測裝置220包括阻擋器件224，該阻擋器件224可以係具有透射範圍之光譜濾光器，該透射範圍包括由當前目標110c與診斷光束206之間的相互作用產生之光140的波長。舉例而言，如所示，阻擋器件224可以係帶通濾光器，其帶通△λ以診斷系統205之診斷光束206之波長為中心。如上所述，阻擋器件224不能抑制所有寬帶光學輻射142，且因此，此寬帶光學輻射142之至少很大一部分經由阻擋器件224洩漏並到達第一光偵測器222。

第二偵測裝置230亦包括阻擋器件234。阻擋器件234經組態以限制由當前目標110c與診斷光束206之間的相互作用產生之光140中之至少一些(或大部分)免於到達第二光偵測器232。舉例而言，阻擋器件234可以在目標空間115與第二光偵測器232之間的光學路徑上包括光譜濾光器，該光譜濾光器經組態以抑制由當前目標110c與診斷光束206之間的相互作用產生之光140。舉例而言，阻擋器件234可以係帶通濾光器，其帶通△λ與診斷光束206之中心波長失諧了一定量(諸如，約20至50奈米(nm))。因為由診斷光束206與當前目標110c之間的相互作用產生之光140 較弱且光譜上較窄(尤其相對於光142)，所以有可能運用阻擋裝置234阻擋或大大抑制光140至低於可接受的雜訊位準。此外，因為寬帶光學輻射142在光譜上非常寬(尤其相對於光140)，並且在近紅外範圍內亦緩慢變化，所以自寬帶光學輻射142洩漏至第二光偵測器232與自寬帶光學輻射142洩漏至第一光偵測器222的光功率量相同。

與由第一光偵測器222採樣之信號相比，由第二光偵測器232採樣之信號處於不同的光譜帶(或波長範圍)中，並且處於不同的空間位置。然而，可以假設由第二光偵測器232採樣之信號與由第一光偵測器222採樣之信號具有相同的時間依賴性。

在一些實施方案中，阻擋器件224係與第一光偵測器222分離的結構，且阻擋器件224獨立於第一光偵測器222操作，並且阻擋器件234係與第二光偵測器232分離的結構，且阻擋器件234獨立於第二光偵測器232操作。此係圖2中所示內容。替代地，阻擋器件224及第一光偵測器222可以積體成單個或整體器件，並且阻擋器件234及第二光偵測器232可以積體成單個或整體器件。舉例而言，整體器件可以係僅感測特定偏振或特定波長範圍之光的感測器。

接下來，提供其中實施度量衡裝置100(或200)之EUV光光源360之總體描述，接著論述度量衡裝置100或200之其他組件，隨後詳細論述度量衡裝置100或200之操作。

參看圖3A及圖3B，在EUV光光源360中實施度量衡裝置100(或200)以量測目標110之一或多種性質。EUV光光源360包括產生複數個111之目標110的目標遞送系統155。EUV光光源360將由目標110與輻射脈衝364之間的相互作用產生的EUV光362供應給輸出裝置366。如上所述，度量衡裝置100(或200)在當前目標110c沿著朝向目標空間115的軌跡TR行進時量測並分析當前目標110c之一或多種移動性質(諸如速率、速度及加速度)。目標空間115限定在EUV光光源360之腔室368內。軌跡TR沿著可視為目標(或軸向)方向之方向延伸，該方向位於由腔室368限定之三維X、Y、Z座標系中。如上所述，目標110之軸向方向通常具有與腔室368之座標系的-X方向平行的分量。然而，目標110之軸向方向亦可以具有沿著與-X方向垂直的Y及Z方向中之一或多個方向的分量。另外，由目標遞送系統155釋放之每個目標110可具有略微不同的實際軌跡，並且該軌跡取決於在釋放目標110之時目標遞送系統155之物理屬性以及腔室368內之環境。

EUV光光源360通常包括EUV光收集器370、光學源372、與光學源372通信的致動系統374、及與控制系統150以及目標遞送系統155、光學源372及致動系統374通信的控制裝置351。

EUV光收集器370收集儘可能多的自電漿144發射之EUV光361，並將該EUV光361作為收集的EUV光362重定向至輸出裝置366。光收集器370可以係反射光學器件，諸如曲面鏡，其能夠反射具有EUV波長之光(亦即，EUV光361)以形成所產生的EUV光362。

光學源372產生輻射脈衝光束364，並且通常沿著Z方向將輻射脈衝光束364導引至目標空間115(不過輻射脈衝光束364可以相對於Z方向成角度)。在作為示意性表示之圖3A中，將輻射脈衝光束364示為沿著-Y方向導引。光學源372包括：光源，其產生輻射脈衝364；光束遞送系統，其包括改變輻射脈衝364之方向或角度之光學操縱組件；以及聚焦總成，其將輻射脈衝光束364聚焦至目標空間115。例示性光學操縱組件包括光學元件，諸如透鏡及鏡面，其根據需要藉由折射或反射來操縱或導引輻射脈衝光束364。致動系統374可用於控制或移動光束遞送系統及聚焦總成之光學組件的各種特徵，以及調整產生輻射脈衝364之光源的態樣。下文參看圖5論述光學源372之實施方案。

致動系統374耦接至光學源372之組件，並且亦與控制裝置351通信並在該控制裝置控制下。致動系統374能夠修改或控制目標空間115中的輻射脈衝364與目標110之間的相對位置。舉例而言，致動系統374經組態以調整輻射脈衝364之釋放時序及輻射脈衝364行進之方向中之一或多者。

目標遞送系統155經組態以按特定速率釋放串流(或複數個111)之目標110。當判定對當前目標110c之移動性質(或多個性質)進行量測及分析所需的時間總量，以及基於該量測及分析影響對EUV光源360之其他態樣或組件的改變時，度量衡裝置100考慮此速率。舉例而言，控制系統150可以將量測及分析之結果傳達給控制裝置351，該控制裝置判定如何調整給致動系統374之一或多個信號，藉此調整導引至目標空間115之輻射脈衝364之一或多種特性。

對輻射脈衝364之一或多種特性的調整可以改善目標空間115中的目前目標110'與輻射脈衝364之間的相對對準。目前目標110'係在輻射脈衝364(其剛剛經調整)到達目標空間115之時已經進入目標空間115之目標。對輻射脈衝364之一或多種特性的此種調整改進了目前目標110'與輻射脈衝364之間的相互作用，且增加由此類相互作用產生之EUV光361的量。如圖3A所示，先前目標110p已經與先前輻射脈衝(圖中未展示)相互作用，以產生發射光142之電漿144。

在一些實施方案中，目前目標110'係當前目標110c。在此等實施方案中，對輻射脈衝364之一或多種特性的調整在相對較短的時間框內發生。相對較短的時間框意謂在完成對當前目標110c之移動性質的分析之後的時間至當前目標110c進入目標空間115的時間期間，調整輻射脈衝364之一或多種特性。由於能夠在相對較短的時間框內調整輻射脈衝364之一或多種特性，因此有足夠的時間影響當前目標110c(其移動性質剛剛經分析)與輻射脈衝364之間的相互作用。

在其他實施方案中，目前目標110'係另一目標，亦即除當前目標110c之外的並且在時間上繼當前目標110c後之目標。在此等實施方案中，對輻射脈衝364之一或多種特性的調整在相對較長的時間框內發生，使得影響當前目標110c(其移動性質剛剛被分析)與輻射脈衝364之間的相互作用係不可行的。另一方面，影響另一(或稍後的)目標與輻射脈衝364之間的相互作用係可行的。相對較長的時間框係長於完成當前目標110c之移動性質的分析之後的時間至當前目標110c進入目標空間115之時間的時間框。視相對較長的時間框而定，另一目標可以與當前目標110c相鄰。或者，另一目標可以與跟當前目標110c相鄰的中間目標相鄰。在此等其他實施方案中，假設另一目標(其並非當前目標110c)行進的移動性質與當前目標110c之經偵測或估計之移動性質足夠相似。

每一目標110(包括先前目標110p及當前目標110c，以及由目標遞送系統155產生的所有其他目標)包括當轉換成電漿時發射EUV光之材料。經由與由目標空間115內之光學源372產生的輻射脈衝364之相互作用，每一目標110至少部分地或大部分地轉換成電漿。由目標遞送系統155產生之每一目標110係包括目標材料及視情況存在之雜質(諸如非目標粒子)的目標混合物。目標材料為能夠轉換成具有在EUV範圍內之發射譜線之電漿狀態的物質。舉例而言，目標110可為液體或熔融金屬之小滴、液體串流之一部分、固體粒子或叢集、液滴內所含有之固體粒子、目標材料之發泡體，或液體串流之一部分內所含有之固體粒子。舉例而言，目標材料可包括水、錫、鋰、氙或在被轉換成電漿狀態時具有在EUV範圍內之發射譜線的任何材料。舉例而言，目標材料可為元素錫，其可用作純錫(Sn)；用作錫化合物，諸如SnBr4、SnBr2、SnH4；用作錫合金，諸如錫-鎵合金、錫-銦合金、錫-銦-鎵合金，或此等合金之任何組合。在不存在雜質之情形下，則每一目標110僅包括目標材料。本文中提供之論述係其中每一目標110係由諸如錫之熔融金屬製成的小滴之實例。然而，由目標遞送系統155產生之每一目標110可採取其他形式。

藉由將熔融目標材料傳遞通過目標遞送系統155之噴嘴且允許目標110沿著軌跡TR漂移至目標空間115中，可以將目標110提供至目標空間115。在一些實施方案中，可藉由力將目標110導引至目標空間115。如下文所論述，與輻射脈衝364相互作用之目前目標110'(其可為當前目標110c)亦可能已經與一或多個先前輻射脈衝相互作用。或者，與輻射脈衝364相互作用之目前目標110'可以在沒有與任何其他輻射脈衝相互作用之情況下到達目標空間115。

控制裝置351與控制系統150通信，並且亦與EUV光光源360之其他組件(諸如致動系統374、目標遞送系統155及光學源372)通信。參看圖4，示出控制裝置351之實施方案451，並且示出控制系統150之實施方案450。控制裝置451包括控制系統450，但是控制系統450可以與控制裝置451物理上分離並且仍然保持通信。此外，控制裝置451之特徵或組件可以與控制系統450共享，包括圖4中圖中未展示之特徵。

控制系統450包括信號處理模組452，該信號處理模組經組態以接收來自第一偵測裝置120之輸出及來自第二偵測裝置130之輸出。控制系統450包括與診斷系統105通信之診斷控制模組453。舉例而言，信號處理模組452自第一光偵測器222接收信號223及自第二光偵測器232接收信號233，其中信號223、233係與自在各別第一光偵測器222及第二光偵測器232處偵測到的光產生之電流有關的電壓信號。通常，信號處理模組452分析來自第一偵測裝置120及第二偵測裝置130之輸出，並基於此分析來判定當前目標110c之一或多種移動性質。診斷控制模組453控制診斷系統105之操作。舉例而言，診斷控制模組453可以向診斷系統105提供信號，以調整診斷系統105之一或多種特性，並且亦調整診斷探針106之一或多種特性。

信號處理模組452亦基於對當前目標110c之一或多種移動性質的判定，判定是否需要對自光學源372輸出之後續輻射脈衝364作出調整。且若需要調整，則信號處理模組452將適當信號發送至與致動系統374介接之光學源致動模組454。光學源致動模組454可以在控制裝置451內(如圖4所示)，或者亦可以將其積體在控制系統450中。

信號處理模組452可以包括一或多個場可程式化硬體電路，諸如場可程式化閘陣列(FPGA)。FPGA為經設計以在製造之後由客戶或設計者組態的積體電路。場可程式化硬體電路可以係接收一或多個時戳值、對所接收值執行計算且使用一或多個查找表來估計目前目標110'到達目標空間115之時間的專用硬體。詳言之，場可程式化硬體電路可用以快速地執行計算以在相對較短的時間框內實現對輻射脈衝364之一或多種特性的調整，從而實現對與當前目標110c相互作用之輻射脈衝364之一或多種特性的調整，該當前目標之移動性質恰好已由信號處理模組452分析。

控制裝置451亦包括經組態以與包括光束遞送系統及聚焦總成以及任何光學放大器之光學源372的組件介接之光學源模組456。控制裝置451包括經組態以與目標遞送系統155介接之目標遞送模組457。此外，控制裝置451及控制系統450可以包括經特定組態以與未繪示之EUV光光源360之其他組件介接的其他模組。

控制系統450通常包括或可以接取數位電子電路、電腦硬體、韌體及軟體中之一或多者。舉例而言，控制系統450可以接取記憶體458，該記憶體可為唯讀記憶體及/或隨機存取記憶體。適合於有形地體現電腦程式指令及資料之儲存器件包括所有形式之非揮發性記憶體，包括(作為實例)半導體記憶體器件，諸如EPROM、EEPROM及快閃記憶體器件；磁碟，諸如內部硬碟及抽取式磁碟；磁光碟；以及CD-ROM磁碟。控制系統450亦可包括一或多個輸入器件459i(諸如鍵盤、觸控螢幕、麥克風、滑鼠、手持型輸入器件等)及一或多個輸出器件459o(諸如揚聲器及監視器)或與其介接。

控制系統450亦可以包括或接取一或多個可程式化處理器，及有形地體現於機器可讀儲存器件中以供可程式化處理器執行之一或多個電腦程式產品。該一或多個可程式化處理器可各自執行指令程式以藉由對輸入資料進行操作及產生適當輸出而執行所要功能。通常，處理器自記憶體458接收指令及資料。前述任一者可由經特殊設計之特殊應用積體電路(ASIC)補充或併入於經特殊設計之特殊應用積體電路(ASIC)中。

此外，模組452、453、454、456、457中之任一或多者可包括其自身的數位電子電路、電腦硬體、韌體及軟體，以及專用記憶體、輸入及輸出器件、可程式化處理器及電腦程式產品。同樣地，模組452、453、454、456、457中之任一或多者可存取及使用記憶體458、輸入器件459i、輸出器件459o、可程式化處理器及電腦程式產品。

儘管控制系統450被展示為單獨且完整的單元，但其組件及模組中之每一者有可能為單獨單元。控制裝置451可以包括其他組件，諸如專用記憶體、輸入/輸出器件、處理器及電腦程式產品，在圖4中圖中未展示。

在一些實施方案中，光學源372包括一或多個光產生器及一或多個光學放大器系統，其中光學放大器系統自光產生器接收輸出，藉此產生輻射脈衝光束364。

在諸如圖5所示之一些實施方案中，光學源372經設計作為產生導引朝向目標空間115內之各別目標位置的初步輻射脈衝光束564A及主輻射脈衝光束564B的光學源572。

光學源572包括：第一光學放大器系統573_1，其包括初步輻射脈衝光束564A傳遞通過之一系列一或多個光學放大器；及第二光學放大器系統573_2，其包括主輻射脈衝光束564B傳遞通過之一系列一或多個光學放大器。來自第一系統573_1之一或多個放大器可在第二系統573_2中；或第二系統573_2中之一或多個放大器可在第一系統573_1中。替代地，有可能將第一光學放大器系統573_1與第二光學放大器系統573_2完全分離。

另外，儘管不需要，但光學源572可包括產生第一脈衝光束577_1之第一光產生器576_1及產生第二脈衝光束577_2之第二光產生器 576_2。光產生器576_1、576_2可各自為例如雷射、諸如主控振盪器之種子雷射，或燈。可用作光產生器576_1、576_2之例示性光產生器為可在為例如100kHz之重複率下操作之Q切換式、射頻(RF)泵浦、軸流、二氧化碳(CO₂)振盪器。

光學放大器系統573_1、573_2內之光學放大器各自在來自各別光產生器576_1、576_2之光束577_1、577_2傳播所沿著的各別光束路徑上含有增益介質。當激發光學放大器之增益介質時，該增益介質將光子提供至光束、放大光束577_1、577_2以產生經放大光束，經放大光束形成初步輻射脈衝光束564A或主輻射脈衝光束564B。

光束577_1、577_2或初步輻射脈衝光束564A及主輻射脈衝光束564B之波長可彼此相異，使得初步輻射脈衝光束564A及主輻射脈衝光束564B在其經組合於光學源572內之任何點處的情況下可彼此分離。若初步輻射脈衝光束564A及主輻射脈衝光束564B係由CO₂放大器產生，則初步輻射脈衝光束564A可具有為10.26微米(μm)或10.207μm之波長，且主輻射脈衝光束564B可具有為10.59μm之波長。該等波長經選擇為較容易實現使用色散光學器件或雙向色鏡或光束分裂器塗層進行光束564A、564B之分離。在光束564A、564B兩者一起傳播於同一放大器鏈中之情形(例如，光學放大器系統573_1之一些放大器處於光學放大器系統573_2中之情形)下，則相異波長可用以調整該兩個光束564A、564B之間的相對增益(儘管該兩個光束橫穿過相同放大器)。

舉例而言，光束564A、564B一旦經分離就可經操縱或聚焦至目標空間115內之兩個單獨的部位(諸如分別為第一目標部位515_1及第二目標部位515_2)。詳言之，光束564A、564B之分離亦使得目標510能夠在其自第一目標部位515_1行進至第二目標部位515_2時在與初步輻射脈衝光束564A相互作用之後擴展。

光學源572可包括光束路徑組合器578c，該光束路徑組合器將初步輻射脈衝光束564A與主輻射脈衝光束564B疊對且將該等光束564A、564B置放於針對光學源572與目標空間115之間的距離中之至少一些之同一光學路徑上。另外，光學源572可包括光束路徑分離器578s，該光束路徑分離器將初步輻射脈衝光束564A與主輻射脈衝光束564B分離使得該兩個光束564A、564B可分離地經操縱及聚焦於目標空間115內。

另外，初步輻射脈衝光束564A可經組態以具有少於主輻射脈衝光束564B之脈衝能量的脈衝能量。此係因為初步輻射脈衝564A用以修改目標510之幾何形狀，而主輻射脈衝564B用以將經修改目前目標轉換成電漿144。舉例而言，初步輻射脈衝564A之能量可比主輻射脈衝564B之能量小5至100倍。

在一些實施方案中，每一光學放大器系統573_1、573_2包括一組三個光學放大器，但可使用少至一個放大器或多於三個放大器。在一些實施方案中，每一系統573_1、573_2中之光學放大器中之每一者包括增益介質，該增益介質包括CO₂且可在約9.1微米與約11.0微米之間的波長下且尤其在約10.6微米下、在大於1000之增益下放大光。有可能以相似方式或在不同波長下操作每一系統573_1、573_2中之光學放大器。用於光學放大器系統573_1、573_2中之合適放大器及雷射可包括脈衝式雷射器件，諸如例如運用在相對高功率(例如10kW或更高)及高脈衝重複率(例如50kHz或更大)下操作的DC或RF激發產生處於約9.3微米或約10.6微米之輻射的脈衝式氣體放電CO₂放大器。可用於系統573_1、573_2中之每一者中的例示性光學放大器為運用無磨損氣體循環及電容RF激發之軸流高功率CO₂雷射。

另外，儘管不需要，但光學放大器系統573_1及573_2中之一或多者可包括充當前置放大器之第一放大器。前置放大器(若存在)可為擴散冷卻(diffusion-cooled)CO₂雷射系統。

光學放大器系統573_1、573_2可包括用於導引及塑形各別光束577_1、577_2之光學元件。舉例而言，光學放大器系統573_1、573_2可包括反射光學器件(諸如鏡面)、部分透射光學器件(諸如光束分裂器或部分透射鏡面)，及雙向色光束分裂器。

光學源572亦包括光學系統579，該光學系統可包括用於將光束577_1、577_2導引通過光學源572之一或多個光學器件(諸如，反射光學器件(諸如鏡面)、部分反射光學器件及部分透射光學器件(諸如光束分裂器)、折射光學器件(諸如稜鏡或透鏡)、被動光學器件、主動光學器件等)。

儘管光學放大器可為單獨且專用的系統，但光學放大器系統573_1之放大器中之至少一者有可能處於光學放大器系統573_2中，且光學放大器系統573_2之放大器中之至少一者有可能處於光學放大器系統573_1中。在放大器及光學器件中之至少一些在光學放大器系統573_1、573_2之間重疊的此類系統中，有可能的是初步輻射脈衝光束564A及主輻射脈衝光束564B耦合在一起，使得光束564A之一或多種特性之改變可導致光束564B之一或多種特性之改變，且反之亦然。

如所示，目標510之實例在目標空間115內與兩個輻射脈衝564A、564B相互作用。輻射脈衝564A、564B可以大體上沿Z方向導引。在第一目標位置515_1處的初步輻射脈衝564A與目標510之間的相互作用使目標510改變其形狀，從而在其移動通過目標空間115時變形並在幾何上擴展，並在其到達第二目標位置515_2時成為經修改目標510m。在第二目標位置515_2處的主輻射脈衝564B與經修改目標510m之間的相互作用將經修改目標510m的至少一部分轉換成會發射EUV光361之電漿144。目標510之一些材料可能當其與初步輻射脈衝564A相互作用時轉換成電漿。然而，選擇並控制初步輻射脈衝564A之性質，以使初步輻射脈衝564A對目標510的主要作用係目標510之幾何分佈的變形及修改。

初步輻射脈衝564A與目標510之間的相互作用導致材料自目標510之表面燒蝕，並且此燒蝕提供了使目標510變形之力，使得其形狀與目標510在與初步輻射脈衝564A相互作用之前的形狀不同。舉例而言，在與初步輻射脈衝564A相互作用之前，目標510之形狀可以與在離開目標遞送系統155時之小滴類似，而在與初步輻射脈衝564A相互作用之後，目標510之形狀變形以使經修改目標510m之形狀在其到達第二目標位置515_2時更接近圓盤的形狀(諸如煎餅形狀)。在與初步輻射脈衝564A相互作用之後，目標510可以係未經離子化之材料(並非電漿之材料)或經最低程度離子化之材料。在與初步輻射脈衝564A相互作用之後，目標510m可以係例如液體或熔融金屬之圓盤、沒有空隙或實質間隙之目標材料的連續段、微米粒子或奈米粒子霧、或原子蒸氣雲。

此外，導致材料自目標510之表面燒蝕的初步輻射脈衝564A與目標510之間的相互作用可提供一力，該力可使目標510沿著Z方向獲得一定的推進力或速率，如圖5所示。經修改目標510m在其沿著X方向自第一目標位置515_1行進至第二目標位置515_2時的擴展以及在Z方向上獲取的速率取決於初步輻射脈衝564A之能量，且尤其取決於遞送至目標510(亦即由該目標攔截)之能量。

如上所述，EUV光光源360基於對當前目標110c的所判定之一或多種移動性質的分析來調整被導引至目標空間115的輻射脈衝364之一或多種特性。因此，EUV光光源360可以調整初步輻射脈衝564A之一或多種特性、主輻射脈衝564B之一或多種特性、或初步輻射脈衝564A及主輻射脈衝564B兩者之一或多種特性。

參看圖6A，在一些實施方案中，診斷系統105經設計作為診斷系統605A。診斷系統605A自光源607A產生單個診斷光束606A作為一或多個診斷探針106。診斷光束606A經導引作為光幕以在位置x處越過軌跡TR，使得目標110中之每一者在其到達目標空間115之途中穿過光幕。光源607A產生單個光束611A，其經導引通過一或多個光學元件608A(諸如鏡面、透鏡、光圈及/或濾光器)，該一或多個光學元件修改光束611A以形成單個診斷光束606A。

光源607A可為固態雷射，諸如YAG雷射，YAG雷射可為以1070nm且在50W功率下操作之摻釹YAG(Nd：YAG)雷射。在此實例中，在當前目標110c在時間t穿過第一診斷光束606A時，至少一些診斷光束606A自當前目標110c反射或散射以形成光640A，其由度量衡裝置100(藉助於第一偵測裝置120)偵測到。度量衡裝置100使用此資訊(結合來自第二偵測裝置130之資訊)來估計目前目標110'到達目標空間115之時間，並因此調整輻射脈衝364之特性，以確保輻射脈衝364在目標空間115中與目前目標110'相互作用。度量衡裝置100亦可以依賴於關於目前目標110'之路徑的一些假設來執行計算，以估計目前目標110'到達目標空間115之時間。舉例而言，度量衡裝置100可以在沿著軌跡TR之特定點處假設目前目標110'的特定速度。

診斷光束606A可以為高斯光束，因此可使用高斯函數描述其光學強度之橫向剖面。診斷光束606A之焦點或光束腰可經組態以在軌跡TR或-X方向處重疊。此外，光學元件608A可以包括折射光學器件，該折射光學器件確保診斷光束606A之焦點(或光束腰)與軌跡TR重疊。

參看圖6B，在一些實施方案中，診斷系統105經設計作為診斷系統605B。診斷系統605B產生兩個診斷光束606B_1及606B_2作為一或多個診斷探針106。診斷光束606B_1經導引作為第一光幕以在第一位置(例如，沿著X軸之位置x1)處越過軌跡TR，使得目標110中之每一者在其到達目標空間115之途中穿過第一光幕。診斷光束606B_2經導引作為第二光幕以在第二位置(例如，沿著X軸之位置x2)處越過軌跡TR，使得目標110中之每一者在其到達目標空間115之途中且在已穿過第一光幕之後穿過第二光幕。診斷光束606B_1、606B_2在軌跡TR處以等於x2-x1的距離△x分開。此雙幕診斷系統605B不僅可以用於判定目標110之位置及到達資訊，而且亦可以用於判定目標110之速率或速度。

在一些實施方案中，診斷系統605B包括產生單個光束611B之單個光源607B及接收單個光束以及將光束611B分裂成兩個診斷光束606B_1、606B_2之一或多個光學元件608B。另外，光學組件608B可以包括用於將診斷光束606B_1、606B_2沿著軌跡TR導引朝向各別位置x1、x2的組件。

在一些實施方案中，光學組件608B包括光束分裂器，該光束分裂器將來自單個光源607B之單個光束分裂成兩個診斷光束606B_1、606B_2。舉例而言，光束分裂器可以係介電鏡、光束分裂器立方體或偏振光束分裂器。光學組件608B中之一或多個可以係反射光學器件，其經置放以重定向診斷光束606B_1、606B_2中之一者或兩者，使得兩個診斷光束606B_1、606B_2均導引朝向軌跡TR。

在其他實施方案中，光學組件608B包括分裂光學器件(諸如繞射光學器件或二元相位繞射光柵、雙折射晶體、強度光束分裂器、偏振光束分裂器或雙向色光束分裂器)及折射光學器件，諸如聚焦透鏡。光束611B經導引通過分裂光學器件，該分裂光學器件將光束611B分成兩個光束，該兩個光束沿著不同的方向行進並且經導引通過折射光學器件以產生診斷光束606B_1、606B_2。分裂光學器件可以分裂光束611B，使得診斷光束606B_1、606B_2在軌跡TR處分開設定距離(例如，沿著X方向0.65mm)。在此實例中，x2-x1=0.65mm。此外，折射光學器件可以確保每個診斷光束606B_1、606B_2之焦點(或光束腰)與軌跡TR重疊。

如此實例中所示，導引診斷光束606B_1、606B_2，使得其在不同位置x1、x2處與軌跡TR相交，但通常相對於X軸以大致相似的角度相交。舉例而言，診斷光束606B_1、606B_2相對於X軸成約90°導引。在其他實施方案中，可以使用分裂光學器件及折射光學器件來調整診斷光束606B_1、606B_2相對於X軸導引的角度，以使其導引朝向軌跡TR散開並以不同及相異的角度與軌跡TR相交。舉例而言，診斷光束606B_1可以相對於-X方向以約90°與軌跡TR相交，而診斷光束606B_2可以相對於-X方向以小於90°的角度與軌跡TR相交。

診斷光束606B_1、606B_2中之每一者可以為高斯光束，因此可使用高斯函數描述每一診斷光束606B_1、606B_2之光學強度之橫向剖面。每一診斷光束606B_1、606B_2之焦點或光束腰可經組態以在軌跡TR或-X方向處重疊。

光源607B可為固態雷射，諸如YAG雷射，YAG雷射可為以1070nm且在50W功率下操作之摻釹YAG(Nd：YAG)雷射。在此實例中，當前目標110c在時間t1(及位置x1)穿過第一診斷光束606B_1，並且至少一些診斷光束606B_1自當前目標110c反射或散射以形成光640B_1(作為光140)，其由度量衡裝置100(藉助於第一偵測裝置120)偵測到。另外，當前目標110c在時間t2(及位置x2)穿過第二診斷光束606B_2，至少一些診斷光束606B_2自當前目標110c反射或散射以形成光640B_2(作為光140)，其由度量衡裝置100(藉助於第一偵測裝置120)偵測到。

可以依據目標110自目標遞送系統155釋放之速率以及目標110之尺寸及材料來調整或定製軌跡TR處的診斷光束606B_1、606B_2之間的間隔△d。舉例而言，分離度△d可小於相鄰目標110之間的間距。作為另一個實例，分離度△d可基於相鄰目標110之間的間距而加以判定或設定以提供基於診斷光束606B_1、606B_2與當前目標110c之間的相互作用而執行之量測之較大精度。在一定程度上且一般而言，分離度△d愈大，執行之量測中之精度愈高。舉例而言，分離度△d可介於約250微米與800微米之間。

診斷光束606B_1、606B_2與當前目標110c之間的相互作用使得控制系統150能夠判定當前目標110c沿著-X方向之移動性質，諸如速度V。亦有可能判定遍及許多目標之速度V或改變速度V之趨勢。若作出關於當前目標110c之運動之一些假定，則亦有可能僅使用診斷光束606B_1、606B_2來判定當前目標110c沿著-X方向之移動性質之改變。

診斷系統產生的診斷光束106(諸如診斷光束206、診斷光束606A及診斷光束606B_1、606B_2)之波長應與光學源372產生的輻射脈衝364之波長足夠不同，以便阻擋裝置234可以阻擋自當前目標110c反射之光140以及來自輻射脈衝364之任何雜散光，同時使寬帶光學輻射142能夠穿過。在一些實施方案中，診斷光束206、606A、606B_1、606B_2之波長係532nm或1550nm。

參看圖7，利用度量衡裝置100(或200)執行程序700以估計當前目標110c之一或多種性質。最初，度量衡裝置100使得診斷系統105與當前目標110c之間能夠實現相互作用(705)。在當前目標110c越過診斷探針106之路徑時，在一或多個診斷探針(諸如診斷探針106、診斷光束206)、診斷光束606A或診斷光束606B_1、606B_2與當前目標110c之間可存在此相互作用。舉例而言，控制系統150可以經組態以向診斷系統105發送信號，從而產生診斷探針106，該診斷探針與X軸交叉，且因此在當前目標110c導引朝向目標空間115釋放時處於該當前目標之路徑中。

度量衡裝置100在第一偵測區域處偵測第一光(710)。第一光包括由先前目標110p產生的電漿144發射之寬帶光學輻射(光142)。第一光包括由當前目標110c與診斷系統105之間的相互作用產生之光140。舉例而言，第一偵測裝置220可以偵測第一光。在此實例中，在第一光偵測器222處偵測第一光，該第一光偵測器可以視為第一偵測區域。自偵測到的第一光產生第一信號(諸如信號223)，並且將此第一信號223導引至控制系統150、250。自當前目標110c與診斷系統105之間的相互作用產生之光140可以包括由當前目標110c反射之診斷探針106的光。

參看圖8，示出第一信號823之實例。第一信號823係與自在第一光偵測器222處偵測到的光產生之電流相對於時間有關的電壓信號。在此實例中，第一光偵測器222設置有阻擋器件224，該阻擋器件透射中心波長與光140之中心波長相對應的光，並且阻擋器件224之透射頻寬為約10-20nm。第一信號823顯示強度與由當前目標110c與診斷系統105之間的相互作用產生之光140相關的峰823_1，以及強度與由鄰近當前目標110c之目標110與診斷系統105之間的相互作用產生之光140相關的峰823_2。第一信號823亦顯示強度與光142相關之峰823_3、823_4。自此實例中明顯看出，由於寬帶光學輻射142產生之峰823_3、823_4的強度或幅度大約為由於診斷光140產生之峰823_1、823_2的強度或幅度。

通常，自第一光偵測器222輸出之信號223的形狀可以波動及改變，視第一光偵測器222及阻擋器件224中之各種參數而定。圖8所示之信號823僅提供信號223看起來可能像什麼之一個實例。信號223之其他形狀係可能的。

再次參看圖7，度量衡裝置100在第二偵測區域處偵測第二光(715)。第二光包括由先前目標110p產生的電漿144發射之寬帶光學輻射(光142)。阻止大部分的光140到達第二偵測區域。例如，第二偵測裝置230可以偵測第二光。在此實例中，在第二光偵測器232處偵測第二光，該第二光偵測器可以視為第二偵測區域。自偵測到的第二光產生第二信號(例如信號233)，並且將此第二信號233導引至控制系統150、250。可以運用阻擋裝置234基於診斷光140之光譜性質、偏振性質及空間性質中之一或多種來阻擋診斷光140，如下文更詳細地論述。

參看圖8，示出第二信號833之實例。第二信號833係與自在第二光偵測器232處偵測到的光產生之電流相對於時間有關的電壓信號。在此實例中，第二光偵測器232設置有阻擋器件234，該阻擋器件透射中心波長自光140之中心波長偏移50nm之光，並且阻擋器件234之透射頻寬為約10-20nm。第二信號833僅顯示強度與光142相關之峰823_3、823_4，因為阻擋器件234已經阻擋大部分診斷光140。阻擋器件234不必阻擋100%之光140；相反，阻擋器件234僅需要阻擋足夠之光140以獲得與光142相關的峰之清晰表示，使得第二信號833可用於在以下步驟中自第一信號823去除由於光142產生的信號。

在一些實施方案中，在前面的(例如，緊接著前面的)目標110與先前輻射脈衝364相互作用期間或之後，度量衡裝置100偵測第一光(710)及第二光(715)。通常，度量衡裝置100偵測彼此平行的第一光(710)及第二光(715)。亦即，來自各別第一偵測裝置220及第二偵測裝置230之信號223、233(以下分別稱為S1(t)及S2(t))均連續發送至控制系統250，並在同一時間t獲取。

度量衡裝置100基於由偵測到的第一光產生之第一信號及由偵測到的第二光產生之第二信號來產生分析信號(720)。舉例而言，參看圖8以及參看圖4，信號處理模組452分別自第一光偵測器222及第二光偵測器232接收第一信號823及第二信號833。信號處理模組452自第一信號823電子減去第二信號833以獲得分析信號880。信號處理模組452可以藉由將第一信號823及第二信號833中之每一者數位化來執行電子減法，接著運算每組樣品點(呈各別數位化信號形式)之間的差。在其他實施方案中，信號處理模組452使用類比電子裝置執行電子減法。

信號處理模組452可以基於與由偵測到的第二光產生之第二信號有關的假設來執行減法。特定言之，可以假設乘性增益因子可以由信號處理模組452估計及存取。舉例而言，乘性增益因子可以作為輸入參數來估計並且儲存在記憶體458中以供信號處理模組452存取。作為另一實例，可以經由在線量測以動態方式估計乘性增益因子，該在線量測適當地縮放由偵測到的第二光產生之第二信號，使得當執行減法時，來自光142之信號的一部分經有效地取消或實質上減少。乘性增益因子將在下文更詳細地論述。

分析信號880含有診斷光140的表示，而不需要時間閘控以將診斷光140與寬帶光學輻射142隔離。分析信號880包括分別對應於第一信號823之峰823_1、823_2的峰880_1、880_2。

基於此分析信號來估計當前目標110c之一或多種性質(725)。舉例而言，信號處理模組452可以對分析信號880進行處理或分析以估計當前目標110c(或目前目標110')到達空間中特定位置(諸如目標空間115內之區域)之時間，從而估計當前目標110c之速率、速度或加速度，或估計當前目標110c到達空間中特定位置與另一目標到達空間中該特定位置之間的時間間隔。

分析信號880之形狀與入射在第一光偵測器222上之光140的量或強度相關。舉例而言，信號處理模組452可以將分析信號880轉換成與偵測到的光之最大強度對應的一組值。可以將每個最大強度之值加數位時戳，接著將其用於判定當前目標110c之一或多種移動性質。

舉例而言，信號處理模組452可以包括時間模組，該時間模組接收分析信號880並且對每一個別電壓峰880_1、880_2加數位時戳。電壓峰880_1對應於在當前目標110c與診斷探針106相互作用時之時間，電壓峰880_2對應於在鄰近目標與診斷探針106相互作用時之時間。舉例而言，在圖8中示出時戳t_1及t_2。

時戳t_1及t_2之位置可以由信號處理模組452選擇，從而大體上對應於各別峰880_1、880_2之中心位置。舉例而言，在一些實施方案中，信號處理模組452可以經組態以對來自第一光偵測器222(其可以係光電二極體)之瞬態峰信號823進行低通濾波，信號處理模組452可以判定經濾波信號之時間導數，並使用導數之零交叉點來估計峰880_1之中心在何處，並將該位置選擇為t_1。在其他實施方案中，信號處理模組452可選擇半最大交叉點之中點的位置作為t_1之位置。瞬態峰信號823_1之形狀可以視當前目標110c之形狀而有所不同(例如，目標110在其沿著其軌跡行進時會經歷形狀振盪)，且因此在一些實施方案中，信號處理模組452可能對質心而不對瞬態峰信號823之形狀敏感。

此等時戳接著可以用於判定當前目標110c之移動性質。信號處理模組452亦可以存取儲存在記憶體458中之與當前目標110c或診斷系統105有關之其他資料。舉例而言，記憶體458可以儲存與跟當前目標110c相關之先前速度有關的資訊。記憶體458可以在診斷系統經設計成為圖6B之雙光束診斷系統605B時儲存與診斷光束606B_1、606B_2之間的間隔△d有關之資訊，或者可以儲存診斷探針106與每個目標相互作用之位置。

信號處理模組452可以使用自圖6B之雙光束診斷系統605B輸出之時戳來判定當前目標110c之速率或速度。

信號處理模組452可以判定目前目標110'(其可以係當前目標110c)將在目標空間115內之位置處的預計時間。信號處理模組452能夠藉由使用估計的速度及儲存在記憶體458中之其他資訊來判定目前目標110'到達目標位置之預計時間。特定言之，記憶體458可以儲存診斷光束606B_2與當前目標110c之軌跡TR的相交點與沿著X方向在目標空間115中的目標位置之間的距離。信號處理模組452可以判定當前目標110c穿過診斷光束606B_2之路徑的時間。因此，信號處理模組452可以將當前目標110c到達目標空間115中之目標位置估計或判定為儲存距離除以估計速度。

來自信號處理模組452之一或多個輸出可以視為控制信號，並且被導引至光學源致動模組454，該光學源致動模組與致動系統374介接。來自信號處理模組452之控制信號提供指令，該等指令引起致動模組454調整致動系統374之態樣，藉此調整一或多個輻射脈衝364之釋放時序及輻射脈衝364行進之方向中之一或多者。

在一些實施方案中，若阻擋器件224、234未能充分地及物理上區分診斷光140與寬帶光學輻射142，則信號處理模組452可以執行附加處理以區分第一信號823中之診斷光140與寬帶光學輻射142。此附加處理起作用之一個原因係分別在第一光偵測器222及第二光偵測器232上之兩個信號223、233之間的區別上存在差異。亦即，偵測器中之一者(諸如第一光偵測器222)比另一偵測器(第二光偵測器232)感測或偵測更多的寬帶光學輻射142。另外，信號223、233之時間依賴性相同。舉例而言，若信號223表示為S1(t)並且信號233表示為S2(t)，則若S1(t)=a*f(t)+b且S2(t)=c*f(t)+d，其中a、b、c、d係常數，則信號通常具有相同的時間依賴性f(t)。亦即，存在的S1及S2之所有時間導數(dS1/dt、dS2/dt等)均係相同的，直至恆定乘性因子。

特定言之，信號S1(t)及S2(t)可以根據與診斷光140及寬帶光學輻射142有關之信號來表示，如下。若將來自診斷光140之信號表示為d(t)，則將寬帶光學輻射142表示為p(t+t')，其中t係時間且t'係產生診斷光140與寬帶光學輻射142之間的延遲。根據第一光偵測器222之靈敏度，在第一光偵測器222處偵測到的信號S1(t)係此兩個信號之線性疊加，如下：S1(t)=e*d(t)+f*p(t+t')，其中e及f係由阻擋器件224、第一光偵測器222以及診斷光140及寬帶光學輻射142之光譜判定的固定常數。根據第二光偵測器232之靈敏度，在第二光偵測器232處偵測到的S2(t)係此兩個信號之線性疊加，如下：S2(t)=g*d(t)+h*p(t+t')，其中g及h係由阻擋裝置234、第二光偵測器232以及診斷光140及寬帶光學輻射142之光譜判定的固定常數。

診斷光140d(t)可以藉由求解線性方程式來求解：d(t)=[S1(t)-S2(t)-(f-h)*p(t+t')]/(e-g)。

信號S1及S2係各別光偵測器222、232之輸出處的原始信號223、233。可以自由選擇至少一個信號(諸如S1)之使用者變數乘性增益因子「a」，則：d(t)=[S1(t)-a*S2(t)-(f-a*h)*p(t+t')]/(e-a*g)。

若使用者選擇a=f/h，則：d(t)=[S1(t)-(f/h)*S2(t)]/(e-f*g/h)，其對來自寬帶光學輻射142之信號p(t+t')不敏感。

在諸如圖6C所示之其他實施方案中，代替在診斷系統 605B中具有諸如光源607B之單個光源，診斷系統605C包括一對光源607C_1、607C_2(諸如兩個雷射)，各自分別產生光束611C_1、611C_2。光束611C_1、611C_2中之每一者穿過各別一或多個光學元件608C_1、608C_2，此等光學元件可以改變或調整光束611C_1、611C_2之特性。一或多個光學元件中之每一者的輸出係各別診斷光束606C_1、606C_2。光學組件608C_1、608C_2可以包括用於將各別診斷光束606C_1、606C_2沿著軌跡TR導引朝向各別位置x1、x2之組件。上面參考光學組件608B論述光學組件608C_1、608C_1之實例。

診斷光束606C_1、606C_2中之每一者可以為高斯光束，因此可使用高斯函數描述每一診斷光束606C_1、606C_2之光學強度之橫向剖面。每一診斷光束606C_1、606C_2之焦點或光束腰可經組態以在軌跡TR或-X方向處重疊。

每個光源607C_1、607C_2可為固態雷射。在一個實例中，固態雷射係YAG雷射，諸如以1010nm-1070nm的範圍且在瓦特趨勢範圍內的功率下操作之摻釹YAG(Nd：YAG)雷射。在另一實例中，固態雷射係摻鐿光纖雷射，其以1010nm-1070nm的範圍操作，例如在1020nm下或在1070nm下，取決於其他考慮因素。在此實例中，與圖6B之設計類似，當前目標110c在時間t1(及位置x1)穿過第一診斷光束606C_1，並且至少一些診斷光束606C_1自當前目標110c反射或散射以形成光640C_1(作為光140)，其由度量衡裝置100(藉助於第一偵測裝置120)偵測到。另外，當前目標110c在時間t2(及位置x2)穿過第二診斷光束606C_2，至少一些診斷光束606C_2自當前目標110c反射或散射以形成光640C_2(作為光140)，其由度量衡裝置100(藉助於第一偵測裝置120)偵測到。

可以依據目標110自目標遞送系統155釋放之速率以及目標110之尺寸及材料來調整或定製軌跡TR處的診斷光束606C_1、606C_2之間的間隔△d。舉例而言，分離度△d可小於相鄰目標110之間的間距。作為另一個實例，分離度△d可基於相鄰目標110之間的間距而加以判定或設定以提供基於診斷光束606C_1、606C_2與當前目標110c之間的相互作用而執行之量測之較大精度。在一定程度上且一般而言，分離度△d愈大，執行之量測中之精度愈高。舉例而言，分離度△d可介於約250微米與800微米之間。

診斷光束606C_1、606C_2與當前目標110c之間的相互作用使得控制系統150能夠判定當前目標110c沿著-X方向之移動性質，諸如速度V。亦有可能判定遍及許多目標之速度V或改變速度V之趨勢。若作出關於當前目標110c之運動之一些假定，則亦有可能僅使用診斷光束606C_1、606C_2來判定當前目標110c沿著-X方向之移動性質之改變。

診斷系統605C產生的診斷光束606C_1、606C_2之波長應與光學源372產生的輻射脈衝364之波長足夠不同，以便阻擋裝置234可以阻擋自當前目標110c反射之光640C_1、640_C2以及來自輻射脈衝364之任何雜散光，同時使寬帶光學輻射142能夠穿過。在一些實施方案中，診斷光束606C_1、606C_2之波長係532nm或1550nm。

亦參看圖9，在另一實施方案中，在圖2所示的度量衡裝置200中實施之阻擋器件224及234可以經設計作為偏振濾光器924、934，而並非光譜濾光器。以此種方式，在度量衡裝置900中，使用偏振來區分經阻擋之光與經允許穿過而到達光偵測器之光。在此實施方案中，由診斷光束906與當前目標110c之間的相互作用產生之診斷光940經偏振。因為診斷光束906具有特定的偏振，所以此診斷光940可以經偏振。或者，可以使診斷光束906穿過偏振器941以純化診斷光束906之偏振狀態。相反，寬帶光學輻射142由於其性質而未經偏振。在此實例中，阻擋器件924係平行於診斷光940之偏振取向的偏振濾光器，並且將寬帶光學輻射142衰減一半(因為寬帶光學輻射142係非偏振的)。視偏振濾光器924及診斷光940之偏振矢量方向之間的角度而定，可以將診斷光140衰減可變的量。診斷光940可能沒有被完全偏振，尤其在自目標110散射之後。診斷光940之偏振可以視第一偵測裝置920及第二偵測裝置930相對於診斷探針906之方向及軌跡的視角而定。另一方面，阻擋器件934係正交於診斷光940之偏振取向的偏振濾光器，使得僅非偏振寬帶光學輻射142穿過第二偵測器932，且此外，此非偏振寬帶光學輻射142將衰減一半。

在此實施方案中，自各別偵測裝置920、930輸出之信號923、933將與圖8所示的各別信號823、833非常相似，並且信號923、933之處理與關於信號823、833所描述的相似地進行。

在度量衡裝置1000之其他實施方案中，如圖10所示，在圖2所示的度量衡裝置200中實施之阻擋器件224及234可以經設計以各自包括串聯佈置且同時使用的光譜濾光器(諸如光譜濾光器224、234)及偏振濾光器(諸如偏振濾光器924、934)。此類設計可以增加由阻擋器件234阻擋之診斷光140的量。

在其他實施方案中，可以將在圖2所示的度量衡裝置200中實施之阻擋器件224、234設計為空間濾光器，而並非光譜濾光器。可以區分的兩個空間位置與垂直於偵測裝置220、230之光瞳或入口的向量成兩個略微不同的角度。每個阻擋器件224、234包括置放在光瞳位置之透鏡，並且兩個稍有不同的角度將轉換為該透鏡焦點附近的位置。每個阻擋器件224、234包括遮罩(其限定諸如狹縫或孔隙的開口)，該遮罩置放在透鏡與各別光偵測器222、232之間，使得診斷光140通過並且阻擋寬帶光學輻射142(或相反亦然)。

參看圖11，在EUV光光源1160之實施方案中示出度量衡裝置100之實施方案1100。EUV光光源1160包括將目標1110之串流1111導引朝向腔室1168中之目標空間1115的目標遞送系統1155。目標空間1115接收自光學源1172(在致動系統1174的控制下)產生之放大輻射脈衝1164的光束或光列。如上所述，每個目標1110包括當其轉換成發光電漿1144時發射EUV光1161之材料。目標110內之物質與目標空間1115內之輻射脈衝1164之間的相互作用將目標1110中的至少一些物質轉換成發光電漿1144，並且該發光電漿1144發射EUV光1161。如上所述，發光電漿1144發射寬帶光學輻射1142，其包括EUV光1161，因為發光電漿1144具有在EUV波長範圍內具有發射譜線之元件。

發光電漿1144可以視為具有數十電子伏特(eV)之電子溫度的高度電離電漿。可以使用除錫之外的諸如鋱(Tb)及釓(Gd)的燃料材料(目標1110)來產生較高能量的EUV光1161。在離子之去激發及複合期間產生的EUV光1161自發光電漿1144發射，並且此EUV光1161之至少一部分利用光學元件1170(EUV光收集器)收集。EUV光收集器1170包括與所發射的EUV光1161之至少一部分相互作用的表面1171。EUV光收集器1170之表面1171可以係反射表面，該反射表面經定位以接收發射的EUV光1161之一部分，並利用輸出裝置1166(其可以係微影裝置)導引此收集到的EUV光1161以便在EUV光光源1160之外使用。反射表面1171將所收集的EUV光1161導引至第二焦平面，接著在其中捕獲EUV光1161以供輸出裝置1166使用。例示性微影裝置將參看圖12及圖13進行論述。

反射表面1171經組態以反射EUV波長範圍內之光，並且可以吸收、擴散或阻擋EUV波長範圍外之光。EUV光收集器1170亦包括孔隙1173，該孔隙允許輻射脈衝1164導引朝向目標空間1115穿過EUV光收集器1170。

目標遞送系統1155可包括小滴產生器，該小滴產生器佈置在EUV腔室1168內，並佈置成將小滴(目標1110)之高頻串流1111射向目標空間1115。在操作中，輻射脈衝1164與小滴產生器之操作同步遞送，從而遞送輻射脈衝1164以將每個小滴(每個目標1110)轉變成發光電漿1144。小滴之遞送頻率可以係幾千赫茲，例如50kHz。

在一些實施方案中，如以上參看圖5所論述的，來自輻射脈衝1164之能量改為以至少兩個脈衝遞送：亦即，具有有限能量的預脈衝(諸如564A)最初在目標空間1115中之第一目標位置515_1處遞送至小滴，以便將燃料材料蒸發成小雲，該小雲繼續沿著軌跡行進，接著將能量的主脈衝(諸如564B)在目標空間1115中之第二目標位置515_2處遞送至雲中，從而產生發光電漿1144。可以在EUV腔室1168之相對側設置陷阱(其可以係例如容器)，以捕獲無論出於何種原因均沒有變成電漿之此燃料(亦即，目標物質或目標1110)。

目標遞送系統1155中之小滴產生器包括容納燃料液體(例如，熔融錫)之容器以及過濾器及噴嘴。噴嘴經組態以導引朝向目標空間1115噴射燃料液體之小滴。燃料液體之小滴可自噴嘴藉由儲集器內之壓力與由壓電致動器(圖中未繪示)施加至噴嘴之振動之組合而噴射。

度量衡裝置1100包括與第一偵測裝置1120及第二偵測裝置1130以及診斷系統1105通信之控制系統1150(諸如控制系統150)，該診斷系統位於腔室1168內的適當位置以使得診斷探針1106能夠與目標1110相互作用。EUV光光源1160包括控制裝置1151，該控制裝置亦與控制系統1150以及EUV光光源1160之其他組件(包括光學源1172、致動系統1174及目標遞送系統1155)通信。如上所述，度量衡裝置1100經設計以區分由診斷探針1106與當前目標1110c之間的相互作用產生之診斷光1140與由發光電漿1144發射的寬帶光學輻射1142。

參看圖12，在一些實施方案中，度量衡裝置100(或200、1100)在將EUV光1262供應給微影裝置1266(輸出裝置366)之EUV光光源1260內實施。微影裝置1266包括照明系統(照明器)IL，其經組態以調整輻射光束B(例如，EUV光1262)；支撐結構(例如，遮罩台)MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如，遮罩或倍縮光罩)MA，並且連接至經組態以準確地定位圖案化器件之第一定位器PM；基板台(例如，晶圓台)WT，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，並且連接至經組態以準確地定位基板之第二定位器PW；以及投影系統(例如，反射投影系統)PS，其經組態以將由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如包括一或多個晶粒)上。

照明系統IL可包括用於導引、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。支撐結構MT以取決於圖案化器件MA之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如圖案化器件MA是否被固持於真空環境中)之方式來固持該圖案化器件MA。支撐結構MT可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化器件MA。支撐結構MT可為例如框架或台，其可根據需要而固定或可移動。支撐結構MT可確保圖案化器件例如相對於投影系統PS處於所要位置。

術語「圖案化器件」應被廣泛地解譯為係指可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中產生圖案的任何器件。被賦予至輻射光束之圖案可對應於目標部分中產生之器件(諸如積體電路)中之特定功能層。圖案化器件可為透射的或反射的。圖案化器件之實例包括遮罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。遮罩在微影中係熟知的，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之遮罩類型，以及各種混合式遮罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣佈置，該等小鏡面中之每一者可個別地傾斜以便使入射輻射光束在不同方向上反射。傾斜鏡面在由鏡面矩陣反射之輻射光束中賦予圖案。

如照明系統IL一樣，投影系統PS可以包括適於所使用之曝光輻射或適於諸如真空之使用之其他因素的各種類型之光學組件，諸如折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。由於其他氣體可能吸收太多的輻射，因此可能需要將真空用於EUV輻射。因此，藉助於真空壁及真空泵可以為整個光束路徑提供真空環境。

如此處所描繪，該裝置屬於反射類型(例如使用反射遮罩)。

微影裝置可屬於具有兩個(雙載物台)或多於兩個基板台(及/或兩個或多於兩個圖案化器件台)之類型。在此類「多載物台」機器中，可並行地使用額外台，或可在一或多個台上進行預備步驟，同時將一或多個其他台用於曝光。

亦參看圖13，照明器IL自EUV光光源1260接收EUV輻射光束(EUV光1262)。產生EUV光之方法包括但不限於運用在EUV範圍內之一或多個發射譜線而將具有至少一種元素(例如氙、鋰或錫)之材料轉換成電漿狀態。在一種此類方法(常常稱為雷射產生電漿「LPP」)中，可藉由運用雷射光束照射燃料(例如，具有所需譜線發射元素之材料之小滴、串流或叢集)而產生所需電漿。EUV光光源1260可以如EUV光光源360或1160一樣設計。如上所述，所得電漿144或1144發射輸出輻射，例如EUV輻射361或EUV光1161，該輸出輻射使用光學元件370或1170收集。

如圖12及圖13兩者所示，輻射光束B入射於被固持於支撐結構(例如，遮罩台)MT上之圖案化器件(例如，遮罩)MA上，且係利用該圖案化器件進行圖案化。在自圖案化器件(例如，遮罩)MA反射之後，輻射光束B穿過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分上。基板之座標系由X_w、Y_w、Z_w給出。憑藉第二定位器PW及位置感測器PS2(例如干涉器件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT，例如以便使不同目標部分定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一定位器PM及另一位置感測器PS1可用以相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化器件(例如，遮罩)MA。圖案化器件(例如，遮罩)MA及基板W可使用圖案化對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2對準。

所描繪裝置可用於以下模式中之至少一者中：

1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分上時，使支撐結構(例如，遮罩台)MT及基板台WT保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT在X_w及/或Y_w方向上移位，使得可曝光不同目標部分。

2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分上時，同步地(例如，沿著X_w及/或Y_w方向)掃描支撐結構(例如，遮罩台)MT及基板台WT(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT相對於支撐結構(例如，遮罩台)MT之速度及方向。

3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分上時，使支撐結構(例如，遮罩台)MT保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件MA，且移動或掃描基板台WT。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源且在基板台WT之每一移動之後或在掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列)之無遮罩微影。

亦可使用上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。

圖13更詳細地示出了微影裝置1266之實施方案，包括EUV光光源1260、照明系統IL及投影系統PS。當描述EUV光光源360或1160時，EUV光光源1260如上所述建構及佈置。

系統IL及PS同樣被容納在其自己的真空環境中。EUV光光源1260之中間焦點(IF)經佈置以使得其位於封閉結構中之孔處或附近。虛擬源點IF係輻射發射電漿(例如，EUV光362或1162)之影像。

自中間焦點IF處之孔隙，輻射光束1262橫穿照明系統IL，照明系統IL在此實例中包括琢面化場鏡面器件IL1及琢面化光瞳鏡面器件 IL2。此等器件形成所謂的「蠅眼(fly's eye)」照明器，其經佈置以提供在圖案化器件MA處的輻射光束ILB之所要角度分佈，以及圖案化器件MA處的輻射強度(如由元件符號IL3所展示)之所要均一性。在由支撐結構(光罩台)MT固持之圖案化器件MA處的光束ILB之反射後，即形成經圖案化光束PSB，且由投影系統PS將經圖案化光束PSB經由反射元件PS1、PS2而成像至由基板台WT固持之基板W上。為了在基板W上曝光目標部分，在基板台WT及圖案化器件台MT在X_w、Y_w、Z_w座標系中執行同步移動以經由照明縫隙掃描圖案化器件MA上之圖案時，產生輻射脈衝B。

每個系統IL及PS佈置在其自己的真空或接近真空的環境中，該環境由與EUV腔室1168類似的封閉結構限定。照明系統IL及投影系統PS中通常可以存在比所示更多的元件。此外，可能存在比所示更多的鏡面。舉例而言，除了圖13中所示之彼等反射元件之外，在照明系統IL及/或投影系統PS中可能存在一至六個額外的反射元件。本發明之其他態樣在以下編號之條項中闡述。

1.一種方法，其包含：使得在診斷系統與沿著朝向目標空間的軌跡行進之當前目標之間能夠實現相互作用，該當前目標包括當轉換成電漿時發光之分量；在第一偵測區域處偵測第一光，其中該第一光包含自先前目標產生的電漿發射之光以及自該當前目標與該診斷系統之間的實現的相互作用產生之光；在第二偵測區域處偵測第二光，其中該第二光包含自該先前目標之電漿發射之光；基於由偵測到的第一光產生之第一信號及由偵測到的第二光產生之第二信號，產生分析信號；以及基於產生的分析信號，估計該當前目標之性質。

2.如條項1之方法，其中由目標分量產生之電漿發射之光包含：在EUV波長範圍內之極紫外(EUV)光及在EUV波長範圍外之非EUV光。

3.如條項1之方法，其中在該第二偵測區域處偵測第二光包含抑制由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光的至少一部分。

4.如條項3之方法，其中抑制由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光包含基於以下各者中之一或多者來過濾由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光：由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光的光譜性質、偏振性質及/或空間性質。

5.如條項1之方法，其中該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用包含：該當前目標與該診斷系統之第一診斷探針之間的第一相互作用；及該當前目標與該診斷系統之第二診斷探針之間的第二相互作用。

6.如條項5之方法，其中該當前目標與該第二診斷探針之間的該第二相互作用在與該當前目標與該第一診斷探針之間的該第一相互作用發生的位置及時間不同的位置及時間處發生。

7.如條項1之方法，其中使得在該診斷系統與該當前目標之間能夠實現該相互作用包含將該診斷系統導引朝向該當前目標，使得該診斷系統及該當前目標在沿著當前目標軌跡的區域處相互作用。

8.如條項7之方法，其中將該診斷系統導引朝向該當前目標包含將診斷光束導引朝向該當前目標。

9.如條項1之方法，其中估計該當前目標之該性質包含估計以下各者中之一或多者：該當前目標到達空間中特定位置之時間；該當前目標之速率、速度及/或加速度；及該當前目標到達空間中特定位置與另一目標到達空間中該特定位置之間的時間間隔。

10.如條項1之方法，其進一步包含若所估計的目標性質在可接受的規格之外，則調整導引朝向該目標空間的輻射脈衝之一或多種性質。

11.如條項1之方法，其中偵測該第一光及該第二光包含在前面的目標已經與先前輻射脈衝相互作用期間或之後偵測該第一光及該第二光。

12.如條項1之方法，其中自該先前目標的電漿發射之該光的光譜頻寬實質上寬於由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光的光譜頻寬。

13.如條項1之方法，其中由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光包括自該當前目標反射或散射的來自該診斷系統的光。

14.如條項1之方法，其中自該第一信號及該第二信號產生該分析信號包含自該第一信號電子減去該第二信號。

15.如條項1之方法，其中自該第一信號及該第二信號產生該分析信號包含將該第一信號及該第二信號數位化，以及運算第二數位化信號與第一數位化信號的每個帶有時戳之樣品之間的差。

16.如條項1之方法，其中在該第二偵測區域處偵測第二光包含偵測自該當前目標與該診斷系統之間的該實現的相互作用產生之該光的量，其中在該第二偵測區域處自該當前目標與該診斷系統之間的該實現的相互作用產生之該光的偵測量小於在該第一偵測區域處偵測的自該當前目標與該診斷系統之間的該實現的相互作用產生之該光的量。

17.一種裝置，其包含：診斷系統，其經組態以與沿著軌跡行進的當前目標且在該當前目標進入目標空間之前以診斷方式相互作用；第一偵測裝置，其經組態以偵測第一光，該第一光包含：自該當前目標與該診斷系統之間的相互作用產生之光，及自先前目標產生的電漿發射之光；第二偵測裝置，其經組態以偵測第二光，該第二光包含自該先前目標產生的該電漿發射之該光；以及控制系統，其與該第一偵測裝置及該第二偵測裝置通信且經組態以：基於自該第一偵測裝置及該第二偵測裝置的各別輸出產生之第一信號及第二信號產生分析信號；及基於產生的分析信號估計該當前目標之性質。

18.如條項17之裝置，其進一步包含目標遞送系統，該目標遞送系統經組態以各自沿著朝向該目標空間的軌跡釋放複數個目標，其中每個目標包括當轉換成電漿時發射極紫外(EUV)光之分量。

19.如條項17之裝置，其進一步包含光學源，該光學源經組態以產生導引朝向該目標空間之輻射脈衝，其中由該先前目標產生的該電漿係由於該先前目標與先前輻射脈衝之間的相互作用而產生的。

20.如條項17之裝置，其中該診斷系統包含診斷光束，並且由該當前目標與該診斷光束之間的相互作用產生的診斷光包含自該當前目標反射或散射的診斷光束。

21.如條項17之裝置，其中該第一偵測裝置包含第一光偵測器，並且該第二偵測裝置包含第二光偵測器。

22.如條項21之裝置，其中該第一光偵測器及該第二光偵測器中之每一者包含以下各者中之一或多者：光電二極體，該等光電二極體之輸出係與自所偵測之光產生的電流相關之電壓信號；光電晶體；光相依電阻；及光電倍增管。

23.如條項21之裝置，其中該第一光偵測器及該第二光偵測器具有近似相等的檢視角度及收集角度。

24.如條項21之裝置，其中該第二偵測裝置包含阻擋器件，該阻擋器件經組態以限制由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生的至少大部分光免於到達該第二光偵測器。

25.如條項24之裝置，其中該阻擋器件包含位於該目標空間與該第二光偵測器之間的光學路徑中之濾光器，該濾光器經組態以抑制由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光。

26.如條項25之裝置，其中該濾光器包含以下各者中之一或多者：光譜濾光器及偏振濾光器。

27.如條項21之裝置，其中該第一偵測裝置包含阻擋器件，該阻擋器件的帶通與由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生之該光的波長重疊。

28.如條項17之裝置，其中該診斷系統包含第一診斷探針及第二診斷探針，該第一診斷探針及該第二診斷探針各自經組態以與該當前目標在其沿著該軌跡行進時並且在進入該目標空間之前以診斷方式相互作用，該當前目標與診斷探針之間的各相互作用發生在不同的位置及不同的時間。

29.如條項17之裝置，其進一步包含：光學源，其經組態以產生導引朝向該目標空間的複數個輻射脈衝；及致動系統，其與該控制系統及該光學源通信，該致動系統經組態以在所估計的性質在可接受的規格之外時調整導引朝向該目標空間的輻射脈衝之一或多種性質。

30.如條項17之裝置，其中由該當前目標與該診斷系統之間的該相互作用產生的該光的光譜頻寬實質上窄於自該先前目標產生的該電漿發射之該光的光譜頻寬。

31.如條項17之裝置，其中該控制系統包含與該第一偵測裝置及該第二偵測裝置通信的電子模組，該電子模組經組態以自該第一信號電子減去該第二信號。

32.一種估計移動目標之性質之方法，該方法包含：沿著朝向目標空間之軌跡釋放當前目標，該當前目標包括當轉換成電漿時發光之一分量；在第一偵測區域處，偵測由該當前目標與診斷系統之間的相互作用產生的診斷光以及由先前目標產生的電漿發射的背景光，該診斷光之光譜頻寬實質上窄於該背景光之光譜頻寬；限制一定量的該診斷光免於穿過第二偵測區域，並且允許所有該背景光穿過該第二偵測區域；在該第二偵測區域處偵測該背景光；基於以下各者產生分析信號：由在該第一偵測區域處偵測到的光產生之信號；及由在該第二偵測區域處偵測到的光產生之背景信號；以及基於產生的分析信號，估計該當前目標之性質。

33.如條項32之方法，其中在該第一偵測區域及該第二偵測區域處偵測包括在該第一偵測區域及該第二偵測區域處均偵測背景光。

34.如條項32之方法，其進一步包含限制一定量的背景光免於穿過該第一偵測區域，其中限制該量的背景光免於穿過該第一偵測區域允許該背景光的一部分到達該第一偵測區域，該背景光的允許部分與到達該第一偵測區域的該診斷光具有相同的功率等級。