TWI880231B - 具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器 - Google Patents
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Abstract
一種具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,包含有一本體,該本體內部設置有第一段真空管呈一體化設計,該本體前端固定連接有能增加流體流速的一渦旋噴嘴件,而第二段真空管與第三段真空則依序連接於該第一段真空管,藉以構成一真空管組合件,該本體的側緣則以一定間距設置了複數個多段位吸入孔,進一步使該多段位吸入孔配合該真空管組合件讓流體的吸入量再次獲得提升,且第三段真空管更具有凸掣、及定位凸點,能讓該本體與真空管組合件利用非平行設置的凸掣與定位凸點,使至少一個以上的本體能容置與一殼體內,藉以構成高效率的真空發生器。
Description
本創作係關於一種具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,其本體內部透過渦旋噴嘴件和多段的真空管設計,進一步配合本體所設置的多段位吸入孔,能夠有效提高流體吸入量之外,該真空管也能透過分段連結,讓後續維護保養的工作步驟都能簡化便利許多。
一般目前所使用的真空發生器,其內部所設置的複數氣體吸入孔,通常係採用左、右兩孔的設計,所以當經歷過氣體導流時,由於氣體吸入孔的尺寸和設計可能會限制氣體流動的能力,而較小的孔徑或狹窄的通道可能會產生氣流的瓶頸效應,限制了氣體的順暢流動,也會導致氣流速度下降,進而影響真空發生器的工作效率和速度;且因為氣流受到限制,當氣體通過內部的氣體吸入孔時,也會可能發生壓力損失,而此類壓力損失也可能會導致氣體流出的壓力低於所需的值,進而影響真空系統的性能;前述有關氣體吸入孔的限制也可能限制了真空發生器的最大功率,如果氣體無法通過孔徑或通道堤供足夠的氣體流量,真空發生器也可能無法達到所需的真空度或處理大型工件的能力;由於內部氣體吸入孔與環境接
觸,存在著一定的風險,即可能被塵埃、污染物或其它異物阻塞,這些阻塞物可能會限制氣體的通過,進一步降低真空發生器的效能,甚至造成系統故障。
是故,創作者憑藉前述習用結構於實際應用與研究後知悉,其仍存在有必須改善之缺點。
有鑑於現今工業加工的步驟繁瑣,對於精密調控上的要求越趨嚴苛,所以能夠讓流體提高通過量及穩定輸出速率,更是目前急待改善的一部份;為了達成前述目的,本發明之主要目的在於提供一種具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,其本體內部依序設置有第一真空管、第二真空管、第三真空管;其主要特徵在於:一渦旋噴嘴件設置於該本體的前端呈固定狀態,藉此提高流體流速之外,該本體於側緣還以一定間距設置複數個多段位吸入孔,前述第一段真空管與該本體係為一體化設計,而第二段真空管與第三段真空管則依序連結第一段真空管構成一真空管組合件,藉以讓流體吸入量透過多段位吸入孔再次提高。
該第三段真空管更包含有:一對凸掣對稱設置於該第三真空管的外側緣,且該凸掣接近該末端還設置有一對定位凸點。
該凸掣與該定位凸點,其兩者係以非平行設置。
更包含有:一殼體,能提供至少一個以上的該本體設置於內部。
更包含有:一定位嵌槽,主要能提供該凸掣連結固定用。
更包含有:一定位凹槽,主要能提供該定位凸點連結固定用。
更包含有:該多段位吸入孔係為四孔以對稱方式進行排序設計,進一步能讓該多段位吸入孔配合該真空管組合件讓流體的吸入量再次獲得提升。
更包含有:該渦旋噴嘴件的尺寸小於該本體的該前端的內壁且整體概呈圓柱體,且該渦旋噴嘴件的一端內壁,則向中心軸線限縮呈漏斗形設計。
更包含有:更包含有:一第一渦旋,設置於該渦旋噴嘴件的一端;而一第二渦旋,則相對設置於該渦漩噴嘴件的另一端,且該第一渦旋與該第二渦旋的葉片係呈順逆時針設計,能將外部流體經過時提高流速,藉以配合後續該真空管組合件進行運作。
(10):本體
(101):前端
(102):末端
(11):第一段真空管
(12):第二段真空管
(13):第三段真空管
(131):凸掣
(132):定位凸點
(14):真空管組合件
(20):多段位吸入孔
(30):渦旋噴嘴件
(31):第一渦旋
(32):第二渦旋
(40):殼體
(41):定位嵌槽
(42):定位凹槽
[第1圖]係為本發明的本體結合殼體後的立體圖。
[第2圖]係為本發明基於第1圖的A-A剖面示意圖。
[第3圖]係為本發明基於第1圖的B-B剖面後的局部放大示意圖。
[第4圖]係為本發明的本體與真空管組合件的示意圖。
[第5圖]係為本發明基於第4圖的C-C剖面示意圖。
[第6圖]係為本發明基於第4圖的D-D剖面示意圖。
[第7圖](A)係為本發明渦旋噴嘴件的立體圖。
(B)係為本發明渦旋噴嘴件基於第7(A)圖的前視圖。
(C)係為本發明渦旋噴嘴件的另一視角立體圖。
(D)係為本發明渦旋噴嘴件基於第7(C)圖的前視圖。
[第8圖]係為本發明渦旋噴嘴件基於第7(B)圖之E-E的剖面放大示意圖。
通常根據本發明最佳之可行之實施例,並配合圖式第1~8圖詳細說明後,俾增加對本發明之瞭解,本發明係一種具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,其具有一本體(10),且該本體(10)設置有一前端(101)與一末端(102),且該本體(10)的內部依序設置有:一第一段真空管(11)、一第二段真空管(12)、一第三段真空管(13);一渦旋噴嘴件(30),設置於該前端(101)連結該本體(10)固定並提高流體流速,且該本體(10)的側緣以一定間距設置複數個多段位吸入孔(20),其中該第一段真空管(11)與該本體(10)係為一體化設計,而該第二段真空管(12)與該第三段真空管(13)則依序連結該第一段真空管(11)構成一真空管組合件(14),藉以讓流體吸入量透過多段位吸入孔(20)再次提高,該多段位吸入孔(20)可參閱如第6圖所示,本創作中每層4個、共3層,總計為12個,能夠有效率提高流體吸入量。
前述該渦旋噴嘴件(30)的整體尺寸小於該本體(10)的該前端(101)的內壁,其整體外型概略呈圓柱體,且該渦旋噴嘴件(30)的一端內壁,則向中心軸線限縮呈漏斗形設計;而該渦旋噴嘴件(30),更包含有:一第一渦旋(31),設置於該渦旋噴嘴件(30)的一端;而一第二渦旋(32),則相對設置於該渦旋噴嘴件(30)的另一端,且該第一渦旋(31)與該第二渦旋(32)的葉片係呈順逆時針設計,此部分可以參閱如第7(B)圖和第7(D)圖可明顯看出,當然若將該第一渦旋(31)與該第二渦旋(32)改為順順、逆順、逆逆時針也屬於該領域常見變化手段,故不再加以
贅述,並且透過第8圖所示,可見該第一渦旋(31)與第二渦旋(32)係呈相連設計,能將外部流體經過時提高流速,藉以配合後續該真空管組合件(14)進行運作。
而前述第三段真空管(13),更包含有:一對凸掣(131),該對凸掣(131)對稱設置於該第三段真空管(13)的外側緣,該凸掣(131)接近該末端(102)還設置有一對定位凸點(132),且該凸掣(131)與該定位凸點(132)兩者係以非平行設置,此處非平行設置詳細係指該凸掣(131)與該定位凸點(132)非同一平面,且兩點水平延伸並不交集。
一殼體(40),其內部空間能夠提供至少一個以上的該本體(10)設置其中,且該殼體(40)還能擴充額外相關組件,而該殼體(40)內部還設置有一定位嵌槽(41),該定位嵌槽(41)主要能提供該凸掣連結固定用,另有一定位凹槽(42)設置於鄰近該定位嵌槽(41)附近,該定位凹槽(42)主要則係提供該定位凸點(132)連結固定用,藉由該凸掣(131)和該定位凸點(132)能夠讓該本體(10)透過兩種固定手段,進一步強化與該殼體(40)連結的狀態。
本發明具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,主要透過渦旋噴嘴件(30)的結構設計,將渦旋噴嘴件(30)設置於該本體(10)的前端(101)提高流體吸入量外,該本體(10)內部的前端則搭配該第一段真空管(11)為一體化設計,能有效降低零件複雜度和提高使用壽命,而接續將第二段真空管(12)與第三段真空管(13)連接與該第一段真空管(11)後,進而設置於該本體(10)內構成一真空管組合件(14),配合該本體(10)側緣以一定間距設置複數個多段位吸入孔(20),該多段位吸入孔(20)係為四孔以對稱方式進行排序設計,進一步能讓該多段位吸入孔(20)配合該真空管組合件(14)讓流體的吸入量再次獲得提升,且該第三段真空管(13)更具有該凸掣(131)、以及該定位凸點(132),能讓該本體(10)與該真空管
組合件(14)利用非平行設置的該凸掣(131)與該定位凸點(132),使至少一個以上的本體(10)能容置與一殼體(40)內,藉以構成高效率的真空發生器。
(10):本體
(101):前端
(102):末端
(11):第一段真空管
(12):第二段真空管
(13):第三段真空管
(14):真空管組合件
(20):多段位吸入孔
(30):渦旋噴嘴件
(31):第一渦旋
(32):第二渦旋
(40):殼體
Claims (4)
- 一種具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,其包含有:一本體(10),具有一前端(101)、以及一末端(102),且該本體(10)的內部依序設置有:一第一段真空管(11)、一第二段真空管(12)、一第三段真空管(13),其特徵在於:一渦旋噴嘴件(30),設置於該前端(101)連結該本體(10)固定並提高流體流速,且該本體(10)的側緣以一定間距設置複數個多段位吸入孔(20),其中該第一段真空管(11)與該本體(10)係為一體化設計,而該第二段真空管(12)與該第三段真空管(13)則依序連結該第一段真空管(11)構成一真空管組合件(14),藉以讓流體吸入量透過多段位吸入孔(20)再次提高,而該三段真空管(13)還包含有一對凸掣(131),該對凸掣(131)對稱設置於該第三段真空管(13)的外側緣,且該凸掣(131)接近該末端(102)還設置有一對定位凸點(132),該凸掣(131)與該定位凸點(132)兩者係以非平行設置。
- 如請求項1所述之具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,更包含有:一殼體(40),能夠提供至少一個以上的該本體(10)設置於內部。
- 如請求項2所述之具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,該殼體(40),更包含有:一定位嵌槽(41),該定位嵌槽(41)主要提供該凸掣(131)連結固定用。
- 如請求項3所述之具有渦旋氣流與多段位吸入孔之三段式真空發生器,該殼體(40),更包含有:一定位凹槽(42),該定位凹槽(42)主要提供該定位凸點(132)連結固定用。
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|---|---|---|---|---|
| TWM262112U (en) * | 2004-07-17 | 2005-04-21 | Lightwave Nano Biotech Ltd | A cold tea-making tea converter with semiconductor |
| JP2007198373A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-08-09 | Kazuo Nakamura | 流体噴射ノズル |
| CN104295536A (zh) * | 2013-07-16 | 2015-01-21 | J.施马尔茨有限公司 | 多段式喷射器 |
| JP2021046827A (ja) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | 富士電機株式会社 | エジェクタ |
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2023
- 2023-06-02 TW TW112120639A patent/TWI880231B/zh active
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