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TWI879887B - 以經位向選擇取代的纖維素酯為主之具有改良波長色散之負雙折射補償膜 - Google Patents

以經位向選擇取代的纖維素酯為主之具有改良波長色散之負雙折射補償膜 Download PDF

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TWI879887B
TWI879887B TW110105128A TW110105128A TWI879887B TW I879887 B TWI879887 B TW I879887B TW 110105128 A TW110105128 A TW 110105128A TW 110105128 A TW110105128 A TW 110105128A TW I879887 B TWI879887 B TW I879887B
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凱西 琳 艾爾金
衛斯理 韋恩 馬克康乃爾
王斌
羅伯特 傑克斯 夏普
穆斯塔法 漢貝爾 艾哈邁德
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美商伊士曼化學公司
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Abstract

本申請案揭示拉伸膜,其包含經位向選擇取代的纖維素酯及組分A,其中環A、B、C、R1 、R2 、R5 、R6 、R8 、R9、m及n係定義於本文中。該膜展現負雙折射及改良波長色散。

Description

以經位向選擇取代的纖維素酯為主之具有改良波長色散之負雙折射補償膜
以纖維素酯(「CE」)為主之具有負雙折射之膜對於顯示器而言係理想的。然而,負雙折射CE膜通常展現正向波長色散,導致色移。為糾正此問題,需要調整膜以展現改良波長色散,諸如平坦或反向波長色散。然而,關於如何在負雙折射CE膜中達成平坦或反向波長色散知之甚少。申請人已揭示包含經位向選擇取代的纖維素酯(「RCE」)及某些小分子組分之具有改良波長色散之拉伸膜。有些膜具有Z或A-特性。
本申請案揭示一種膜,其包含: (1) 經位向選擇取代的纖維素酯,其包含: (i) 複數個芳族-CO-取代基; (ii) 複數個第一不飽和或飽和(C1-6 )烷基-CO-取代基;及 (iii) 複數個羥基取代基; 其中: 該羥基之取代度(「DSOH 」)為0.2至1.1, 該纖維素酯具有為0.15至0.8之芳族-CO-取代基之C2取代度(「C2DSArCO 」), 該纖維素酯具有為0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C3取代度(「C3DSArCO 」), 該纖維素酯具有為0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C6取代度(「C6DSArCO 」), 該芳族-CO-取代基之總取代度(「TotDSArCO 」)為0.25至2.0, 該芳族-CO-為 (i) (C6-20 )芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1 取代; (ii) 雜芳基-CO-,其中該雜芳基為具有1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員環,且其中該雜芳基係未經取代或經1至5個R1 取代;及 (2) 組分A,其為, 其中: 環A為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基; 環B為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基; 環C為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基; R1 為烷基;鹵烷基;視需要經1至5個烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、鹵素取代之(C6-20 )芳基;包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;或-CH2 C(O)-R3 ; R2 獨立地為氫、烷基或鹵烷基; R3 為烷基、鹵烷基、(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基,其中該芳基或雜芳基係未經取代或經1至5個R6 取代; R4 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基,各者係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20 )烷氧基或鹵(C1-20 )烷氧基、羥基(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-羥基(C1-20 )烷基或(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-取代; 各R5 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或鹵素; 各R6 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、或鹵素或(C6-20 )芳基,其中該芳基係未經取代或經1至5個R7 取代; 各R7 獨立地為羥基、(C1-6 )烷基、鹵(C1-6 )烷基或(C1-6 )烷氧基; R8 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基或鹵(C1-20 )烷氧基; R9 為R4 -O-、(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-、(C1-20 )烯基、(C1-20 )烯基-O-、(C1-20 )烷基-COO-(C1-20 )烷基-、(C1-20 )烷基-COO-、(C1-20 )烷基,其中1至2個碳原子係經O、N或S置換,(C6-10 )芳基、包含1至4個選自由N、O或S組成之群之雜原子之5員至10員雜芳基, 其中該等基團中之各者係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20 )烷氧基或鹵(C1-20 )烷氧基、羥基(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-羥基(C1-20 )烷基或(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-取代; 各n為0、1、2、3、4或5;及 各m為0、1、2、3或4; 其中: 該膜之厚度(「d」) (單位為微米)為10 µm至200 µm, 該膜展現為小於零之Re (589 nm), 該Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-10至-0.5, 該Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至6.0, 該膜展現[[-Rth (589 nm)/Re (589 nm)] + 0.5] (「Nz 」)為-3.0至3.0, 各Re (589 nm)為在589 nm處測得的平面內延遲, 各Rth (589 nm)為在589 nm處測得的平面外延遲,且 該膜係經拉伸。
藉由參考本發明及本文所提供的實例之以下詳細描述,可更容易地理解本發明。應明瞭,本發明不限於所描述的特定方法、調配物及條件,因為此等可變化。亦應明瞭,本文所用的術語僅出於描述本發明之特定態樣之目的且無意具有限制性。
定義 在本說明書及隨後的申請專利範圍中,將參考許多術語,該等術語應定義為具有以下含義。
值可表示為「約」或「近似」給定數字。類似地,範圍可在本文中表示為自「約」一個特定值及/或至「約」或另一特定值。當表示此一範圍時,另一態樣包括自一個特定值及/或至另一特定值。類似地,當值表示為近似值時,藉由使用先行詞「約」,應明瞭,該特定值形成另一態樣。
如本文所用,術語「一」、「一個」及「該」一個意指一或多個。
如本文所用,術語「及/或」當在兩個或多個項目之清單中使用時意指所列出的項目中之任一者可單獨使用或可使用所列出的項目中之兩者或更多者之任何組合。例如,將若組合物描述作包含組分A、B及/或C,則該組合物可僅含A;僅含B;僅含C;A及B之組合;A及C之組合、B及C之組合;或A、B及C之組合。
如本文所用,術語「包含(comprising、comprise及comprise)」為用於自在該術語之前列舉的主語過渡至在該術語之後列舉的一或多個要素之開放式過渡術語,其中在過渡術語之後列出的該(等)元素不一定是構成主語之唯一要素。
如本文所用,術語「具有(having、has及have)」具有與以上所提供的「包含(comprising、comprises及comprise)」相同的開放式含義。
如本文所用,術語「包括(including、includes及include)」具有與以上所提供的「包含(comprising、comprises及comprise)」相同的開放式含義。
適用於製造光學膜之經位向選擇取代的纖維素酯可包含複數個烷基-醯基或烷基-CO-取代基、複數個芳基-醯基或芳基-CO-取代基、雜芳基-醯基或雜芳基-CO-取代基。如本文所用,術語「醯基取代基」或「R-CO-」應表示具有以下結構之取代基:
纖維素酯中之此種醯基或R-CO-基團一般經酯鍵(亦即經氧原子)結合至纖維素之哌喃糖環。
芳族-CO-為具有含芳族之環系統之醯基取代基。實例包括芳基-CO-或雜芳基-CO-。特定實例包括苯甲醯基、萘甲醯基及呋喃甲醯基,各者係未經取代或經取代。
如本文所用,術語「芳基-醯基」取代基應表示其中「R」為芳基基團之醯基取代基。如本文所用,術語「芳基」應表示藉由自芳烴(亦即單環或多環芳族烴)中的環碳移除氫原子而形成之單價基團。在一些情況下,在芳基-醯基基團之前是碳單元:例如,(C5-6 )芳基-醯基、(C6-12 )芳基-醯基或(C6-20 )芳基-醯基。適用於各種實施例中之芳基基團之實例包括但不限於苯基、苄基、甲苯基、二甲苯基及萘基。此種芳基基團可為經取代或未經取代。
如本文所用,術語「烷基-醯基」應表示其中「R」為烷基基團之醯基取代基。如本文所用,術語「烷基」應表示藉由自非芳族烴移除氫原子而形成之單價基團,且可包括雜原子。適用於本文中之烷基基團可為直鏈、分支鏈或環狀,且可為飽和或不飽和。適用於本文中之烷基基團包括任何(C1-20 )、(C1-12 )、(C1-5 )或(C1-3 )烷基基團。在各種實施例中,烷基可為C1-5 直鏈烷基基團。又在其他實施例中,烷基可為C1-3 直鏈烷基基團。適宜烷基基團之特定實例包括但不限於甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基、癸基、十二烷基、環戊基及環己基。烷基-醯基基團之實例包括乙醯基、丙醯基、丁醯基及類似者。
「鹵烷基」意指其中至少一個氫經鹵素基團置換之烷基取代基。通常包括「鹵烷基基團」中之碳單元;例如鹵(C1-6 )烷基。鹵烷基基團可為直鏈或分支鏈。鹵烷基之非限制性實例包括氯甲基、三氟甲基、二溴乙基及類似者。
「雜芳基」意指其中芳基環中之至少一個碳單元係經雜原子諸如O、N及S置換之芳基。該雜芳基為環,可為單環或多環。通常,包括構成雜芳基環系統之單元;例如5員至20員環系統。5員雜芳基意指具有五個形成雜芳基環之原子之環系統。雜芳基之非限制性實例包括吡啶基、喹啉基、嘧啶基、噻吩基及類似者。
「烷氧基」意指烷基-O-或末端連接至氧基團之烷基基團。通常包括碳單元;例如(C1-6 )烷氧基。烷氧基之非限制性實例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基及類似者。
「鹵烷氧基」意指其中至少一個氫係經鹵素置換之烷氧基。通常包括碳單元;例如鹵(C1-6 )烷氧基。鹵烷氧基之非限制性實例包括三氟甲氧基、溴甲氧基、1-溴-乙氧基及類似者。
「鹵素」意指鹵素,諸如氟、氯、溴或碘。
「取代度」用於描述每個脫水葡萄糖單元(「AGU」)的取代基之取代基之取代程度。一般而言,習知纖維素在各AGU中包含三個可經取代之羥基基團。因此,DS可具有在0與3之間之值。然而,低分子量纖維素混合酯可具有略高於端基貢獻值(end group contributions) 3之總取代度。低分子量纖維素混合酯隨後在此揭示內容中更詳細地論述。因為DS為統計平均值,故值1不確保每個AGU均具有一個取代基。在一些情況下,可存在未經取代之脫水葡萄糖單元,有些具有兩個及有些具有三個取代基,且往往該值將為非整數。總DS定義為每個脫水葡萄糖單元的所有取代基之平均數。每個AGU的取代度亦可指特定取代基,諸如例如羥基、乙醯基、丁醯基或丙醯基。另外,取代度可指定脫水葡萄糖單元中之哪個碳單元。
當取代度係指羥基,亦即DSOH 時,意謂每個脫水葡萄糖的未經取代之平均羥基基團。因此,在總取代度之計算中不使用DSOH
數值範圍 本描述使用數值範圍來量化與本發明有關的某些參數。應明瞭,當提供數值範圍時,此類範圍應被解釋為為僅陳述該範圍之下限值之技術方案限制以及僅陳述該範圍之上限值之技術方案限制提供文字支持。例如,所揭示的10至100之數值範圍為陳述「大於10」 (無上限)之技術方案及陳述「小於100」 (無下限)之技術方案提供文字支持。
本描述使用特定數值來量化與本發明有關的某些參數,其中該等特定數值顯然不是數值範圍之一部分。應明瞭,本文所提供的各特定數值應被解釋為為寬、中間及窄範圍提供文字支持。與各特定數值相關之寬範圍為數值加上及減去該數值之60%,四捨五入為兩位有效數字。與各特定數值相關之中間範圍為數值加上及減去該數值之30%,四捨五入為兩位有效數字。與各特定數值相關之窄範圍為數值加上及減去該數值之15%,四捨五入為兩位有效數字。例如,若本說明書描述62°F之特定溫度,此一描述為25°F至99°F (62°F +/- 37°F)之寬數值範圍、43°F至81°F (62°F +/- 19°F)之中間數值範圍及53°F至71°F (62°F +/- 9°F)之窄數值範圍提供文字支持。此等寬、中間及窄數值範圍不僅應適用於特定值,而且應適用於此等特定值之間的差異。因此,若本說明書描述110 psia之第一壓力及48 psia (相差62 psi)之第二壓力,則此兩個物流之間的壓力差之寬、中間及窄範圍將分別為25至99 psi、43至81 psi及53至71 psi。
在本申請案通篇中,在引用專利或公開案之情況下,此等參考文獻之全部揭示內容意欲以引用之方式併入本申請案中,引用程度為其與本發明不矛盾,以便更全面地描述本發明所屬的當前最先進技術。
補償膜對於改良液晶顯示器(LCD)及有機發光二極體顯示器(OLED)之顯示品質很重要。對於各向同性材料,無論入射光之偏振狀態,折射率均相同。隨著材料變成定向及具有各向異性,折射率變得取決於方向。沿著不同方向之折射率之間的差異為雙折射。對於聚合物膜,通常需要拉伸以使聚合物定向且導致雙折射。補償膜之雙折射對於顯示品質至關重要。其廣泛地用於平面內雙折射(Δne )及平面外雙折射(Δnth )中以表徵補償膜。Δne 及Δnth 由以下方程式定義。 Δne = (nx – ny ) Δnth =[nz – (nx + ny )/2] 其中nx 為沿著膜平面中之拉伸方向之折射率而ny 為膜平面中垂直於拉伸方向之折射率,及nz 為垂直於膜平面之折射率。對於大多數聚合物材料,當膜沿著方向(x方向)拉伸時,沿著膜平面中之拉伸方向之折射率(nx )大於正交於拉伸方向之折射率(ny ),亦即Δne = (nx – ny )大於零,且該拉伸方向為膜平面中之慢軸。彼等聚合物材料具有正雙折射。一些聚合物材料具有負雙折射。當彼等材料沿著一個方向(x方向)拉伸時,及沿著膜平面中之拉伸方向之折射率(nx )小於正交於拉伸方向之折射率(ny ),亦即Δne = (nx – ny )小於零,且該延伸方向為膜平面中之快軸。
相應地,平面內延遲(Re )及平面外延遲(Rth )定義為Δne 與補償膜之厚度(d)及Δnth 與d之乘積。 Re = (nx – ny )*d Rth = [nz – (nx + ny )/2]*d
在就具有正雙折射之聚合物膜而言之情況下,nx 為沿著膜平面中之慢軸之折射率,ny 為沿著膜平面中之快軸之折射率,及nz 為垂直於膜平面之折射率;對於具有負雙折射之膜,nx 為沿著膜平面中之快軸之折射率,ny 為沿著膜平面中之慢軸之折射率,及nz 為垂直於膜平面之折射率。
另外,亦廣泛地使用Nz係數,如由以下方程式定義。 Nz = (nx – nz )/ (nx – ny )  = -Rth /Re + 0.5
在就具有正雙折射之聚合物膜而言之情況下,nx 為沿著膜平面中之慢軸之折射率,ny 為沿著膜平面中之快軸之折射率,及nz 為垂直於膜平面之折射率;對於具有負雙折射之膜,nx 為沿著膜平面中之快軸之折射率,ny 為沿著膜平面中之慢軸之折射率,及nz 為垂直於膜平面之折射率。
根據應用領域,已開發各種補償膜,諸如其中所有三個折射率均不同(nx ≠ ny ,nx ≠ nz ,及ny ≠ nz )之雙軸膜,及其中兩個折射率極其接近但不同於第三折射率(nx = ny ≠ nz ,nx = nz ≠ ny ,ny = nz ≠ nx )之單軸膜。對於單軸膜,存在A+膜、A-膜、C+膜及C-膜,其由以下方程式定義。 A+:nx > ny = nz ;Nz 係數 = 1 A-:nx < ny = nz ;Nz 係數 = 1 C+:nx = ny < nz ;Nz 係數 = ∞ C-:nx = ny > nz ;Nz 係數 = ∞
對於雙軸膜,雙軸膜之一個重要類別為Z膜,其中nx > nz > ny 或ny > nz > nx ;最特別地,具有nz = (nx +ny )/2之雙軸膜,其將導致等於0.5之Nz 係數,係特別有趣的。
另外,波長色散對於補償膜亦很重要。波長色散係關於雙折射或延遲與光波長之關係。Re (450 nm)/Re (550 nm)、Re (650 nm)/Re (550 nm)、Rth (450 nm)/Rth (550 nm)及Rth (650 nm)/Rth (550 nm) (其指示在450 nm、550 nm及650 nm處之延遲比)廣泛地用於表徵波長色散。如圖2中所顯示,正向波長色散意指在較短波長下補償膜之雙折射或延遲較小,其中Re(450 nm)/Re(550 nm) > 1,Re(650 nm)/Re(550 nm) < 1,平坦波長色散意指補償膜之雙折射或延遲在所研究的波長範圍內恆定,其中Re(450 nm)/Re(550 nm) = 1,Re(650 nm)/Re(550 nm) = 1,及反向波長色散意指在較短波長下補償膜之雙折射或延遲較小,其中Re(450 nm)/Re(550 nm) < 1,Re(650 nm)/Re(550 nm) > 1。極度需要反向波長色散,因為其可顯著抑制顯示器之色移。
纖維素酯已廣泛地用於補償膜。與其他材料(諸如聚碳酸酯及聚(環狀烯烴))相比,其具有許多優點。大多數的以纖維素酯為主之補償膜由具有脂族醯基取代基之纖維素酯,諸如乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素及乙酸丁酸纖維素製成。醯基取代基係無規分佈。且彼等補償膜之雙折射通常為正,其中nx > ny ,其中nx 為沿著膜平面中之拉伸方向之折射率而ny 為膜平面中垂直於拉伸方向之折射率。具有負雙折射(nx < ny )之纖維樹脂可藉由添加芳族醯基取代基且控制芳族醯基取代基或長脂族醯基取代基之位置來達成。由纖維素酯製成的具有負雙折射之補償膜之一個問題係彼等補償膜之正向波長色散,其中Re (450 nm)/Re (550 nm) > 1及Re (650 nm)/Re (550 nm) < 1。沒有以纖維素酯為主之具有負雙折射及平坦或反向波長色散之市售產品。更具體言之,沒有以纖維素酯為主之具有負雙折射及平坦或反向波長色散之Z膜之市售產品。
在各種實施例中,可使用經位向選擇取代的纖維素酯,其中該芳基-醯基取代基優先安裝在哌喃糖環之C2及C3上。位向選擇性可藉由依碳13 NMR光譜法(Macromolecules ,1991,24,3050至3059)確定纖維素酯中之C6、C3及C2之相對取代度(「RDS」)來測定。在一種類型之醯基取代基之情況下或當第二醯基取代基以少量(DS < 0.2)存在時,RDS可藉由環碳之積分直接最容易地確定。當2個或更多個醯基取代基以相似量存在時,除了確定環RDS外,有時必需以一個另外取代基完全取代纖維素酯以便藉由羰基碳之積分獨立確定各取代基之RDS。在習知纖維素酯中,一般沒有觀測到位向選擇性且C6/C3、C6/C2或C3/C2之RDS比一般接近1或更小。本質上,習知纖維素酯為無規共聚物。相反地,當將一或多種醯化試劑添加至溶解於適宜溶劑中之纖維素時,纖維素之C6位置之醯化比C2及C3位置快得多。因此,C6/C3及C6/C2比率顯著大於1,其為6,3-或6,2-增強之經位向選擇取代的纖維素酯之特性。
經位向選擇取代的纖維素酯之實例及其製備方法描述於US 2010/0029927、US 2010/0267942及US 8,354,525中;該等案之內容係以引用之方式併入本文中。一般而言,此等應用係關於藉由將纖維素溶解於離子液體中,然後使其與醯化試劑接觸來製備纖維素酯。因此,對於本發明之各種實施例,可採用兩種一般方法來製備經位向選擇取代的纖維素酯。在一種方法中,經位向選擇取代的纖維素酯可使用分段添加藉由首先使纖維素溶液與一或多種烷基醯化試劑接觸,接著使纖維素溶液與芳基-醯化試劑在接觸溫度及足以提供具有所需取代度(「DS」)及聚合度(「DP」)之纖維素酯之接觸時間下接觸來製備。在此分段添加中,可將包含烷基基團之醯基基團優先安裝在C6處且可將包含芳基基團之醯基基團優先安裝在C2及/或C3處。或者,經位向選擇取代的纖維素酯可藉由使纖維素溶液與一或多種烷基醯化試劑接觸,接著分離其中包含烷基基團之醯基基團優先安裝在C6處之烷基酯來製備。可然後將烷基酯溶解於任何適宜有機溶劑中且與可將包含芳基基團之醯基基團優先安裝在C2及/或C3處之芳基-醯化試劑在接觸溫度及足以提供具有所需取代度(「DS」)及聚合度(「DP」)之纖維素酯之接觸時間下接觸。
經位向選擇取代的纖維素酯之實例及其製備方法亦描述於US20170306054及US20170307796中;該等案之內容係以引用之方式併入本文中。一般而言,此等申請案係關於藉由將具有低取代度(DS)之起始纖維素酯溶解於適宜有機溶劑中,然後使其與醯化試劑接觸來製備纖維素酯。因此,對於本發明之各種實施例,可採用兩種一般方法來製備經位向選擇取代的纖維素酯。在一種方法中,經位向選擇取代的纖維素酯可使用分段添加藉由首先使起始纖維素酯溶液與一或多種烷基醯化試劑接觸,接著使纖維素溶液與芳基-醯化試劑在接觸溫度及足以提供具有所需取代度(「DS」)及聚合度(「DP」)之纖維素酯之接觸時間下接觸來製備。在此分段添加中,可將包含烷基基團之醯基基團優先安裝在C6處且可將包含芳基基團之醯基基團優先安裝在C2及/或C3處。或者,經位向選擇取代的纖維素酯可藉由使起始纖維素酯溶液與一或多種烷基醯化試劑接觸,接著分離其中包含烷基基團之醯基基團優先安裝在C6處之烷基酯來製備。可然後將烷基酯溶解於任何適宜有機溶劑中且與可將包含芳基基團之醯基基團優先安裝在C2及/或C3處之芳基-醯化試劑在接觸溫度及足以提供具有所需取代度(「DS」)及聚合度(「DP」)之纖維素酯之接觸時間下接觸。
由此製備的纖維素酯一般包含以下結構: 其中R2 、R3 及R6 為氫(條件為R2 、R3 及R6 不同時為氫)、烷基-醯基基團及/或芳基-醯基基團(諸如彼等以上所述者),經酯鍵結合至纖維素。
藉由此等方法製備的纖維素酯之聚合度(「DP」)可為至少10。在其他實施例中,纖維素酯之DP可為至少50、至少100或至少250。在其他實施例中,纖維素酯之DP可在約5至約100之範圍內,或在約10至約50之範圍內。
適用於本文中之醯化試劑可包括但不限於適用於本文所述的經位向選擇取代的纖維素酯之醯基取代基中之包含上述烷基或芳基基團之烷基或芳基羧酸酐、羧酸鹵化物及/或羧酸酯。適宜羧酸酐之實例包括但不限於乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、新戊酸酐、苯甲酸酐及萘甲酸酐。羧酸鹵化物之實例包括但不限於乙醯基、丙醯基、丁醯基、新戊醯基、苯甲醯基及萘甲醯氯或萘甲醯溴。羧酸酯之實例包括但不限於乙醯基、丙醯基、丁醯基、新戊醯基、苯甲醯基及萘甲醯基甲基酯。在一或多個實施例中,醯化試劑可為一或多個選自由乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、新戊酸酐、苯甲酸酐及萘甲酸酐組成之群之羧酸酐。 延伸膜
本申請案揭示一種膜,其包含:(1)經位向選擇取代的纖維素酯,其包含:(i)複數個芳族-CO-取代基;(ii)複數個第一不飽和或飽和(C1-6 )烷基-CO-取代基;及(iii)複數個羥基取代基,其中:羥基之取代度(「DSOH 」)為0.2至1.1,纖維素酯具有0.15至0.8之芳族-CO-取代基之C2取代度(「C2DSArCO 」),纖維素酯具有0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C3取代度(「C3DSArCO 」),纖維素酯具有0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C6取代度(「C6DSArCO 」)、0.25至2.0之芳族-CO-取代基之總取代度(「totDSArCO 」),該芳族-CO-為(C6-20 )芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1 取代;雜芳基-CO-,其中該雜芳基為具有1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員環,且其中該雜芳基係未經取代或經1至5個R1 取代;及(2)組分A,其為,其中:環A為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;環B為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;環C為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;R1 為烷基;鹵烷基;視需要經烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或鹵素1至5取代之(C6-20 )芳基;包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;或-CH2 C(O)-R3 ;R2 獨立地為氫、烷基或鹵烷基;R3 為烷基、鹵烷基、包含1至4個選自N、O或S之雜原子之(C6-20 )芳基或5員至10員雜芳基,其中該芳基或雜芳基係未經取代或經1至5個R6 取代;R4 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基,各者係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20 )烷氧基、或鹵(C1-20 )烷氧基、羥基(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-羥基(C1-20 )烷基、或(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-取代;各R5 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或鹵素;各R6 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、或鹵素或(C6-20 )芳基,其中該芳基係未經取代或經1至5個R7 取代;各R7 獨立地為羥基、(C1-6 )烷基、鹵(C1-6 )烷基或(C1-6 )烷氧基;R8 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基或鹵(C1-20 )烷氧基;R9 為R4 -O-、(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-、(C1-20 )烯基、(C1-20 )烯基-O-、(C1-20 )烷基-COO-(C1-20 )烷基-、(C1-20 )烷基-COO-、(C1-20 )烷基,其中1至2個碳原子係經O、N或S置換,(C6-10 )芳基、包含1至4個選自由N、O或S組成之群之雜原子之5員至10員雜芳基,其中該等基團中之各者係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20 )烷氧基、或鹵(C1-20 )烷氧基、羥基(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-羥基(C1-20 )烷基、或(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-取代;各n為0、1、2、3、4或5;及各m為0、1、2、3或4;其中:該膜之厚度(「d」) (µm)為10 µm至200 µm,該膜展現小於零之Re (589 nm),Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-10至-0.5,Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至6.0,該膜展現為-3.0至3.0之[[-Rth (589 nm)/Re (589 nm)] + 0.5] (「Nz 」),各Re (589 nm)為在589 nm處測得的平面內延遲,各Rth (589 nm)為在589 nm處測得的平面外延遲,且該膜係經延伸。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,R9 為R4 -O-。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,R9 為(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-、(C1-20 )烷基-O-(C1-20 )烷基-或(C1-20 )烷基-O-(C1-20 )烷基-O-。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.95至1.02,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.95至1.05,其中該Re(450 nm)、Re(550 nm)及Re(650 nm)分別為在450 nm、550 nm及650 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth(589 nm)為-60 nm至60 nm。在此實施例之一個類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.95,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.97至1.15。
在此實施例之一個類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。在此實施例之一個類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-30 nm至30 nm。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Nz 為-2.0至2.0。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.95至1.02,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.95至1.05,其中該Re(450 nm)、Re(550 nm)及Re(650 nm)分別為在450 nm、550 nm及650 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth(589 nm)為-60 nm至60 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.95,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.97至1.15。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-1.0至1.0。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為0.15至4.2。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於0.9,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在例此實施例之一個類別中,Re(650 nm)與Re(550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Nz 為-1.5至1.5。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.95至1.02,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.95至1.05,其中該Re(450 nm)、Re(550 nm)及Re(650 nm)分別為在450 nm、550 nm及650 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth(589 nm)為-60 nm至60 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.95,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.97至1.15。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-1.0至1.0。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為0.15至4.2。
在此實施例之一個子類別中,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個子類別中,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及 and Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於0.9,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re(650 nm)與Re(550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Nz 為0.2至0.8。
在此實施例之一個類別中,其中Re (589 nm)為-120至-320 nm及Rth (589 nm)為-60至60 nm。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.95至1.02,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.95至1.05,其中該Re(450 nm)、Re(550 nm)及Re(650 nm)分別為在450 nm、550 nm及650 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth(589 nm)為-60 nm至60 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.95,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.97至1.15。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-1.8至1.8。
在此類別之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-1.0至1.0。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re(650 nm)與Re(550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於0.9,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Nz 為0.4至0.6。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.95至1.02,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.95至1.05,其中該Re(450 nm)、Re(550 nm)及Re(650 nm)分別為在450 nm、550 nm及650 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth(589 nm)為-60 nm至60 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.95,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.97至1.15。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於0.9,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Nz 為0.8至1.2。
在此實施例之一個類別中,其中Re (589 nm)為-120至-320 nm及Rth (589 nm)為60至120 nm。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別之組合中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.95至1.02,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.95至1.05,其中該Re(450 nm)、Re(550 nm)及Re(650 nm)分別為在450 nm、550 nm及650 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth(589 nm)為-60 nm至60 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別或與此實施例中之任何其他類別中,Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.75至0.95,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.97至1.15。
在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-120 nm至-160 nm,Rth(589 nm)為-30 nm至30 nm。在此類別之一個子類別中,Re(589 nm)為-240 nm至-320 nm,Rth (589 nm)為-30 nm至30 nm。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為0.15至4.2。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-8.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為0.15至5.6。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個子類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此子類別之一個子子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於0.9,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此類別之一個子類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-3.0至3.0。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-2.0至2.0。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-1.8至1.8。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-1.0至1.0。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-8.0至-0.5。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-3.0至3.0。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-2.4至2.4。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-1.8至1.8。在此實施例之一個類別中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-1.0至1.0。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-3.0至3.0。在一個實施例中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-2.0至2.0。在一個實施例中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-1.8至1.8。在一個實施例中,Rth (589 nm)/d與d (nm)之比率乘以1000為-1.0至1.0。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.0,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於0.9,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在此實施例之一個類別中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於1.0,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.25,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,膜係經單軸拉伸、雙軸拉伸或角度拉伸。在此實施例之一個類別中,膜係經單軸拉伸或雙軸拉伸。在此實施例之一個類別中,膜係經單軸拉伸。在此實施例之一個類別中,膜係經雙軸拉伸。在此實施例之一個類別中,膜係經角度拉伸。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為
在此實施例之一個類別或與任何其他實施例之組合中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在一個實施例中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在一個實施例中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在一個實施例中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在一個實施例中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為1,3-二苯基-1,3-丙二酮、阿伏苯宗(avobenzone)、(2-羥基-4-(辛基氧基)苯基(苯基)甲酮、(2-羥基-4-甲氧基苯基)(2-羥基苯基)甲酮、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(己基氧基)苯酚(Tinuvin 1577)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基]-5-[2-羥基-3-(十二烷基氧基-及十三烷基氧基)丙氧基]苯酚(Tinuvin 400)、2-(4-(4,6-二([1,1'-聯苯]-4-基)-1,3,5-三嗪-2-基)-3-羥基苯氧基)丙酸異辛酯(Tinuvin 479)、6,6'-(6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪-2,4-二基)雙(3-丁氧基苯酚) (Tinuvin 460)、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(3-((2-乙基己基)氧基)-2-羥基丙氧基)苯酚(Tinuvin 405)、7-二乙基胺基-4-甲基香豆素或其組合。
在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為1,3-二苯基-1,3-丙二酮。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為阿伏苯宗。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(己基氧基)苯酚(Tinuvin 1577)。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例中,組分A為2-(4-(4,6-二([1,1'-聯苯]-4-基)-1,3,5-三嗪-2-基)-3-羥基苯氧基)丙酸異辛酯(Tinuvin 479)。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A為6,6'-(6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪-2,4-二基)雙(3-丁氧基苯酚) (Tinuvin 460)。在此實施例之一個類別中,組分A係以大於1重量%存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至30%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在此實施例之一個類別中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有為0.7至2.2之第一不飽和或飽和(C1-6 )烷基-醯基取代基(「DSFAk 」)之取代度。在一個實施例中,纖維素酯具有為0.7至1.9之第一不飽和或飽和(C1-6 )烷基-醯基取代基(「DSFAk 」)之取代度。
在此實施例之一個類別中,第一不飽和或飽和(C1-20 )烷基-CO-取代基為乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、3-甲基丁醯基、戊醯基、4-甲基戊醯基、3-甲基戊醯基、2-甲基戊醯基、己醯基或巴豆醯基。在此實施例之一個類別中,第一不飽和或飽和(C1-6 )烷基-CO-取代基為乙醯基、丙醯基或巴豆醯基。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯進一步包含複數個第二(C1-20 )烷基-CO-取代基。在此實施例之一個類別中,第二(C1-20 )烷基-CO-取代基之取代度(「DSSAk 」)為0.05至0.6。
在此實施例之一個類別中,第二(C1-20 )烷基-CO-取代基為乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、3-甲基丁醯基、戊醯基、4-甲基戊醯基、3-甲基戊醯基、2-甲基戊醯基、己醯基、特戊醯基或2-乙基己醯基。在此實施例之一個類別中,第二(C1-20 )烷基-CO-取代基為乙醯基、異丁醯基、3-甲基丁醯基、戊醯基、4-甲基戊醯基、3-甲基戊醯基、2-甲基戊醯基、己醯基或2-乙基己醯基。在此實施例之一個類別中,第二(C1-20 )烷基-CO-取代基為乙醯基或2-乙基己醯基。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,芳族-CO-為(C6-20 )芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1 取代。在此實施例之一個類別中,芳族-CO-為苯甲醯基或萘甲醯基,其係未經取代或經1至5個R1 取代。在此實施例之一個類別中,芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1 取代之苯甲醯基。在此實施例之一個類別中,芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1 取代之萘甲醯基。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1 取代之苯甲醯基。在此實施例之一個類別中,纖維素酯具有0.40至1.20之總DSArCO 。在例此實施例之一個類別中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.30至0.75。
在此實施例之一個類別中,纖維素酯具有0.50至1.10之總DSArCO 。在此類別之一個子類別中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.30至0.75。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1 取代之萘甲醯基。在此實施例之一個類別中,纖維素酯具有0.30至0.6之總DSArCO 。在此類別之一個子類別中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.20至0.40。在此類別之一個子類別中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.30至0.40。
在此實施例之一個類別中,纖維素酯具有0.50至1.10之總DSArCO 。在此類別之一個子類別中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.20至0.40。在此類別之一個子類別中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.30至0.40。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,芳族-CO-為雜芳基-CO-,其中該雜芳基為具有1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員環,且其中該雜芳基係未經取代或經1至5個R1 取代。在此實施例之一個類別中,雜芳基-CO-為吡啶基-CO-、嘧啶基-CO-、呋喃基-CO-或吡咯基-CO-。在此實施例之一個類別中,雜芳基-CO-為2-呋喃甲醯基。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.4至1.6之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有1.0至1.6之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.3至1.25之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.4至1.2之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.4至0.8之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.3至0.8之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.3至0.6之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.2至06之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.2至0.5之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.8至1.2之totDSArCO 。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,纖維素酯具有0.5至1.1之totDSArCO
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,DSOH 為0.3至1.0。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,DSOH 為0.3至0.9。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,DSOH 為0.4至0.9。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,DSOH 為0.5至0.9。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,DSOH 為0.6至0.9。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,DSOH 為0.4至0.8。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,DSOH 為0.5至0.8。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.3至1.25。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.2至0.4。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.3至0.4。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.4至1.2。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.4至1.1。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.4至1.0。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.5至1.1。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.6至1.0。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.6至1.25。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.30至0.75。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以大於1重量%存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以大於2.5重量%存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以2.5重量%至30重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以5重量%至30重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以2.5%至25重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以1重量%至30重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以1重量%至20重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以1重量%至18重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以1重量%至15重量%之範圍存在。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,組分A係以1重量%至10重量%之範圍存在。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為1。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為2。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為3。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為4。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為5。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為1、2、3或4。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為1、2或3。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,m為1或2。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,n為1。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,n為2。在一個實施例中,n為3。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,n為4。在一個實施例中,n為5。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,n為1、2、3或4。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,n為1、2或3。在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,n為1或2。
可添加塑化劑以改良膜之可加工性及可撓性。其可降低形成膜之材料之玻璃轉移點(glass transition point)及熔融溫度,此可促進較低溫度及/或簡化膜製造。塑化劑應與本文所揭示的纖維素酯相容且具有高於在藉由熔融澆鑄形成膜之情況下特別需要非揮發性塑化劑化合物之膜製備及調節製程中所應用的最高溫度之沸點。
在一個實施例或與任何其他實施例之組合中,膜進一步包含0.1至15重量%之塑化劑。
在此實施例之一個類別或與此實施例之任何其他類別之組合中,塑化劑係以自0.1至10重量%存在。在此實施例之一個類別或與此實施例之任何其他類別之組合中,塑化劑係以自0.1至5重量%存在。在此實施例之一個類別或與此實施例之任何其他類別之組合中,塑化劑係以自5至10重量%存在。在此實施例之一個類別或與此實施例之任何其他類別之組合中,塑化劑係以自3至7重量%存在。
在此實施例之一個類別或與此實施之任何其他類別之組合中,塑化劑係選自磷酸酯類塑化劑、鄰苯二甲酸酯類塑化劑、對苯二甲酸酯類塑化劑、偏苯三酸酯類塑化劑、苯甲酸酯類塑化劑、乙醇酸酯類塑化劑、檸檬酸酯類塑化劑、多價醇醇酯類塑化劑、多元醇類塑化劑或聚酯類塑化劑。在此類別之一個子類別中,塑化劑係選自 乙醇酸酯塑化劑之非限制性實例包括乙醇酸甲基鄰苯二甲醯基甲酯、乙醇酸乙基鄰苯二甲醯基乙酯、乙醇酸丙基鄰苯二甲醯基丙酯、乙醇酸丁基鄰苯二甲醯基丁酯、乙醇酸辛基鄰苯二甲醯基辛酯、乙醇酸甲基鄰苯二甲醯基乙酯、乙醇酸乙基鄰苯二甲醯基甲酯、乙醇酸乙基鄰苯二甲醯基丙酯、乙醇酸甲基鄰苯二甲醯基丁酯、乙醇酸乙基鄰苯二甲醯基丁酯、乙醇酸丁基鄰苯二甲醯基甲酯、乙醇酸丁基鄰苯二甲醯基乙酯、乙醇酸丙基鄰苯二甲醯基丁酯、乙醇酸丁基鄰苯二甲醯基丙酯、乙醇酸甲基鄰苯二甲醯基辛酯、乙醇酸乙基鄰苯二甲醯基辛酯、乙醇酸辛基鄰苯二甲醯基甲酯及乙醇酸辛基鄰苯二甲醯基乙酯。
磷酸酯類塑化劑之非限制性實例包括磷酸三苯酯及磷酸三甲苯酯。
檸檬酸酯類塑化劑之非限制性實例包括檸檬酸三乙醯基酯及檸檬酸三丁酯。
苯甲酸酯類塑化劑之非限制性實例包括苯甲酸2-萘酯(BANE)、二苯甲酸二丙二醇酯及二苯甲酸二乙二醇酯。
鄰苯二甲酸酯類塑化劑之非限制性實例包括鄰苯二甲酸二環己酯、鄰苯二甲酸二苄酯、鄰苯二甲酸二甲酯、鄰苯二甲酸二乙酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二-2-乙基己酯、鄰苯二甲酸二苯酯及鄰苯二甲酸二己酯。
鄰苯二甲酸酯類塑化劑之非限制性實例包括對苯二甲酸二甲酯、對苯二甲酸二乙酯、對苯二甲酸二丁酯、對苯二甲酸二-2-乙基己酯、對苯二甲酸二苯酯及對苯二甲酸二己酯。
聚酯類塑化劑之非限制性實例包括己二酸聚酯,諸如Admex 523、Admex 6995及Admex 760。
多元醇類塑化劑之非限制性實例包括環己烷-1,4-二甲醇、山梨糖醇、1,3-丙二醇、乙二醇、甘油、三乙二醇、伸丁二醇、三羥甲基丙烷及木糖醇。
多價醇酯類塑化劑之非限制性實例包括三乙二醇雙(2-乙基己酸酯)、二丙二醇二苯甲酸酯及二乙二醇二苯甲酸酯。偏苯三酸酯類塑化劑之非限制性實例包括偏苯三酸參(2-乙基己酸酯)及磷酸甲苯基二苯酯。
揭示於本申請案中之膜可用於LCD、OLED及QD OLED裝置中。本申請案揭示包括任何先前揭示的膜之裝置。
在一個實施例中,該裝置為液晶顯示器(LCD)、有機發光二極體(OLED)或量子點有機發光二極體(QD OLED)裝置。在此實施例之一個類別中,該裝置為LCD裝置。在此實施例之一個類別中,該裝置為OLED裝置。在此實施例之一個類別中,該裝置為QD OLED裝置。
特定實施例 實施例1. 一種膜,其包含:(1)經位向選擇取代的纖維素酯,其包含:(i)複數個芳族-CO-取代基;(ii)複數個第一不飽和或飽和(C1-6 )烷基-CO-取代基;及(iii)複數個羥基取代基;其中:該羥基之取代度(「DSOH 」)為0.2至1.1,該纖維素酯具有為0.15至0.8之芳族-CO-取代基之C2取代度(「C2DSArCO 」),該纖維素酯具有為0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C3取代度(「C3DSArCO 」),該纖維素酯具有為0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C6取代度(「C6DSArCO 」),芳族-CO-取代基之總取代度(「TotDSArCO 」)為0.25至2,0,該芳族-CO-為(C6-20 )芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1 取代;雜芳基-CO-,其中該雜芳基為具有1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員環,且其中該雜芳基係未經取代或經1至5個R1 取代;及(2)組分A,其為, 其中:環A為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;環B為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;環C為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;R1 為烷基;鹵烷基;視需要經烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、鹵素1至5取代之(C6-20 )芳基;包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;或-CH2 C(O)-R3 ;R2 獨立地為氫、烷基或鹵烷基;R3 為烷基、鹵烷基、(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基,其中該芳基或雜芳基係未經取代或經1至5個R6 取代;R4 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基,其中各基團係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20 )烷氧基、或鹵(C1-20 )烷氧基、羥基(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-羥基(C1-20 )烷基、或(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-取代;各R5 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或鹵素;各R6 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、或鹵素或(C6-20 )芳基,其中該芳基係未經取代或經1至5個R7 取代;各R7 獨立地為羥基、(C1-6 )烷基、鹵(C1-6 )烷基或(C1-6 )烷氧基;R8 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基或鹵(C1-20 )烷氧基;R9 為R4 -O-、(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-、(C1-20 )烯基、(C1-20 )烯基-O-、(C1-20 )烷基-COO-(C1-20 )烷基-、(C1-20 )烷基-COO-、(C1-20 )烷基,其中1至2個碳原子係經O、N或S置換,(C6-10 )芳基、包含1至4個選自由N、O或S組成之群之雜原子之5員至10員雜芳基,其中該等基團中之各者係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20 )烷氧基、或鹵(C1-20 )烷氧基、羥基(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-羥基(C1-20 )烷基、或(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-取代;各n為0、1、2、3、4或5;及各m為0、1、2、3或4;其中:組分A係以基於組合物之總重量計小於30重量%存在,該膜之厚度(「d」) (µm)為10 µm至200 µm,該膜展現為小於零之Re (589 nm),Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-10至-0.5,Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至6.0,該膜展現[[-Rth (589 nm)/Re (589 nm)] + 0.5] (「Nz 」)為-3.0至3.0,各Re (589 nm)為在589 nm處測得的平面內延遲,各Rth (589 nm)為在589 nm處測得的平面外延遲,且該膜係經延伸。
實施例2. 如技術方案1之膜,其包含:(1)經位向選擇取代的纖維素酯,其包含:(i)複數個芳族-CO-取代基;(ii)複數個第一不飽和或飽和(C1-6 )烷基-CO-取代基;及(iii)複數個羥基取代基;其中:該羥基之取代度(「DSOH 」)為0.2至1.1,該纖維素酯具有為0.15至0.7之芳族-CO-取代基之C2取代度(「C2DSArCO 」),該纖維素酯具有為0.05至0.5之芳族-CO-取代基之C3取代度(「C3DSArCO 」),該纖維素酯具有為0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C6取代度(「C6DSArCO 」),該芳族-CO-為(C6-20 )芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1 取代;雜芳基-CO-,其中該雜芳基為具有1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員環,且其中該雜芳基係未經取代或經1至5個R1 取代;及(2)化合物A,其為, 其中:環A為(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或 S之雜原子之5員至10員雜芳基;環B為(C6-20 )芳基;環C為(C6-20 )芳基;R1 為烷基;鹵烷基;視需要經烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、鹵素1至5取代之(C6-20 )芳基;包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;或-CH2 C(O)-R3 ;R2 獨立地為氫、烷基或鹵烷基;R3 為烷基、鹵烷基、(C6-20 )芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基,其中該芳基或雜芳基係未經取代或經1至5個R6 取代;R4 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基,其中各(亦即烷基、鹵烷基或烷基-CO-烷基)係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20 )烷氧基、或鹵(C1-20 )烷氧基、羥基(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基-羥基(C1-20 )烷基或(C1-20 )烷氧基-(C1-20 )烷基-CO-(C1-20 )烷基-取代;各R5 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或鹵素;各R6 獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或鹵素或(C6-20 )芳基,其中該芳基係未經取代或經1至5個R7 取代;各R7 獨立地為羥基、(C1-6 )烷基、鹵(C1-6 )烷基或(C1-6 )烷氧基;R8 為(C1-20 )烷基、鹵(C1-20 )烷基、(C1-20 )烷氧基或鹵(C1-20 )烷氧基;各n為0、1、2、3、4或5;及各m為0、1、2、3或4;其中:組分A係以基於組合物之總重量計小於30重量%存在,該膜之厚度(「d」) (µm)為10 µm至200 µm,該膜展現為小於零之Re (589 nm),Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-10至-0.5,Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至6.0,該膜展現[[-Rth (589 nm)/Re (589 nm)] + 0.5] (「Nz 」)為-3.0至3.0,各Re (589 nm)為在589 nm處測得的平面內延遲,各Rth (589 nm)為在589 nm處測得的平面外延遲,且該膜係經延伸。
實施例3. 如實施例1或2中任一項之膜,其中Nz 為0.2至0.8。
實施例4. 如實施例1至3中任一項之膜,其中Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-1.8至1.8。
實施例5. 如實施例1或2中任一項之膜,其中Nz 為0.8至1.2。
實施例6. 如實施例1至5中任一項之膜,其中該Re (589 nm)為-120 nm至-320 nm,該Rth (589 nm)為-60 nm至60 nm,Re(450 nm)與Re(550 nm)之比率為0.95至1.02,及Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為0.95至1.05,其中該Re(450 nm)、Re(550 nm)及Re(650 nm)分別為在450 nm、550 nm及650 nm處測得的平面內延遲。
實施例7. 如實施例1至6中任一項之膜,其中Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5,及Rth (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為0.15至4.2。
實施例8. 如實施例1至7中任一項之膜,其中Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為小於1.05,其中該Re (450 nm)為在450 nm處測得的平面內延遲,及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
實施例9. 如實施例1至8中任一項之膜,其中Re (450 nm)與Re (550 nm)之比率為0.75至0.85。
實施例10. 如實施例1至9中任一項之膜,其中該Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為大於0.95,其中該Re (650 nm)為在650 nm處測得的平面內延遲及Re (550 nm)為在550 nm處測得的平面內延遲。
實施例11. 如實施例10之膜,其中Re (650 nm)與Re (550 nm)之比率為1.10至1.2。
實施例12. 如實施例1至11中任一項之膜,其中該化合物A為
實施例12. 如實施例1至11中任一項之膜,其中該組分A為1,3-二苯基-1,3-丙二酮、阿伏苯宗、(2-羥基-4-(辛基氧基)苯基(苯基)甲酮、(2-羥基-4-甲氧基苯基)(2-羥基苯基)甲酮、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(己基氧基)苯酚、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基]-5-[2-羥基-3-(十二烷基氧基-及十三烷基氧基)丙氧基]苯酚、2-(4-(4,6-二([1,1'-聯苯基]-4-基)-1,3,5-三嗪-2-基)-3-羥基苯氧基)丙酸異辛酯、6,6'-(6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪-2,4-二基)雙(3-丁氧基苯酚)、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(3-((2-乙基己基)氧基)-2-羥基丙氧基)苯酚、7-二乙基胺基-4-甲基香豆素或其組合。
實施例13. 如實施例1至12中任一項之膜,其中該芳族-CO-為(C6-20 )芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1 取代。
實施例14. 如實施例13之膜,其中該芳族-CO-為苯甲醯基或萘甲醯基,其係未經取代或經1至5個R1 取代。
實施例15. 如實施例14之膜,其中該芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1 取代之苯甲醯基。
實施例16. 如實施例15之膜,其中該纖維素酯具有0.40至1.6之totDSArCO
實施例17. 如實施例18之膜,其中該C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.30至1.25。
實施例18. 如實施例14之膜,其中該芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1 取代之萘甲醯基。
實施例19. 如實施例17至19中任一項之膜,其中纖維素酯具有0.3至0.8之totDSArCO
實施例20. 如實施例19之膜,其中該C2DSArCO 及C3DSArCO 之總和為0.2至0.6。
實施例21. 如實施例1至20中任一項之膜,其中該第一不飽和或飽和(C1-20 )烷基-CO-取代基為乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、3-甲基丁醯基、戊醯基、4-甲基戊醯基、3-甲基戊醯基、2-甲基戊醯基、己醯基或巴豆醯基。
實施例22. 如實施例1至21中任一項之膜,其中該纖維素酯進一步包含複數個第二(C1-20 )烷基-CO-取代基。
實施例23. 如實施例1至22中任一項之膜,其中該膜進一步包含塑化劑。
實施例24. 一種裝置,其包括如實施例1至23中任一項之膜。
實施例25,如實施例24之裝置,其中該裝置為液晶顯示器(「LCD」)、有機發光二極體(「LCD」OLED)或量子點有機發光二極體(「QD OLED」)。
實例 縮寫 1MIM:1-甲基咪唑;2EH或2-EH:2-乙基己醯基;2EHCl:2-乙基己醯氯;AcOH:乙酸;Ak:烷基醯基或烷基-CO-;Ak1與FAk相同;Ak2與SAk相同;Ar:芳基;ArCO:芳基-醯基或芳基-CO-;atm:大氣壓;Bz:苯甲醯基;BzCl:苯甲醯氯;Bz2 O:苯甲酸酐;℃:攝氏度;C2DS:在C2位置處的取代度;C3DS:在C3位置處的取代度;C6DS:在C6位置處的取代度;CAcPr:經乙醯丙醯基取代的纖維素酯或乙酸丙酸纖維素;CCrBz:經巴豆醯基及苯甲醯基取代的纖維素酯或巴豆酸苯甲酸纖維素;CE:纖維素酯;COc:經辛醯基取代的纖維素酯或辛酸纖維素;CPN:環戊酮;CPr:經丙醯基取代的纖維素酯或丙酸纖維素;CPrBz:經丙醯基及苯甲醯基取代的纖維素酯或丙酸苯甲酸纖維素;CPr2EH:經丙醯基及2-乙基己醯基取代的纖維素酯或丙酸2-乙基己酸纖維素;CPr2EHBz:經丙醯基、2-乙基己醯基及苯甲醯基取代的纖維素酯或丙酸2-乙基己酸苯甲酸纖維素;CPr2EHF:經丙醯基、2-乙基己醯基及呋喃醯基取代的纖維素酯或丙酸2-乙基己酸呋喃甲酸纖維素;CPr2EHNp:經丙醯基、2-乙基己醯基及萘甲醯基取代的纖維素酯或2-乙基己酸萘甲酸纖維素;CPrNp:經丙醯基及萘甲醯基取代的纖維素酯或丙酸萘甲酸纖維素;CPrAcBz:經丙醯乙醯基及苯甲醯基取代的纖維素酯或丙酸乙酸苯甲酸纖維素;CCrBz:經巴豆醯苯甲醯基取代的纖維素酯或巴豆酸苯甲酸纖維素;CPrPvNp:經丙醯基、特戊醯基及萘甲醯基取代的纖維素酯或丙酸特戊酸萘甲酸纖維素;DCM:二氯甲烷;DEAMC:7-二乙基胺基-4-甲基香豆素;DEP:鄰苯二甲酸二乙酯;DHODPO:(2-羥基-4-甲氧基苯基)(2-羥基苯基)甲酮;BANE:苯甲酸2-萘酯;DMAC:二甲基乙醯胺;DMSO:二甲基亞碸;DPDO:1,3-二苯基丙-1,3-二酮;DS:平均取代度;eq:當量;EtOH:乙醇;Ex:實例;F:呋喃-2-CO-;FAk:第一烷基-醯基、Ak1或第一烷基-CO-;FAr:第一芳基-醯基或第一芳基-CO-;FCl:呋喃-2-羰基氯;g:公克;HODPO:(2-羥基-4-(辛基氧基)苯基)(苯基)甲酮;i- PrOH:異丙醇;KOAc:乙酸鉀;MEK:甲基乙基酮;hr或h:小時;L:公升;MeOH:甲醇;min:分鐘;mL:毫升;µm:微米;mol:莫耳;mol eq:基於脫水葡萄糖單元之莫耳數計之莫耳當量;NMP:N-甲基吡咯啶酮;Np:萘甲醯基;NpCl:萘甲醯氯;Pr:丙醯基;Pr2 O:丙酸酐;PrCl:丙醯氯;RBF:圓底燒瓶;RM:反應混合物;SM:起始物質;Int:中間體;rt:室溫;SAk:第二烷基-醯基或第二烷基-CO-;SAr:第二芳基-醯基或第二芳基-CO-;TBMADMP:二甲基磷酸三丁基甲基銨;Tot.:總;TFA:三氟乙酸;TFAA:三氟乙酸酐;UV:紫外線。
NMR 表徵 :質子NMR資料係於在600 MHz下操作之JEOL Model Eclipse-600 NMR光譜儀上獲得。樣品管尺寸為5 mm,及樣品濃度為約20 mg/mL DMSO-d6 。各光譜係在80℃下,使用64次掃描及15秒脈衝延遲來記錄。將一至兩滴三氟乙酸-d添加至各樣品以將殘留水自所關注的光譜區域位移。四甲基矽烷之化學位移係以百萬分率(「ppm」)表示,其中該DMSO-d6之中心峰作為內部參考(2.49 ppm)。
定量13 C NMR資料係於在100 MHz下操作之JEOL Model GX-400 NMR光譜儀上獲得。樣品管尺寸為10 mm,及樣品濃度為約100 mg/mL DMSO-d6 。將乙醯丙酮鉻(III)以5 mg/100 mg纖維素酯作為鬆弛劑添加至各樣品。各光譜係通常在80℃下,使用10000次掃描及1秒脈衝延遲來記錄。四甲基矽烷之化學位移係以ppm表示,其中該DMSO-d6之中心峰作為內部參考(39.5 ppm)。
纖維素酯之各個醯基基團之質子及碳NMR賦值、取代度及相對取代度(「RDS」)係藉由採用揭示於US 2012/0262650中之程序來確定。
DMTA 測量 係在來自TA Instruments之DMA Q800上將等溫溫度設定為5分鐘接著以3℃/min將溫度自25℃升至230℃進行。振盪應變設定為0.1%。
用於製備膜之纖維素酯之溶液及膜製劑係藉由採用揭示於US 2012/0262650中之程序來製造。
用於膜澆鑄之溶液製劑 :將纖維素酯固體及添加劑添加至溶劑以得到基於纖維素酯、組分A及塑化劑之總重量計8至16重量%之最終濃度。將混合物密封,放在滾筒上,且混合24小時以產生均勻溶液。
膜中組分A及塑化劑之百分比定義如下。組分A或塑化劑之百分比=組分A或塑化劑之重量/纖維素酯、組分A、塑化劑及經添加之所有其他組分之總重量。
溶液濃度定義如下。溶液濃度=(纖維素酯、組分A、塑化劑及經添加之所有其他組分(不包括溶劑))之總重量/(纖維素酯、組分A、塑化劑、經添加之所有其他組分及溶劑)之總重量。
用於溶液製備之溶劑可為但不限於環戊酮(CPN)、DCM、DCM與丙酮、乙醇或甲醇之混合物,諸如丙酮/DCM = 10/90 (重量/重量)、甲醇/DCM = 10/90 (重量/重量)、甲醇/DCM=5/95及乙醇/DCM = 10/90 (重量/重量)、乙醇/DCM = 5/95 (重量/重量)。
膜澆鑄 :使用刮刀將以上製備的溶液澆鑄至玻璃板上以獲得具有所需厚度之膜。澆鑄係在通風櫥中實施,其中相對濕度控制在45%至50%。澆鑄後,若使用丙酮/DCM = 10/90 (重量/重量)、甲醇/DCM/甲醇 = 10/90 (重量/重量)及乙醇/DCM = 10/90 (重量/重量)、甲醇/DCM = 5/95 (重量/重量)、及乙醇/DCM = 5/95 (重量/重量)作為溶劑,除非另有說明,否則允許膜在蓋盤下乾燥60至110分鐘以使移開盤之前溶劑蒸發之速率最小化。允許膜乾燥15至30分鐘然後將該膜自玻璃剝離且在強制空氣烘箱中於100℃下退火10分鐘。在100℃下退火後,將膜在更高溫度(120℃)下再退火10分鐘。若使用CPN作為溶劑,除非另有說明,否則在移開盤之前將該膜蓋盤下乾燥75分鐘。將膜在通風櫥中再進一步乾燥2小時,然後將該膜自玻璃剝離,且在強制空氣烘箱中於100℃下退火10分鐘。在100℃下退火後,將膜在更高溫度(130℃)下再退火10分鐘。
膜拉伸 :膜拉伸係藉由Brückner Karo IV實驗室膜拉伸機來完成。改變拉伸條件,諸如拉伸比、拉伸溫度、預加熱及後退火以根據應用之要求來獲得特定光學延遲及色散。
光學測量 :膜光學延遲及色散測量係使用具有370至1000 nm之光譜範圍之J.A.Woollam M-2000V光譜橢圓偏光儀或具有250至2500 nm之光譜範圍之J.A.Woollam RC2橢圓偏光儀來進行。來自J.A.Woollam Co., Inc.之RetMeas (延遲測量)程序用於獲得光學膜平面內(Re )及平面外(Rth )延遲。膜之厚度係使用Metricon Prism Coupler 2010 (Metricon Corp.)或使用手持式Positector 6000來測定。霧度及b*測量係使用HunterLab Ultrascan VIS色度計以漫透射模式(1英寸直徑埠)來進行。
化學品 :DEP、Admex 523、Admex 525、Admex 760及Admex 6995係獲自Eastman Chemical Company,1,3-二苯基丙-1,3-二酮、(2-羥基-4-(辛基氧基)苯基)(苯基)甲酮、(2-羥基-4-甲氧基苯基)(2-羥基苯基)甲酮及7-二乙基胺基-4-甲基香豆素係購自Millipore Sigma,(2-羥基-4-(辛基氧基)苯基)(苯基)甲酮係購自Alfa-Aesar,阿伏苯宗係購自Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.,Tinuvin 400、Tinuvin 405及Tinuvin 1577係購自Ciba Specialty Chemical Corp,Tinuvin 460及Tinuvin 479係購自BASF。
實例 1 將TBMADMP (4405.2 g)添加至5頸RBF。在1.20至1.80 mm Hg下將TBMADMP加熱至100℃ (5小時)。移去真空後,將NMP (1887.9 g,30重量%)添加至RM,且將RM冷卻至室溫。在20分鐘內將DPv 610纖維素(473.3 g,7重量%)添加至RM。將所得的RM在室溫下攪拌55分鐘。將混合物在100℃下攪拌(6小時),在30℃下攪拌(3小時),且再加熱至102℃。在67分鐘內將Pr2 O (456 g,1.2當量)添加至RM。46分鐘後,在20分鐘內將Bz2 O (2115 g (3.30當量)添加至RM。將RM攪拌67分鐘,且將經冷卻之30% H2 O2 (45 mL)逐滴添加至RM。然後將該混合物攪拌30分鐘。在MeOH/H2 O (95/5)溶液中使粗產物沉澱,且將物質過濾,用MeOH洗滌(5X),然後在真空中乾燥(55 mmHg,50℃)以得到標題產物。藉由1 H NMR之分析:DSPr = 1.64及DSBz = 0.69。藉由13 C NMR之分析:C6DS=0.94,C3DS=0.56,C2DS=0.83。藉由對苯甲酸羰基酯共振之積分,13 C NMR亦顯示C2DSBz + C3DSBz – C6DSBz = 0.39。
實例 2 實例 2 藉由調整用於製備實例 1 之程序,使用3.35當量代替3.3當量Bz2 O替代來製備。 表1
實例 DS Al1 DSA1 Ar DSAr C6DSAr C2DS + C3DSAr (C2DS + C3DS) - C6DSAr C2DS C3DS C6DS
1 2.33 Pr 1.64 Bz 0.69 0.15 0.54 0.39 0.83 0.56 0.94
2 2.40 Pr 1.64 Bz 0.76 0.17 0.54 0.42 0.83 0.59 0.98
中間體 1 (CPr,DSpr = 1.13) 將iPrOH (259 g)添加至N2 氣氛下的具有頂置攪拌及底部閥之4頸RBF。將夾套設定為41℃。將Eastman™ CAP 482-20 (60 g,1莫耳當量)添加至反應器,且將RM攪拌40分鐘。將在AcOH (4.63 g,0.41莫耳當量)及DMSO (259 g)中之N2 H4 . H2 O (18.0 g,1.89莫耳當量)添加至該RM。將RM攪拌24小時。藉由添加水使粗產物沉澱。用洗滌袋過濾該粗產物且用大量水洗滌。將固體轉移至鋁鍋(aluminum pan)且在真空中乾燥(60°C)過夜以得到標題化合物。1 H NMR,13 C NMR:DSpr =1.13,DSOH = 1.87,C2DS = 0.26,C3DS = 0.34,C6DS = 0.53。
中間體 2 (CPr,DSPr = 1.16)中間體 2 係藉由調整用於製備中間體 1 之程序,只是將N2 H4 .H2 O (1.87莫耳當量)及AcOH (0.4莫耳當量)添加至Eastman™ CAP482-20 (1.0莫耳當量)來製備。1 H NMR,13 C NMR:DSpr =1.16,DSOH =1.84,C2DS=0.26,C3DS=0.32,DSC6 =0.57。
中間體 3 (CPr,DSPr = 1.18)中間體 3 係藉由調整用於製備中間體 1 之程序,只是將N2 H4 .H2 O (1.85莫耳當量)及AcOH (0.4莫耳當量)添加至Eastman™ CAP482-20 (1.0莫耳當量)來製備。1 H NMR,13 C NMR:DSpr =1.18,DSOH =1.82,C2DS=0.28,C3DS=0.31,C6DS=0.59。
中間體 4 (CPr,DSpr = 1.40)中間體 4 係藉由調整用於製備中間體 1 之程序,只是將N2 H4 .H2 O (1.57莫耳當量)及AcOH (0.35莫耳當量)添加至Eastman™ CAP482-20 (1.0莫耳當量)來製備。1 H NMR,13 C NMR:DSpr =1.40,DSOH =1.60,C2DS=0.32,C3DS=0.44,C6DSC6 =0.63。
中間體 5 (CPr,DSpr = 1.64)中間體 5 係藉由調整用於製備中間體 1 之程序,只是將N2 H4 .H2 O (1.25莫耳當量)及AcOH (0.29莫耳當量)添加至Eastman™ CAP482-20 (1.0莫耳當量)來製備。1 H NMR,13 C NMR:DSpr =1.64,DSOH =1.36,C2DS=0.41,C3DS=0.52,C6DS=0.71。
中間體 6 (CPr,DSpr = 1.10)中間體 6 係藉由調整用於製備中間體 1 之程序,只是將N2 H4 .H2 O (1.94莫耳當量)及AcOH (0.42莫耳當量)添加至Eastman™ CAP482-20 (1.0當量)來製備。1 H NMR,13 C NMR:DSpr =1.10,DSOH =1.90,C2DS=0.23,C2DS=0.30,C6DS=0.58。
中間體 7 (CPr2EH,DSpr = 1.13及DS2EH = 0.49) 在氮氣氣氛下將無水DMAC (1.86莫耳當量)及NMI (0.39莫耳當量)添加至具有頂置機械攪拌之4頸夾套樹脂釜反應燒瓶。將中間體 1 (0.089莫耳當量)添加至RM,且將RM攪拌(30℃) 48小時。然後在25分鐘內滴加在DMAC (0.089莫耳當量)中之2-EHCl (0.52莫耳當量)。將RM攪拌(70℃) 16小時,且藉由添加水(4 L)使粗產物沉澱。收集固體,用去離子水連續洗滌6小時,且在真空中乾燥(55℃)過夜以得到標題化合物。1 H NMR及13 C NMR:DSPr =1.13,DS2EH =0.49,DSOH =1.38,C2DS=0.38,C3DS=0.40,C6DS=0.85。
中間體 8 (乙酸丙酸纖維素,DSAc =0.17,DSpr =1.66,DSOH =1.17) 如US20090096962A中所述來製備中間體 8 (實例 18 )。
中間體 9 (CPr,DSPr =1.15)及10 (丙酸纖維素,DSPr =1.41)中間體 910 係藉由以N2 H4 . H2 O及AcOH調整用於合成中間體1之程序來合成。藉由1 H及13 C NMR來確定DSPr
實例 3 (CPrBz,DsPr = 1.15,DsBz = 1.13) 在氮氣氣氛下將中間體 2 (20 g,1.0莫耳當量)添加至裝納DMAC (172 mL,21.2莫耳當量)及1-甲基咪唑(32 mL,4.5莫耳當量)之攪拌混合物RB燒瓶,在真空中乾燥該燒瓶過夜。將RM在50℃下攪拌4小時,冷卻至26℃,且然後在1小時內將BzCl (14.2 g,1.15莫耳當量含在DMAC (14 mL)中)緩慢添加至RM中。將RM在26℃下攪拌14小時。粗產物經沉澱iPrOH (2.2 L),且用水(2x500 mL)洗滌固體,用去離子水連續洗滌5小時,且在真空中乾燥過夜以提供標題化合物。1 H NMR及13 C NMR:DsPr = 1.15,DsBz = 1.13 (表3)。
實例 4 至實例 11 及實例25係藉由調整用於製備實例 3 之程序,只是如表2中所顯示使用不同SM及BzCl含量來製備。該等化合物以1 H NMR及13 C NMR表徵,如表3中所顯示。
表2提供實例 311 之製備條件。 表2
實例編號 SM ( 中間體編號 ) SM DSPr BzCl ( 莫耳當量 )
3 9 1.15 1.15
4 9 1.15 1.15
5 6 1.10 1.15
6 1 1.13 1.02
7 5 1.64 0.85
8 4 1.40 1.00
9 3 1.18 1.12
10 10 1.41 0.98
11 10 1.41 1.00
25 3 1.18 1.30
表3提供實例 311實例 25 之NMR表徵,無效係藉由調整本文所述的程序來製備。 表3
實例 DS C2DSPr C3DSPr C6DSPr DSPr DSBz C2DSBz C3DSBz C6DSBz (C2DSBz + C3DSBz (C2DSBz + C3DSBz ) - C6DSBz
3 2.28 0.26,0.32,0.57 1.15 1.13 0.49,0.21,0.43 0.70 0.28
4 2.18 0.27,0.30,0.59 1.15 1.03 0.43,0.21,0.39 0.64 0.24
5 2.22 0.25,0.29,0.56 1.10 1.12 0.46,0.23,0.43 0.69 0.26
6 2.10 0.26,0.34,0.53 1.13 0.97 0.38,0.14,0.45 0.52 0.08
7 2.45 0.41,0.52,0.71 1.64 0.81 0.38,0.14,0.29 0.52 0.24
8 2.33 0.32,0.44,0.63 1.40 0.93 0.44,0.15,0.34 0.59 0.24
9 2.28 0.28, 0.31,0.59 1.18 1.10 0.47, 0.19,0.43, 0.67 0.24
10 2.38 0.34,0.42,0.65 1.41 0.97 0.45, 0.16,0.37, 0.60 0.24
11 2.38 0.34,0.42,0.65 1.41 0.97 0.43, 0.20,0.34, 0.63 0.30
25 2.46 0.28, 0.31, 0.59 1.18 1.28 0.57, 0.28, 0.43 0.85 0.42
實例 12 (CPrAcBz DsPr = 1.66,DsAc = 0.17,DsBz = 0.86)實例 12 係藉由調整用於製備實例3之程序,只是使用中間體 8 (1.0當量,20 g,CAcPr,DSAc 0.17及DSPr = 1.66)及BzCl (10.2 g,0.95當量)來製備。1 H NMR及13 C NMR: DsPr = 1.66,DsAc = 0.17,DsBz = 0.86 (表4)。 表4提供實例 12 之NMR表徵。 表4
實例 DS DSPr DSAc C2DSBz C3DSBz C6DSBz DSBz C2DSBz +C3DSBz (C2DSBz +C3DSBz )-C6DSBz
12 2.69 1.66 0.17 0.30,0.13,0.43 0.86 0.43 0.00
實例 13 (CPr2EHBz,DsPr = 1.13,DsAc = 0.49,DsBz = 0.96) 14 (CPr2EHBz,DsPr = 1.13,DsAc = 0.49,DsBz = 1.02)實例 1314 係藉由調整用於製備實例 3 之程序來製備。對於實例 13 ,使用中間體 7 (10 g,1.0莫耳當量)及BzCl (5.1 g,0.98莫耳當量),及對於實例 14 ,使用中間體 7 (10 g,1.0莫耳當量)及BzCl (0.97莫耳當量)。 表5提供實例 13實例 14 之NMR表徵。 表5
實例 DS C2DSPr C3DSPr C6DSPr C2DS2EH C3DS2EH C6DS2EH DSPr / DS2EH C2DSBz C3DSBz C6DSBz DSBz C2DSBz +C3DSBz (C2DSBz +C3DSBz )- C6DSBz
13 2.58 0.26, 0.34, 0.53 0.12,0.06,0.32 1.13/0.49 0.56,0.23,0.16 0.96 0.79 0.62
14 2.64 0.26,0.34,0.53 0.12, 0.06,0.32 1.13/0.49 0.56,0.28,0.16 1.02 0.84 0.68
實例 15 (CPrBz,DsPr = 1.54,DsBz = 0.63)實例 15 係藉由調整用於製備實例 3 之程序,只是使用中間體 1 來製備。在中間體 1 (20 g,1.0莫耳當量)完全溶解後,在26℃下在1小時內添加在DMAC (2 mL)中之BzCl (1.87 g,0.15莫耳當量),且將RM在26℃下攪拌1小時。然後在26℃下在1小時內添加在DMAC (3.7 mL)中之PrCl (3.95 g,0.5莫耳當量)且攪拌1小時。然後在26℃下在1小時內添加在DMAC (5 mL)中之BzCl (6.09 g,0.5莫耳當量),且將RM攪拌14小時。如用於製備實例 3 之程序中所述來純化產物。
實例 16 (CPrBz,DsPr = 1.69,DsBz = 0.63)實例 16 係根據用於製備實例 15 ( 實例 3) 之程序,只是在中間體 1 (20 g,1.0莫耳當量)完全溶解後,在26℃下在1小時內添加在DMAC (5 mL)中之PrCl (4.5 g,0.5莫耳當量),且將RM在26℃下攪拌1小時。然後在26℃下在1小時內添加在DMAC (9 mL)中之BzCl (8.44 g,0.68莫耳當量),且在26℃下攪拌14小時。根據用於製備實例 3 之程序來分離及純化標題化合物。
實例 17 (CPrNp,DsPr = 1.68,DsNp = 0.46)實例 17 係藉由調整用於製備實例 16 之程序,只是使用中間體3來製備。在中間體 3 (20 g,1莫耳當量)完全溶解後,在26℃下在1小時內添加在DMAC (4.75 mL)中之PrCl (4.45 g,0.55莫耳當量),且將RM在26℃下攪拌1小時。然後在26℃下在1小時內添加在DMAC (8.6 mL)中之NpCl (0.5莫耳當量),且將RM在26℃下攪拌14小時。如用於製備實例 3 之程序來分離及純化標題化合物。
實例 24 (CPrBz,DsPr = 1.60,DsBz = 0.92)實例 24 係根據用於製備實例 15 之程序,只是使用中間體 3 來製備。在中間體 3 (20 g,1.0莫耳當量)完全溶解後,在26℃下在1小時內添加在DMAC (5 mL)中之PrCl (3.85 g,0.45莫耳當量),且將RM在26℃下攪拌1小時。然後在26℃下在1小時內添加在DMAC (9 mL)中之BzCl (10.72 g,0.90莫耳當量),且在26℃下攪拌14小時。根據用於製備實例 3 之程序來分離及純化標題化合物。 表6提供實例 15 17 及實例 24 之NMR表徵。實例 24 係藉由調整本申請案中所述的程序來製備。 表6
實例 DS C2DSPr C3DSPr C6DSPr DSPr ArCO C2DSArCO C3DSArCO C6DSArCO DSArCO C2DSArCO + C3DSArCO (C2DSArCO +C3DSArCO )-C6DSArCO
15 2.22 0.39,0.37,0.78 1.54 Bz 0.33,0.11,0.19, 0.63 0.44 0.25
16 2.27 0.43,0.41,0.84, 1.69 Bz 0.38,0.13,0.12, 0.63 0.49 0.39
17 2.14 0.41,0.41,0.86, 1.68 Np 0.29,0.05,0.12, 0.46 0.34 0.22
24 2.53 0.39, 0.39, 0.84, 1.62 Bz 0.50, 0.23, 0.17, 0.90 0.73 0.56
實例 18 (CPr2EHF,DsPr = 1.18,Ds2EH = 0.36,DsF = 0.99) 在裝納的4頸樹脂釜中在氮氣氣氛下將中間體 3 (115 g,1莫耳當量)添加至DMAC (931 g)及NMI (186 g)之混合物,且將RM在32℃下攪拌4小時。將RM冷卻至26℃,且在60分鐘內滴加2-EHCl (31.93 g,0.4莫耳當量),且將RM在26℃下攪拌2小時。然後在120分鐘內滴加在DMAC (85 g)中之FCl (71.65 g,1.09莫耳當量,以中間體 3 為主),且將RM在26℃下攪拌12小時。用MeOH (2 L)使粗產物沉澱,然後過濾固體且用去離子水連續洗滌5小時。在55℃下在真空中乾燥物質過夜以提供標題化合物。1 H NMR,13 C NMR:DSPr =1.18,DS2EH =0.36;DSF =0.99;DSOH =0.51;C2DS=0.88;C3DS=0.65;C6DS=0.97。 表7提供實例 18 之NMR表徵。 表7
實例 DS DSPr DS2EH DSF C2DS C3DS C6DS
18 2.55 1.18 0.36 0.99 0.88 0.65 0.97
實例 19 (CCrBz,DsCr = 1.39,DsBz = 1.33) 一般程序描述於申請案WO2019190756A1中(中間體1及實例1之製備)。 步驟(1)製備中間體 11 巴豆酸纖維素 將1ARY纖維素紙漿(70 g,1.0當量 5重量%)添加至經冷卻之(25℃)夾套反應釜。然後在頂置攪拌下將TFAA (151 g,1.67莫耳當量)在三氟乙酸(1180 g,24當量)中之溶液添加至經冷卻之纖維素固體。添加完成後,將RM在55℃下加熱,攪拌16小時,且然後冷卻至室溫。然後,製備反式-巴豆酸(52.0 g,1.4莫耳當量)、TFA (10 mL)及三氟乙酸酐(154 g,1.7莫耳當量)之溶液且攪拌45分鐘。在室溫下將所得的試劑混合物添加至RM,且將所得的RM攪拌8小時。用去離子水(1000 mL)處理RM以提供固體物質,將該固體物質過濾。將固體懸浮在iPrOH中且攪拌30分鐘然後將混合物過濾。將所得的固體懸浮在KOAc水溶液(5 M,2000 mL)中且攪拌36小時。藉由過濾收集固體且用去離子水連續洗滌8小時,且在真空中乾燥(60℃,12小時)以得到標題中間體。1 H NMR,13C NMR:DSCr =1.39,DSOH =1.61,C2DS=0.61,C3DS=0.72,C6DS=0.05。
步驟2,製備實例 19 巴豆酸苯甲酸纖維素。 將中間體 11 (20 g,1.0莫耳當量)添加至配備機械攪拌器之經烘箱乾燥之1000 mL夾套3頸圓底燒瓶,接著在N2 氣氛下將吡啶(150 mL)及二甲基乙醯胺(50 mL)添加至夾套圓底燒瓶。在氮氣氣氛下使用固體添加漏斗加入。將RM加熱至50℃且將混合物攪拌直至固體溶解,且然後將RM冷卻至25℃。然後在25℃下在2分鐘內添加BzCl (15.08 g,1.4當量)且將RM攪拌30分鐘接著在50℃下攪拌過夜。將丙酮(~150 mL)添加至RM接著添加去離子水(2200 mL)以使粗產物沉澱。過濾粗產物且用iPrOH:水之1:1溶液(2x)洗滌。用去離子水連續洗滌該粗產物至少5小時,固體經過濾器收集且在真空中乾燥(22.5 mm Hg,60℃)過夜。1 H NMR,13 C NMR:DSCr =1.39,DSBz =1.33,DSOH =0.29,C2DS=0.83,C3DS=0.89,C6DS=0.99。
實例 20 (CPrBz,DsPr = 1.81,DsBz = 0.68)實例 20 係藉由調整用於合成實例 19 之程序,只是在步驟1中在製備中間體 12 中使用攪拌共45分鐘後的丙酸苯甲酸纖維素、BzOH (0.5莫耳當量)、TF2 O (0.8莫耳當量)、TFA (10 mL)來製備,且將所得的試劑混合物添加至反應混合物且將RM攪拌(45℃) 3小時。隨後,將丙酸(0.8莫耳當量)、TF2 O (0.8莫耳當量)及TFA (10 mL)攪拌45分鐘,將所得的試劑溶液添加至RM,且將所得的RM攪拌5小時。在使用在步驟1中針對於實例 19 所描述的處理後,獲得中間體 12 。在添加第一經混合之酸酐之後,在45℃下將該混合物添加至反應釜中,且攪拌3小時。允許該反應攪拌5小時。1 H NMR,13 C NMR:DSPr =0.81,DSBz =0.52,DSOH =1.67,C2DS=0.64,C3DS=0.63,C6DS=0.05。
在步驟2中,將中間體 12 (1.0莫耳當量)及BzCl (0.15莫耳當量)在室溫下攪拌3小時,且然後將丙酸酐(1莫耳當量)在50℃下攪拌過夜。如在步驟2中針對於實例 19 所描述來分離標題產物。1 H NMR及13 C NMR:DSPr =1.81,DSBz =0.68,DSOH =0.51,C2DS=0.86,C3DS=0.76,C6DS=0.87。
表8提供實例 19 20 之NMR表徵。 表8
實例 DS FAk C2DSFAk C3DSFAk C6DSFAk DSFAK C2DSBz C3DSBz C6DSBz DSBz C2DSBz + C3DSBz (C2DSBz + C3DSBz ) - C6DSBz
19 2.71 Cr 0.61, 0.72, 0.05, 1.39 0.22, 0.17, 0.94 1.33 0.39 -0.54
20 2.49 Pr -, -, -, 1.81 -, -, -, 0.68 - -
實例 21 丙酸特戊酸萘甲酸纖維素CPrPvNp (DsPr = 1.18,DsPv = 0.39,DsNp = 1.18) 如US20170306054中所述來製備實例 21 (實例12,表3)。
實例 22 丙酸2-乙基己酸萘甲酸纖維素CPr2EHNp (DsPr = 1.18,Ds2EH = 0.40,DsNp = 1.26) 根據描述於美國申請案第62/891561號中之程序來製備實例 22 (實例7,表9)。 表9提供實例 21 22 之NMR表徵。 表9
實例 DS DSNp FAk/SAk DSFAk /DSSAk C2DS C3DS C6DS
21 2.75 1.18 Pr/PV 1.18/0.39 - - -
22 2.84 1.26 Pr/2EH 1.18/0.4 1.00 0.77 1.00
膜澆鑄及拉伸 表10提供具有或不具有組分A之一般膜組合物;用於製備澆鑄溶液之溶劑系統;若拉伸的話,則用於拉伸澆鑄膜之溫度;及膜之拉伸比。拉伸比以「x」或「c」提供。「x」指示膜係沿著機器方向(machine direction)以兩個邊固定且其他兩個邊自由進行拉伸。「c」指示膜係沿著機器方向以全部四個邊固定進行拉伸。例如,在含在DCM溶液中之10%丙酮中製備由纖維素酯實例 1 且在具有或不具有組分A (0至20重量%)下製成之澆鑄溶液。
關於膜18.1至18.4、膜21.1至21.3及膜22.1至22.3,將相應樹脂及組分A溶解於相應溶劑中以製備相應溶液A。製備固體重量%為12重量%之EastmanTM CAP482-20 (90重量%)及TPP (10重量%)在1:9 EtOH/DCM中之溶液。在相對濕度控制在45%至50%之通風櫥中將CAP482-20之溶液澆鑄至玻璃基板上。允許膜在蓋盤(cover pan)下乾燥45分鐘以使移開該盤之前溶劑蒸發速率最小化。將相應溶液A澆鑄至Eastman CAP482-20膜上。允許該等兩層膜在蓋盤下乾燥45分鐘以使移開該盤之前溶劑蒸發速率最小化且在移開該盤後進一步乾燥15分鐘。然後將兩層膜自玻璃剝離且在強制空氣烘箱中在100℃下退火10分鐘。在100℃下退火之後,將薄膜在更高溫度(120℃)下再退火10分鐘。在將兩層膜延伸之後,將頂層自底層剝離且進行測量。
表10提供相應溶液之組分及實例膜之拉伸條件。
膜中組分A及塑化劑之百分比定義如下。組分A或塑化劑之百分比=組分A或塑化劑之重量/(纖維素酯、組分A、塑化劑及經添加之所有其他組分)之總重量)。
溶液濃度定義如下。溶液濃度=(纖維素酯、組分A、塑化劑及經添加之所有其他組分(不包括溶劑))之總重量/(纖維素酯、組分A、塑化劑、經添加之所有其他組分及溶劑)之總重量
例如,對於膜1.3,將樹脂1 (8 g,95重量%)及組分A (0.421 g,5重量%)添加至1:9丙酮/DCM (75.8 g,濃度為10重量%)中。將混合物置於輥上直至樹脂1及組分A完全溶解。
例如,對於膜25.2,將樹脂25 (15 g,88重量%)、組分A (1.19 g,7重量%)及塑化劑Admex 523 (0.85 g,5重量%)添加至5:95 MeOH/DCM (104.7 g,濃度為14重量%)中。將混合物置於輥上直至樹脂1、組分A及塑化劑完全溶解。 表10
樹脂 溶劑 組分 A 重量 % 組分 A 拉伸溫度 ( ) 拉伸比
1.1 1 1:9丙酮/DCM - - 195 1.4 x
1.2 1 1:9丙酮/DCM - - 195 1.4 c
1.3 1 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 190 1.55 x
1.4 1 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 190 1.4 c
1.5 1 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 7 185 1.3 x
1.6 1 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 7 185 1.5 c
1.7 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 1577 5 195 1.4 x
1.8 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 1577 5 195 1.4 c
1.9 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 405 10 185 1.4 c
1.10 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 405 10 185 1.4 x
1.11 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 460 5 185 1.4 x
1.12 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 460 5 185 1.3 c
1.13 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 479 5 185 1.4 x
1.14 1 1:9丙酮/DCM Tinuvin 479 5 185 1.4 c
1.15 1 1:9丙酮/DCM HODPO 10 175 1.4 x
1.16 1 1:9丙酮/DCM HODPO 10 175 1.3c
1.17 1 1:9丙酮/DCM HODPO 20 160 1.35 x
1.18 1 1:9丙酮/DCM HODPO 20 160 1.4 c
1.19 1 1:9丙酮/DCM DEAMC 20 160 1.35 x
2.1 2 1:9丙酮/DCM - - 195 1.4 x
2.2 2 1:9丙酮/DCM - - 195 1.4 c
2.3 2 1:9丙酮/DCM DEP 10 185 1.7 x
2.4 2 1:9丙酮/DCM DEP 10 185 1.5 c
2.5 2 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 190 1.4 x
2.6 2 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 190 1.5 c
3.1 3 1:9丙酮/DCM DEP 10 175 1.4 x
3.2 3 1:9丙酮/DCM DEP 10 175 1.3 c
3.3 3 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 175 1.3 c
3.4 3 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 175 1.4 x
3.5 3 1:9丙酮/DCM Tinuvin 460 6 175 1.3 x
4.1 4 1:9丙酮/DCM - - 195 1.4 x
4.2 4 1:9丙酮/DCM - - 195 1.3 c
4.3 4 1:9丙酮/DCM DEP 10 185 1.4 x
4.4 4 1:9丙酮/DCM DEP 10 185 1.3 c
4.5 4 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 175 1.4 x
4.6 4 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 185 1.3 c
4.7 4 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 185 1.4 c
5.1 5 CPN DEP 10 165 1.3 c
5.2 5 CPN DEP 10 165 1.4 x
5.3 5 CPN 阿伏苯宗 5 175 1.4 x
5.4 5 CPN 阿伏苯宗 5 175 1.4 c
6.1 6 CPN DEP 10 175 1.4 x
6.2 6 CPN DEP 10 175 1.3 c
6.3 6 CPN 阿伏苯宗 5 180 1.4 x
6.4 6 CPN 阿伏苯宗 5 180 1.3 c
7.1 7 CPN - - 175 1.35 c
7.2 7 CPN DEP 10 155 1.5 c
7.3 7 CPN DEP 10 155 1.5 x
7.4 7 CPN 阿伏苯宗 5 160 1.4 c
7.5 7 CPN 阿伏苯宗 5 160 1.4 x
8.1 8 1:9丙酮/DCM DEP 10 175 1.5 c
8.2 8 1:9丙酮/DCM DEP 10 175 1.4 x
8.3 8 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 180 1.5 c
8.4 8 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 175 1.4 c
9.1 9 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 170 1.45 c
9.2 9 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 175 1.4 c
9.3 9 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 175 1.4 x
10.1 10 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 170 1.5 c
10.2 10 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 170 1.4 c
10.3 10 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 170 1.5 x
11.1 11 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 7 170 1.4 x
11.2 11 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 7 170 1.35 c
11.3 11 1:9丙酮/DCM DHODPO 20 150 1.4 x
11.4 11 1:9丙酮/DCM DHODPO 20 150 1.4 c
12.1 12 1:9丙酮/DCM DEP 10 145 1.45 c
12.2 12 1:9丙酮/DCM DEP 10 145 1.4 x
12.3 12 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 140 1.4 x
12.4 12 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 140 1.3 c
12.5 12 1:9丙酮/DCM 4,4,4-三氟-1-(2-萘基)-1,3-丁二酮 5 150 1.3 c
13.1 13 1:9丙酮/DCM - - 175 1.3 c
13.2 13 1:9丙酮/DCM - - 170 1.3 x
13.3 13 1:9丙酮/DCM Tinuvin 1577 5 165 1.4 c
13.4 13 1:9丙酮/DCM Tinuvin 1577 5 165 1.6 x
14.1 14 1:9丙酮/DCM - - 175 1.4 c
14.2 14 1:9丙酮/DCM - - 170 1.4 x
14.3 14 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 7 145 1.5 c
14.4 14 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 7 145 1.4 x
15.1 15 1:9 EtOH/DCM DEP 10 175 1.4 c
15.2 15 1:9 EtOH/DCM DEP 10 165 1.4 x
15.3 15 1:9 EtOH/DCM 阿伏苯宗 5 175 1.4 x
16.1 16 CPN - - 185 1.3 c
16.2 16 CPN 阿伏苯宗 5 175 1.3 c
16.3 16 CPN 阿伏苯宗 5 175 1.45 c
17.1 17 1:9丙酮/DCM - - 195 1.2 c
17.2 17 1:9丙酮/DCM - - 185 1.2 x
17.3 17 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 185 1.4 x
17.4 17 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 185 1.3 c
17.5 17 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 9 175 1.3 x
17.6 17 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 15 165 1.4 x
17.7 17 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 15 165 1.3 c
18.1 18 1:9 EtOH/DCM - - 135 1.3 x
18.2 18 1:9 EtOH/DCM 阿伏苯宗 10 140 1.35 x
18.3 18 1:9 EtOH/DCM Tinuvin 479 10 140 1.25 x
18.4 18 1:9 EtOH/DCM 阿伏苯宗 15 130 1.3 x
19.1 19 1:9丙酮/DCM DEP 10 160 1.4 c
19.2 19 1:9丙酮/DCM DEP 10 160 1.5 x
19.3 19 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 160 1.35 c
19.4 19 1:9丙酮/DCM 阿伏苯宗 5 160 1.4 x
19.5 19 1:9丙酮/DCM Tinuvin 1577 5 185 1.4 c
19.6 19 1:9丙酮/DCM Tinuvin 1577 5 185 1.3 x
20.1 20 1:9丙酮/DCM DEP 10 170 1.3
20.2 20 1:9丙酮/DCM DEP 10 170 1.3 c
20.3 20 1:9丙酮/DCM DPDO 10 175 1.4 x
21.1 21 1:9 EtOH/DCM - - 130 1.4 x
21.2 21 1:9 EtOH/DCM 阿伏苯宗 10 130 1.4 x
21.3 21 1:9 EtOH/DCM Tinuvin 460 10 145 1.3 x
22.1 22 1:9 EtOH/DCM - - 130 1.3 x
22.2 22 1:9 EtOH/DCM Tinuvin 1577 10 130 1.3 x
22.3 22 1:9 EtOH/DCM 阿伏苯宗 10 120 1.4 x
24.1 24 5: 95 EtOH/DCM Tinuvin 479 7 175 1.4 c
25.1 25 5: 95 EtOH/DCM Tinuvin 479 7 175 1.35 c
如表11中所顯示,與具有負雙折射或延遲之相應對照膜樣品相比,本發明膜樣品顯示具有負雙折射或延遲之改良波長色散。例如,膜1.1及膜1.2 (對照樣品)具有介於1.13至1.15之間之Re (450 nm)/Re (550 nm)及介於0.93至0.94之間之Re (650 nm)/Re (550 nm)。膜1.3至1.14及膜1.18至1.19具有改良波長色散,且Re (450 nm)/Re (550 nm)為介於0.69至1.06之間及Re (650 nm)/Re (550 nm)為介於0.95至1.02之間。膜1.3、膜1.11及膜1.13具有介於0.91至0.93之間之Re (450 nm)/Re (550 nm)及0.98之Re (650 nm)/Re (550 nm)。膜1.5及1.6顯示進一步調整之波長色散,且Re (450 nm)/Re ( 550 nm)為介於0.69至0.78之間及Re (650 nm)/Re (550 nm)為介於1.01至1.02之間。
如表11中所顯示,本發明膜樣品具有-3.0至3.0之Nz係數,具有改良波長色散。具體言之,膜1.5、1.7、1.10、1.11、2.6、3.3、3.5、4.5、4.6、4.7、5.4、7.4、8.3、8.4、9.1、9.2、10.1、10.2、12.4、12.5、15.3、16.3、17.7、24.1及25.1具有0.2至0.8之Nz係數,其可用作Z膜。彼等本發明膜樣品具有改良之波長色散,且Re (450 nm)/Re (550 nm)小於1.02,Re (650 nm)/Re (550 nm)等於或大於0.95,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5。更具體言之,膜1.7、2.6、3.3、3.5、4.6、4.7、5.4、7.4、8.3、8.4、9.1、10.1、10.2、12.4、12.5、15.3、16.3、17.7及25.1具有0.3至0.7之改良Nz係數。更具體言之,膜1.7、3.5、8.3、8.4、15.3及25.1具有0.4至0.6之進一步改良Nz係數。更具體言之,膜15.3、16.3及17.7具有0.3至0.7之Nz係數及進一步改良之波長色散,且Re (450 nm)/Re (550 nm)等於或小於0.90,Re (650 nm)/Re (550 nm)等於或大於0.99,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5。
膜1.3、1.19、2.5、3.4、5.3、6.3、7.5、9.3、10.3、11.1、11.3、11.4、13.4、17.6、18.4、19.4、19.6、20.3具有0.8至1.2之Nz係數,其可用作-A膜。彼等膜樣品具有改良波長色散,且Re (450 nm)/Re (550 nm)等於或小於1.05,Re (650 nm)/Re (550 nm)等於或大於0.95,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5。更具體言之,膜1.3、6.3、7.5、11.1及17.6具有進一步改良波長色散,且Re (450 nm)/Re (550 nm)等於或小於0.95,Re (650 nm)/Re (550 nm)等於或大於0.97。
表11亦顯示與對照樣品相比沒有改良波長色散之實例(膜21.1至22.3)。
表11提供關於製備的膜之另外資料。提供拉伸後膜厚度、在589 nm處測得之Re 、在589 nm處測得之Rth 、Re (450 nm)/Re (550 nm)、Nz 係數,Re /d、Rth /d。 表11
樹脂 ( 實例編號 ) 厚度 d (µm) Re (589 nm) (nm) Rth (589 nm) (nm) Re (450 nm)/Re (550 nm) Re (650 nm)/Re (550 nm) Nz 係數 備註 [Re (589 nm)/d (nm)]*103 [Rth (589 nm)/d (nm)]*103
1.1 1 90 -325 143 1.15 0.93 0.94 C -3.61 1.59
1.2 1 70 -182 -11 1.13 0.94 0.44 C -2.60 -0.15
1.3 1 58 -129 49 0.93 0.98 0.88 I -2.23 0.84
1.4 1 37 -53 -21 0.97 0.98 0.11 I -1.42 -0.56
1.5 1 48 -63 16 0.78 1.01 0.75 I -1.32 0.32
1.6 1 46 -64 -43 0.69 1.02 -0.17 I -1.40 1.76
1.7 1 78 -98 7 1.02 0.95 0.58 I -1.26 0.10
1.8 1 50 -68 -97 1.03 0.96 -0.92 I -1.37 -1.94
1.9 1 43 -45 -68 1.03 0.96 -0.99 I -1.05 -1.57
1.10 1 54 -63 15 1.03 0.95 0.74 I -1.17 0.28
1.11 1 58 -88 -20 0.93 0.98 0.27 I -1.52 -0.35
1.12 1 38 -42 -109 0.98 0.98 -2.06 I -1.12 -2.86
1.13 1 54 -63 -28 0.91 0.98 0.05 I -1.17 -0.52
1.14 1 47 -49 -148 0.98 0.98 -2.55 I -1.04 -3.16
1.15 1 42 -146 65 1.10 0.94 0.95 I -3.47 1.55
1.16 1 56 -52 10 1.10 0.94 0.69 I -0.93 0.18
1.17 1 56 -104 49 1.07 0.95 0.97 I -1.85 0.88
1.18 1 38 -56 19 1.06 0.96 0.84 I -1.48 0.50
1.19 1 50 -85 48 1.00 0.97 1.07 I -1.71 0.97
2.1 2 80 -350 182 1.14 0.93 1.02 C -4.38 2.27
2.2 2 52 -169 27 1.12 0.94 0.66 C -3.25 0.51
2.3 2 78 -380 194 1.13 0.94 1.01 C -4.88 2.49
2.4 2 62 -181 96 1.12 0.94 1.03 C -2.92 1.55
2.5 2 74 -168 82 1.00 0.96 0.99 I -2.27 1.11
2.6 2 54 -105 18 1.01 0.97 0.67 I -1.95 0.32
3.1 3 47 -240 139 1.12 0.94 1.08 C -5.10 2.96
3.2 3 37 -82 94 1.11 0.94 1.66 C -2.21 2.55
3.3 3 41 -104 6 1.03 0.97 0.56 I -2.54 0.14
3.4 3 45 -170 62 1.03 0.97 0.86 I -3.77 1.37
3.5 3 30 -62 5 0.96 0.98 0.58 I -2.07 0.18
4.1 4 41 -201 102 1.14 0.93 1.01 C -4.90 2.49
4.2 4 29 -79 16 1.13 0.94 0.70 C -2.72 0.56
4.3 4 36 -180 86 1.13 0.93 0.98 C -5.01 2.40
4.4 4 26 -54 27 1.13 0.94 0.99 C -2.09 1.03
4.5 4 37 -107 24 0.97 0.98 0.73 I -2.89 0.66
4.6 4 36 -52 -7 1.00 0.97 0.37 I -1.45 -0.18
4.7 4 32 -53 -11 1.01 0.97 0.30 I -1.66 -0.34
5.1 5 40 -86 59 1.12 0.94 1.19 C -2.15 1.48
5.2 5 35 -141 71 1.13 0.94 1.01 C -4.03 2.04
5.3 5 37 -97 42 0.99 0.97 0.94 I -2.61 1.14
5.4 5 28 -55 6 1.01 0.97 0.61 I -1.97 0.21
6.1 6 18 -42 14 1.17 0.92 0.83 C -2.33 0.77
6.2 6 35 -44 16 1.19 0.91 0.85 C -1.26 0.45
6.3 6 62 -77 28 0.87 0.98 0.87 I -1.24 0.45
6.4 6 46 -36 -55 0.90 0.98 -1.05 I -0.77 -1.20
7.1 7 33 -101 60 1.15 0.92 1.09 C -3.05 1.81
7.2 7 35 -54 27 1.14 0.93 0.99 C -1.53 0.76
7.3 7 42 -87 46 1.15 0.92 1.03 C -2.06 1.09
7.4 7 33 -37 -5 0.95 0.98 0.37 I -1.13 -0.15
7.5 7 46 -53 22 0.90 0.99 0.92 I -1.16 0.48
8.1 8 28 -84 35 1.12 0.94 0.91 C -3.02 1.23
8.2 8 41 -158 82 1.13 0.93 1.02 C -3.87 2.00
8.3 8 31 -67 6 1.01 0.97 0.58 I -2.17 0.18
8.4 8 34 -56 -3 1.00 0.97 0.44 I -1.64 -0.09
9.1 9 44 -93 11 1.01 0.97 0.62 I -2.11 0.26
9.2 9 56 -136 36 1.00 0.97 0.76 I -2.43 0.64
9.3 9 64 -200 116 1.00 0.97 1.08 I -3.13 1.81
10.1 10 44 -132 17 1.00 0.98 0.63 I -2.99 0.40
10.2 10 49 -96 17 1.00 0.98 0.68 I -1.96 0.35
10.3 10 66 -199 90 0.99 0.98 0.95 I -3.02 1.36
11.1 11 76 -194 100 0.91 1.00 1.02 I -2.55 1.32
11.2 11 56 -82 27 0.92 1.00 0.82 I -1.47 0.47
11.3 11 58 -126 68 0.98 0.98 1.04 I -2.18 1.17
11.4 11 41 -63 43 0.99 0.98 1.19 I -1.54 1.06
12.1 12 45 -50 35 1.12 0.94 1.20 C -1.11 0.78
12.2 12 52 -51 31 1.14 0.93 1.11 C -0.98 0.60
12.3 12 34 -49 19 0.75 1.00 0.89 I -1.43 0.56
12.4 12 46 -41 8 0.79 1.00 0.70 I -0.89 0.18
12.5 12 50 -46 7 1.04 0.96 0.65 I -0.93 0.14
13.1 13 47 -79 124 1.10 0.95 2.08 C -1.68 2.65
13.2 13 56 -120 115 1.10 0.95 1.46 C -2.14 2.05
13.3 13 38 -52 77 1.05 0.97 1.98 I -1.37 2.03
13.4 13 66 -198 108 1.05 0.97 1.04 I -3.00 1.63
14.1 14 45 -55 81 1.09 0.95 1.97 C -1.23 1.80
14.2 14 66 -207 110 1.09 0.95 1.03 C -3.14 1.66
14.3 14 45 -119 163 0.99 0.99 1.87 I -2.65 3.63
14.4 14 60 -222 147 0.98 0.99 1.16 I -3.70 2.46
15.1 15 40 -68 22 1.14 0.93 0.83 C -1.70 0.56
15.2 15 46 -108 50 1.16 0.92 0.96 C -2.35 1.08
15.3 15 45 -57 -3 0.89 0.99 0.44 I -1.26 -0.07
16.1 16 54 -48 17 1.15 0.93 0.86 I -0.89 0.32
16.2 16 56 -55 -17 0.94 0.98 0.18 I -0.98 -0.31
16.3 16 68 -106 -16 0.90 0.99 0.35 I -1.56 -0.2
17.1 17 36 -62 29 1.18 0.91 0.96 C -1.73 0.80
17.2 17 42 -141 58 1.19 0.91 0.91 C -3.37 1.39
17.3 17 43 -193 96 1.12 0.93 1.00 I -4.50 2.23
17.4 17 29 -63 17 1.11 0.94 0.77 I -2.16 0.58
17.5 17 88 -232 121 1.04 0.95 1.02 I -2.64 1.38
17.6 17 58 -143 69 0.80 1.01 0.98 I -2.47 1.18
17.7 17 43 -42 -5 0.84 1.01 0.38 I -0.98 -0.12
18.1 18 29.0 -101 87 1.12 0.94 1.37 C -3.48 3.02
18.2 18 14.0 -48 40 1.04 0.96 1.34 I -3.41 2.88
18.3 18 11.0 -20 18 1.00 0.98 1.43 I -1.78 1.66
18.4 18 10.7 -21 10 1.03 0.97 1.00 I -1.92 0.95
19.1 19 50 -80 79 1.10 0.96 1.50 C -1.59 1.59
19.2 19 116 -254 136 1.09 0.95 1.03 C -2.19 1.17
19.3 19 37 -120 92 1.05 0.97 1.27 I -3.23 2.48
19.4 19 47 -239 138 1.04 0.97 1.08 I -5.09 2.93
19.5 19 37 -29 32 1.05 0.96 1.59 I -0.79 0.86
19.6 19 60 -61 30 1.05 0.96 0.99 I -1.01 0.50
20.1 20 124 -298 148 1.14 0.93 1.00 C -2.41 1.20
20.2 20 88 -140 108 1.12 0.94 1.27 C -1.59 1.22
20.3 20 46 -98 49 1.03 0.96 1.01 I -2.12 1.08
21.1 21 11.2 -156 108 1.12 0.95 1.19 C -13.9 9.6
21.2 21 14.3 -161 111 1.11 0.95 1.19 DW -11.3 7.7
21.3 21 12.9 -13 26 1.09 0.95 2.53 DW -1.0 12.7
22.1 22 19.2 -89 60 1.12 0.95 1.17 C -4.6 8.7
22.2 22 13.2 -30 17 1.11 0.95 1.07 DW -2.3 9.7
22.3 22 14.7 -84 56 1.11 0.95 1.17 DW -5.8 10.7
24.1 24 96 -220 60 0.99 0.98 0.77 I -2.29 0.6
25.1 25 66 -156 7 0.99 0.99 0.55 I -2.36 0.11
I意指本發明,C意指對照,DW意指無效。
如表12中所顯示,將塑化劑併入膜中。對於表x中之膜,獲得0.3至0.7之Nz係數。更具體言之,實例膜之Re(450 nm/550 nm)值為不大於1.0,Re (589 nm)與d (nm)之比率乘以1000為-6.0至-0.5。 表12
膜編號 實例編號 組分 A ( 重量 %) Pz ( 重量 %) 拉伸比 [ 拉伸溫度 ( )] 厚度 d (µm) Re (589 nm) Rth (589 nm) Re (450nm)/Re (550nm) (A) Re(650nm)/Re (550nm) [Re (589nm)/d(nm)]*103 Rth (589nm)/d(nm)*1000 Nz 係數
25.2 25 Tinuvin 479 (7.0) Admex 523 (5.0) 1.45 c [163] 88 -225 15 0.98 0.99 -2.56 0.17 0.57
25.3 25 Tinuvin 479 (7.8) Admex 6995 (2.8) 1.4 c [175] 114 -278 51 0.97 0.99 -2.44 0.44 0.68
25.4 25 Tinuvin 479 (7.65) DEP (4.62) 1.45c [165] 90 -280 38 0.98 0.99 -3.11 0.42 0.64
25.5 25 Tinuvin 479 (7.65) TPP (4.62) 1.45c [165] 94 -211 40 0.97 0.99 -2.24 0.42 0.69
25.6 25 Tinuvin 479 (7.15) BANE (4.65) 1.4c [165] 92 -212 42 0.98 0.99 -2.31 0.45 0.70
9.4 9 Tinuvin 479 (4.8) DEP (4.8) 1.4  x [163] 106 -205 30 0.99 0.97 -1.94 0.28 0.64
9.5 9 Tinuvin 479 (5.7) Admex 523 (4.7) 1.5 x [168] 60 -168 23 0.98 0.98 -2.80 0.38 0.63
9.6 9 Tinuvin 479 (4.75) Admex 525 (4.75) 1.4 x [168] 84 -172 13 1.00 0.97 -2.05 0.15 0.57
9.7 9 Tinuvin 479 (6.7) Admex 6995 (4.7) 1.4x [168] 76 -104 -3 0.90 1.00 -1.37 -0.04 0.47
本申請案參考以下圖式,其中: 圖1提供沿著一個方向(x方向)拉伸之延遲膜之示意圖。
圖2提供補償膜中波長色散模式之圖:(a)正向波長色散,(b)平坦波長色散,及(c)反向波長色散。

Claims (20)

  1. 一種膜,其包含:(1)經位向選擇取代的纖維素酯,其包含:(i)複數個芳族-CO-取代基;(ii)複數個第一不飽和或飽和(C1-6)烷基-CO-取代基;及(iii)複數個羥基取代基;其中:該羥基之取代度(「DSOH」)為0.2至1.1,該纖維素酯具有為0.15至0.8之芳族-CO-取代基之C2取代度(「C2DSArCO」),該纖維素酯具有為0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C3取代度(「C3DSArCO」),該纖維素酯具有為0.05至0.6之芳族-CO-取代基之C6取代度(「C6DSArCO」),該芳族-CO-取代基之總取代度(「TotDSArCO」)為0.25至2.0,該芳族-CO-為(i)(C6-20)芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1取代;或(ii)雜芳基-CO-,其中該雜芳基為具有1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員環,且其中該雜芳基係未經取代或經1至5個R1取代;及 (2)組分A,其為
    Figure 110105128-A0305-13-0002-1
    其中:環A為(C6-20)芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;環B為(C6-20)芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;環C為(C6-20)芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;R1為烷基;鹵烷基;視需要經1至5個烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、鹵素取代之(C6-20)芳基;包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基;或-CH2C(O)-R3;R2獨立地為氫、烷基或鹵烷基;R3為烷基、鹵烷基、(C6-20)芳基或包含1至4個選自N、O或S之雜原子之5員至10員雜芳基,其中該芳基或雜芳基係未經取代或經1至5個R6取代;R4為(C1-20)烷基、鹵(C1-20)烷基、或(C1-20)烷基-CO-(C1-20)烷基,其中各者係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20)烷氧基或鹵(C1- 20)烷氧基、羥基(C1-20)烷基、(C1-20)烷氧基-(C1-20)烷基、(C1-20)烷氧基-羥基(C1-20)烷基或(C1-20)烷氧基-(C1-20)烷基-CO-(C1-20)烷基-取代;各R5獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基或鹵素;各R6獨立地為羥基、氰基、烷基、鹵烷基、烷氧基、鹵烷氧基、或鹵素或(C6-20)芳基,其中該芳基係未經取代或經1至5個R7取代;各R7獨立地為羥基、(C1-6)烷基、鹵(C1-6)烷基或(C1-6)烷氧基;R8為(C1-20)烷基、鹵(C1-20)烷基、(C1-20)烷氧基或鹵(C1-20)烷氧基;R9為R4-O-、(C1-20)烷基、鹵(C1-20)烷基、(C1-20)烷基-CO-(C1-20)烷基-、(C1-20)烯基、(C1-20)烯基-O-、(C1-20)烷基-COO-(C1-20)烷基-、(C1-20)烷基-COO-、(C1-20)烷基,其中1至2個碳原子係經O、N或S置換,(C6-10)芳基、包含1至4個選自由N、O或S組成之群之雜原子之5員至10員雜芳基,其中該等基團中之各者係未經取代或經1至3個羥基、(C1-20)烷氧基或鹵(C1-20)烷氧基、羥基(C1-20)烷基、(C1-20)烷氧基-(C1-20)烷基、(C1-20)烷氧基-羥基(C1-20)烷基或(C1-20)烷氧基-(C1-20)烷基-CO-(C1-20)烷基-取代;各n為0、1、2、3、4或5;及各m為0、1、2、3或4;其中: 組分A係以基於該組合物之總重量計小於30重量%存在,該膜之厚度(「d」)(μm)為10μm至200μm,該膜展現為小於零之Re(589nm),該Re(589nm)與d(nm)之比率乘以1000為-10至-0.5,該Rth(589nm)與d(nm)之比率乘以1000為-6.0至6.0,該膜展現[[-Rth(589nm)/Re(589nm)]+0.5](「Nz」)為-3.0至3.0,各Re(589nm)為在589nm處測得的平面內延遲,各Rth(589nm)為在589nm處測得的平面外延遲,且該膜係經拉伸。
  2. 如請求項1之膜,其中Nz為0.2至0.8。
  3. 如請求項2之膜,其中Re(589nm)為-120至-320nm及Rth(589nm)為-60至60nm。
  4. 如請求項1之膜,其中Nz為0.8至1.2。
  5. 如請求項4之膜,其中Re(589nm)為-120至-320nm及Rth(589nm)為60至220nm。
  6. 如請求項1至5中任一項之膜,其中該Re(450nm)與Re(550nm)之比率為小於1.05,其中該Re(450nm)為在450nm處之平面內延遲,及 Re(550nm)為在550nm處測得的平面內延遲。
  7. 如請求項6之膜,其中該Re(450nm)與Re(550nm)之比率為0.75至0.85。
  8. 如請求項6之膜,其中該Re(650nm)與Re(550nm)之比率為大於0.95,其中該Re(650nm)為在650nm處測得之平面內延遲及Re(550nm)為在550nm處測得的平面內延遲。
  9. 如請求項8之膜,其中該Re(650nm)與Re(550nm)之比率為1.10至1.2。
  10. 如請求項1之膜,其中該組分A為
    Figure 110105128-A0305-13-0005-2
    Figure 110105128-A0305-13-0005-3
  11. 如請求項10之膜,其中該組分A為1,3-二苯基-1,3-丙二酮、阿伏苯宗(avobenzone)、(2-羥基-4-(辛基氧基)苯基(苯基)甲酮、(2-羥基-4-甲氧基苯基)(2-羥基苯基)甲酮、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(己基氧基)苯酚、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基]-5-[2-羥基-3-(十二烷基 氧基-及十三烷基氧基)丙氧基]苯酚、2-(4-(4,6-二([1,1'-聯苯]-4-基)-1,3,5-三嗪-2-基)-3-羥基苯氧基)丙酸異辛酯、6,6'-(6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪-2,4-二基)雙(3-丁氧基苯酚)、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(3-((2-乙基己基)氧基)-2-羥基丙氧基)苯酚、7-二乙基胺基-4-甲基香豆素或其組合。
  12. 如請求項1之膜,其中該芳族-CO-為(C6-20)芳基-CO-,其中該芳基係未經取代或經1至5個R1取代。
  13. 如請求項12之膜,其中該芳族-CO-為苯甲醯基或萘甲醯基,其係未經取代或經1至5個R1取代。
  14. 如請求項13之膜,其中該芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1取代之苯甲醯基。
  15. 如請求項14之膜,其中該纖維素酯具有0.40至1.60之TotDSArCO
  16. 如請求項15之膜,其中C2DSArCO及C3DSArCO之總和為0.30至1.25。
  17. 如請求項13之膜,其中該芳族-CO-為未經取代或經1至5個R1取代之萘甲醯基。
  18. 如請求項17之膜,其中該纖維素酯具有0.3至0.8之TotDSArCO
  19. 如請求項18之膜,其中C2DSArCO及C3DSArCO之總和為0.2至0.6。
  20. 如請求項1之膜,其中該纖維素酯進一步包含複數個第二(C1-20)烷基-CO-取代基。
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