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TWI879607B - 新型表面電漿波相位感測器 - Google Patents

新型表面電漿波相位感測器 Download PDF

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Publication number
TWI879607B
TWI879607B TW113122203A TW113122203A TWI879607B TW I879607 B TWI879607 B TW I879607B TW 113122203 A TW113122203 A TW 113122203A TW 113122203 A TW113122203 A TW 113122203A TW I879607 B TWI879607 B TW I879607B
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TW
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order light
mirror
phase
sensor
aom
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Application number
TW113122203A
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English (en)
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TW202548230A (zh
Inventor
邱銘宏
邱櫂旌
Original Assignee
國立虎尾科技大學
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  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

本發明係有關一種新型表面電漿波相位感測器,其包括雷射模組、第一聲光調變器、第二聲光調變器、面鏡組件、相位量測模組、第一光偵測器及第二光偵測器。雷射光之0階光直入第一聲光調變器而產生第一+1階光與第一-1階光,第一+1階光經第一面鏡、玻璃基板含有金屬薄膜的第一面及第三面鏡後入射第二聲光調變器,第一-1階光經第二面鏡、玻璃基板的第二面及第四面鏡後入射第二聲光調變器。0階光直入第二聲光調變器而產生第二+1階光與第二-1階光,調整面鏡組件,使第一+1階光與第二+1階光重合而產生第一干涉信號,並由第二光偵測器轉換為測試信號;調整面鏡組件,使第一-1階光與第二-1階光重合而產生第二干涉信號,並由第一光偵測器接收轉換為參考信號,再由相位量測模組量測出測試信號相對於參考信號的相位差,俾能藉由二聲光調變器串接組成新架構的干涉儀,除了可作為表面電漿波感測系統以量測生物化學樣本之外,並可作為一般外差干涉儀的應用量測,因而具有量測簡易、架構簡單及成本低廉等特點。

Description

新型表面電漿波相位感測器
本發明係有關一種新型表面電漿波相位感測器,尤指一種可以藉由二聲光調變器串接組成新架構之干涉儀表面電漿波相位感測技術。
依據所知,習知共振角度分析系統如參考文獻[1-6],其係利用單一波長的入射光源,將光打入稜鏡耦合之表面電漿波感測器的表面金屬薄膜產生反射,旋轉入射角激發感測器的金屬薄膜內的自由電子產生共振現象,反射光最後進入光強度偵測器,所測的各入射角度對光強度的變化,獲得光強度最小位置,即找出共振角,隨者生物分子在金膜表面吸附物質的交互作用如參考文獻[6-8],隨時間拉長,該物質濃度的不同而會有不同的共振角,藉由分析共振角進一步去分析生物分子的訊息。)和共振波長分析系統如參考文獻[9-10](量測不同波長的能量衰減,可發現在某一特定波長時其光強度最小,此為共振波長,同樣隨著生物分子交互作用造成吸附在金屬薄膜的濃度不同而會有不同的共振波長,藉由分析共振波長的變化,去分析生物分子之間相互作用的情形。)此相位型表面電漿波共振量測所採用的外差干涉儀架構不同於習知的干涉儀如參考文獻[11-14](例如Mach-Zehnder干涉儀如參考文獻[13-14])外差干涉儀如參考文獻[15-24](例如,Common-path heterodyne interferomete如參考文獻r[17-24])或移相干涉術如參考文獻[25-26]。
再者,表面電漿波共振(SPR)是利用光源在高折射率介質表面產生全反射光學現象時,位在介質表面的電子因吸收入射光源能量而被激發極化共振,並造成反射光的能量衰減,藉由量測此光能量衰減觀察待測物的變化,觀測方法有共振角度分析、共振波長分析與相位變化。SPR三層反射係數r 123:如圖3所示。
Figure 113122203-A0101-12-0002-1
其中r 12為光由介質1至介質2的反射係數,r 23為光由介質2至 介質3的反射係數。
Figure 113122203-A0101-12-0002-18
,θ2為光在介質2與法線的夾角,d 2是介質2的厚度是金屬薄膜的厚度,此厚度約幾十奈米。n 1 ,n 2 ,n 3分別是介質 1、介質2、介質3的折射率。若用相對介電常數表示則
Figure 113122203-A0101-12-0002-3
i=1,2,3由於表面電將共振只發生在水平偏極光也就是p偏極光,對於水平偏極光而言
Figure 113122203-A0101-12-0002-6
,其中垂直於各面的波數
Figure 113122203-A0101-12-0002-4
,θ i 為光在各介質中 與法線的夾角,i=1,2,3。|r 123|是反射係數的大小,Φ為反射係數的相位。同理SPR四層的架構如圖4所示,其反射係數r 1234為。
Figure 113122203-A0101-12-0002-7
其中
Figure 113122203-A0101-12-0002-8
d 3是介質3的厚度,也是金屬薄膜的厚度,此厚度約為幾十奈米。θ3是光在介質3與法線的夾角,r 234是由介質2入射由介質3及4反射回來的反射係數。r 34是光由 介質3至介質4的反射係數。d 2是介質2的厚度,作為金屬薄膜與稜鏡之間貼合介質,其厚度約幾奈米即可。|r 1234|是最後的反射係數的大小,Φ為反射係數的相位,此相位會隱藏在干涉信號的相位中。某生物分子貼附在SPR感測器上欲與分析物質(analyte)產生交互作用,隨著時間的拉長,貼附在金屬薄膜上的分子濃度改變,因此造成折射率的改變,使得表面電漿波共振角改變或者相位改變或者共振波長改變等現象發生。在共振角時,表面電漿波沿著金屬薄膜與貼附物質的界面消逝。
具體的,習知共振角度分析系統如參考文獻[1-7],係利用單一波長的入射光源,將光打入感測器的表面金屬薄膜產生全反射,激發感測器的金屬薄膜內的自由電子產生共振現象,光最後進入光強度感測器,測得各入射角度對光強度影響得變化,獲得能量最小位置,可經數學式運算求出產生最大共振的入射光角度,即為共振角,隨者生物分子在金膜表面濃度的不同(或者折射率的不同)而會有不同的共振角,藉由分析共振角進一步去分析生物分子的訊息。
習知共振波長分析系統如參考文獻[9-11],可以量測不同波長的能量衰減,並可發現在某一特定波長時其偏極光能量最小此為共振波長,同樣隨著生物分子交互作用造成吸附在金屬薄膜的濃度不同而會有不同的共振波長,藉由分析波長的變化,去分析生物分子的變化。
習知相位量測分析系統如參考文獻[12-25],具有一般的干涉儀的功能如參考文獻[12-14],外差干涉儀如參考文獻[15-24],共光程外差干涉儀如參考文獻[17-24](其中光源是Zeeman laser如參考文獻[17-19],AOM調變組成如參考文獻[20-22],EOM調變成的如參考文獻[23]),移相干涉術如 參考文獻[13,25-26]等。其相位解析比光強度解析更加準確,因此,解析度都高於1×10-5 RIU,由光強度量測s與p偏極經SPR感測器後的光強度變化,加上參考路徑的移相,來算出干涉後s與p偏極之間的相位差,進而得出待測物質的折射率變化。其中是利用兩個AOM做成Mach-Zehnder架構。將s與p偏光的頻率有一個移頻,然後再重疊成為一個共光程光源,此光源一部分用來量測經SPR感測器後s與p偏光之間的相位差。另一部分做為參考信號,利用一檢偏板使s與p偏光干涉,兩干涉信號可接到鎖相放大器得出待測的相位差,此相位差與待測物的折射率變化有關。
綜上所述,相較習知對入射角度的變化以及調變波長的方法,由於相位量測靈敏,且因為干涉儀近似共光程架構,信號比不共光程的Mach-Zehnder外差干涉儀穩定,並且由於Mach-Zehnder外差干涉儀只利用到某一階的光,以致雷射光的利用率較低。其次,習知Zeeman Laser如參考文獻[17-19]的整體成本較高,至於習知技術係以電光調變器如參考文獻[23]做成的外差光源,易受腔體內溫度升高的緣故,以致全波電壓不穩定造成弦波不穩定。此外,習知移相干涉術如參考文獻[25-26]無論幾步移相,都無法做到即時觀測,因此,如何開發出一種可以改善上述缺失的新型架構表面電漿波相位感測技術,實已成為相關技術領域業者所亟欲解決與挑戰的技術課題。
有鑑於述先前技術於功能性上確實未臻完善,故而仍有再改善的必要性;緣是,本發明人等乃經不斷的努力研發之下,終於研發出一套有別於上述習知技術的本發明。
本發明主要目的在於提供一種新型表面電漿波相位感測器,主要是減少量測系統成本、簡化量測架構與操作並增強其穩定度,可以增加量測相位的精度,藉以改善不共光程的缺點,並欲獲取即時資訊而設置。達成本發明主要目的之技術手段,係包括雷射模組、第一聲光調變器、第二聲光調變器、面鏡組件、相位量測模組、第一光偵測器及第二光偵測器。雷射光之0階光直入第一聲光調變器而產生第一+1階光與第一-1階光,第一+1階光經第一面鏡、玻璃基板含有金屬薄膜的第一面及第三面鏡後入射第二聲光調變器,第一-1階光經第二面鏡、玻璃基板的第二面及第四面鏡後入射第二聲光調變器。0階光直入第二聲光調變器而產生第二+1階光與第二-1階光,調整面鏡組件,使第一+1階光與第二+1階光重合而產生第一干涉信號,並由第二光偵測器轉換為測試信號;調整面鏡組件,使第一-1階光與第二-1階光重合而產生第二干涉信號,並由第一光偵測器接收轉換為參考信號,並由相位量測模組量測出測試信號相對於參考信號的相位差。
10:雷射模組
20:第一聲光調變器
30:第二聲光調變器
40:面鏡組件
41:第一面鏡
42:第二面鏡
43:第三面鏡
44:第四面鏡
50:表面電漿波感測器
51:玻璃基板
510:第一面
511:第二面
52:金屬薄膜
60:相位量測模組
70:第一光偵測器
80:第二光偵測器
圖1係本發明系統架構的實施示意圖。
圖2係本發明以外差光源干涉後之電子信號波形的實驗例結果示意圖。
圖3係表面電漿波感測器的SPR三層結構示意圖。
圖4係表面電漿波感測器的SPR四層結構示意圖。
為讓 貴審查委員能進一步瞭解本發明整體的技術特徵與 達成本發明目的之技術手段,玆以具體實施例並配合圖式加以詳細說明如后。
請配合參看圖1所示,為達成本發明主要目的之基本實施例,各元件之間按照由左至右的順序來排列,係包括一雷射模組10、一位於雷射模組10後端的第一聲光調變器20、一位於第一聲光調變器20後端的第二聲光調變器30、一面鏡組件40、一表面電漿波感測器50、一位於第二聲光調變器30後端一側的第一光偵測器70、一一位於第二聲光調變器30後端另一側的第二光偵測器80及一位於末端的相位量測模組60(如鎖相放大器;或是相位計)。該第一聲光調變器20可供一具第一調變頻率的第一聲波(可由超音波產生器產生;但不以此為限)由其一端輸入,使其折射率產生週期性變化。該第二聲光調變器30可供一具第二調變頻率的第二聲波(可由超音波產生器產生;但不以此為限)由另一端輸入,使其折射率產生週期性變化,且第二聲波方向與第一聲波方向平行而相向。該雷射模組10用以發出一雷射光。該表面電漿波感測器50介置於第一聲光調變器20與第二聲光調變器30之間,並包括一玻璃基板51,該玻璃基板51包含一第一面510及一第二面511,該第一面510鍍設有一層金屬薄膜52。該面鏡組件40包含一位於第一聲光調變器20與表面電漿波感測器50之間一側位置的第一面鏡41、一位於第一聲光調變器20與表面電漿波感測器50之間另一側位置的第二面鏡42、一位於表面電漿波感測器50與第二聲光調變器30之間一側位置的第三面鏡43及一位於表面電漿波感測器50與第二聲光調變器30之間另一側位置的第四面鏡44。該第一光偵測器70位於第二聲光調變器30與相位量測模組60之間的一側位置。該第二光偵測器80位於第二聲光調變器30與相位量測模組60之間的另 一側位置;該雷射光直入第一聲光調變器20而產生第一+1階光與第一-1階光。該第一+1階光經第一面鏡41、玻璃基板51鍍有金屬薄膜52的第一面510及第三面鏡43後入射第二聲光調變器30;該第一-1階光經第二面鏡42、玻璃基板51無鍍金屬薄膜52的第二面511及第四面鏡44後入射第二聲光調變器30;第一聲光調變器之0階光直入第二聲光調變器30而產生第二+1階光與第二-1階光,調整第一面鏡41與第三面鏡43,使第一+1階光與第二+1階光重合而產生第一干涉信號,並由第二光偵測器80接收轉換為測試信號;調整第二面鏡42與第四面鏡44,使第一-1階光與第二-1階光重合而產生第二干涉信號,並由第一光偵測器70接收轉換為參考信號,該相位量測模組60依據接收的參考信號與測試信號而量測出測試信號相對於參考信號的相位差。
請配合參看圖1所示,本實施例為基於上述基本實施例的第一具體實施例,主要是將雷射光的各個光頻予以界定,其中,該雷射光的光頻為f 0,該第一調變頻率為f 1,該第二調變頻率為f 2,該第一+1階光的光頻為f 0-f 1,該第一-1階光的光頻則為f 0+f 1;該第二+1階光的光頻為f 0-f 2,該第二-1階光的光頻為f 0+f 2
本實施例為基於上述基本實施例的第二具體實施例,主要是將二組干涉信號的頻率予以具體界定,其中,該第一調變頻率為f 1,該第二調變頻率為f 2,該第一干涉信號與第二干涉信號的頻率f為第一調變頻率f 1與第二調變頻率f 2之間的差值,其表示如下式:
f=|f 2-f 1|。
請配合參看圖1所示,本實施例為基於上述第二具體實施例的第三具體實施例,主要是將二組調變頻率及干涉信號的頻率予以具體界定,其中,該第一調變頻率f 1為80MHz,該第二調變頻率f 2為 80.01MHz,該第一干涉信號與第二干涉信號的頻率為10kHz。
請配合參看圖3所示,本實施例為基於上述基本實施例的第四具體實施例,主要是將二種聲波的特性予以具體界定,其中,該第一調變頻率的第一聲波與第二調變頻率的第二聲波的方向為相向。
本實施例為基於上述基本實施例的第五具體實施例,主要是將面鏡組件40的微調機能構造予以界定,其中,該第一面鏡41、第二面鏡42、第三面鏡43及第四面鏡44各自設有一微調裝置(本圖式例未示),用以分別使第一+1階光與第一-1階光稍作偏轉,使第一+1階光及第一-1階光分別與第二+1階光及第二-1階光重合。
本實施例為基於上述基本實施例的第六具體實施例,主要是將金屬薄膜52的材料予以界定,其中,該金屬薄膜52可以是金膜或是銀膜的其中一種,該金屬薄膜52的厚度則介於10nm~60nm之間。
本實施例為基於上述基本實施例的第七具體實施例,主要是將表面電漿波感測器50予以具體界定,其中,該表面電漿波感測器50係為平板式表面電漿波感測器,除了包括玻璃基板51之外,並包括可裝待測物的容器,當平板式表面電漿波感測器50作為偵測待測物折射率感測用途時,該相位差則由待測物的折射率改變所致。
本實施例為基於上述基本實施例的第八具體實施例,主要是將表面電漿波感測器50的另一種應用予以界定,其中,當相位差係由測試信號的光路光程變化所致時,則可作為位移量測或物體長度變化或折射率變化的量測用途。
具體而言,本發明係採用兩個聲光晶體調變器(Acousto-optic modulator(AOM))串接架構之外差干涉儀來量測SPR感測器的相位變化,可應用在生物分子之間的交互作用造成在金膜上吸附物質的濃度變化的量測,來觀察此交互作用的情形。以第一聲光調變器20(AOM1)的+1階光做為測試光,相對稱的-1光階做為參考光。測試光將引入因折射率變化所產生的相位變化,又以第二聲光調變器30的+1階光重合而干涉,使此干涉信號為測試外差干涉信號,以方便做相位擷取。參考光路徑近似測試光路徑,並與第二聲光調變器30的-1階光重合而干涉,使此干涉信號為參考外差干涉信號。兩信號可藉由鎖相放大器比較出相位差,因此,待測的相位移即可得出。相較之前對入射角度的變化以及調變波長的方法,由於相位量測靈敏本架構可以不用調變入射角度及光源波長就能觀測到結果,且因為干涉儀近似共光程架構,信號比不共光程的Mach-Zehnder外差干涉儀穩定,且由於Mach-Zehnder外差干涉儀只利用到某一階的光,因此,本發明架構雷射光的利用率也比較高。又因要減少成本與增加穩定度,所以不採用Zeeman Laser如參考文獻[17-19](整體成本較高)或以電光調變器如參考文獻[23]做成的外差光源(易受腔體內溫度升高使全波電壓不穩定造成弦波不穩定)。至於移相干涉術如參考文獻[25-26]無論幾步移相,都無法做到即時觀測。這些是本發明所採用技術方法的因由。
具體地,本發明架構如圖1所示,係包括一雷射模組10(Laser)、二組聲光調變器(AOM1,AOM2),一面鏡組件40(M1,M2,M3,M4),一個平板式表面電漿波感測器50(SPR sensor)(包括一個玻璃基板51,該玻璃基板51的第一面510鍍有金屬薄膜52(例如金膜),與一個可裝待測物的容 器)、二個光偵測器(D1,D2)及一台鎖相放大器(Lock-in amplifier)或相位計(phase meter)。
較具體地,該雷射光係為一種p偏極光,其光頻為f 0,經第一聲光調變器20(AOM1),其調變頻率為f 1。則其+1階光頻率為f 0-f 1;-1階光頻率為f 0+f 1,0階光光頻不變,仍為f 0。+1階光經過第一面鏡41(M1)、玻璃基板鍍有金屬薄膜52的第一面510、第三面鏡43(M3),然後進入第二聲光調變器30(AOM2)。-1階光經過第二面鏡42(M2)、玻璃基板51的第二面511(無金屬薄膜)、第四面鏡44(M4),然後也進入第二聲光調變器30(AOM2)。0階光直入第二聲光調變器30(AOM2),AOM2的調變頻率為f 2,並產生+1階光與-1階光,其光頻分別為f 0-f 2f 0+f 2。調整第一面鏡41(M1)及第三面鏡43(M3),使AOM1的+1階光與AOM2的+1階光重合,而產生干涉,其干涉信號頻率為f=|f 2 f 1|,最後由第二光偵測器80(D2)接收,此信號可為測試信號
Figure 113122203-A0101-12-0010-13
)。另外,調整第二面鏡42(M2)及第四面鏡44(M4),使AOM1的-1階光與AOM2的-1階光重合,而產生干涉,其干涉信號頻率為f=|f 2 f 1|由第一光偵測器70(D1)接收,此信號為參考信號
Figure 113122203-A0101-12-0010-14
)。兩信號接到鎖相放大器或相位計,則兩信號之間的相位差Φ可得。相位差Φ是因為SPR感測器與待測物(sample)接觸產生的相位移。當sample濃度改變時,則相位差也跟著改變。
此外,該玻璃基板51中鍍有金屬薄膜52與待測物接觸,反射係數如前述之式(1);或式(2)所示。其反射光相位移
Figure 113122203-A0101-12-0010-15
與待測物的濃度或折射率有關。基板中無SPR感測器的第二面511反射光相位移則保持不變。兩光偵測器將光信號轉成電信號,去掉直流部分,保持交流信號, v 1=V 1 cos(2πft),
Figure 113122203-A0101-12-0011-17
,兩交流電信號接到鎖相放大器或相位計,即可量出測試信號相對於參考信號的相位差,因此因表面電漿波產生的相位移Φ即可被量出。
本發明實驗結果如圖2所示,畫面顯示為外差光源干涉後的電子信號波形。本發明採用AOM1的調變頻率為80.00MHz,AOM2的調變頻率為80.01MHz,D1與D2所接收的光信號為10kHz,足見本發明確實具備實施應用的可行性。
因此,經上述具體的實施例說明,本發明確實具有下列所述的特點:
1.本發明外差干涉儀是由兩聲光調變器串接而成的新架構,不同於習知的Mach-Zehnder干涉儀。近似共光程結構,干涉信號相對穩定。
2.本發明正負一階的繞射光都有利用,比Mach-Zehnder干涉儀只用到某一階繞射光,雷射的利用率較高。
3.本發明之相位穩定。光源若採用電光調變器調變,其全波電壓易受到內部溫度影響來改變調變波形不是正弦波,而產生相位的不穩定。
4.本發明確實具有量測簡易、架構簡單、成本低廉等特點。
5.本發明可作為表面電漿波感測系統,可量測生物化學樣本。
6.本發明亦可作為一般外差干涉儀之應用量測。
7.本發明以外差干涉量測相位,有準確迅速及時之效。
8.本發明近似共光程結構,干涉信號穩定,抗擾動性佳。
9.本發明雷射光利用率較一般Mach-Zehnder干涉儀高。
以上所述,僅為本發明的一種可行實施例,並非用以限定本發明的專利範圍,凡舉依據下列請求項所述之內容、特徵以及其精神而為之其他變化的等效實施,皆應包含於本發明的專利範圍內。本發明所具體界定於請求項之結構特徵,確實未見於同類物品,且具實用性與進步性,已符合發明專利要件,爰依法具文提出申請,謹請 鈞局依法核予專利,以維護本申請人合法之權益。
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10:雷射模組
20:第一聲光調變器
30:第二聲光調變器
40:面鏡組件
41:第一面鏡
42:第二面鏡
43:第三面鏡
44:第四面鏡
50:表面電漿波感測器
51:玻璃基板
510:第一面
511:第二面
52:金屬薄膜
60:相位量測模組
70:第一光偵測器
80:第二光偵測器

Claims (10)

  1. 一種新型表面電漿波相位感測器,其包括:
    一雷射模組,其用以發出一雷射光;
    一第一聲光調變器,其具有第一調變頻率;
    一第二聲光調變器,其具有第二調變頻率;
    一表面電漿波感測器,其介置於該第一聲光調變器與該第二聲光調變器之間,並包括一玻璃基板,該玻璃基板包含一第一面及一第二面,該第一面鍍設有一金屬薄膜;
    一面鏡組件,其包含一位於該第一聲光調變器與該表面電漿波感測器之間一側位置的第一面鏡、一位於該第一聲光調變器與該表面電漿波感測器之間另一側位置的第二面鏡、一位於該表面電漿波感測器與該第二聲光調變器之間一側位置的第三面鏡及一位於該表面電漿波感測器與該第二聲光調變器之間另一側位置的第四面鏡;
    一相位量測模組;
    一第一光偵測器,其位於該第二聲光調變器與該相位量測模組之間的一側位置;及
    一第二光偵測器,其位於該第二聲光調變器與該相位量測模組之間的另一側位置;該雷射光直入該第一聲光調變器而產生第一+1階光與第一-1階光,該第一+1階光經該第一面鏡、該玻璃基板的該第一面及該第三面鏡後入射該第二聲光調變器,該第一-1階光經該第二面鏡、該玻璃基板的該第二面及該第四面鏡後入射該第二聲光調變器;第一聲光調變器之0階光直入該第二聲光調變器而產生第二+1階光與第二-1階光,調整該第一面鏡與該第 三面鏡,使該第一+1階光與該第二+1階光重合而產生第一干涉信號,並由該第二光偵測器接收轉換為測試信號;調整該第二面鏡與該第四面鏡,使該第一-1階光與該第二-1階光重合而產生第二干涉信號,並由該第一光偵測器接收轉換為參考信號,該相位量測模組依據接收的該參考信號與該測試信號而量測出該測試信號相對於該參考信號的相位差。
  2. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該雷射光的光頻為f 0,該第一調變頻率為f 1,該第二調變頻率為f 2,該第一+1階光的光頻為f 0-f 1,該第一-1階光的光頻則為f 0+f 1;該第二+1階光的光頻為f 0-f 2,該第二-1階光的光頻為f 0+f 2
  3. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該第一調變頻率為f 1,該第二調變頻率為f 2,該第一干涉信號與該第二干涉信號的頻率f為該第一調變頻率f 1與該第二調變頻率f 2之間的差值,其表示如下式:f=|f 2-f 1|。
  4. 如請求項3所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該第一調變頻率f 1為80MHz,該第二調變頻率f 2為80.01MHz,該第一干涉信號與該第二干涉信號的該頻率為10kHz。
  5. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該第一調變頻率與該第二調變頻率的聲波方向為相向。
  6. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該第一面鏡、該第二面鏡、該第三面鏡及該第四面鏡各自設有一微調裝置,用以分別使該第一+1階光與該第一-1階光稍作偏轉,使該第一+1階光及該第一-1階光分別與該第二+1階光及該第二-1階光重合。
  7. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該金屬薄膜係選自金膜以及銀膜的其中一種,該金屬薄膜的厚度則介於10nm~60nm之間。
  8. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該相位量測模組係選自鎖相放大器以及相位計的其中一種。
  9. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,該表面電漿波感測器係為平板式表面電漿波感測器,該平板式表面電漿波感測器更包括一可盛裝一待測物的容器,當該平板式表面電漿波感測器作為偵測待測物折射率感測用途時,該相位差則由該待測物的折射率改變所致。
  10. 如請求項1所述之新型表面電漿波相位感測器,其中,當該相位差係由該測試信號的光路光程變化所致時,則可作為位移量測或物體長度變化或折射率變化的量測用途。
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