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TWI877311B - 接著劑組合物層、積層體、光學積層體及光學裝置、以及光學積層體之製造方法 - Google Patents

接著劑組合物層、積層體、光學積層體及光學裝置、以及光學積層體之製造方法 Download PDF

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TWI877311B
TWI877311B TW110105828A TW110105828A TWI877311B TW I877311 B TWI877311 B TW I877311B TW 110105828 A TW110105828 A TW 110105828A TW 110105828 A TW110105828 A TW 110105828A TW I877311 B TWI877311 B TW I877311B
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TW
Taiwan
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adhesive composition
mass
optical
laminate
curable resin
Prior art date
Application number
TW110105828A
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English (en)
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TW202136460A (zh
Inventor
水野瑞穂
田中亜樹子
中村恒三
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
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Filing date
Publication date
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW202136460A publication Critical patent/TW202136460A/zh
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Abstract

本發明之接著劑組合物層由包含下述聚合物及硬化性樹脂之接著劑組合物形成，該聚合物包含至少一種(甲基)丙烯酸酯單體與選自由含羥基之共聚性單體、含羧基之共聚性單體及含氮之乙烯基單體所組成之群中之至少一種可共聚之含官能基單體的共聚物。接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35 MPa以上8.00 MPa以下，接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00 MPa以上。

Description

接著劑組合物層、積層體、光學積層體及光學裝置、以及光學積層體之製造方法
本發明係關於一種接著劑組合物層、具有接著劑組合物層之積層體、具有由接著劑組合物層形成之接著劑層與光學片材之光學積層體及光學裝置、以及光學積層體之製造方法。
光學片材(例如微透鏡片、稜鏡片、增亮膜(例如3M公司製造之Brightness Enhancement Film：BEF(註冊商標)))被用於各種光學裝置(例如顯示裝置及照明裝置)。於本說明書中，「光學片材」不限於上述示例，還廣泛包括片狀光學構件，例如還包括擴散板及導光板。光學片材例如係使用接著劑層貼附於其他光學片材或光學裝置。於本說明書中，「光學積層體」意指包含光學片材與接著劑層之構成，或包含複數個光學片材之構成。於本說明書中，「接著劑」係以包括黏著劑(亦稱為「壓敏接著劑」)之含義使用。
本申請人於專利文獻1中提出了一種可用於顯示裝置或照明裝置之光學積層體(於專利文獻1中稱為「光學積層片材」)。專利文獻1之光學積層體具有：光學片材(例如微透鏡片)，其表面具有凹凸結構；及接著劑層，其設置於具有凹凸結構之表面。凹凸結構之凸部之高度之5%～90%被接著劑層嵌埋。接著劑層由包含接枝聚合物及光陽離子系聚合起始劑或熱硬化觸媒之接著劑組合物形成，上述接枝聚合物係將含有含環狀醚基之單體的鏈接枝聚合到(甲基)丙烯酸系聚合物上而成者。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-007046號公報(日本專利第5658490號公報) [專利文獻2]國際公開第2019/087118號
[發明所欲解決之問題]
於使用接著劑層來貼附表面具有凹凸結構之光學片材時，接著劑層對凹凸結構之凹部之滲入(嵌埋凹部之)程度會影響光學片材之功能。因此，接著劑層對凹凸結構之凹部之滲入程度較佳為不會經時變化。
又，關於光學裝置中所使用之由光學片材與接著劑層積層而成之光學積層體或由複數個光學片材積層而成之光學積層體，自量產性方面考慮，較佳為可藉由卷對卷方式進行製造。
本發明係為了解決上述問題之至少一者而完成者，其目的在於提供一種能夠形成對光學片材之凹凸結構之凹部之滲入程度之經時變化得到抑制之接著劑層之接著劑組合物層、具有此種接著劑組合物層之積層體、具有由此種接著劑組合物層形成之接著劑層與光學片材之光學積層體、或可藉由卷對卷方式而製造之光學積層體、及此種光學積層體之製造方法。又，本發明之目的在於提供一種具備此種光學積層體之光學裝置。 [解決問題之技術手段]
根據本發明之實施方式，而提供以下項目所記載之解決手段。 [項目1] 一種接著劑組合物層，其係由包含下述聚合物及硬化性樹脂之接著劑組合物形成者，該聚合物包含至少一種(甲基)丙烯酸酯單體、與選自由含羥基之共聚性單體、含羧基之共聚性單體及含氮之乙烯基單體所組成之群中之至少一種可共聚之含官能基單體的共聚物，且 上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35 MPa以上8.00 MPa以下， 上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00 MPa以上。 上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數例如為3.00 MPa以上。 [項目2] 一種接著劑組合物層，其係由包含下述聚合物及硬化性樹脂之接著劑組合物形成者，該聚合物包含至少一種(甲基)丙烯酸酯單體、與選自由含羥基之共聚性單體、含羧基之共聚性單體及含氮之乙烯基單體所組成之群中之至少一種可共聚之含官能基單體的共聚物。 [項目3] 如項目1或2所記載之接著劑組合物層，其中上述至少一種可共聚之含官能基單體包含上述含氮之乙烯基單體，且 上述至少一種(甲基)丙烯酸酯單體與上述含氮之乙烯基單體之質量比處於90：10至60：40之間。 [項目4] 如項目1至3中任一項所記載之接著劑組合物層，其中上述至少一種可共聚之含官能基單體包含上述含羧基之共聚性單體，且 相對於上述聚合物100質量份，上述含羧基之共聚性單體之含量為1.0質量份以上10.0質量份以下。 [項目5] 如項目1至4中任一項所記載之接著劑組合物層，其中上述共聚物經交聯。 [項目6] 如項目1至5中任一項所記載之接著劑組合物層，其中上述硬化性樹脂包含質量平均分子量為4000以上之紫外線硬化性樹脂、及光聚合起始劑。 [項目7] 如項目1至6中任一項所記載之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之對PMMA膜之180°剝離接著力為10 mN/20 mm以上。 [項目8] 如項目1至7中任一項所記載之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之霧度為0.01%以上5%以下。 [項目9] 如項目1至8中任一項所記載之接著劑層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化前之凝膠分率為75%以上，上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之凝膠分率為90%以上。 [項目10] 如項目1至9中任一項所記載之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物不包含接枝聚合物。 [項目11] 如項目1至10中任一項所記載之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之厚度為0.1 μm以上20 μm以下。 [項目12] 一種積層體，其具有如項目1至11中任一項所記載之接著劑組合物層、及 具有經剝離處理之主面之基材，且 上述基材之上述經剝離處理之主面與上述接著劑組合物層貼合在一起。 有時將如項目12所記載之積層體稱為「接著片材」。如項目12所記載之積層體例如可進而具有其他基材，該其他基材配置於上述接著劑組合物層之與上述基材相反之側且具有經剝離處理之主面。此時，上述其他基材之上述經剝離處理之主面與上述接著劑組合物層貼合在一起。 經剝離處理之面(剝離處理面)意指利用剝離劑處理過之面。基材(支持體)之經剝離處理之主面係藉由以下方式而形成，即，於基材之一主面塗佈(賦予)剝離劑，視需要進而例如進行乾燥。作為剝離劑，並無特別限定，例如可列舉：矽酮系剝離劑、氟系剝離劑、長鏈烷基系剝離劑、脂肪酸醯胺系剝離劑。 [項目13] 一種光學積層體，其具有：第1光學片材，其具備具有凹凸結構之第1主面、及上述第1主面之相反側之第2主面；及 接著劑層，其配置於上述第1光學片材之上述第1主面側；且 上述接著劑層係藉由使包含聚合物及硬化性樹脂之接著劑組合物之上述硬化性樹脂硬化而形成， 上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35 MPa以上8.00 MPa以下， 上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00 MPa以上。 上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數例如為3.00 MPa以上。 [項目14] 如項目13所記載之光學積層體，其中上述接著劑層係藉由使如項目1至11中任一項所記載之接著劑組合物層之上述硬化性樹脂硬化而形成。 [項目15] 如項目13或14所記載之光學積層體，其中上述凹凸結構包含複數個凹部，上述接著劑層之表面與上述第1光學片材之上述第1主面於上述複數個凹部劃定複數個空間。 [項目16] 如項目13至15中任一項所記載之光學積層體，其中上述凹凸結構包含與上述接著劑層相接之平坦部。 [項目17] 如項目13至16中任一項所記載之光學積層體，其進而具備第2光學片材，該第2光學片材配置於上述接著劑層之與上述第1光學片材側相反之側。 [項目18] 一種光學裝置，其具備如項目13至17中任一項所記載之光學積層體。 [項目19] 一種光學積層體之製造方法，其係製造如項目13至17中任一項所記載之光學積層體之方法，其包括： 步驟A，其對上述第1光學片材之上述第1主面上賦予上述接著劑組合物所形成之接著劑組合物層；及 步驟B，其於對上述第1光學片材之上述第1主面上賦予了上述接著劑組合物層之狀態下，使上述接著劑組合物之上述硬化性樹脂硬化。 [項目20] 如項目19所記載之製造方法，其中上述步驟A包括藉由卷對卷法而將上述第1光學片材與上述接著劑組合物層貼合之步驟。 [項目21] 一種光學積層體之製造方法，其中光學積層體係如項目17所記載之光學積層體，上述製造方法包括下述步驟A1或下述步驟A2之任一者、及步驟B： 步驟A1，其將由上述第1光學片材及上述接著劑組合物所形成之接著劑組合物層積層而成之第1積層體、與上述第2光學片材貼合； 步驟A2，其將由上述接著劑組合物所形成之接著劑組合物層及上述第2光學片材積層而成之第2積層體、與上述第1光學片材貼合； 步驟B，其於上述步驟A1或上述步驟A2之後，使上述接著劑組合物層中所含之上述硬化性樹脂硬化。 [項目22] 如項目21所記載之製造方法，其包括上述步驟A1，上述步驟A1包括藉由卷對卷法而將上述第1積層體與上述第2光學片材貼合之步驟；或者 包括上述步驟A2，上述步驟A2包括藉由卷對卷法而將上述第2積層體與上述第1光學片材貼合之步驟。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，可提供一種能夠形成對光學片材之凹凸結構之凹部之滲入(嵌埋)程度之經時變化得到抑制之接著劑層之接著劑組合物層、具有此種接著劑組合物層之積層體、具有此種接著劑組合物層所形成之接著劑層與光學片材之光學積層體、或可藉由卷對卷方式而製造之光學積層體、及此種光學積層體之製造方法。根據本發明之另一實施方式，可提供一種具備此種光學積層體之光學裝置。
首先，對本發明之實施方式之接著劑組合物層、具有接著劑組合物層之積層體、由接著劑組合物層形成之接著劑層、及具有接著劑層與光學片材之光學積層體、以及光學積層體之製造方法加以說明。
於圖1及圖2分別示出本發明之實施方式之光學積層體100A及101A之模式性剖視圖。如圖1所示，光學積層體100A係於稜鏡片(第1光學片材)10a之稜鏡面(第1主面)12s之凹凸結構上具有接著劑層20a。亦可使用其他光學片材(例如微透鏡片)代替稜鏡片10a。如圖2所示，光學積層體101A具有光學積層體100A、及配置於接著劑層20a之與第1光學片材10a側相反之側之第2光學片材30。關於對光學積層體100A之說明，只要無特別說明，便亦適用於光學積層體101A，因此為了避免重複，有時會省略說明。
接著劑層20a係藉由使包含聚合物及硬化性樹脂之接著劑組合物的硬化性樹脂硬化而形成。接著劑層20a係藉由以下方式而形成。首先，對光學片材10a之第1主面12s上賦予由接著劑組合物形成之接著劑組合物層。繼而，於對光學片材10a之第1主面12s上賦予了接著劑組合物層之狀態下，對接著劑組合物層進行加熱或照射活性能量線，藉此使接著劑組合物之硬化性樹脂硬化。此處，於將成為接著劑層20a之接著劑組合物層藉由例如卷對卷法而貼附於稜鏡片10a時，要求接著劑組合物層不會過度滲入至稜鏡片10a之凹凸結構之凹部中。又，於將接著劑組合物層藉由例如卷對卷法而貼附於稜鏡片10a時，要求其具有某種程度以上之柔軟度(易變形度)。又，於將接著劑層20a形成於稜鏡片10a之稜鏡面12s上後，要求接著劑層20a對凹部之滲入程度不易經時變化。
再者，關於光學積層體101A，亦同樣要求對形成接著劑層20a時之接著劑組合物層之變形及形成接著劑層20a後之經時性變形進行抑制。光學積層體101A例如可藉由以下方式而製作，即，藉由上述方法而製作光學積層體100A後，將光學積層體100A、與配置於光學積層體100A之接著劑層20a之與第1光學片材10a側相反之側的第2光學片材30貼合。或者，亦可藉由以下方式而製作光學積層體101A，即，將接著劑組合物層以與第1光學片材10a之第1主面12s相接之方式賦予至第1光學片材10a與第2光學片材30之間，在該狀態下，對接著劑組合物層進行加熱或照射活性能量線，使接著劑組合物之硬化性樹脂硬化而形成接著劑層20a。第1光學片材10a、接著劑組合物層及第2光學片材30之積層體可藉由以下方式而形成：將由第1光學片材10a及接著劑組合物層積層而成之積層體、與第2光學片材30藉由例如卷對卷法而貼合；或者將由第2光學片材30及接著劑組合物層積層而成之積層體、與第1光學片材10a藉由例如卷對卷法而貼合。
本發明人發現，可使用下述初始拉伸彈性模數而篩選出適當之接著劑，該初始拉伸彈性模數係形成接著劑層20a之接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之初始拉伸彈性模數、及形成接著劑層20a之接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之初始拉伸彈性模數。於本說明書中，接著劑組合物之初始拉伸彈性模數係如下述實驗例所示地進行測定。再者，接著劑層對凹部之滲入程度可藉由光學積層體100A或光學積層體101A之漫透射率進行評價。接著劑層20a對稜鏡片10a之凹部之滲入程度越大，漫透射率越小。光學積層體之漫透射率係如下述實驗例所示地進行測定。
於下文示出實驗例進行說明，關於供形成本發明之實施方式之光學積層體100A所具有之接著劑層20a之接著劑組合物，接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35 MPa以上8.00 MPa以下，接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00 MPa以上。
接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35 MPa以上，藉此可於形成接著劑層20a時，即，將接著劑組合物層賦予至光學片材10a之第1主面12s上時，抑制接著劑組合物進入至複數個凹部內。接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之接著劑組合物23℃下之初始拉伸彈性模數為8.00 MPa以下，藉此使接著劑組合物層具備被賦予至光學片材10a之第1主面12s上時所需之柔軟度(易變形度)。若接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數超過8.00 MPa，則可能導致接著劑組合物層對光學片材10a之第1主面12s之接著力不夠充分。接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00 MPa以上，藉此於形成接著劑層20a後，可抑制接著劑層20a經時性地進行變形而進入至複數個凹部內。可抑制形成接著劑層20a時之接著劑組合物層之變形及形成接著劑層20a後之經時性變形之任一者，因此光學積層體100A可使光提取效率提高。
例如，接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數例如為0.35 MPa以上、0.40 MPa以上、0.45 MPa以上或0.50 MPa以上，且為8.00 MPa以下、7.70 MPa以下、7.50 MPa以下、7.00 MPa以下、6.50 MPa以下、6.00 MPa以下、5.50 MPa以下、5.00 MPa以下、4.50 MPa以下、4.00 MPa以下、3.50 MPa以下或3.00 MPa以下。接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數例如為1.00 MPa以上、1.50 MPa以上、2.00 MPa以上、2.50 MPa以上、3.00 MPa以上、3.50 MPa以上、4.00 MPa以上、4.50 MPa以上或5.00 MPa以上。接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數之上限並無特別限定，例如為1000 MPa以下、800 MPa以下、600 MPa以下、400 MPa以下或200 MPa以下。更佳為，接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.40 MPa以上7.70 MPa以下，接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為3.00 MPa以上。
接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之凝膠分率例如為75%以上，接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之凝膠分率例如為90%以上。該等凝膠分率之上限並無特別限定，例如為100%。
作為接著劑組合物中所包含之硬化性樹脂，例如可列舉：活性能量線(例如可見光及紫外線)硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、濕氣硬化性樹脂等。於一實施方式中，接著劑組合物中所包含之硬化性樹脂例如包含紫外線硬化性樹脂及光聚合起始劑，藉由照射光(紫外線)而硬化。要想抑制接著劑組合物層進入至複數個凹部內，紫外線硬化性樹脂較佳為例如質量平均分子量為4000以上。
接著劑組合物中所包含之聚合物例如包含以下共聚物，其係至少一種(甲基)丙烯酸酯單體(例如(甲基)丙烯酸烷基酯)、與選自由含羥基之共聚性單體、含羧基之共聚性單體及含氮之乙烯基單體所組成之群中之至少一種可共聚之含官能基單體的共聚物。於至少一種可共聚之含官能基單體包含含氮之乙烯基單體之情形時，(甲基)丙烯酸酯單體與含氮之乙烯基單體之質量比例如處於95：5至50：50之間、95：5至55：45之間、95：5至60：40之間、90：10至50：50之間、90：10至55：45之間、90：10至60：40之間、85：15至50：50之間、85：15至55：45之間、85：15至60：40之間、80：20至50：50之間、80：20至55：45之間、80：20至60：40之間、75：25至50：50之間、75：25至55：45之間或75：25至60：40之間，較佳處於90：10至60：40之間。
接著劑組合物中所包含聚合物可經交聯。例如於形成接著劑層20a之步驟中，在對光學片材10a之第1主面12s上賦予接著劑組合物層之前，使接著劑組合物之聚合物交聯(例如對其進行加熱)。接著劑層20a例如藉由以下方法而形成。首先，由包含聚合物、交聯劑、活性能量線硬化性樹脂、聚合起始劑及溶劑之接著劑組合物溶液形成接著劑組合物溶液層。將接著劑組合物溶液層例如形成於基材之經剝離處理之主面上。繼而，去除接著劑組合物溶液層之溶劑，利用交聯劑使接著劑組合物溶液層之聚合物交聯(例如對其進行加熱)，藉此獲得具有交聯結構之接著劑組合物層。於將接著劑組合物溶液層形成於基材之經剝離處理之主面上時，在基材之經剝離處理之主面上形成接著劑組合物層，從而獲得具有基材及接著劑組合物層之積層體。此處，決定將由聚合物及交聯劑形成之交聯結構稱為第1交聯結構。與下文所述之藉由使活性能量線硬化性樹脂硬化而形成之交聯結構(第2交聯結構)加以區分。可於去除接著劑組合物溶液層之溶劑之步驟中使接著劑組合物溶液層之聚合物進行交聯，亦可於去除接著劑組合物溶液層之溶劑之步驟之後，與去除接著劑組合物溶液層之溶劑之步驟分開進而進行使接著劑組合物溶液層之聚合物進行交聯之步驟。然後，將接著劑組合物層貼附於光學片材10a之第1主面12s上，於將接著劑組合物層配置於光學片材10a之第1主面12s上之狀態下對接著劑組合物層照射活性能量線，使活性能量線硬化性樹脂硬化，藉此可於光學片材10a之第1主面12s上形成除第1交聯結構以外還具有第2交聯結構之接著劑層20a。本發明人認為接著劑層20a所具有之第1交聯結構及第2交聯結構性成了所謂之互穿網狀結構(IPN)。
第2光學片材30具有接著劑層20a側之主面38s、及主面38s之相反側之主面32s。主面38s為平坦面。第2光學片材30可根據目的而採用任意適當之材料。作為第2光學片材30之材料，例如可列舉具有透光性之熱塑性樹脂，更具體而言，例如可列舉由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等(甲基)丙烯酸系樹脂、或聚碳酸酯(PC)系樹脂等形成之膜。可於光學積層體101A之第2光學片材30之與接著劑層20a相反之側(即主面32s上)配置至少1個其他光學構件(或光學片材)。其他光學構件(光學片材)例如包含擴散板、導光板等，且經由接著劑層而接著於光學片材30之主面32s上。即，本發明之另一實施方式之光學積層體包含光學積層體101A、及配置於光學積層體101A之第2光學片材30之與接著劑層20a相反之側之其他光學片材。本發明之另一實施方式之光學裝置包含光學積層體101A、及配置於光學積層體101A之第2光學片材30之與接著劑層20a相反之側之至少一種其他光學構件。
接著劑層20a對PMMA膜之180°剝離接著力例如為10 mN/20 mm以上。其上限並無特別限定，例如為50 N/20 mm以下、40 N/20 mm以下、30 N/20 mm以下、20 N/20 mm以下、10 N/20 mm以下或1 N/20 mm以下。接著劑層20a之霧度例如為0.01%以上，且為5%以下、4%以下、3%以下、2%以下或1.5%以下。接著劑層20a之厚度例如為0.1 μm以上、0.5 μm以上或1.0 μm以上，且為20 μm以下、15 μm以下、10 μm以下或5 μm以下。再者，關於接著劑層對PMMA膜之180°剝離接著力及接著劑層之霧度，例如可藉由下述實驗例中所記載之方法進行測定。
用以形成接著劑層20a之接著劑如下文示出實驗例所說明，適宜使用以下接著劑。
接著劑例如含有(甲基)丙烯酸系聚合物，(甲基)丙烯酸系聚合物例如為含氮之(甲基)丙烯酸系單體、與至少一種其他單體之共聚物。含氮之(甲基)丙烯酸系單體例如具有含氮環狀結構。若使用含氮之(甲基)丙烯酸系單體來製備(甲基)丙烯酸系聚合物，尤其是若含氮之(甲基)丙烯酸系單體具有含氮環狀結構，則可獲得使(甲基)丙烯酸系聚合物之彈性特性提高之效果。
於接著劑含有(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，該(甲基)丙烯酸系聚合物較佳為經交聯。又，於接著劑含有(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，該接著劑可進而含有活性能量線硬化性樹脂(例如紫外線硬化性樹脂)及硬化劑(例如光聚合起始劑)，或者可進而含有活性能量線硬化性樹脂之硬化物。活性能量線例如為可見光及紫外線。藉由向接著劑中導入交聯結構，可提高接著劑之彈性特性。尤其是，藉由對光學片材10a賦予(成為接著劑層20a之)接著劑組合物層後使光化射線硬化性樹脂硬化，可提高接著劑層20a之彈性特性，可抑制接著劑層20a對凹部之滲入程度之經時變化。再者，若使活性能量線硬化性樹脂硬化，則接著劑層20a變硬。若接著劑層20a過硬，則可能難以藉由卷對卷法將接著劑層20a貼合於光學片材10a，但若對光學片材10a賦予接著劑組合物層後使活性能量線硬化性樹脂硬化，則可避免該問題。
接著劑較佳為不包含接枝聚合物。若如專利文獻1中所記載之接著劑層所述，由包含接枝聚合物之接著劑組合物而形成，則存在材料之設計因素或控制因素變多，而量產性欠佳之情況。不包含接枝聚合物之接著劑可藉由各種因素(例如交聯劑之種類、量、光化射線硬化性樹脂之種類、量)來調整蠕變特性。
以下，對接著劑之適宜之具體例進行說明。
接著劑例如包含(甲基)丙烯酸系聚合物。作為用於製造(甲基)丙烯酸系聚合物之單體，可使用任意(甲基)丙烯酸酯，並無特別限定。例如可使用具有碳數為4以上之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。於該情形時，相對於用於製造(甲基)丙烯酸系聚合物之單體之總量，具有碳數為4以上之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之比率例如為50質量%以上。
於本說明書中，「(甲基)丙烯酸烷基酯」係指具有直鏈或支鏈烷基之(甲基)丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯所具有之烷基之碳數較佳為4以上，更佳為碳數4以上9以下。再者，(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯等。該等可單獨使用，或組合使用。
接著劑可包含作為含氮之(甲基)丙烯酸系單體與至少一種其他單體之共聚物之(甲基)丙烯酸系聚合物。於該情形時，(甲基)丙烯酸系聚合物較佳為如下共聚物，該共聚物係將用於共聚之單體之合計量設為100質量份時，按照以下量使用以下單體進行共聚而成者。 含氮之(甲基)丙烯酸系單體：為10.0質量份以上、15.0質量份以上、20.0質量份以上、25.0質量份以上、30.0質量份以上或35.0質量份以上，且為40.0質量份以下、35.0質量份以下、30.0質量份以下、25.0質量份以下、20.0質量份以下或15.0質量份以下。例如為10.0質量份以上40.0質量份以下。 含羥基之丙烯酸系單體：為0.05質量份以上、0.75質量份以上、1.0質量份以上、2.0質量份以上、3.0質量份以上、4.0質量份以上、5.0質量份以上、6.0質量份以上、7.0質量份以上、8.0質量份以上或9.0質量份以上，且為10.0質量份以下、9.0質量份以下、8.0質量份以下、7.0質量份以下、6.0質量份以下、5.0質量份以下、4.0質量份以下、3.0質量份以下、2.0質量份以下或1.0質量份以下。例如為0.05質量份以上10.0質量份以下。 含羧基之丙烯酸系單體：為1.0質量份以上、2.0質量份以上、3.0質量份以上、4.0質量份以上、5.0質量份以上、6.0質量份以上、7.0質量份以上、8.0質量份以上或9.0質量份以上，且為10.0質量份以下、9.0質量份以下、8.0質量份以下、7.0質量份以下、6.0質量份以下、5.0質量份以下、4.0質量份以下、3.0質量份以下或2.0質量份以下。例如為1.0質量份以上10.0質量份以下。 (甲基)丙烯酸烷基酯單體：(100質量份)－(用於共聚之除(甲基)丙烯酸烷基酯單體以外之單體之合計量)
於本說明書中，「含氮之(甲基)丙烯酸系單體」並無特別限制，其包括具有(甲基)丙烯醯基之具有不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有氮原子之單體。「含氮之(甲基)丙烯酸系單體」例如具有含氮環狀結構。作為含氮環狀結構之例，例如可列舉：N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP)、N-乙烯基-ε-己內醯胺(NVC)、4-丙烯醯𠰌啉(ACMO)。該等可單獨使用，或組合使用。
於本說明書中，「含羥基之丙烯酸系單體」並無特別限制，其包括具有(甲基)丙烯醯基之具有不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有羥基之單體。例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；(甲基)丙烯酸4-羥基甲基環己酯、4-羥基丁基乙烯基醚等。
於本說明書中，「含羧基之丙烯酸系單體」並無特別限制，其包括具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基，且具有羧基之單體。作為含有不飽和羧酸之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯酸等。該等可單獨使用，或組合使用。
接著劑可包含作為含羧基之丙烯酸系單體與至少一種其他單體(其中，含氮之(甲基)丙烯酸系單體除外)之共聚物之(甲基)丙烯酸系聚合物。於該情形時，(甲基)丙烯酸系聚合物較佳為如下共聚物，該共聚物係將用於共聚之單體之合計量設為100質量份時，按照以下量使用以下單體進行共聚而成者。 含羧基之丙烯酸系單體：為1.0質量份以上、2.0質量份以上、3.0質量份以上、4.0質量份以上、5.0質量份以上、6.0質量份以上、7.0質量份以上、8.0質量份以上或9.0質量份以上，且為10.0質量份以下、9.0質量份以下、8.0質量份以下、7.0質量份以下、6.0質量份以下、5.0質量份以下、4.0質量份以下、3.0質量份以下或2.0質量份以下。例如為1.0質量份以上10.0質量份以下。 (甲基)丙烯酸烷基酯單體：為90.0質量份以上、91.0質量份以上、92.0質量份以上、93.0質量份以上、94.0質量份以上、95.0質量份以上、96.0質量份以上、97.0質量份以上或98.0質量份以上，且為99.0質量份以下、98.0質量份以下、97.0質量份以下、96.0質量份以下、95.0質量份以下、94.0質量份以下、93.0質量份以下、92.0質量份以下或91.0質量份以下。例如為90.0質量份以上99.0質量份以下。
作為向(甲基)丙烯酸系聚合物中導入交聯結構之交聯劑，包含：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、矽酮系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、過氧化物等交聯劑。交聯劑可單獨使用一種，或將兩種以上組合而使用。
異氰酸酯系交聯劑意指1分子中具有2個以上異氰酸基(包括藉由封端劑或多聚體化等將異氰酸基暫時保護之異氰酸酯再生型官能基)之化合物。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉：甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯；異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯；六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯；等。
更具體而言，例如可列舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類，伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類，2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、多亞甲基多苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類，三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(東梭股份有限公司製造，商品名Coronate L)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(東梭股份有限公司製造，商品名Coronate HL)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(東梭股份有限公司製造，商品名Coronate HX)等異氰酸酯加成物，苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學股份有限公司製造，商品名D110N)、六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學股份有限公司製造，商品名D160N)；聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、以及其等與各種多元醇之加成物；利用異氰尿酸酯鍵、縮二脲鍵、脲基甲酸酯鍵等進行了多官能化之聚異氰酸酯等。
異氰酸酯系交聯劑可單獨使用一種，又可將兩種以上混合而使用。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100質量份，異氰酸酯系交聯劑之調配量例如為0.01質量份以上、0.02質量份以上、0.05質量份以上或0.1質量份以上，且為10質量份以下、9質量份以下、8質量份以下、7質量份以下、6質量份以下或5質量份以下，較佳為0.01質量份以上10質量份以下、0.02質量份以上9質量份以下、或0.05質量份以上8質量份以下。只要考慮內集力、防止耐久性試驗中之剝離等而適當地調整調配量即可。
再者，於藉由乳化聚合而製成之改性(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液中，可不使用異氰酸酯系交聯劑，但於需要時，為了容易與水反應，亦可使用經封端化之異氰酸酯系交聯劑。
環氧系交聯劑係1分子中具有2個以上環氧基之多官能環氧化合物。作為環氧系交聯劑，例如可列舉雙酚A、表氯醇型環氧系樹脂、乙烯縮水甘油醚、N,N,N',N'-四縮水甘油基間苯二甲胺、二縮水甘油基苯胺、二胺縮水甘油胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷、1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、山梨醇聚縮水甘油醚、丙三醇縮水甘油醚、季戊四醇聚縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、聚甘油聚縮水甘油醚、山梨醇酐聚縮水甘油醚、三羥甲基丙烷聚縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、三縮水甘油基-三(2-羥乙基)異氰尿酸酯、間苯二酚二縮水甘油醚、雙酚-S-二縮水甘油醚，除此以外，還可列舉1分子內具有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。作為環氧系交聯劑，例如可使用三菱瓦斯化學股份有限公司製造之商品名「Tetrad C」、「Tetrad X」等。
環氧系交聯劑可單獨使用一種，又可將兩種以上混合而使用。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100質量份，環氧系交聯劑之調配量例如為0.01質量份以上、0.02質量份以上、0.05質量份以上或0.1質量份以上，且為10質量份以下、9質量份以下、8質量份以下、7質量份以下、6質量份以下或5質量份以下，較佳為0.01質量份以上10質量份以下、0.02質量份以上9質量份以下、或0.05質量份以上8質量份以下。只要考慮內集力、防止耐久性試驗中之剝離等而適當地調整調配量即可。
作為過氧化物交聯劑，只要為可藉由加熱而產生自由基活性種，從而使黏著劑之基礎聚合物進行交聯者，便可使用，但考慮到作業性或穩定性，較佳為使用1分鐘半衰期溫度為80℃以上160℃以下之過氧化物，更佳為使用1分鐘半衰期溫度為90℃以上140℃以下之過氧化物。
作為過氧化物，例如可列舉：過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二碳酸二第二丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧化新癸酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化特戊酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化特戊酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二正辛醯(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、過氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、過氧化二(4-甲基苯甲醯)(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過氧化異丁酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，想要交聯反應效率優異，尤其適宜使用過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。
再者，所謂過氧化物之半衰期，係表示過氧化物之分解速度之指標，係指直至過氧化物之殘存量達到一半為止之時間。關於用以在任意時間獲得半衰期之分解溫度、或任意溫度下之半衰期時間，於廠家目錄等中有所記載，例如於日油股份有限公司之「有機過氧化物目錄第9版(2003年5月)」等中有所記載。
過氧化物可單獨使用一種，又可將兩種以上混合而使用。過氧化物之調配量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100質量份，為0.02質量份以上2質量份以下，較佳為0.05質量份以上1質量份以下。為了調整加工性、二次加工性、交聯穩定性、剝離性等，而在該範圍內進行適宜調整。
再者，作為反應處理後所殘存之過氧化物分解量之測定方法，例如可利用HPLC(高效液相層析儀)進行測定。
更具體而言，例如將反應處理後之黏著劑分別取出約0.2 g，浸漬於10 ml之乙酸乙酯中，利用振盪機在25℃下以120 rpm振盪萃取3小時後，在室溫下靜置3天。繼而，加入10 ml之乙腈，在25℃下以120 rpm振盪30分鐘，利用膜濾器(0.45 μm)進行過濾而獲得萃取液，將約10 μl之該萃取液注入至HPLC中進行分析，而可作為反應處理後之過氧化物量。
又，作為交聯劑，亦可併用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物進行了共價鍵結或配位鍵結者。作為多價金屬原子，可列舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為供共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
活性能量線硬化性樹脂之調配量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100質量份，例如為3質量份以上60質量份以下。硬化前之質量平均分子量(Mw)為4000以上50000以下。作為活性能量線硬化性樹脂，例如適宜使用丙烯酸酯系、環氧系、胺基甲酸酯系、或烯-硫醇系紫外線硬化性樹脂。
作為活性能量線硬化性樹脂，可使用藉由活性能量線而進行自由基聚合或陽離子聚合之單體及/或低聚物。
作為藉由活性能量線而進行自由基聚合之單體，可列舉具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵之單體，自反應性優異之優點考慮，尤其適宜使用具有(甲基)丙烯醯基之單體。
作為具有(甲基)丙烯醯基之單體之具體例，例如可列舉：(甲基)丙烯酸烯丙酯、己內酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環N,N-二乙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、己內酯改性(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸異𦯉基酯、(甲基)丙烯酸𠰌啉酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、羥基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
作為藉由活性能量線而進行自由基聚合之低聚物，可使用：在聚酯、環氧、胺基甲酸酯等骨架上加成2個以上之與單體相同之官能基即(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵而獲得之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
聚酯(甲基)丙烯酸酯係使由多元醇與多元羧酸所獲得之末端羥基之聚酯、與(甲基)丙烯酸反應而獲得者，作為具體例，可列舉東亞合成股份有限公司製造之Aronix M-6000、7000、8000、9000系列等。
環氧(甲基)丙烯酸酯係使環氧樹脂與(甲基)丙烯酸反應而獲得者，作為具體例，可列舉昭和高分子股份有限公司製造之Ripoxy SP、VR系列或共榮社化學股份有限公司製造之Epoxy Ester系列等。
胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯係藉由使多元醇、異氰酸酯、(甲基)丙烯酸羥酯進行反應而獲得者，作為具體例，可列舉：根上工業股份有限公司製造之Artresin UN系列、新中村化學工業股份有限公司製造之NK Oligo U系列、三菱化學公司製造之紫光UV系列等。
光聚合起始劑具有如下作用，即，藉由照射紫外線而激發、活化，生成自由基，藉由自由基聚合而使多官能低聚物硬化。例如可列舉：4-苯氧基二氯苯乙酮、4-第三丁基二氯苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-𠰌啉基丙烷-1等苯乙酮系光聚合起始劑；安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等安息香系光聚合起始劑；二苯甲酮、苯甲醯苯甲酸、苯甲醯苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮等二苯甲酮系光聚合起始劑；9-氧硫𠮿 、2-氯9-氧硫氧硫𠮿 、2-甲基9-氧硫氧硫𠮿 、2,4-二甲基9-氧硫氧硫𠮿 、異丙基9-氧硫氧硫𠮿 、2,4-二氯9-氧硫氧硫𠮿 、2,4-二乙基9-氧硫氧硫𠮿 、2,4-二異丙基9-氧硫氧硫𠮿 等9-氧硫氧硫𠮿 系光聚合起始劑；α-醯基肟酯、醯基氧化膦、苯甲醯甲酸甲酯、苯偶醯、樟腦醌、二苯并環庚酮、2-乙基蒽醌、4',4''-二乙基異酞酚酮(isophthalophenone)等特殊光聚合起始劑；等。又，作為光聚合起始劑，還可使用：烯丙基鋶鎓六氟磷酸鹽、鋶鎓六氟磷酸鹽類、及雙(烷基苯基)碘鎓六氟磷酸鹽等光陽離子系聚合起始劑。
關於上述光聚合起始劑，亦可併用兩種以上。聚合起始劑相對於上述活性能量線硬化性樹脂100質量份，通常在0.5質量份以上30質量份以下之範圍內、進而在1質量份以上20質量份以下之範圍內進行調配。若未達0.5質量份，則無法充分地進行聚合，而導致硬化速度變慢，若超過30質量份，則可能產生硬化片材之硬度降低等問題。
活性能量線並無特別限定，較佳為紫外線、可見光、及電子束等。關於藉由照射紫外線而進行之交聯處理，可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、準分子雷射、金屬鹵素燈、LED(light emitting diode，發光二極體)燈等適宜之紫外線源進行。此時，作為紫外線之照射量，可根據所需之交聯度進行適宜選擇，通常情況下，若為紫外線，則較理想為於0.2 J/cm2 以上10 J/cm2 以下之範圍內進行選擇。照射時之溫度並無特別限定，但考慮到支持體之耐熱性，較佳為至140℃左右。
其次，參照圖3～圖5對本發明之另一實施方式之光學積層體100B及101B進行說明。再者，關於具有與先前之實施方式實質上相同之功能之構成要素，只要無特別說明，便沿用先前之實施方式之說明。光學積層體100B作為專利文獻2中所記載之配光控制元件發揮功能，可使用卷對卷法進行製造。故將專利文獻2之揭示內容全部引用至本說明書中，以便參考。
圖3係光學積層體100B及101B之模式性剖視圖，且示出了第1光學片材10b經由接著劑層20b而接著於第2光學片材30之表面38s之狀態。圖4係光學積層體100B所具有之第1光學片材10b之模式性立體圖。圖5係具備光學積層體102B及光源60之照明裝置200之模式性剖視圖，且模式性地示出了光線之軌跡。
參照圖3及圖4。光學積層體100B具有：光學片材10b，其具備具有凹凸結構之第1主面12s、及第1主面12s之相反側之第2主面18s；及接著劑層20b，其配置於光學片材10b之第1主面12s側。光學積層體101B具有光學積層體100B、及配置於接著劑層20a之與第1光學片材10b側相反之側之第2光學片材30。此處，光學片材10b之第1主面12s所具有之凹凸結構包含複數個凹部14，接著劑層20b之表面與光學片材10b之第1主面12s於複數個凹部14處劃定複數個空間14(以與凹部相同之參照符號示出)。接著劑層20b係劃定光學積層體100B之空間14所必須之構成要素，為光學積層體100B之一部分。
光學片材10b所具有之凹凸結構包含與接著劑層20b相接之平坦部10s。凹凸結構例如包含截面為梯形之複數個凸部15。凹凸結構具有與接著劑層20b相接之平坦部10s，因此相較於圖1所示之稜鏡片10a之稜鏡面之凹凸結構，光學片材10b之凹凸結構之凹部更不易被接著劑層20b滲入。因此，藉由使用上述接著劑，可獲得複數個空間14不被接著劑層20b滲入，且亦不產生經時變化之光學積層體100B。
光學片材10b可使用與公知之稜鏡片或微透鏡片相同之材料並藉由相同之方法而製造。光學片材10b之凹凸結構之大小、形狀可適宜變更(專利文獻2)。但，如上所述，光學片材10b與公知之稜鏡片或微透鏡片之不同之處在於：藉由與接著劑層20b接著，才能夠作為劃定出空間14之光學積層體100B發揮功能。
如圖3所示，於光學積層體101B中，第2光學片材30配置成以其表面38s接著於接著劑層20b之表面22s。構成第2光學片材30之材料可根據目的而採用任意適當之材料。作為第2光學片材30之材料，例如可列舉透光性熱塑性樹脂，更具體而言，例如可列舉由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯(PC)系樹脂形成之膜。
光學積層體100B所具有之空間14係藉由光學片材10b之第1主面12s之一部分即表面16s及表面17s、與接著劑層20b之表面28s而劃定。此處，示出了表面16s相對於片材面(圖之水平方向)傾斜(超過0°且未達90°)，表面17s相對於片材面幾乎垂直之例，但並不限於此，可進行各種改變(參照專利文獻2)。
光學積層體100B例如如圖5所示地用於照明裝置200。於光學積層體100B之接著劑層20b之與第1光學片材10b側相反之側設置有導光板50。將光學積層體100B與導光板50合併統稱為光學積層體102B。光學積層體102B係於光學積層體100B之接著劑層20b之表面22s處接著於導光板50。以來自光源(例如LED)60之光入射至導光板50之受光面之方式進行配置，被導入至導光板50內之光線如圖5中之箭頭所示，被由空間14形成之界面16s及界面14s全反射(TIR)。被界面14s(接著劑層20b之表面28s)全反射之光線在導光板50及接著劑層20b內進行導光，被斜面16s全反射之光線自光學積層體100B之表面18s射出至外部。藉由調整空間14之形狀、大小、配置密度等，可調整自光學積層體100B射出之光線之分佈(配光分佈)。此處，導光板50、接著劑層20b及光學片材10b之折射率較佳為彼此相等。
於圖3～圖5中，示出了凸部15之截面形狀為梯形之例，但凸部15之形狀並不限於圖示之例，可進行各種改變。藉由調整凸部15之形狀、大小等，可調整空間14之形狀、大小、配置密度等。例如於國際公開第2011/124765號中記載有內部具有複數個空間之積層體之例。故將國際公開第2011/124765號之揭示內容全部引用至本說明書中，以便參考。
以下，對實驗例(實施例及比較例)進行說明。
[實施例1] (接著劑組合物溶液之製備) 首先，製備丙烯酸系聚合物。向具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷凝器之四口燒瓶中，將丙烯酸正丁酯(BA)62.9質量份、4-丙烯醯𠰌啉(ACMO)33.9質量份、丙烯酸(AA)2.9質量份、丙烯酸4-羥基丁酯(4HBA)0.3質量份、及作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1質量份，以單體之合計成為50質量%之方式與乙酸乙酯一同添加至燒瓶中，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣並進行1小時之氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持在58℃左右並進行8小時之聚合反應，從而獲得丙烯酸系聚合物。此處，自聚合反應開始經過2小時後，以固形物成分成為35質量%之方式歷時3小時滴加乙酸乙酯。即，獲得固形物成分為35質量%之丙烯酸系聚合物溶液作為丙烯酸系聚合物。
繼而，向所獲得之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為7質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂A(質量平均分子量Mw：5,500)、0.7質量份之作為光聚合起始劑之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名「Omnirad651」，IGM JAPAN合同公司製造)、及0.1質量份之作為交聯劑之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)，從而製備接著劑組合物溶液。
(接著片材之製作) 於經矽酮剝離處理之厚度38 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「MRF38」，三菱化學股份有限公司製造)之單面塗佈接著劑組合物溶液，從而形成接著劑組合物溶液層。此時，接著劑組合物溶液層之厚度係以乾燥後之厚度(即接著劑組合物層之厚度)成為1 μm之方式塗佈而成。藉由使接著劑組合物溶液層在150℃下乾燥3分鐘，而去除接著劑組合物溶液層之溶劑並且利用交聯劑使丙烯酸系聚合物交聯，從而獲得具有第1交聯結構之接著劑組合物層。繼而，將經矽酮剝離處理之厚度38 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「MRE38」，三菱化學股份有限公司製造)之剝離處理面貼合於接著劑組合物層，從而製作具有PET膜/接著劑組合物層/PET膜之積層構造的接著片材(第1積層體)。
(光學積層體之製作) 自所獲得之接著片材(第1積層體)將一片經剝離處理之PET膜剝離而使接著劑組合物層露出，將該露出之接著劑組合物層之表面貼合於丙烯酸系樹脂膜(厚度：20 μm)，進而將另一片隔離膜(PET膜)剝離並貼合於具有間距10 μm、高度5.0 μm之凹凸之稜鏡片(日本特殊光學樹脂股份有限公司製造，商品號「LPV90-0.01S」)之稜鏡面，從而獲得具有丙烯酸系樹脂膜/接著劑組合物層/稜鏡片(光學片材)之積層構造的積層體(第2積層體)。
繼而，對於該第2積層體，自第2積層體之上表面(丙烯酸系樹脂膜側)照射紫外線而使接著劑組合物層之硬化性樹脂硬化，藉此形成除第1交聯結構以外還具有第2交聯結構之接著劑層，從而獲得具有丙烯酸系樹脂膜/接著劑層/稜鏡片(光學片材)之積層構造的實施例1之光學積層體(第3積層體)。紫外線照射使用LED燈(Quark Technology股份有限公司製造，峰照度：200 mW/cm2 ，累計光量1500 mJ/cm2 (波長345～365 nm))，紫外線之照度係使用UV Power Puck(Fusion UV Systems Japan股份有限公司製造)而測定。
[實施例2] 實施例2與實施例1之不同之處在於：於接著劑組合物溶液之製備中，向藉由與實施例1相同之方式製備而成之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為30質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(商品名「紫光 UV-7610B」(質量平均分子量Mw：11,000)，三菱化學股份有限公司製造)作為紫外線硬化性樹脂，調配3.0質量份之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名「Omnirad651」，IGM JAPAN合同公司製造)作為光聚合起始劑，調配0.1質量份之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)作為交聯劑。除上述內容以外，均與實施例1同樣地進行。
[實施例3] 實施例3與實施例1之不同之處在於：於接著劑組合物溶液之製備中，向藉由與實施例1相同之方式製備而成之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為5質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂A作為紫外線硬化性樹脂，調配0.5質量份之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名「Omnirad651」，IGM JAPAN合同公司製造)作為光聚合起始劑，調配0.1質量份之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)作為交聯劑。除上述內容以外，均與實施例1同樣地進行。
[實施例4] 實施例4與實施例1之不同之處在於：於接著劑組合物溶液之製備中，向藉由與實施例1相同之方式製備而成之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為9質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂A作為紫外線硬化性樹脂，調配0.9質量份之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名「Omnirad651」，IGM JAPAN合同公司製造)作為光聚合起始劑，調配0.1質量份之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)作為交聯劑。除上述內容以外，均與實施例1同樣地進行。
[實施例5] 實施例5與實施例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸、及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為58.1質量份/38.7質量份/2.9質量份/0.3質量份。進而，還在以下方面與實施例1不同：於接著劑組合物溶液之製備中，向所獲得之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為5質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂A作為紫外線硬化性樹脂，調配0.5質量份之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名「Omnirad651」，IGM JAPAN合同公司製造)作為光聚合起始劑，調配0.1質量份之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)作為交聯劑。除上述內容以外，均與實施例1同樣地進行。
[實施例6] 實施例6與實施例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸、及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為67.8質量份/29.0質量份/2.9質量份/0.3質量份。進而，還在以下方面與實施例1不同：於接著劑組合物溶液之製備中，向所獲得之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為30質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(商品名「紫光 UV-7610B」，三菱化學股份有限公司製造，質量平均分子量Mw：11,000)作為紫外線硬化性樹脂，調配3.0質量份之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名「Omnirad651」，IGM JAPAN合同公司製造)作為光聚合起始劑，調配0.1質量份之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)作為交聯劑。除上述內容以外，均與實施例1同樣地進行。
[實施例7] (接著劑組合物溶液之製備) 實施例7與實施例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸、及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為74.6質量份/18.6質量份/6.5質量份/0.3質量份。進而，還在以下方面與實施例1不同：於接著劑組合物溶液之製備中，向所獲得之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為10質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂A作為紫外線硬化性樹脂，調配1.0質量份之4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮(商品名「Omnirad2959」，IGM JAPAN合同公司製造)作為光聚合起始劑，調配0.6質量份之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)作為交聯劑。除上述內容以外，均與實施例1同樣地進行。
(接著片材之製作) 與實施例1同樣地進行。
(光學積層體之製作) 與實施例1同樣地進行。
[實施例7a] 使用下述凹凸賦形膜70作為光學片材，除此以外，藉由與實施例7相同之方式而製作具有丙烯酸系樹脂膜/接著劑層/光學片材(凹凸賦形膜)之積層構造的實施例7a之光學積層體。
(凹凸賦形膜之製造) 依據日本專利特表2013-524288號公報中所記載之方法製作凹凸賦形膜。具體而言，對聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)膜之表面塗漆(三洋化成工業股份有限公司製造，Finecure RM-64)，於包含該漆之膜表面上壓紋加工出光學圖案，然後使漆硬化，藉此製造目標凹凸賦形膜。凹凸賦形膜之總厚度為130 μm，霧度為0.8%。 將自凹凸面側觀察所製造之凹凸賦形膜70之一部分所得之俯視圖示於圖6A。又，將圖6A之凹凸賦形膜之6B-6B'剖視圖示於圖6B。長度L為80 μm，寬度W為14 μm，深度H為10 μm且截面為三角形之複數個凹部74係在X軸方向上空開寬度E(155 μm)之間隔而配置。進而，此種凹部74之圖案係在Y軸方向上空開寬度D(100 μm)之間隔而配置。凹凸賦形膜表面之凹部74之密度為3612個/cm2 。圖6B中之θa及θb均為41°，自凹凸面側俯視膜時之凹部74之佔有面積比為4.05%。
[實施例8] 實施例8與實施例7之不同之處在於：於接著片材(第1積層體)之製作中，以乾燥後之厚度(即接著劑組合物層之厚度)成為10 μm之方式設定接著劑組合物溶液層之厚度。除上述內容以外，均與實施例7同樣地進行。
[實施例8a] 使用凹凸賦形膜70作為光學片材，除此以外，藉由與實施例8相同之方式而製作具有丙烯酸系樹脂膜/接著劑層/光學片材(凹凸賦形膜)之積層構造的實施例8a之光學積層體。
[比較例1] (接著劑組合物溶液之製備) 比較例1與實施例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為53.2質量份/43.6質量份/2.9質量份/0.3質量份。進而，還在以下方面與實施例1不同：在所獲得之丙烯酸系聚合物溶液中不調配紫外線硬化性樹脂及光聚合起始劑，僅調配交聯劑而製備接著劑組合物溶液。
(接著片材之製作) 於經矽酮剝離處理之厚度38 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「MRF38」，三菱化學股份有限公司製造)之單面塗佈接著劑組合物溶液，而形成接著劑組合物溶液層。此時，接著劑組合物溶液層之厚度係以乾燥後之厚度(即接著劑層之厚度)成為1 μm之方式塗佈而成。藉由使接著劑組合物溶液層在150℃下乾燥3分鐘，而去除接著劑組合物溶液層之溶劑並且利用交聯劑使丙烯酸系聚合物交聯，藉此獲得具有交聯結構之接著劑層。
於上述實施例1中，接著劑組合物溶液包含丙烯酸系聚合物、交聯劑、紫外線硬化性樹脂、光聚合起始劑及溶劑。於實施例1中，使由接著劑組合物溶液形成之接著劑組合物溶液層在150℃下乾燥3分鐘，利用交聯劑使丙烯酸系聚合物交聯，藉此形成具有第1交聯結構之接著劑組合物層，然後，使接著劑組合物層之紫外線硬化性樹脂硬化，藉此形成除第1交聯結構以外還具有第2交聯結構之接著劑層。相對於此，於比較例1中，接著劑組合物溶液不包含紫外線硬化性樹脂及光聚合起始劑。於比較例1中，使由接著劑組合物溶液形成之接著劑組合物溶液層在150℃下乾燥3分鐘，利用交聯劑使丙烯酸系聚合物交聯，藉此形成具有交聯結構之接著劑層。
繼而，將經矽酮剝離處理之厚度38 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「MRE38」，三菱化學股份有限公司製造)之剝離處理面貼合於接著劑層，從而製作具有PET膜/接著劑層/PET膜之積層構造的接著片材(第1積層體)。
(光學積層體之製作) 自所獲得之接著片材(第1積層體)將一片經剝離處理之PET膜剝離而使接著劑層露出，將該露出之接著劑層之表面貼合於丙烯酸系樹脂膜(厚度：20 μm)，進而將另一片隔離膜(PET膜)剝離並貼合於具有間距10 μm、高度5.0 μm之凹凸之稜鏡片(日本特殊光學樹脂股份有限公司製造，商品號「LPV90-0.01S」)之稜鏡面，從而獲得具有丙烯酸系樹脂膜/接著劑層/稜鏡片(光學片材)之積層構造的積層體(第2積層體)。將該第2積層體作為比較例1之光學積層體。
[比較例2] 比較例2與比較例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸、及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為58.1質量份/38.7質量份/2.9質量份/0.3質量份。除上述內容以外，均與比較例1同樣地進行。
[比較例3] 比較例3與實施例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸、及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為67.8質量份/29.0質量份/2.9質量份/0.3質量份。進而，還在以下方面與實施例1不同：於接著劑組合物溶液之製備中，向所獲得之丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物100質量份調配以固形物成分計為30質量份之紫外線硬化型胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂(商品名「紫光 UV-1700B」，三菱化學股份有限公司製造，質量平均分子量Mw：2,000)作為紫外線硬化性樹脂，調配3.0質量份之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名「Omnirad651」，IGM JAPAN合同公司製造)作為光聚合起始劑，調配0.1質量份之1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(商品名「TETRAD-C」，三菱瓦斯化學股份有限公司製造)作為交聯劑。除上述內容以外，均與實施例1同樣地進行。
[比較例4] 比較例4與比較例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸、及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為77.4質量份/19.4質量份/2.9質量份/0.3質量份。除上述內容以外，均與比較例1同樣地進行。
[比較例5] 比較例5與比較例1之不同之處在於：於丙烯酸系聚合物之製備中，將丙烯酸正丁酯、4-丙烯醯𠰌啉、丙烯酸、及丙烯酸4-羥基丁酯分別設為92.0質量份/4.8質量份/2.9質量份/0.3質量份。除上述內容以外，均與比較例1同樣地進行。
對實施例1～8及比較例1～5之光學積層體進行以下評價。將評價結果示於表1。
＜凝膠分率之評價＞ 對於實施例1～8及比較例3各者，自使硬化性樹脂硬化前之接著片材(第1積層體)之接著劑組合物層採集約0.1 g，包裹至平均孔徑0.2 μm之多孔質四氟乙烯片材(商品名「NTF1122」，日東電工股份有限公司製造)中後，利用風箏線進行綁縛，測定綁縛而成者(稱為「試樣樣品A」)之質量(設為浸漬前質量(W2))。浸漬前質量(W2)係接著劑組合物、多孔質四氟乙烯片材、及風箏線之總質量。再者，多孔質四氟乙烯片材與風箏線之合計質量亦已預先另外測定(設為包袋質量(W1))。
繼而，將試樣樣品A放入至裝滿了乙酸乙酯之50 mL容器中，在23℃下靜置7天。然後，自容器中取出試樣樣品A(乙酸乙酯處理後)，移至鋁製杯中，於乾燥機中在130℃下使其乾燥2分鐘而去除乙酸乙酯後，測定試樣樣品A之質量(設為浸漬後質量(W3))。根據下述式算出凝膠分率。 凝膠分率(%(質量%))＝(W3－W1)×100/(W2－W1)
又，對於實施例1～8及比較例3各者，對使硬化性樹脂硬化前之接著片材(第1積層體)照射紫外線，使接著劑組合物層之紫外線硬化性樹脂硬化，藉此形成接著劑層，從而獲得具有PET膜/接著劑層/PET膜之積層構造的接著片材(第4積層體)。自各個接著片材(第4積層體)之接著劑層採集約0.1 g，包裹至平均孔徑0.2 μm之多孔質四氟乙烯片材(商品名「NTF1122」，日東電工股份有限公司製造)中後，利用風箏線進行綁縛，對於綁縛而成者(設為「試樣樣品B」)，亦藉由與上述相同之方法評價接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之凝膠分率。紫外線照射使用LED燈(Quark Technology股份有限公司製造，峰照度：200 mW/cm2 ，累計光量1500 mJ/cm2 (波長345～365 nm))，紫外線之照度係使用UV Power Puck(Fusion UV Systems Japan股份有限公司製造)而測定。
關於使用不含硬化性樹脂之接著劑組合物的比較例1、2、4及5，自各個接著片材(第1積層體)之接著劑層採集約0.1 g，包裹至平均孔徑0.2 μm之多孔質四氟乙烯片材(商品名「NTF1122」，日東電工股份有限公司製造)中後，利用風箏線進行綁縛，使用該綁縛而成者(設為「試樣樣品C」)進行同樣之評價。
＜接著劑組合物之初始拉伸彈性模數之評價＞ 關於實施例1～8及比較例3各者，除了將接著劑組合物層之厚度設為10 μm以外，與上述接著片材(第1積層體)同樣地製作具有PET膜/接著劑組合物層(厚度10 μm)/PET膜之積層構造的接著片材(第5積層體)。自接著片材(第5積層體)切出寬度30 mm、長度60 mm大小之試樣片，將一片經剝離處理之PET膜剝離而使接著劑組合物層露出，將該露出之接著劑組合物層搓圓成截面面積約0.6 mm2 之圓筒狀而製作測定用樣品。 關於比較例1、2、4及5各者，除了將接著劑層之厚度設為10 μm以外，與上述接著片材(第1積層體)同樣地製作具有PET膜/接著劑層(厚度10 μm)/PET膜之積層構造的接著片材(第6積層體)。自接著片材(第6積層體)切出寬度30 mm、長度60 mm大小之試樣片，將一片經剝離處理之PET膜剝離而使接著劑層露出，將該露出之接著劑層搓圓成截面面積約0.6 mm2 之圓筒狀而製作測定用樣品。
於23℃、65%RH之測定環境下，將上述圓筒狀之測定用樣品設置於拉伸壓縮試驗機(裝置名「AGS-50NX」，島津製作所股份有限公司製造)，在夾頭間距離10 mm、拉伸速度50 mm/分鐘之條件下沿上述圓筒之軸方向拉長，測定該拉長所導致之其變化量(mm)。藉此，於所獲得之S-S(應變-強度)曲線中，將與2點之拉伸應變(ε1 ＝5%及ε2 ＝10%)對應之拉伸應力分別設為σ1及σ2時，接著劑組合物之初始拉伸彈性模數E0 成為E0 ＝(σ2 －σ1 )/(ε2 －ε1 )。此處，拉伸應變ε係基於夾頭間距離而算出。 ε＝(L1 －L0 )/L0 或 ε(%)＝100×(L1 －L0 )/L0 ε：拉伸應變(無因次之比或%) L0 ：初始之夾頭間距離(mm) L1 ：拉長後之夾頭間距離(mm) 拉伸應力σ係基於拉長前之試驗片之截面面積而算出。 σ＝F/A σ：拉伸應力(MPa) F：測定負載(N) A：拉長前之試驗片之截面面積(mm2 )
關於實施例1～8及比較例3各者，使用具有使硬化性樹脂硬化後之接著劑組合物層的接著片材來同樣地進行評價，亦對照射紫外線而使硬化性樹脂硬化後之接著劑組合物之初始拉伸彈性模數(即接著劑層之初始拉伸彈性模數)進行評價。具體而言，製作上述接著片材(第5積層體)後，對第5積層體照射紫外線而使接著劑組合物層之紫外線硬化性樹脂硬化，藉此獲得具有PET膜/接著劑層(厚度10 μm)/PET膜之積層構造的接著片材(第6積層體)。自使硬化性樹脂硬化後之接著片材(第6積層體)切出寬度20 mm、長度60 mm大小之試樣片，將其作為測定用樣品。測定沿長度方向拉長所形成之其變化量(mm)，從而測定初始拉伸彈性模數。再者，於對第5積層體照射紫外線時使用LED燈(Quark Technology股份有限公司製造，峰照度：200 mW/cm2 ，累計光量1500 mJ/cm2 (波長345～365 nm))，紫外線之照度係使用UV Power Puck(Fusion UV Systems Japan股份有限公司製造)而測定。
＜對聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)之180°剝離接著力＞ 自比較例1、2、4及5各者之接著片材(第1積層體)將一片經剝離處理之PET膜剝離而使接著劑層露出，將該露出之接著劑層之表面貼合於厚度25 μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(商品名「Lumirror S-10」，東麗股份有限公司製造)。將上述所得者切成寬度20 mm，將另一片經剝離處理之PET膜剝離而使接著劑層露出，將該露出之接著劑層之表面貼合於聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板(商品名「Acrylite」，三菱化學股份有限公司製造)而製成試驗片，從而測定對PMMA板之接著力(mN/20 mm)。
與PMMA板貼合時之壓接係使2 kg之輥往返1次而進行，貼合30分鐘後，使用拉伸壓縮試驗機(裝置名「AGS-50NX」，島津製作所股份有限公司製造)於以下條件下進行180°剝離接著力之測定。 剝離速度：300 mm/分鐘 測定條件：溫度：23±2℃；濕度：65±5%RH
關於實施例1～8及比較例3，藉由以下方式，對照射紫外線而使硬化性樹脂硬化後之接著劑之180°剝離接著力進行評價。使用接著片材(第1積層體)，與比較例1、2、4及5同樣地製作試驗片，與PMMA板貼合後(即，獲得PET膜(Lumirror S-10)/接著劑組合物層(使紫外線硬化性樹脂硬化前)/PMMA板之積層體後)，自PET膜側照射紫外線，藉此製作試驗片。紫外線照射使用LED燈(Quark Technology股份有限公司製造，峰照度：200 mW/cm2 ，累計光量1500 mJ/cm2 (波長345～365 nm))，紫外線之照度係使用UV Power Puck(Fusion UV Systems Japan股份有限公司製造)而測定。
＜霧度之評價＞ 藉由以下方式製作接著劑層之積層體(厚度80 μm)。 實施例1～8及比較例3：藉由與上述＜接著劑組合物之初始拉伸彈性模數之評價＞相同之方法，按照寬度20 cm、長度30 cm之尺寸製作具有PET膜/接著劑層(厚度10 μm)/PET膜之積層構造的接著片材(第6積層體)。自所獲得之接著片材(第6積層體)切出8個試驗片，將接著劑層(厚度10 μm)積層8層，藉此獲得接著劑層之積層體(厚度80 μm)。 比較例1、2、4及5：藉由與上述＜接著劑組合物之初始拉伸彈性模數之評價＞相同之方法，按照寬度20 cm、長度30 cm之尺寸製作具有PET膜/接著劑層(厚度10 μm)/PET膜之積層構造的接著片材(第6積層體)。自所獲得之接著片材(第6積層體)切出8個試驗片，將接著劑層(厚度10 μm)積層8層，藉此獲得接著劑層之積層體(厚度80 μm)。
將藉由以上方式而獲得之接著劑層之積層體(厚度80 μm)與經矽酮剝離處理之PET膜進行貼合，藉此獲得具有PET膜/接著劑層之積層體(厚度80 μm)/PET膜之積層構造的積層體。自具有PET膜/接著劑層之積層體(厚度80 μm)/PET膜之積層構造的積層體將一側之隔離膜(PET膜)剝離，將接著劑層之積層體貼合於玻璃板(商品名「EAGLE XG」，康寧公司製造，厚度0.7 mm)，進而將另一片隔離膜剝離，從而製作具有接著劑層之積層體/玻璃板之積層構造的試驗片。使用霧度計(裝置名「HZ-1」，Suga Test Instruments股份有限公司製造)並利用D65光而測定上述試驗片之霧度。
於本說明書中，接著劑層之「霧度」設為使用接著劑層之積層體(厚度80 μm)並藉由上述方法而求出之「霧度」。厚度為80 μm之積層體之霧度並不取決於構成積層體之各個接著劑層之厚度。
＜漫透射率之評價＞ 以各實施例或比較例之光學積層體之丙烯酸系樹脂膜成為光源側之方式設置於霧度計(裝置名「HZ-1」，Suga Test Instruments股份有限公司製造)，利用D65光而測定漫透射率。測定剛貼合後(5分鐘以內)之漫透射率(表1中之「漫透射率(剛貼合後)」)、及貼合1天後及5天後(於溫度：23±2℃，濕度：65±5%RH之條件下保管)之漫透射率(表1中之「漫透射率(1天後)」及「漫透射率(5天後)」)。依據以下基準來判定所獲得之漫透射率。 剛貼合後(5分鐘以內)之漫透射率 ◎：96%以上 ○：95%以上且未達96% △：93%以上且未達95% ×：未達93% 貼合1天後之漫透射率 ◎：95%以上 ○：88%以上且未達95% △：86%以上且未達88% ×：未達86% 貼合5天後之漫透射率 ◎：90%以上 ○：86%以上且未達90% △：85%以上且未達86% ×：未達85%
[表1]
   丙烯酸系聚合物 紫外線硬化性樹脂    凝膠分率 [%] 初始拉伸彈性模數 [MPa] 對PMMA之接著力 [mN/20 mm] 霧度 [%] 接著劑層之厚度 [μm] 漫透射率(剛貼合後) [%] 漫透射率(1天後) [%] 漫透射率(5天後) [%]
種類 質量份    判定    判定    判定
實施例1 BA/ACMO/AA/4HBA＝62.9/33.9/2.9/0.3 樹脂A 7 硬化前 86.3 2.89 - - 1 - - - - - -
硬化後 91.2 4.53 70 1.3 97.0 ◎ 95.3 ◎ 94.5 ◎
實施例2 紫光UV-7610B 30 硬化前 77.9 0.44 - - 1 - - - - - -
硬化後 99.2 32.91 80 3.0 95.7 〇 88.6 〇 88.4 〇
實施例3 樹脂A 5 硬化前 84.2 2.22 - - 1 - - - - - -
硬化後 97.1 4.76 90 1.3 96.5 ◎ 89.3 〇 86.9 〇
實施例4 樹脂A 9 硬化前 82.1 2.52 - - 1 - - - - - -
硬化後 91.1 7.63 70 1.3 96.3 ◎ 89.5 〇 86.9 〇
實施例5 BA/ACMO/AA/4HBA＝58.1/38.7/2.9/0.3 樹脂A 5 硬化前 86.0 7.60 - - 1 - - - - - -
硬化後 97.8 17.18 40 2.2 96.8 ◎ 95.6 ◎ 93.4 ◎
實施例6 BA/ACMO/AA/4HBA＝67.8/29.0/2.9/0.3 紫光UV-7610B 30 硬化前 75.8 0.54 - - 1 - - - - - -
硬化後 97.1 11.11 110 1.8 94.0 △ 88.6 〇 88.1 〇
實施例7 BA/ACMO/AA/4HBA＝74.6/18.6/6.5/0.3 樹脂A 10 硬化前 90.1 1.24 - - 1 - - - - - -
硬化後 95.0 3.30 385 0.7 96.8 ◎ 96.0 ◎ 95.8 ◎
實施例8 樹脂A 10 硬化前 91.8 1.50 - - 10 - - - - - -
硬化後 96.7 3.80 989 0.7 95.3 〇 92.9 〇 90.8 ◎
比較例1 BA/ACMO/AA/4HBA＝53.2/43.6/2.9/0.3 無 - - 91.1 24.39 0 1.0 1 無法貼合
比較例2 BA/ACMO/AA/4HBA＝58.1/38.7/2.9/0.3 無 - - 94.0 8.37 60 0.8 1 無法貼合
比較例3 BA/ACMO/AA/4HBA＝67.8/29.0/2.9/0.3 紫光UV-1700B 30 硬化前 70.6 0.28 - - 1 - - - - - -
硬化後 97.2 85.04 480 1.2 90.7 × 82.8 × 82.6 ×
比較例4 BA/ACMO/AA/4HBA＝77.4/19.4/2.9/0.3 無 - - 91.6 0.33 330 0.5 1 94.0 △ 87.1 △ 85.9 △
比較例5 BA/ACMO/AA/4HBA＝92.0/4.8/2.9/0.3 無 - - 94.4 0.19 1190 0.6 1 90.3 × 85.3 × 84.2 ×
根據實施例1～8之光學積層體之漫透射率結果，可以說可於將接著劑組合物層貼合於光學片材時抑制接著劑組合物層滲入至光學片材之凹部，且可抑制接著劑層對凹部之滲入程度之經時變化。實施例1～8之光學積層體均為剛貼合後(5分鐘以內)之漫透射率為94%以上，且自貼合起1天後之漫透射率為88%以上，自貼合起5天後之漫透射率為86%以上。
關於使用表面具有複數個凹部之凹凸賦形膜作為光學片材之實施例7a及8a之光學積層體，將光學片材與接著劑組合物層貼合10天後，利用光學顯微鏡(Nikon Solutions股份有限公司製造，ECLIPSE LV100)以1500倍之倍率對實施例7a及8a之光學積層體之剖面(包括凹凸賦形膜70之圖6B之剖面在內之剖面)進行觀察。對於實施例7a及8a之任一者，均自觀察影像確認到接著劑層實質上未滲入至凹凸賦形膜70之凹部74內，且確認到接著劑層對凹部之滲入程度之經時變化得到抑制。
實施例1～8之接著劑組合物層均可將丙烯酸系樹脂膜及光學片材貼合。根據實施例1～8之結果可知：若考慮到將接著劑組合物層貼合於光學片材之稜鏡面或凹凸面時所需之柔軟度(易變形度)，較佳為接著劑組合物層的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為8.00 MPa以下，更佳為7.70 MPa以下。又，根據實施例1～8之結果可知：要想抑制將接著劑組合物層貼合於光學片材時接著劑組合物層滲入至光學片材之凹部，且抑制接著劑層對凹部之滲入程度之經時變化，較佳為接著劑組合物層的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35 MPa以上，且使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00 MPa以上；更佳為接著劑組合物層的使硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.40 MPa以上，且接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為3.00 MPa以上。
於實施例1～8及比較例3中，接著劑組合物層的使硬化性樹脂硬化前之厚度(即接著劑組合物層之厚度)與接著劑組合物層的使硬化性樹脂硬化後之厚度(即接著劑層之厚度)均無變化，為1 μm(於實施例8中，均為10 μm)。
比較例3與實施例6之不同之處在於：紫外線硬化性樹脂之種類不同。實施例6使用質量平均分子量Mw為11,000之紫外線硬化性樹脂，相對於此，比較例3使用質量平均分子量Mw為2,000之紫外線硬化性樹脂。若如比較例3所述紫外線硬化性樹脂之質量平均分子量Mw過小，則接著劑組合物的使硬化性樹脂硬化前之彈性模數較低，因此有時無法充分地抑制接著劑組合物層進入至複數個凹部內。比較例3之光學積層體之剛貼合後(5分鐘以內)之漫透射率、自貼合起1天後之漫透射率、及自貼合起5天後之漫透射率均低於實施例1～8之光學積層體。
比較例1、2、4及5不含紫外線硬化性樹脂。比較例1、2、4及5僅在以下方面不同：製造(甲基)丙烯酸系聚合物時所調配之丙烯酸正丁酯(BA)與4-丙烯醯𠰌啉(ACMO)之質量比率不同。於比較例1中為BA：ACMO＝55：45，於比較例2中為BA：ACMO＝60：40，於比較例4中為BA：ACMO＝80：20，於比較例5中為BA：ACMO＝95：5。於比較例1及2中，接著劑層之初始拉伸彈性模數較高，無法將接著劑層與丙烯酸系樹脂膜及/或稜鏡片貼合。於比較例4及5中，接著劑層之初始拉伸彈性模數較低，無法獲得充分之漫透射率。
關於製造(甲基)丙烯酸系聚合物時所調配之丙烯酸正丁酯(BA)與4-丙烯醯𠰌啉(ACMO)之質量比率，於實施例1～4中為BA：ACMO＝65：35，於實施例5中為BA：ACMO＝60：40，於實施例6中為BA：ACMO＝70：30，於實施例7及8中為BA：ACMO＝80：20。關於實施例2，僅BA：ACMO之質量比率與實施例6不同。關於實施例1、3及4，紫外線硬化性樹脂之種類及量與實施例2不同。關於實施例5，僅BA：ACMO之質量比率與實施例3不同。接著劑組合物較佳為包含例如5.0質量%以上40.0質量%以下之源自含氮之乙烯基單體之成分。源自ACMO之成分相對於接著劑組合物整體之比率如下所述。實施例1：31.4質量%；實施例2：25.5質量%；實施例3：32.1質量%；實施例4：30.8質量%；實施例5：36.6質量%；實施例6：21.8質量%；實施例7：16.7質量%；實施例8：16.7質量%。 [產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可廣泛用於顯示裝置或照明裝置等光學裝置。
10a:第1光學片材 10b:第1光學片材 10s:平坦部 12s:主面(表面) 14:凹部 14s:界面 15:凸部 16s:表面 17s:表面 18s:主面(表面) 20a:接著劑層 20b:接著劑層 22s:表面 28s:表面 30:第2光學片材 32s:主面(表面) 38s:主面(表面) 50:導光板 60:光源 70:凹凸賦形膜 74:凹部 100A:光學積層體 100B:光學積層體 101A:光學積層體 101B:光學積層體 102B:光學積層體 200:照明裝置
圖1係模式性地表示本發明之實施方式之光學積層體100A之剖視圖。 圖2係本發明之另一實施方式之光學積層體101A之模式性剖視圖。 圖3係本發明之又一實施方式之光學積層體100B及光學積層體101B之模式性剖視圖。 圖4係光學積層體100B所具有之光學片材10b之模式性立體圖。 圖5係具備光學積層體100B之照明裝置200之模式性剖視圖。 圖6A係本發明之實施方式之光學積層體所具有之賦形膜70之模式性俯視圖。 圖6B係賦形膜70之模式性剖視圖。
10a:第1光學片材
12s:主面(表面)
18s:主面(表面)
20a:接著劑層
100A:光學積層體

Claims (20)

  1. 一種接著劑組合物層，其係由包含下述聚合物及硬化性樹脂之接著劑組合物形成者，該聚合物包含至少一種(甲基)丙烯酸酯單體與選自由含羥基之共聚性單體、含羧基之共聚性單體及含氮之乙烯基單體所組成之群中之至少一種可共聚之含官能基單體的共聚物，且上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35MPa以上8.00MPa以下，上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00MPa以上，上述硬化性樹脂包含質量平均分子量為4000以上之紫外線硬化性樹脂。
  2. 如請求項1之接著劑組合物層，其中上述至少一種可共聚之含官能基單體包含上述含氮之乙烯基單體，且上述至少一種(甲基)丙烯酸酯單體與上述含氮之乙烯基單體之質量比處於90：10至60：40之間。
  3. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述至少一種可共聚之含官能基單體包含上述含羧基之共聚性單體，且相對於上述聚合物100質量份，上述含羧基之共聚性單體之含量為1.0質量份以上10.0質量份以下。
  4. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述共聚物經交聯。
  5. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述硬化性樹脂進而包含光聚合起始劑。
  6. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之對PMMA膜之180°剝離接著力為10mN/20mm以上。
  7. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之霧度為0.01%以上5%以下。
  8. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化前之凝膠分率為75%以上，上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之凝膠分率為90%以上。
  9. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物不含接枝聚合物。
  10. 如請求項1或2之接著劑組合物層，其中上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之厚度為0.1μm以上20μm以下。
  11. 一種積層體，其具有如請求項1至10中任一項之接著劑組合物層、及 具有經剝離處理之主面之基材，且上述基材之上述經剝離處理之主面與上述接著劑組合物層貼合在一起。
  12. 一種光學積層體，其具有：第1光學片材，其具備具有凹凸結構之第1主面、及上述第1主面之相反側之第2主面；及接著劑層，其配置於上述第1光學片材之上述第1主面側；且上述接著劑層係藉由使包含聚合物及硬化性樹脂之接著劑組合物的上述硬化性樹脂硬化而形成，上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化前之23℃下之初始拉伸彈性模數為0.35MPa以上8.00MPa以下，上述接著劑組合物的使上述硬化性樹脂硬化後之23℃下之初始拉伸彈性模數為1.00MPa以上，上述凹凸結構包含複數個凹部，上述接著劑層之表面與上述第1光學片材之上述第1主面於上述複數個凹部處劃定複數個空間。
  13. 如請求項12之光學積層體，其中上述接著劑層係藉由使如請求項1至10中任一項之接著劑組合物層的上述硬化性樹脂硬化而形成。
  14. 如請求項12或13之光學積層體，其中上述凹凸結構包含與上述接著劑層相接之平坦部。
  15. 如請求項12或13之光學積層體，其進而具備第2光學片材，該第2光 學片材配置於上述接著劑層之與上述第1光學片材側相反之側。
  16. 一種光學裝置，其具備如請求項12至15中任一項之光學積層體。
  17. 一種光學積層體之製造方法，其係製造如請求項12至15中任一項之光學積層體之方法，其包括：步驟A，其對上述第1光學片材之上述第1主面上賦予上述接著劑組合物所形成之接著劑組合物層；及步驟B，其於對上述第1光學片材之上述第1主面上賦予了上述接著劑組合物層之狀態下，使上述接著劑組合物之上述硬化性樹脂硬化。
  18. 如請求項17之製造方法，其中上述步驟A包括藉由卷對卷法而將上述第1光學片材與上述接著劑組合物層貼合之步驟。
  19. 一種光學積層體之製造方法，其中光學積層體係如請求項15之光學積層體，上述製造方法包括下述步驟A1或下述步驟A2之任一者、及步驟B：步驟A1，其將由上述第1光學片材及上述接著劑組合物所形成之接著劑組合物層積層而成之第1積層體、與上述第2光學片材貼合；步驟A2，其將由上述接著劑組合物所形成之接著劑組合物層及上述第2光學片材積層而成之第2積層體、與上述第1光學片材貼合；步驟B，其於上述步驟A1或上述步驟A2之後，使上述接著劑組合物層中所含之上述硬化性樹脂硬化。
  20. 如請求項19之製造方法，其包括上述步驟A1，上述步驟A1包括藉由卷對卷法而將上述第1積層體與上述第2光學片材貼合之步驟；或者包括上述步驟A2，上述步驟A2包括藉由卷對卷法而將上述第2積層體與上述第1光學片材加以貼合之步驟。
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