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TWI873880B - 光學膜以及顯示裝置 - Google Patents

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TWI873880B
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權卿旭
朴曉準
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南韓商可隆股份有限公司
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Abstract

揭露一種光學膜以及包括所述光學膜的顯示裝置，所述光學膜包含透光基質及分散於透光基質中的填料，所述光學膜具有為0.46或小於0.46的潛變指數。

Description

光學膜以及顯示裝置
本揭露是有關於一種光學膜以及包括所述光學膜的顯示裝置，且更具體而言是有關於一種具有優異機械性質的光學膜。
最近，出於減小厚度及重量並提高顯示裝置的可撓性的目的，已經考慮使用光學膜代替玻璃作為顯示裝置的覆蓋窗（cover window）。為使光學膜可用作顯示裝置的覆蓋窗，光學膜需要具有卓越的光學性質及優異的機械性質。舉例而言，光學膜需要具有例如優異的強度、硬度、耐磨性及可撓性等性質。
可添加填料（filler），以賦予需要各種物理性質的光學膜所期望的物理性質。填料可依據光學膜所需的物理性質而變化。
[技術問題]
因此，鑒於上述問題提出本揭露，且本揭露的一個態樣是提供一種包含分散於透光基質中的棒狀或纖維狀填料的光學膜。
本揭露的另一態樣是提供一種具有為0.46或小於0.46的潛變指數（creep index）的光學膜。
本揭露的另一態樣是提供一種具有為200百萬帕至300百萬帕的馬氏硬度（Martens hardness，HM）的光學膜。
本揭露的另一態樣是提供一種具有為40至70的維氏硬度（Vickers hardness，HV）的光學膜。
本揭露的另一態樣是提供一種具有抗潛變變形性的光學膜。根據本揭露的光學膜具有抗潛變變形性，且可用於顯示裝置。
本揭露的另一態樣是提供一種包括所述光學膜的顯示裝置。 [技術解決方案]
根據本揭露的一個態樣，提供一種光學膜，所述光學膜包含透光基質及分散於透光基質中的填料，所述光學膜具有為0.46或小於0.46的潛變指數， 其中潛變指數是根據以下方程式1計算： [方程式1] 潛變指數=潛變應變/潛變應力 其中潛變應變是根據以下方程式2計算： [方程式2] 潛變應變=(3,600秒後的拉伸長度-1%應變下的拉伸長度)/(樣品的量測長度) 其中潛變應力是根據以下方程式3計算： [方程式3] 潛變應力= 1%應變拉伸強度/降伏拉伸強度 其中1%應變拉伸強度是將膜的應變改變1%所需的應力，且 降伏拉伸強度（yield tensile strength）是當應力-應變（stress-strain，S-S）曲線（S-S curve）的模數偏移0.2%時接觸點處的應力。
根據本揭露的另一態樣，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括顯示面板及設置於顯示面板上的光學膜。 [有利效果]
根據本揭露的一個實施例，包含於光學膜中的填料具有棒形狀或纖維形狀，且可對構成透光基質的聚合物鏈進行連結（纏結）。如此一來，可改良光學膜的機械強度。因此，當根據本揭露實施例的光學膜用於顯示裝置時，可防止或抑制折疊期間的破裂（breakage），且可改良抗變形性。另外，當外力在恆定條件下連續施加至光學膜時，變形的程度可減小。
在下文中，將參照附圖詳細地闡述本揭露的實施例。然而，例示性地提供以下實施例僅是為清楚地理解本揭露，且並不限制本揭露的範圍。
在圖式中揭露的用於闡述本揭露的實施例的形狀、大小、比率、角度及數目僅為實例，且本揭露並非僅限於所示細節。在本說明書通篇中，相同的參考編號指代相同的元件。在以下說明中，當確定對相關眾所習知功能或配置的詳細說明不必要地使本揭露的要點模糊不清時，將省略所述詳細說明。
在本說明書中使用例如「包括」、「具有」或「包含」等用語的情形中，除非還使用表述「僅」，否則亦可存在另一部分。除非另有相反表述，否則單數形式的用語可包括複數含義。此外，在解釋元件時，即使不存在對其的明確說明，所述元件亦應被解釋為包括誤差範圍。
在闡述位置關係時，舉例而言，當使用「在…上」、「上方」、「下方」或「靠近於」來闡述位置關係時，除非使用「緊接（immediately）」或「直接」，否則可包括其間並無接觸的情形。
本文中所使用的例如「下方」、「之下」、「下部」、「上方」及「上部」等空間相對用語可用於闡述如圖中所示的裝置或元件與另一裝置或另一元件之間的關係。應理解，除圖中繪示的定向以外，空間相對用語還旨在囊括在裝置的使用或操作期間裝置的不同定向。舉例而言，若各圖中的一者中的裝置上下顛倒，則被闡述為位於其他元件「下方」或位於其他元件「之下」的元件此時將被定位成位於其他元件「上方」。因此，示例性用語「下方」或「之下」可囊括「下方」與「上方」兩種含義。同樣地，示例性用語「上方」或「上部」可囊括「上方」與「下方」兩種含義。
在闡述時間關係時，舉例而言，當使用「之後」、「隨後」、「接下來」或「之前」闡述時間次序時，除非使用「緊接」或「直接」，否則可包括非連續關係的情形。
應理解，儘管在本文中可能使用用語「第一（first）」、「第二（second）」等來闡述各種元件，然而該些元件不受該些用語限制。該些用語僅用於區分各個元件。因此，在本揭露的技術思想內，第一元件可被稱為第二元件。
應理解，用語「至少一者」包括與一或多個項目相關的所有組合。舉例而言，「第一元件、第二元件及第三元件之中的至少一者」可包括選自第一元件、第二元件及第三元件之中的二或更多個元件的所有組合、以及第一元件、第二元件及第三元件中的每一者。
本揭露的各種實施例的特徵可部分地或完全地彼此整合或組合，並且可以不同方式彼此相互操作及在技術上驅動。本揭露的實施例可彼此獨立地施行，或者可以相互關聯的方式一起施行。
圖1是示出根據本揭露實施例的光學膜100的示意圖。根據本揭露的一個實施例，具有透光度的膜被稱為「光學膜100」。
根據本揭露實施例的光學膜100包含透光基質110及分散於透光基質110中的填料120。
透光基質110可為透光的。根據本揭露的實施例，透光基質110可為可撓的。舉例而言，根據本揭露實施例的光學膜可為可彎曲的、可折疊的或可卷起的。因此，根據本揭露實施例的光學膜100可為透光的，且可為可彎曲的、可折疊的或可卷起的。
根據本揭露的實施例，透光基質110可包含醯亞胺重複單元或醯胺重複單元中的至少一者。
根據本揭露實施例的透光基質110可自包括二酐及二胺的單體成分生產出來。具體而言，透光基質110可包含由二酐及二胺形成的醯亞胺重複單元。
然而，根據本揭露實施例的透光基質110並非僅限於此，且透光基質110亦可自除二酐及二胺以外還包括二羰基化合物的單體成分生產出來。根據本揭露實施例的透光基質110可具有醯亞胺重複單元及醯胺重複單元。舉例而言，具有醯亞胺重複單元及醯胺重複單元的透光基質110可為聚醯胺-醯亞胺樹脂。
根據本揭露的一個實施例，透光基質110可包含聚醯亞胺系聚合物。聚醯亞胺系聚合物的實例可包括聚醯亞胺聚合物、聚醯胺-醯亞胺聚合物及類似材料。根據本揭露實施例的透光基質110可自例如聚醯亞胺系聚合物樹脂生產出來。
透光基質110可具有足以使光學膜100保護顯示面板的厚度。舉例而言，透光基質110可具有為10微米至100微米的厚度。透光基質110的厚度可與光學膜100的厚度相同。
填料120可具有棒形狀或纖維形狀。在下文中，長度大於直徑的形狀被稱為「纖維形狀（fiber shape）」。纖維形狀亦可被稱為「長絲形狀（filament shape）」。根據本揭露的一個實施例，填料120的長度可大於填料120的直徑的兩倍。
根據本揭露的一個實施例，填料120具有纖維形狀，且因此可對構成透光基質110的聚合物鏈進行連結。如此一來，可改良聚合物鏈的穩定性及排列特性，可改良透光基質110的機械性質，且亦可改良光學膜100的機械性質。
根據本揭露的一個實施例，填料120的長寬比（aspect ratio）可介於30至2,000的範圍內。長寬比指代填料120的長度對直徑的比率。
當填料120的長寬比小於30時，填料120不夠長且無法充分實行將聚合物鏈彼此連結的功能，且因此無法充分施展改良聚合物鏈的穩定性及排列特性的功能。
當填料120的長寬比大於2,000時，填料120可能降低填料120的分散性（dispersibility），且由於過大的長度而導致填料120在透光基質110內發生團聚（agglomeration）。如此一來，光學膜100可能具有降低的透光度、增大的霧度（haze）及劣化的光學性質。另外，光學膜100的機械強度可能在填料120發生團聚的區域中降低，且因此，光學膜100的模數可能降低，且光學膜100的機械強度亦可能降低。
根據本揭露的一個實施例，填料120的長度可介於1微米至6微米的範圍內。
當填料120的長度小於1微米時，填料120對聚合物鏈進行連結的功能可能無法得到充分施展。
當填料120的長度高於6微米時，填料120的分散性可能降低，且如此一來，填料120可能在透光基質110內發生團聚，且可能由於與聚合物鏈的相互作用而容易發生凝膠化（gelation）。因此，光學膜100可能具有降低的透光度、增大的霧度及劣化的光學性質。
根據本揭露的一個實施例，填料120的直徑可介於3奈米至33奈米的範圍內。
當填料120的直徑小於3奈米時，填料120的穩定性可能降低，且填料可能被切斷或破裂，從而污染光學膜100且增大光學膜100的霧度。
當填料120的直徑高於33奈米時，填料120難以具有纖維形狀，且光學膜100可能具有劣化的對聚合物鏈進行連結的功能、增大的霧度及降低的透光度。
對填料120的類型並無特別限制。根據本揭露的實施例，可無限制地使用任何填料作為填料120，只要所述填料具有纖維形狀即可。填料120可為無機的或有機的。填料120可包括無機纖維、有機纖維或有機-無機混合纖維中的至少一者。
更具體而言，填料120可具有纖維形狀。舉例而言，填料120可具有單股纖維形狀（single-stranded fiber shape）、多股纖維形狀（multi-stranded fiber shape）或分支形狀（branch shape），在分支形狀中，多股以基於一個中心股的分支形式排列。
根據本揭露的一個實施例，填料120可包括玻璃纖維、鋁纖維或氟化物纖維中的至少一者。
玻璃纖維包含SiO 2，且可更包含除SiO 2以外的其他組分。鋁纖維包含Al 2O 3，且可更包含除Al 2O 3以外的其他組分。氟化物纖維可包含聚四氟乙烯（polytetrafluoroethylene，PTFE）或聚偏二氟乙烯（polyvinylidene fluoride，PVDF）中的至少一者，且可更包含除PTFE及PVDF以外的其他組分。
根據本揭露的一個實施例，填料120可包括羥基氧化鋁、SiO 2、Al 2O 3、聚四氟乙烯（PTFE）或聚偏二氟乙烯（PVDF）中的至少一者。
根據本揭露的一個實施例，填料120可進行表面處理。舉例而言，填料120可利用具有烷氧基的有機化合物來進行纖維表面處理。
根據本揭露的一個實施例，鋁纖維可包括羥基氧化鋁或Al 2O 3中的至少一者。羥基氧化鋁亦被稱為「水鋁石（Boehmite）」，且可由γ-AlO(OH)表示。更具體而言，羥基氧化鋁可包括由以下式1、式2及式3中的任一者表示的結構。
[式1] [式2] [式3] 其中n介於1,000至20,000的範圍內，m介於1,000至20,000的範圍內，且p介於1,000至20,000的範圍內。
當為更佳地理解填料120的結構而擴展式1、式2及式3的結構時，填料120可由式4、式5及式6中的任一者表示。
由式1表示的結構可由例如以下式4表示。以下式4對應於式1的結構，其中n為3。 [式4]
由式2表示的結構可由例如以下式5表示。以下式5對應於式2的結構，其中m為4。 [式5]
由式3表示的結構可由例如以下式6表示。以下式6對應於式3的結構，其中p為5。 [式6]
在式4至式6中，「*」表示結合位置。
根據本揭露的實施例，Al 2O 3可具有由以下式7表示的單元結構。 [式7]
根據本揭露的實施例，SiO 2可具有由以下式8表示的單元結構。 [式8]
根據本揭露的實施例，填料120可引起適宜的光散射，以改良光學膜100的光學性質。為增強光散射效果，可調節光學膜100中的填料120的含量。
根據本揭露的一個實施例，填料120的含量可為3份/百份樹脂（per hundred resin，PHR）至50份/百份樹脂。更具體而言，填料120的含量可被調節至4份/百份樹脂至30份/百份樹脂，或者可為5份/百份樹脂至20份/百份樹脂。
當填料120的含量小於3份/百份樹脂時，由填料120引起的光散射效果不充分，因此無法獲得改良光學膜100的透光度的效果，且填料120無法充分施展對聚合物鏈進行連結的功能。
另一方面，當填料120的含量高於50份/百份樹脂時，填料120的分散性可能降低，光學膜100的霧度可能降低，填料120可能由於過量的填料120而發生團聚，且團聚的填料120會阻擋光，此可能降低光學膜100的透光度。
圖2是示出根據本揭露另一實施例的顯示裝置200的一部分的剖視圖，且圖3是圖2中「P」的放大剖視圖。
參照圖2，根據本揭露另一實施例的顯示裝置200包括顯示面板501及位於顯示面板501上的光學膜100。
參照圖2及圖3，顯示面板501包括基板510、位於基板510上的薄膜電晶體TFT、以及連接至薄膜電晶體TFT的有機發光裝置570。有機發光裝置570包括第一電極571、位於第一電極571上的有機發光層572、以及位於有機發光層572上的第二電極573。圖2及圖3中所示的顯示裝置200是有機發光顯示裝置。
基板510可由玻璃或塑膠形成。具體而言，基板510可由例如聚醯亞胺系樹脂或光學膜等塑膠形成。儘管未示出，然而基板510上可設置有緩衝層。
薄膜電晶體TFT設置於基板510上。薄膜電晶體TFT包括：半導體層520；閘極電極530，與半導體層520絕緣且與半導體層520至少部分地交疊；源極電極541，連接至半導體層520；以及汲極電極542，與源極電極541間隔開且連接至半導體層520。
參照圖3，在閘極電極530與半導體層520之間設置有閘極絕緣層535。閘極電極530上可設置有層間絕緣層551，且源極電極541及汲極電極542可設置於層間絕緣層551上。
薄膜電晶體TFT上設置有平坦化層552，以對薄膜電晶體TFT的頂部進行平坦化。
平坦化層552上設置有第一電極571。第一電極571藉由設置於平坦化層552中的接觸孔連接至薄膜電晶體TFT。
在平坦化層552上在第一電極571的一部分中設置有堤層（bank layer）580，以界定畫素區域或發光區域。舉例而言，堤層580以矩陣的形式設置於多個畫素之間的邊界處，以界定相應的畫素區。
有機發光層572設置於第一電極571上。有機發光層572亦可設置於堤層580上。有機發光層572可包括一個發光層或在垂直方向上堆疊的二或更多個發光層。可自有機發光層572發射具有紅色、綠色及藍色之中的任一種顏色的光，且可自有機發光層572發射白光。
第二電極573設置於有機發光層572上。
第一電極571、有機發光層572及第二電極573可進行堆疊以構成有機發光裝置570。
儘管未示出，但當有機發光層572發射白光時，每一畫素可包括彩色濾光片，以用於基於特定波長來過濾自有機發光層572發射的白光。彩色濾光片形成於光路徑上。
第二電極573上可設置有薄膜包封層590。薄膜包封層590可包括至少一個有機層及至少一個無機層，且所述至少一個有機層與所述至少一個無機層可交替設置。
光學膜100設置於具有上述堆疊結構的顯示面板501上。光學膜100包括透光基質110及分散於透光基質110中的填料120。
根據本揭露的一個實施例，光學膜100的潛變指數為0.46或小於0.46，且是根據以下方程式1計算。
[方程式1] 潛變指數=潛變應變/潛變應力 其中潛變應變是根據以下方程式2計算， [方程式2] 潛變應變=(3,600秒後的拉伸長度-1%應變下的拉伸長度)/(樣品的量測長度) 其中潛變應力是根據以下方程式3計算， [方程式3] 潛變應力= 1%應變拉伸強度/降伏拉伸強度 其中1%應變拉伸強度是將膜的應變改變1%所需的應力，且 降伏拉伸強度是當S-S曲線的模數偏移0.2%時接觸點處的應力。
當潛變指數為0.46或大於0.46時，由於外力引起的變形水準可能提高，且抗變形性可能降低。如此一來，膜的折疊角度在折疊時增大，且膜可能破裂。
根據本揭露實施例的光學膜100可具有為200百萬帕至300百萬帕的馬氏硬度（HM）。更具體而言，光學膜100可具有為230百萬帕至270百萬帕的馬氏硬度（HM），且可具有為250百萬帕至265百萬帕的馬氏硬度（HM）。
當光學膜100的馬氏硬度（HM）小於200百萬帕時，光學膜100可能容易受到外部刮劃的影響。換言之，當外力施加至膜的外部時，膜可能容易被刮劃或出現裂紋。
當光學膜100的馬氏硬度（HM）大於300百萬帕時，光學膜100可能容易破裂。
根據本揭露實施例的光學膜100可具有為40至70的維氏硬度（HV）。更具體而言，光學膜100可具有為43至56的維氏硬度（HV），且亦可具有為46至53的維氏硬度（HV）。
當光學膜100的維氏硬度（HV）小於40時，光學膜100可能容易受到外部刮劃的影響。換言之，當外力施加至膜的外部時，膜可能容易被刮劃或出現裂紋。
當光學膜100的維氏硬度（HV）大於70時，光學膜100可能容易破裂。
根據本揭露實施例的光學膜100可具有為0.5至0.65的潛變應力。更具體而言，光學膜100可具有為0.55至0.63的潛變應力，且亦可具有為0.57至0.6的潛變應力。
當光學膜100的潛變應力小於0.5時，使光學膜變形所需的能量較少。換言之，抗外力性可能小，且光學膜100可能容易因外力而變形。
在下文中，將闡述根據本揭露另一實施例的製造光學膜100的方法。
根據本揭露實施例的製造光學膜100的方法包括：首先將填料120分散於用於形成透光基質110的樹脂溶液中，以製備第一混合溶液；以及澆鑄第一混合溶液以製備澆鑄膜（cast film）。
根據本揭露的一個實施例，聚醯亞胺系樹脂溶液可用作用於形成透光基質110的樹脂溶液。
更具體而言，根據本揭露實施例的製造光學膜100的方法包括：製備聚醯亞胺系樹脂粉末；將聚醯亞胺系樹脂粉末溶解於第一溶劑中，以獲得聚醯亞胺系樹脂溶液；製備填料分散液（filler dispersion）；以及將填料分散液與聚醯亞胺系樹脂溶液混合，以製備第一混合溶液。
可例如藉由將填料120分散於第二溶劑中來製備填料分散液。
N,N-二甲基乙醯胺（N,N-dimethylacetamide，DMAc）可用作第一溶劑。N,N-二甲基乙醯胺（DMAc）或甲基乙基酮（methyl ethyl ketone，MEK）可用作第二溶劑，但本揭露的一個實施例並非僅限於此，且可使用其他已知的溶劑作為第一溶劑及第二溶劑。
根據本揭露的一個實施例，為改良填料120的分散度，舉例而言，可調節第一混合溶液的pH。舉例而言，可將第一混合溶液的pH調節至為5至7的範圍。因此，可防止填料120的團聚或聚集（aggregation）。
接下來，澆鑄第一混合溶液，進行乾燥及熱處理，以形成光學膜100。根據本揭露的一個實施例，藉由澆鑄第一混合溶液而形成的膜可被稱為「澆鑄膜」，且藉由對澆鑄膜進行乾燥及熱處理而生產的膜可被稱為「光學膜100」。澆鑄膜可被稱為「未固化膜（uncured film）」。
另外，在藉由澆鑄而形成的澆鑄膜的乾燥及熱處理期間，可防止對流，以使得填料120可在特定方向上進行定向。
具體而言，當在使用熱量進行乾燥的澆鑄膜內部產生對流時，填料120的定向可能降低。因此，可使澆鑄膜緩慢乾燥以防止對流。舉例而言，可在以1℃/1分鐘的速率將溫度自80℃升高至120℃的同時實行對澆鑄膜的乾燥。當乾燥實行至超過特定程度時，填料120的定向可固定下來。
在下文中，將參照製備例及實例更詳細地闡述本揭露。然而，以下製備例及實例不應被解釋為限制本揭露的範圍。 ＜製備例1：聚合物-醯亞胺系聚合物固體的製備＞
將719.104克N,N-二甲基乙醯胺（DMAc）裝入配備有攪拌器、氮氣注射器、滴液漏斗、溫度控制器及冷卻器的1升反應器中，同時用氮氣吹掃反應器。然後，將反應器的溫度調節至25℃，將54.439克（0.17莫耳）雙(三氟甲基)聯苯胺（bis(trifluoromethyl)benzidine，TFDB）溶解於其中，並將溶液的溫度維持在25℃。向其中進一步添加13.505克（0.046莫耳）聯苯基四羧酸二酐（biphenyl-tetracarboxylic acid dianhydride，BPDA），並藉由攪拌3小時使其完全溶解於其中，且向其進一步添加了9.063克（0.020莫耳）4,4'-(六氟伸異丙基)鄰苯二甲酸酐（4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride，6FDA）並使其完全溶解於其中。將反應器溫度降至10℃，並進一步向其添加了21.053克（0.104莫耳）對苯二甲醯氯（terephthaloyl chloride，TPC），並使其在25℃下反應12小時，以獲得具有12重量%的固體含量的聚合物溶液。
將11.54克吡啶及14.90克乙酸酐添加至所獲得的聚合物溶液，攪拌30分鐘，在80℃下加熱，在相同的溫度下攪拌1小時以使反應發生，並使其冷卻至室溫。將20升甲醇添加至所獲得的聚合物溶液以沈澱固體，並對所沈澱的固體進行過濾、粉碎，利用2升甲醇進行洗滌，並在100℃下真空乾燥6小時或長於6小時，以將聚醯亞胺系聚合物固體製備成粉末。所製備的聚醯亞胺系聚合物固體是聚醯胺-醯亞胺聚合物固體。 ＜實例1＞
將723.46克DMAc（第一溶劑）添加至1升反應器，並在將反應器的溫度維持在10℃的同時將反應器攪拌特定時間週期。然後，將110克在製備例1中作為固體粉末製備的聚醯胺-醯亞胺（聚醯亞胺系樹脂粉末）添加至反應器，攪拌1小時，並加熱至25℃，以製備聚醯亞胺系樹脂溶液。
然後，將所製備的液體聚醯亞胺樹脂溶液緩慢添加至55克氧化鋁水合物填料分散液（alumina hydrate filler dispersion），以製備包含二氧化矽分散液及聚醯亞胺樹脂溶液的第一混合溶液，所述氧化鋁水合物填料分散液是藉由使用圓柱幫浦將平均粒徑為約4奈米且平均長度為約1,500奈米的氧化鋁水合物系填料120分散於DMAc（N,N-二甲基乙醯胺，第二溶劑）溶液中達1小時而製備。
當在製備第一混合溶液之後立即量測時，第一混合溶液的pH為8或高於8。為改良填料120的配向特性，將弱酸（例如乙酸）添加至第一混合溶液，以將第一混合溶液的pH調節至為5至7的範圍內。如此製備的第一混合溶液是其中分散有具有纖維形狀的填料120的聚醯亞胺系樹脂溶液。
澆鑄所獲得的第一混合溶液。使用澆鑄基板來進行澆鑄。此時，對澆鑄基板的類型並無特別的限制。澆鑄基板可為玻璃基板、不鏽鋼（鋼用不鏽鋼（steel use stainless），SUS）基板、特氟隆（Teflon）基板或類似基板。根據本揭露的一個實施例，玻璃基板被用作澆鑄基板。
具體而言，藉由在80℃至高達120℃的熱空氣烘箱中以1℃/分鐘的速率緩慢乾燥約40分鐘以維持填料120的定向而生產出了澆鑄膜。然後，將所生產的膜自玻璃基板剝離，並利用銷固定至框架。
將固定有光學膜的框架在真空烘箱中自100℃緩慢加熱至280℃達2小時，緩慢冷卻並將光學膜自框架分離，以獲得光學膜。在250℃下再次將光學膜加熱5分鐘。
作為結果，完成了具有為50微米的厚度且包含透光基質110及分散於透光基質110中的二氧化矽系填料120的光學膜100。 ＜實例2及實例3＞
以與實例1中相同的方式在表1的條件下生產出了光學膜100，且各光學膜100被分別稱為「實例2及實例3」。 ＜比較例1至比較例7＞
以與實例1中相同的方式在表1的條件下生產出了光學膜100，且各光學膜100被分別稱為「比較例1至比較例7」。 [表1]
項目 透光基質（莫耳比率） 填料類型 填料含量（PHR）
二胺 二酐 二羰基化合物
TFDB 6FDA BPDA TPC
實例1 100 12 27 61 填料1 5
實例2 100 12 27 61 填料1 7
實例3 100 12 27 61 填料1 10
比較例1 100 12 27 61 未添加 0
比較例2 100 12 27 61 填料2 5
比較例3 100 12 27 61 填料2 10
比較例4 100 12 27 61 填料2 20
比較例5 100 12 27 61 填料2 45
比較例6 100 12 27 61 填料1 2.5
比較例7 100 12 27 61 填料1 53
在表1中，填料1指代具有為375的長寬比的奈米線，且填料2指代具有為15奈米的粒徑的奈米顆粒。具體而言，填料1的長度為1.5微米，且填料1的直徑為4奈米。
在表1中，莫耳比率表示對應組分相對於總計為100莫耳的二胺而言的莫耳比率。
在表1中，PHR表示每百份樹脂，其意指相對於100（克）重量的透光基質而言的填料的重量（克）。具體而言，根據本揭露實施例的PHR表示每100（克）重量的聚醯亞胺系聚合物固體中添加的填料的重量（克）。
如下量測了實例1及實例3以及比較例1至比較例7中生產的光學膜的物理性質。 （1）馬氏硬度（HM）的量測
使用來自飛世爾科學公司（Fisher Scientific Inc.）的HM-2000量測了馬氏硬度（HM）。 -力：12毫牛 -運行時間：12秒 -保持時間：5秒 （2）維氏硬度（HV）的量測
使用飛世爾科學公司的HM-2000實行了量測。 -力：12毫牛 -運行時間：12秒 -保持時間：5秒 （3）模數的量測
使用來自英斯特朗公司（Instron Corp.）的萬用拉伸試驗器（型號5967）根據美國材料試驗協會（American Society for Testing Material，ASTM）D885量測了光學膜的模數。 -膜生產後三小時內的量測標準 -荷重元（Load Cell）為30千牛，抓爪（grip）為250牛 -樣品大小為10毫米*50毫米，拉伸速度為25毫米/分鐘 （4）降伏拉伸強度的量測 -當S-S曲線的模數偏移0.2%時在接觸點處形成的應力 -使用來自英斯特朗公司的萬用拉伸試驗器（型號5967）量測 （5）1%應變拉伸強度的量測 -獲得1%應變時的應力 -使用來自英斯特朗公司的萬用拉伸試驗器（型號5967）量測 （6）潛變應力的量測
潛變應力是根據以下方程式3計算， [方程式3] 潛變應力= 1%應變拉伸強度/降伏拉伸強度 （7）潛變應變的量測 潛變應變=(3600秒後的拉伸長度- 1%應變下的拉伸長度)/(樣品的量測長度) （8）潛變指數的量測 使用以下方程式1計算潛變指數。 [方程式1] 潛變指數=潛變應變/潛變應力 （9）潛變試驗條件
使用來自英斯特朗公司的萬用拉伸試驗器（型號5967）量測了光學膜的潛變特性。 -荷重元為30千牛，抓爪為250牛 -樣品大小為10毫米 -保持應變：1% -保持時間：60分鐘
量測結果示出於下表2中。 [表2]
類型 馬氏硬度（HM） （MPa） 維氏硬度（HV） 模數 （GPa） 降伏拉伸強度 （MPa） 1%應變拉伸強度 （MPa） 潛變應力 潛變應變 （%） 潛變指數
實例1 258 49 8.53 135 78 0.577 0.265 0.459
實例2 260 50 9.12 142 85 0.598 0.271 0.453
實例3 262 51 9.98 150 89 0.593 0.268 0.452
比較例1 238 45 6.98 111 61 0.555 0.269 0.484
比較例2 237 43 7.11 113 63 0.558 0.263 0.471
比較例3 238 45 7.25 121 64 0.531 0.266 0.501
比較例4 240 44 7.24 123 71 0.577 0.280 0.485
比較例5 252 43 7.52 142 73 0.514 0.317 0.617
比較例6 240 45 7.25 114 64 0.561 0.268 0.477
比較例7 310 72 11.88 182 110 0.604 0.287 0.475
如可自表2中的量測結果看出，根據本揭露實施例的光學膜100具有為0.46或小於0.46的潛變指數。
100:光學膜 110:透光基質 120:填料 200:顯示裝置 501:顯示面板 510:基板 520:半導體層 530:閘極電極 535:閘極絕緣層 541:源極電極 542:汲極電極 551:層間絕緣層 552:平坦化層 570:有機發光裝置 571:第一電極 572:有機發光層 573:第二電極 580:堤層 590:薄膜包封層 P:部分 TFT:薄膜電晶體
圖1是示出根據本揭露實施例的光學膜的示意圖。 圖2是示出根據本揭露另一實施例的顯示裝置的一部分的剖視圖。 圖3是示出圖2中的部分「P」的放大剖視圖。
100:光學膜 110:透光基質 120:填料

Claims (9)

  1. 一種光學膜，包含：透光基質；以及填料，分散於所述透光基質中，所述光學膜具有為0.46或小於0.46的潛變指數，其中所述填料具有棒形狀或纖維形狀，其中所述填料包括玻璃纖維、鋁纖維或氟化物纖維中的至少一者，其中以100克所述透光基質計，所述填料的含量為3份/百份樹脂至50份/百份樹脂，其中所述透光基質包含醯亞胺重複單元或醯胺重複單元中的至少一者，其中所述潛變指數是根據以下方程式1計算：[方程式1]潛變指數=潛變應變/潛變應力其中所述潛變應變是根據以下方程式2計算：[方程式2]潛變應變=(3,600秒後的拉伸長度-1%應變下的拉伸長度)/(樣品的量測長度)其中所述潛變應力是根據以下方程式3計算：[方程式3]潛變應力=1%應變拉伸強度/降伏拉伸強度 其中所述1%應變拉伸強度是將所述光學膜的應變改變1%所需的應力，且所述降伏拉伸強度是當應力-應變曲線的模數偏移0.2%時接觸點處的應力，其中所述3,600秒後的拉伸長度以及所述1%應變下的拉伸長度，是使用萬用拉伸試驗器在荷重元為30千牛、抓爪為250牛、保持時間為60分鐘、保持應變為1%、樣品大小為10毫米的條件下所量測。
  2. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料具有為30至2,000的長寬比，其中所述長寬比是所述填料的長度對所述填料的直徑的比率。
  3. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料具有為1微米至6微米的長度。
  4. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料具有為3奈米至33奈米的直徑。
  5. 如請求項1所述的光學膜，其中所述填料包括羥基氧化鋁、SiO2、Al2O3、聚四氟乙烯(PTFE)或聚偏二氟乙烯(PVDF)中的至少一者。
  6. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有為200百萬帕至300百萬帕的馬氏硬度(HM)，其中所述馬氏硬度(HM)是使用HM-2000在為12毫牛的力下在為12秒的運行時間及為5秒的保持時間下量測。
  7. 如請求項1所述的光學膜，其中所述光學膜具有為40百萬帕至70百萬帕的維氏硬度(HV)，其中所述維氏硬度(HV)是使用HM-2000在為12毫牛的力下在為12秒的運行時間及為5秒的保持時間下量測。
  8. 如請求項1所述的光學膜，其中所述潛變應力為0.5至0.65。
  9. 一種顯示裝置，包括：顯示面板；以及如請求項1至8中任一項所述的光學膜，設置於所述顯示面板上。
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