TWI869701B - 含三唑系化合物廢水的處理方法 - Google Patents
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- -1 triazole compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 28
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole Chemical compound CC1=CC=CC2=NNN=C12 CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 3
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F5/00—Softening water; Preventing scale; Adding scale preventatives or scale removers to water, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/08—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents
- C02F5/10—Treatment of water with complexing chemicals or other solubilising agents for softening, scale prevention or scale removal, e.g. adding sequestering agents using organic substances
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
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- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/76—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
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- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/38—Organic compounds containing nitrogen
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- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
- C02F2103/346—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/06—Controlling or monitoring parameters in water treatment pH
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2301/00—General aspects of water treatment
- C02F2301/06—Pressure conditions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
本發明提供一種含三唑系化合物廢水的處理方法，添加pH值為中性偏酸的次氯酸至含三唑系化合物的廢水進行反應，可有效反應處理90%以上的三唑類物質。
Description
本發明是關於一種三唑系化合物的廢水處理方法，特別是一種使用次氯酸溶液與三唑系化合物反應之廢水處理方法。
一般晶圓、電路板等涉及電子零件製造業，在生產晶圓或電路板等電子元件時，會產生大量含三唑系化合物的廢液，目前多以生物處理程序降解三唑類物質，然而此方法用地需求高且耗時長。
為了解決上述問題，本發明提供一種含三唑系化合物廢水的處理方法，以pH值為中性偏酸的次氯酸(HOCl)與三唑系化合物反應，可有效反應處理90%以上的三唑類物質。
本發明提供一種含三唑系化合物廢水的處理方法，包含：
調整含有三唑系化合物的一廢水的pH值至介於pH3~10；以及
加入次氯酸溶液於該廢水，以反應處理該三唑系化合物濃度至低於一臨界濃度，其中該次氯酸溶液的pH值為3~7。
以下將詳述本發明之各實施例，並配合圖式作為例示，以利讀者具有較佳的理解。除了這些詳細說明之外，本發明亦可廣泛地施行於其它的實施例中，任何所述實施例的輕易替代、修改、等效變化都應理解被包含在本發明之範圍內，專利範圍之界定應以申請專利範圍為準。特別注意的是，圖式僅為示意之用，並非代表元件實際之尺寸或數量，有些細節可能未完全繪出，以求圖式之簡潔。
請參照圖1，係為本發明含三唑系化合物廢水的處理方法流程圖。首先，以鹽酸或硫酸及氫氧化鈉溶液調整含三唑系化合物的廢水，直到其pH值為pH3~10(步驟S1)。廢水的三唑系化合物濃度介於5~1,000ppm之間，其中測試效果於5~100ppm的效果尤佳。在一些實施例，次氯酸溶液的pH值為3~7，屬中性偏酸，具有較佳的反應效果。
接著，以次氯酸溶液反應處理含三唑系化合物的廢水(步驟S2)。次氯酸溶液的pH值介於pH5~7尤佳，i.e.濃度介於800~120,000ppm。反應處理的溫度較佳為20~40℃及壓力較佳為常壓。
反應終止條件是三唑系化合物濃度低於0.5ppm。在一些實施例，三唑系化合物濃度低於0.03ppm。
三唑系化合物是指包含甲基苯並三唑(Methylbenzotriazole)、苯並三唑(Benzotriazole)、1,2,4-三氮唑(1,2,4-triazole)或其組合，其中甲基苯並三唑與
次氯酸的反應產物以及苯並三唑與次氯酸的反應產物相同，三者反應式如下表一。
比較次氯酸(表二)及雙氧水(表三)對三唑系化合物去除效率，明顯地，次氯酸可有效去除三唑系化合物。
表二
S1~S2:步驟
圖1為本發明含三唑系化合物廢水的處理方法流程圖。
S1~S2:步驟
Claims (9)
- 一種含三唑系化合物廢水的處理方法，包含：調整含有三唑系化合物一廢水的pH值至介於pH3~7；以及加入次氯酸溶液於該廢水，以反應處理該三唑系化合物濃度至低於一臨界濃度，該臨界濃度為0.5ppm，該次氯酸溶液的pH值為3~7；其中該次氯酸溶液濃度與該廢水中的該三唑系化合物的濃度比為800~120000：5~1000。
- 如請求項1所述之處理方法，其中調整的pH值使用鹽酸溶液、硫酸溶液、氫氧化鈉溶液或其組合。
- 如請求項1所述之處理方法，其中該次氯酸溶液的pH值為5~7。
- 如請求項1所述之處理方法，其中該次氯酸溶液的濃度為800~120000ppm。
- 如請求項1所述之處理方法，其中該臨界濃度0.03ppm。
- 如請求項1所述之處理方法，其中該三唑系化合物濃度為10~20ppm。
- 如請求項1所述之處理方法，其中該三唑系化合物包含甲基苯並三唑(Methylbenzotriazole)、苯並三唑(Benzotriazole)、1,2,4-三氮唑(1,2,4-triazole)或其組合。
- 如請求項1所述之處理方法，其中該次氯酸溶液降解該廢水之反應溫度20~40℃。
- 如請求項1所述之處理方法，其中該次氯酸溶液降解該廢水之反應壓力為常壓。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW111132986A TWI869701B (zh) | 2022-08-31 | 2022-08-31 | 含三唑系化合物廢水的處理方法 |
| EP23192863.1A EP4332068A1 (en) | 2022-08-31 | 2023-08-23 | Method for treating wastewater containing triazole compounds |
| CN202311074863.9A CN117623484A (zh) | 2022-08-31 | 2023-08-24 | 含三唑系化合物废水的处理方法 |
| US18/241,006 US20240092665A1 (en) | 2022-08-31 | 2023-08-31 | Method for treating wastewater containing triazole compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW111132986A TWI869701B (zh) | 2022-08-31 | 2022-08-31 | 含三唑系化合物廢水的處理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202411169A TW202411169A (zh) | 2024-03-16 |
| TWI869701B true TWI869701B (zh) | 2025-01-11 |
Family
ID=87762785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW111132986A TWI869701B (zh) | 2022-08-31 | 2022-08-31 | 含三唑系化合物廢水的處理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240092665A1 (zh) |
| EP (1) | EP4332068A1 (zh) |
| CN (1) | CN117623484A (zh) |
| TW (1) | TWI869701B (zh) |
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-
2022
- 2022-08-31 TW TW111132986A patent/TWI869701B/zh active
-
2023
- 2023-08-23 EP EP23192863.1A patent/EP4332068A1/en active Pending
- 2023-08-24 CN CN202311074863.9A patent/CN117623484A/zh active Pending
- 2023-08-31 US US18/241,006 patent/US20240092665A1/en active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN117623484A (zh) | 2024-03-01 |
| TW202411169A (zh) | 2024-03-16 |
| US20240092665A1 (en) | 2024-03-21 |
| EP4332068A1 (en) | 2024-03-06 |
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