TWI858685B - 設備清洗排程方法及裝置 - Google Patents
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Abstract
一種設備清洗排程方法,包括在資料庫之第一生產排程表中增加第一生產排程,其中第一生產排程包括對應第一生產排程之生產模型名稱,生產模型名稱包含於資料庫之設備資料表中之設備資料中,並對應於一設備;根據第一生產排程表中之第一生產排程從設備資料表中檢索符合該生產模型名稱之第一設備資料;在資料庫之清洗排程表中增加清洗排程,其中清洗排程包括第一設備資料之設備識別碼及權重值,並且更新清洗排程表中先前清洗排程之權重值,其中設備識別碼包含於設備資料中且對應於該設備;以及根據清洗排程、先前清洗排程及權重值更新清洗排程表。
Description
本發明涉及一種設備清洗排程方法及裝置,具體而言,本發明涉及一種配合生產排程產生設備清洗排程之方法及裝置。
在產品製造之生產流程上有部分設備(例如光罩)需要進行頻繁的清洗流程,在具備多種生產模型以及產線的廠區內,每一個設備都各自對應不同之生產模型及產線,人員需要根據接下來之生產排程(包括將使用之生產模型及產線等)手動排序設備之清洗流程,增加人力成本以及處理時間。因此,目前需要一種設備清洗排程之方法及裝置,能夠自動根據接下來的生產排程產生清洗設備之排程,以提高產線生產之效率並減少人力成本。
本發明之一目的在於提供一種設備清洗排程之方法及裝置,可以自動檢索對應生產排程(包括生產模型及產線等)之設備,並產生設備之清洗排程。
本發明之一目的在於提供一種設備清洗排程之方法及裝置,可以根據生產排程之時間自動調整清洗排程之順序。
在一實施方式中,設備清洗排程方法包括在資料庫之第一生產排程表中增加第一生產排程,其中第一生產排程包括對應第一生產排程之生產模型名稱,生產模型名稱包含於資料庫之設備資料表中之設備資料中,並對應於一設備;根據第一生產排程表中之第一生產排程從設備資料表中檢索符合該生產模型名稱之第一設備資料;在資料庫之清洗排程表中增加清洗排程,其中清洗排程包括第一設備資料之設備識別碼及權重值,並且更新清洗排程表中先前清洗排程之權重值,其中設備識別碼包含於設備資料中且對應於該設備;以及根據清洗排程、先前清洗排程及權重值更新清洗排程表。
在此配置下,當排定生產流程後可以自動檢索符合該生產流程之設備(例如符合生產模型及生產線等),並且根據現有已排定之生產流程決定設備之清洗流程,進而達到提升產線效率以及減少人力需求之目的。
S100:方法
S101:步驟
S103:步驟
S105:步驟
S107:步驟
S109:步驟
200:設備資料表
201:設備資料
300:第一生產排程表
301:第一生產排程
400:清洗排程表
401:清洗排程
405:插單清洗排程
500:清洗排程表
501a:清洗排程
501b:清洗排程
圖1係根據本發明一實施例之設備清洗排程方法之流程圖。
圖2A係根據本發明一實施例之設備資料表之示意圖。
圖2B係根據本發明一實施例之增加設備資料之示意圖。
圖3A係根據本發明一實施例之第一生產排程表之示意圖。
圖3B係根據本發明一實施例之增加第一生產排程之示意圖。
圖4係根據本發明一實施例之清洗排程表之示意圖。
圖5係根據本發明另一實施例之清洗排程表之示意圖。
以下通過特定的具體實施例並配合圖式以說明本發明所公開之實施方式,本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。
然而,以下所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍,在不悖離本發明構思精神的原則下,本領域技術人員可基於不同觀點與應用以其他不同實施例實現本發明。
應當理解的是,儘管術語”第一”、”第二”、”第三”等在本文中可以用於描述各種元件、部件、區域、層及/或部分,但是這些元件、部件、區域、及/或部分不應受這些術語的限制。這些術語僅用於將一個元件、部件、區域、層或部分與另一個元件、部件、區域、層或部分區分開。因此,下面討論的”第一元件”、”部件”、”區域”、”層”或”部分”可以被稱為第二元件、部件、區域、層或部分而不脫離本文的教導。
這裡使用的術語僅僅是為了描述特定實施例的目的,而不是限制性的。如本文所使用的,除非內容清楚地指示,否則單數形式”一”、”一個”和”該”旨在包括複數形式,包括”至少一個”。”或”表示”及/或”。如本文所使用的,術語”及/或”包括一個或多個相關所列項目的任何和所有組合。還應當理解,當在本說明書中使用時,術語”包括”及/或”包括”指定所述特徵、區域、整體、步驟、操作、元件的存在及/或部件,但不排除一個或多個其它特徵、區域整體、步驟、操作、元件、部件及/或其組合的存在或添加。
參考圖1至圖2B說明本發明一實施例之設備清洗排程方法S100。在本實施例中,步驟S101包括在資料庫之設備資料表200中增加設備資料201,該設備資料201包括設備之設備識別碼以及該設備對應之生產模型名稱及產線別。參考圖2A示出之設備資料表200,每一設備皆具有一獨特之用以識別之設備識別碼,且設備資料201記錄特定生產模型名稱以及產線之組合所能使用之設備之設備識別碼(例如設備識別碼Equipment_1所對應之設備可以在產線R、G或B上用於生產模型名稱Model_1)。其中,生產模型名稱可以根據廠區內具
有之產品模型進行設定。接著參考圖2B示出之新增設備資料201之示意圖,在新增設備資料201之過程中可以輸入設備之設備識別碼以及對應之生產模型名稱並選擇該設備可使用之產線別。藉由此配置,設備資料表200中可以根據輸入之設備資料201記錄生產模型名稱、產線別以及設備識別碼間之可使用性。
應注意的是,在本實施例中雖然以輸入之方式產生生產模型名稱,惟在不同實施例中亦可以預先設定好生產模型名稱,並在新增第一生產排程401時以選項之方式選擇生產模型名稱等,本發明並未對此設限。此外,雖然在本實施例中以R、G、B、PS以及BM示出產線別,惟在不同實施例中可以配合真實廠區情況具有不同數量或名稱之產線別,本發明並未對此設限。
參考圖3A及圖3B繼續說明本發明一實施例之設備清洗排程S100。在本實施例中,步驟S103包括在資料庫之第一生產排程表300中增加一第一生產排程301,其中該第一生產排程301包括對應該第一生產排程之該生產模型名稱及產線別。參考圖3A示出之第一生產排程表300,第一生產排程表300可以示出廠區內的產線別(例如圖中示出R、G、B、PS產線)、各個產線目前正在運行之生產模型名稱以及預排之生產模型名稱(例如R產線目前正在進行之生產模型名稱為Model_1,接下來預排第一順位之生產模型名稱為Model_3等)。在本實施例中,新增第一生產排程301可以為根據產線別增加即將要進行之生產模型名稱,例如圖3B示出了在R產線別新增第一生產排程301,其中第一生產排程301可以包括要進行之生產模型名稱以及上線時間。當完成新增後該第一生產排程301即會根據其對應之產線別以及上線時間排序在第一生產排程表300中。
參考圖2A至圖4繼續說明本發明一實施例之設備清洗排程S100。在本實施例中,步驟S105包括根據第一生產排程表300中之第一生產排程301從設備資料表200中檢索符合該生產模型名稱及產線別之第一設備資料。參考
圖3A,在步驟S103處新增之第一生產排程301包含生產模型名稱(例如Model_l)以及產線別(例如產線別R)等資訊,因此可以根據圖2A示出之設備資料表200檢索出符合該生產模型名稱以及產線別之第一設備資料(例如Equipment_1可使用於R產線及Model_1)。在步驟S107處,本方法包括在資料庫之清洗排程表400中增加清洗排程401,其中清洗排程401包括第一設備資料之設備識別碼及權重值,並且更新清洗排程表400中先前清洗排程403之權重值。根據步驟S105之檢索可以找出符合第一生產排程301之第一設備資料,進而新增對應該第一設備資料之清洗排程401,其中清洗排程401包括該第一設備資料之設備識別碼以識別設備。此外,在本實施例中,檢索符合之第一設備資料還包括排除已被列於清洗排程表400中之設備,避免同一設備被重複排程。
承上繼續說明。清洗排程401還包括根據第一生產排程301之上線時間所產生之時間戳,該時間戳之數值越小表示該生產模型名稱之上線時間越近。在本實施例中,當新增清洗排程401時,會比較該清洗排程401與清洗排程表中之先前清洗排程(即在清洗排程401前就新增的排程)的時間戳,當清洗排程401之時間戳小於先前清洗排程時(即清洗排程401所對應之第一生產排程301之上線時間優先於先前清洗排程),自動產生該清洗排程401之權重值,並更新該先前清洗排程之權重值為小於該清洗排程401之權重值。舉例言之,假設在新增清洗排程401前,清洗排程表400中已具有先前清洗排程C1-C4,並分別具有權重值100、99、98、97,其中先前清洗排程C3及C4之時間戳大於清洗排程401,則新增清洗排程401時,清洗排程401獲得權重值98,並更新先前清洗排程C3及C4之權重值為97及96。藉由此配置,具有較先上線時間之第一生產排程301將會對應產生時間戳較小之清洗排程,且每次新增清洗排程401時,都會比較時間戳以產生清洗排程401之權重值,並更新先前清洗排程之權重值。
在步驟S109處,本方法包括根據清洗排程401、先前清洗排程及權重值更新清洗排程表400。在前一步驟中,清洗排程401及先前清洗排程之權重值皆已根據時間戳之大小進行排列。在本實施例中,權重值越大的清洗排程將在清洗排程表400中具有較前之順位(即越早進行清洗)。在本步驟中,根據權重值之大小重新排列以更新清洗排程表400,以使得具有較早上線時間之第一生產排程301所需使用之設備能夠較早進行清洗,以達到根據第一生產排程301自動調整清洗排程表400之目的。應注意的是,在本實施例中,雖然以權重值較大者具有較優先之清洗順序,惟在不同實施例中亦可以權重值較小者具有優先順序等,本發明並未對此設限。
參考圖2A及圖4繼續說明本實施例。在本實施例中,除了根據第一生產排程301新增清洗排程401外,亦可以由使用者直接從設備資料表200中選取一第二設備資料,以在清洗排程表400中新增插單清洗排程405,其中插單清洗排程405包括第二設備資料之設備識別碼及一插單權重值,且插單權重值遠大於清洗排程401之權重值。例如在本實施例中,清洗排程401及先前清洗排程之權重值最大為100,插單權重值可以遠大於100(例如為一般權重值的10倍或是20倍),使得一般權重值與插單權重值間具有一定的差距,以強制插單清洗排程405之順位優先於清洗排程401。藉由此配置可以因應情況由人員強制插單,提高清洗排程方法之彈性。此外,除了強制插單外,人員也可以從清洗排程表400中選擇清洗排程401,以增加該請洗排程401之權重值。其中,增加之權重值可以根據需求設定(例如增加1、增加2或增加5等)或是為預設值等,本發明並未對此設限。藉由此配置,人員可以在不強制插單之情況下手動調整清洗排程表400之順序,提高清洗排程方法之彈性。
參考圖5說明本發明另一實施例之設備清洗排程方法。在本實施例中還進一步包括在資料庫之第二生產排程表(未示出,可參考圖3示出之第一
生產排程表300)中增加第二生產排程;根據該第二生產排程從設備資料表中檢索符合之第二設備資料以在清洗排程表400中增加清洗排程401。其中來自第一生產排程301之清洗排程401以及來自第二生產排程之清洗排程401之權重值經配置以使得來自第一生產排程301之清洗排程401以及來自第二生產排程之清洗排程401交錯排序於清洗排程表400中。在前一實施例中已說明在新增清洗排程401時會根據時間戳給予清洗排程一權重值,並同步更新清洗排程表400中已存在之先前清洗排程之權重值。在本實施例中權重值除了根據時間戳外還會進一步根據其係來自第一生產排程表300或第二生產排程表,以使得兩者之清洗排程401交錯排序。舉例言之,參考圖5示出之清洗排程表500,清洗排程501a是來自第一生產排程301,其時間戳為34062;清洗排程501b是來自第二生產排程,其時間戳為9201。雖然清洗排程501a之時間戳大於清洗排程501b,然而為了使來自第一生產排程301及第二生產排程之清洗排程能夠交錯排序,因此給予清洗排程501a之權重值(100)大於清洗排程501b之權重值(99)。
藉由此配置,當兩個以上之生產排程表需共用同一清洗排程表時(例如兩個以上之廠區共用清洗設備時),能夠合理排序兩個廠區之清洗需求,並減少人力溝通之成本。
本發明又一實施例之設備清洗排程之裝置包括記憶體及處理器,其中記憶體包括儲存有設備資料表200、第一生產排程表300以及清洗排程表400之資料庫,且該處理器經配置以執行前一實施例所述之清洗排程方法。本實施例之裝置可以為任意適當之電子設備,例如桌上型電腦、行動裝置等,且本實施例之裝置還可以進一步包括顯示單元(例如螢幕),以及輸入設備(例如滑鼠、鍵盤等)。藉由此配置,裝置可以透過顯示單元顯示設備資料表200、第一生產排程表300以及清洗排程表400供使用者閱覽,並透過輸入設備接收使用者所輸入之設備識別碼、生產模型名稱以及產線別等。此外,參考圖2A及圖4,裝置
透過顯示單元顯示設備資料表200及清洗排程表400後,使用者可以透過點擊「送洗」或者「增加」之選項,選擇要強制插單之設備或者選擇要增加權重值之清洗排程等。
S100:方法
S101:步驟
S103:步驟
S105:步驟
S107:步驟
S109:步驟
Claims (16)
- 一種設備清洗排程方法,包括:在一資料庫之一第一生產排程表中增加一第一生產排程,其中該第一生產排程包括對應該第一生產排程之該生產模型名稱,該生產模型名稱包含於該資料庫之一設備資料表中之一設備資料中,並對應於一設備;根據該第一生產排程表中之該第一生產排程從該設備資料表中檢索符合該生產模型名稱之一第一設備資料;在該資料庫之一清洗排程表中增加一清洗排程,其中該清洗排程包括該第一設備資料之一設備識別碼及一權重值,並且更新該清洗排程表中一先前清洗排程之該權重值,其中該設備識別碼包含於該設備資料中且對應於該設備;以及根據該清洗排程、該先前清洗排程及該權重值更新該清洗排程表。
- 如請求項1所述之方法,其中進一步包括在該資料庫之該設備資料表中增加該設備資料。
- 如請求項1所述之方法,其中該設備資料進一步包括該設備對應之一產線別,且該第一生產排程進一步包括對應該第一生產排程之該產線別,且其中進一步包括從該設備資料表中檢索符合該生產模型名稱及該產線別之該第一設備資料。
- 如請求項1所述之方法,其中該第一生產排程進一步包括一上線時間,且該清洗排程進一步包括根據該上線時間產生之一時間戳,且其中該權重值關聯於該時間戳。
- 如請求項1或3所述之方法,其中從該設備資料表中檢索符合之該第一設備資料進一步包括當該第一設備資料之該設備識別碼已被增加在 該清洗排程表中之該清洗排程中時,排除該第一設備資料。
- 如請求項1所述之方法,進一步包括從該設備資料表中選擇一第二設備資料,以在該清洗排程表中增加一插單清洗排程,該插單清洗排程包括該第二設備資料之該設備辨識碼及一插單權重值,其中該插單權重值大於該清洗排程之該權重值。
- 如請求項1所述之方法,進一步包括從該請洗排程表中選擇該清洗排程,以增加該清洗排程之該權重值。
- 如請求項1所述的方法,進一步包含:在該資料庫之一第二生產排程表中增加一第二生產排程,其中該第二生產排程包括對應該第二生產排程之該生產模型名稱;根據該第二生產排程表中之該第二生產排程從該設備資料表中檢索符合該生產模型名稱之一第二設備資料;以及在該清洗排程表中增加該清洗排程,其中該清洗排程包括該第二設備資料之該設備識別碼及該權重值,其中該權重值經配置為使得來自該第一生產排程及來自該第二生產排程之該清洗排程交錯排序於該清洗流程表。
- 一種設備清洗排程之裝置,包括:一記憶體,其儲存有一資料庫,該資料庫具有一設備資料表、一第一生產排程表及一清洗排程表;其中該設備資料表包含一設備資料,該設備資料包括一設備之一設備識別碼以及該設備對應之一生產模型名稱;以及一處理器,經配置以執行下列步驟:在該第一生產排程表中增加一第一生產排程,其中該第一生產排程包括對應該第一生產排程之該生產模型名稱;根據該第一生產排程表中之該第一生產排程從該設備資料表中檢 索符合該生產模型名稱之一第一設備資料;在該清洗排程表中增加一清洗排程,其中該清洗排程包括該第一設備資料之該設備識別碼及一權重值,並且更新該清洗排程表中一先前清洗排程之該權重值;以及根據該清洗排程、該先前清洗排程及該權重值更新該清洗排程表。
- 如請求項9所述之裝置,其中該處理器進一步經配置以在該資料庫之該設備資料表中增加該設備資料。
- 如請求項9所述之裝置,其中該設備資料進一步包括該設備對應之一產線別,且該第一生產排程進一步包括對應該第一生產排程之該產線別,且其中該處理器進一步經配置以從該設備資料表中檢索符合該生產模型名稱及該產線別之該第一設備資料。
- 如請求項9所述之裝置,其中該第一生產排程進一步包括一上線時間,且該清洗排程進一步包括根據該上線時間產生之一時間戳,且其中該權重值關聯於該時間戳。
- 如請求項9或11所述之裝置,其中從該設備資料表中檢索符合之該第一設備資料進一步包括當該第一設備資料之該設備識別碼已被增加在該清洗排程表中之該清洗排程中時,排除該第一設備資料。
- 如請求項9所述之裝置,該處理器進一步經配置以從該設備資料表中選擇一第二設備資料,以在該清洗排程表中增加一插單清洗排程,該插單清洗排程包括該第二設備資料之該設備辨識碼及一插單權重值,其中該插單權重值大於該清洗排程之該權重值。
- 如請求項9所述之裝置,該處理器進一步經配置以從該請洗排程表中選擇該清洗排程,以增加該清洗排程之該權重值。
- 如請求項9所述之裝置,其中該資料庫進一步包括一第二生 產排程表,且該處理器進一步經配置以執行下列步驟:在該資料庫之該第二生產排程表中增加一第二生產排程,其中該第二生產排程包括對應該第二生產排程之該生產模型名稱;根據該第二生產排程表中之該第二生產排程從該設備資料表中檢索符合該生產模型名稱之一第二設備資料;以及在該清洗排程表中增加該清洗排程,其中該清洗排程包括該第二設備資料之該設備識別碼及該權重值,其中該權重值經配置為使得來自該第一生產排程及來自該第二生產排程之該清洗排程交錯排序於該清洗流程表。
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Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200408936A (en) * | 2002-05-29 | 2004-06-01 | Tokyo Electron Ltd | Method and apparatus for monitoring tool performance |
| CN102108482A (zh) * | 2009-12-23 | 2011-06-29 | 北大方正集团有限公司 | 一种物理气相沉积设备备件清洗方法 |
| US20130090971A1 (en) * | 2011-10-11 | 2013-04-11 | Sean Morris | Method and system for allocation of resources in an agile environment |
| TW201721320A (zh) * | 2015-12-01 | 2017-06-16 | 亞智科技股份有限公司 | 用於控制工業設備的方法以及控制工業設備的系統 |
| WO2021040575A1 (en) * | 2019-08-26 | 2021-03-04 | Angara Industries Ltd. | Cognitive cleaning methods |
| TW202111618A (zh) * | 2019-09-05 | 2021-03-16 | 美商訊能集思智能科技股份有限公司 | 生產排程系統及方法 |
| CN114154272A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-03-08 | 广州涂涂乐科技有限公司 | 一种应用于喷胶设备的自动清洁控制方法及系统 |
| TW202213006A (zh) * | 2020-05-22 | 2022-04-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於多腔室半導體設備的預測晶圓排程 |
| EP4033321A1 (en) * | 2021-01-22 | 2022-07-27 | Tata Consultancy Services Limited | System and method for performance and health monitoring to optimize operation of a pulverizer mill |
| CN114864456A (zh) * | 2022-07-08 | 2022-08-05 | 埃克斯工业(广东)有限公司 | 半导体清洗设备调度方法、系统、装置及存储介质 |
| TW202309755A (zh) * | 2021-07-08 | 2023-03-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於無接觸處理腔室特徵化的方法及機制 |
-
2023
- 2023-05-01 TW TW112116186A patent/TWI858685B/zh active
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200408936A (en) * | 2002-05-29 | 2004-06-01 | Tokyo Electron Ltd | Method and apparatus for monitoring tool performance |
| CN102108482A (zh) * | 2009-12-23 | 2011-06-29 | 北大方正集团有限公司 | 一种物理气相沉积设备备件清洗方法 |
| US20130090971A1 (en) * | 2011-10-11 | 2013-04-11 | Sean Morris | Method and system for allocation of resources in an agile environment |
| TW201721320A (zh) * | 2015-12-01 | 2017-06-16 | 亞智科技股份有限公司 | 用於控制工業設備的方法以及控制工業設備的系統 |
| WO2021040575A1 (en) * | 2019-08-26 | 2021-03-04 | Angara Industries Ltd. | Cognitive cleaning methods |
| EP4022011A1 (en) * | 2019-08-26 | 2022-07-06 | Angara Industries Ltd | Cognitive cleaning methods |
| TW202111618A (zh) * | 2019-09-05 | 2021-03-16 | 美商訊能集思智能科技股份有限公司 | 生產排程系統及方法 |
| TW202213006A (zh) * | 2020-05-22 | 2022-04-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於多腔室半導體設備的預測晶圓排程 |
| EP4033321A1 (en) * | 2021-01-22 | 2022-07-27 | Tata Consultancy Services Limited | System and method for performance and health monitoring to optimize operation of a pulverizer mill |
| TW202309755A (zh) * | 2021-07-08 | 2023-03-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於無接觸處理腔室特徵化的方法及機制 |
| CN114154272A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-03-08 | 广州涂涂乐科技有限公司 | 一种应用于喷胶设备的自动清洁控制方法及系统 |
| CN114864456A (zh) * | 2022-07-08 | 2022-08-05 | 埃克斯工业(广东)有限公司 | 半导体清洗设备调度方法、系统、装置及存储介质 |
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