TWI850679B - Electronic device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本發明是關於電子裝置及其製造方法,特別是關於包含電子單元以及電性連接電子單元的連接件的電子裝置及其製造方法。The present invention relates to an electronic device and a manufacturing method thereof, and in particular to an electronic device including an electronic unit and a connector for electrically connecting the electronic unit and a manufacturing method thereof.
為了保護電子單元,通常在電子單元形成於基板上後會進行封裝製程以形成具有封裝結構的電子裝置。舉例來說,封裝結構可隔絕溫度以及環境中的濕氣對電子單元的影響,並可避免外部衝擊對電子單元的物理性或機械性破壞。In order to protect the electronic unit, a packaging process is usually performed after the electronic unit is formed on the substrate to form an electronic device with a packaging structure. For example, the packaging structure can isolate the electronic unit from the influence of temperature and humidity in the environment, and can prevent the physical or mechanical damage to the electronic unit caused by external impact.
隨著半導體產業的發展,電子裝置的尺寸不斷的縮小且設置於每單位面積電子裝置中的電子單元不斷增加。隨著電子裝置的尺寸的縮小以及電子單元的數量的增加,電子裝置的製造製程中對於電子單元對準的精準度要求變得更高。電子裝置的製造製程中的各階段中的電子單元的位置偏移都會導致相鄰的電子單元之間無法形成良好的電性連接。目前已知的技術是透過改良電子單元與基板接合時的對準製程來改善電子單元對準的精準度。然而改良電子單元與基板接合的對準製程無法避免已與基板接合的電子單元在後續形成封裝膠的製程期間產生位置偏移。With the development of the semiconductor industry, the size of electronic devices continues to shrink and the number of electronic units installed in each unit area of electronic devices continues to increase. As the size of electronic devices decreases and the number of electronic units increases, the accuracy requirements for the alignment of electronic units in the manufacturing process of electronic devices become higher. The positional deviation of electronic units in each stage of the manufacturing process of electronic devices will result in the inability to form a good electrical connection between adjacent electronic units. Currently known technology is to improve the accuracy of electronic unit alignment by improving the alignment process when the electronic unit is bonded to the substrate. However, improving the alignment process when the electronic unit is bonded to the substrate cannot prevent the electronic unit that has been bonded to the substrate from being offset during the subsequent process of forming the packaging glue.
有鑑於上述問題,本揭露提供一種電子裝置及其製造方法,其中所述的電子裝置具有可避免其中的電子單元的位置在保護層形成期間偏移的限位結構。In view of the above problems, the present disclosure provides an electronic device and a manufacturing method thereof, wherein the electronic device has a limiting structure that can prevent the position of the electronic unit therein from shifting during the formation of a protective layer.
依據本揭露之實施例,提供一種電子裝置,包括保護層、設置於保護層中的電子單元與至少一限位結構、以及設置在保護層上的連接件。所述電子單元包括透過連接件電性連接的第一電子單元以及第二電子單元。所述至少一限位結構是位於第一電子單元與第二電子單元之間。所述連接件具有第一導電層,所述第一導電層接觸第一電子單元的表面、限位結構的表面以及保護層的表面。According to an embodiment of the present disclosure, an electronic device is provided, comprising a protective layer, an electronic unit and at least one limiting structure disposed in the protective layer, and a connector disposed on the protective layer. The electronic unit comprises a first electronic unit and a second electronic unit electrically connected via the connector. The at least one limiting structure is located between the first electronic unit and the second electronic unit. The connector has a first conductive layer, the first conductive layer contacts the surface of the first electronic unit, the surface of the limiting structure, and the surface of the protective layer.
依據本揭露之實施例,提供一種電子裝置,包括保護層;設置於保護層中的電子單元、第一限位結構、第二限位結構與連接部;以及設置在保護層上的連接件。所述電子單元包括透過連接件電性連接的第一電子單元以及第二電子單元。第一限位結構與第二限位結構位於第一電子單元與第二電子單元之間,連接部連接第一限位結構與第二限位結構,並與第一限位結構以及第二限位結構結合形成具有傾斜側壁或曲面側壁的凹陷部。According to an embodiment of the present disclosure, an electronic device is provided, including a protective layer; an electronic unit disposed in the protective layer, a first limiting structure, a second limiting structure and a connecting portion; and a connecting member disposed on the protective layer. The electronic unit includes a first electronic unit and a second electronic unit electrically connected through the connecting member. The first limiting structure and the second limiting structure are located between the first electronic unit and the second electronic unit, and the connecting portion connects the first limiting structure and the second limiting structure, and is combined with the first limiting structure and the second limiting structure to form a recessed portion having an inclined side wall or a curved side wall.
依據本揭露之實施例,提供一種電子裝置的製造方法,其包括:提供基板;提供第一電子單元以及第二電子單元於基板上;提供至少一限位結構於第一電子單元與第二電子單元之間;提供保護層圍繞所述至少一限位結構、第一電子單元、與第二電子單元;以及提供電性連接第一電子單元與第二電子單元的連接件。According to an embodiment of the present disclosure, a method for manufacturing an electronic device is provided, which includes: providing a substrate; providing a first electronic unit and a second electronic unit on the substrate; providing at least one limiting structure between the first electronic unit and the second electronic unit; providing a protective layer surrounding the at least one limiting structure, the first electronic unit, and the second electronic unit; and providing a connector that electrically connects the first electronic unit and the second electronic unit.
依據本揭露之實施例,提供一種電子裝置的製造方法,其包括:提供基板;提供至少一限位結構於基板上;提供第一電子單元以及第二電子單元於基板上,其中所述至少一限位結構於第一電子單元與第二電子單元之間;提供保護層圍繞所述至少一限位結構、第一電子單元、與第二電子單元;以及提供電性連接第一電子單元與第二電子單元的連接件。According to an embodiment of the present disclosure, a method for manufacturing an electronic device is provided, which includes: providing a substrate; providing at least one limiting structure on the substrate; providing a first electronic unit and a second electronic unit on the substrate, wherein the at least one limiting structure is between the first electronic unit and the second electronic unit; providing a protective layer surrounding the at least one limiting structure, the first electronic unit, and the second electronic unit; and providing a connector that electrically connects the first electronic unit and the second electronic unit.
以下的揭露內容提供許多不同的實施例或範例以實施本案的不同特徵。以下的揭露內容敘述各個構件及其排列方式的特定範例以簡化說明。當然,這些特定的範例並非用以限定。例如,若是本揭露敘述了一第一特徵部件形成於一第二特徵部件之上或上方,即表示其可能包括上述第一特徵部件與上述第二特徵部件是直接接觸的實施例,亦可能包括了有附加特徵部件形成於上述第一特徵部件與上述第二特徵部件之間,而使上述第一特徵部件與第二特徵部件可能未直接接觸的實施例。The following disclosure provides many different embodiments or examples for implementing different features of the present invention. The following disclosure describes specific examples of various components and their arrangement to simplify the description. Of course, these specific examples are not intended to be limiting. For example, if the present disclosure describes a first feature component formed on or above a second feature component, it means that it may include an embodiment in which the first feature component and the second feature component are in direct contact, and it may also include an embodiment in which an additional feature component is formed between the first feature component and the second feature component, so that the first feature component and the second feature component may not be in direct contact.
本揭露通篇說明書與所附的權利要求中會使用某些詞彙來指稱特定元件。本領域技術人員應理解,相同的元件可能會以不同的名稱來指稱,且本文並未意圖區分那些功能相同但名稱不同的元件。在下文說明書與權利要求書中,“含有”與“包括”等詞均為開放式詞語,因此應被解釋為“含有但不限定為…”之意。Certain terms are used throughout the specification and claims to refer to specific components. Those skilled in the art will appreciate that the same component may be referred to by different names, and this document does not intend to distinguish between components that have the same function but different names. In the following specification and claims, the words "including" and "comprising" are open-ended terms and should be interpreted as "including but not limited to..."
說明書與權利要求中所使用的序數例如“第一”、“第二”等之用詞,以修飾權利要求之元件,其本身並不意含及代表所述要求元件有任何之前的序數,也不代表某一要求元件與另一要求元件的順序、或是製造方法上的順序,所述序數的使用僅用來使具有某命名的一要求元件得以和另一具有相同命名的要求元件能作出清楚區分。因此,說明書中所提及的第一元件在權利要求中可能被稱為第二元件。The use of ordinal numbers such as "first", "second", etc. in the specification and claims to modify the claimed elements does not imply or represent any previous ordinal number of the claimed elements, nor does it represent the order of one claimed element to another claimed element, or the order of the manufacturing method. The use of ordinal numbers is only used to make a claimed element with a certain name clearly distinguishable from another claimed element with the same name. Therefore, the first element mentioned in the specification may be called the second element in the claims.
以下實施例中所提到的方向用語,例如:上、下、左、右、前或後等,僅是參考附圖的方向。因此,使用的方向用語是用來說明並非用來限制本揭露。必需了解的是,為特別描述或圖示之元件可以此技術人士所熟知之各種形式存在。The directional terms mentioned in the following embodiments, such as up, down, left, right, front or back, etc., are only referenced to the directions of the accompanying drawings. Therefore, the directional terms used are used to illustrate and not to limit the present disclosure. It must be understood that the components specifically described or illustrated can exist in various forms known to those skilled in the art.
以下將敘述本揭露一些實施例。在此些實施例中所述之步驟之前、之間及/或之後可提供額外之操作。一些所述之步驟可於不同的實施例中被取代或省略。此外,雖然下文以特定順序之數個步驟說明本揭露一些實施例,但亦可以其他合理的順序進行此些步驟。Some embodiments of the present disclosure are described below. Additional operations may be provided before, between, and/or after the steps described in these embodiments. Some of the steps described may be replaced or omitted in different embodiments. In addition, although some embodiments of the present disclosure are described below with several steps in a specific order, these steps may also be performed in other reasonable orders.
再者,當元件或膜層被稱為在另一個元件或膜層「上」或「連接到」另一個元件或膜層時,它可以直接在此另一元件或膜層上或直接連接到此另一元件或膜層,或者兩者之間存在有插入的元件或膜層(非直接情況)。相反地,當元件被稱為「直接」在另一個元件或膜層「上」或「直接連接到」另一個元件或膜層時,兩者之間不存在有插入的元件或膜層。於文中提及一元件 “耦接”另一元件時,可包括“元件與另一元件之間可更存在其它元件而將兩者電性連接”的情況,或是包括“元件與另一元件之間未存有其它元件而直接電性連接”的情況。若於文中提及一元件 “直接耦接”另一元件時,則指“元件與另一元件之間未存有其它元件而直接電性連接”的情況。Furthermore, when an element or a film layer is referred to as being "on" or "connected to" another element or film layer, it may be directly on or directly connected to the other element or film layer, or there may be an intervening element or film layer between the two (indirect situation). Conversely, when an element is referred to as being "directly" "on" or "directly connected to" another element or film layer, there may not be an intervening element or film layer between the two. When referring to an element "coupled" to another element in the text, it may include the situation that "there may be other elements between the element and the other element to electrically connect the two", or it may include the situation that "there is no other element between the element and the other element to be directly electrically connected". When it is mentioned herein that one element is “directly coupled” to another element, it means that “the element is directly electrically connected to the other element without any other element existing between the element and the other element”.
於下文中,「約」、「實質上」之用語通常表示在一給定值或範圍的10%內、或5%內、或3%之內、或2%之內、或1%之內、或0.5%之內。在此給定的數量為大約的數量,亦即在沒有特定說明「約」、「實質上」的情況下,仍可隱含「約」、「實質上」之含義。用語「範圍介於第一數值及第二數值之間」表示所述範圍包括第一數值、第二數值以及它們之間的其它數值。Hereinafter, the terms "about" and "substantially" generally mean within 10%, within 5%, within 3%, within 2%, within 1%, or within 0.5% of a given value or range. The quantities given here are approximate quantities, that is, in the absence of specific description of "about" and "substantially", the meaning of "about" and "substantially" can still be implied. The term "range between a first value and a second value" means that the range includes the first value, the second value, and other values therebetween.
再者,應理解的是,根據本揭露實施例,可以使用掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)、光學顯微鏡(optical microscope,OM)、薄膜厚度輪廓測量儀(α-step)、橢圓測厚儀、或其它合適的方式量測各元件的寬度、厚度或高度、元件之間的間距或距離。詳細而言,根據一些實施例,可使用掃描式電子顯微鏡取得包含欲量測的元件的剖面結構影像,並量測各元件的寬度、厚度、高度或角度、元件之間的間距或距離。Furthermore, it should be understood that according to the embodiments of the present disclosure, a scanning electron microscope (SEM), an optical microscope (OM), a film thickness profiler (α-step), an elliptical thickness gauge, or other suitable methods may be used to measure the width, thickness or height of each element, and the spacing or distance between elements. Specifically, according to some embodiments, a scanning electron microscope may be used to obtain a cross-sectional structural image including the element to be measured, and the width, thickness, height or angle of each element, and the spacing or distance between elements may be measured.
除非另外定義,在此使用的全部用語(包括技術及科學用語)具有與本揭露所屬技術領域的技術人員通常理解的相同涵義。能理解的是,這些用語例如在通常使用的字典中定義用語,應被解讀成具有與相關技術及本揭露的背景或上下文一致的意思,而不應以一理想化或過度正式的方式解讀,除非在本揭露實施例有特別定義。Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used herein have the same meaning as commonly understood by those skilled in the art to which the present disclosure belongs. It is understood that these terms, such as those defined in commonly used dictionaries, should be interpreted as having a meaning consistent with the background or context of the relevant technology and the present disclosure, and should not be interpreted in an idealized or overly formal manner unless specifically defined in the present disclosure embodiments.
本揭露的電子裝置可包括顯示裝置、天線裝置、感測裝置、觸控電子裝置(touch display)、封裝裝置、曲面電子裝置(curved display)或非矩形電子裝置(free shape display),但不以此為限。電子裝置可為可彎折或可撓式電子裝置。天線裝置可例如是液晶天線,但不以此為限。天線裝置可例如包括天線拼接裝置,但不以此為限。封裝裝置可為適用於晶圓級封裝(Wafer-Level Package, WLP)技術或面板級封裝(Panel-Level Package, WLP)技術,例如晶片先裝(chip first)製程或晶片後裝(RDL first)製程的封裝裝置,但不以此為限。需注意的是,電子裝置可為前述之任意排列組合,但不以此為限。此外,電子裝置的外型可為矩形、圓形、多邊形、具有彎曲邊緣的形狀或其他適合的形狀。電子裝置可包括電子元件。電子元件可包括被動元件與主動元件,例如電容、電阻、電感、二極體、電晶體等。二極體可包括發光二極體或光電二極體。發光二極體可例如包括有機發光二極體(organic light emitting diode,OLED)、次毫米發光二極體(mini LED)、微發光二極體(micro LED)或量子點發光二極體(quantum dot LED),但不以此為限。電子裝置可具有驅動系統、控制系統、光源系統、層架系統…等週邊系統以支援顯示裝置、天線裝置或拼接裝置。下文將以封裝裝置說明本揭露內容,但本揭露不以此為限。The electronic device disclosed herein may include a display device, an antenna device, a sensing device, a touch display, a packaging device, a curved display, or a non-rectangular electronic device (free shape display), but is not limited thereto. The electronic device may be a bendable or flexible electronic device. The antenna device may be, for example, a liquid crystal antenna, but is not limited thereto. The antenna device may, for example, include an antenna splicing device, but is not limited thereto. The packaging device may be a packaging device suitable for wafer-level package (WLP) technology or panel-level package (WLP) technology, such as a chip first process or a chip later process (RDL first) process, but is not limited thereto. It should be noted that the electronic device may be any combination of the aforementioned arrangements, but is not limited thereto. In addition, the shape of the electronic device may be rectangular, circular, polygonal, a shape with curved edges, or other suitable shapes. The electronic device may include electronic components. The electronic components may include passive components and active components, such as capacitors, resistors, inductors, diodes, transistors, etc. The diode may include a light-emitting diode or a photodiode. The light-emitting diode may, for example, include an organic light emitting diode (OLED), a sub-millimeter light-emitting diode (mini LED), a micro LED, or a quantum dot light-emitting diode (quantum dot LED), but is not limited thereto. The electronic device may have peripheral systems such as a drive system, a control system, a light source system, a shelf system, etc. to support a display device, an antenna device, or a splicing device. The present disclosure will be described below using a packaging device, but the present disclosure is not limited thereto.
第1圖是繪示根據本揭露一實施例之電子裝置1的剖面示意圖。如第1圖所示,電子裝置1包括保護層11、電子單元13、限位結構17、以及連接件15。電子單元13包括第一電子單元131以及第二電子單元133。第一電子單元131具有第一側邊131S1,第二電子單元133具有第一側邊133S1。第一電子單元131的第一側邊131S1與第二電子單元133的第一側邊133S1相對。限位結構17位於第一電子單元131與第二電子單元133之間。第一電子單元131、第二電子單元133以及限位結構17設置於保護層11中且連接件15設置於保護層11上。第一電子單元131與第二電子單元133透過連接件15電性連接。在一些實施例中,電子裝置1可進一步包括設置於連接件15上的連接墊19。連接墊19可將電子裝置1連接至其他電子元件或外部電路。在一些實施例中,保護層11可為可用作為封裝材料的任何材料。在一些實施例中,保護層11可為環氧樹脂(epoxy resin)。第一電子單元131的表面、第二電子單元133的表面、限位結構17的表面與保護層11的表面可以共平面,透過上述設置可降低介面產生破裂的風險,進而提升電子裝置的可靠度。保護層11與至少部分的第一電子單元131的側邊以及至少部分的第二電子單元133的側邊直接接觸。透過與至少部分的第一電子單元131的側邊以及至少部分的第二電子單元133的側邊直接接觸,保護層11可減少環境中的濕氣以及氧氣對第一電子單元131以及第二電子單元133產生的影響,藉以提高第一電子單元131以及第二電子單元133的使用壽命以及可靠度,但不以此為限。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an
第2圖是繪示根據本揭露一實施例之第一電子單元131的剖面示意圖。以下結合第1圖以及第2圖對第一電子單元131的結構進行說明。如第2圖所示,第一電子單元131包括晶片單元1311、第一絕緣層1315、以及第二絕緣層1317,其中晶片單元1311包括複數個接合墊1313。第二絕緣層1317設置於晶片單元1311上,第一絕緣層1315設置於晶片單元1311與第二絕緣層1317之間,且第一絕緣層1315與第二絕緣層1317暴露接合墊1313。根據一些實施例,晶片單元1311與第一絕緣層1315之間可包含緩衝層(passivation layer),緩衝層材料可不同於第一絕緣層1315,且緩衝層的厚度可小於第一絕緣層1315厚度。第二絕緣層1317與第一絕緣層1315可具有相同或不同的厚度。在一些實施例中,第二絕緣層1317的厚度可大於第一絕緣層1315的厚度,如第2圖所示,但本揭露不限於此。第一絕緣層1315與第二絕緣層1317可包括相同或不同的材料。在一些實施例中,第一絕緣層1315以及第二絕緣層1317可獨立地包括楊氏模數在1000 Mpa至20000 Mpa之間的材料。在一些實施例中,第一絕緣層1315以及第二絕緣層1317可分別地包括線性熱膨脹係數(CTE)在3至60 ppm/K之間的材料。包括於第一絕緣層1315以及第二絕緣層1317中的材料可為有機絕緣材料、無機絕緣材料、或其組合。包括於第一絕緣層1315以及第二絕緣層1317中的材料的實例可獨立地包括聚合物類介電膜(polymer-based dielectric film)、有機聚合物膜(organic polymer film)、增層絕緣膜(ajinomoto build-film, ABF)、及其任意組合,但本揭露不限於此。在一些實施例中,第一絕緣層1315以及第二絕緣層1317可獨立地包括環氧樹脂(epoxy resin)、苯並環丁烯(benzocyclobutene,BCB)、聚醯亞胺(polyimide, PI)、聚苯並噁唑(polybenzoxazole, PBO)、氧化矽(SiO
x)、氮化矽(SiN
x)、氮氧化矽(SiO
xN
y)、感光型聚醯亞胺 (Photosensitive PI, PSPI))、及其任意組合。第二電子單元133與第一電子單元131具有相似的結構。即類似於第一電子單元131,第二電子單元133亦包括晶片單元、第一絕緣層、以及第二絕緣層,且所述的晶片單元包括複數個接合墊,第二電子單元133中的晶片單元、第一絕緣層、以及第二絕緣層的材料、結構以及配置與上述參照第一電子單元131所述的材料、結構以及配置類似,故於此不再贅述。在一些實施例中,第一電子單元131以及第二電子單元133中的晶片單元可具有相同或不同的功能。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a first
連接件15設置在保護層11、第一電子單元131、第二電子單元133、以及限位結構17上,且第二絕緣層1317設置在第一絕緣層1315與連接件15之間。連接件15透過第一電子單元131的接合墊1313以及第二電子單元133的接合墊電性連接第一電子單元131以及第二電子單元133。在一些實施例中,連接件15可包括第一導電層151以及絕緣層153。在一些實施例中,連接件15中的絕緣層可包括與保護層11不同的任何絕緣材料。在一些實施例中,第一導電層151可包括金屬導電材料(例如:鋁(Al)、銅(Cu)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鉑(Pt)、銥(Ir)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、銀(Ag)、金(Au)、鎢(W)、或其合金)、金屬化合物導電材料(例如:包含鋁(Al)、銅(Cu)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鉑(Pt)、銥(Ir)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、銀(Ag)、金(Au)、鎢(W)、鎂(Mg)、或上材料之化合物、合金或其任意組合,但本揭露不限於此。在一些實施例中,第一導電層151可包括銅以及鈦銅合金(TiCu)。在一些實施例中,連接件15可例如為重佈線層,其中,連接件15可包括薄膜晶體管、電容、二極體或其他合適的主動元件或被動元件,但不以此為限。The
在一些實施例中,電子裝置1可進一步包括連接墊19。連接墊19可設置於連接件15的第一導電層151上方並與第一導電層151電性連接以將第一電子單元131與第二電子單元133電性連接至其他電子元件或外部電路。在一些實施例中,連接墊19可包括金屬導電材料(例如:鋁(Al)、銅(Cu)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鉑(Pt)、銥(Ir)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、銀(Ag)、金(Au)、鎢(W)、或其合金)、金屬化合物導電材料(例如:包含鋁(Al)、銅(Cu)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鉑(Pt)、銥(Ir)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、銀(Ag)、金(Au)、鎢(W)、鎂(Mg)、或上材料之化合物、合金或其任意組合,但本揭露不限於此。在一些實施例中,連接墊19可包括與第一導電層151相同的導電材料,但本揭露不限於此。In some embodiments, the
限位結構17可包括設置於第一電子單元131與第二電子單元133之間的第一限位結構171。在一些實施例中,限位結構17進一步包括設置於第一電子單元131與第二電子單元133之間的第二限位結構172以及位於第一限位結構171以及第二限位結構172之間的開口175。開口175暴露保護層11的表面且使第一限位結構171以及第二限位結構172於空間上分隔開,如第1圖所示,但本揭露不限於此。在限位結構17具有開口175的實施例中,第一導電層151可在開口175中與保護層11的表面接觸。舉例而言,在第1圖所示的實施例中,第一導電層151可接觸至少部分的第一電子單元131的表面、至少部分的第二電子單元133的表面、至少部分的限位結構17的表面、以及至少部分的保護層11的表面。在一些實施例中,限位結構17可包括連接第一限位結構171以及第二限位結構172的連接部176(如第3B圖以及第6圖所示)。在限位結構17具有連接部176的實施例中,第一導電層151可接觸至少部分的第一電子單元131的表面、至少部分的第二電子單元133的表面、至少部分的限位結構17的表面但不接觸保護層11的表面,如第6圖所示。在一些實施例中,限位結構17可包括楊氏模數在1000 Mpa至20000 Mpa之間的材料。在一些實施例中,限位結構17可包括線性熱膨脹係數(CTE)在3至60 ppm/K之間的材料。在另一些的實施例中,限位結構17可包括線性熱膨脹係數(CTE)在3至10 ppm/K之間的材料。包括於限位結構17中的材料可為絕緣材料。所述的絕緣材料的實例可包括但不限於環氧樹脂(epoxy resin)、矽樹脂(silicone resin)、及其組合。在一些實施例中,限位結構17可包括散熱材料或散熱粒子填充物以協助第一電子單元131以及第二電子單元133中的晶片單元散熱,或者協助將第一電子單元131以及第二電子單元133中的晶片單元產生的熱傳導至連接件15。散熱材料的實例可包括矽氧烷樹脂或石墨,但不以此為限。散熱粒子填充物的實例可包括氧化鋁或氮化硼,但不以此為限。The limiting
第3A圖至第3C圖是繪示根據本揭露實施例之電子裝置中的限位結構17的配置示意圖。第4圖是繪示另一些實施例之電子裝置2的剖面示意圖。第5圖是繪示另一些實施例之電子裝置3的剖面示意圖。第6圖是繪示另一些實施例之電子裝置4的剖面示意圖。以下搭配第1圖、第4圖、第5圖、以及第6圖、以及第3A圖至第3C圖,進一步說明限位結構17與電子單元13的關係。Figures 3A to 3C are schematic diagrams showing the configuration of the
如第3A圖至第3C圖所示,第一電子單元131具有沿著第一方向D1延伸的第一側邊131S1以及沿著與第一方向D1垂直的第二方向D2延伸的第二側邊131S2,且第一側邊131S1與第二側邊131S2相接。第二電子單元133具有沿著第一方向D1延伸的第一側邊133S1以及沿著第二方向D2延伸的第二側邊133S2,且第一側邊133S1與第二側邊133S2相接,其中第一電子單元131的第一側邊131S1與第二電子單元133的第一側邊133S1相對。As shown in FIGS. 3A to 3C , the first
以下搭配第3A圖、第1圖以及第4圖進一步說明電子裝置1以及電子裝置2中的限位結構17。The limiting
在第3A圖所示的實施例中,限位結構17包括第一限位結構171、第二限位結構172以及開口175。第一限位結構171以及第二限位結構172沿著第一方向D1延伸並設置於第一電子單元131以及第二電子單元133之間,其中第一限位結構171與第一電子單元131的第一側邊131S1直接接觸,第二限位結構172與第二電子單元133的第一側邊133S1直接接觸。開口175位於第一限位結構171以及第二限位結構172之間以使第一限位結構171以及第二限位結構172空間上分隔並暴露部分的保護層11的表面。在一些實施例中,開口175可具有傾斜側壁,如第1圖所示,但本揭露不限於此。在一些實施例中,開口175可具有凹面曲面側壁,如第4圖所示,但本揭露不限於此。在另一些實施例中,開口175可具有凸面曲面側壁。當開口175具有曲面側壁(凹面曲面側壁或凸面曲面側壁)時,可降低或避免保護層11因為第一限位結構171及/或第二限位結構172而破裂或降低保護層11與第一限位結構171及/或第二限位結構172彼此的線性熱膨脹係數不匹配所產生的接觸區域應力過大問題。In the embodiment shown in FIG. 3A , the limiting
第一限位結構171以及第二限位結構172可露出第一電子單元131中的晶片單元1311及/或第二電子單元133中的晶片單元的頂表面,如第1圖以及第4圖所示,但本揭露不限於此。在另一些實施例中,第一限位結構171以及第二限位結構172可自側邊延伸以覆蓋第一電子單元131及/或第二電子單元133的頂表面,如第5圖所示。The first limiting
第5圖是繪示根據本揭露另一實施例之電子裝置3的剖面示意圖。如第5圖所示,電子裝置3包括保護層11、電子單元13、連接件15、以及限位結構17。限位結構17包括第一限位結構171以及第二限位結構172。第一限位結構171以及第二限位結構172沿著第一方向D1延伸並設置於第一電子單元131以及第二電子單元133之間。第一限位結構171與第一電子單元131的第一側邊131S1直接接觸,自第一側邊131S1延伸至第一側邊131S1的相對側邊且覆蓋第一電子單元131的晶片單元1311的頂表面。第二限位結構172與第二電子單元133的第一側邊133S1直接接觸,自第一側邊133S1延伸至第一側邊133S1的相對側邊且覆蓋第二電子單元133的晶片單元的頂表面。電子裝置3中的保護層11、電子單元13、以及連接件15與電子裝置1以及2中的保護層11、電子單元13、以及連接件15實質上相似或相同,於此不再贅述。根據一些實施例,限位結構17可包含散熱粒子使得具有良好散熱效果。舉例而言,限位結構17的熱傳導係數例如大於等於0.35 W/m*K且小於等於7W/m*K,但不以此為限。根據一些實施例,限位結構17的熱傳導係數可大於保護層11的熱傳導係數,例如限位結構17的熱傳導係數為3 W/m*K大於保護層11的熱傳導係數0.2 W/m*K,但不以此為限。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an
在第3A圖所示的實施例中,限位結構17進一步包括第三限位結構173及第四限位結構174,其中第三限位結構173與第一電子單元131的第二側邊131S2直接接觸,而第四限位結構174與第二電子單元133的第二側邊133S2直接接觸。在一些實施例中,第三限位結構173不與第一電子單元131的第二側邊131S2直接接觸的側面以及第四限位結構174不與第二電子單元133的第二側邊133S2直接接觸的側面可為傾斜側面或曲面側面。當第三限位結構173不與第一電子單元131的第二側邊131S2直接接觸的側面以及第四限位結構174不與第二電子單元133的第二側邊133S2直接接觸的側面為傾斜側面或曲面側面時,可進一步降低或避免保護層11因為第三限位結構173及/或第四限位結構174而破裂或降低保護層11與第三限位結構173及/或第四限位結構174彼此的線性熱膨脹係數不匹配所產生的接觸區域應力過大問題。In the embodiment shown in FIG. 3A , the limiting
以下搭配第3B圖以及第6圖進一步說明電子裝置4中的限位結構17。The limiting
在第3B圖以及第6圖所示的實施例中,限位結構17包括第一限位結構171、第二限位結構172以及連接部176。連接部176在第一電子單元131及第二電子單元133之間並連接第一限位結構171以及第二限位結構172。連接部176的厚度小於第一限位結構171以及第二限位結構172。在一些實施例中,連接部176可與第一限位結構171以及第二限位結構172結合形成具有傾斜側壁或曲面側壁的凹陷部。第6圖繪示連接部176與第一限位結構171以及第二限位結構172結合形成具有曲面側壁的凹陷部的態樣。在第6圖所示的實施例中,連接部176、第一限位結構171與第二限位結構172在第二方向D2上具有相同的寬度。第一限位結構171與第一電子單元131的第一側邊131S1直接接觸側和第一限位結構171與連接部176直接接觸側以下凹的曲面連接時,連接部176與第一限位結構171以及第二限位結構172結合即形成具有曲面側壁的凹陷部,如第6圖所示。在另一實施例中,當第一限位結構171與第一電子單元131的第一側邊131S1直接接觸側和第一限位結構171與連接部176直接接觸側以傾斜平面連接時,連接部176與第一限位結構171以及第二限位結構172結合即形成傾斜側壁。在此實施例中,限位結構17位於保護層11與連接件15之間,使連接件15不與保護層11的表面接觸。在第3B圖所示的實施例中,限位結構17進一步包括第三限位結構173及第四限位結構174,其中第三限位結構173與第一電子單元131的第二側邊131S2直接接觸,而第四限位結構174與第二電子單元133的第二側邊133S2直接接觸。在此實施例中的第三限位結構173以及第四限位結構174具有與參照第3A圖所述之第三限位結構173以及第四限位結構174類似的結構以及優點,故於此不再贅述。In the embodiments shown in FIG. 3B and FIG. 6 , the limiting
在另一些實施例中,第一限位結構171至第四限位結構174可包括複數個子限位結構。第3C圖是繪示根據本揭露另一實施例之電子裝置中的限位結構17的配置示意圖。在第3C圖所示的實施例中,第一限位結構171可包括二個第一子限位結構1711以及設置於該二個第一子限位結構1711之間的第一空隙1713,該二個第一子限位結構1711以第一空隙1713空間上分離。第二限位結構172可包括二個第二子限位結構1721以及設置於該二個第二子限位結構1721之間的第二空隙1723,該二個第二子限位結構1721以第二空隙1723空間上分離。第三限位結構173可包括二個第三子限位結構1731以及設置於該二個第三子限位結構1731之間的第三空隙1733,該二個第三子限位結構1731以第三空隙1733空間上分離。第四限位結構174可包括二個第四子限位結構1741以及設置於該二個第四子限位結構1741之間的第四空隙1743,該二個第四子限位結構1741以第四空隙1743空間上分離。雖然第3C圖揭示了第一限位結構171至第四限位結構174中的每一個限位結構皆包括複數個子限位結構的態樣,但本揭露不限於此。在一些實施例中,第一限位結構171至第四限位結構174中的至少一個限位結構具有與上述結合第3A圖及/或第3B圖所述之限位結構類似的結構(不包括子限位結構)。雖然第3C圖揭示了第一限位結構171包括二個第一子限位結構1711以及一個第一空隙1713,第二限位結構172包括二個第二子限位結構1721以及一個第二空隙1723,第三限位結構173包括二個第三子限位結構1731以及一個第三空隙1733,以及第四限位結構174包括二個第四子限位結構1741以及一個第四空隙1743的實施態樣,但本揭露不限於此。在一些實施例中,第一限位結構171至第四限位結構174中的至少一個限位結構可包括三或更多個子限位結構以及二或更多個空隙。In other embodiments, the first limiting
雖然第3A圖至第3C圖揭示了限位結構17包括第一限位結構171至第四限位結構174的態樣,但本揭露不限於此。在一些實施例中,限位結構17可僅包括第一限位結構171。在另一些實施例中,限位結構17可僅包括第一限位結構171以及第二限位結構172至第四限位結構174中之其中一個限位結構。在另一些實施例中,限位結構17還可進一步包括與第一限位結構171以及第二限位結構172平行但不設置於第一電子單元131以及第二電子單元133之間的其他限位結構177,如第9A圖所示。Although FIGS. 3A to 3C disclose that the limiting
以下再次參照第3A圖至第3C圖,對第一限位結構171做進一步的說明。第一限位結構171與第一側邊131S1接觸之側邊在第一方向D1上具有第一寬度W1,第一電子單元131的第一側邊131S1在第一方向D1上具有第二寬度W2,且第一寬度W1與第二寬度W2符合下示關係式:
。
進一步地,第一寬度W1與第二寬度W2符合下示關係式:
。
當第一限位結構171與第一電子單元131的第一側邊131S1接觸之側邊的寬度和第一電子單元131的第一側邊131S1的寬度符合上述關係式時,設置於第一電子單元131以及第二電子單元133之間的第一限位結構171可在不大幅增加電子裝置的製造成本的情況下固定第一電子單元131。第二限位結構172與第二電子單元133的第一側邊133S1接觸之側邊的寬度和第二電子單元133的第一側邊133S1的寬度之間的比例關係以及優點與第一限位結構171與第一側邊131S1接觸之側邊的寬度和與第一電子單元131的第一側邊131S1的寬度之間的比例關係以及優點類似,故於此不再贅述。
The first limiting
在一些實施例中,第三限位結構173在第二方向D2上可具有第三寬度W3,第一電子單元131的第二側邊131S2在第二方向D2上具有第四寬度W4,且第三寬度W3與第四寬度W4符合下示關係式:
0.2≦W3⁄W4<1。
進一步地,第三寬度W3與第四寬度W4符合下示關係式:
0.2≦W3⁄W4<0.8。
當第三限位結構173與第一電子單元131的第二側邊131S2接觸之側邊的寬度第一電子單元131的第二側邊131S2的寬度符合上述關係式時,第三限位結構173可在不大幅增加電子裝置的製造成本的情況下固定第一電子單元131。第四限位結構174與第二電子單元133的第二側邊133S2接觸之側邊的寬度和與第二電子單元133的第二側邊133S2的寬度之間的比例關係以及優點與第三限位結構173與第二側邊131S2接觸之側邊的寬度和第一電子單元131的第二側邊131S2的寬度之間的比例關係以及優點類似,故於此不再贅述。
In some embodiments, the third limiting
繼續參照第1圖、第4圖以及第6圖,第一電子單元131在與第一方向D1以及第二方向D2垂直的第三方向D3上可具有第二厚度T2、第二電子單元133在與第三方向D3上可具有第三厚度T3、且第一限位結構171在第三方向D3上可具有第一厚度T1。其中,第三方向D3可例如為電子裝置1的法線方向。此處第一厚度T1是指第一限位結構171在第三方向D3上的最大厚度,第二厚度T2是指第一電子單元131中的晶片單元1311、第一絕緣層1315、以及第二絕緣層1317在第三方向D3的厚度總和,而第三厚度T3是指第二電子單元133中的晶片單元、第一絕緣層、以及第二絕緣層在第三方向D3的厚度總和。第二厚度T2可大於等於第二電子單元133的第三厚度T3,且第一厚度T1與第二厚度T2符合下示關係式:
≦T1≦T2。
進一步地,第一厚度T1與第二厚度T2符合下示關係式:
≦T1≦T2。
Continuing to refer to FIG. 1, FIG. 4 and FIG. 6, the first
當第一限位結構171的厚度和第一電子單元131的厚度符合上述關係式時,設置於第一電子單元131以及第二電子單元133之間的第一限位結構171可在不大幅增加電子裝置的製造成本的情況下固定第一電子單元131以及第二電子單元133。第二限位結構172至第四限位結構174可具有類似於第一限位結構171的厚度,故於此不再贅述。When the thickness of the first limiting
本揭露的另一態樣提供一種電子裝置的製造方法。第7圖是繪示根據本揭露一實施例之電子裝置的製造方法的流程圖。第8A圖、第9A圖、以及第10A圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的中間階段的電子裝置的俯視示意圖。第8B圖、第9B圖、第9C圖、以及第10B圖至第14圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的中間階段的電子裝置的剖面示意圖。以下搭配第7圖以及第8A圖至第14圖說明本揭露一實施例之電子裝置的製造方法。Another aspect of the present disclosure provides a method for manufacturing an electronic device. FIG. 7 is a flow chart showing a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 8A, FIG. 9A, and FIG. 10A are schematic top views of an electronic device at an intermediate stage of the method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 8B, FIG. 9B, FIG. 9C, and FIG. 10B to FIG. 14 are schematic cross-sectional views of an electronic device at an intermediate stage of the method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. The following describes a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure in conjunction with FIG. 7 and FIG. 8A to FIG. 14.
如第7圖所示,本揭露之電子裝置的製造方法包括提供基板的步驟S201;提供第一電子單元以及第二電子單元於基板上的步驟S203;提供限位結構於第一電子單元與第二電子單元之間的步驟S205;提供保護層圍繞限位結構、第一電子單元、與第二電子單元的步驟S207;以及提供電性連接第一電子單元與第二電子單元的連接件的步驟S209。As shown in FIG. 7 , the manufacturing method of the electronic device disclosed herein includes step S201 of providing a substrate; step S203 of providing a first electronic unit and a second electronic unit on the substrate; step S205 of providing a limiting structure between the first electronic unit and the second electronic unit; step S207 of providing a protective layer surrounding the limiting structure, the first electronic unit, and the second electronic unit; and step S209 of providing a connector electrically connecting the first electronic unit and the second electronic unit.
步驟S201中提供的基板10(參照第8A圖以及第8B圖)可為包括可撓式基板、剛性基板或前述之組合,但不限於此。在一些實施例中,基板可為透光基板或半透光基板或不透光基板。根據一些實施例,基板的材料可包括玻璃、石英、藍寶石(sapphire)、陶瓷、聚醯亞胺(polyimide,PI)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚丙烯(polypropylene,PP)、不鏽鋼、合金鋼、碳纖維、玻璃纖維、其它合適的材料、或前述之任意組合,但本揭露不限於此。在一些實施例中,基板可進一步包括導電層、絕緣層、介電質層、顯示介質層、空氣層、真空層、或前述之任意組合,但本揭露不限於此。The
第8A圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的步驟S203中的電子裝置的俯視示意圖。第8B圖是第8A圖所示的電子裝置沿著線A-A’的剖面示意圖。參照第8A圖以及第8B圖,包括第一電子單元131以及第二電子單元133的電子單元13於步驟S203中被提供於基板10上。在一些實施例中,提供電子單元13於基板上的步驟S203包括將多個第一電子單元131以及第二電子單元133轉移到基板10上的步驟。在一些實施例中,電子單元13可以矩陣的形式提供於基板10上。FIG. 8A is a schematic top view of an electronic device in step S203 of a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 8B is a schematic cross-sectional view of the electronic device shown in FIG. 8A along line A-A'. Referring to FIG. 8A and FIG. 8B, an
參照第8A圖以及第8B圖,被提供於基板10上的第一電子單元131與第二電子單元133以一距離空間上分離,且第一電子單元131的接合墊1313與第二電子單元133的接合墊1333相對應。第一電子單元131具有第一側邊131S1以及與第一側邊131S1相接的第二側邊131S2,其中第一側邊131S1沿著第一方向D1延伸且在第一方向D1上具有第二寬度W2,第二側邊131S2沿著第二方向D2延伸且在第二方向D2上具有第四寬度W4。第二電子單元133具有第一側邊133S1以及與第一側邊133S1相接的第二側邊133S2,其中第一側邊133S1沿著第一方向D1且與第一電子單元131的第一側邊131S1相對,而第二側邊131S2沿著第二方向D2延伸。第二電子單元133的第一側邊133S1的寬度以及第二側邊133S2的寬度可與第一側邊131S1以及第二側邊131S2相同。第一電子單元131在第三方向D3上可具有第二厚度T2,第二電子單元133在與第三方向D3上可具有第三厚度T3,且第一電子單元131的第二厚度T2可大於等於第二電子單元133的第三厚度T3。8A and 8B, the first
第9A圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的步驟S205中的電子裝置的俯視示意圖。第9B圖以及第9C圖是第9A圖所示的電子裝置沿著線A-A’的剖面示意圖。參照第9A圖,提供限位結構於第一電子單元與第二電子單元之間的步驟S205可包括提供沿著第一方向D1延伸的第一限位結構171以及第二限位結構172與沿著第二方向D2延伸的第三限位結構173以及第四限位結構174,其中第一限位結構171與第一電子單元131的第一側邊131S1直接接觸,第二限位結構172與第二電子單元133的第一側邊133S1直接接觸,第三限位結構173與第一電子單元131的第二側邊131S2直接接觸,而第四限位結構174與第二電子單元133的第二側邊133S2直接接觸,但本揭露不限於此。在一些實施例中,步驟S205僅提供第一限位結構171以及第二限位結構172中之其一於第一電子單元與第二電子單元之間而不包括提供第一限位結構171至第四限位結構174中的其他三個。在另一些實施例中,步驟S205可進一步包括提供與第一限位結構171以及第二限位結構172平行但不設置於第一電子單元131以及第二電子單元133之間的其他限位結構177。所述之其他限位結構177可與第一電子單元131以及第二電子單元133的側邊直接接觸,但本揭露不限於此。在一些實施例中,提供限位結構17的步驟包括提供沿著第一方向D1延伸的開口175於第一限位結構171以及第二限位結構172之間,其中第一導電層151在開口175中與保護層11的表面接觸,且開口175具有傾斜側壁,如第9B圖所示,但本揭露不限於此。在另一些實施例中,所述開口175可具有曲面側壁,如第9C圖所示。FIG. 9A is a schematic top view of an electronic device in step S205 of a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 9B and FIG. 9C are schematic cross-sectional views of the electronic device shown in FIG. 9A along line A-A'. Referring to FIG. 9A , step S205 of providing a limiting structure between the first electronic unit and the second electronic unit may include providing a first limiting
第10A圖是根據本揭露的另一實施例之電子裝置的製造方法的步驟S205中的電子裝置的俯視示意圖。第10B圖是第10A圖所示的電子裝置沿著線A-A’的剖面示意圖。第10A圖所示之實施例與第9A圖所示之實施例之間的差異在於,第10A圖所示之實施例中,限位結構17包括位於第一限位結構171以及第二限位結構172之間且連接第一限位結構171以及第二限位結構172的連接部176而非開口175。連接部176的厚度小於第一限位結構171以及第二限位結構172。在一些實施例中,連接部176可與第一限位結構171以及第二限位結構172結合形成具有傾斜側壁或曲面側壁的凹陷部,如第10B圖所示。FIG. 10A is a schematic top view of an electronic device in step S205 of a method for manufacturing an electronic device according to another embodiment of the present disclosure. FIG. 10B is a schematic cross-sectional view of the electronic device shown in FIG. 10A along line A-A'. The difference between the embodiment shown in FIG. 10A and the embodiment shown in FIG. 9A is that in the embodiment shown in FIG. 10A, the limiting
在一些實施例中,限位結構17的第一限位結構171至第四限位結構174以及其他限位結構177可在步驟S205中同時形成。提供限位結構17的步驟S205可包括使用針孔塗佈(needle coating)製程、噴墨塗佈(Ink-Jet printing coating)、網印塗佈(screen printing coating)、凹/凸版塗佈(relief/gravure printing coating)、轉印塗佈(transfer printing coating)、化學氣相沉積製程(chemical vapor deposition,CVD)、物理氣相沉積(physical vapor deposition,PVD)製程、原子層沉積(atomic layer deposition,ALD)製程、高密度電漿化學氣相沉積(high density plasma CVD,HDPCVD)製程、其它合適的方法或其組合,但本揭露不限於此。在一些實施例中,提供限位結構17的步驟S205可包括透過熱壓貼合將限位結構17覆蓋在第一電子單元131以及第二電子單元133上後,經由研磨製程或塗佈製程搭配蝕刻製程來提供,但不以此為限。在一些實施例中,用以形成限位結構17的材料可包括楊氏模數在1000 Mpa至20000 Mpa之間的材料。在一些實施例中,用以形成限位結構17的材料可包括線性熱膨脹係數(CTE)在3至60 ppm/K之間的材料。在進一步的實施例中,用以形成限位結構17的材料可包括線性熱膨脹係數(CTE)在3至10 ppm/K之間的材料。用以形成限位結構17可為絕緣材料。在一些實施例中,所述的絕緣材料的實例可包括但不限於環氧樹脂(epoxy resin)、矽樹脂(silicone resin)、及其組合。步驟S205中提供的限位結構17與第一電子單元131與第二電子單元133之間的位置關係、寬度比例以及厚度比例如上所述,故於此不再贅述。In some embodiments, the first to fourth limiting
第11圖至第13圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的步驟S207以及步驟S209中的電子裝置的剖面示意圖。第11圖是以在第9B圖所示的結構上執行步驟S207的態樣作為示例進行說明,但本揭露不限於此。在一些實施例中,步驟S207可在第9C圖或第10B圖所示的結構上執行。步驟S207在其上形成有限位結構17、第一電子單元131與第二電子單元133的基板10上提供保護層11。保護層圍繞限位結構17、第一電子單元131與第二電子單元133。更具體而言,保護層11與限位結構17的側邊、至少部分的第一電子單元131的側邊與至少部分的第二電子單元133的側邊直接接觸。透過與至少部分的第一電子單元131的側邊與至少部分的第二電子單元133的側邊直接接觸,保護層11可減少環境中的濕氣以及氧氣對電子單元13產生的影響,藉以提高電子單元13的使用壽命以及可靠度。在一些實施例中,保護層11可以用作為封裝材料的任何材料形成。在一些實施例中,保護層11可以環氧樹脂形成。在一些實施例中,提供保護層11的步驟S207可包括使用點膠製程、轉注成型製程、其它合適的方法或其組合形成保護層11。接著可進行步驟S209,提供電性連接第一電子單元131與第二電子單元133的連接件15的步驟S209包括形成光阻材料層50、形成絕緣層153、以及填充導電材料的步驟。形成光阻材料層50的步驟包括在結構上形成載板30,以使第一電子單元131、第二電子單元133、限位結構17以及保護層11位於載板30以及基板10之間以獲得一中間結構。倒置中間結構後除去基板10,並形成光阻材料層50以使第一電子單元131、第二電子單元133、限位結構17以及保護層11位於載板30以及光阻材料層50之間,如第11圖所示。光阻材料層50可以熱壓貼合(heat press lamination)製程、旋轉塗佈(spin coating)製程、非旋轉塗佈(spinless coating)製程、噴墨塗佈(Ink-jet printing coating)製程、其它合適的方法或其組合來形成,但本揭露不限於此。Figures 11 to 13 are cross-sectional schematic diagrams of the electronic device in step S207 and step S209 of the method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. Figure 11 is an example of performing step S207 on the structure shown in Figure 9B, but the present disclosure is not limited to this. In some embodiments, step S207 can be performed on the structure shown in Figure 9C or Figure 10B. Step S207 provides a
形成絕緣層153包括圖案化光阻材料層50以暴露第一電子單元131的接合墊1313、第二電子單元133的接合墊1333、以及限位結構17的表面以及固化經圖案化之光阻材料層50以形成絕緣層153的步驟。圖案化光阻材料層50的步驟可包括乾蝕刻製程、濕蝕刻製程、及其組合,但本揭露不限於此。在一些實施例中,圖案化之光阻材料層50會暴露至少部分的保護層11的表面,如第12圖所示,但本揭露不限於此。在另一些實施例中,圖案化之光阻材料層50不會暴露保護層11的表面。固化經圖案化之光阻材料層50的步驟可包括光固化製程、熱固化製程、及其組合,但本揭露不限於此。The formation of the insulating
接著透過填充導電材料於絕緣層153之間以形成電性連接第一電子單元131與第二電子單元133的第一導電層151以完成連接件15的製備。電子裝置的製造可在形成連接件15後移除載板30完成,如第13圖所示。上述製造方法藉由提供限位結構17來避免或降低第一電子單元131及/或第二電子單元133在保護層11形成期間可能產生之位置偏移、脫落或損壞。因此可降低第一電子單元131及/或第二電子單元133因為位置偏移、脫落或損壞而無法藉由連接件15提供良好的電性連結的可能性。Then, the first
以上提供的僅為本揭露的一些實施例之電子裝置的製造方法,本揭露的電子裝置的製造方法並不以上述揭示的順序以及步驟為限。在一些實施例中,可省略上述電子裝置的製造方法中的一些步驟。舉例而言,電子裝置的製造方法中可省略形成載板30及/或倒置中間結構的步驟。在另一些實施例中,可改變本揭露的電子裝置的製造方法中的製程順序。第14圖是繪示根據本揭露另一實施例之電子裝置的製造方法的流程圖。第15圖以及第16圖是根據本揭露的另一實施例之電子裝置的製造方法的中間階段的電子裝置的俯視示意圖。The above only provides the manufacturing method of the electronic device of some embodiments of the present disclosure, and the manufacturing method of the electronic device of the present disclosure is not limited to the sequence and steps disclosed above. In some embodiments, some steps in the above-mentioned manufacturing method of the electronic device can be omitted. For example, the steps of forming the
參照第14圖,根據本揭露另一實施例之電子裝置的製造方法可包括提供基板的步驟S301;提供限位結構於基板上的步驟S303;提供第一電子單元以及第二電子單元於基板上的步驟S305;提供保護層圍繞限位結構、第一電子單元、與第二電子單元的步驟S307;以及提供電性連接第一電子單元與第二電子單元的連接件的步驟S309。此實施例之電子裝置的製造方法與第7圖所示之電子裝置的製造方法的不同之處在於,第7圖所示之實施例中,限位結構在第一電子單元以及第二電子單元之後提供,而此實施例中限位結構在第一電子單元以及第二電子單元之前提供。具體而言,參見第15圖,第15圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的步驟S303中的電子裝置的俯視示意圖。如第15圖所示,限位結構17可使用針孔塗佈(needle coating)製程、噴墨塗佈(Ink-Jet printing coating)、網印塗佈(screen printing coating)、凹/凸版塗佈(relief/gravure printing coating)、轉印塗佈(transfer printing coating)、熱壓貼合(heat and lamination)、化學氣相沉積製程(chemical vapor deposition,CVD)、物理氣相沉積(physical vapor deposition,PVD)製程、原子層沉積(atomic layer deposition,ALD)製程、高密度電漿化學氣相沉積(high density plasma CVD,HDPCVD)製程、其它合適的方法或其組合,在第一電子單元131及第二電子單元133之前形成於基板10上。Referring to FIG. 14, a method for manufacturing an electronic device according to another embodiment of the present disclosure may include a step of providing a substrate (S301); a step of providing a limiting structure on the substrate (S303); a step of providing a first electronic unit and a second electronic unit on the substrate (S305); a step of providing a protective layer surrounding the limiting structure, the first electronic unit, and the second electronic unit (S307); and a step of providing a connector electrically connecting the first electronic unit and the second electronic unit (S309). The difference between the method for manufacturing an electronic device of this embodiment and the method for manufacturing an electronic device shown in FIG. 7 is that in the embodiment shown in FIG. 7, the limiting structure is provided after the first electronic unit and the second electronic unit, while in this embodiment, the limiting structure is provided before the first electronic unit and the second electronic unit. Specifically, refer to FIG. 15 , which is a top view schematic diagram of the electronic device in step S303 of the method for manufacturing the electronic device according to an embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 15 , the limiting
第16圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的步驟S305中的電子裝置的俯視示意圖。如第16圖所示,第一電子單元131以及第二電子單元133於限位結構17形成之後被提供於基板10上,且其中第一限位結構171以及第二限位結構172位於第一電子單元131以及第二電子單元133。除了電子單元13與限位結構17提供的順序以外,此實施例中所用的製程、材料以及優點等皆與上述實施例相同,故於此不再贅述。在此實施例中,限位結構17除了可避免或降低第一電子單元131及/或第二電子單元133在保護層11形成期間可能產生之位置偏移、脫落或損壞以外,還可用作為對齊元件以避免或減少電子單元13在提供於基板上的階段的位移。FIG. 16 is a schematic top view of an electronic device in step S305 of a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 16 , the first
前文概述了數個實施例之特徵,使得所屬領域具通常知識者可更好地理解本揭露之各面向。所屬領域具通常知識者應可理解且可輕易地以本揭露為基礎來設計或修飾其他製程及結構,並以此達到相同的目的及/或達到與在此介紹的實施例相同之優點。所屬領域具通常知識者也應了解這些相等的結構並未背離本揭露的精神與範圍。在不背離本揭露的精神與範圍之前提下,可對本揭露之實施例進行各種改變、置換或修改。各實施例間特徵只要不違背發明精神或相衝突,均可任意混合搭配使用。此外,本揭露之每一請求項可為個別的實施例,且本揭露之範圍包括本揭露之每一請求項及每一實施例彼此之結合。The foregoing summarizes the features of several embodiments so that those skilled in the art can better understand the various aspects of the present disclosure. Those skilled in the art should understand and can easily design or modify other processes and structures based on the present disclosure to achieve the same purpose and/or the same advantages as the embodiments introduced herein. Those skilled in the art should also understand that these equivalent structures do not deviate from the spirit and scope of the present disclosure. Various changes, substitutions or modifications may be made to the embodiments of the present disclosure without departing from the spirit and scope of the present disclosure. The features of the embodiments may be mixed and matched as they please as long as they do not violate the spirit of the invention or conflict with each other. In addition, each claim item of the present disclosure may be a separate embodiment, and the scope of the present disclosure includes the combination of each claim item and each embodiment of the present disclosure.
1,2,3,4:電子裝置
10:基板
11:保護層
13:電子單元
131:第一電子單元
1311:晶片單元
1313, 1333:接合墊
1315:第一絕緣層
1317:第二絕緣層
133:第二電子單元
131S1, 133S1:第一側邊
131S2, 133S2:第二側邊
15:連接件
151:第一導電層
153:絕緣層
17:限位結構
171:第一限位結構
172:第二限位結構
173:第三限位結構
174:第四限位結構
1711,1721,1731,1741:子限位結構
1713,1723,1733,1743:空隙
175:開口
176:連接部
177:其他限位結構
19:連接墊
30:載板
50:光阻材料層
T1,T2,T3:厚度
W1,W2,W3,W4:寬度
S201-S209, S301-S309:步驟
D1,D2,D3:方向
1,2,3,4: electronic device
10: substrate
11: protective layer
13: electronic unit
131: first electronic unit
1311:
當與附圖一起閱讀時,可從以下的詳細描述中更充分地理解本揭露。值得注意的是,按照業界的標準做法,各特徵並未被等比例繪示。事實上,為了明確起見,各種特徵的尺寸可被任意地放大或縮小。 第1圖是繪示根據本揭露一實施例之電子裝置的剖面示意圖。 第2圖是繪示根據本揭露一實施例之電子單元的剖面示意圖。 第3A圖至第3C圖是繪示根據本揭露實施例之電子裝置中的限位結構的配置示意圖。 第4圖是繪示根據本揭露另一實施例之電子裝置的剖面示意圖。 第5圖是繪示根據本揭露另一實施例之電子裝置的剖面示意圖。 第6圖是繪示根據本揭露另一實施例之電子裝置的剖面示意圖。 第7圖是繪示根據本揭露一實施例之電子裝置的製造方法的流程圖。 第8A圖、第9A圖以及第10A圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的中間階段的電子裝置的俯視示意圖。 第8B圖、第9B圖、第9C圖、以及第10B圖至第13圖是根據本揭露的一實施例之電子裝置的製造方法的中間階段的電子裝置的剖面示意圖。 第14圖是繪示根據本揭露另一實施例之電子裝置的製造方法的流程圖。 第15圖以及第16圖是根據本揭露的另一實施例之電子裝置的製造方法的中間階段的電子裝置的俯視示意圖。 The disclosure may be more fully understood from the following detailed description when read together with the accompanying drawings. It is noteworthy that, in accordance with standard practice in the industry, the features are not drawn to scale. In fact, for the sake of clarity, the sizes of various features may be arbitrarily enlarged or reduced. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electronic device according to an embodiment of the disclosure. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an electronic unit according to an embodiment of the disclosure. FIG. 3A to FIG. 3C are schematic views of the configuration of the limit structure in the electronic device according to the embodiment of the disclosure. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an electronic device according to another embodiment of the disclosure. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an electronic device according to another embodiment of the disclosure. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an electronic device according to another embodiment of the present disclosure. FIG. 7 is a flow chart of a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 8A, FIG. 9A, and FIG. 10A are schematic top views of an electronic device at an intermediate stage of a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 8B, FIG. 9B, FIG. 9C, and FIG. 10B to FIG. 13 are schematic cross-sectional views of an electronic device at an intermediate stage of a method for manufacturing an electronic device according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 14 is a flow chart of a method for manufacturing an electronic device according to another embodiment of the present disclosure. FIG. 15 and FIG. 16 are schematic top views of an electronic device at an intermediate stage of a method for manufacturing an electronic device according to another embodiment of the present disclosure.
1:電子裝置 1: Electronic devices
11:保護層 11: Protective layer
13:電子單元 13: Electronic unit
131:第一電子單元 131: First electronic unit
133:第二電子單元 133: Second electronic unit
131S1,133S1:第一側邊 131S1,133S1: First side
15:連接件 15: Connectors
151:第一導電層 151: First conductive layer
153:絕緣層 153: Insulation layer
17:限位結構 17: Limiting structure
171:第一限位結構 171: First limit structure
172:第二限位結構 172: Second limit structure
175:開口 175: Open mouth
19:連接墊 19:Connection pad
T1,T2,T3:厚度 T1, T2, T3: thickness
Claims (20)
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| TW111123007A TWI850679B (en) | 2022-06-21 | 2022-06-21 | Electronic device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW111123007A TWI850679B (en) | 2022-06-21 | 2022-06-21 | Electronic device and manufacturing method thereof |
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| TW202401694A TW202401694A (en) | 2024-01-01 |
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Citations (4)
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| TW201250957A (en) * | 2011-04-21 | 2012-12-16 | Tessera Inc | Reinforced fan-out wafer-level package |
| CN104081521A (en) * | 2011-05-06 | 2014-10-01 | 3D加公司 | Method for producing reconstituted wafers using chip support during packaging |
| CN106033751A (en) * | 2014-09-05 | 2016-10-19 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | Packages and Methods of Forming Packages |
| CN110197823A (en) * | 2019-04-09 | 2019-09-03 | 上海中航光电子有限公司 | Panel grade chip apparatus and its packaging method |
-
2022
- 2022-06-21 TW TW111123007A patent/TWI850679B/en active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| TW202401694A (en) | 2024-01-01 |
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