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TWI848696B - 無版縫膜之履帶式成形方法 - Google Patents

無版縫膜之履帶式成形方法 Download PDF

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TWI848696B
TWI848696B TW112117422A TW112117422A TWI848696B TW I848696 B TWI848696 B TW I848696B TW 112117422 A TW112117422 A TW 112117422A TW 112117422 A TW112117422 A TW 112117422A TW I848696 B TWI848696 B TW I848696B
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林劉恭
范健文
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光群雷射科技股份有限公司
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Abstract

本發明公開一種無版縫膜之履帶式成形方法,其包含:提供一履帶式轉印機構、及輸送沿經所述履帶式轉印機構的一基材;其中,所述履帶式轉印機構包含有多個滾輪與套設於多個所述滾輪的緩衝表層的一筒狀轉印版;於所述履帶式轉印機構的上游對所述基材塗佈,以於所述基材上形成有一光固化膠層;以所述履帶式轉印機構壓迫於所述光固化膠層,並通過多個所述滾輪的緩衝表層受壓迫產生彈性變形,使得所述筒狀轉印版能無縫地將其上的預設圖案完全轉印至所述光固化膠層;以及固化被轉印有所述預設圖案的所述光固化膠層。

Description

無版縫膜之履帶式成形方法
本發明涉及一種母膜成形方法,尤其涉及一種無版縫膜之履帶式成形方法。
現有母膜成形方法大都採用滾壓方式,但上述滾壓方式容易使得光學膜形成有版縫或是圖案轉印時產生缺陷(也就是,圖案無法完整轉印),因而較難以有進一步地大幅改良或發展。
於是,本發明人認為上述缺陷可改善,乃特潛心研究並配合科學原理的運用,終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。
本發明實施例在於提供一種無版縫膜之履帶式成形方法,其能有效地改善現有母膜成形方法所可能產生的缺陷。
本發明實施例公開一種無版縫膜之履帶式成形方法,其包括:一前置步驟:提供一履帶式轉印機構、及輸送沿經所述履帶式轉印機構的一基材;其中,所述履帶式轉印機構包含有:多個滾輪,彼此間隔地設置,並且每個所述滾輪具有一緩衝表層;及一筒狀轉印版,其內表面套設於多個所述滾輪且抵接於每個所述滾輪的所述緩衝表層,並且所述筒狀轉印版的外表面形成無縫隙的預設圖案;一塗佈步驟:於所述履帶式轉印機構的上游對所述基材塗佈,以於所述基材上形成有一光固化膠層;一母膜轉印步驟:以所述履帶式轉印機構壓迫於所述光固化膠層,並通過多個所述滾輪的所述緩衝表層受壓迫產生彈性變形,使得所述筒狀轉印版的所述外表面能無縫地將所述預設圖案完全轉印至所述光固化膠層;以及一光固化步驟:固化被轉印有所述預設圖案的所述光固化膠層,進而使所述基材及轉印有所述預設圖案且已固化的所述光固化膠層共同構成一無版縫母膜。
綜上所述,本發明實施例所公開的無版縫膜之履帶式成形方法,其通過採用所述筒狀轉印版,以使得其所述外表面上的所述預設圖案可以是沒有接合縫隙,並且所述無版縫膜之履帶式成形方法還可進一步通過所述緩衝表層受壓迫所產生彈性變形,以使得所述筒狀轉印版的所述外表面能夠完整且無縫地壓抵於所述光固化膠層,進而有效地避免所述光固化膠層於轉印時產生缺陷。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,但是此等說明與附圖僅用來說明本發明,而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開有關“無版縫膜之履帶式成形方法”的實施方式,本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用,在不悖離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外,本發明的附圖僅為簡單示意說明,並非依實際尺寸的描繪,事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容,但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。
應當可以理解的是,雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號,但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件,或者一信號與另一信號。另外,本文中所使用的術語“或”,應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。
[實施例一]
請參閱圖1至圖9所示,其為本發明的實施例一。如圖1和圖2所示,本實施例公開一種無版縫膜之履帶式成形方法、及一種履帶式無版縫膜成形設備100。為便於理解,以下將先介紹所述履帶式無版縫膜成形設備100,而後再說明所述無版縫膜之履帶式成形方法。
需先說明的是,所述無版縫膜之履帶式成形方法於本實施例中是通過所述履帶式無版縫膜成形設備100來實施,但本發明不以此為限。舉例來說,在本發明未繪示的其他實施例中,所述無版縫膜之履帶式成形方法也可通過其他設備來實施。
於本實施例中,所述履帶式無版縫膜成形設備100包含一供料機構1、對應於所述供料機構1設置的一履帶式轉印機構2、配置於所述履帶式轉印機構2的上游的一塗佈機構3、及對應於所述履帶式轉印機構2設置的一光固化機構4。其中,所述履帶式無版縫膜成形設備100於本實施例中是以上述多個機構的搭配來說明,但本發明不受限於此。舉例來說,在本發明未繪示的其他實施例中,所述履帶式無版縫膜成形設備100也可以依據設計需求增設其他機構。
所述供料機構1能用以提供一基材200沿一預設路徑被輸送,並且所述供料機構1於本實施例中沿所述預設路徑依序包含有一供料輪11、一轉向輪12、一張力調節輪13、一調向輪14、及一收料輪15,但本發明不受限於此。舉例來說,在本發明未繪示的其他實施例中,所述轉向輪12、所述張力調節輪13、及所述調向輪14的至少其中之一也可依據設計需求而加以省略或是以其他構件取代。
更詳細地說,所述供料機構1用以提供所述基材200於所述供料輪11與所述收料輪15之間被輸送。所述轉向輪12配置於所述供料輪11與所述張力調節輪13之間,並且所述轉向輪12能用來改變所述基材200的輸送方向。所述張力調節輪13配置於所述供料輪11與所述履帶式轉印機構2之間(或是,所述張力調節輪13配置於所述轉向輪12與所述調向輪14之間),並且所述張力調節輪13能用來壓迫所述基材200,以使所述基材200具有一預設張力值。所述調向輪14配置於所述張力調節輪13與所述履帶式轉印機構2之間,並且所述調向輪14能用來調整所述基材200的輸送方向。
再者,所述履帶式轉印機構2配置於所述供料輪11(或所述調向輪14)與所述收料輪15之間,並且所述張力調節輪13、所述履帶式轉印機構2、及所述塗佈機構3皆位於所述基材200(或所述預設路徑)的上側,而所述轉向輪12、所述調向輪14、及所述光固化機構4則是位於所述基材200(或所述預設路徑)的下側,但本發明不以此為限。
如圖1至圖3所示,所述履帶式轉印機構2包含有彼此間隔地設置的多個滾輪21、及以內表面221套設(或圍繞)於多個所述滾輪21的一筒狀轉印版22。多個所述滾輪21於本實施例中是用來帶動所述筒狀轉印版22,並且當多個所述滾輪21以同樣的轉動速度與轉動方向同時轉動時,套設(或圍繞)於多個所述滾輪21的所述筒狀轉印版22將能以相同的速度開始轉動。其中,所述履帶式轉印機構2能用來使自所述供料輪11輸出的所述基材200產生轉折、並沿經所述筒狀轉印版22而捲收於所述收料輪15。
每個所述滾輪21具有一緩衝表層211,並且所述緩衝表層211能於受壓迫時產生彈性變形。進一步地說,每個所述滾輪21可以是以單種材質所構成、進而具有所述緩衝表層211;或者,每個所述滾輪21也可以是將所述緩衝表層211形成於不同材質的物件所共同構成。
所述筒狀轉印版22的所述內表面221抵接於每個所述滾輪21的所述緩衝表層211,所述筒狀轉印版22受多個所述滾輪21由內沿直線方向撐開而形成扁平狀(如:圖3和圖4),並且所述筒狀轉印版22的外表面222形成無縫隙的預設圖案。其中,於平行於任一個所述滾輪21的方向上,所述筒狀轉印版22具有不小於1.6公尺(m)的寬度W22,並且每個所述滾輪21突伸出所述筒狀轉印版22的兩個末端,每個所述滾輪21的所述緩衝表層211相對於兩個所述末端突伸出1毫米(mm)~2毫米。
如圖5至圖7所示,所述塗佈機構3配置於所述履帶式轉印機構2的上游,用以對產生轉折之前的所述基材200塗佈有一光固化膠層300。於本實施例中,所述塗佈機構3配置於所述調向輪14與所述履帶式轉印機構2之間,以使所述調向輪14能用以依據所述塗佈機構3而調整所述基材200的輸送方向,進而利於所述塗佈機構3的運作。
進一步地說,所述履帶式轉印機構2能用來壓迫於所述光固化膠層300,以通過多個所述滾輪21的所述緩衝表層211受壓迫產生彈性變形,使所述筒狀轉印版22的所述外表面222能無縫地將所述預設圖案完全轉印至所述光固化膠層300。
以上為所述履帶式無版縫膜成形設備100的構造說明,以下接著介紹通過所述履帶式無版縫膜成形設備100而實施的所述無版縫膜之履帶式成形方法,但本發明不受限於此。於本實施例中,所述無版縫膜之履帶式成形方法,主要包含有一前置步驟S110、一塗佈步驟S120、一母膜轉印步驟S130、及一光固化步驟S140。
所述前置步驟S110:如圖1至圖3所示,提供所述履帶式轉印機構2、及輸送沿經所述履帶式轉印機構2的所述基材200。於本實施例中,所述前置步驟S110可以是提供以上所載的所述履帶式無版縫膜成形設備100及其所輸送的所述基材200。其中,所述基材200的輸送是由所述供料輪11所輸出、並由所述收料輪15所捲收。再者,所述基材200是由具有透明特性的樹脂所製成(如:所述基材200可以主要由聚對苯二甲酸乙二酯製成),所述光固化膠層300進一步限定為一紫外光固化層,但本發明不受限於此。
需補充說明的是,所述筒狀轉印版22較佳是以金屬材質(如:鎳)所製成且呈圓筒狀,並且所述前置步驟S110則是對應包含有一扁平化流程(如:圖3和圖4):以多個所述滾輪21自所述筒狀轉印版22的內部沿直線方向將其撐開而形成扁平狀。
所述塗佈步驟S120:如圖2和圖5所示,於所述履帶式轉印機構2的上游對所述基材200塗佈,以於所述基材200上形成有所述光固化膠層300。其中,所述基材200能以所述張力調節輪13來使其具有一預設張力值,並以所述轉向輪12來改變所述基材200的輸送方向。
進一步地說,當採用所述履帶式無版縫膜成形設備100時,採用所述塗佈機構3對所述基材200塗佈有所述光固化膠層300。其中,所述塗佈機構3可以通過控制流量的方式來精準地成形所述光固化膠層300,以使所述光固化膠層300具有均勻的厚度。
所述母膜轉印步驟S130:如圖2、圖6、及圖7所示,以所述履帶式轉印機構2壓迫於所述光固化膠層300,並通過多個所述滾輪21的所述緩衝表層211受壓迫產生彈性變形,使得所述筒狀轉印版22的所述外表面222能無縫地將所述預設圖案完全轉印至所述光固化膠層300。
據此,所述無版縫膜之履帶式成形方法於本實施例中通過採用所述筒狀轉印版22,以使得其所述外表面222上的所述預設圖案可以是沒有接合縫隙,並且所述無版縫膜之履帶式成形方法還可進一步通過所述緩衝表層211受壓迫所產生彈性變形,以使得所述筒狀轉印版22的所述外表面222能夠完整且無縫地壓抵於所述光固化膠層300,進而有效地避免所述光固化膠層300於轉印時產生缺陷。
進一步地說,於所述母膜轉印步驟S130之中,每個所述滾輪21的所述緩衝表層211具有(或區分為)一傳動區211a、相連於所述傳動區211a的一壓印區211b、及位於所述傳動區211a與所述壓印區211b之間的一復原區211c。於本實施例的每個所述滾輪21的所述緩衝表層211之中,所述復原區211c的面積大於所述傳動區211a的面積,並且所述傳動區211a的所述面積大於所述壓印區211b的面積,但本發明不以此為限。
再者,所述傳動區211a壓抵於所述筒狀轉印版22以形成有一第一壓縮量T1,用以驅使所述筒狀轉印版22移動。當所述筒狀轉印版22將所述預設圖案轉印至所述光固化膠層300時,所述壓印區211b用來承受所述筒狀轉印版22所受到的壓力、而形成有大於所述第一壓縮量T1的一第二壓縮量T2。此外,所述復原區211c未接觸於所述筒狀轉印版22;也就是說,所述復原區211c未被壓縮。
所述光固化步驟S140:如圖2和圖8所示,(採用所述光固化機構4)固化被轉印有所述預設圖案的所述光固化膠層300,進而使所述基材200及轉印有所述預設圖案且已固化的所述光固化膠層300共同構成一無版縫母膜M,其捲收於所述收料輪15。
需額外說明的是,所述無版縫膜之履帶式成形方法在所述光固化步驟S140之後,較佳是進一步包括一子膜轉印步驟S150:如圖9所示,以所述無版縫母膜M來對一光學膜400進行轉印,以使得所述光學膜400形成具有所述預設圖案的一無版縫子膜C。
其中,所述無版縫母膜M能用來轉印形成多個所述無版縫子膜C,並且所述無版縫母膜M所能轉印的多個所述無版縫子膜C的總長度,其為所述無版縫母膜M的長度的至少百倍,據以有效地降低成本。進一步地說,任一個所述無版縫子膜C能被用來轉印出提供給消費者使用的光學膜產品(如:全像膜產品)。
[實施例二]
請參閱圖10所示,其為本發明的實施例二。由於本實施例類似於上述實施例一,所以兩個實施例的相同處不再加以贅述,而本實施例相較於上述實施例一的差異大致說明如下:
於本實施例中,所述履帶式無版縫膜成形設備100進一步包含有多個壓輪5,其分別對應於多個滾輪21設置。其中,每個所述滾輪21與相對應的所述壓輪5能用來共同壓迫所述筒狀轉印版22、所述基材200、及所述光固化膠層300,但本發明不以此為限。
[本發明實施例的技術效果]
綜上所述,本發明實施例所公開的無版縫膜之履帶式成形方法,其通過採用所述筒狀轉印版,以使得其所述外表面上的所述預設圖案可以是沒有接合縫隙,並且所述無版縫膜之履帶式成形方法還可進一步通過所述緩衝表層受壓迫所產生彈性變形,以使得所述筒狀轉印版的所述外表面能夠完整且無縫地壓抵於所述光固化膠層,進而有效地避免所述光固化膠層於轉印時產生缺陷。
以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例,並非因此侷限本發明的專利範圍,所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的專利範圍內。
100:履帶式無版縫膜成形設備 1:供料機構 11:供料輪 12:轉向輪 13:張力調節輪 14:調向輪 15:收料輪 2:履帶式轉印機構 21:滾輪 211:緩衝表層 211a:傳動區 211b:壓印區 211c:復原區 22:筒狀轉印版 221:內表面 222:外表面 3:塗佈機構 4:光固化機構 5:壓輪 200:基材 300:光固化膠層 400:光學膜 M:無版縫母膜 C:無版縫子膜 W22:寬度 T1:第一壓縮量 T2:第二壓縮量 S110:前置步驟 S120:塗佈步驟 S130:母膜轉印步驟 S140:光固化步驟 S150:子膜轉印步驟
圖1為本發明實施例一的履帶式無版縫膜成形設備(或無版縫膜之履帶式成形方法的前置步驟)的立體示意圖。
圖2為圖1的側視示意圖。
圖3為圖2的區域III的放大示意圖。
圖4為圖3中的履帶式轉印機構的安裝示意圖。
圖5為本發明實施例一的無版縫膜之履帶式成形方法的塗佈步驟的側視示意圖。
圖6為本發明實施例一的無版縫膜之履帶式成形方法的母膜轉印步驟的側視示意圖。
圖7為圖6的區域VII的放大示意圖。
圖8為本發明實施例一的無版縫膜之履帶式成形方法的光固化步驟的側視示意圖。
圖9為本發明實施例一的無版縫膜之履帶式成形方法的子膜轉印步驟的側視示意圖。
圖10為本發明實施例二的履帶式無版縫膜成形設備的立體示意圖。
100:履帶式無版縫膜成形設備
1:供料機構
11:供料輪
12:轉向輪
13:張力調節輪
14:調向輪
15:收料輪
2:履帶式轉印機構
21:滾輪
211:緩衝表層
22:筒狀轉印版
221:內表面
222:外表面
3:塗佈機構
4:光固化機構
200:基材
S110:前置步驟

Claims (7)

  1. 一種無版縫膜之履帶式成形方法,其包括:一前置步驟:提供一履帶式轉印機構、及輸送沿經所述履帶式轉印機構的一基材;其中,所述履帶式轉印機構包含有:多個滾輪,彼此間隔地設置,並且每個所述滾輪具有一緩衝表層;及一筒狀轉印版,其內表面套設於多個所述滾輪且抵接於每個所述滾輪的所述緩衝表層,並且所述筒狀轉印版的外表面形成無縫隙的預設圖案;一塗佈步驟:於所述履帶式轉印機構的上游對所述基材塗佈,以於所述基材上形成有一光固化膠層;一母膜轉印步驟:以所述履帶式轉印機構壓迫於所述光固化膠層,並通過多個所述滾輪的所述緩衝表層受壓迫產生彈性變形,使得所述筒狀轉印版的所述外表面能無縫地將所述預設圖案完全轉印至所述光固化膠層;以及一光固化步驟:固化被轉印有所述預設圖案的所述光固化膠層,進而使所述基材及轉印有所述預設圖案且已固化的所述光固化膠層共同構成一無版縫母膜;其中,於所述母膜轉印步驟之中,每個所述滾輪的所述緩衝表層具有:一傳動區,壓抵於所述筒狀轉印版以形成有一第一壓縮量,用以驅使所述筒狀轉印版移動;一壓印區,相連於所述傳動區;其中,當所述筒狀轉印版將所述預設圖案轉印至所述光固化膠層時,所述壓印區用來承受所述筒狀轉印版所受到的壓力、而形成有大於所述第一壓縮量的一第二壓縮量;及一復原區,位於所述傳動區與所述壓印區之間,並且所述復 原區未接觸於所述筒狀轉印版。
  2. 如請求項1所述的無版縫膜之履帶式成形方法,其中,所述筒狀轉印版限定為以金屬材質所製成且呈圓筒狀,並且所述前置步驟包含有:一扁平化流程:以多個所述滾輪自所述筒狀轉印版的內部沿直線方向將其撐開而形成扁平狀。
  3. 如請求項1所述的無版縫膜之履帶式成形方法,其中,於平行於任一個所述滾輪的方向上,所述筒狀轉印版具有不小於1.6公尺(m)的寬度;其中,每個所述滾輪突伸出所述筒狀轉印版的兩個末端,並且每個所述滾輪的所述緩衝表層相對於兩個所述末端突伸出1毫米(mm)~2毫米。
  4. 如請求項1所述的無版縫膜之履帶式成形方法,其中,所述基材是由具有透明特性的樹脂所製成,所述光固化膠層進一步限定為一紫外光固化層。
  5. 如請求項1所述的無版縫膜之履帶式成形方法,其中,於所述前置步驟中,所述基材的輸送是由一供料輪所輸出、並由一收料輪所捲收,而所述履帶式轉印機構配置於所述供料輪與所述收料輪之間。
  6. 如請求項5所述的無版縫膜之履帶式成形方法,其中,於所述塗佈步驟之中,所述基材能以配置於所述供料輪與所述履帶式轉印機構之間的一張力調節輪來使其具有一預設張力值,並且所述基材能以配置於所述供料輪與所述張力調節輪之間 的一轉向輪來改變所述基材的輸送方向。
  7. 如請求項1所述的無版縫膜之履帶式成形方法,其中,於所述母膜轉印步驟的每個所述滾輪的所述緩衝表層之中,所述復原區的面積大於所述傳動區的面積,並且所述傳動區的所述面積大於所述壓印區的面積。
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