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TWI719431B - 轉接裝置 - Google Patents

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TWI719431B
TWI719431B TW108109715A TW108109715A TWI719431B TW I719431 B TWI719431 B TW I719431B TW 108109715 A TW108109715 A TW 108109715A TW 108109715 A TW108109715 A TW 108109715A TW I719431 B TWI719431 B TW I719431B
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TW
Taiwan
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metal layer
dielectric layer
metal
layer
slot area
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Application number
TW108109715A
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English (en)
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TW202036977A (zh
Inventor
蕭安廷
郭瞬仲
詹長庚
Original Assignee
啓碁科技股份有限公司
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Publication date
Application filed by 啓碁科技股份有限公司 filed Critical 啓碁科技股份有限公司
Priority to TW108109715A priority Critical patent/TWI719431B/zh
Priority to US16/682,025 priority patent/US11101536B2/en
Publication of TW202036977A publication Critical patent/TW202036977A/zh
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    • H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P5/00—Coupling devices of the waveguide type
    • H01P5/08—Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices
    • H01P5/10—Coupling devices of the waveguide type for linking dissimilar lines or devices for coupling balanced lines or devices with unbalanced lines or devices
    • H01P5/107—Hollow-waveguide/strip-line transitions
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P3/00—Waveguides; Transmission lines of the waveguide type
    • H01P3/003—Coplanar lines
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P3/00—Waveguides; Transmission lines of the waveguide type
    • H01P3/16—Dielectric waveguides, i.e. without a longitudinal conductor
    • H—ELECTRICITY
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    • H01P5/1022—Transitions to dielectric waveguide

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Abstract

一種轉接裝置，包括：一第一金屬層、一信號金屬線、一激發金屬片、一第一介質層、複數個導電貫通元件、一反射器，以及一波導管。第一金屬層具有一缺口，其中缺口向第一金屬層之內部延伸以形成一第一槽孔區域。信號金屬線係設置於缺口內。激發金屬片係設置於第一槽孔區域內，並耦接至信號金屬線。第一介質層具有一對第一開孔。第一介質層包括設置於前述第一開孔之間之一橋接部份，其中橋接部份係用於承載激發金屬片。前述導電貫通元件係穿透第一介質層並耦接至第一金屬層。前述等導電貫通元件係至少部份包圍第一槽孔區域。

Description

轉接裝置
本發明係關於一種轉接裝置(Transition Device)，特別係關於一種寬頻(Wideband)轉接裝置。
目前車用雷達(Vehicle Radar)主要以採取頻率調變連續波(Frequency-Modulated Continuous-Wave，FMCW)之技術，其精準度係與信號頻寬(Bandwidth)成正比。然而，傳統應用多層印刷電路板(Printed Circuit Board，PCB)之轉接裝置往往又有操作頻寬不足和介入損失(Insertion Loss)過大之問題，導致整體系統之性能降低。有鑑於此，必須提出一種全新設計，以克服先前技術所面臨之困境。
在較佳實施例中，本發明提供一種轉接裝置，包括：一第一金屬層，具有一缺口，其中該缺口向該第一金屬層之內部延伸以形成一第一槽孔區域；一信號金屬線，設置於該缺口內，並具有一饋入點；一激發金屬片，設置於該第一槽孔區域內，並耦接至該信號金屬線；一第一介質層，具有一對第一開孔，其中該第一介質層包括設置於該等第一開孔之間之一橋接部份，而該橋接部份係用於承載該激發金屬片；複數個導電貫通元件，穿透該第一介質層，並耦接至該第一金屬層，其中該等導電貫通元件係至少部份包圍該第一槽孔區域；一反射器，鄰近於該激發金屬片，其中該第一金屬層係位於該反射器和該第一介質層之間；以及一波導管，用於接收來自該激發金屬片和該反射器之輻射能量。
在一些實施例中，該第一金屬層包括鄰近於該缺口之一第一接地部份和一第二接地部份，而該信號金屬線、該第一接地部份，以及該第二接地部份形成一共平面波導。
在一些實施例中，該信號金屬線為一不等寬結構，以形成一阻抗調整器。
在一些實施例中，該第一介質層之該等第一開孔於該第一金屬層上具有一垂直投影，而該垂直投影係與該第一金屬層之該第一槽孔區域至少部份重疊。
在一些實施例中，第一介質層之該等第一開孔之相對二側之間距係大致等於該第一金屬層之該第一槽孔區域之相對二側之間距之0.8倍至1.2倍。
在一些實施例中，該轉接裝置之一操作頻帶係介於69.8GHz至83.7GHz之間。
在一些實施例中，該反射器具有互相連通之一中空部份和一側壁開孔，該中空部份係大致對齊於該第一金屬層之該第一槽孔區域，而該側壁開孔係大致對齊於該第一金屬層之該缺口。
在一些實施例中，該反射器之該中空部份之高度係介於該操作頻帶之0.35倍至0.55倍波長之間。
在一些實施例中，該反射器之該側壁開孔之寬度係小於該操作頻帶之0.17倍波長。
在一些實施例中，該反射器之該側壁開孔之高度係介於該操作頻帶之0.1倍至0.18倍波長之間。
在一些實施例中，該等第一開孔之每一者之長度係介於該第一槽孔區域之長度之0.8倍至1倍之間。
在一些實施例中，該等第一開孔之每一者之寬度係介於該第一槽孔區域之寬度之0.23倍至0.43倍之間。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一第二金屬層，具有一第二槽孔區域；以及一第二介質層，具有一對第二開孔，其中該第二金屬層係位於該第一介質層和該第二介質層之間；其中該等導電貫通元件更穿透該第二介質層並更耦接至該第二金屬層。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一第三金屬層，具有一第三槽孔區域；以及一第三介質層，具有一對第三開孔，其中該第三金屬層係位於該第二介質層和該第三介質層之間；其中該等導電貫通元件更穿透該第三介質層並更耦接至該第三金屬層。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一第四金屬層，具有一第四槽孔區域；以及一第四介質層，具有一對第四開孔，其中該第四金屬層係位於該第三介質層和該第四介質層之間；其中該等導電貫通元件更穿透該第四介質層並更耦接至該第四金屬層。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一第五金屬層，具有一第五槽孔區域；以及一第五介質層，具有一對第五開孔，其中該第五金屬層係位於該第四介質層和該第五介質層之間；其中該等導電貫通元件更穿透該第五介質層並更耦接至該第五金屬層。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一第六金屬層，具有一第六槽孔區域；以及一第六介質層，具有一對第六開孔，其中該第六金屬層係位於該第五介質層和該第六介質層之間；其中該等導電貫通元件更穿透該第六介質層並更耦接至該第六金屬層。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一第七金屬層，具有一第七槽孔區域；以及一第七介質層，具有一對第七開孔，其中該第七金屬層係位於該第六介質層和該第七介質層之間；其中該等導電貫通元件更穿透該第七介質層並更耦接至該第七金屬層。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一第八金屬層，具有一第八槽孔區域，其中該等導電貫通元件更耦接至該第八金屬層。
在一些實施例中，該轉接裝置更包括：一輔助導電貫通元件，穿透該第三介質層、該第四介質層、該第五介質層、該第六介質層，以及該第七介質層，其中該輔助導電貫通元件係用於將該第三金屬層、該第四金屬層、該第五金屬層、該第六金屬層、該第七金屬層，以及該第八金屬層彼此串聯耦接。
為讓本發明之目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉出本發明之具體實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。
在說明書及申請專利範圍當中使用了某些詞彙來指稱特定的元件。本領域技術人員應可理解，硬體製造商可能會用不同的名詞來稱呼同一個元件。本說明書及申請專利範圍並不以名稱的差異來作為區分元件的方式，而是以元件在功能上的差異來作為區分的準則。在通篇說明書及申請專利範圍當中所提及的「包含」及「包括」一詞為開放式的用語，故應解釋成「包含但不僅限定於」。「大致」一詞則是指在可接受的誤差範圍內，本領域技術人員能夠在一定誤差範圍內解決所述技術問題，達到所述基本之技術效果。此外，「耦接」一詞在本說明書中包含任何直接及間接的電性連接手段。因此，若文中描述一第一裝置耦接至一第二裝置，則代表該第一裝置可直接電性連接至該第二裝置，或經由其它裝置或連接手段而間接地電性連接至該第二裝置。
第1圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置(Transition Device)100之分解圖。如第1圖所示，轉接裝置100至少包括：一第一金屬層(Metal Layer)110、一第一介質層(Dielectric Layer)210、一反射器(Reflector)310、一信號金屬線(Signaling Metal Line)410、一激發金屬片(Excitation Metal Piece)420、複數個導電貫通元件(Conductive Via Element)440，以及一波導管(Waveguide)470，其詳細結構可如下列實施例所述。
第2圖係顯示根據本發明一實施例所述之第一金屬層110之俯視圖。第一金屬層110係位於反射器310和第一介質層210之間。如第2圖所示，第一金屬層110之一邊緣111處具有一缺口(Notch)112，其中缺口112向第一金屬層110之內部延伸以形成一第一槽孔區域(Slot Region)115。例如，缺口112可以大致呈現一不等寬直條形，而第一槽孔區域115可以大致呈現一矩形。信號金屬線410係設置於第一金屬層110之缺口112內。信號金屬線410具有一第一端411和一第二端412，其中一饋入點(Feeding Point)FP係位於信號金屬線410之第一端411處。饋入點FP更可耦接至一信號源(Signal Source)(未顯示)。激發金屬片420係設置於第一金屬層110之第一槽孔區域115內，其中激發金屬片420之一中心點CP係耦接至信號金屬線410之第二端412。例如，激發金屬片420可以大致呈現一矩形或一正方形。激發金屬片420主要用於將饋入點FP所接收之能量轉換成電磁波(Electromagnetic Wave)。在一些實施例中，信號金屬線410為一不等寬結構，以形成一阻抗調整器(Impedance Tuner)430並微調轉接裝置100之一輸入阻抗值。例如，信號金屬線410之第一端411之寬度可以大於信號金屬線410之第二端412之寬度。詳細而言，第一金屬層110包括鄰近於缺口112之一第一接地部份(Grounding Portion)113和一第二接地部份114，其中信號金屬線410、第一接地部份113，以及第二接地部份114三者可形成一共平面波導(Coplanar Waveguide，CPW)460，而激發金屬片420可與此共平面波導460位於同一平面上。必須注意的是，本說明書中所謂「鄰近」或「相鄰」一詞可指對應之二元件間距小於一既定距離(例如：5mm或更短)，亦可包括對應之二元件彼此直接接觸之情況(亦即，前述間距縮短至0)。缺口112、第一槽孔區域115、信號金屬線410，以及激發金屬片420之前述形狀亦可根據不同需求進行調整，其可改為任意之幾何形狀。在另一些實施例中，阻抗調整器430亦可省略，此時信號金屬線410可改為一等寬結構，而第一金屬層110之缺口112亦可改為一等寬直條形。
第3圖係顯示根據本發明一實施例所述之第一介質層210之俯視圖。請一併參考第2、3圖。如第3圖所示，第一介質層210具有一對(A Pair Of)第一開孔(Opening)214、215，其係彼此完全分離。例如，該等第一開孔214、215之每一者可以大致呈現一矩形或一正方形。第一介質層210包括設置於該等第一開孔214、215之間之一橋接部份(Bridging Portion)217，其中此橋接部份217係用於承載激發金屬片420，以加強轉接裝置100之結構穩固度。詳細而言，該等第一開孔214、215於第一金屬層110上具有一垂直投影(Vertical Projection)，其中此垂直投影係與第一金屬層110之第一槽孔區域115至少部份重疊。例如，該等第一開孔214、215之垂直投影可完全位於第一槽孔區域115之內部，但亦不僅限於此。該等導電貫通元件440係穿透過第一介質層210並耦接至第一金屬層110，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第一金屬層110之第一槽孔區域115，從而可防止激發金屬片420之電磁波發生外溢散失。在另一些實施例中，該等第一開孔214、215之前述形狀亦可根據不同需求進行調整，其可改為任意之幾何形狀。
第4圖係顯示根據本發明一實施例所述之反射器310之立體圖。如第4圖所示，反射器310係大致呈現一蓋狀結構(Cover Structure)。反射器310係鄰近於激發金屬片420，以反射激發金屬片420之電磁波。詳細而言，反射器310具有互相連通之一中空部份(Hollow Portion)315和一側壁開孔(Sidewall Opening)312，其中反射器310之中空部份315可以大致對齊於第一金屬層110之第一槽孔區域115，而反射器310之側壁開孔312可以大致對齊於第一金屬層110之缺口112。然而，本發明並不僅限於此。在另一些實施例中，反射器310亦可改為具有不同形狀一金屬平面，例如：一多層印刷電路板(Printed Circuit Board，PCB)之另一金屬層。
在一些實施例中，轉接裝置100之操作原理可如下列所述。激發金屬片420可將進入饋入點FP和信號金屬線410之能量轉換為電磁波(亦即，輻射能量)，反射器310可用於調整及集中前述電磁波之傳遞方向，而波導管470則用於接收來自激發金屬片420和反射器310之輻射能量。亦即，信號金屬線410可視為轉接裝置100之一輸入埠(Input Port)，而波導管470則可視為轉接裝置100之一輸出埠(Output Port)。根據實際量測結果，在第一介質層210上加入該等第一開孔214、215後，轉接裝置100之操作頻寬(Operation Bandwidth)可進一步加大。另外，該等第一開孔214、215之加入更可避免第一介質層210吸收部份電磁波，故此種設計亦能降低轉接裝置100之整體傳輸損耗(Transmission Loss)。
在一些實施例中，轉接裝置100涵蓋一操作頻帶(Operation Frequency Band)，其可介於69.8GHz至83.7GHz之間，故轉接裝置100可支援車用雷達之寬頻信號轉接操作。必須注意的是，轉接裝置100之操作頻帶之範圍亦可根據不同需求進行調整，而不僅限於此。
在一些實施例中，轉接裝置100之元件尺寸可如下列所述。阻抗調整器430之長度L1可介於轉接裝置100之操作頻帶之0.45倍至0.56倍波長之間(0.45λ～0.56λ)。激發金屬片420之長度L2可介於轉接裝置100之操作頻帶之0.25倍至0.33倍波長之間(0.25λ～0.33λ)。激發金屬片420之寬度W2可介於轉接裝置100之操作頻帶之0.31倍至0.39倍波長之間(0.31λ～0.39λ)。第一開孔214之長度L4可介於第一槽孔區域115之長度L3之0.8倍至1倍之間(0.8*L3～1*L3)。第一開孔214之寬度W4可介於第一槽孔區域115之寬度W3之0.23倍至0.43倍之間(0.23*W3～0.43*W3)。第一開孔215之長度L5可介於第一槽孔區域115之長度L3之0.8倍至1倍之間(0.8*L3～1*L3)。第一開孔215之寬度W5可介於第一槽孔區域115之寬度W3之0.23倍至0.43倍之間(0.23*W3～0.43*W3)。激發金屬片420之中心點CP至第一槽孔區域115之一邊緣116之間距D1可介於第一槽孔區域115之長度L3之0.25倍至0.45倍之間(0.25*L3～0.45*L3)。第一介質層210之該等第一開孔214、215之相對二側218、219之間距D2可大致等於第一金屬層110之第一槽孔區域115之相對二側118、119之間距之0.8倍至1.2倍(例如，第一槽孔區域115之相對二側118、119之間距可等同於第一槽孔區域115之寬度W3)(0.8*W3～1.2*W3)。反射器310之中空部份315之高度HC1可介於轉接裝置100之操作頻帶之0.35倍至0.55倍波長之間(0.35λ～0.55λ)。反射器310之側壁開孔312之寬度WC2可小於轉接裝置100之操作頻帶之0.17倍波長(＜0.17λ)。反射器310之側壁開孔312之高度HC2可介於轉接裝置100之操作頻帶之0.1倍至0.18倍波長之間(0.1λ～0.18λ)。以上元件尺寸之範圍係根據多次實驗結果而得出，其有助於最佳化轉接裝置100之操作頻寬和阻抗匹配(Impedance Matching)。
第5圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置500之分解圖。第6圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置500之組合圖。第5、6圖和第1圖相似。在第5、6圖之實施例中，轉接裝置500更包括下列元件之一或複數者：一第二金屬層120、一第二介質層220、一第三金屬層130、一第三介質層230、一第四金屬層140、一第四介質層240、一第五金屬層150、一第五介質層250、一第六金屬層160、一第六介質層260、一第七金屬層170、一第七介質層270，以及一第八金屬層180，其詳細結構可如下列實施例所述。
第7圖係顯示根據本發明一實施例所述之第二金屬層120和第二介質層220之俯視圖。第二金屬層120係位於第一介質層210和第二介質層220之間。第二金屬層120係與第一金屬層110相似，兩者之差異在於，第二金屬層120僅具有一第二槽孔區域125；然而，第二金屬層120不具有任何缺口，也不包括其內之信號金屬線410和激發金屬片420。例如，第二金屬層120之第二槽孔區域125可以大致呈現一封閉矩形。第二金屬層120之第二槽孔區域125係大致對齊於第一金屬層110之第一槽孔區域115，使得激發金屬片420之電磁波可經由其間進行傳送。第二介質層220係與第一介質層210相似或完全相同。第二介質層220具有一對第二開孔224、225。例如，該等第二開孔224、225之每一者可以大致呈現一矩形或一正方形。第二介質層220之該等第二開孔224、225係分別大致對齊於第一介質層210之該等第一開孔214、215，以降低激發金屬片420之電磁波之傳輸損耗。另外，該等導電貫通元件440更穿透第二介質層220並更耦接至第二金屬層120，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第二金屬層120之第二槽孔區域125，從而可防止激發金屬片420之電磁波發生外溢散失。
第8圖係顯示根據本發明一實施例所述之第三金屬層130和第三介質層230之俯視圖。第三金屬層130係位於第二介質層220和第三介質層230之間。第三金屬層130係與第二金屬層120相似或完全相同。第三金屬層130僅具有一第三槽孔區域135，其中第三金屬層130之第三槽孔區域135係大致對齊於第二金屬層120之第二槽孔區域125。第三介質層230係與第二介質層220相似或完全相同。第三介質層230具有一對第三開孔234、235，其中第三介質層230之該等第三開孔234、235係分別大致對齊於第二介質層220之該等第二開孔224、225。另外，該等導電貫通元件440更穿透第三介質層230並更耦接至第三金屬層130，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第三金屬層130之第三槽孔區域135。
第9圖係顯示根據本發明一實施例所述之第四金屬層140和第四介質層240之俯視圖。第四金屬層140係位於第三介質層230和第四介質層240之間。第四金屬層140係與第三金屬層130相似或完全相同。第四金屬層140僅具有一第四槽孔區域145，其中第四金屬層140之第四槽孔區域145係大致對齊於第三金屬層130之第三槽孔區域135。第四介質層240係與第三介質層230相似或完全相同。第四介質層240具有一對第四開孔244、245，其中第四介質層240之該等第四開孔244、245係分別大致對齊於第三介質層230之該等第三開孔234、235。另外，該等導電貫通元件440更穿透第四介質層240並更耦接至第四金屬層140，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第四金屬層140之第四槽孔區域145。
第10圖係顯示根據本發明一實施例所述之第五金屬層150和第五介質層250之俯視圖。第五金屬層150係位於第四介質層240和第五介質層250之間。第五金屬層150係與第四金屬層140相似或完全相同。第五金屬層150僅具有一第五槽孔區域155，其中第五金屬層150之第五槽孔區域155係大致對齊於第四金屬層140之第四槽孔區域145。第五介質層250係與第四介質層240相似或完全相同。第五介質層250具有一對第五開孔254、255，其中第五介質層250之該等第五開孔254、255係分別大致對齊於第四介質層240之該等第四開孔244、245。另外，該等導電貫通元件440更穿透第五介質層250並更耦接至第五金屬層150，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第五金屬層150之第五槽孔區域155。
第11圖係顯示根據本發明一實施例所述之第六金屬層160和第六介質層260之俯視圖。第六金屬層160係位於第五介質層250和第六介質層260之間。第六金屬層160係與第五金屬層150相似或完全相同。第六金屬層160僅具有一第六槽孔區域165，其中第六金屬層160之第六槽孔區域165係大致對齊於第五金屬層150之第五槽孔區域155。第六介質層260係與第五介質層250相似或完全相同。第六介質層260具有一對第六開孔264、265，其中第六介質層260之該等第六開孔264、265係分別大致對齊於第五介質層250之該等第五開孔254、255。另外，該等導電貫通元件440更穿透第六介質層260並更耦接至第六金屬層160，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第六金屬層160之第六槽孔區域165。
第12圖係顯示根據本發明一實施例所述之第七金屬層170和第七介質層270之俯視圖。第七金屬層170係位於第六介質層260和第七介質層270之間。第七金屬層170係與第六金屬層160相似或完全相同。第七金屬層170僅具有一第七槽孔區域175，其中第七金屬層170之第七槽孔區域175係大致對齊於第六金屬層160之第六槽孔區域165。第七介質層270係與第六介質層260相似或完全相同。第七介質層270具有一對第七開孔274、275，其中第七介質層270之該等第七開孔274、275係分別大致對齊於第六介質層260之該等第六開孔264、265。另外，該等導電貫通元件440更穿透第七介質層270並更耦接至第七金屬層170，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第七金屬層170之第七槽孔區域175。
第13圖係顯示根據本發明一實施例所述之第八金屬層180之俯視圖。第七介質層270係位於第七金屬層170和第八金屬層180之間。第八金屬層180係與第七金屬層170相似或完全相同。第八金屬層180僅具有一第八槽孔區域185，其中第八金屬層180之第八槽孔區域185係大致對齊於第七金屬層170之第七槽孔區域175。另外，該等導電貫通元件440更耦接至第八金屬層180，其中該等導電貫通元件440係至少部份包圍第八金屬層180之第八槽孔區域185。
在一些實施例中，轉接裝置500更包括一輔助導電貫通元件880，其同時穿透第三介質層230、第四介質層240、第五介質層250、第六介質層260，以及第七介質層270。輔助導電貫通元件880係用於將第三金屬層130、第四金屬層140、第五金屬層150、第六金屬層160、第七金屬層170，以及第八金屬層180彼此串聯耦接。為了降低製程複雜度，輔助導電貫通元件880既不耦接至第一金屬層110亦不耦接至第二金屬層120。輔助導電貫通元件880於第一金屬層110上具有一垂直投影，其中此垂直投影係完全位於信號金屬線410之內部。根據實際量測結果，輔助導電貫通元件880之加入可改善轉接裝置500之接地穩定度並進一步降低轉接裝置500之傳輸損耗。
第14圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置500之S參數(S-Parameter)圖，其中信號金屬線410可作為轉接裝置500之一第一埠(Port 1)，而波導管470可作為轉接裝置500之一第二埠(Port 2)。根據第14圖之量測結果，包括多層電路板之轉接裝置500仍可涵蓋介於69.8GHz至83.7GHz之間之一操作頻帶FB1。在前述操作頻帶FB1中，轉接裝置500之返回損失(Return Loss)(亦即，S11參數之絕對值)皆可大於10dB，而轉接裝置500之介入損失(Insertion Loss)(亦即，S21參數之絕對值)皆可小於1dB，此已可滿足一般信號轉接之實際應用需求。
必須注意的是，包括多層電路板之轉接裝置500可提供額外之電路佈線設計區域，其可用於容納一控制電路(Control Circuit)及相關金屬走線(Metal Trace)。因此，轉接裝置500除了能量傳輸以外，還可同時提供信號控制之功能，故有助於整體裝置尺寸之最小化。
在一些實施例中，轉接裝置500之元件尺寸和元件參數可如下列所述。第一金屬層110、第一介質層210、第二金屬層120、第二介質層220、第三金屬層130、第三介質層230、第四金屬層140、第四介質層240、第五金屬層150、第五介質層250、第六金屬層160、第六介質層260、第七金屬層170、第七介質層270，以及第八金屬層180之總高度HT可介於轉接裝置500之操作頻帶FB1之0.4倍至0.6倍波長之間(0.4λ～0.6λ)。必須注意的是，前述總高度HT不能介於轉接裝置500之操作頻帶FB1之0.2倍至0.3倍波長之間(0.2λ～0.3λ)，否則，轉接裝置500會由帶通特性(Band Pass)轉變成帶拒特性(Band Rejection)。另外，前述每一介質層皆可具有相同或相似之介電常數(Dielectric Constant)。例如，任意二個介質層之介電常數比值可介於0.8至1.2之間。以上元件尺寸和元件參數之範圍係根據多次實驗結果而得出，其有助於最佳化轉接裝置500之操作頻寬和阻抗匹配。
本發明提出一種新穎之轉接裝置，與傳統設計相比，本發明至少具有小尺寸(Small Size)、寬頻帶(Wide Bandwidth)、低損耗(Low Loss)，以及高結構穩固度(High Structural Stability)等優勢，故其很適合應用於各種各式之通訊裝置當中。
值得注意的是，以上所述之元件尺寸、元件形狀，以及頻率範圍皆非為本發明之限制條件。設計者可以根據不同需要調整這些設定值。本發明之轉接裝置並不僅限於第1-14圖所圖示之狀態。本發明可以僅包括第1-14圖之任何一或複數個實施例之任何一或複數項特徵。換言之，並非所有圖示之特徵均須同時實施於本發明之轉接裝置當中。
在本說明書以及申請專利範圍中的序數，例如「第一」、「第二」、「第三」等等，彼此之間並沒有順序上的先後關係，其僅用於標示區分兩個具有相同名字之不同元件。
本發明雖以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明的範圍，任何熟習此項技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可做些許的更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100:轉接裝置 110:第一金屬層 111:第一金屬層之邊緣 112:第一金屬層之缺口 113:第一金屬層之第一接地部份 114:第一金屬層之第二接地部份 115:第一槽孔區域 116:第一槽孔區域之邊緣 118、119:第一槽孔區域之相對二側 120:第二金屬層 125:第二槽孔區域 130:第三金屬層 135:第三槽孔區域 140:第四金屬層 145:第四槽孔區域 150:第五金屬層 155:第五槽孔區域 160:第六金屬層 165:第六槽孔區域 170:第七金屬層 175:第七槽孔區域 180:第八金屬層 185:第八槽孔區域 210:第一介質層 214、215:第一開孔 217:第一介質層之橋接部份 218、219:第一開孔之相對二側 220:第二介質層 224、225:第二開孔 230:第三介質層 234、235:第三開孔 240:第四介質層 244、245:第四開孔 250:第五介質層 254、255:第五開孔 260:第六介質層 264、265:第六開孔 270:第七介質層 274、275:第七開孔 310:反射器 312:反射器之側壁開孔 315:反射器之中空部份 410:信號金屬線 411:信號金屬線之第一端 412:信號金屬線之第二端 420:激發金屬片 430:阻抗調整器 440:導電貫通元件 460:共平面波導 470:波導管 880:輔助導電貫通元件 CP:中心點 D1、D2:間距 FB1:操作頻帶 FP:饋入點 HC1、HC2:高度 HT:總高度 L1、L2、L3、L4、L5:長度 S11:S11參數 S21:S21參數 W2、W3、W4、W5、WC2:寬度
第1圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置之分解圖。 第2圖係顯示根據本發明一實施例所述之第一金屬層之俯視圖。 第3圖係顯示根據本發明一實施例所述之第一介質層之俯視圖。 第4圖係顯示根據本發明一實施例所述之反射器之立體圖。 第5圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置之分解圖。 第6圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置之組合圖。 第7圖係顯示根據本發明一實施例所述之第二金屬層和第二介質層之俯視圖。 第8圖係顯示根據本發明一實施例所述之第三金屬層和第三介質層之俯視圖。 第9圖係顯示根據本發明一實施例所述之第四金屬層和第四介質層之俯視圖。 第10圖係顯示根據本發明一實施例所述之第五金屬層和第五介質層之俯視圖。 第11圖係顯示根據本發明一實施例所述之第六金屬層和第六介質層之俯視圖。 第12圖係顯示根據本發明一實施例所述之第七金屬層和第七介質層之俯視圖。 第13圖係顯示根據本發明一實施例所述之第八金屬層之俯視圖。 第14圖係顯示根據本發明一實施例所述之轉接裝置之S參數圖。
100:轉接裝置
110:第一金屬層
210:第一介質層
310:反射器
410:信號金屬線
420:激發金屬片
440:導電貫通元件
470:波導管

Claims (20)

  1. 一種轉接裝置，包括： 一第一金屬層，具有一缺口，其中該缺口向該第一金屬層之內部延伸以形成一第一槽孔區域； 一信號金屬線，設置於該缺口內，並具有一饋入點； 一激發金屬片，設置於該第一槽孔區域內，並耦接至該信號金屬線； 一第一介質層，具有一對第一開孔，其中該第一介質層包括設置於該等第一開孔之間之一橋接部份，而該橋接部份係用於承載該激發金屬片； 複數個導電貫通元件，穿透該第一介質層，並耦接至該第一金屬層，其中該等導電貫通元件係至少部份包圍該第一槽孔區域； 一反射器，鄰近於該激發金屬片，其中該第一金屬層係位於該反射器和該第一介質層之間；以及 一波導管，用於接收來自該激發金屬片和該反射器之輻射能量。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，其中該第一金屬層包括鄰近於該缺口之一第一接地部份和一第二接地部份，而該信號金屬線、該第一接地部份，以及該第二接地部份形成一共平面波導。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，其中該信號金屬線為一不等寬結構，以形成一阻抗調整器。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，其中該第一介質層之該等第一開孔於該第一金屬層上具有一垂直投影，而該垂直投影係與該第一金屬層之該第一槽孔區域至少部份重疊。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，其中該第一介質層之該等第一開孔之相對二側之間距係大致等於該第一金屬層之該第一槽孔區域之相對二側之間距之0.8倍至1.2倍。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，其中該轉接裝置之一操作頻帶係介於69.8GHz至83.7GHz之間。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之轉接裝置，其中該反射器具有互相連通之一中空部份和一側壁開孔，該中空部份係大致對齊於該第一金屬層之該第一槽孔區域，而該側壁開孔係大致對齊於該第一金屬層之該缺口。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之轉接裝置，其中該反射器之該中空部份之高度係介於該操作頻帶之0.35倍至0.55倍波長之間。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之轉接裝置，其中該反射器之該側壁開孔之寬度係小於該操作頻帶之0.17倍波長。
  10. 如申請專利範圍第7項所述之轉接裝置，其中該反射器之該側壁開孔之高度係介於該操作頻帶之0.1倍至0.18倍波長之間。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，其中該等第一開孔之每一者之長度係介於該第一槽孔區域之長度之0.8倍至1倍之間。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，其中該等第一開孔之每一者之寬度係介於該第一槽孔區域之寬度之0.23倍至0.43倍之間。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之轉接裝置，更包括： 一第二金屬層，具有一第二槽孔區域；以及 一第二介質層，具有一對第二開孔，其中該第二金屬層係位於該第一介質層和該第二介質層之間； 其中該等導電貫通元件更穿透該第二介質層並更耦接至該第二金屬層。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之轉接裝置，更包括： 一第三金屬層，具有一第三槽孔區域；以及 一第三介質層，具有一對第三開孔，其中該第三金屬層係位於該第二介質層和該第三介質層之間； 其中該等導電貫通元件更穿透該第三介質層並更耦接至該第三金屬層。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之轉接裝置，更包括： 一第四金屬層，具有一第四槽孔區域；以及 一第四介質層，具有一對第四開孔，其中該第四金屬層係位於該第三介質層和該第四介質層之間； 其中該等導電貫通元件更穿透該第四介質層並更耦接至該第四金屬層。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之轉接裝置，更包括： 一第五金屬層，具有一第五槽孔區域；以及 一第五介質層，具有一對第五開孔，其中該第五金屬層係位於該第四介質層和該第五介質層之間； 其中該等導電貫通元件更穿透該第五介質層並更耦接至該第五金屬層。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之轉接裝置，更包括： 一第六金屬層，具有一第六槽孔區域；以及 一第六介質層，具有一對第六開孔，其中該第六金屬層係位於該第五介質層和該第六介質層之間； 其中該等導電貫通元件更穿透該第六介質層並更耦接至該第六金屬層。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之轉接裝置，更包括： 一第七金屬層，具有一第七槽孔區域；以及 一第七介質層，具有一對第七開孔，其中該第七金屬層係位於該第六介質層和該第七介質層之間； 其中該等導電貫通元件更穿透該第七介質層並更耦接至該第七金屬層。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之轉接裝置，更包括： 一第八金屬層，具有一第八槽孔區域，其中該等導電貫通元件更耦接至該第八金屬層。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之轉接裝置，更包括： 一輔助導電貫通元件，穿透該第三介質層、該第四介質層、該第五介質層、該第六介質層，以及該第七介質層，其中該輔助導電貫通元件係用於將該第三金屬層、該第四金屬層、該第五金屬層、該第六金屬層、該第七金屬層，以及該第八金屬層彼此串聯耦接。
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