TWI712165B - 微發光二極體陣列與其製法 - Google Patents
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Abstract
本發明實施例提供一種微發光二極體陣列與其製造方法，其包含基板，在基板上形成磊晶層，以及在磊晶層上形成薄膜轉換層。可透過微影製程(lithography)定義畫素，畫素的尺寸可以非常小。此製造方法的特徵是不需要巨量轉移。
Description
本發明是有關於一種微發光二極體陣列顯示器與其製造方法。
微發光二極體(microLED)，也稱為「mLED」或「μLED」，是一種新興的平板顯示技術。微發光二極體顯示器由形成個別畫素的微發光二極體陣列組成。與廣泛使用的液晶顯示(LCD)技術相比，微發光二極體顯示器可提供更好的對比度、反應時間，以及能源效率。
與傳統LCD系統相比，有機發光二極體(OLED)和微發光二極體都能大大降低能耗。與OLED不同，微發光二極體基於傳統的氮化鎵(GaN)發光二極體技術，其提供比OLED產品高得多的總亮度，高達30倍，以及更高效率(lux/W)。
一般LED的晶粒尺寸介於200至300微米（micrometer, μm），次毫米發光二極體(Mini LED)的晶粒尺寸約介於50至100微米，而微發光二極體(Micro LED)則是約15微米。
在微發光二極體顯示器的生產過程中，必須將厚度約4~5μm磊晶層用物理或化學機制剝離（Lift-off），移植至電路基板上。目前μLED最大的生產挑戰就在於如何把巨量的微米等級的磊晶層，透過高準度的裝置，將之佈置在目標基板或者電路上，而此一程序被稱為巨量轉移（Mass Transfer）。
以一個4K電視為例，需要轉移的晶粒就高達2400萬顆，即使一次轉移1萬顆，也需要重複2400次。巨量轉移的良率與效率具備很高的技術難度，因此目前業界正積極研究突破之道。
本發明是有關於一種微發光二極體陣列與其製造方法。
根據本發明一實施例，一種微發光二極體陣列，包含一基板、複數個磊晶層、複數個第一薄膜轉換層，以及複數個第二薄膜轉換層。該複數個磊晶層位於該基板上，用以發出第一顏色的光。該複數個第一薄膜轉換層分別形成在該些磊晶層的複數個第一上表面上。該複數個第二薄膜轉換層分別形成在該些磊晶層的複數個第二上表面上。其中，每個薄膜轉換層包含一或多種發光材料以及一基體。每個該發光材料可吸收該第一顏色的光後再重新發出另一種顏色的光。該基體可消除該一或多種發光材料形成薄膜後的晶粒邊界及光散射。
根據本發明另一實施例，一種微發光二極體陣列的製造方法，包含下列步驟：提供一基板；形成複數個磊晶層在該基板的表面上，每個該磊晶層可發出第一顏色的光；形成複數個第一薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第一上表面上；以及形成複數個第二薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第二上表面上；其中，形成該複數個第一薄膜轉換層以及該複數個第二薄膜轉換層的方法，包含：將一或多種有機染料以及一基體溶於一溶劑中，以製備成一發光溶液；將該發光溶液形成於該第一上表面或第二上表面上；使該溶劑自該發光溶液中移除，以形成該第一薄膜轉換層或該第二薄膜轉換層；其中，每個有機染料可吸收該第一顏色的光後再重新發出另一種顏色的光，該基體消除該一或多種有機染料形成該第一薄膜轉換層或該第二薄膜轉換層後的晶粒邊界及光散射。
本發明可克服微發光二極體(micro-LED)陣列在傳統製造過程中巨量轉移的難題。傳統製造過程中，晶粒在轉移過程中可能會損毀，以及轉移後的對位必須精準。如果轉移良率無法接近100%，則顯示器上會產生暗斑或缺陷，以至浪費整個顯示面板。
本發明的薄膜轉換層為連續膜、不具有晶粒邊界。相較之下，傳統量子點螢光膜可明顯觀察到塗佈不均勻及具有晶粒邊界，這會造成(藍)光激發螢光材料後產生內吸收損耗及光色散的問題，進而導致整體發光效率不高。根據本發明提供的微發光二極體陣列與其製法，不需要巨量轉移，可大幅提升良率，並省下大量的時間。此外，本發明的薄膜轉換層可配合傳統微影製程(lithography)加以圖案化來定義畫素，畫素尺寸可以小於10μm。另外在亮度、驅動功率及PPI(每英吋畫素)都比OLED更具有優勢。
以下將詳述本案的各實施例，並配合圖式作為例示。除了這些詳細描述之外，本發明還可以廣泛地實行在其他的實施例中，任何所述實施例的輕易替代、修改、等效變化都包含在本案的範圍內，並以之後的專利範圍為準。在說明書的描述中，為了使讀者對本發明有較完整的了解，提供了許多特定細節；然而，本發明可能在省略部分或全部這些特定細節的前提下，仍可實施。此外，眾所周知的程序步驟或元件並未描述於細節中，以避免造成本發明不必要之限制。
圖1A至圖1F為示意圖，顯示根據本發明一實施例的一種微發光二極體陣列的製造方法。
參見圖1A，提供一基板10。基板10可包含，但不限於，藍寶石基板、玻璃基板、矽基板、碳化矽基板、塑膠基板或其他半導體基板。可利用本領域熟知的正常程序清潔基板10。
參見圖1B，以一磊晶程序，例如，有機金屬氣相沉積(MOCVD)法，形成複數個磊晶層11於基板10的上表面。可透過一遮罩(未圖示)，將這些磊晶層11形成在基板1預訂形成畫素的位置上。磊晶層11可發出第一顏色的光。
參見圖1C，一定義有複數個開口12a的第一遮罩12，被形成或設置於磊晶層11上，以選擇性地暴露出磊晶層11的第一上表面11a。第一遮罩8可以是一圖案化(patterned)的光阻層，或者，也可以是其他的光阻材料，例如，二氧化矽(silicon dioxide)等。以圖案化的光阻層為例，其可利用一習知技術，例如光學微影(photolithography)或電子束微影(electron-beam lithography)形成。例如，先將一光阻層塗佈在磊晶層11上，藉由曝光至一適當光源，將一圖案轉移至該光阻層，藉此定義開口12a。
在一實施例中，將S1813光阻塗佈在磊晶層11上，接著以115℃進行軟烤，時間3分鐘。接著，將光阻進行曝光，時間18秒。接著，將基板10浸入顯影劑MF-319中12秒，再浸入去離子水3至5秒。接著，將基板10乾燥後，以125℃進行硬烤，時間為1分鐘。接著，以反應式離子蝕刻，設定功率(RF power)為100W、使用氣體O
2對光阻進行乾蝕刻而形成開口12a。
參見圖1D，形成第一薄膜轉換層13於磊晶層11的第一上表面11a上。如果第一遮罩12為光阻，可在形成第一薄膜轉換層13後，再形成一保護層14於第一薄膜轉換層13上。保護層14可以是二氧化矽，可使用電子槍(E-gun)蒸鍍系統蒸鍍。接著，將第一遮罩12移除或利用反應離子蝕刻去除。
參見圖1E，一定義有複數個開口15a的第二遮罩15，被形成或設置於磊晶層11上，以選擇性地暴露出磊晶層11的第二上表面11b。第二遮罩15可以是一圖案化(patterned)的光阻層，或者，也可以是其他的光阻材料，例如，二氧化矽等。以圖案化的光阻層15為例，其可利用一習知技術，例如光學微影或電子束微影形成。例如，先將一光阻層塗佈在磊晶層11上，藉由曝光至一適當光源，將一圖案轉移至該光阻層，藉此定義開口15a。
在一實施例中，將S1813光阻塗佈在磊晶層11上，接著以115℃進行軟烤，時間3分鐘。接著，將光阻進行曝光，時間18秒。接著，將基板10浸入顯影劑MF-319中12秒，再浸入去離子水3至5秒。接著，將基板10乾燥後，以125℃進行硬烤，時間為1分鐘。接著，以反應式離子蝕刻，設定功率(RF power)為100W、使用氣體O
2對光阻進行乾蝕刻而形成開口15a。
參見圖1F，形成第二薄膜轉換層16於磊晶層11的第二上表面11b上。接著，將第二遮罩15移除或利用反應離子蝕刻去除。
本發明的薄膜轉換層，例如第一薄膜轉換層13與第二薄膜轉換層，其包含一或多種發光材料以及一基體。較佳的，薄膜轉換層是以溶液法製成。首先，發光材料與基體被溶於溶劑中以形成一發光溶液。接著發光溶液被形成於所需位置，例如第一上表面11a或第二上表面11b上。發光溶液乾燥(移除溶劑)後即可形成第一薄膜轉換層13於第一上表面11a或形成第二薄膜轉換層16於第二上表面11b上，該基體可使得薄膜轉換層中的發光材料維持在發光溶液中的發光特性，並且可消除該一或多種發光材料形成薄膜後的晶粒邊界及光散射。上述一或多種發光材料為有機光致發光材料，其吸收第一顏色的光後重新發出另一種顏色的光。較佳地，發光材料為非稀土元素的有機染料。
在一實施例，該基體為液態二氧化矽。在較佳實施例中，該基體包含成膜性高分子聚合物。在一實施例中，成膜性高分子聚合物包含聚乙烯吡咯烷酮(polyvinylpyrrolidone，PVP)、環氧樹脂(epoxy) 、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)，或聚二甲基矽氧烷(Polydimethylsiloxane，PDMS)。在一實施例中，該溶劑包含乙醇、氯仿、二氯甲烷，以及其他可以溶解該一或多種有機染料及該高成膜性高分子聚合物的溶劑。在一實施例中，該有機染料與該高成膜性高分子聚合物的重量比例為1:200～1:20000。在一實施例中，將發光溶液形成於所需位置，例如第一上表面11a或第二上表面11b上的方法包含旋轉塗佈、浸漬塗佈、噴墨印刷、網版印刷、或刮刀塗佈等。在一實施例中，以旋轉塗佈將發光溶液形成於所需位置上，旋塗時間為10秒至3分鐘。接著，使該溶劑自該發光溶液中移除，以形成薄膜轉換層，例如第一薄膜轉換層13或第二薄膜轉換層16。移除溶劑的方法，可以為自然乾燥，但不限定於此。當溶劑移除後，即形成第一薄膜轉換層13或第二薄膜轉換層16。
在圖1A至1F的實施例中，磊晶層11可發藍色的光。第一薄膜轉換層13吸收磊晶層11所發出的藍色光後，再重新發出綠色光，而第二薄膜轉換層16吸收磊晶層11所發出的藍色光後，再重新發出紅色光。本發明的實施方式，並不限定於此。
以下例示一種製備第一薄膜轉換層13的實施例。
首先，將有機染料C545T溶於一適當溶劑，在本實施例為乙醇。在其他實施例，也可使用其他可溶解C545T的溶劑。有機染料C545T的中文名稱為10-(2-苯並噻唑基)-2,3,6,7-四氫-1,1,7,7-四甲基-1H,5H,11H-(1)苯並吡喃並吡喃並(6,7-;10-(2-苯並噻唑)-2,3,6,7-四氫 基-1,1,7,7-四甲基 -1H,5H,11H-[1]苯並吡喃基 [6,7,8-IJ]喹嗪-11-酮；英文名稱為10-(2-Benzothiazolyl)-2,3,6,7-tetrahydro- 1,1,7,7-tetramethyl-1H,5H,11H-(1) benzopyropyrano(6,7-8-I,j)quinolizin-11-one。
接著，將上述溶液攪拌30分鐘至有機染料C545T溶解均勻，形成一種可發綠光的溶液。接著，將一成膜性高的高分子聚合物，聚乙烯吡咯烷酮(polyvinylpyrrolidone，PVP)溶於上述的溶液中。
接著，將一烤盤加熱至60度C。以烤盤加熱上述溶液，並將上述溶液攪拌30分鐘至成膜性高分子聚合物PVP溶解均勻。
接著，將上述可發綠光的發光溶液旋塗在所需位置，例如第一上表面11a上，以500rpm至9000rpm轉速進行，時間10秒。
接著，將基板10放置於大氣下，溶劑由發光溶液中揮發後，即可慢慢乾燥成膜，形成一可發綠光的第一薄膜轉換層13。最後，可於第一薄膜轉換層13的表面旋塗上保護層14。
以下例示一種製備第二薄膜轉換層16的實施例。
首先，將有機染料DCJTB溶於一適當溶劑，在本實施例為二氯甲烷。在其他實施例，也可使用其他可溶解DCJTB的溶劑。有機染料C545T的中文名稱為2-叔丁基-4-(二氰基亞甲基)-6-[2-(1,1,7,7-四甲基久洛尼定-9-基)乙烯基]-4H-吡喃；英文名稱為2-tert-Butyl-4-(dicyanomethylene)-6- [2-(1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl)vinyl]-4H-pyran。
接著，將上述溶液攪拌30分鐘至有機染料DCJTB溶解均勻，形成一種可發紅光的溶液。接著，將一成膜性高的高分子聚合物，聚乙烯吡咯烷酮(PVP)溶於上述的溶液中。
接著，將一烤盤加熱至60度C。以烤盤加熱上述溶液，並將上述溶液攪拌30分鐘至成膜性高分子聚合物PVP溶解均勻。
接著，將上述可發紅光的發光溶液旋塗在在所需位置，例如第二上表面11b上，以500rpm至9000rpm轉速進行，時間10秒。
接著，將基板放置大氣下，溶劑由發光溶液中揮發後，即可慢慢乾燥成膜，形成一可發紅光的第二薄膜轉換層16。
圖2A顯示在上述實施例中，磊晶層發出藍光的光譜，以及被藍光激發出來的綠光光譜。圖2B顯示為圖2A中單獨綠光的光譜，顯示受激發光的波段。
圖3A顯示在上述實施例中，磊晶層發出藍光的光譜，以及被藍光激發出來的紅光光譜。圖3B顯示為圖3A中單獨紅光的光譜，顯示受激發光的波段。
雖然本發明上述實施例僅例示可發出單一波長範圍(單一顏色)光的薄膜轉換層。但在其他實施例中，所添加的有機染料可以為兩種以上，使得所製備的薄膜轉換層可發出兩種波長範圍(兩種顏色)以上的光。
熟悉本領域技藝人士，可針對圖1A至1F的實施例，做各種修飾、替換，或變更，而這些修飾、替換，或變更都屬於本發明的範疇。例如，圖4顯示根據本發明另一實施例的微發光二極體陣列。在此實施例中，磊晶層11發出紫外光，而複數個第三薄膜轉換層17被形成在磊晶層11的複數個第三上表面11c上，第一、第二、第三薄膜轉換層吸收紫外光後，再分別發出另一種顏色的光，例如綠光、紅光、藍光。在另一實施例中，還包含複數個第四薄膜轉換層被形成在該些磊晶層的複數個第四上表面上。在一實施例中，磊晶層11及/或至少一個薄膜轉換層可以先整體地形成在基板10的表面上，之後再以微影製程(lithography)加以圖案化來定義畫素。
圖5為根據本發明另一實施例微發光二極體陣列的製造方法的流程圖。參見圖5，該方法包含：步驟51，提供一基板；步驟52，形成複數個磊晶層在該基板的表面上，每個該磊晶層可發出第一顏色的光；步驟53，形成複數個第一薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第一上表面上；以及步驟54，形成複數個第二薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第二上表面上。其中，形成該複數個第一薄膜轉換層以及該該複數個第二薄膜轉換層的方法，包含：將一或多種有機染料以及一基體溶於一溶劑中，以製備成一發光溶液；將該發光溶液形成於該第一上表面或第二上表面上；使該溶劑自該發光溶液中移除，以形成該第一薄膜轉換層或該第二薄膜轉換層。其中，每個有機染料可吸收該第一顏色的光後再重新發出另一種顏色的光，該基體消除該一或多種有機染料形成該第一薄膜轉換層或該第二薄膜轉換層後的晶粒邊界及光散射。本實施例中各步驟的實施順序沒有限制。
圖6A和圖6B為根據本發明實施例所製作的薄膜轉換層的剖面(膜厚5.76 μm)及俯視掃描電子顯微鏡圖。如圖6A和6B所示，本發明所製作的薄膜轉換層不具有晶粒邊界。傳統螢光材料於製作發光二極體顯示器時，由於所製成薄膜具有晶粒邊界，導致單位畫素的尺寸無法太小。例如，若螢光材料的平均晶粒尺寸為10μm，由於晶粒尺寸不一，為使個別畫素的亮度均勻，必須提高每個畫素含有螢光材料的顆粒數，例如100顆；如此，造成單位畫素的尺寸較大，通常會大於100μm。
相較之下，本發明所製的薄膜轉換層，由於其不具有晶粒邊界，為一個連續膜，因此單位畫素的尺寸(即磊晶層的尺寸)不會受限於平均亮度而可以自行定義。在一些實施例中，單位畫素的尺寸≦15μm。在一些實施例中，單位畫素的尺寸≦10μm。在一些實施例中，單位畫素的尺寸介於1μm至10μm。在一些實施例中，單位畫素的尺寸≦5μm。
此外，由於本發明的薄膜轉換層不具有晶粒邊界，為一個連續膜。因此可以配合傳統的微影製程(lithography)加以圖案化來定義畫素。或者，本案的薄膜轉換層可以直接形成在磊晶層的第一上表面、第二上表面，及/或第三上表面上。如此，本發明微發光二極體陣列的製法，不需要巨量轉移，可大幅提升良率，並省下大量的時間。
本說明書所揭露的每個/全部實施例，本領域熟悉技藝人士可據此做各種修飾、變化、結合、交換、省略、替代、相等變化，只要不會互斥者，皆屬於本發明的概念，屬於本發明的範圍。可對應或與本案所述實施例特徵相關的結構或方法，及/或發明人或受讓人任何申請中、放棄，或已核准的申請案，皆併入本文，視為本案說明書的一部分。所併入的部分，包含其對應、相關及其修飾的部分或全部，(1)可操作的及/或可建構的(2)根據熟悉本領域技藝人士修飾成可操作的及/或可建構的(3)實施/製造/使用或結合本案說明書、本案相關申請案，以及根據熟悉本領域技藝人士的常識和判斷的任何部分。
除非特別說明，一些條件句或助詞，例如「可以(can)」、「可能(could)」、「也許(might)」，或「可(may)」，通常是試圖表達本案實施例具有，但是也可以解釋成可能不需要的特徵、元件，或步驟。在其他實施例中，這些特徵、元件，或步驟可能是不需要的。
本文前述的文件，其內容皆併入本文，視為本案說明書的一部分。本發明提供的實施例，僅作為例示，不是用於限制本發明的範圍。本發明所提到的特徵或其他特徵包含方法步驟與技術，可與相關申請案所述的特徵或結構做任何結合或變更，部分的或全部的，其可視為本案不等的、分開的、不可替代的實施例。本發明所揭露的特徵與方法其對應或相關者，包含可從文中導出不互斥者，以及熟悉本領域技藝人士所做修飾者，其部分或全部，可以是(1)可操作的及/或可建構的(2)根據熟悉本領域技藝人士的知識修飾成可操作的及/或可建構的(3)實施/製造/使用或結合本案說明書的任何部分，包含(I)本發明或相關結構與方法的任何一個或更多部分，及/或(II)本發明所述任何一或多個發明概念及其部分的內容的任何變更及/或組合，包含所述任何一或多個特徵或實施例的內容的任何變更及/或組合。
10:基板
11:磊晶層
11a:第一上表面
11b:第二上表面
11c:第三上表面
12:第一遮罩
12a:開口
13:第一薄膜轉換層
14:保護層
15:第二遮罩
15a:開口
16:第二薄膜轉換層
17:第三薄膜轉換層
51:提供一基板
52:形成複數個磊晶層在該基板的表面上，每個該磊晶層可發出第一顏色的光
53:形成複數個第一薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第一上表面上
54:形成複數個第二薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第二上表面上
圖1A至1F為示意圖，顯示根據本發明一實施例微發光二極體陣列的製法。
圖2A和圖2B為根據本發明一實施例薄膜轉換層以及磊晶層激發光的光譜圖。
圖3A和圖3B為根據本發明另一實施例薄膜轉換層以及磊晶層激發光的光譜圖。
圖4為根據本發明另一實施例微發光二極體陣列的示意圖。
圖5為根據本發明另一實施例微發光二極體陣列的製造方法的流程圖。
圖6A為根據本發明實施例薄膜轉換層的剖視掃描電子顯微鏡圖。
圖6B為根據本發明實施例薄膜轉換層的俯視掃描電子顯微鏡圖
51:提供一基板
52:形成複數個磊晶層在該基板的表面上，每個該磊晶層可發出第一顏色的光
53:形成複數個第一薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第一上表面上
54:形成複數個第二薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第二上表面上
Claims (13)
- 一種微發光二極體陣列，包含：一基板；複數個磊晶層，位於該基板上，用以發出第一顏色的光；複數個第一薄膜轉換層，分別形成在該些磊晶層的複數個第一上表面上；以及複數個第二薄膜轉換層，分別形成在該些磊晶層的複數個第二上表面上；其中，每個該第一薄膜轉換層與該第二薄膜轉換層包含：一或多種發光材料，每個發光材料可吸收該第一顏色的光後再重新發出另一種顏色的光；以及一基體，使消除該一或多種發光材料形成薄膜後的晶粒邊界及光散射；其中該一或多種發光材料以及該基體是先溶解於一溶劑中接著移除該溶劑後形成單層結構的該第一薄膜轉換層或該第二薄膜轉換層。
- 如申請專利範圍第1項的微發光二極體陣列，其中每個該磊晶層定義一個畫素，其尺寸15μm。
- 如申請專利範圍第1項的微發光二極體陣列，更包含複數個第三薄膜轉換層分別形成在該些磊晶層的複數個第三上表面上。
- 如申請專利範圍第1項的微發光二極體陣列，其中該一或多種發光材料包含非稀土元素的有機染料，該基體使該有機染料保有在溶液態時的極性，進一步保留其吸收及放光波長。
- 如申請專利範圍第4項的微發光二極體陣列，其中該有機染料包含C545T或DCJTB。
- 如申請專利範圍第1項的微發光二極體陣列，其中該基體包含高分子聚合物。
- 如申請專利範圍第6項的微發光二極體陣列，其中該高分子聚合物包含聚乙烯吡咯烷酮(polyvinylpyrrolidone，PVP)、環氧樹脂(epoxy)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)，或聚二甲基矽氧烷(Polydimethylsiloxane，PDMS)。
- 一種微發光二極體陣列的製造方法，包含下列步驟：提供一基板；形成複數個磊晶層在該基板的表面上，每個該磊晶層可發出第一顏色的光；形成複數個第一薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第一上表面上；以及形成複數個第二薄膜轉換層在該些磊晶層的複數個第二上表面上；其中，形成該複數個第一薄膜轉換層以及該複數個第二薄膜轉換層的方法，包含：將一或多種有機染料以及一基體溶於一溶劑中，以製備成一發光溶液；將該發光溶液形成於該第一上表面或第二上表面上；使該溶劑自該發光溶液中移除，以形成該第一薄膜轉換層或該第二薄膜轉換層；其中，每個有機染料可吸收該第一顏色的光後再重新發出另一種顏色的光，該基體消除該一或多種有機染料形成該第一薄膜轉換層或該第二薄膜轉換層後的晶粒邊界及光散射。
- 如申請專利範圍第8項的製造方法，其中每個該磊晶層定義一個畫素，其尺寸15μm。
- 如申請專利範圍第8項的製造方法，其中該基體包含成膜性高分子聚合物。
- 如申請專利範圍第10項的製造方法，其中該溶劑包含乙醇、氯仿、二氯甲烷，以及其他可以溶解該一或多種有機染料及該高成膜性高分子聚合物的溶劑。
- 如申請專利範圍第8項的製造方法，其中該有機染料為非稀土元素。
- 如申請專利範圍第8項的製造方法，其中將該發光溶液形成於該該第一上表面或第二上表面上的方法包含旋轉塗佈、浸漬塗佈、噴墨印刷、網版印刷，或刮刀塗佈。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113437052A (zh) * | 2021-05-06 | 2021-09-24 | 福州大学 | 改善微小型led背光或显示均匀性的色转换层及其制备方法 |
| CN114695625A (zh) * | 2020-12-29 | 2022-07-01 | 林清富 | 发光薄膜、发光阵列薄膜、微发光二极管阵列与其制法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI810518B (zh) * | 2021-01-29 | 2023-08-01 | 歆熾電氣技術股份有限公司 | 膜層塗覆方法 |
| CN114300599A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-04-08 | 业成科技（成都）有限公司 | 色转化层制作方法、显示面板及显示装置 |
| WO2025026973A1 (en) * | 2023-08-01 | 2025-02-06 | Ams-Osram International Gmbh | Method for producing an optoelectronic component and wafer |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200304487A (en) * | 2002-03-15 | 2003-10-01 | Sumitomo Chemical Co | Polymer compound and polymer light emitting device using the same |
| TW201234646A (en) * | 2010-11-10 | 2012-08-16 | Nanosys Inc | Quantum dot films, lighting devices, and lighting methods |
| TW201401608A (zh) * | 2012-03-23 | 2014-01-01 | Ｌｇ化學公司 | 有機發光裝置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5672622B2 (ja) * | 2012-05-22 | 2015-02-18 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 波長変換素子およびその製造方法ならびに波長変換素子を用いたｌｅｄ素子および半導体レーザ発光装置 |
| US9373761B2 (en) * | 2014-09-23 | 2016-06-21 | Osram Sylvania Inc. | Patterned thin-film wavelength converter and method of making same |
| TWI570219B (zh) * | 2015-02-09 | 2017-02-11 | 合皓股份有限公司 | 製作最強吸收波長介於410奈米(nm)-470奈米(nm)的無稀土螢光材料的方法以及應用其進行光致發白光的方法 |
| JP2018053227A (ja) * | 2015-12-03 | 2018-04-05 | セイコーエプソン株式会社 | 蛍光体、波長変換素子、光源装置およびプロジェクター |
| US10775671B2 (en) * | 2015-12-23 | 2020-09-15 | Avantama Ag | Display device |
| US10002795B1 (en) * | 2017-04-12 | 2018-06-19 | International Business Machines Corporation | Method and structure for forming vertical transistors with shared gates and separate gates |
| CN109837085B (zh) * | 2017-11-27 | 2023-11-28 | 日亚化学工业株式会社 | 波长转换构件的制造方法、和波长转换构件 |
| KR102509639B1 (ko) * | 2017-12-12 | 2023-03-15 | 삼성전자주식회사 | 발광소자 패키지 제조방법 |
| TWI677109B (zh) * | 2018-02-02 | 2019-11-11 | 國立臺灣大學 | 抬頭顯示器、發光薄膜與其製法 |
| US10984702B2 (en) * | 2018-06-22 | 2021-04-20 | Epistar Corporation | Display apparatus with array of light emitting diodes and method of manufacturing the same |
| CN111902746B (zh) * | 2018-11-12 | 2022-11-18 | 株式会社Lg化学 | 色彩转换膜、以及包括其的背光单元和显示装置 |
| US11610936B2 (en) * | 2019-06-13 | 2023-03-21 | Intel Corporation | Micro light-emitting diode displays having color conversion devices and assembly approaches |
-
2019
- 2019-08-06 TW TW108127903A patent/TWI712165B/zh active
-
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-
2022
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200304487A (en) * | 2002-03-15 | 2003-10-01 | Sumitomo Chemical Co | Polymer compound and polymer light emitting device using the same |
| TW201234646A (en) * | 2010-11-10 | 2012-08-16 | Nanosys Inc | Quantum dot films, lighting devices, and lighting methods |
| TW201401608A (zh) * | 2012-03-23 | 2014-01-01 | Ｌｇ化學公司 | 有機發光裝置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114695625A (zh) * | 2020-12-29 | 2022-07-01 | 林清富 | 发光薄膜、发光阵列薄膜、微发光二极管阵列与其制法 |
| TWI810507B (zh) * | 2020-12-29 | 2023-08-01 | 國立臺灣大學 | 發光薄膜、發光陣列薄膜、微發光二極體陣列與其製法 |
| CN113437052A (zh) * | 2021-05-06 | 2021-09-24 | 福州大学 | 改善微小型led背光或显示均匀性的色转换层及其制备方法 |
| CN113437052B (zh) * | 2021-05-06 | 2024-01-30 | 福州大学 | 改善微小型led背光或显示均匀性的色转换层及其制备方法 |
Also Published As
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