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TWI709525B - 一種產生遠紅外偏振光的方法 - Google Patents

一種產生遠紅外偏振光的方法 Download PDF

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TWI709525B
TWI709525B TW107106420A TW107106420A TWI709525B TW I709525 B TWI709525 B TW I709525B TW 107106420 A TW107106420 A TW 107106420A TW 107106420 A TW107106420 A TW 107106420A TW I709525 B TWI709525 B TW I709525B
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蔣利娟
柳鵬
周段亮
張春海
劉長洪
范守善
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鴻海精密工業股份有限公司
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Abstract

本發明涉及一種產生遠紅外偏振光的方法，包括以下步驟：提供一奈米碳管結構，該奈米碳管結構包括一第一奈米碳管結構和一第二奈米碳管結構，所述第一奈米碳管結構包括複數個沿同一方向定向延伸的第一奈米碳管，所述第二奈米碳管結構包括複數個隨機分散在該第一奈米碳管結構的表面的第二奈米碳管，且該複數個第二奈米碳管與該複數個第一奈米碳管搭接設置；對所述奈米碳管結構進行預處理，除去至少部分第二奈米碳管，得到預處理後的奈米碳管結構；將該預處理後的奈米碳管結構設置於一遠紅外光源的出射面一側；使該遠紅外光源激發產生遠紅外光，並使該遠紅外光光透過該預處理後的奈米碳管結構後發射出去；以及加熱所述預處理後的奈米碳管結構。

Description

一種產生遠紅外偏振光的方法
本發明涉及遠紅外光偏振以及應用技術領域。
光是一種電磁波，一般的光線在前進時，電磁振動方向四面八方都有。如果電磁振動只發生在一個平面內，也即電場振動方向及磁場振動方向固定的光稱為偏振光，其電場方向稱為光的偏振方向。偏振器用來吸收某一方向的線偏振光，而輸出與其垂直的線偏振光。可用偏光器來選擇某一特定方向的偏振光，已偏振化的光再經過一個偏光器時可全部藉由或部分藉由，視第二個偏光器的方向而定。偏振器在照明、照相機、太陽鏡和3D電影等有了廣泛的應用。
通常用偏振度來衡量線偏振光偏振的程度。當使用偏振光照明時，光刻機的照明系統中存在諸多因素會影響光的偏振態。最主要的是光學材料的本征雙折射和應力雙折射使光的偏振度降低。此外，光學薄膜的偏振特性，光在介面的反射和折射也會影響光的偏振。是以，在偏振光照明系統中，由於偏振控制的需要，應保證具有高偏振度的線偏振光輸出。
本申請發明人研究發現，用奈米碳管結構製作偏振裝置時，藉由加熱奈米碳管結構可以調節遠紅外光的偏振度和透射率，即，藉由提高所述奈米碳管結構的溫度，可以提高遠紅外光的偏振度和透射率，用2層奈米碳管膜在溫度為641K對遠紅外光偏振時，偏振度可以從室溫(300K)下的40%提高到70%。鑒於此，本發明提供一種既能提高偏振度又能保證透射率的產生遠紅外偏振光的方法。
一種產生遠紅外偏振光的方法，其包括以下步驟：提供一奈米碳管結構，該奈米碳管結構包括一第一奈米碳管結構和一第二奈米碳管結構，所述第一奈米碳管結構包括複數個沿同一方向定向延伸的第一奈米碳管，所述第 二奈米碳管結構包括複數個隨機分散在該第一奈米碳管結構的表面的第二奈米碳管，且該複數個第二奈米碳管與該複數個第一奈米碳管搭接設置；對所述奈米碳管結構進行預處理，除去至少部分第二奈米碳管，得到預處理後的奈米碳管結構；將該預處理後的奈米碳管結構設置於一遠紅外光源的出射面一側；使該遠紅外光源激發產生遠紅外光，並使該遠紅外光光透過該預處理後的奈米碳管結構後發射出去；以及加熱所述預處理後的奈米碳管結構。
相較於先前技術，本發明提供的產生遠紅外偏振光的方法，藉由加熱奈米碳管結構的方式來提高偏振度的方法，結構簡單，方法可靠。
10:遠紅外偏振光產生裝置
10A:遠紅外偏振光產生裝置
10B:遠紅外偏振光產生裝置
10C:遠紅外偏振光產生裝置
10D:遠紅外偏振光產生裝置
10E:遠紅外偏振光產生裝置
10F:遠紅外偏振光產生裝置
11A:遠紅外光源
11B:遠紅外光源
111:出射面
12A:偏振裝置
12B:偏振裝置
120:支撐框架
121:奈米碳管結構
124:第一奈米碳管
125:奈米碳管線
126:第二奈米碳管
127:縫隙
13A:旋轉裝置
14A:真空容器
14B:真空容器
15A:加熱裝置
15B:加熱裝置
151:第一電極
152:第二電極
153:電源
154:加熱膜
16A:檢偏器
16B:檢偏器
100:紅外成像系統
200:紅外成像系統
17:待測目標
18A:信號接收裝置
18B:信號接收裝置
180A:信號接收器
180B:信號接收器
19:電腦
圖1為本發明實施例1提供的遠紅外偏振光產生裝置的結構示意圖。
圖2為本發明實施例1提供的偏振裝置的結構示意圖。
圖3為本發明實施例1採用的奈米碳管拉膜的掃描電鏡照片。
圖4為本發明實施例1採用的非扭轉的奈米碳管線的掃描電鏡照片。
圖5為本發明實施例1採用的扭轉的奈米碳管線的掃描電鏡照片。
圖6為本發明實施例1提供的遠紅外偏振光產生裝置的偏振裝置和加熱裝置的結構示意圖。
圖7為圖6沿線S-S的剖視圖。
圖8為本發明實施例1提供的遠紅外偏振光產生裝置的另一種加熱裝置的結構示意圖。
圖9為本發明實施例1提供的奈米碳管拉膜的結構示意圖。
圖10為圖9中的局部放大結構示意圖。
圖11為預處理後的奈米碳管結構。
圖12為實施例1提供的兩層同一方向設置的奈米碳管拉膜在不同溫度下對遠紅外光的透射率和透射調製深度的測試結果。
圖13為遠紅外光源發射的遠紅外光依次經過偏振裝置和檢偏器的結構示意圖。
圖14為採用圖13所提供的偏振裝置和檢偏器在300K下對遠紅外光的透射率的測試結果。
圖15為採用圖13所提供的偏振裝置和檢偏器在641K下對遠紅外光的透射率的測試結果。
圖16為採用圖13所提供的偏振裝置和檢偏器在不同溫度下波數為100cm-1、200cm-1、300cm-1、400cm-1和500cm-1的遠紅外光的透射率的測試結果。
圖17為採用圖13所提供的偏振裝置和檢偏器在室溫和641K下不同頻率的遠紅外光的偏振深度的測試結果。
圖18為室溫下分別採用同一方向設置的不同層數的奈米碳管拉膜在波數為300cm-1和400cm-1下對遠紅外光的偏振深度的測試結果。
圖19為室溫下採用同一方向設置的4層和5層奈米碳管拉膜用不同頻率的遠紅外光的透射率的測試結果。
圖20為本發明實施例3提供的遠紅外偏振光產生裝置的結構示意圖。
圖21為本發明實施例3提供的偏振裝置和旋轉裝置的結構示意圖。
圖22為本發明實施例4提供的遠紅外偏振光產生裝置的結構示意圖。
圖23為本發明實施例5提供的遠紅外偏振光產生裝置的結構示意圖。
圖24為本發明實施例6提供的紅外成像系統。
圖25為本發明實施例6提供的遠紅外成像系統中遠紅外偏振光產生裝置與偏振裝置中的奈米碳管結構的位置關係示意圖。
圖26為本發明實施例7提供的紅外成像系統。
下面將結合具體實施例及附圖對本發明作進一步的詳細說明。
實施例1
請參閱圖1，本發明實施例1提供一種遠紅外偏振光產生裝置10，其包括一遠紅外光源11A、一置於該遠紅外光源11A的出射面111一側的偏振裝置12A、一真空容器14A以及一加熱裝置15A。所述遠紅外光源11A用於激發遠紅外光。所述遠紅外光源11A激發的遠紅外光經該偏振裝置12A後形成遠紅外偏振光並發射出去。所述加熱裝置15A用於加熱所述偏振裝置12A。
所述遠紅外光源11A的結構不限，可以為熱輻射紅外光源、氣體放電紅外光源和鐳射紅外光源。本實施例中，所述遠紅外光源11A是由低溫生長的汞製成的。
請參閱圖2，所述偏振裝置12A包括一支撐框架120以及一奈米碳管結構121。所述支撐框架120的形狀和尺寸可以根據需要選擇。所述支撐框架120的材料不限，可以為金屬、聚合物、玻璃、陶瓷或碳材料等。所述支撐框架120定義一開口。所述奈米碳管結構121的邊緣固定於該支撐框架120上，且中間部分藉由該支撐框架120懸空設置。所述奈米碳管結構121可以藉由粘結劑固定於所述支撐框架120上。所述奈米碳管結構121可以直接設置於所述遠紅外光源11A的出射面111上，也可以與所述遠紅外光源11A的出射面111間隔設置。 當所述奈米碳管結構121直接設置於所述遠紅外光源11A的出射面111上時，所述支撐框架120可以省略。
所述奈米碳管結構121包括複數個沿同一方向定向延伸的奈米碳管且形成複數個均勻分佈的微孔。所述複數個奈米碳管藉由凡得瓦力緊密連接從而使該奈米碳管結構121形成一自支撐結構。所謂自支撐結構是指該結構可以無需一支撐體而保持一特定的膜狀結構。因而，所述奈米碳管結構121具有自支撐性而可部分懸空設置。所述奈米碳管平行於所述奈米碳管結構121的表面。所述奈米碳管包括單壁奈米碳管、雙壁奈米碳管及多壁奈米碳管中的一種或多種。所述單壁奈米碳管的直徑為0.5奈米~10奈米，雙壁奈米碳管的直徑為1.0奈米~15奈米，多壁奈米碳管的直徑為1.5奈米~50奈米。所述奈米碳管的長度大於50微米。優選地，該奈米碳管的長度為200微米~900微米。該微孔的尺寸為1奈米~0.5微米。具體地，所述奈米碳管結構121可以包括至少一奈米碳管拉膜或複數個平行且間隔設置的奈米碳管線。所述奈米碳管線可以是非扭轉的奈米碳管線或扭轉的奈米碳管線。本發明實施例中，所述奈米碳管結構121為至少一奈米碳管拉膜。
請參閱圖3，該奈米碳管拉膜包括複數個連續且定向延伸的奈米碳管束。該複數個奈米碳管束藉由凡得瓦力首尾相連。每一奈米碳管束包括複數個相互平行的奈米碳管，該複數個相互平行的奈米碳管藉由凡得瓦力緊密結合。 遠紅外光的發射方向與奈米碳管拉膜中複數個奈米碳管組成的表面垂直。所述奈米碳管的衍射方向可以為任意方向，本發明實施例中所述奈米碳管的延伸方 向與地面的夾角為0°，即奈米碳管的延伸方向為水準方向。該奈米碳管束的直徑為10奈米~200奈米，優選的，10奈米~100奈米。該奈米碳管拉膜中的奈米碳管沿同一方向擇優取向排列。所述奈米碳管拉膜包括複數個微孔。該微孔為一貫穿該奈米碳管拉膜的厚度方向的通孔。該微孔可為孔隙和/或間隙。當所述奈米碳管結構121僅包括單層奈米碳管拉膜時，該奈米碳管拉膜中相鄰的奈米碳管片段之間具有間隙，其中，該間隙的尺寸為1奈米~0.5微米。所述奈米碳管拉膜的厚度為0.01微米~100微米。可以理解，在由多層奈米碳管拉膜組成的奈米碳管結構121中，相鄰兩個奈米碳管拉膜中的奈米碳管的排列方向相同。 所述奈米碳管拉膜可以藉由拉取一奈米碳管陣列直接獲得。所述奈米碳管拉膜的結構及其製備方法請參見范守善等人於2007年2月12日申請的，於2010年7月11日公告的第I327177號台灣公告專利“奈米碳管薄膜結構及其製備方法”，申請人：鴻海精密工業股份有限公司。為節省篇幅，僅引用於此，但前述申請所有技術揭露也應視為本發明申請技術揭露的一部份。
請參閱圖4，該非扭轉的奈米碳管線包括複數個沿該非扭轉的奈米碳管線長度方向排列的奈米碳管。具體地，該非扭轉的奈米碳管線包括複數個奈米碳管片段，該複數個奈米碳管片段藉由凡得瓦力首尾相連，每一奈米碳管片段包括複數個相互平行並藉由凡得瓦力緊密結合的奈米碳管。該奈米碳管片段具有任意的長度、厚度、均勻性及形狀。該非扭轉的奈米碳管線長度不限，直徑為0.5奈米~100微米。非扭轉的奈米碳管線為將奈米碳管拉膜藉由有機溶劑處理得到。具體地，將有機溶劑浸潤所述奈米碳管拉膜的整個表面，在揮發性有機溶劑揮發時產生的表面張力的作用下，奈米碳管拉膜中的相互平行的複數個奈米碳管藉由凡得瓦力緊密結合，從而使奈米碳管拉膜收縮為一非扭轉的奈米碳管線。該有機溶劑為揮發性有機溶劑，如乙醇、甲醇、丙酮、二氯乙烷或氯仿，本實施例中採用乙醇。藉由有機溶劑處理的非扭轉的奈米碳管線與未經有機溶劑處理的奈米碳管膜相比，比表面積減小，粘性降低。
所述扭轉的奈米碳管線為採用一機械力將所述奈米碳管拉膜兩端沿相反方向扭轉獲得。請參閱圖5，該扭轉的奈米碳管線包括複數個繞該扭轉的奈米碳管線軸向螺旋排列的奈米碳管。具體地，該扭轉的奈米碳管線包括複數個奈米碳管片段，該複數個奈米碳管片段藉由凡得瓦力首尾相連，每一奈米碳管片段包括複數個相互平行並藉由凡得瓦力緊密結合的奈米碳管。該奈米碳管 片段具有任意的長度、厚度、均勻性及形狀。該扭轉的奈米碳管線長度不限，直徑為0.5奈米~100微米。進一步地，可採用一揮發性有機溶劑處理該扭轉的奈米碳管線。在揮發性有機溶劑揮發時產生的表面張力的作用下，處理後的扭轉的奈米碳管線中相鄰的奈米碳管藉由凡得瓦力緊密結合，使扭轉的奈米碳管線的比表面積減小，密度及強度增大。
所述奈米碳管線狀結構及其製備方法請參見范守善等人於2002年11月5日申請的，於2008年11月21日公告的第I303239號台灣公告專利“一種奈米碳管繩及其製造方法”，申請人：鴻海精密工業股份有限公司，以及於2005年12月16日申請的，於2009年7月21日公告的第I312337號台灣公告專利申請“奈米碳管絲及其製作方法”，申請人：鴻海精密工業股份有限公司。為節省篇幅，僅引用於此，但前述申請所有技術揭露也應視為本發明申請技術揭露的一部份。
所述加熱裝置15A用於加熱所述奈米碳管結構121。為了防止高溫時所述奈米碳管結構被氧化，優選地，所述偏振裝置12A設置於一真空容器14A內，用於保護所述偏振裝置12A的奈米碳管結構121，以防止該奈米碳管結構121被加熱到高溫後氧化。此外，所述遠紅外光源11A、偏振裝置12A和加熱裝置15A均可以設置於所述真空容器14A內。所述真空容器14A為一可選結構，本發明實施例1中所述所述偏振裝置12A置於所述真空容器14A內。可以理解，由於奈米碳管結構121設置於真空容器14A內，所述加熱裝置15A可以為設置於所述真空容器14A內的專門電加熱裝置，也可以設置於真空容器14A外的光加熱裝置，例如鐳射加熱。優選地，藉由對該奈米碳管結構121施加電壓來實現加熱，而不引入奈米碳管結構121以外的其他加熱裝置。因為其他加熱裝置與奈米碳管結構121之間的熱交換主要藉由熱輻射進行，而熱輻射會引入其他電磁波，從而對遠紅外光的偏振形成干擾。
所述真空容器14A採用遠紅外光可以穿透的材料製備，例如玻璃或透明樹脂。所述真空容器14A的壓強小於等於10-2Pa。本實施例中所述壓強為10-4Pa即可。
本實施例中，所述加熱裝置15A包括一第一電極151、一第二電極152以及一電源153。所述第一電極151與第二電極152間隔設置，且分別與所述電源153電連接。所述第一電極151或第二電極152為金屬層或金屬片。所 述第一電極151與第二電極152固定於所述支撐框架120上，且與所述奈米碳管結構121電連接。所述奈米碳管結構121夾持在所述支撐框架120與所述第一電極151或第二電極152之間。所述電源153可以為交流電源或直流電源。當藉由所述第一電極151和第二電極152向所述奈米碳管結構121施加電壓時，所述奈米碳管結構121會自身發熱。
請參閱圖6-7，具體地，所述奈米碳管結構121的長度大於所述支撐框架120在長度方向的尺寸。所述奈米碳管結構121設置於所述支撐框架120的一表面，且兩端分別彎折後設置於所述支撐框架120的背面。所述第一電極151或第二電極152均為金屬環，套設於所述支撐框架120上，從而使得所述支撐框架120正面和背面的奈米碳管結構121均夾持在所述支撐框架120與所述第一電極151或第二電極152之間。
可以理解，本實施例中，所述奈米碳管結構121同時作為加熱元件使用。在另一個實施例中，所述加熱裝置15A可以包括專門的加熱元件。例如，請參閱圖8，所述加熱裝置15A包括一遠紅外光可以穿透的加熱膜154，該加熱膜154設置於該真空容器14A的內壁上且與該所述第一電極151和第二電極152電連接。所述加熱膜154與所述奈米碳管結構121間隔設置。所述加熱膜154的材料可以為ITO。
本發明進一步提供一種產生遠紅外偏振光的方法，該方法包括以下步驟：步驟S11，提供一奈米碳管結構121，該奈米碳管結構121包括一第一奈米碳管結構和一第二奈米碳管結構，所述第一奈米碳管結構包括複數個沿同一方向定向延伸的第一奈米碳管，所述第二奈米碳管結構包括複數個隨機分散在該第一奈米碳管結構的表面的第二奈米碳管，且該複數個第二奈米碳管與該複數個第一奈米碳管搭接設置；步驟S12，對所述奈米碳管結構121進行預處理，去除至少部分第二奈米碳管，得到預處理後的奈米碳管結構；步驟S13，提供一真空容器14A，所述預處理後的奈米碳管結構設置於該真空容器內；步驟S14，提供一遠紅外光源11A，並使該遠紅外光源11A激發產生遠紅外光； 步驟S15，在所述遠紅外光源11A的出射面111一側設置該預處理後的奈米碳管結構，使該遠紅外光源11A產生的遠紅外光透過該預處理後的奈米碳管結構後發射出去；以及 步驟S16，加熱所述預處理後的奈米碳管結構。
請參閱圖9-10，本發明實施例中所述奈米碳管結構121包括至少一層奈米碳管膜，所述奈米碳管膜為奈米碳管拉膜，該所述奈米碳管拉膜中的大多數的第一奈米碳管124沿著同一方向延伸排列從而形成複數個基本平行設置的奈米碳管線125，該第一奈米碳管124組成第一奈米碳管結構，且該奈米碳管拉膜中的少數的第二奈米碳管126則隨機分散在該奈米碳管拉膜表面，並與該複數個奈米碳管線125搭接設置，該第二奈米碳管126組成第二奈米碳管結構。 定義第一奈米碳管124的延伸方向為D1，在該奈米碳管拉膜平面內與D1方向垂直的方向為D2。每個奈米碳管線125中的在D1方向相鄰的第一奈米碳管124首尾相連且藉由凡得瓦力連接，而在D2方向則平行排列形成一奈米碳管片段。 所述相鄰的奈米碳管線125之間或者相鄰的第一奈米碳管124之間定義該複數個縫隙127。是以，該複數個縫隙127為對遠紅外光進行偏振的主要通道，而該奈米碳管拉膜中該第二奈米碳管126不利於該奈米碳管拉膜對遠紅外光的偏振。
本申請的發明人發現用超級取向的奈米碳管拉膜製作偏振裝置12A時，藉由加熱的方式可以調節所述偏振裝置12A對遠紅外光的偏振度和透射率。 是以在步驟S12中，藉由對所述奈米碳管拉膜預處理，將奈米碳管拉膜中至少部分第二奈米碳管126除去，從而使所述奈米碳管拉膜中沿同一個方向延伸的第一奈米碳管124的比例增加，即，奈米碳管拉膜中奈米碳管的各向異性提高。 預處理後的奈米碳管結構為超級取向的奈米碳管拉膜。預處理所述奈米碳管拉膜的方式不限，只要能夠提高奈米碳管拉膜中奈米碳管的各向異性即可，如鐳射處理和等離子體處理等。所述鐳射處理是指，以功率密度大於0.1×104瓦特/平方米的鐳射照射該奈米碳管拉膜，除去奈米碳管拉膜中至少部分第二奈米碳管126。可以在含氧環境中進行，優選地，在空氣環境進行。
具體地，可以藉由以下兩種方法實現：
方法一：固定奈米碳管拉膜，然後移動鐳射裝置照射該奈米碳管拉膜的方法，其具體包括以下步驟：固定奈米碳管拉膜；提供一可移動的鐳射裝置；以及沿著D1方向移動該鐳射裝置掃描該奈米碳管拉膜。
方法二：固定鐳射裝置，移動奈米碳管拉膜使鐳射照射該奈米碳管拉膜的方法，其具體包括以下步驟：提供一固定的鐳射裝置，該鐳射裝置在一固定區域形成一鐳射掃描區；提供一奈米碳管拉膜，使該奈米碳管拉膜以一定的速度沿著D1方向經過該鐳射掃描區。
所述採用等離子體處理該奈米碳管拉膜的表面的具體方法為藉由一等離子體表面處理儀向該奈米碳管拉膜的整個表面提供一個等離子體能量，對該奈米碳管拉膜的表面進行處理。所述等離子體氣體可以為惰性氣體和/或蝕刻性氣體，如氬氣(Ar)、氦氣(He)、氫氣(H2)、氧氣(O2)、四氟化碳(CF4)、氨氣(NH3)、或空氣。所述等離子體表面處理儀的功率可以為50瓦~1000瓦，如：100瓦、200瓦、500瓦、700瓦或800瓦。所述等離子體的流量可以為5sccm~100sccm，如：10sccm、20sccm、50sccm、70sccm或80sccm。所述等離子體的工作氣壓可以為40mTorr~150mTorr，如：50mTorr、60mTorr、70mTorr、80mTorr或120mTorr。所述等離子體的處理時間可以為30秒~150秒，如：50秒、60秒、90秒、100秒或120秒。可以理解，所述等離子體的處理的時間不宜過長，以避免奈米碳管線125中的奈米碳管大量斷裂而造成該奈米碳管拉膜的縫隙127太大。優選地，藉由控制等離子體的處理的時間，使該第二奈米碳管126基本全部被蝕刻斷為最佳。
當採用等離子體處理該奈米碳管拉膜的表面時，所述等離子體會對該奈米碳管拉膜表面進行蝕刻，使該奈米碳管拉膜表面的第一奈米碳管124和第二奈米碳管126形成缺陷或被蝕刻斷裂。然而，由於該奈米碳管拉膜對遠紅外光的偏振主要為複數個奈米碳管線125形成的縫隙127，而少部分第一奈米碳管124的斷裂並不會導致奈米碳管線125的斷裂，是以，也不會影響該奈米碳管拉膜對遠紅外光的偏振。而在D2方向上，由於第二奈米碳管126形成斷裂，增加了該奈米碳管拉膜的各向異性，形成超級取向的奈米碳管拉膜，因而該奈米碳管拉膜能夠提高遠紅外光的偏振度。
圖11為預處理後的奈米碳管結構，該預處理後的奈米碳管結構包括2層奈米碳管拉膜，所述預處理後的奈米碳管結構中的奈米碳管在延伸方向上基本上完全平行。
本發明實施例中用該預處理後的奈米碳管結構作偏振裝置12A，並對偏振度和透射率進行了測量。參見圖12a-b，加熱所述預處理後的奈米碳管結構，使所述預處理後的奈米碳管結構的溫度分別為300K、316K、345K、386K、435K、489K、548K、569K和641K，用波數為100cm-1-600cm-1的範圍內的遠紅外光進行試驗發現，隨著溫度的升高，透射率(transmission)下降，透射調製深度(transmission modulation depth)加深。我們可以知道所述預處理後的奈米碳管結構對遠紅外光的透射率與聲子有關。隨著溫度的升高，聲子的振動增強，預處理後的奈米碳管結構的吸收增強，導致預處理後的奈米碳管結構對遠紅外光的透射率降低。
進一步，為了說明加熱該預處理後的奈米碳管結構對偏振度的影響，本申請的發明人還進行了以下實驗。參見圖13，遠紅外光源11A發射的遠紅外光依次經過偏振裝置12A和檢偏器16A。所述遠紅外光源11A、偏振裝置12A和檢偏器16A在同一直線上排列，並且所述偏振裝置12A和檢偏器16A平行且間隔設置。其中，所述偏振裝置12A包括2層奈米碳管拉膜，所述2層奈米碳管拉膜中的奈米碳管的延伸方向高度一致，所述奈米碳管沿水準方向延伸並藉由加熱裝置15A對其進行加熱處理。所述加熱方式為在延伸方向上給所述奈米碳管的兩端施加電壓。所述施加的電壓範圍為0V~60V，只要保證奈米碳管不斷裂即可，優選地，0V-40V。施加的電壓可以為恒壓也可以為變化的電壓。所述檢偏器16A包括10層奈米碳管拉膜，所述10層奈米碳管拉膜中奈米碳管的延伸方向高度一致，並且所述檢偏器16A可以沿著連接偏振裝置12A和檢偏器16A中心的中心軸旋轉，旋轉過程中所述偏振裝置12A中的奈米碳管拉膜所在的平面和檢偏器16A中的奈米碳管拉膜所在的平面始終平行。本發明中所述檢偏器16A的旋轉角度為0°-360°，每間隔10°旋轉一次。定義未旋轉時，偏振裝置12A和檢偏器16A中奈米碳管的延伸方向垂直時的角度為0°。參見圖14和圖15，分別在室溫和641K下旋轉所述檢偏器16A進行測量的結果。因為圖14a中圖線的數量較多，是以將其分成兩個圖進行分析。圖14b為圖14a中0°-180°，每間隔30°旋轉一次進行繪圖的結果。圖14c為圖14a中180°-360°，每間隔30° 旋轉一次進行繪圖的結果，圖15亦然。不同溫度下，所述檢偏器16A對透過偏振裝置12A的遠紅外偏振光的透射率不同。在相同溫度下，不同的旋轉角度下透射率也有很大的不同，並且最大透射率發生在90°和270°附近，即檢偏器16A中的奈米碳管與偏振裝置12A中的奈米碳管的平行。而最小透射率發生在0°和180°附近，即檢偏器16A中的奈米碳管與偏振裝置12A中的奈米碳管的垂直。 為了清楚的看出每個波數下旋轉角度與透射率的關係，分別用波數為100cm-1、200cm-1、300cm-1、400cm-1和500cm-1的遠紅外光在不同旋轉角度下對透射率進行繪圖，請一併參見圖16a-e，可知所述檢偏器16A對不同頻率的遠紅外光的透射率的最大值和最小值發生在相同的旋轉角度下，即偏振的方向與遠紅外光的頻率無關。參見圖17可知，不同波數的遠紅外光透過所述偏振裝置12A形成的遠紅外偏振光的偏振度不相同，室溫下的偏振度為40%，而在641K時的偏振度為70%。所述偏振度(Degree of Polarrization,DOP)的計算公式為：
Figure 107106420-A0305-02-0013-2
其中Tmax和Tmin分別為遠紅外偏振光透過檢偏器16A的光強的最大值和最小值。圖17中遠紅外光的偏振度用偏振深度(polarization depth)表示。
此外，偏振度與奈米碳管拉膜的層數有關。參見圖18，室溫下分別採用不同層數的奈米碳管拉膜進行實驗，所述奈米碳管拉膜的層數範圍為1層-10層，每間隔1層進行測量，隨著奈米碳管拉膜層數的增加，偏振度升高，並且當奈米碳管結構中只有5層奈米碳管拉膜時，在室溫下的偏振度也能達到70%。圖19為室溫下，4層和5層奈米碳管拉膜對不同波數的遠紅外光透射率，由此可知，5層奈米碳管拉膜的透射率為4.6。一併參見圖12a可知，2層奈米碳管拉膜在641K下的透射率為5.3。
綜上所述可知，不同波數的遠紅外光在641K下透過2層奈米碳管拉膜的偏振度與對不同波數的遠紅外光在室溫下透過5層奈米碳管拉膜的偏振度相同，但是2層奈米碳管拉膜的透射率比5層奈米碳管拉膜的透射率高。由此可知，高溫加熱奈米碳管結構有助於使奈米碳管結構在提高同樣的偏振度的條件下獲得更高的透射率。
實施例2
本發明實施例2提供的遠紅外偏振光產生裝置10與本發明實施例1提供的遠紅外偏振光產生裝置10結構基本相同，其區別在於，所述奈米碳管結構121中沿同一方向定向延伸的奈米碳管的表面包覆有一層預製層。優選地，所述預製層包覆於每個奈米碳管的整個表面。
所述預製層的材料可為金、鎳、鈦、鐵、鋁、鈦、鉻等金屬、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋅、氧化鉿、二氧化鈦等金屬氧化物、氮化鎵等金屬氮化物、或金屬硫化物等中的至少一種。可以理解，所述預製層的材料不限於前述列舉材料，還可以為二氧化矽等非金屬氧化物、碳化矽等非金屬碳化物或氮化矽等非金屬氮化物等，只要可以物理性的沉積於所述奈米碳管結構121的表面，且將奈米碳管包覆即可。所述物理性的沉積是指所述預製層不與所述奈米碳管結構121發生化學反應，而是藉由凡得瓦力與所述奈米碳管結構121緊密結合，並附於所述奈米碳管結構121中奈米碳管的表面。所述預製層的厚度不限，可為3奈米~50奈米。
本實施例中，藉由電子束蒸鍍法在單層奈米碳管拉膜的表面設置金作為預製層，其中，預製層厚度分別為10奈米，奈米碳管的延伸方向為水準方向。
作為典型的金屬材料，金對於電磁波能量的吸收主要來源於其載流子電子。這同奈米碳管膜材料是類似的。只不過，由於金的電子數量要遠遠多於奈米碳管，是以少量金的引入即可對奈米碳管膜的透射率有相當大的影響。 從這一點出發，藉由金屬蒸鍍，我們可以有效地調節奈米碳管膜的透射率。
實施例3
請參閱圖20-21，本發明實施例3提供一種遠紅外偏振光產生裝置10A，其包括一遠紅外光源11A、一置於該遠紅外光源11A的出射面111一側的偏振裝置12A、一旋轉裝置13A、一真空容器14A以及一加熱裝置15A。所述遠紅外光源11A用於激發遠紅外光。所述遠紅外光源11A激發的遠紅外光經該偏振裝置12A後形成遠紅外偏振光並發射出去。所述加熱裝置15A用於加熱所述偏振裝置12A。所述旋轉裝置13A用於旋轉所述偏振裝置12A。
本發明實施例3提供的遠紅外偏振光產生裝置10A與本發明實施例1提供的遠紅外偏振光產生裝置10的結構基本相同，其區別在於，進一步包括一旋轉裝置13A。所述旋轉裝置13A用於旋轉所述偏振裝置12A，所述偏振裝置12A可以在奈米碳管結構所在的平面沿著順時針方向旋轉或逆時針方向旋轉，從而可以得到不同偏振方向的遠紅外偏振光。所述旋轉裝置13A可以安裝在所述偏振裝置12A上。
本實施例中，所述偏振裝置12A為一圓形結構，所述旋轉裝置13A與該支撐框架120連接，用於旋轉該支撐框架120，從使所述奈米碳管結構121在其所在平面內旋轉。所述旋轉裝置13A至少包括電機以及控制模組。所述奈米碳管結構121旋轉角度的精度小於等於5度，優選地，旋轉角度的精度為1度。
可以理解，由於遠紅外光實際偏振方向無法事先確定，本實施例定義垂直於地面的方向基準，以奈米碳管延伸方向垂直於地面為0°。當所述奈米碳管結構121旋轉時，所述奈米碳管結構121旋轉的角度就是遠紅外光偏振方向與地面的夾角。
本發明實施例3進一步提供一種產生遠紅外偏振光的方法，該方法包括以下步驟：步驟S31，提供一奈米碳管結構121，該奈米碳管結構121包括一第一奈米碳管結構和一第二奈米碳管結構，所述第一奈米碳管結構包括複數個沿同一方向定向延伸的第一奈米碳管，所述第二奈米碳管結構包括複數個隨機分散在該第一奈米碳管結構的表面的第二奈米碳管，且該複數個第二奈米碳管與該複數個第一奈米碳管搭接設置；步驟S32，對所述奈米碳管結構121進行預處理，除去至少部分第二奈米碳管，得到預處理後的奈米碳管結構；步驟S33，提供一真空容器14A，所述預處理後的奈米碳管結構設置於該真空容器內；步驟S34，提供一遠紅外光源11A，並使該遠紅外光源11A激發產生遠紅外光； 步驟S35，在所述遠紅外光源11A的出射面111一側設置該預處理後的奈米碳管結構，使該遠紅外光源11A產生的遠紅外光透過該預處理後的奈米碳管結構後發射出去；以及步驟S36，加熱該預處理後的奈米碳管結構；步驟S37，旋轉所述偏振裝置12A，從而調節所述遠紅外偏振光的偏振方向。
實施例4
請參閱圖22，本發明實施例4提供一種遠紅外偏振光產生裝置10B，其包括一遠紅外光源11A、一置於該遠紅外光源11A的出射面111一側的偏振裝置12A、一真空容器14A、一加熱裝置15A以及一檢偏器16A和一電腦19。所述遠紅外光源11A用於激發遠紅外光。所述遠紅外光源11A激發的遠紅外光經該偏振裝置12A後形成遠紅外偏振光並發射出去。所述加熱裝置15A用於加熱所述偏振裝置12A。所述偏振裝置12A設置於所述真空容器14A內。所述檢偏器16A設置於所述偏振裝置12A遠離所述遠紅外光源11A的一側。
本發明實施例4提供的遠紅外偏振光產生裝置10B與本發明實施例1提供的遠紅外偏振光產生裝置10結構基本相同，其區別在於，進一步包括一檢偏器16A和一電腦19。所述檢偏器16A用於檢測透過該偏振裝置12A的遠紅外偏振光在檢偏器16A不同旋轉角度下的的光強度，所述電腦19根據檢偏器16A檢測到的光強度的最大值和最小值計算所述遠紅外偏振光的偏振度。
實施例5
請參閱圖23，提供一種遠紅外偏振光產生裝置10C，其包括一遠紅外光源11A、一置於該遠紅外光源11A的出射面111一側的偏振裝置12A、一真空容器14A和一加熱裝置15A。所述遠紅外光源11A用於激發遠紅外光。 所述遠紅外光源11A激發的遠紅外光經該偏振裝置12A後形成遠紅外偏振光並發射出去。所述加熱裝置15A用於加熱所述偏振裝置12A。所述遠紅外光源11A和偏振裝置12A以及加熱裝置均設置與所述真空容器14A內。
本發明實施例5提供的遠紅外偏振光產生裝置10C與本發明實施例1提供的遠紅外偏振光產生裝置10結構基本相同，其區別在於，所述遠紅外 光源11A和偏振裝置12A以及加熱裝置均設置與所述真空容器14A內。是以所述真空容器14A只需在遠紅外偏振光的出光側對遠紅外偏振光透明即可。
實施例6
請參閱圖24，本發明實施例6提供一種遠紅外成像系統100，其包括一遠紅外偏振光產生裝置10D，一遠紅外偏振光產生裝置10E，一信號接收裝置18A以及一信號接收裝置18B，以及一電腦19。
所述遠紅外偏振光產生裝置10D包括一遠紅外光源11A；一偏振裝置12A，所述偏振裝置12A設置於該遠紅外光源11A的出射面111的一側；一真空容器14A，所述偏振裝置12A設置於所述真空容器14A內；一加熱裝置15A，所述加熱裝置15A用於加熱所述偏振裝置12A。
所述遠紅外偏振光產生裝置10E包括一遠紅外光源11B，所述遠紅外光源11A和所述遠紅外光源11B間隔設置；一偏振裝置12B，所述偏振裝置12B設置於該遠紅外光源11B的出射面111的一側，該偏振裝置12B的偏振方向和所述偏振裝置12A的偏振方向垂直；一真空容器14B，所述偏振裝置12B設置於所述真空容器14B內；一加熱裝置15B，該加熱裝置15B用於加熱所述偏振裝置12B。
所述信號接收裝置18A包括一檢偏器16A以及一信號接收器180A，所述檢偏器16A的偏振方向與所述偏振裝置12A的偏振方向相同。所述檢偏器16A設置於所述信號接收器180A的光入射面上。
所述信號接收裝置18B包括一檢偏器16B以及一信號接收器180B，該檢偏器16B的偏振方向與所述偏振裝置12B的偏振方向相同。所述檢偏器16B設置於所述信號接收器180B的光入射面上。
所述電腦19分別與所述信號接收器180A和信號接收器180B電連接，用於將所述信號接收器180A接收的信號和所述信號接收器180B接收的信號整合到一起。所述電連接可以為藉由導線連接也可以為無線連接。
所述遠紅外光源11A和遠紅外光源11B分別發射第一遠紅外光和第二遠紅外光。所述第一遠紅外光經過偏振裝置12A後形成第一遠紅外偏振光，所述第二遠紅外光經過偏振裝置12B後形成第二遠紅外偏振光。參見圖25，本發明實施例中所述偏振裝置12A的偏振方向為x方向，偏振裝置12B的偏振方 向為y方向。所述第一遠紅外偏振光由一待測目標17反射後形成第一遠紅外反射偏振光，所述第二遠紅外偏振光由待測目標17反射後形成第二遠紅外反射偏振光。所述信號接收器180A用於接收所述第一遠紅外反射偏振光，從而獲得該待測目標17的深度資訊。所述信號接收器180B用於接收所述第二遠紅外反射偏振光，從而獲得該待測目標17的輪廓資訊。所述檢偏器16A設置於信號接收裝置18A接收第一遠紅外反射偏振光的一側，用於將與第一遠紅外反射偏振光的偏振方向不同的光過濾掉，是以所述信號接收器180A只接收第一遠紅外反射偏振光。所述檢偏器16B設置於信號接收器180B接收第二遠紅外反射偏振光的一側，用於將與第二遠紅外反射偏振光的偏振方向不同的光過濾掉，是以所述信號接收器180B只接收第二遠紅外反射偏振光。
優選地，所述檢偏器16A和檢偏器16B分別包括前述奈米碳管膜，為了提高透過所述檢偏器16A的第一遠紅外反射偏振光的偏振度，以及提高透過所述檢偏器16B的第二遠紅外反射偏振光的偏振度，也可以對所述奈米碳管膜進行加熱。
所述電腦19用於處理所述信號接收器180A接收的第一遠紅外反射偏振光，從而獲得所述待測目標17的輪廓資訊以及處理所述第二信號接收器180B接收的第二遠紅外反射偏振光，從而獲得所述待測目標的深度資訊，並將所述輪廓資訊和深度資訊整合到一起。是以本實施體提供的遠紅外成像系統能夠實現立體成像。
實施例7
參見圖26，本發明第7實施例提供一種紅外成像系統200，包括：一遠紅外偏振光產生裝置10F，一信號接收裝置18A和一信號接收裝置18B，以及一電腦19。
所述遠紅外偏振光產生裝置10F包括一遠紅外光源11A；一偏振裝置12A，所述偏振裝置12A設置於該遠紅外光源11A的出射面111的一側；一旋轉裝置13A，該旋轉裝置13A用於控制偏振裝置12A的偏振方向，使該偏振裝置12A具有相互垂直的第一偏振方向和第二偏振方向，所述遠紅外光經位於第一偏振方向的偏振裝置12A後形成第一遠紅外偏振光，所述遠紅外光經位於第二偏振方向的偏振裝置12A後形成第二遠紅外偏振光；一真空容器14A， 所述偏振裝置12A設置於所述真空容器14A內；以及一加熱裝置15A，所述加熱裝置15A用於加熱所述偏振裝置12A。
所述信號接收裝置18A包括一檢偏器16A以及一信號接收器180A，所述檢偏器16A的偏振方向與位於第一偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向相同。所述檢偏器16A設置於所述信號接收器180A的光入射面上。
所述信號接收裝置18B包括一檢偏器16B以及一信號接收器180B，該檢偏器16B的偏振方向與位於第二偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向相同。 所述檢偏器16B設置於所述信號接收器180B的光入射面上。
所述電腦19分別與所述信號接收器180A和信號接收器180B電連接，用於將所述信號接收器180A接收的信號和所述信號接收器180B接收的信號整合到一起。所述電連接可以為藉由導線連接也可以為無線連接。
首先，所述遠紅外光源11A發射的遠紅外光經過位於第一偏振方向的偏振裝置12A後形成第一遠紅外偏振光。所述第一遠紅外偏振光照射到待測目標17後被反射形成第一遠紅外反射偏振光。在這一時間段內，檢偏器16A的偏振方向與位於第一偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向相同，而檢偏器16B的偏振方向與位於第一偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向垂直，是以該第一遠紅外反射偏振光只能透過所述檢偏器16A被所述信號接收器180A接收。
然後，所述旋轉裝置13A旋轉90度，這時旋轉後的偏振裝置12A的偏振方向為第二偏振方向。位於第二偏振方向的偏振裝置12A和檢偏器16B中的偏振方向相同。所述遠紅外光源11A發射的遠紅外光經過位於第二偏振方向的偏振裝置12A後形成第二遠紅外偏振光。所述第二遠紅外偏振光照射到待測目標17後形成第二遠紅外反射偏振光。位元於第二偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向與位於第一偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向垂直。在這一過程中，由於檢偏器16B的偏振方向與位於第二偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向相同，而檢偏器16A的偏振方向與位於第二偏振方向的偏振裝置12A的偏振方向垂直，是以該第二遠紅外反射偏振光只能透過所述檢偏器16B被所述信號接收器180B接收。
所述電腦19用於處理所述信號接收器180A接收的第一遠紅外反射偏振光，從而獲得所述待測目標17的輪廓資訊以及處理所述信號接收器180B接收的第二遠紅外反射偏振光，從而獲得所述待測目標的深度資訊，並將所述 輪廓資訊和深度資訊整合到一起。是以本實施體提供的遠紅外成像系統能夠實現立體成像。
本發明實施例7提供的紅外成像系統200與本發明實施例6提供的紅外成像系統100基本相同，其區別在於，本發明實施例7提供的紅外成像系統200中進一步包括一旋轉裝置13A，並藉由所述旋轉裝置13A改變遠紅外偏振光的偏振方向。
本發明不僅可以用於提高遠紅外光的偏振度，也可以應用於其它電磁波。
相較於先前技術，本發明提供的產生遠紅外偏振光的方法，藉由加熱奈米碳管結構的方式來提高偏振度的方法，結構簡單，方法可靠。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡習知本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
10:遠紅外偏振光產生裝置
11A:遠紅外光源
111:出射面
12A:偏振裝置
14A:真空容器
15A:加熱裝置
151:第一電極
152:第二電極
153:電源

Claims (10)

  1. 一種產生遠紅外偏振光的方法，其包括以下步驟：提供一奈米碳管結構，該奈米碳管結構包括一第一奈米碳管結構和一第二奈米碳管結構，所述第一奈米碳管結構包括複數個沿同一方向定向延伸的第一奈米碳管，所述第二奈米碳管結構包括複數個隨機分散在該第一奈米碳管結構的表面的第二奈米碳管，且該複數個第二奈米碳管與該複數個第一奈米碳管搭接設置；對所述奈米碳管結構進行預處理，除去至少部分第二奈米碳管，得到預處理後的奈米碳管結構；將該預處理後的奈米碳管結構設置於一遠紅外光源的出射面一側；使該遠紅外光源激發產生遠紅外光，並使該遠紅外光透過該預處理後的奈米碳管結構後發射出去；以及加熱所述預處理後的奈米碳管結構。
  2. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述奈米碳管結構包括多層奈米碳管膜，所述奈米碳管膜包括複數個藉由凡得瓦力首尾相連的奈米碳管束，每一奈米碳管束包括複數個相互平行的第一奈米碳管。
  3. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述複數個第一奈米碳管的表面包覆有金屬導電層。
  4. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述奈米碳管結構的邊緣固定於一支撐框架上，中間部分藉由該支撐框架懸空設置。
  5. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述預處理所述奈米碳管結構的方法為鐳射掃描所述奈米碳管結構。
  6. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述預處理所述奈米碳管結構的方法為等離子體蝕刻所述奈米碳管結構。
  7. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述加熱所述預處理後的奈米碳管結構的步驟為在第一奈米碳管延伸方向的兩側施加電壓。
  8. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，加熱所述預處理後的奈米碳管結構的同時進一步包括旋轉所述預處理後的奈米碳管結構。
  9. 如請求項1所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述預處理後的奈米碳管結構懸空設置於一真空容器內。
  10. 如請求項9中所述的產生遠紅外偏振光的方法，其中，所述真空容器內的壓強小於等於10-2Pa。
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