TWI708911B - 發光裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明係關於一種發光裝置,其包括一電路基板、光源、至少一反射元件及一光學元件。光源設置於電路基板上,至少一反射元件鄰設於光源且包括一反射面。光學元件設置於光源及至少一反射元件上方,包括一透光元件和一干涉元件。干涉元件設置成具有一破壞性干涉方向,反射面之一延伸方向與破壞性干涉方向為不平行,俾使自透光元件射出之光線產生複數並列之細窄狀光型。
Description
本發明係關於一種發光裝置,特別關於一種射出之光線產生複數並列之細窄狀光型的發光裝置。
隨著科技進步及市場需求,現有許多移動載具(汽車、機車等)的尾燈,均傾向採用發光二極體(light-emitting diode,LED)作為光源,以改善傳統鹵素燈或氙氣燈之缺失。然而,LED本身係為出光較發散之點光源,其呈現之光型圖案大致為圓型光暈(如第1圖所示),中心為亮度較強之亮區1,四周向外亮度逐漸減弱形成暗區2。即便可使用多顆LED排列成各種形狀,仍係呈現多個圓型光暈3(如第2圖所示),此種光型上的窠臼已難滿足汽車產業對於光學效果的多樣化需要,特別是高級車種對於個性化的追求。另外,若單純採用LED來實現多變的光型,所需的數量不但增加材料、製造及維修成本,且囿於密集LED排列下,反射罩的設置更加困難,這會使得發光角度及光型效果受到極大限制。
有鑑於此,如何提供一種發光裝置以改善上述缺失,乃為業界待解決的問題。
本發明之一目的在於提供一種發光裝置,其可射出複數並列之細窄狀光型。
為達上述目的,本發明之發光裝置包括一電路基板、光源、至少一反射元件及一光學元件。光源設置於電路基板上,至少一反射元件鄰設於光源
且包括一反射面。光學元件包括透光元件和干涉元件,干涉元件設置在透光元件下。至少一反射元件及光學元件位於光源發出之一光線之一路徑上,使光線受至少一反射元件反射後,經干涉元件自透光元件射出。干涉元件被設置成具有一破壞性干涉方向,反射面之一延伸方向與破壞性干涉方向為不平行,俾使自透光元件射出之光線產生複數並列之細窄狀光型。
於一實施例中,本發明之發光裝置所具有之至少一反射元件包括二個反射元件對稱地鄰設於光源之二個相對側,或四個反射元件等間隔地鄰設於光源之周圍。
於一實施例中,本發明之發光裝置所具有之反射面沿遠離光源之一方向呈平面。
於一實施例中,本發明之發光裝置所具有之反射面沿遠離光源之一方向呈曲面。
於一實施例中,本發明之發光裝置所具有之反射面之後側相對於電路基板具有一角度,該角度不小於光源發光角度補角之一半。
於一實施例中,本發明之發光裝置所具有之反射面與光源之間具有一最短直線距離,不大於1公分或不大於6公釐。
於一實施例中,本發明之發光裝置所具有之至少一反射元件係為至少一塊體或至少一板體。
於一實施例中,本發明之發光裝置所具有之至少一反射元件係設置於該電路基板。
為讓上述目的、技術特徵及優點能更明顯易懂,下文係以較佳之實施例配合所附圖式進行詳細說明。
1‧‧‧亮區
2‧‧‧暗區
3‧‧‧圓型光暈
10‧‧‧發光裝置
100‧‧‧電路基板
200‧‧‧光源
300‧‧‧反射元件
400‧‧‧光學元件
410‧‧‧透光元件
420‧‧‧干涉元件
A1、A2‧‧‧角度
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
D3‧‧‧延伸方向
L‧‧‧光線
RL‧‧‧反射光線
H‧‧‧細窄狀光型
H1、H2、H3‧‧‧光型
S‧‧‧最短直線距離
F‧‧‧橫向分量
第1圖為現有技術中的LED光源的光型圖案之示意圖;
第2圖為現有技術中以LED光源排列圖案之示意圖;
第3A圖為本發明之發光裝置之一立體示意圖;
第3B圖為本發明提供的一種光型圖案示意圖;
第4圖為本發明之發光裝置之另一立體示意圖;
第5圖至第6圖為本發明之發光裝置具有不同反射面之側視示意圖;
第7A圖至第7D圖及第8圖為本發明之發光裝置中反射面不同設置角度之側視示意圖;
第9A圖至第9C圖為本發明之發光裝置中反射面與光源之間具有不同距離之側視示意圖;以及
第10A圖至第10D圖、第11A圖及第11B圖為本發明之發光裝置中反射元件不同設置位置的俯視示意圖。
以下說明結合圖式,對本發明的一些實施方式作詳細敘示。在不衝突的情況下,下述的實施例及實施例中的特徵可以相互組合。除非上下文中清楚地另外指明,否則本文所用之單數形式「一」亦包括複數形式,而所述之方位(如前、後、上、下、兩側、內、外等)係為相對方位,可依據發光裝置的使用狀態而定義,並非指示或暗示發光裝置需有特定方向之構造或操作,亦不能理解為對本發明的限制。
本發明之發光裝置主要係可用於各種不同照明模組中,例如煞車燈、方向燈、頭燈、尾燈或氣氛燈等。發光裝置中的各個元件可以藉由照明模組中之支架(圖未示)固定,以不致因行車晃動而有位移。發光裝置之一特點在於透過光學元件之干涉作用,將現有技術之圓形光暈轉變為細窄狀光型,以滿足汽車產業對於光學效果的多樣化需求。舉例如第3A圖所示,當發光裝置10中光源
200之排列方向與破壞性干涉作用之第一方向D1垂直時,每個光源200在光學元件400上各自形成的獨立細窄狀光型之亮區可以相互連結或重疊,形成更長且均勻的細窄狀光型H。各元件之內容詳細說明如下。
請參考第4圖至第6圖,發光裝置10包括一電路基板100、光源200、至少一反射元件300及一光學元件400,光源200設置於電路基板100上以接收供電而發光。光源200可以是任何可以發光的元件。下述實施例以發出琥珀色、橘色或紅色之LED光源為例說明,但不以此作為限制。光源200發出之光線L具有一發光角度,以下實施例以具有發光角度為120度之光源200作為示例(圖中所示之角度A1係標示發光角度之一半),且為方便示意,以下實施例僅顯示單一LED光源,且所有光線L及反射光線RL僅以數條虛線表示以供理解其發光範圍,但不表示光源200所發出之光線L僅係數條光束。
光源200可以是至少一個以上發光二極體(LED)或至少一個以上雷射二極體(LD)所構成。發光二極體可以是白光、紅光、藍光、綠光、橘光、黃光或琥珀光。若發光二極體是白光,那發光二極體就包括一藍光發光二極體晶片及一螢光粉。螢光粉可以是黃色螢光粉、綠色螢光粉及紅色螢光粉之任意搭配組合,黃色螢光粉可以是Y3Al5O12:Ce3+(簡稱YAG)與(Sr,Ba)2SiO4:Eu2+(Sr2+含量較高,簡稱Silicate),綠色螢光粉可以是Si6-zAlzOzN8-z:Eu2+(簡稱β-SiAlON)與Lu3Al5O12:Ce3+(簡稱LuAG),紅色螢光粉可以是CaAlSiN3:Eu2+(簡稱CASN或1113)、Sr2Si5N8:Eu2+(簡稱258)與K2SiF6:Mn4+(簡稱KSF)。若發光二極體是紅光、藍光、綠光、橘光、黃光或琥珀光,那發光二極體包括一紅光、藍光、綠光、橘光、黃光或琥珀光發光二極體晶片。雷射二極體(LD)可以是白光、紅光、藍光、綠光、橘光、黃光或琥珀光。若雷射二極體是白光,那雷射二極體就包括一藍光雷射二極體晶片及一螢光粉。螢光粉可以是黃色螢光粉、綠色螢光粉及紅色螢光粉之任意搭配組合,黃色螢光粉可以是Y3Al5O12:Ce3+(簡稱YAG)與(Sr,
Ba)2SiO4:Eu2+(Sr2+含量較高,簡稱Silicate),綠色螢光粉可以是Si6-zAlzOzN8-z:Eu2+(簡稱β-SiAlON)與Lu3Al5O12:Ce3+(簡稱LuAG),紅色螢光粉可以是CaAlSiN3:Eu2+(簡稱CASN或1113)、Sr2Si5N8:Eu2+(簡稱258)與K2SiF6:Mn4+(簡稱KSF)。若雷射二極體是紅光、藍光、綠光、橘光、黃光或琥珀光,那雷射二極體包括一紅光、藍光、綠光、橘光、黃光或琥珀光雷射二極體晶片。
至少一反射元件300鄰近設置於光源200,反射元件300之材質可包含聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸脂(PC)、金屬或玻璃等,且可為一金屬膜反射鏡、介質膜反射鏡或其他可以反射光線之元件。反射元件300之表面結構可為平滑狀、三角形、方形或六角形。反射元件300之外型可為一塊體或一板體,其可設置於電路基板100上,或藉由照明模組中之支架(圖未示)設置於光源200之周圍。反射元件300具有一反射面310,反射面310位於光線L之路徑上,以將光線L反射形成反射光線RL,再照射至光學元件400。反射面310可沿遠離光源200之一方向呈平面(如第5圖所示),或呈曲面以增加反射光線RL之強度(如第6圖所示);反射面310可延伸至接觸光學元件400或與光學元件400僅隔一小段距離(圖未示)。雖於圖中所示為一個光源搭配二個反射元件300,但依據不同之需求,更可設置二個以上反射元件300,且具有不同之配置方式,以達到不同的效果(詳細說明如後)。多個反射元件300之間並不相連接,亦即反射面310之間不相連接,換言之,相較於傳統設置於光源周圍,以光源為中心完全環繞光源設置之反射碗、反射杯,可完全地反射光源朝向側面射出之光線,本發明之反射元件300可不連續地設置於光源200周圍,不會完全地反射光源朝向側面射出之光線L,而係僅部分地反射光線L,以取得符合需求的光型。
請參考第3A圖和第4圖,光學元件400可藉由照明模組中之支架(圖未示)設置於燈罩與光源200之間或者直接設置於燈罩上,主要材料則可以由聚碳酸酯(UV-Polycarbonate)、聚酯纖維(Polyester)、丙烯酸(Acrylic)、
紫外穿透丙烯酸(UVT acrylic)所形成,其包括透光元件410及干涉元件420,透光元件410可包括透光基材及光學透光層,干涉元件420可設置於光學透光層下,光學透光層的材料可以與透光基材相同,更甚者,光學透光層及透光基材可以為一體成形,或者在製造時,係於透光基材上形成光學透光層後,再形成干涉元件420於光學透光層上(方向用詞之不同乃係由於擺放方向不同)。可選地,干涉元件420可以通過模具製造、噴砂、化學蝕刻、壓花或者是雷射蝕刻等方式來形成。
光源200發出的光線L經干涉元件420自透光元件410射出可以形成特定的光型圖案。於本實施例中,干涉元件420能夠將光源200所發出的光線L進行干涉,同時又能夠保持比如80%以上的透光率。干涉元件420可使光線L於一第一方向D1經歷破壞性干涉(又稱抵消干涉),於一第二方向D2經歷建設性干涉(又稱增強干涉),以改變光型。也就是說,當光線L未經歷干涉作用時,光型如第1圖所示係為一圓型光暈,當光線L經歷干涉作用後,在第一方向D1上的光型範圍縮減(破壞性干涉),在第二方向D2上的光型範圍擴增(建設性干涉),因此形成如第3A圖和第4圖所示之細窄狀光型H。
光學元件能夠將光源所發出的光線進行干擾而產生特定非對稱的光型圖案,並同時又能夠保持,比如80%以上的透光率。該干涉元件同時具有建設性干涉(Constructive interference)以及破壞性干涉(Destructive interference)的特性,其會對來自光源的光進行干涉,以使得來自多個光源的光在第一偏振方向,即D1方向上抵消干涉,即經歷破壞性干涉,而第二偏振方向,即D2方向上增強干涉,也就是經歷建設性干涉,因此,通過這種方式,即可將光暈圖案變成線型圖案。為了更清楚地描述該干涉過程,下面結合第1圖和第3B圖來進行說明。由第1圖可知,光暈圖案可以分為兩個區域,即週邊的暗區2和中心的亮區1。光源發出的光在經過該干涉元件之後,由於其在不同方向上分別經歷了建設性干
涉和破壞性干涉,因此,D1方向的光會經過破壞性干涉而造成D1方向的光型圖案區域縮減,D2方向的光會經過建設性干涉而造成D2方向的光型圖案區域增加,故而光暈圖案在D1方向的區域就會被破壞,而其在D2方向的圖案則會被增加,最終形成如圖3B所示的線型圖案,呈現一長條形的光型圖案效果。與光暈圖案中的亮區1和暗區2相對應,在如第3B圖所示的線型圖案中,其中心為亮區1,而兩端則為暗區2。即該光型圖案的暗區2則會主要分佈於該長條形的光型圖案的兩端,而亮區1則分佈於長條形的光型圖案的中央區域。需要說明的是,本發明所使用的發光元件所形成的光型圖案並不限於上述的形狀,其暗區與亮區的比例以及位置可以根據具體的設計需求,通過調整干涉元件的幾何形狀及方向來達成,例如,也可以通過合適的干涉元件,得到沒有暗區及亮區差別的光型圖案。
詳細而言,干涉元件420可包括多個微型單元,這些微型單元可以是規則地或不規則地排列。微型單元的幾何形狀可以為三角形、正方形、長方形、六邊形、圓錐、橢圓體、立體波浪狀或其他多邊形的基部,此處並不作限定。微型單元可以是從表面延伸出來的凸起或者延伸到表面內的凹陷型態,彼此之間的間隔密度可依據所需來調整。這些微型單元可以排列成一凹凸表面,凹凸表面的最低點與最高點之間距離可例如不大於500微米,較佳為100微米,更佳為30微米。當凹凸表面的凹凸深度越小,則能夠排列的微型單元就越多,這樣一來即可增加干涉效果。
除此之外,在製造干涉元件420時,可以藉由調整微型單元的製造角度,來調整最終形成的細窄狀光型H的長度和寬度。例如製造時於第一方向D1扭轉1度、第二方向D2扭轉60度(圖未示),以於第一方向D1具有較佳的破壞性干涉效果,當扭轉角度越大,破壞性干涉效果越差。也就是說,實際上可以通過計算上述製造角度,實現對線型圖案形狀的精確控制,例如於同一塊干涉元件
420劃分不同區域,各區域具有不同幾何形狀、製造角度之微型單元,即可形成不同形狀之光型。為方便說明,後面實施例所具有之干涉元件420僅具有單一製造角度及單一幾何形狀,且反射元件300之一延伸方向D3與干涉元件420之破壞性干涉方向(即前述之第一方向D1)為不平行,以使光線L經透光元件410射出時呈複數並列之細窄狀光型H。
一般而言,一個光源200僅可在光學元件400上形成一個光型,因此若欲形成多個光型於光學元件400上,必須設置多個光源200以達到目的。如第4圖所示,本發明藉由至少一反射元件300的設置,使一個光源200即可以形成多個細窄狀光型H於光學元件400上。
以二個反射元件為例,左右反射元件位置擺放如與光源平行(水平對邊),則所呈現光型為分開三直線,垂直擺放(垂直對邊)則光型疊加為一直線,而對角同側擺放則光型較密且趨近反射元件,斜角對邊擺則光型密且呈階梯狀。反射元件之反射面角度由小變大時,光型(又可稱光型線)數量由1變為3(肉眼較可清晰辨識的數量),且光型線之間的寬度變大。反射元件與光源之距離由小變大時,左右光型線之間的寬度變大長度變小(但反射元件距離光源過遠時,則無左右光型線)。
請參考第7A圖至第7D圖,揭示反射面310設置角度對光型之影響(其中C1為光型之簡單示意圖,C2為實際操作時光型之示意圖)。光源200所發出直射至光學元件400之光線L產生之細窄狀光型H1(於後簡稱光型)不會因反射元件300之設置方式而產生變化。反射元件300之反射面310之後側相對於電路基板100可具有一角度A2,當該角度A2為75度時,經反射面310反射至光學元件400之反射光線RL產生之光型H2、H3較接近光型H1(即複數光型較密),且相較光型H1之長度略短一些(如第7A圖所示)。以此類推地,當角度A2越小時,光型H2、H3越遠離光型H1(即複數光型較疏),長度亦更短。以光源200之發光
角度為120度為例(為方便繪示,圖中較誇張的表示發光角度),角度A2可不小於30度(即光源發光角度補角之一半)以使反射面310可順利接收到光線L,不大於80度以產生較理想的複數光型(以肉眼可見其為複數光型)。請參考第8圖,雖於上述實施例中,光學元件400皆係大致與電路基板100平行,因此角度A2較佳地不會設置為大於80度,但當光學元件400相對於光源200之設置位置改變,例如反射面310及光學元件400位於光源200之相對側,即光學元件400與電路基板100不平行,角度A2便可能大於80度甚至大於90度,以將反射光線RL反射至光學元件400上。光學元件400較佳地可抵接反射面310之一上端,以產生較佳之光型(圖未示)。
請參考第9A圖至第9C圖,揭示反射面310設置距離對光型之影響。反射元件300之反射面310與光源200可有一最短直線距離S。以角度A2為45度舉例,當距離S為0公釐時,經反射面310反射至光學元件400之反射光線RL產生之光型H2、H3較接近光型H1(即複數光型較密),且相較光型H1之長度略短一些(如第9A圖所示)。以此類推地,當距離S越大時,光型H2、H3越遠離光型H1(即複數光型較疏),長度亦更短。以光源200之發光角度為120度為例(為方便繪示,圖中較誇張的表示發光角度),距離S較佳地不大於6公釐以使反射面310可順利接收到光線L。
請參考第10A圖至第10D圖,以二個反射元件300鄰近設置於光源200時之俯視圖,揭示不同設置位置對於光型之影響。以光源200之發光角度、反射面310之角度A2、距離S均固定時為例。當二反射元件300設置在光源200左右二對側時,光型H2、H3對稱地位於光型H1之兩側(第10A圖)。當二反射元件300設置在光源200之左上側與右上側時,光型H2、H3朝光型H1之上端移動(第10B圖)。當二反射元件300設置在光源200之左上側與右下側時,光型H2朝光型H1之上端移動,光型H3朝光型H1之下端移動(第10C圖)。若二反射元件300設
置在光源200之上側與下側時(此時,反射元件300之延伸方向D3與干涉元件420之破壞性干涉方向D1平行),則不會產生複數光型(第10D圖)。應可以理解的是,若改變干涉元件420之破壞性干涉方向D1,則欲產生複數光型,便需相應地改變反射元件300之設置位置。另外,當二反射元件300之設置為延伸方向D3與干涉元件420之破壞性干涉方向D1不平行時,如第10B圖及第10C圖所示,反射元件300之反射面310與光源200之間的距離S具有一橫向分量F,當距離S固定,光型H1、H2、H3之長度不變,但光型H2、H3與光型H1之間的距離,將與橫向分量F成正比。
請參考第11A圖至第11B圖所示,以四個反射元件300鄰近設置於光源200時之俯視圖,揭示不同設置位置對於光型之影響。以光源200之發光角度、反射面310之角度A2、距離S均固定時為例。當四個反射元件300等間隔地設置於光源200之左上側、右上側、左下側及右下側時,光型H2、H3對稱地位於光型H1之兩側,光型H2、H3可具有幾乎與光型H1相同之長度或稍微短於光型H1。當四個反射元件300等間隔地設置於光源200之上側、下側、左側及右側時,光型H2、H3亦對稱地位於光型H1之兩側,然光型H1因上側及下側之反射元件300而長度更長,光型H2、H3因僅係由左側及右側之反射元件300反射而長度較短。
藉由上述之各實施例,本發明提供的發光裝置,可以應用於各種不同照明模組中(例如作為煞車燈、方向燈、頭燈、尾燈或氣氛燈等),以提供豐富多樣的光型圖案,更可以藉由更少數量之LED即達到產生複數光型之效果,減少製造成本,且方便後續維修。
上述之實施例僅用來例舉本發明之實施態樣,以及闡釋本發明之技術特徵,並非用來限制本發明之保護範疇。任何熟悉此技術者可輕易完成之改變或均等性之安排均屬於本發明所主張之範圍,本發明之權利保護範圍應以申請專利範圍為準。
10‧‧‧發光裝置
100‧‧‧電路基板
200‧‧‧光源
300‧‧‧反射元件
400‧‧‧光學元件
410‧‧‧透光元件
420‧‧‧干涉元件
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
D3‧‧‧延伸方向
L‧‧‧光線
RL‧‧‧反射光線
H‧‧‧細窄狀光型
Claims (11)
- 一種發光裝置,包括:一電路基板;一光源,設置於該電路基板上;至少一反射元件,鄰設於該光源,各該至少一反射元件包括一反射面;一光學元件,該光學元件包括一透光元件和一干涉元件,該干涉元件設置於該透光元件下;其中,該至少一反射元件及該光學元件位於該光源發出之一光線之一路徑上,使該光線可受該至少一反射元件反射後,經該干涉元件自該透光元件射出;其中,該干涉元件具有一破壞性干涉方向,該反射面之一延伸方向與該破壞性干涉方向為不平行,俾使自該透光元件射出之該光線產生複數並列之細窄狀光型。
- 如請求項1所述之發光裝置,其中,該至少一反射元件包括二反射元件,對稱地鄰設於該光源之二相對側。
- 如請求項1所述之發光裝置,其中,該至少一反射元件包括四反射元件,等間隔地鄰設於該光源之周圍。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該反射面沿遠離該光源之一方向呈平面。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該反射面沿遠離該光源之一方向呈曲面。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該反射面之後側相對於該電路基板具有一角度,該角度不小於該光源發光角度補角之一半。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該反射面及該光學元件位於該光源之相對側。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該反射面與該光源之間具有一最短直線距離,該最短直線距離不大於10公釐。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該反射面與該光源之間具有一最短直線距離,該最短直線距離不大於6公釐。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該至少一反射元件係為至少一塊體或至少一板體。
- 如請求項1之發光裝置,其中,該至少一反射元件係設置於該電路基板。
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