TWI708119B - 樹脂、光阻組合物及光阻圖案之製造方法 - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 233
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 233
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 101
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 237
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 198
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 124
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 96
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 90
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 76
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 73
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 60
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 55
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 53
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims abstract description 48
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 43
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 41
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 35
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 107
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 94
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 73
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 claims description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 7
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 claims description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000006675 (C3-C18) alicyclic hydrocarbon group Chemical group 0.000 abstract 1
- -1 1,1,2,2-tetrafluoropropyl Chemical group 0.000 description 264
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 221
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 187
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 82
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 78
- 0 C*IOC(C(**)(*(C)C)NC(C)(C)C)=O Chemical compound C*IOC(C(**)(*(C)C)NC(C)(C)C)=O 0.000 description 69
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 46
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 36
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 32
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 32
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 31
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 239000002585 base Substances 0.000 description 26
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 26
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 26
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 24
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 22
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 22
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 22
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 18
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 15
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 14
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 13
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 13
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 11
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 11
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 10
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 9
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 7
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 7
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 7
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 7
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 6
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 5
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 4
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 4
- WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 2
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXJFKAZDSQLPBX-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F WXJFKAZDSQLPBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGCXGMAHQTYDJK-UHFFFAOYSA-N Chloroacetyl chloride Chemical compound ClCC(Cl)=O VGCXGMAHQTYDJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L copper benzoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 2
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N o-toluidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N pentadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005459 perfluorocyclohexyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- CJCGDEYGAIPAEN-UHFFFAOYSA-N (1-methylcyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(C)CCCCC1 CJCGDEYGAIPAEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000204 (C2-C4) acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006002 1,1-difluoroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromo-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(Br)=CC(Br)=C1 OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C(=C)C)C3 MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004345 1-phenyl-2-propyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- 125000004778 2,2-difluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])(F)F 0.000 description 1
- OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioxooxathiiran-3-one Chemical compound O=C1OS1(=O)=O OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)-n,n-bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]ethanamine Chemical compound COCCOCCN(CCOCCOC)CCOCCOC XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-pyridin-2-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CCC1=CC=CC=N1 WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1N OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 2-[(e)-2-pyridin-2-ylethenyl]pyridine Chemical group C=1C=CC=NC=1/C=C/C1=CC=CC=N1 HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 2-carboxyphenolate;tetrabutylazanium Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 2-naphthylamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N)=CC=C21 JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound [CH2]C1=CC=CC(N)=C1 FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dipyridyl disulfide Chemical compound C=1C=NC=CC=1SSC1=CC=NC=C1 UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCC1=CC=NC=C1 DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-yloxyethoxy)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1OCCOC1=CC=NC=C1 RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 4-(3-pyridin-4-ylpropyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCCC1=CC=NC=C1 OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CCC1=CC=C(N)C=C1 UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004861 4-isopropyl phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-4-ylsulfanylpyridine Chemical class C=1C=NC=CC=1SC1=CC=NC=C1 XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical group O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKXXFSXPTIQWHX-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)CC(C(C)(C)CC(C)(C(C)(C)CC(C(C)(C)C)C(OCC(OC(CCO1)C1=O)=O)=O)C(OCC(OC(CCO1)C1=O)=O)=O)C(OC(CCO1)C1=O)=O Chemical compound CC(C)(C)CC(C(C)(C)CC(C)(C(C)(C)CC(C(C)(C)C)C(OCC(OC(CCO1)C1=O)=O)=O)C(OCC(OC(CCO1)C1=O)=O)=O)C(OC(CCO1)C1=O)=O BKXXFSXPTIQWHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKVYNKHJXJVNER-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)c(cc1)ccc1S1(CCOCC1)I Chemical compound CC(C)(C)c(cc1)ccc1S1(CCOCC1)I NKVYNKHJXJVNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZPWQTIHIIQNDL-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)c(cc1C[S](C(C(OC(CC2CC34)(C5)CC23C5C4=O)=O)(F)F)(O)(=O)=O)ccc1[S+]1CCOCC1 Chemical compound CC(C)(C)c(cc1C[S](C(C(OC(CC2CC34)(C5)CC23C5C4=O)=O)(F)F)(O)(=O)=O)ccc1[S+]1CCOCC1 NZPWQTIHIIQNDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWRVHAKAUNUYEO-UHFFFAOYSA-N CC(CC1C2)(C=C3C1C2(COC(C)=O)C3)OCC(OC)=O Chemical compound CC(CC1C2)(C=C3C1C2(COC(C)=O)C3)OCC(OC)=O KWRVHAKAUNUYEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRHZJADASZQKSK-UHFFFAOYSA-N CC(N)OCCC1C(CC2)CC2C1 Chemical compound CC(N)OCCC1C(CC2)CC2C1 PRHZJADASZQKSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFMYAFCHWAQBED-UHFFFAOYSA-N CC(OC(C(C1)C2)C(C3)C1CC23OC(ON)=O)=O Chemical compound CC(OC(C(C1)C2)C(C3)C1CC23OC(ON)=O)=O LFMYAFCHWAQBED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POIOKXPJODJJGM-UHFFFAOYSA-N CC(OC(C1)(CC(C2)C1C1)CC21OC(ON)=O)=O Chemical compound CC(OC(C1)(CC(C2)C1C1)CC21OC(ON)=O)=O POIOKXPJODJJGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVMWJFZPNPEBCD-UHFFFAOYSA-N CC(OCC(CC1)CCC1OCC(ON)=O)=O Chemical compound CC(OCC(CC1)CCC1OCC(ON)=O)=O WVMWJFZPNPEBCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSZISOKYYSNMLK-UHFFFAOYSA-N CC(OCC(CC12)(C3)C1C3(C1)C1C2OCC(O)=O)=O Chemical compound CC(OCC(CC12)(C3)C1C3(C1)C1C2OCC(O)=O)=O VSZISOKYYSNMLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KASGRIOPMDZHHH-UHFFFAOYSA-N CC(OCCOCC(ON)=O)=O Chemical compound CC(OCCOCC(ON)=O)=O KASGRIOPMDZHHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGXXXGWKTRHJOR-UHFFFAOYSA-N CC(OCOCC(ON)=O)=O Chemical compound CC(OCOCC(ON)=O)=O SGXXXGWKTRHJOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBRDLTHOSDJHDJ-UHFFFAOYSA-N CCC(C)(C)C(OC(CCO1)C1=O)=O Chemical compound CCC(C)(C)C(OC(CCO1)C1=O)=O UBRDLTHOSDJHDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKRTZKMPEDYKCT-UHFFFAOYSA-N CCC(COC1CCC(CN)CC1)OC Chemical compound CCC(COC1CCC(CN)CC1)OC BKRTZKMPEDYKCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RKRMHZFDPGCGHO-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)ccc1S(c(cc1)ccc1F)c(cc1)ccc1F Chemical compound Cc(cc1)ccc1S(c(cc1)ccc1F)c(cc1)ccc1F RKRMHZFDPGCGHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQSNYAYCINFOOC-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)ccc1S1c2ccccc2Oc2c1cccc2 Chemical compound Cc(cc1)ccc1S1c2ccccc2Oc2c1cccc2 VQSNYAYCINFOOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)ccc1[S+](c1ccc(C)cc1)c1ccc(C)cc1 Chemical compound Cc(cc1)ccc1[S+](c1ccc(C)cc1)c1ccc(C)cc1 QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Cc1ccc(C)cc1 Chemical compound Cc1ccc(C)cc1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical group CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N N-Cyclohexyl-N-methylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C)C1CCCCC1 GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N N-Methyldioctylamine Chemical compound CCCCCCCCN(C)CCCCCCCC YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- METIYRLOLMYNDR-UHFFFAOYSA-N O=C(CS1(CCCC1)I)c1ccccc1 Chemical compound O=C(CS1(CCCC1)I)c1ccccc1 METIYRLOLMYNDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBRCKYEBDBPCY-UHFFFAOYSA-N O=C(CS1CCCC1)c1cc(cccc2)c2cc1 Chemical compound O=C(CS1CCCC1)c1cc(cccc2)c2cc1 LYBRCKYEBDBPCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMBMVBSFBWGMEJ-UHFFFAOYSA-N O=C(CS1CCCCC1)c1cc(cccc2)c2cc1 Chemical compound O=C(CS1CCCCC1)c1cc(cccc2)c2cc1 VMBMVBSFBWGMEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQPOBGADHBLHOP-UHFFFAOYSA-N OC(C1)(C2)C3(C4)C1CC4(COC(C(F)(F)[S](C[O]1c4ccccc4[S+](c4ccccc4)c4c1cccc4)(O)(=O)=O)=O)CC2C3 Chemical compound OC(C1)(C2)C3(C4)C1CC4(COC(C(F)(F)[S](C[O]1c4ccccc4[S+](c4ccccc4)c4c1cccc4)(O)(=O)=O)=O)CC2C3 QQPOBGADHBLHOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGVOWZMNQQHYKQ-UHFFFAOYSA-N OC1(CC(C2)C3)CC3(COC(C(F)(F)S(O)(=O)=O)=O)CC2C1 Chemical compound OC1(CC(C2)C3)CC3(COC(C(F)(F)S(O)(=O)=O)=O)CC2C1 QGVOWZMNQQHYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KATRYVKXKLVWJE-UHFFFAOYSA-N OC1(CC2CC3C4)CC23C4(COC(C(F)(F)S(O)(=O)=O)=O)C1 Chemical compound OC1(CC2CC3C4)CC23C4(COC(C(F)(F)S(O)(=O)=O)=O)C1 KATRYVKXKLVWJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFMGYULNQJPJCY-UHFFFAOYSA-N OCC(CO1)OC1=O Chemical compound OCC(CO1)OC1=O JFMGYULNQJPJCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWIWRVJXZOWXBR-UHFFFAOYSA-N Oc(cc1)ccc1S1c(cccc2)c2Oc2c1cccc2 Chemical compound Oc(cc1)ccc1S1c(cccc2)c2Oc2c1cccc2 ZWIWRVJXZOWXBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000005074 adamantylmethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000005119 alkyl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical group O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GBGBCPSGWNTKEK-UHFFFAOYSA-N c(cc1)ccc1S(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound c(cc1)ccc1S(c1ccccc1)c1ccccc1 GBGBCPSGWNTKEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMLCALUPMRPSMN-UHFFFAOYSA-N c(cc1)ccc1S1c(cccc2)c2Oc2c1cccc2 Chemical compound c(cc1)ccc1S1c(cccc2)c2Oc2c1cccc2 LMLCALUPMRPSMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N c(cc1)ccc1[S+](c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound c(cc1)ccc1[S+](c1ccccc1)c1ccccc1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004850 cyclobutylmethyl group Chemical group C1(CCC1)C* 0.000 description 1
- NKLCHDQGUHMCGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexylidenemethanone Chemical group O=C=C1CCCCC1 NKLCHDQGUHMCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N diazo(sulfonyl)methane Chemical compound [N-]=[N+]=C=S(=O)=O CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTVOKYUPTHZZQH-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical group F[C]F LTVOKYUPTHZZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N dipyridin-2-ylmethanone Chemical compound C=1C=CC=NC=1C(=O)C1=CC=CC=N1 QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- UFFSXJKVKBQEHC-UHFFFAOYSA-N heptafluorobutyric anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F UFFSXJKVKBQEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N meta-toluidine Natural products CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N n,n-di(nonyl)nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CCCC BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-methylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CCCC MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-ethyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCCC YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-methyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCC ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N n-decyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCNCCCCCCCCCC GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CC)CCCCCCC PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CC)CCCCCC ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCC GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-octyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CC)CCCCCCCC KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CC)CCCCC PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N n-heptyl-n-methylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(C)CCCCCCC BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCNCCCCCCC NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)CCCCCC POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCC IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(C)CCCCC JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCNCCCCCCCCC MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N n-pyridin-2-ylpyridin-2-amine Chemical compound C=1C=CC=NC=1NC1=CC=CC=N1 HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003551 oxepanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl formate Chemical group CC(C)(C)OC=O RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M tetra(propan-2-yl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC(C)[N+](C(C)C)(C(C)C)C(C)C CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005958 tetrahydrothienyl group Chemical group 0.000 description 1
- DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N tridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCN ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFPOZPZYPNVMHU-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[3-(trifluoromethyl)phenyl]azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 BFPOZPZYPNVMHU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
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- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2041—Exposure; Apparatus therefor in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
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- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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- G03F7/325—Non-aqueous compositions
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Abstract
Description
本發明係關於一種樹脂、光阻組合物及使用該光阻組合物之光阻圖案之製造方法等。
於專利文獻1中記載有含有包含下述結構單元之組合之樹脂、具有酸不穩定基之樹脂、及酸產生劑之光阻組合物。
於專利文獻2中記載有含有包含下述結構單元之組合之樹脂、具有酸不穩定基之樹脂、及酸產生劑之光阻組合物。
於專利文獻3中記載有含有包含下述結構單元之組合之樹脂、具有酸不穩定基之樹脂、及酸產生劑之光阻組合物。
[專利文獻1]日本專利特開2014-041346號公報
[專利文獻2]WO2011/034176號說明書
[專利文獻3]WO2010/140637號說明書
關於上述之光阻組合物,有未必可滿足保存穩定性(缺陷、線邊緣粗糙度)之情形。
本發明包含以下之發明。
[1]一種光阻組合物,其含有:樹脂(A1),其含有式(a4)所表示之結構單元、具有包含-O-CO-O-作為構成環之原子之環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所表示之結構單元,且不具有酸不穩定基;樹脂(A2),其具有酸不穩定基;以及酸產生劑。
[式(a4)中,R3表示氫原子或甲基。
R4表示碳數1~24之具有氟原子之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。
[式(I)中,R1表示氫原子或甲基。
R2表示碳數3~18之脂環式烴基,該脂環式烴基所包含之氫原子亦可經碳數1~8之脂肪族烴基或羥基取代。其中,鍵結於處於與L1之鍵結位置之碳原子之氫原子未經碳數1~8之脂肪族烴基取代。
L1表示單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。
[2]如[1]記載之光阻組合物,其中環狀碳酸酯結構為式(x1)所表示之環。
[3]如[1]或[2]記載之光阻組合物,其中具有環狀碳酸酯結構之結構單元為式(xx)所表示之結構單元。
[式(xx)中,Rx表示可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基、氫原子或鹵素原子。
Ax表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之-CH2-亦可經-O-或-CO-取代。
環Wx表示可具有取代基之環狀碳酸酯結構之環]。
[4]如[1]至[3]中任一項記載之光阻組合物,其中R2為未經取代之碳數3~18之脂環式烴基。
[5]如[1]至[4]中任一項記載之光阻組合物,其中式(a4)所表示之結構單元為選自由式(a4-0)所表示之結構單元、式(a4-1)所表示之結構單元、式(a4-2)所表示之結構單元及式(a4-3)所表示之結構單元所組成之群中之至少一種。
[式(a4-0)中,Rf1表示氫原子或甲基。
Rf2表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
[式(a4-1)中,Rf3表示氫原子或甲基。
L3表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
Rf4表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
[式(a4-2)中,Rf5表示氫原子或甲基。
L4表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
Rf6表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
[式(a4-3)中,Rf7表示氫原子或甲基。
L5表示碳數1~6之烷二基。
Af13表示可具有氟原子之碳數1~18之2價之飽和烴基。
Xf12表示羰氧基或氧羰基。
Af14表示可具有氟原子之碳數1~17之飽和烴基。
其中,Af13及Af14中之至少1個具有氟原子]。
[6]如[1]至[5]中任一項記載之光阻組合物,其中樹脂(A2)為包含選自由式(a1-1)所表示之結構單元及式(a1-2)所表示之結構單元所組成之群中之至少一種的樹脂。
[式(a1-1)及式(a1-2)中,La1及La2分別獨立地表示-O-或*-O-(CH2)k1-CO-O-,k1表示1~7之整數,*表示與-CO-之鍵結鍵。
Ra4及Ra5分別獨立地表示氫原子或甲基。
Ra6及Ra7分別獨立地表示碳數1~8之烷基、碳數3~18之脂環式烴基或組合該等而成之基。
m1表示0~14之整數。
n1表示0~10之整數。
n1'表示0~3之整數]。
[7]如[6]記載之光阻組合物,其中樹脂(A2)為包含式(a1-1)所表示之結構單元及式(a1-2)所表示之結構單元之樹脂。
[8]一種光阻圖案之製造方法,其包含:(1)將如[1]至[7]中任一項記載之光阻組合物塗佈於基板上之步驟;(2)使塗佈後之組合物乾燥而形成組合物層之步驟;(3)對組合物層進行曝光之步驟;(4)對曝光後之組合物層進行加熱之步驟;及(5)將加熱後之組合物層進行顯影之步驟。
[9]一種樹脂,其含有式(a4)所表示之結構單元、具有包含-O-CO-O-作為構成環之原子之環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所表示之結構單元,且不具有酸不穩定基。
[式(a4)中,R3表示氫原子或甲基。
R4表示碳數1~24之具有氟原子之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。
[式(I)中,R1表示氫原子或甲基。
R2表示碳數3~18之脂環式烴基,該脂環式烴基所包含之氫原子亦可經碳數1~8之脂肪族烴基或羥基取代。其中,鍵結於處於與L1之鍵結位置之碳原子之氫原子未經碳數1~8之脂肪族烴基取代。
L1表示單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。
[10]如[9]記載之樹脂,其中環狀碳酸酯結構為式(x1)所表示之環。
[11]如[9]或[10]記載之樹脂,其中具有環狀碳酸酯結構之結構單元為式(xx)所表示之結構單元。
[式(xx)中,Rx表示可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基、氫原子或鹵素原子。
Ax表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之-CH2-亦可經-O-或-CO-取代。
環Wx表示可具有取代基之環狀碳酸酯結構之環]。
[12]如[9]至[11]中任一項記載之樹脂,其中R2為未經取代之碳數3~18之脂環式烴基。
[13]如[9]至[12]中任一項記載之樹脂,其中式(a4)所表示之結構單元為選自由式(a4-0)所表示之結構單元、式(a4-1)所表示之結構單元、式(a4-2)所表示之結構單元及式(a4-3)所表示之結構單元所組成之群中之至少一種。
[式(a4-0)中,Rf1表示氫原子或甲基。
Rf2表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
[式(a4-1)中,Rf3表示氫原子或甲基。
L3表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
Rf4表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
[式(a4-2)中,Rf5表示氫原子或甲基。
L4表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
Rf6表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
[式(a4-3)中,
Rf7表示氫原子或甲基。
L5表示碳數1~6之烷二基。
Af13表示可具有氟原子之碳數1~18之2價之飽和烴基。
Xf12表示羰氧基或氧羰基。
Af14表示可具有氟原子之碳數1~17之飽和烴基。
其中,Af13及Af14中之至少1個具有氟原子]。
藉由使用本發明之光阻組合物,保存穩定性(缺陷、線邊緣粗糙度)變良好。
本說明書中,只要沒有特別事先說明,則於化合物之結構式之說明中,「脂肪族烴基」意指直鏈狀或支鏈狀之烴基,「脂環式烴基」意指自脂環式烴之環除去相當於價數之數量之氫原子的基。「芳香族烴基」亦包含於芳香環鍵結有烴基之基。於存在立體異構物之情形時,包含全部立體異構物。
於本說明書中,所謂「(甲基)丙烯酸系單體」,意指具有「CH2=CH-CO-」或「CH2=C(CH3)-CO-」之結構之單體之至少1種。同樣地所謂「(甲基)丙烯酸酯」及「(甲基)丙烯酸」,分別意指「丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中之至少一種」及「丙烯酸及甲基丙烯酸中之至少一種」。又,關於本說明書中所記載之基,可為採用直鏈結構與支鏈結構兩者中之任一者之基。
<樹脂>
本發明之樹脂係下述之含有式(a4)所表示之結構單元、具有包含-O-CO-O-作為構成環之原子之環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所
表示之結構單元,且不具有酸不穩定基之樹脂(以下有稱為「樹脂(A1)」之情形)。
該樹脂(A1)係作為下述之光阻組合物之樹脂有用。
樹脂(A1)較佳為僅包含式(a4)所表示之結構單元、具有環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所表示之結構單元的樹脂。
<光阻組合物>
本發明之光阻組合物含有:樹脂(以下有稱為「樹脂(A)」之情形)、及酸產生劑(以下有稱為「酸產生劑(B)」之情形)。
本發明之光阻組合物較佳為進而含有溶劑(E)。
本發明之光阻組合物較佳為進而含有抑止劑(C),該抑止劑(C)包含弱酸分子內鹽(以下有稱為「弱酸分子內鹽(D)」之情形)等酸性度較弱之鹽等。
<樹脂(A)>
樹脂(A)包含:上述之含有式(a4)所表示之結構單元、具有環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所表示之結構單元,且不具有酸不穩定基之樹脂;以及具有酸不穩定基之樹脂(以下有稱為「樹脂(A2)」之情形)。
本說明書中,所謂「環狀碳酸酯結構」,意指具有-O-CO-O-作為構成環之原子之結構,所謂「酸不穩定基」,意指具有脫離基,且脫離基藉由與酸之接觸而脫離,形成親水性基(例如,羥基或羧基)之基。
又,樹脂(A)亦可包含樹脂(A1)及樹脂(A2)以外之樹脂(以下有稱為「樹脂(X)」之情形)。
<樹脂(A1)>
樹脂(A1)含有式(a4)所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元
(a4)」之情形)。
[式(a4)中,R3表示氫原子或甲基。
R4表示碳數1~24之具有氟原子之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。
作為R4之具有氟原子之飽和烴基,可列舉:二氟甲基、三氟甲基、1,1-二氟乙基、2,2-二氟乙基、2,2,2-三氟乙基、全氟乙基、1,1,2,2-四氟丙基、1,1,2,2,3,3-六氟丙基、全氟乙基甲基、1-(三氟甲基)-1,2,2,2-四氟乙基、1-(三氟甲基)-2,2,2-三氟乙基、全氟丙基、1,1,2,2-四氟丁基、1,1,2,2,3,3-六氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、全氟丁基、1,1-雙(三氟)甲基-2,2,2-三氟乙基、2-(全氟丙基)乙基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟戊基、、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-十氟戊基、1,1-雙(三氟甲基)-2,2,3,3,3-五氟丙基、全氟戊基、2-(全氟丁基)乙基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-十氟己基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-十二氟己基、全氟戊基甲基及全氟己基等氟化烷基;全氟環己基、全氟金剛烷基等具有氟原子之脂環式烴基。
作為結構單元(a4),例如,較佳為式(a4-0)~式(a4-2)中之任一者所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元(a4-0)~結構單元(a4-2)」之情形)。
[式(a4-0)中,
Rf1表示氫原子或甲基。
Rf2表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
[式(a4-1)中,Rf3表示氫原子或甲基。
L3表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
Rf4表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
其中,L3及Rf4之合計碳數為21以下。該碳數表示亞甲基經氧原子或羰基取代前之碳數。
[式(a4-2)中,Rf5表示氫原子或甲基。
L4表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
Rf6表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基]。
其中,L4及Rf6之合計碳數為21以下。
於式(a4-1)及式(a4-2)中,作為L3及L4之2價之飽和烴基,可列舉:脂肪族飽和烴基及脂環式飽和烴基,較佳為2價之脂肪族飽和烴
基。具體而言,可列舉:亞甲基、伸乙基、丙二基、丁二基及戊二基等烷二基。
作為飽和烴基所包含之亞甲基經氧原子或羰基取代之基,例如可列舉:式(L3-1)~式(L3-3)所表示之基。下述式中,*表示與-O-之鍵結鍵。
式(L3-1)中,X3 x1表示羰氧基或氧羰基。
L3 x1表示碳數1~16之2價之脂肪族飽和烴基。
L3 x2表示碳數1~15之2價之脂肪族飽和烴基。
其中,L3 x1及L3 x2之合計碳數為16以下。
式(L3-2)中,L3 x3表示碳數1~17之2價之脂肪族飽和烴基。
L3 x4表示單鍵或碳數1~16之2價之脂肪族飽和烴基。
其中,L3 x3及L3 x4之合計碳數為17以下。
式(L3-3)中,L3 x5表示碳數1~15之2價之脂肪族飽和烴基。
L3 x6及L3 x7分別獨立地表示碳數1~14之2價之脂肪族飽和烴基。
其中,L3 x5、L3 x6及L3 x7之合計碳數為15以下。
L3 x1較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為亞甲基或
伸乙基。
L3 x2較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為亞甲基或伸乙基。
L3 x3較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基。
L3 x4較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基。
L3 x5較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為亞甲基或伸乙基。
L3 x6較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為亞甲基或伸乙基。
L3 x7較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基。
作為式(L3-1)所表示之基,例如可列舉:以下所示之2價之基。
作為式(L3-2)所表示之基,例如可列舉:以下所示之2價之基。
作為式(L3-3)所表示之基,例如可列舉:以下所示之2價之基。
L3及L4較佳為亞甲基或伸乙基。
作為具有氟原子之飽和烴基,可列舉:與式(a4)之R4中者相同之基。
作為結構單元(a4-0),例如可列舉以下者。
亦可列舉上述之結構單元中,相當於Rf1之甲基經氫原子取代之結構單元作為結構單元(a4-0)之具體例。
作為結構單元(a4-1),例如可列舉以下者。
亦可列舉上述之結構單元中,相當於Rf3之甲基經氫原子取代之結構單元作為結構單元(a4-1)之具體例。
作為結構單元(a4-2),例如可列舉以下者。
亦可列舉上述之結構單元中,相當於Rf5之甲基經氫原子取代之結構單元作為結構單元(a4-2)之具體例。
作為上述以外之結構單元(a4),例如亦可列舉:式(a4-3)所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元(a4-3)」之情形)。
[式(a4-3)中,Rf7表示氫原子或甲基。
L5表示碳數1~6之烷二基。
Af13表示可具有氟原子之碳數1~18之2價之飽和烴基。
Xf12表示羰氧基或氧羰基。
Af14表示可具有氟原子之碳數1~17之飽和烴基。
其中,Af13及Af14中之至少1個具有氟原子]。
其中,L5、Af13及Af14之合計碳數為20以下。
作為L5之烷二基,例如可列舉:亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基等直鏈狀烷二基;1-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、1-甲基丁烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等支鏈狀烷二基。
Af13之2價之飽和烴基例如包含脂肪族飽和烴基及脂環式飽和烴基、以及藉由組合該等而形成之2價之脂肪族烴基。該脂肪族烴基亦可具有碳-碳不飽和鍵,較佳為飽和之脂肪族烴基。
作為Af13之可具有氟原子之飽和烴基,較佳為可具有氟原子之脂肪族飽和烴基,更佳為全氟烷二基。
作為可具有氟原子之2價之脂肪族飽和烴基,可列舉:亞甲基、伸乙基、丙二基、丁二基及戊二基等烷二基;二氟亞甲基、全氟伸乙基、全氟丙二基、全氟丁二基及全氟戊二基等全氟烷二基等。
可具有氟原子之2價之脂環式飽和烴基可為單環式及多環式中之任一種。作為單環式之2價之脂環式飽和烴基,可列舉:環己二基及全氟環己二基等。作為多環式之2價之脂環式飽和烴基,可列舉:金剛烷二基、降烷二基、全氟金剛烷二基等。
Af14之飽和烴基例如包含脂肪族飽和烴基及脂環式飽和烴基、以及藉由組合該等而形成之2價之脂肪族烴基。該脂肪族烴基亦可具有碳-碳不飽和鍵,較佳為飽和之脂肪族烴基。
作為可具有氟原子之脂肪族飽和烴基,可列舉:三氟甲基、二
氟甲基、甲基、全氟乙基、1,1,1-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、乙基、全氟丙基、1,1,1,2,2-五氟丙基、丙基、全氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、丁基、全氟戊基、1,1,1,2,2,3,3,4,4-九氟戊基及戊基、己基、全氟己基、庚基、全氟庚基、辛基及全氟辛基等。
可具有氟原子之脂環式飽和烴基可為單環式及多環式中之任一種。作為單環式之脂環式飽和烴基,可列舉:環丙基甲基、環丙基、環丁基甲基、環戊基、環己基、全氟環己基。作為多環式之脂環式飽和烴基,可列舉:金剛烷基、降基、全氟金剛烷基等。
式(a4-3)中,作為L5,較佳為伸乙基。
Af13較佳為脂肪族飽和烴基,該脂肪族飽和烴基較佳為碳數1~6,更佳為碳數2~3。
作為結構單元(a4-3),例如可列舉以下者。
亦可列舉上述之結構單元中,相當於Rf7之甲基經氫原子取代之結構單元作為結構單元(a4-3)之具體例。
結構單元(a4-0)係自式(a4'-0)所表示之化合物(以下有稱為「化合物(a4'-0)」之情形)衍生。
[式(a4'-0)中,Rf1及Rf2表示與上述相同之含義]。
化合物(a4'-0)可為市售品,亦可為利用公知之方法所製作者。此處,所謂公知之方法,例如可列舉:使(甲基)丙烯酸或其衍生物(例如
(甲基)丙烯醯氯等)、與醇(HO-Rf2)進行縮合之方法。作為市售品,可列舉以下所表示之化合物等。
結構單元(a4-1)係自式(a4'-1)所表示之化合物(以下有稱為「化合物(a4'-1)」之情形)衍生。
[式(a4'-1)中,Rf3、Rf4及L3表示與上述相同之含義]。
化合物(a4'-1)例如可藉由使式(a4'-1-1)所表示之化合物、與式(a4'-1-2)所表示之化合物於溶劑中鹼性觸媒之存在下進行反應而製造。
[式中,Rf3、Rf4及L3表示與上述相同之含義]。
作為溶劑,可列舉四氫呋喃等。又,作為鹼性觸媒,可列舉吡啶等。
作為式(a4'-1-1)所表示之化合物,可列舉:甲基丙烯酸羥基乙酯等,可應用市售品。又,例如可應用藉由使(甲基)丙烯酸或其衍生物(例如(甲基)丙烯醯氯等)、與二醇(HO-L3-OH)進行縮合之公知方法而獲得者。
作為式(a4'-1-2)所表示之化合物,可視Rf4之種類,將所對應之羧酸向無水物轉換而使用。作為市售品,有七氟丁酸酐等。
結構單元(a4-2)係自式(a4'-2)所表示之化合物(以下有稱為「化合
物(a4'-2)」之情形)衍生。
[式(a4'-2)中,Rf5、Rf6及L4表示與上述相同之含義]。
化合物(a4'-2)例如可藉由使式(a4'-2-1)所表示之化合物、與式(a4'-2-2)所表示之化合物於溶劑中觸媒之存在下進行反應而製造。作為溶劑,可使用二甲基甲醯胺等。作為觸媒,可使用碳酸鉀及碘化鉀等。
式(a4'-2-1)所表示之化合物較佳為可容易自市場獲取者(市售品)。關於此種市售品,有甲基丙烯酸等。
式(a4'-2-2)所表示之化合物例如可藉由使式(a4'-2-3)所表示之化合物、與式(a4'-2-4)所表示之化合物進行反應而製造。該反應係於溶劑中鹼觸媒之存在下進行。作為該反應中所使用之溶劑,為四氫呋喃等。作為鹼觸媒,可使用吡啶等。
[式中,Rf6及L4表示與上述相同之含義]。
式(a4'-2-3)所表示之化合物可視L4之種類而使用適當者。
作為式(a4'-2-3)所表示之化合物,例如可藉由使用氯乙醯氯等而製作L4為亞甲基之情形之式(a4'-2-2)所表示之化合物。該氯乙醯氯可容易自市場獲取。
式(a4'-2-4)所表示之化合物可視Rf6之種類而使用適當之醇。
作為式(a4'-2-4)所表示之化合物,例如可藉由使用2,2,3,3,4,4,4-七氟-1-丁醇等而製造Rf6為經氟原子取代之脂肪族烴基的式(a4'-2-2)所表示之化合物。該2,2,3,3,4,4,4-七氟-1-丁醇可容易自市場獲取。
結構單元(a4-3)係自式(a4'-3)所表示之化合物(以下有稱為「化合物(a4'-3)」之情形)衍生。
[式(a4'-3)中,Rf7、L5、Af13、Xf12及Af14表示與上述相同之含義]。
式(a4'-3)所表示之化合物例如可藉由使式(a4'-3-1)所表示之化合物、與式(a4'-3-2)所表示之羧酸進行反應而獲得。
該反應通常於溶劑之存在下進行。作為溶劑,可使用四氫呋喃及甲苯等。反應時,亦可使公知之酯化觸媒(例如,酸觸媒或碳二醯亞胺觸媒等)共存。
[式中,Rf7、L5、Af13、Xf12及Af14表示與上述相同之含義]。
作為式(a4'-3-1)所表示之化合物,可使用市售品,亦可利用公知方法進行製造。此處所謂公知之方法,例如可列舉:使(甲基)丙烯酸或其衍生物(例如(甲基)丙烯醯氯等)、與二醇(HO-L5-OH)進行縮合之方法。作為市售品,可列舉:甲基丙烯酸羥基乙酯等。
式(a4'-3-2)所表示之羧酸可藉由公知方法進行製造。例如,只要使用以下任一種化合物即可。
樹脂(A1)含有具有環狀碳酸酯結構之結構單元(以下有稱為「結構單元(x)」之情形)。結構單元(x)所具有之環狀碳酸酯結構可為單環式亦可為多環式,亦可具有碳酸酯鍵之氧原子以外之雜原子。作為雜原子,可列舉:1以上之氧原子、硫原子及氮原子等。
上述環狀碳酸酯結構之碳數較佳為2~18,更佳為3~12。又,上述環狀碳酸酯結構之環較佳為4員環~12員環,更佳為5員環~8員環,進而較佳為5員環。
作為上述環狀碳酸酯結構,例如可列舉:式(x1)~式(x15)所表示之結構,其中,較佳為式(x1)或式(x2)所表示之結構,更佳為式(x1)所表示之結構。*表示鍵結鍵。
上述環狀碳酸酯結構亦可具有取代基。作為此種取代基,例如可列舉:碳數1~12之脂肪族烴基、羥基、碳數1~6之烷氧基、碳數1
~6之具有羥基之脂肪族烴基等。
作為脂肪族烴基,例如可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基及正己基等烷基。
作為烷氧基,可列舉:甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基及己氧基等。
作為具有羥基之脂肪族烴基,例如可列舉:羥基甲基及2-羥基乙基等。
作為具有取代基之環狀碳酸酯結構,例如可列舉以下之結構。*表示鍵結鍵。
結構單元(x)較佳為式(xx)所表示之結構單元。
[式(xx)中,Rx表示可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基、氫原子或鹵素原子。
Ax表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之-CH2-亦可經-O-或-CO-取代。
環Wx表示可具有取代基之環狀碳酸酯結構之環]。
環Wx之取代基係如上所述。
作為Rx之鹵素原子,可列舉:氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
作為Rx之烷基,例如可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基及正己基等,較佳為碳數1~4之烷基,更佳為甲基或乙基。
作為Rx之具有鹵素原子之烷基,例如可列舉:三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基、全氟己基、三氯甲基、三溴甲基及三碘甲基等。
Rx較佳為氫原子或碳數1~4之烷基,更佳為氫原子、甲基或乙基,進而較佳為氫原子或甲基。
作為Ax之2價之飽和烴基,可列舉:直鏈狀烷二基、支鏈狀烷二基、單環式或多環式之2價之脂環式飽和烴基,亦可為組合該等基中2種以上者。
具體而言,可列舉:亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基、十三烷-1,13-二基、十四烷-1,14-二基、十五烷-1,15-二基、十六烷-1,16-二基、十七烷-1,17-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基及丙烷-2,2-二基等直鏈狀烷二基;
丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等支鏈狀烷二基;
環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等作為環烷二基之單環式之2價之脂環式飽和烴基;
降烷-1,4-二基、降烷-2,5-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式之2價之脂環式飽和烴基等。
Ax較佳為碳數1~8之烷二基、碳數3~8之烷二基之1~3之亞甲基經氧或羰基取代之基、包含金剛烷二基與碳數3~8之烷二基之1~3之亞甲基經氧或羰基取代之基的基。Ax更佳為-Ax1-O-CO-O-Ax2-。此
處,Ax1及Ax2分別為金剛烷二基或碳數3~8之烷二基。
作為結構單元(xx),例如可列舉以下所表示之結構單元等。
結構單元(xx)係自式(xx')所表示之化合物(以下有稱為「化合物(xx')」之情形)衍生。化合物(xx')可藉由公知之方法進行製造。
[式(xx')中,Rx、Ax及環Wx表示與上述相同之含義]。
化合物(xx')可為市售品,亦可為利用以下之方法等所製造者。
化合物(xx')可藉由使式(xx'-a)所表示之化合物與式(xx'-b)所表示之化合物於溶劑中進行反應而製造。
[式中,Rx、Ax及環Wx表示與上述相同之含義]。
作為溶劑,可列舉:乙酸乙酯等。
上述反應可於三乙胺等鹼性觸媒之存在下進行。
作為式(xx'-a)所表示之化合物,可列舉以下者。
作為式(xx'-b)所表示之化合物,可列舉以下者。
又,化合物(xx')可藉由使式(xx'-c)所表示之化合物與式(xx'-d)所表示之化合物於溶劑中進行反應而製造。
[式中,Rx、Ax及環Wx表示與上述相同之含義]。
作為溶劑,可列舉氯仿等。
作為式(xx'-b)所表示之化合物,可列舉以下者。
式(xx'-c)所表示之化合物可藉由使式(xx'-d)所表示之化合物與式(xx'-e)所表示之化合物於溶劑中進行反應而製造。
[式中,Rx表示與上述相同之含義]。
作為溶劑,可列舉氯仿等。
作為式(xx'-d)所表示之化合物,可列舉以下者。
於式(xx')中之Ax為-Ax1-O-CO-O-Ax2-之式(xx1')所表示之化合物的情形時,該化合物可藉由使式(xx1'-a)所表示之化合物與式(xx1'-b)所表示之化合物於溶劑中進行反應而製造。
[式中,Ax、Ax1及Ax2表示與上述相同之含義]。
作為溶劑,可列舉氯仿等。
作為式(xx1'-b)所表示之化合物,可列舉以下者。
式(xx1'-a)所表示之化合物可藉由使式(xx1'-c)所表示之化合物與式(xx1'-d)所表示之化合物於溶劑中進行反應而製造。
[式中,Rx及Ax表示與上述相同之含義]。
作為溶劑,可列舉氯仿等。
作為式(xx1'-c)所表示之化合物,可列舉以下者。
樹脂(A1)含有式(I)所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元(I)」之情形)。其中,結構單元(I)係設為不包含下述之式(a2)所表示之結構單元者。
[式(I)中,R1表示氫原子或甲基。
R2表示碳數3~18之脂環式烴基,該脂環式烴基所包含之氫原子亦可經碳數1~8之脂肪族烴基或羥基取代。其中,鍵結於處於與L1之鍵結位置之碳原子之氫原子未經碳數1~8之脂肪族烴基取代。
L1表示單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。
碳數1~8之脂肪族烴基例如可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基及2-乙基己基。
作為具有取代基之R2,可列舉:3-羥基金剛烷基、3-甲基金剛烷基等。
作為L1之2價之飽和烴基,可列舉:脂肪族飽和烴基及脂環式飽和烴基,較佳為2價之脂肪族飽和烴基。具體而言,可列舉:亞甲基、伸乙基、丙二基、丁二基及戊二基等烷二基。
作為飽和烴基所包含之亞甲基經氧原子或羰基取代之基,例如可列舉:式L1-1)~式L1-4)所表示之基。下述式中,*表示與-O-之鍵結鍵。
式L1-1)中,Xx1表示羰氧基或氧羰基。
Lx1表示碳數1~16之2價之脂肪族飽和烴基。
Lx2表示單鍵或碳數1~15之2價之脂肪族飽和烴基。
其中,Lx1及Lx2之合計碳數為16以下。
式L1-2)中,Lx3表示碳數1~17之2價之脂肪族飽和烴基。
Lx4表示單鍵或碳數1~16之2價之脂肪族飽和烴基。
其中,Lx3及Lx4之合計碳數為17以下。
式L1-3)中,
Lx5表示碳數1~15之2價之脂肪族飽和烴基。
Lx6及Lx7分別獨立地表示單鍵或碳數1~14之2價之脂肪族飽和烴基。
其中,Lx5、Lx6及Lx7之合計碳數為15以下。
式L1-4)中,Lx8及Lx9表示單鍵或碳數1~12之2價之脂肪族飽和烴基。
Wx1表示碳數3~15之2價之脂環式飽和烴基。
其中,Lx8、Lx9及Wx1之合計碳數為15以下。
Lx1較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為亞甲基或伸乙基。
Lx2較佳為單鍵或碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為單鍵。
Lx3較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基。
Lx4較佳為單鍵或碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基。
Lx5較佳為碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為亞甲基或伸乙基。
Lx6較佳為單鍵或碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為亞甲基或伸乙基。
Lx7較佳為單鍵或碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基。
Lx8較佳為單鍵或碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基,更佳為單鍵或亞甲基。
Lx9較佳為單鍵或碳數1~8之2價之脂肪族飽和烴基、更佳為單鍵或亞甲基。
Wx1較佳為碳數3~10之2價之脂環式飽和烴基,更佳為環己二基或金剛烷二基。
作為式L1-1)所表示之基,例如可列舉以下所示之2價之基。
作為式L1-2)所表示之基,例如可列舉:以下所示之2價之基。
作為式L1-3)所表示之基,例如可列舉:以下所示之2價之基。
作為式L1-4)所表示之基,例如可列舉:以下所示之2價之基。
L1較佳為單鍵或式L1-1)所表示之基。
作為結構單元(I),可列舉以下者等。
亦可列舉上述之結構單元中,相當於R1之甲基經氫原子取代之結構單元作為結構單元(I)的具體例。
結構單元(I)係自式(I')所表示之化合物(以下有稱為「化合物(I')」之情形)衍生。
[式(I')中,R1、R2及L1表示與上述相同之含義]。
化合物(I')可為市售品,亦可為利用公知方法所製造者。此處,
所謂公知之方法,例如可列舉:使(甲基)丙烯酸或其衍生物(例如(甲基)丙烯醯氯等)、與醇(HO-L1-R2)進行縮合之方法。作為市售品,可列舉:甲基丙烯酸金剛烷-1-基酯、丙烯酸金剛烷-1-基酯等。
關於樹脂(A1)中之結構單元(a4)之含有率,相對於樹脂(A1)之全部結構單元,較佳為20~80莫耳%,更佳為25~70莫耳%,進而較佳為30~60莫耳%。
關於樹脂(A1)中之具有環狀碳酸酯結構之結構單元之含有率,相對於樹脂(A1)之全部結構單元,較佳為3~50莫耳%,更佳為5~40莫耳%,進而較佳為5~30莫耳%,進而更佳為7~25莫耳%。
關於樹脂(A1)中之結構單元(I)之含有率,相對於樹脂(A1)之全部結構單元,較佳為17~77莫耳%,更佳為25~70莫耳%,進而較佳為35~65莫耳%。
若結構單元(a4)、具有環狀碳酸酯結構之結構單元及結構單元(I)之含有率處於上述範圍內,則可製造缺陷較少,線邊緣粗糙度更優異之光阻圖案。
樹脂(A1)亦可進而包含下述之式(a2)所表示之結構單元或式(a3)所表示之結構單元。
樹脂(A1)之重量平均分子量較佳為5,000以上(更佳為7,000以上,進而較佳為10,000以上)且80,000以下(更佳為50,000以下,進而較佳為30,000以下)。本說明書中,重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析分析,以標準聚苯乙烯基準之換算值之形式求出者,該分析之詳細分析條件係於本申請案之實施例中詳細說明。
樹脂(A1)可將衍生結構單元(a4)、具有包含-O-CO-O-作為構成環之原子之環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所表示之結構單元之單體各自僅1種或2種以上進行組合,進而任意地將下述之不具有酸不穩定基之單體之1種以上進行組合,並藉由公知之聚合法(例如自由基聚合
法)而進行製造。
<樹脂(A2)>
樹脂(A2)含有具有酸不穩定基之結構單元(以下有稱為「結構單元(a1)」之情形)。結構單元(a1)係自具有酸不穩定基之單體(以下有稱為「單體(a1)」之情形)衍生。樹脂(A2)較佳為進而含有結構單元(a1)以外之結構單元。作為結構單元(a1)以外之結構單元,可列舉:不具有酸不穩定基之結構單元(以下有稱為「結構單元(s)」之情形)、結構單元(s)以外之其他結構單元(以下有稱為「結構單元(t)」之情形)。
<結構單元(a1)>
結構單元(a1)係自具有酸不穩定基之單體(以下有稱為「單體(a1)」之情形)衍生。樹脂(A2)中,結構單元(a1)所包含之酸不穩定基較佳為下述之基(1)及/或基(2)。
[式(1)中,Ra1~Ra3分別獨立地表示碳數1~8之烷基、碳數3~20之脂環式烴基或組合該等而成之基,Ra1及Ra2相互鍵結並與該等所鍵結之碳原子一起形成碳數3~20之2價之脂環式烴基。
na表示0或1。
*表示鍵結鍵]。
[式(2)中,Ra1'及Ra2'分別獨立地表示氫原子或碳數1~12之烴基,Ra3'表示碳數1~20之烴基,或Ra2'及Ra3'相互鍵結並與該等所鍵結之碳原子一起形成碳數3~20之2價之雜環基,該烴基及該2價之雜環基所包含之-CH2-亦可經-O-或-S-取代。
X表示氧原子或硫原子。
*表示鍵結鍵]。
作為Ra1~Ra3之烷基,可列舉:甲基、乙基、丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基等。
作為Ra1~Ra3之脂環式烴基,可為單環式及多環式中之任一種。作為單環式之脂環式烴基,例如可列舉:環戊基、環己基、環庚基、環辛基等環烷基。作為多環式之脂環式烴基,例如可列舉:十氫萘基、金剛烷基、降基及下述之基(*表示鍵結鍵)等。Ra1~Ra3之脂環式烴基之碳數較佳為3~16。
na較佳為0。
na較佳為0。
作為Ra1及Ra2相互鍵結而形成2價之脂環式烴基之情形之-C(Ra1)(Ra2)(Ra3),例如可列舉下述之基。2價之脂環式烴基較佳為碳數3~12。*表示與-O-之鍵結鍵。
作為式(1)所表示之基,可列舉:1,1-二烷基烷氧基羰基(式(1)中Ra1~Ra3為烷基之基,較佳為第三丁氧基羰基)、2-烷基金剛烷-2-基氧基羰基(式(1)中,Ra1、Ra2及該等所鍵結之碳原子形成金剛烷基,Ra3為烷基之基)及1-(金剛烷-1-基)-1-烷基烷氧基羰基(式(1)中,Ra1及Ra2為烷基,Ra3為金剛烷基之基)等。
作為Ra1'~Ra3'之烴基,例如可列舉:烷基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該等組合而形成之基等。
烷基及脂環式烴基可列舉與上述相同者。
作為芳香族烴基,可列舉:苯基、萘基、蒽基、對甲基苯基、對第三丁基苯基、對金剛烷基苯基、甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、2,4,6-三甲苯基、聯苯基、菲基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等芳基等。
作為Ra2'及Ra3'相互鍵結並與該等所鍵結之碳原子及X一起形成之2價之雜環基,可列舉下述之基。*表示鍵結鍵。
Ra1'及Ra2'中,至少1個較佳為氫原子。
作為式(2)所表示之基之具體例,可列舉以下之基。*表示鍵結鍵。
單體(a1)較佳為具有酸不穩定基與乙烯性不飽和鍵之單體,更佳
為具有酸不穩定基之(甲基)丙烯酸系單體。
具有酸不穩定基之(甲基)丙烯酸系單體中,較佳為可列舉具有碳數5~20之脂環式烴基者。若將具有源自具有如脂環式烴基之體積大結構之單體(a1)之結構單元的樹脂(A2)用於光阻組合物,則可使光阻圖案之解像度提高。
作為源自具有式(1)所表示之基之(甲基)丙烯酸系單體之結構單元,較佳為可列舉:式(a1-0)所表示之結構單元、式(a1-1)所表示之結構單元或式(a1-2)所表示之結構單元。該等可單獨使用,亦可併用2種以上。本說明書中,存在將式(a1-0)所表示之結構單元、式(a1-1)所表示之結構單元及式(a1-2)所表示之結構單元分別稱為結構單元(a1-0)、結構單元(a1-1)及結構單元(a1-2),將衍生結構單元(a1-0)之單體、衍生結構單元(a1-1)之單體及衍生結構單元(a1-2)之單體分別稱為單體(a1-0)、單體(a1-1)及單體(a1-2)之情形。
[式(a1-0)中,La01表示氧原子或*-O-(CH2)k01-CO-O-,k01表示1~7之整數,*表示與羰基之鍵結鍵。
Ra01表示氫原子或甲基。
Ra02、Ra03及Ra04分別獨立地表示碳數1~8之烷基、碳數3~18之脂環式烴基或組合該等而成之基]。
[式(a1-1)及式(a1-2)中,La1及La2分別獨立地表示-O-或*-O-(CH2)k1-CO-O-,k1表示1~7之整數,*表示與-CO-之鍵結鍵。
Ra4及Ra5分別獨立地表示氫原子或甲基。
Ra6及Ra7分別獨立地表示碳數1~8之烷基、碳數3~18之脂環式烴基或藉由組合該等而形成之基。
m1表示0~14之整數。
n1表示0~10之整數。
n1'表示0~3之整數]。
La01較佳為氧原子或*-O-(CH2)k01-CO-O-,更佳為氧原子。k01較佳為1~4之整數,更佳為1。
作為Ra02、Ra03及Ra04之烷基、脂環式烴基及組合該等而成之基,可列舉:與式(1)之Ra1~Ra3中所列舉之基相同之基。
Ra02、Ra03及Ra04之烷基較佳為碳數6以下。
Ra02、Ra03及Ra04之脂環式烴基較佳為碳數3~8、更佳為3~6。
Ra02及Ra03較佳為碳數1~6之烷基,更佳為甲基或乙基。
Ra04較佳為碳數1~6之烷基或碳數5~12之脂環式烴基,更佳為
甲基、乙基、環己基或金剛烷基。
La1及La2較佳為-O-或*-O-(CH2)k1'-CO-O-,更佳為-O-。k1'為1~4之整數,較佳為1。
Ra4及Ra5較佳為甲基。
作為Ra6及Ra7之烷基,可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、2-乙基己基、正辛基等。
作為Ra6及Ra7之脂環式烴基,可為單環式或多環式中之任一種,作為單環式之脂環式烴基,可列舉:環丙基、環丁基、環戊基、環己基、甲基環己基、二甲基環己基、環庚基、環辛基、環癸基等環烷基。作為多環式之脂環式烴基,可列舉:十氫萘基、金剛烷基、2-烷基金剛烷-2-基、1-(金剛烷-1-基)烷-1-基、降基、甲基降基及異萡基等。
作為藉由將Ra6及Ra7之烷基與脂環式烴基組合而形成之基,可列舉芳烷基,可列舉苄基、苯乙基等。
Ra6及Ra7之烷基較佳為碳數6以下。
Ra6及Ra7之脂環式烴基較佳為碳數3~8,更佳為3~6。
m1較佳為0~3之整數,更佳為0或1。
n1較佳為0~3之整數,更佳為0或1。
n1'較佳為0或1,更佳為1。
作為單體(a1-0),例如較佳為式(a1-0-1)~式(a1-0-12)中之任一者所表示之單體,更佳為式(a1-0-1)~式(a1-0-10)中之任一者所表示之單體。
亦可列舉上述之結構單元中,相當於Ra01之甲基經氫原子取代之結構單元作為結構單元(a1-0)的具體例。
作為單體(a1-1),例如可列舉:日本專利特開2010-204646號公報所記載之單體。其中,較佳為式(a1-1-1)~式(a1-1-8)中之任一者所表示之單體,更佳為式(a1-1-1)~式(a1-1-4)中之任一者所表示之單體。
作為單體(a1-2),可列舉:(甲基)丙烯酸1-甲基環戊烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸1-乙基環戊烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸1-甲基環己烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸1-乙基環己烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸1-乙基環庚烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸1-乙基環辛烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸1-異丙基環戊烷-1-基酯、(甲基)丙烯酸1-異丙基環己烷-1-基酯等。較佳為式(a1-2-1)~式(a1-2-12)中之任一者所表示之單體,更佳為式(a1-2-3)、式(a1-2-4)、式(a1-2-9)或式(a1-2-10)所表示之單體,進而較佳為式(a1-2-3)或式(a1-2-9)所表示之單體。
於樹脂(A2)包含結構單元(a1-0)及/或結構單元(a1-1)及/或結構單元(a1-2)之情形時,關於該等之合計含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,通常為10~95莫耳%,較佳為15~90莫耳%,更佳為20~85莫耳%。
進而,作為具有基(1)之結構單元(a1),亦可列舉式(a1-3)所表示之結構單元。有將式(a1-3)所表示之結構單元稱為結構單元(a1-3)之情形。又,有將衍生結構單元(a1-3)之單體稱為單體(a1-3)之情形。
[式(a1-3)中,Ra9表示可具有羥基之碳數1~3之脂肪族烴基、羧基、氰基、氫原子或-COORa13。
Ra13表示碳數1~8之脂肪族烴基、碳數3~20之脂環式烴基、或藉由組合該等而形成之基,該脂肪族烴基及該脂環式烴基所包含之氫原子亦可經羥基取代,該脂肪族烴基及該脂環式烴基所包含之-CH2-可經-O-或-CO-取代。
Ra10、Ra11及Ra12分別獨立地表示碳數1~8之烷基、碳數3~20之脂環式烴基或藉由組合該等而形成之基,或Ra10及Ra11相互鍵結並與該等所鍵結之碳原子一起形成碳數2~20之2價之烴基]。
此處,-COORa13例如可列舉:於甲氧基羰基及乙氧基羰基等烷氧基鍵結有羰基之基。
作為Ra9之可具有羥基之脂肪族烴基,可列舉:甲基、乙基、丙基、羥基甲基及2-羥基乙基等。
作為Ra13之碳數1~8之脂肪族烴基,可列舉:甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、2-乙基己基、正辛基等。
作為Ra13之碳數3~20之脂環式烴基,可列舉:環戊基、環丙基、金剛烷基、金剛烷基甲基、1-金剛烷基-1-甲基乙基、2-側氧基-氧雜環戊烷-3-基及2-側氧基-氧雜環戊烷-4-基等。
作為Ra10~Ra12之烷基,可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙
基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、2-乙基己基、正辛基等。
作為Ra10~Ra12之脂環式烴基,可為單環式或多環式中之任一種,作為單環式之脂環式烴基,例如可列舉:環丙基、環丁基、環戊基、環己基、甲基環己基、二甲基環己基、環庚基、環辛基、環癸基等環烷基。作為多環式之脂環式烴基,例如可列舉:十氫萘基、金剛烷基、2-烷基金剛烷-2-基、1-(金剛烷-1-基)烷-1-基、降基、甲基降基及異萡基等。
作為Ra10及Ra11相互鍵結並與該等所鍵結之碳原子一起形成2價之烴基的情形之-C(Ra10)(Ra11)(Ra12),較佳為下述之基。
關於單體(a1-3),具體而言,可列舉:5-降烯-2-羧酸第三丁酯、5-降烯-2-羧酸1-環己基-1-甲基乙酯、5-降烯-2-羧酸1-甲基環已酯、5-降烯-2-羧酸2-甲基-2-金剛烷基酯、5-降烯-2-羧酸2-乙基-2-金剛烷基酯、5-降烯-2-羧酸1-(4-甲基環己基)-1-甲基乙酯、5-降烯-2-羧酸1-(4-羥基環己基)-1-甲基乙酯、5-降烯-2-羧酸1-甲基-1-(4-側氧基環己基)乙酯及5-降烯-2-羧酸1-(1-金剛烷基)-1-甲基乙酯等。
包含結構單元(a1-3)之樹脂(A2)包含立體之體積大之結構單元,因此可由包含此種樹脂(A2)之本發明之光阻組合物以更高解像度獲得光阻圖案。又,因向主鏈導入剛直之降烷環,故而所獲得之光阻圖案有乾式蝕刻耐性優異之傾向。
於樹脂(A2)包含結構單元(a1-3)之情形時,關於其含量,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,較佳為10~95莫耳%,更佳為15~90莫耳%,進而較佳為20~85莫耳%。
作為具有基(2)所表示之基之結構單元(a1),可列舉:式(a1-4)所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元(a1-4)」之情形)。
[式(a1-4)中,Ra32表示氫原子、鹵素原子、或可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基。
Ra33表示鹵素原子、羥基、碳數1~6之烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數2~4之醯基、碳數2~4之醯氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基。
la表示0~4之整數。於la為2以上之情形時,複數個Ra33相互可相同亦可不同。
Ra34及Ra35分別獨立地表示氫原子或碳數1~12之烴基,Ra36表示碳數1~20之烴基,或Ra35及Ra36相互鍵結並與該等所鍵結之C-O一起形成碳數2~20之2價的烴基,該烴基及該2價之烴基所包含之-CH2-亦可經-O-或-S-取代]。
作為Ra32及Ra33之烷基,可列舉:甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、戊基及己基等。該烷基較佳為碳數1~4之烷基,更佳為甲基或乙基,進而較佳為甲基。
作為Ra32及Ra33之鹵素原子,可列舉:氟原子、氯原子及溴原子等。
作為可具有鹵素原子之烷基,可列舉:三氟甲基、二氟甲基、甲基、全氟乙基、1,1,1-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、乙基、全氟丙
基、1,1,1,2,2-五氟丙基、丙基、全氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、丁基、全氟戊基、1,1,1,2,2,3,3,4,4-九氟戊基、正戊基、正己基、正全氟己基等。
作為烷氧基,可列舉:甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基及己氧基等。其中,較佳為碳數1~4之烷氧基,更佳為甲氧基或乙氧基,進而較佳為甲氧基。
作為醯基,可列舉:乙醯基、丙醯基及丁醯基。
作為醯氧基,可列舉:乙醯氧基、丙醯氧基、丁醯氧基等。作為Ra34及Ra35之烴基,可列舉:與式(2)之Ra1'及Ra2'相同之基。
作為Ra36,可列舉:碳數1~18之烷基、碳數3~18之脂環式烴基、碳數6~18之芳香族烴基或藉由組合該等而形成之基。
式(a1-4)中,Ra32較佳為氫原子。
Ra33較佳為碳數1~4之烷氧基,更佳為甲氧基及乙氧基,進而較佳為甲氧基。
la較佳為0或1,更佳為0。
Ra34較佳為氫原子。
Ra35較佳為碳數1~12之烴基,更佳為甲基或乙基。
Ra36之烴基較佳為碳數1~18之烷基、碳數3~18之脂環式烴基、碳數6~18之芳香族烴基或藉由組合該等而形成之基,更佳為碳數1~18之烷基、碳數3~18之脂環式脂肪族烴基或碳數7~18之芳烷基。Ra36中之烷基及上述脂環式烴基較佳為未經取代。於Ra36中之芳香族烴基具有取代基之情形時,作為該取代基,較佳為碳數6~10之芳氧基。
作為衍生結構單元(a1-4)之單體,例如可列舉:日本專利特開2010-204646號公報所記載之單體。其中,較佳為式(a1-4-1)~式(a1-4-7)所分別表示之單體,更佳為式(a1-4-1)~式(a1-4-5)所分別表示之
單體。
於樹脂(A2)具有結構單元(a1-4)之情形時,關於其含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,較佳為10~95莫耳%,更佳為15~90莫耳%,進而較佳為20~85莫耳%。
作為具有酸不穩定基之結構單元,亦可列舉:式(a1-5)所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元(a1-5)」之情形)。
[式(a1-5)中,Ra8表示可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基、氫原子或鹵素原子。
Za1表示單鍵或*-(CH2)h3-CO-L54-,h3表示1~4之整數,*表示與L51之鍵結鍵。
L51、L52、L53及L54分別獨立地表示-O-或-S-。
s1表示1~3之整數。
s1'表示0~3之整數]。
式(a1-5)中,Ra8較佳為氫原子、甲基或三氟甲基。
L51較佳為氧原子。
L52及L53較佳為一者為-O-,另一者為-S-。
s1較佳為1。
s1'較佳為0~2之整數。
Za1較佳為單鍵或*-CH2-CO-O-。
作為衍生結構單元(a1-5)之單體,例如可列舉:日本專利特開2010-61117號公報所記載之單體。其中,較佳為式(a1-5-1)~式(a1-5-4)所分別表示之單體,更佳為式(a1-5-1)或式(a1-5-2)所表示之單體。
於樹脂(A2)具有結構單元(a1-5)之情形時,關於其含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,較佳為1~50莫耳%,更佳為3~45莫耳%,進而較佳為5~40莫耳%。
作為樹脂(A2)中之具有酸不穩定基之結構單元(a1),較佳為選自由結構單元(a1-0)、結構單元(a1-1)、結構單元(a1-2)及結構單元(a1-5)所組成之群中之至少一種以上,更佳為至少二種以上,進而較佳為結構單元(a1-1)及結構單元(a1-2)之組合;結構單元(a1-1)及結構單元(a1-5)之組合;結構單元(a1-1)及結構單元(a1-0)之組合;結構單元(a1-2)及結構單元(a1-0)之組合;結構單元(a1-5)及結構單元(a1-0)之組合;結構單元(a1-0)、結構單元(a1-1)及結構單元(a1-2)之組合;結構
單元(a1-0)、結構單元(a1-1)及結構單元(a1-5)之組合。尤其是結構單元(a1-1)或結構單元(a1-2)、結構單元(a1-1)及結構單元(a1-2)之組合更佳。
<不具有酸不穩定基之結構單元>
結構單元(s)係由不具有酸不穩定基之單體(以下有稱為「單體(s)」之情形)衍生。衍生結構單元(s)之單體(s)可使用光阻劑領域中公知之不具有酸不穩定基之單體。
作為結構單元(s),較佳為具有羥基或內酯環,且不具有酸不穩定基之結構單元。若將擁有具有羥基且不具有酸不穩定基之結構單元(以下有稱為「結構單元(a2)」之情形)及/或具有內酯環且不具有酸不穩定基之結構單元(以下有稱為「結構單元(a3)」之情形)的樹脂用於本發明之光阻組合物,則可使光阻圖案之解像度及與基板之密接性提高。
<結構單元(a2)>
結構單元(a2)所具有之羥基可為醇性羥基,亦可為酚性羥基。
由本發明之光阻組合物製造光阻圖案時,於使用KrF準分子雷射(248nm)、電子束或EUV(超紫外光)等高能量線作為曝光光源之情形時,較佳為使用具有酚性羥基之結構單元(a2)作為結構單元(a2)。又,於使用ArF準分子雷射(193nm)等之情形時,較佳為使用具有醇性羥基之結構單元(a2)作為結構單元(a2),更佳為使用下述之式(a2-1)所表示之結構單元作為結構單元(a2)。作為結構單元(a2),可單獨含有1種,亦可含有2種以上。
作為具有酚性羥基之結構單元(a2),可列舉:式(a2-0)所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元(a2-0)」之情形)。
[式(a2-0)中,Ra30表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基。
Ra31表示鹵素原子、羥基、碳數1~6之烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數2~4之醯基、碳數2~4之醯氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基。
ma表示0~4之整數。於ma為2以上之整數之情形時,複數個Ra31相互可相同亦可不同]。
作為Ra30之烷基,可列舉:甲基、乙基、丙基、丁基、正戊基、正己基等。
作為鹵素原子,可列舉:氟原子、氯原子及溴原子等。
作為可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基,可列舉:三氟甲基、二氟甲基、甲基、全氟乙基、1,1,1-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、乙基、全氟丙基、1,1,1,2,2-五氟丙基、丙基、全氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、丁基、全氟戊基、1,1,1,2,2,3,3,4,4-九氟戊基、正戊基、正己基、正全氟己基等。Ra30較佳為氫原子或碳數1~4之烷基,更佳為氫原子、甲基或乙基,進而較佳為氫原子或甲基。
作為Ra31之烷氧基,可列舉:甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基及己氧基等。其中,較佳為碳數1~4之烷氧基,更佳為甲氧基或乙氧基,進而較佳為甲氧基。
作為醯基,可列舉:乙醯基、丙醯基及丁醯基。
作為醯氧基,可列舉:乙醯氧基、丙醯氧基、丁醯氧基等。
ma較佳為0、1或2,更佳為0或1,進而較佳為0。
作為衍生結構單元(a2-0)之單體,例如可列舉:日本專利特開2010-204634號公報所記載之單體。
其中,作為結構單元(a2-0),較佳為式(a2-0-1)、式(a2-0-2)、式(a2-0-3)及式(a2-0-4)所分別表示者,更佳為式(a2-0-1)或式(a2-0-2)所表示之結構單元。
包含結構單元(a2-0)之樹脂(A2)可藉由使用衍生結構單元(a2-0)之單體所具有之酚性羥基由保護基保護的單體而進行聚合反應,其後進行脫保護處理而製造。其中,進行脫保護處理時,必須以不明顯損害結構單元(a1)所具有之酸不穩定基之方式進行。作為此種保護基,可列舉:乙醯基等。
於樹脂(A2)擁有具有酚性羥基之結構單元(a2-0)之情形時,關於其含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,較佳為5~95莫耳%,更佳為10~80莫耳%,進而較佳為15~80莫耳%。
作為具有醇性羥基之結構單元(a2),可列舉:式(a2-1)所表示之結構單元(以下有稱為「結構單元(a2-1)」之情形)。
[式(a2-1)中,
La3表示-O-或*-O-(CH2)k2-CO-O-,k2表示1~7之整數。*表示與-CO-之鍵結鍵。
Ra14表示氫原子或甲基。
Ra15及Ra16分別獨立地表示氫原子、甲基或羥基。
o1表示0~10之整數]。
式(a2-1)中,La3較佳為-O-、-O-(CH2)f1-CO-O-(上述f1為1~4之整數),更佳為-O-。
Ra14較佳為甲基。
Ra15較佳為氫原子。
Ra16較佳為氫原子或羥基。
o1較佳為0~3之整數,更佳為0或1。
作為衍生結構單元(a2-1)之單體,例如可列舉:日本專利特開2010-204646號公報所記載之單體。較佳為式(a2-1-1)~式(a2-1-6)中之任一者所表示之單體,更佳為式(a2-1-1)~式(a2-1-4)中之任一者所表示之單體,進而較佳為式(a2-1-1)或式(a2-1-3)所表示之單體。
於樹脂(A2)包含結構單元(a2-1)之情形時,關於其含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,通常為1~45莫耳%,較佳為1~40莫耳%,更佳為1~35莫耳%,進而較佳為2~20莫耳%。
<結構單元(a3)>
結構單元(a3)所具有之內酯環可為β-丙內酯環、γ-丁內酯環、δ-
戊內酯環之類之單環,亦可為單環式之內酯環與其他環之縮合環,作為內酯環,較佳為可列舉:γ-丁內酯環、金剛烷內酯環或包含γ-丁內酯環結構之橋接環。
結構單元(a3)較佳為式(a3-1)、式(a3-2)、式(a3-3)或式(a3-4)所表示之結構單元。可單獨含有該等之1種,亦可含有2種以上。
[式(a3-1)中,La4表示-O-或*-O-(CH2)k3-CO-O-(k3表示1~7之整數)所表示之基。*表示與羰基之鍵結鍵。
Ra18表示氫原子或甲基。
Ra21表示碳數1~4之脂肪族烴基。
p1表示0~5之整數。p1為2以上時,複數個Ra21相互相同或不同。
式(a3-2)中,La5表示-O-或*-O-(CH2)k3-CO-O-(k3表示1~7之整數)所表示之基。*表示與羰基之鍵結鍵。
Ra19表示氫原子或甲基。
Ra22表示羧基、氰基或碳數1~4之脂肪族烴基。
q1表示0~3之整數。q1為2以上時,複數個Ra22相互相同或不同。
式(a3-3)中,
La6表示-O-或*-O-(CH2)k3-CO-O-(k3表示1~7之整數)所表示之基。*表示與羰基之鍵結鍵。
Ra20表示氫原子或甲基。
Ra23表示羧基、氰基或碳數1~4之脂肪族烴基。
R1表示0~3之整數。R1為2以上時,複數個Ra23相互相同或不同。
式(a3-4)中,Ra24表示可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基、氫原子或鹵素原子。
La7表示單鍵、-O-、*-O-La8-O-、*-O-La8-CO-O-、*-O-La8-CO-O-La9-CO-O-或*-O-La8-O-CO-La9-O-。
*表示與羰基之鍵結鍵。
La8及La9相互獨立地表示碳數1~6之烷二基]。
作為Ra21、Ra22及Ra23之脂肪族烴基,可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基及第三丁基等烷基。
作為Ra24之鹵素原子,可列舉:氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
作為Ra24之烷基,可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基及正己基等,較佳為碳數1~4之烷基,更佳為甲基或乙基。
作為Ra24之具有鹵素原子之烷基,可列舉:三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基、全氟己基、三氯甲基、三溴甲基、三碘甲基等。
作為La8及La9之烷二基,可列舉:亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-
1,4-二基及2-甲基丁烷-1,4-二基等。
式(a3-1)~式(a3-3)中,La4~La6分別獨立,較佳為-O-、或k3為1~4之整數之*-O-(CH2)k3-CO-O-所表示之基,更佳為-O-及*-O-CH2-CO-O-,進而較佳為氧原子。
Ra18~Ra21較佳為甲基。
Ra22及Ra23分別獨立,較佳為羧基、氰基或甲基。
p1、q1及R1分別獨立,較佳為0~2之整數,更佳為0或1。
式(a3-4)中,
Ra24較佳為氫原子或碳數1~4之烷基,更佳為氫原子、甲基或乙基,進而較佳為氫原子或甲基。
La7較佳為單鍵-O-或*-O-La8-CO-O-,更佳為單鍵、-O-、-O-CH2-CO-O-或-O-C2H4-CO-O-。
作為衍生結構單元(a3)之單體,可列舉:日本專利特開2010-204646號公報所記載之單體、日本專利特開2000-122294號公報所記載之單體、日本專利特開2012-41274號公報所記載之單體。作為結構單元(a3),較佳為式(a3-1-1)~式(a3-1-4)、式(a3-2-1)~式(a3-2-4)、式(a3-3-1)~式(a3-3-4)及式(a3-4-1)~式(a3-4-12)中之任一者所表示之結構單元,更佳為式(a3-1-1)、式(a3-1-2)、式(a3-2-3)~式(a3-2-4)及式(a3-4-1)~式(a3-4-12)中之任一者所表示之結構單元,進而較佳為式(a3-4-1)~式(a3-4-12)中之任一者所表示之結構單元,進而更佳為式(a3-4-1)~式(a3-4-6)中之任一者所表示之結構單元。
亦可列舉於以下之式(a3-4-1)~式(a3-4-12)所表示之結構單元中,相當於Ra24之甲基經氫原子取代之化合物作為結構單元(a3-4)的具體例。
於樹脂(A2)包含結構單元(a3)之情形時,關於其合計含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,通常為5~70莫耳%,較佳為10~65莫耳%,更佳為10~60莫耳%。
又,關於結構單元(a3-1)、結構單元(a3-2)、結構單元(a3-3)及結構單元(a3-4)之含有率,分別相對於樹脂(A2)之全部結構單元,較佳為5~60莫耳%,更佳為5~50莫耳%,進而較佳為10~50莫耳%。
<其他結構單元(t)>
樹脂(A2)亦可包含其他結構單元(t)作為結構單元(a1)及結構單元(s)以外之結構單元。作為結構單元(t),除結構單元(a2)及結構單元(a3)以外,可列舉:上述之結構單元(a4)及結構單元(I)等。樹脂(A2)亦可具有上述之結構單元以外之結構單元,作為此種結構單元,可列舉:相應技術領域中所周知之結構單元。
於樹脂(A2)具有結構單元(a4)之情形時,關於其含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,較佳為1~20莫耳%,更佳為2~15莫耳%,進而較佳為3~10莫耳%。
於樹脂(A2)具有結構單元(I)之情形時,關於其含有率,相對於樹脂(A2)之全部結構單元,較佳為1~30莫耳%,更佳為2~20莫耳%,進而較佳為3~15莫耳%。
樹脂(A2)較佳為包含結構單元(a1)與結構單元(s)之樹脂,即單體(a1)與單體(s)之共聚物。
結構單元(a1)較佳為結構單元(a1-0)、結構單元(a1-1)、結構單元(a1-2)(較佳為具有環己基、環戊基之該結構單元)及結構單元(a1-5)中之至少一種,更佳為結構單元(a1-1)或結構單元(a1-2)(較佳為具有環己基、環戊基之該結構單元)。
結構單元(s)較佳為結構單元(a2)及結構單元(a3)中之至少一種。結構單元(a2)較佳為式(a2-1)所表示之結構單元。結構單元(a3)較佳為γ-丁內酯環、包含γ-丁內酯環結構之橋接環或金剛烷內酯環所表示之結構單元中之至少一種。
樹脂(A2)較佳為含有相對於結構單元(a1)之含量為15莫耳%以上之源自具有金剛烷基之單體的結構單元(尤其是結構單元(a1-1))。若具有金剛烷基之結構單元之含量增加,則光阻圖案之乾式蝕刻耐性提高。
構成樹脂(A2)之各結構單元亦可僅使用1種或組合2種以上使用,可使用衍生該等結構單元之單體,並藉由公知之聚合法(例如自由基聚合法)而製造。樹脂(A2)所具有之各結構單元之含有率可以聚合所使用之單體之使用量進行調整。
樹脂(A2)之重量平均分子量較佳為2,000以上(更佳為2,500以上,進而較佳為3,000以上)且50,000以下(更佳為30,000以下,進而較佳為
15,000以下)。
關於光阻組合物中之樹脂(A1)之含量,相對於樹脂(A2)100質量份,較佳為1~60質量份,更佳為1~50質量份,進而較佳為1~40質量份,尤佳為2~30質量份。
<樹脂(X)>
本發明之光阻組合物亦可含有樹脂(A1)及樹脂(A2)以外之樹脂(X)。作為樹脂(X),例如可列舉:僅包含結構單元(s)之樹脂、包含結構單元(a2)、結構單元(a3)及/或其他之源自公知之單體之結構單元的樹脂。
樹脂(X)之重量平均分子量較佳為6,000以上(更佳為7,000以上)且80,000以下(更佳為60,000以下)。
於光阻組合物包含樹脂(X)之情形時,關於其含量,相對於樹脂(A1)及樹脂(A2)之合計100質量份,較佳為1~60質量份,更佳為1~50質量份,進而較佳為1~40質量份,尤佳為2~30質量份。
關於樹脂(A2)與樹脂(A1)之合計含有率,相對於光阻組合物之固形物成分,較佳為80質量%以上且99質量%以下,更佳為90質量%以上且99質量%以下。
於光阻組合物包含樹脂(X)之情形時,關於樹脂(A2)與樹脂(A1)與樹脂(X)之合計含有率,相對於光阻組合物的固形物成分,較佳為80質量%以上且99質量%以下,更佳為90質量%以上且99質量%以下。
本說明書中,所謂「光阻組合物之固形物成分」,意指自光阻組合物之總量除去下述之溶劑(E)之成分的合計。光阻組合物之固形物成分及相對於其之樹脂之含有率可利用液相層析法或氣相層析法等公知之分析方法進行測定。
<酸產生劑(B)>
酸產生劑係分為非離子系與離子系,本發明之光阻組合物之酸產生劑(B)可使用任一種。非離子系酸產生劑包含有機鹵化物、磺酸酯類(例如2-硝基苄酯、芳香族磺酸酯、肟磺酸酯、N-磺醯氧基醯亞胺、磺醯氧基酮、重氮萘醌4-磺酸酯)、碸類(例如二碸、酮碸、磺醯基重氮甲烷)等。離子系酸產生劑係以包含鎓陽離子之鎓鹽(例如重氮鎓鹽、鏻鹽、鋶鹽、錪鹽)為代表。作為鎓鹽之陰離子,有磺酸根陰離子、磺醯亞胺陰離子、磺醯甲基陰離子等。
作為酸產生劑(B),可使用日本專利特開昭63-26653號、日本專利特開昭55-164824號、日本專利特開昭62-69263號、日本專利特開昭63-146038號、日本專利特開昭63-163452號、日本專利特開昭62-153853號、日本專利特開昭63-146029號、美國專利第3,779,778號、美國專利第3,849,137號、德國專利第3914407號、歐州專利第126,712號等所記載之藉由放射線而產生酸之化合物。又,亦可使用利用公知之方法所製造之化合物。
酸產生劑(B)較佳為含有氟之酸產生劑,更佳為式(B1)所表示之鹽(以下有稱為「酸產生劑(B1)」之情形)。
[式(B1)中,Q1及Q2分別獨立地表示氟原子或碳數1~6之全氟烷基。
Lb1表示碳數1~24之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之-CH2-亦可經-O-或-CO-取代,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代。
Y表示可具有取代基之碳數1~18之烷基或可具有取代基之碳數3~18之1價之脂環式烴基,該烷基及該1價之脂環式烴基所包含之-
CH2-亦可經-O-、-SO2-或-CO-取代。
Z+表示有機陽離子]。
作為Q1及Q2之全氟烷基,可列舉:三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基及全氟己基等。
Q1及Q2分別獨立,較佳為氟原子或三氟甲基,更佳為Q1及Q2均為氟原子。
作為Lb1之2價之飽和烴基,可列舉:直鏈狀烷二基、支鏈狀烷二基、單環式或多環式之2價之脂環式飽和烴基,亦可為藉由組合該等基中2種以上而形成之基。
具體而言,可列舉:亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基、十三烷-1,13-二基、十四烷-1,14-二基、十五烷-1,15-二基、十六烷-1,16-二基及十七烷-1,17-二基等直鏈狀烷二基;乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等支鏈狀烷二基;環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等作為環烷二基之單環式之2價之脂環式飽和烴基;降烷-1,4-二基、降烷-2,5-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式之2價之脂環式飽和烴基等。
作為Lb1之2價之飽和烴基所包含之-CH2-經-O-或-CO-取代之基,例如可列舉:式(b1-1)~式(b1-3)中之任一者所表示之基。再者,於式(b1-1)~式(b1-3)及下述之具體例中,*表示與Y之鍵結鍵。
式(b1-1)中,Lb2表示單鍵或碳數1~22之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子取代。
Lb3表示單鍵或碳數1~22之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
其中,Lb2與Lb3之碳數合計為22以下。
式(b1-2)中,Lb4表示單鍵或碳數1~22之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子取代。
Lb5表示單鍵或碳數1~22之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
其中,Lb4與Lb5之碳數合計為22以下。
式(b1-3)中,Lb6表示單鍵或碳數1~23之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代。
Lb7表示單鍵或碳數1~23之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
其中,Lb6與Lb7之碳數合計為23以下。
再者,式(b1-1)~式(b1-3)中,飽和烴基所包含之亞甲基經氧原子或羰基取代之情形時,將取代前之碳數設為該飽和烴基之碳數。
作為2價之飽和烴基,可列舉:與Lb1之2價之飽和烴基相同者。
Lb2較佳為單鍵。
Lb3較佳為碳數1~4之2價之飽和烴基。
Lb4較佳為碳數1~8之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子取代。
Lb5較佳為單鍵或碳數1~8之2價之飽和烴基。
Lb6較佳為單鍵或碳數1~4之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子取代。
Lb7較佳為單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代,該2價之飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代。
其中,較佳為式(b1-1)或式(b1-3)所表示之基。
作為式(b1-1),可列舉:式(b1-4)~式(b1-8)所分別表示之基。
式(b1-4)中,Lb8表示單鍵或碳數1~22之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代。
式(b1-5)中,Lb9表示碳數1~20之2價之飽和烴基。
Lb10表示單鍵或碳數1~19之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代。
其中,Lb9及Lb10之合計碳數為20以下。
式(b1-6)中,Lb11表示碳數1~21之2價之飽和烴基。
Lb12表示單鍵或碳數1~20之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代。
其中,Lb11及Lb12之合計碳數為21以下。
式(b1-7)中,Lb13表示碳數1~19之2價之飽和烴基。
Lb14表示單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基。
Lb15表示單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代。
其中,Lb13、Lb14及Lb15之合計碳數為19以下。
式(b1-8)中,Lb16表示碳數1~18之2價之飽和烴基。
Lb17表示碳數1~18之2價之飽和烴基。
Lb18表示單鍵或碳數1~17之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子或羥基取代。
其中,Lb16、Lb17及Lb18之合計碳數為19以下。
Lb8較佳為碳數1~4之2價之飽和烴基。
Lb9較佳為碳數1~8之2價之飽和烴基。
Lb10較佳為單鍵或碳數1~19之2價之飽和烴基,更佳為單鍵或碳數1~8之2價之飽和烴基。
Lb11較佳為碳數1~8之2價之飽和烴基。
Lb12較佳為單鍵或碳數1~8之2價之飽和烴基。
Lb13較佳為碳數1~12之2價之飽和烴基。
Lb14較佳為單鍵或碳數1~6之2價之飽和烴基。
Lb15較佳為單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,更佳為單鍵或碳數1~8之2價之飽和烴基。
Lb16較佳為表示碳數1~12之2價之飽和烴基。
Lb17較佳為表示碳數1~6之2價之飽和烴基。
Lb18較佳為單鍵或碳數1~17之2價之飽和烴基,更佳為單鍵或碳數1~4之2價之飽和烴基。
作為式(b1-3),可列舉:式(b1-9)~式(b1-11)所分別表示之基。
式(b1-9)中,Lb19表示單鍵或碳數1~23之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子取代。
Lb20表示單鍵或碳數1~23之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子、羥基或醯氧基取代。該醯氧基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代,該醯氧基所包含之氫原子亦可經羥基取代。
其中,Lb19及Lb20之合計碳數為23以下。
式(b1-10)中,Lb21表示單鍵或碳數1~21之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子取代。
Lb22表示單鍵或碳數1~21之2價之飽和烴基。
Lb23表示單鍵或碳數1~21之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子、羥基或醯氧基取代。該醯氧基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代,該醯氧基所包含之氫原子亦可經羥基取代。
其中,Lb21、Lb22及Lb23之合計碳數為21以下。
式(b1-11)中,Lb24表示單鍵或碳數1~20之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子取代。
Lb25表示碳數1~21之2價之飽和烴基。
Lb26表示單鍵或碳數1~20之2價之飽和烴基,該2價之飽和烴基所包含之氫原子亦可經氟原子、羥基或醯氧基取代。該醯氧基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代,該醯氧基所包含之氫原子亦可經羥基取代。
其中,Lb24、Lb25及Lb26之合計碳數為21以下。
再者,式(b1-10)及式(b1-11)中,2價之飽和烴基所包含之氫原子經醯氧基取代之情形時,將亦包括酯鍵中之CO及O之數之醯氧基之碳數設為該2價之飽和烴基之碳數。
作為醯氧基,可列舉:乙醯氧基、丙醯氧基、丁醯氧基、環己基羰氧基、金剛烷基羰氧基等。
作為具有取代基之醯氧基,可列舉:側氧基金剛烷基羰氧基、羥基金剛烷基羰氧基、側氧基環己基羰氧基、羥基環己基羰氧基等。
作為式(b1-1)所表示之基中式(b1-4)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-1)所表示之基中式(b1-5)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-1)所表示之基中式(b1-6)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-1)所表示之基中式(b1-7)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-1)所表示之基中式(b1-8)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-2)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-3)所表示之基中式(b1-9)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-3)所表示之基中式(b1-10)所表示之基,可列舉以下者。
作為式(b1-3)所表示之基中式(b1-11)所表示之基,可列舉以下者。
作為Y所表示之烷基,可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、庚基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基等烷基,較佳為可列舉:碳數1~6之烷基。
作為Y所表示之1價之脂環式烴基,可列舉:式(Y1)~式(Y11)所表示之基。
作為Y所表示之1價之脂環式烴基所包含之-CH2-經-O-、-SO2-或-CO-取代之基,可列舉式(Y12)~式(Y27)所表示之基。
其中,較佳為式(Y1)~式(Y19)中之任一者所表示之基,更佳為式(Y11)、式(Y14)、式(Y15)或式(Y19)所表示之基,進而較佳為式(Y11)或式(Y14)所表示之基。
作為Y所表示之烷基之取代基,可列舉鹵素原子、羥基、碳數3~16之1價之脂環式烴基、碳數6~18之1價之芳香族烴基、縮水甘油氧基或-(CH2)ja-O-CO-Rb1基(式中,Rb1表示碳數1~16之烷基、碳數3~16之1價之脂環式烴基或碳數6~18之1價之芳香族烴基。ja表示0~4之整數)等。
作為Y所表示之1價之脂環式烴基之取代基,可列舉:鹵素原子、羥基、碳數1~12之烷基、含羥基之碳數1~12之烷基、碳數3~16之1價之脂環式烴基、碳數1~12之烷氧基、碳數6~18之1價之芳香族烴基、碳數7~21之芳烷基、碳數2~4之醯基、縮水甘油氧基或-(CH2)ja-O-CO-Rb1基(式中,Rb1表示碳數1~16之烷基、碳數3~16之1價之脂環式烴基或碳數6~18之1價之芳香族烴基。ja表示0~4之整數)
等。
作為含羥基之烷基,可列舉:羥基甲基、羥基乙基等。
作為烷氧基,可列舉:甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、癸氧基及十二烷氧基等。
作為1價之芳香族烴基,可列舉:苯基、萘基、蒽基、對甲基苯基、對第三丁基苯基、對金剛烷基苯基;甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、2,4,6-三甲苯基、聯苯基、菲基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等芳基等。
作為芳烷基,可列舉:苄基、苯乙基、苯丙基、萘甲基及萘乙基等。
作為醯基,例如可列舉:乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
作為鹵素原子,可列舉:氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
作為Y,可列舉以下者。以下之基中,*係與Lb1之鍵結鍵。
再者,於Y為烷基,且Lb1為碳數1~17之2價之直鏈狀或支鏈狀飽和烴基之情形時,處於與Y之鍵結位置之該2價之飽和烴基之-CH2-較佳為經-O-或-CO-取代。於該情形時,Y之烷基所包含之-CH2-未經-O-或-CO-取代。於Y之烷基及/或Lb1之2價之直鏈狀或支鏈狀飽和烴基所包含之氫原子經取代基取代之情形時亦相同。
Y較佳為可具有取代基之碳數3~18之1價之脂環式烴基,更佳為可具有取代基之金剛烷基,構成該等基之亞甲基亦可經氧原子、磺醯
基或羰基取代。Y進而尤佳為金剛烷基、羥基金剛烷基或側氧基金剛烷基。
作為式(B1)所表示之鹽中之磺酸根陰離子,較佳為式(B1-A-1)~式(B1-A-33)所表示之陰離子[以下,有視式編號稱為「陰離子(B1-A-1)」等之情形],更佳為式(B1-A-1)~式(B1-A-4)、式(B1-A-9)、式(B1-A-10)、式(B1-A-24)~式(B1-A-33)中之任一者所表示之陰離子。
又,式(B1-A-5)、式(B1-A-7)、式(B1-A-24)、式(B1-A-30)~式(B1-A-33)中,Ri2~Ri7例如為碳數1~4之烷基,較佳為甲基或乙基。於式(B1-A-32)及式(BI-A-33)中,Ri8例如為碳數1~12之脂肪族烴基,較佳為碳數1~4之烷基、碳數5~12之1價之脂環式烴基或藉由組合該等而形成之基,更佳為甲基、乙基、環己基或金剛烷基。L44為單鍵或碳數1~4之烷二基。Q1及Q2係表示與上述相同之含義。
作為式(B1)所表示之鹽中之磺酸根陰離子,具體而言,可列舉:日本專利特開2010-204646號公報所記載之陰離子。
其中,作為較佳之式(B1)所表示之鹽中之磺酸根陰離子,可列舉:式(B1a-1)~式(B1a-15)所分別表示之陰離子。
作為式(B1)所表示之鹽中之磺酸根陰離子,較佳為式(B1a-1)~式(B1a-3)及式(B1a-7)~式(B1a-15)中之任一者所表示之陰離子。
Z+之有機陽離子係有機鎓陽離子,例如可列舉:有機鋶陽離子、有機錪陽離子、有機銨陽離子、苯并噻唑鎓陽離子、有機鏻陽離子等,較佳為有機鋶陽離子或有機錪陽離子,更佳為芳基鋶陽離子。
式(B1)中之Z+較佳為式(b2-1)~式(b2-4)中之任一者所表示之陽離子[以下,有視式編號稱為「陽離子(b2-1)」等之情形]。
式(b2-1)~式(b2-4)中,Rb4~Rb6分別獨立地表示碳數1~30之1價之脂肪族烴基、碳數3~36之1價之脂環式烴基或碳數6~36之1價之芳香族烴基,該1價之脂肪族烴基所包含之氫原子亦可經羥基、碳數1~12之烷氧基、碳數3~12之1價之脂環式烴基或碳數6~18之1價之芳香族烴基取代,該1價之脂環式烴基所包含之氫原子亦可經鹵素原子、碳數1~18之1價之脂肪族烴基、碳數2~4之醯基或縮水甘油氧基取代,該1價之芳香族烴基所包含之氫原子亦可經鹵素原子、羥基或碳數1~12之烷氧基取代。
Rb4與Rb5亦可與該等所鍵結之硫原子一起形成環,該環所包含之-CH2-亦可經-O-、-SO-或-CO-取代。
Rb7及Rb8分別獨立地表示羥基、碳數1~12之1價之脂肪族烴基或碳數1~12之烷氧基。
m2及n2分別獨立地表示0~5之整數。
m2為2以上時,複數個Rb7可相同亦可不同,n2為2以上時,複數個Rb8可相同亦可不同。
Rb9及Rb10分別獨立地表示碳數1~36之1價之脂肪族烴基或碳數3
~36之1價之脂環式烴基。
Rb9與Rb10亦可與該等所鍵結之硫原子一起形成環,該環所包含之-CH2-亦可經-O-、-SO-或-CO-取代。
Rb11表示氫原子、碳數1~36之1價之脂肪族烴基、碳數3~36之1價之脂環式烴基或碳數6~18之1價之芳香族烴基。
Rb12表示碳數1~12之1價之脂肪族烴基、碳數3~18之1價之脂環式烴基或碳數6~18之1價之芳香族烴基,該1價之脂肪族烴基所包含之氫原子亦可經碳數6~18之1價之芳香族烴基取代,該1價之芳香族烴基所包含之氫原子亦可經碳數1~12之烷氧基或碳數1~12之烷基羰氧基取代。
Rb11與Rb12亦可一起形成包含該等所鍵結之-CH-CO-之環,該環所包含之-CH2-亦可經-O-、-SO-或-CO-取代。
Rb13~Rb18分別獨立地表示羥基、碳數1~12之1價之脂肪族烴基或碳數1~12之烷氧基。
Lb31表示-S-或-O-。
o2、p2、s2、及t2分別獨立地表示0~5之整數。
q2及R2分別獨立地表示0~4之整數。
u2表示0或1。
o2為2以上時,複數個Rb13相同或不同,p2為2以上時,複數個Rb14相同或不同,q2為2以上時,複數個Rb15相同或不同,R2為2以上時,複數個Rb16相同或不同,s2為2以上時,複數個Rb17相同或不同,t2為2以上時,複數個Rb18相同或不同。
作為1價之脂肪族烴基,可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基及2-乙基己基之烷基。尤其是Rb9~Rb12之1價之脂肪族烴基較佳為碳數1~12。
作為1價之脂環式烴基,可為單環式或多環式中之任一種,作為
單環式之1價之脂環式烴基,可列舉:環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環癸基等環烷基。作為多環式之1價之脂環式烴基,可列舉:十氫萘基、金剛烷基、降基及下述之基等。
尤其是Rb9~Rb12之1價之脂環式烴基較佳為碳數3~18,更佳為碳數4~12。
作為氫原子經脂肪族烴基取代之1價之脂環式烴基,例如可列舉:甲基環己基、二甲基環己基、2-烷基金剛烷-2-基、甲基降基、異基等。於氫原子經1價之脂肪族烴基取代之1價之脂環式烴基中,1價之脂環式烴基與1價之脂肪族烴基之合計碳數較佳為20以下。
作為1價之芳香族烴基,可列舉:苯基、甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、2,4,6-三甲苯基、對乙基苯基、對第三丁基苯基、對環己基苯基、對金剛烷基苯基、聯苯基、萘基、菲基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等芳基。
再者,於1價之芳香族烴基包含1價之脂肪族烴基或1價之脂環式烴基之情形時,較佳為碳數1~18之1價之脂肪族烴基及碳數3~18之1價之脂環式烴基。
作為氫原子經烷氧基取代之1價之芳香族烴基,可列舉:對甲氧基苯基等。
作為氫原子經芳香族烴基取代之1價之脂肪族烴基,可列舉:苄基、苯乙基、苯丙基、三苯甲基、萘甲基、萘乙基等芳烷基。
作為烷氧基,可列舉:甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、癸氧基及十二烷氧基等。
作為醯基,可列舉:乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
作為鹵素原子,可列舉:氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
作為烷基羰氧基,可列舉:甲基羰氧基、乙基羰氧基、正丙基羰氧基、異丙基羰氧基、正丁基羰氧基、第二丁基羰氧基、第三丁基羰氧基、戊基羰氧基、己基羰氧基、辛基羰氧基及2-乙基己基羰氧基等。
可Rb4及Rb5與該等所鍵結之硫原子一起形成之環可為單環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及不飽和中之任一種環。該環可列舉碳數3~18之環,較佳為碳數4~18之環。又,包含硫原子之環可列舉3員環~12員環,較佳為3員環~7員環,例如可列舉下述之環。
Rb9及Rb10與該等所鍵結之硫原子一起形成之環可為單環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及不飽和中之任一種環。該環可列舉3員環~12員環,較佳為3員環~7員環。例如可列舉:硫雜環戊烷-1-鎓環(四氫噻吩基環)、噻烷-1-鎓環、1,4-氧硫雜環己烷-4-鎓環等。
Rb11與Rb12一起所形成之環可為單環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及不飽和中之任一種環。該環可列舉3員環~12員環,較佳為3員環~7員環。例如可列舉:氧雜環庚烷環、氧雜環己烷環、氧雜降烷環、氧雜金剛烷環等。
陽離子(b2-1)~陽離子(b2-4)中,較佳為可列舉陽離子(b2-1)。
作為陽離子(b2-1),可列舉以下之陽離子。
作為陽離子(b2-2),可列舉以下之陽離子。
作為陽離子(b2-3),可列舉以下之陽離子。
作為陽離子(b2-4),可列舉以下之陽離子。
作為酸產生劑(B1),較佳為可列舉:式(B1-1)~式(B1-30)所分別表示者,其中尤佳為包含芳基鋶陽離子之式(B1-1)、式(B1-2)、式(B1-3)、式(B1-5)、式(B1-6)、式(B1-7)、式(B1-11)、式(B1-12)、式(B1-13)、式(B1-14)、式(B1-17)、式(B1-20)、式(B1-21)、式(B1-23)、式(B1-24)、式(B1-25)、式(B1-26)或式(B1-29)所分別表示者。
關於酸產生劑(B1)之含有率,相對於酸產生劑(B)之總量,較佳為30質量%以上且100質量%以下,更佳為50質量%以上且100質量%以下,進而較佳為實質上僅為酸產生劑(B1)。
關於酸產生劑(B)之含量,相對於樹脂(A1)100質量份,較佳為1質量份以上(更佳為3質量份以上),且較佳為30質量份以下(更佳為25質量份以下)。本發明之光阻組合物可單獨含有1種酸產生劑(B),亦可含有複數種酸產生劑(B)。
<溶劑(E)>
關於溶劑(E)之含有率,通常於光阻組合物中為90質量%以上,較佳為92質量%以上,更佳為94質量%以上,且為99.9質量%以下,較佳為99質量%以下。溶劑(E)之含有率例如可利用液相層析法或氣相
層析法等公知之分析方法進行測定。
作為溶劑(E),可列舉:乙酸乙基賽路蘇、乙酸甲基賽路蘇及丙二醇單甲醚乙酸酯等二醇醚酯類;丙二醇單甲醚等二醇醚類;乳酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯及丙酮酸乙酯等酯類;丙酮、甲基異丁基酮、2-庚酮及環己酮等酮類;γ-丁內酯等環狀酯類;等。可單獨含有1種溶劑(E),亦可含有2種以上之溶劑(E)。
<抑止劑(C)>
本發明之光阻組合物亦可含有抑止劑(C)。關於抑止劑(C)之含量,以光阻組合物之固形物成分量為基準,較佳為0.01~5質量%左右。
關於抑止劑(C),可列舉:鹼性之含氮有機化合物或產生酸性度較自酸產生劑(B)產生之酸弱之酸的鹽。作為鹼性之含氮有機化合物,可列舉胺及銨鹽。作為胺,可列舉脂肪族胺及芳香族胺。作為脂肪族胺,可列舉:一級胺、二級胺及三級胺。
<含氮有機化合物>
作為含氮有機化合物,可列舉:1-萘胺、2-萘胺、苯胺、二異丙基苯胺、2-、3-或4-甲基苯胺、4-硝基苯胺、N-甲基苯胺、N,N-二甲基苯胺、二苯胺、己基胺、庚基胺、辛基胺、壬基胺、癸基胺、二丁基胺、二戊基胺、二己基胺、二庚基胺、二辛基胺、二壬基胺、二癸基胺、三乙胺、三甲胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、三壬胺、三癸胺、甲基二丁胺、甲基二戊胺、甲基二己胺、甲基二環己胺、甲基二庚胺、甲基二辛胺、甲基二壬胺、甲基二癸胺、乙基二丁胺、乙基二戊胺、乙基二己胺、乙基二庚胺、乙基二辛胺、乙基二壬胺、乙基二癸胺、二環己基甲基胺、三[2-(2-甲氧基乙氧基)乙基]胺、三異丙醇胺、伸乙基二胺、四亞甲基二胺、六亞甲基二胺、4,4'-二胺基-1,2-二苯乙烷、4,4'-二胺基-3,3'-二甲基二苯甲
烷、4,4'-二胺基-3,3'-二乙基二苯甲烷、2,2'-亞甲基雙苯胺、咪唑、4-甲基咪唑、吡啶、4-甲基吡啶、1,2-二(2-吡啶基)乙烷、1,2-二(4-吡啶基)乙烷、1,2-二(2-吡啶基)乙烯、1,2-二(4-吡啶基)乙烯、1,3-二(4-吡啶基)丙烷、1,2-二(4-吡啶氧基)乙烷、二(2-吡啶基)酮、4,4'-二吡啶基硫化物、4,4'-二吡啶基二硫化物、2,2'-二吡啶基胺、2,2'-二吡啶甲基胺、聯吡啶等,較佳為可列舉二異丙基苯胺,尤佳為可列舉2,6-二異丙基苯胺。
作為銨鹽,可列舉:氫氧化四甲基銨、氫氧化四異丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化四己基銨、氫氧化四辛基銨、氫氧化苯基三甲基銨、氫氧化3-(三氟甲基)苯基三甲基銨、四-正丁基水楊酸銨及膽鹼等。
<酸性度較弱之鹽>
產生酸性度較自酸產生劑產生之酸弱之酸的鹽中之酸性度係由酸解離常數(pKa)表示。關於酸性度較自酸產生劑產生之酸弱之酸的鹽係自該鹽產生之酸之pKa為通常-3<pKa的鹽,較佳為-1<pKa<7之鹽,更佳為0<pKa<5之鹽。作為酸性度較自酸產生劑產生之酸弱之鹽,可列舉:下述式所表示之鹽、式(D)所表示之弱酸分子內鹽、以及日本專利特開2012-229206號公報、日本專利特開2012-6908號公報、日本專利特開2012-72109號公報、日本專利特開2011-39502號公報及日本專利特開2011-191745號公報記載之鹽。
[式(D)中,RD1及RD2分別獨立地表示碳數1~12之1價之烴基、碳數1~6之烷氧基、碳數2~7之醯基、碳數2~7之醯氧基、碳數2~7之烷氧基羰基、硝基或鹵素原子。
m'及n'分別獨立地表示0~4之整數,m'為2以上之情形時,複數個RD1相同或不同,n'為2以上之情形時,複數個RD2相同或不同]。
作為式(D)所表示之化合物中之RD1及RD2之烴基,可列舉:1價之脂肪族烴基、1價之脂環式烴基、1價之芳香族烴基及藉由該等之組合而形成之基等。
作為1價之脂肪族烴基,可列舉:甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、壬基等烷基。
作為1價之芳香族烴基,可列舉:苯基、1-萘基、2-萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙基苯基、4-丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、蒽基、對金剛烷基苯基、甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、2,4,6-三甲苯基、聯苯基、菲基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等芳基等。
作為藉由組合該等而形成之基,可列舉:烷基-環烷基、環烷基-烷基、芳烷基(例如,苯基甲基、1-苯基乙基、2-苯基乙基、1-苯基-1-丙基、1-苯基-2-丙基、2-苯基-2-丙基、3-苯基-1-丙基、4-苯基-1-丁基、5-苯基-1-戊基、6-苯基-1-己基等)等。
作為烷氧基,可列舉:甲氧基、乙氧基等。
作為醯基,可列舉:乙醯基、丙醯基、苯甲醯基、環己烷羰基等。
作為醯氧基,可列舉:於上述醯基鍵結有氧基(-O-)之基等。
作為烷氧基羰基,可列舉:於上述烷氧基鍵結有羰基(-CO-)之基等。
作為鹵素原子,可列舉:氟原子、氯原子、溴原子等。
式(D)中,RD1及RD2分別獨立,較佳為碳數1~8之烷基、碳數3~10之環烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數2~4之醯基、碳數2~4之醯氧基、碳數2~4之烷氧羰基、硝基或鹵素原子。
m'及n'分別獨立,較佳為0~2之整數,更佳為0。於m'為2以上之情形時,複數個RD1相同或不同,n'為2以上之情形時,複數個RD2相同或不同。
作為弱酸分子內鹽(D),可列舉以下之化合物。
弱酸分子內鹽(D)可利用「Tetrahedron Vol.45,No.19,p6281-
6296」所記載之方法進行製造。又,弱酸分子內鹽(D)可使用市售之化合物。
關於酸性度較弱之鹽、尤其是弱酸分子內鹽(D)之含有率,於光阻組合物之固形物成分中較佳為0.01~5質量%,更佳為0.01~4質量%,尤佳為0.01~3質量%。
<其他成分>
本發明之光阻組合物亦可視需要而含有上述之成分以外之成分(以下有稱為「其他成分(F)」之情形)。其他成分(F)並無特別限定,可應用光阻劑領域中公知之添加劑、例如增感劑、溶解抑止劑、界面活性劑、穩定劑、染料等。
<光阻組合物之製備>
本發明之光阻組合物可藉由將樹脂(A1)、樹脂(A2)及酸產生劑、以及視需要使用之抑止劑(C)、樹脂(X)、弱酸分子內鹽(D)等酸性度較弱之鹽、溶劑(E)及其他成分(F)進行混合而製備。混合順序係任意,並無特別限定。混合時之溫度可視樹脂等之種類或樹脂等之對溶劑(E)之溶解度等而自10~40℃選擇適當之溫度。混合時間可視混合溫度,自0.5~24小時中選擇適當之時間。再者,混合方法亦無特別限制,可使用攪拌混合等。
混合各成分後,較佳為使用孔徑0.003~0.2μm左右之過濾器而進行過濾。
<光阻圖案之製造方法>
本發明之光阻圖案之製造方法包含:(1)將本發明之光阻組合物塗佈於基板上之步驟;(2)使塗佈後之組合物乾燥而形成組合物層之步驟;(3)對組合物層進行曝光之步驟;(4)對曝光後之組合物層進行加熱之步驟;及
(5)將加熱後之組合物層進行顯影之步驟。
將光阻組合物塗佈於基板上時,可藉由旋轉塗佈機等通常所使用之裝置而進行。作為基板,可列舉矽晶圓等無機基板。亦可於塗佈光阻組合物前,將基板洗淨,亦可於基板上形成抗反射膜等。
藉由將塗佈後之組合物進行乾燥而將溶劑去除從而形成組合物層。乾燥例如藉由使用加熱板等加熱裝置使溶劑蒸發(所謂預烤)而進行,或者使用減壓裝置進行。加熱溫度較佳為50~200℃,加熱時間較佳為10~180秒。又,減壓乾燥時之壓力較佳為1~1.0×105Pa左右。
通常使用曝光機對所獲得之組合物層進行曝光。曝光機亦可為液浸曝光機。作為曝光光源,可使用發射如KrF準分子雷射(波長248nm)、ArF準分子雷射(波長193nm)、F2準分子雷射(波長157nm)之紫外線區域之雷射光者;將源自固體雷射光源(YAG或半導體雷射等)之雷射光進行波長轉換而發射遠紫外線區域或真空紫外線區域之高次諧波雷射光者;照射電子束、或超紫外光(EUV)者等各種者。再者,本說明書中,有將照射該等放射線之情況總稱為「曝光」之情形。曝光時,通常隔著相當於欲求出之圖案之遮罩而進行曝光。於曝光光源為電子束之情形時,亦可不使用遮罩,藉由直接刻寫而進行曝光。
為了促進酸不穩定基中之脫保護反應,而對曝光後之組合物層進行加熱處理(所謂曝光後烘烤)。加熱溫度通常為50~200℃左右,較佳為70~150℃左右。
通常使用顯影裝置,應用顯影液而將加熱後之組合物層進行顯影。作為顯影方法,可列舉:浸漬法、覆液法、噴霧法、動態點膠法等。顯影溫度例如較佳為5~60℃,顯影時間例如較佳為5~300秒。可藉由如下述般選擇顯影液之種類而製造正型光阻圖案或負型光阻圖案。
於由本發明之光阻組合物製造正型光阻圖案之情形時,使用鹼性顯影液作為顯影液。鹼性顯影液只要為該分野中所使用之各種鹼性水溶液即可。例如可列舉:氫氧化四甲基銨或氫氧化(2-羥基乙基)三甲基銨(通稱膽鹼)之水溶液等。於鹼性顯影液中亦可含有界面活性劑。
較佳為顯影後,利用超純水將光阻圖案洗淨,繼而將殘留於基板及圖案上之水去除。
於由本發明之光阻組合物製造負型光阻圖案之情形時,使用包含有機溶劑之顯影液(以下有稱為「有機系顯影液」之情形)作為顯影液。
作為有機系顯影液所包含之有機溶劑,可列舉:2-己酮、2-庚酮等酮溶劑;丙二醇單甲醚乙酸酯等二醇醚酯溶劑;乙酸丁酯等酯溶劑;丙二醇單甲醚等二醇醚溶劑;N,N-二甲基乙醯胺等醯胺溶劑;苯甲醚等芳香族烴溶劑等。
關於有機系顯影液中有機溶劑之含有率,較佳為90質量%以上且100質量%以下,更佳為95質量%以上且100質量%以下,進而較佳為實際上僅為有機溶劑。
其中,作為有機系顯影液,較佳為包含乙酸丁酯及/或2-庚酮之顯影液。關於有機系顯影液中乙酸丁酯及2-庚酮之合計含有率,較佳為50質量%以上且100質量%以下,更佳為90質量%以上且100質量%以下,進而較佳為實際上僅為乙酸丁酯及/或2-庚酮。
於有機系顯影液中亦可含有界面活性劑。又,於有機系顯影液中亦可含有微量之水分。
亦可藉由於顯影時置換為與有機系顯影液不同種類之溶劑而使顯影停止。
較佳為利用清洗液將顯影後之光阻圖案洗淨。作為清洗液,只
要為不使光阻圖案溶解者,則無特別限制,可使用包含通常之有機溶劑之溶液,較佳為醇溶劑或酯溶劑。
較佳為洗淨後,將殘留於基板及圖案上之清洗液去除。
<用途>
本發明之光阻組合物作為KrF準分子雷射曝光用之光阻組合物、ArF準分子雷射曝光用之光阻組合物、電子束(EB)曝光用之光阻組合物或EUV曝光用之光阻組合物、尤其是ArF準分子雷射曝光用之光阻組合物較佳,對半導體之微細加工有用。
[實施例]
列舉實施例,對本發明進一步具體地進行說明。例中,表示含量或使用量之「%」及「份」只要沒有特別記載,則為質量基準。
重量平均分子量係利用凝膠滲透層析法,根據下述條件而求出之值。
裝置:HLC-8120GPC型(Tosoh公司製造)
管柱:TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn(Tosoh公司製造)
溶離液:四氫呋喃
流量:1.0mL/min
檢測器:RI檢測器
管柱溫度:40℃
注入量:100μl
分子量標準:標準聚苯乙烯(Tosoh公司製造)
又,化合物之結構係藉由使用質譜分析(LC係Agilent製造之1100型,MASS係Agilent製造之LC/MSD型)對分子峰進行測定而確認。於以下之實施例中,以「MASS」表示該分子峰之值。
合成例1[式(B1-5)所表示之鹽之合成]
將式(B1-5-a)所表示之鹽50.49份及氯仿252.44份添加於反應器,於23℃下攪拌30分鐘,滴加式(B1-5-b)所表示之化合物16.27份,於23℃下攪拌1小時,藉此獲得包含式(B1-5-c)所表示之鹽之溶液。向所獲得之包含式(B1-5-c)所表示之鹽之溶液添加式(B1-5-d)所表示之鹽48.80份及離子交換水84.15份,於23℃下攪拌12小時。因所獲得之反應液分離為2層,故而將氯仿層分液並進行提取,進而向該氯仿層添加離子交換水84.15份並進行水洗。將該操作反覆5次。向所獲得之氯仿層添加活性碳3.88份並進行攪拌,進行過濾。將所回收之濾液進行濃縮。向所獲得之殘渣添加乙腈125.87份並進行攪拌,進行濃縮。向所獲得之殘渣添加乙腈20.62份及第三丁基甲醚309.30份,於23℃下攪拌30分鐘,將上清液去除,進行濃縮。向所獲得之殘渣添加正庚烷200份,於23℃下攪拌30分鐘,進行過濾,藉此獲得式(B1-5)所表示之鹽61.54份。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 375.2
MASS(ESI(-)Spectrum):M- 339.1
合成例2[式(B1-21)所表示之鹽之合成]
添加藉由日本專利特開2008-209917號公報所記載之方法而獲得之式(B1-21-b)所表示之化合物30.00份、式(B1-21-a)所表示之鹽35.50
份、氯仿100份及離子交換水50份,於23℃下攪拌15小時。因所獲得之反應液分離為2層,故而將氯仿層分液並進行提取,進而向所獲得之氯仿層添加離子交換水30份,進行水洗。將該操作反覆5次。將氯仿層濃縮,向所獲得之殘渣添加第三丁基甲醚100份並於23℃下攪拌30分鐘,進行過濾,藉此獲得式(B1-21-c)所表示之鹽48.57份。
添加式(B1-21-c)所表示之鹽20.00份、式(B1-21-d)所表示之化合物2.84份及單氯苯250份,於23℃下攪拌30分鐘。向所獲得之混合液添加二苯甲酸銅(II)0.21份,進而於100℃下攪拌1小時。將所獲得之反應溶液濃縮。向所獲得之殘渣添加氯仿200份及離子交換水50份,於23℃下攪拌30分鐘,進行分液,提取有機層。向所回收之有機層添加離子交換水50份,於23℃下攪拌30分鐘,進行分液,提取有機層。將該水洗操作反覆5次。將所獲得之有機層濃縮。使所獲得之殘渣溶解於乙腈53.51份中,進行濃縮。其後,向其添加第三丁基甲醚113.05份並進行攪拌,進行過濾,藉此獲得式(B1-21)所表示之鹽10.47份。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 237.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M- 339.1
合成例3[式(B1-22)所表示之鹽之合成]
添加式(B1-22-a)所表示之鹽11.26份、式(B1-22-b)所表示之化合物10.00份、氯仿50份及離子交換水25份,於23℃下攪拌15小時。因
所獲得之反應液分離為2層,故而將氯仿層分液並進行提取,進而向該氯仿層添加離子交換水15份,進行水洗。將該操作反覆5次。將氯仿層濃縮。向所獲得之殘渣添加第三丁基甲醚50份並於23℃下攪拌30分鐘,進行過濾,藉此獲得式(B1-22-c)所表示之鹽11.75份。
添加式(B1-22-c)所表示之鹽11.71份、式(B1-22-d)所表示之化合物1.70份及單氯苯46.84份,於23℃下攪拌30分鐘。向所獲得之混合液添加二苯甲酸銅(II)0.12份,進而於100℃下攪拌30分鐘。將所獲得之反應溶液濃縮。向所獲得之殘渣添加氯仿50份及離子交換水12.50份,於23℃下攪拌30分鐘,進行分液,提取有機層。向所回收之有機層添加離子交換水12.50份,於23℃下攪拌30分鐘,進行分液,提取有機層。將該水洗操作反覆8次。將所獲得之有機層濃縮。向所獲得之殘渣添加第三丁基甲醚50份並進行攪拌,進行過濾,藉此獲得式(B1-22)所表示之鹽6.84份。
MASS(ESI(+)Spectrum):M+ 237.1
MASS(ESI(-)Spectrum):M- 323.0
合成例4(單體(xx-1)之合成)
將式(xx1-1)所表示之化合物10.00份、乙酸乙酯100份及甲基丙烯酸14.36份添加於反應器並進行混合。向所獲得之混合物添加三乙胺10.28份,於23℃下攪拌18小時。向所獲得之反應溶液添加離子交換水40份,藉由分液操作而回收有機層。將該水洗之操作進而進行6
次。將所回收之有機層進行濃縮,而獲得式(xx-1)所表示之化合物12.61份。
MS(質譜分析):186.1(分子離子峰)
合成例5(單體(xx-2)之合成)
添加式(xx2-1)所表示之化合物20.00份及氯仿240份,於23℃下攪拌30分鐘,添加式(xx2-2)所表示之化合物15.10份,於60℃下攪拌12小時。向所獲得之反應物添加離子交換水60份,並攪拌30分鐘,進行分液,藉此回收有機層。將該水洗之操作進行6次。將所回收之有機層進行濃縮,藉此獲得式(xx2-3)所表示之化合物27.00份。
添加式(xx2-3)所表示之化合物25.49份、式(xx1-1)所表示之化合物9.00份及氯仿200份,於23℃下攪拌3小時。向所獲得之反應物料添加使草酸0.5份溶解於離子交換水50份中而成之水溶液並進行攪拌,進行分液。向所回收之有機層添加離子交換水50份並進行攪拌,進行分液。將該水洗操作進行5次。將所獲得之有機層進行濃縮,藉此獲得式(xx-2)所表示之化合物28.98份。
MS(質譜分析):380.2(分子離子峰)
樹脂之合成
將樹脂之合成中所使用之化合物(單體)示於以下。
以下,視式編號,將該等單體稱為「單體(a1-1-3)」等。
實施例1[樹脂A1-1之合成]
使用單體(a4-0-1)、單體(I-2)及單體(xx-1)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-1):單體(I-2):單體(xx-1)]成為50:35:15之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為0.85mol%及2.55mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率78%獲得重量平均分子量1.4×104之樹脂A1-1。該樹脂A1-1係具有以下之結構單元者。
實施例2[樹脂A1-2之合成]
使用單體(a4-0-12)、單體(I-1)及單體(xx-1)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-12):單體(I-1):單體(xx-1)]成為50:45:5之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為0.85mol%及2.55mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率78%獲得重量平均分子量1.3×104之樹脂A1-2。該樹脂A1-2係具有以下之結構單元者。
實施例3[樹脂A1-3之合成]
使用單體(a4-0-12)、單體(I-1)及單體(xx-2)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-12):單體(I-1):單體(xx-2)]成為50:45:5之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為0.85mol%及2.55mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率70%獲得重量
平均分子量1.2×104之樹脂A1-3。該樹脂A1-3係具有以下之結構單元者。
實施例4[樹脂A1-4之合成]
使用單體(a4-1-3)、單體(I-1)及單體(xx-2)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-1-3):單體(I-1):單體(xx-2)]成為50:45:5之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為0.85mol%及2.55mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率65%獲得重量平均分子量1.3×104之樹脂A1-4。該樹脂A1-4係具有以下之結構單元者。
實施例5[樹脂A1-5之合成]
使用單體(a4-0-12)、單體(I-1)及單體(xx-1)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-12):單體(I-1):單體(xx-1)]成為50:45:5之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為1mol%及3mol%之
偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率82%獲得重量平均分子量8.5×103之樹脂A1-5。該樹脂A1-5係具有以下之結構單元者。
實施例6[樹脂A1-6之合成]
使用單體(a4-0-12)、單體(I-1)及單體(xx-2)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-12):單體(I-1):單體(xx-2)]成為50:45:5之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為1mol%及3mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率75%獲得重量平均分子量8.2×103之樹脂A1-6。該樹脂A1-6係具有以下之結構單元者。
實施例7[樹脂A1-7之合成]
使用單體(a4-0-12)、單體(I-1)及單體(xx-3)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-12):單體(I-1):單體(xx-3)]成為50:45:5之方式進
行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為1mol%及3mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率75%獲得重量平均分子量8.2×103之樹脂A1-7。該樹脂A1-7係具有以下之結構單元者。
合成例6[樹脂A2-1之合成]
使用單體(a1-1-3)、單體(a1-2-9)、單體(a2-1-3)及單體(a3-4-2)作為單體,並以其莫耳比[單體(a1-1-3):單體(a1-2-9):單體(a2-1-3):單體(a3-4-2)]成為45:14:2.5:38.5之方式進行混合,添加總單體量之1.5質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向該溶液添加相對於總單體量分別為1mol%及3mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於73℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。進行將使所獲得之樹脂再次溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯而獲得之溶解液注入甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾之再沈澱操作2次,而以產率68%獲得重量平均分子量7.6×103之樹脂A2-1(共聚物)。該樹脂A2-1係具有以下之結構單元者。
合成例7[樹脂A2-2之合成]
使用單體(a1-1-3)、單體(a1-2-9)、單體(a2-1-1)及單體(a3-4-2)作為單體,並以其莫耳比[單體(a1-1-3):單體(a1-2-9):單體(a2-1-1):單體(a3-4-2)]成為45:14:2.5:38.5之方式進行混合,添加總單體量之1.5質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向該溶液添加相對於總單體量分別為1mol%及3mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於73℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。進行將使所獲得之樹脂再次溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯而獲得之溶解液注入甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾之再沈澱操作2次,而以產率67%獲得重量平均分子量7.9×103之樹脂A2-2(共聚物)。該樹脂A2-2係具有以下之結構單元者。
合成例8[樹脂A1X-1之合成]
使用單體(a4-0-1)及單體(I-2)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-1):單體(I-2)]成為50:50之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為0.9mol%及2.7mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二
甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率90%獲得重量平均分子量1.2×104之樹脂A1X-1。該樹脂A1X-1係具有以下之結構單元者。
合成例9[樹脂A1X-2之合成]
使用單體(a4-0-12)、單體(a4x-1)及單體(xx-1)作為單體,並以其莫耳比[單體(a4-0-12):單體(a4x-1):單體(xx-1)]成為42:29:29之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為1mol%及3mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率65%獲得重量平均分子量7.6×103之樹脂A1X-2。該樹脂A1X-2係具有以下之結構單元者。
合成例10[樹脂A1X-3之合成]
使用單體(a1-2-11)、單體(a4x-2)及單體(xx-1)作為單體,並以其莫耳比[單體(a1-2-11):單體(a4x-2):單體(xx-1)]成為60:25:15之方式進行混合,添加總單體量之1.2質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製
成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為1mol%及3mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率60%獲得重量平均分子量6.9×103之樹脂A1X-3。該樹脂A1X-3係具有以下之結構單元者。
合成例18[樹脂A1X-4之合成]
使用單體(a4-1-3)作為單體,添加總單體量之1.5質量倍之丙二醇單甲醚乙酸酯而製成溶液。向所獲得之溶液添加相對於總單體量分別為0.85mol%及2.55mol%之偶氮二異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)作為起始劑,將該等於75℃下加熱約5小時。將所獲得之反應混合物注入大量之甲醇/水混合溶劑中,使樹脂沈澱,將該樹脂進行過濾。將所獲得之樹脂再次注入甲醇中,進行碎漿,將該樹脂進行過濾,藉此以產率77%獲得重量平均分子量1.2×104之樹脂A1X-4。該樹脂A1X-4係具有以下之結構單元者。
<光阻組合物之製備>
使以下所示之各成分以表1所示之質量份溶解於溶劑,進而利用孔徑0.2μm之氟樹脂製過濾器進行過濾,而製備光阻組合物。將所製
備之光阻組合物以30℃保存3週後,進行光阻特性評價。
<樹脂>
A1-1~A1-7:樹脂A1-1~樹脂A1-7
A2-1、A2-2、A1X-1~A1X-4:樹脂A2-1、樹脂A2-2、樹脂A1X-1~樹脂A1X-4
<酸產生劑>
B1-5:式(B1-5)所表示之鹽
B1-21:式(B1-21)所表示之鹽
B1-22:式(B1-22)所表示之鹽
<弱酸分子內鹽(D)>
D1:(東京化成工業(股)製造)
<溶劑>
<光阻圖案之製造及其評價>
於12英吋之矽晶圓上塗佈有機抗反射膜用組合物[ARC-29;日產化學(股)製造],於205℃、60秒之條件下進行烘烤,藉此形成厚度78nm之有機抗反射膜。繼而,於上述之有機抗反射膜上,將上述之光阻組合物以乾燥(預烤)後之組合物層之膜厚成為100nm之方式進行旋轉塗佈。塗佈後,將該矽晶圓於直接加熱板上以表1之「PB」欄所記載之溫度預烤60秒鐘,而於矽晶圓上形成組合物層。
針對形成於矽晶圓上之組合物層,利用液浸曝光用ArF準分子雷射步進機[XT:1900Gi;ASML公司製造,NA=1.35,Annular σout=0.85 σin=0.65 XY-pol.照明],並使用用以形成溝槽圖案(間距120nm/溝槽寬度40nm)之遮罩,以使曝光量階段性變化之方式進行曝光。再者,作為液浸介質,使用超純水。
曝光後,於加熱板上,以表1之「PEB」欄所記載之溫度進行60秒鐘曝光後烘烤。繼而,使用乙酸丁酯(東京化成工業(股)製造)作為
顯影液,於23℃下藉由動態點膠法,將該矽晶圓上之組合物層進行20秒鐘顯影,藉此製造負型光阻圖案。
於所獲得之光阻圖案中,將溝槽圖案之寬度成為40nm之曝光量設為有效感度。
<線邊緣粗糙度評價(LER)>
針對所獲得之光阻圖案,利用掃描式電子顯微鏡對壁面之凹凸之振動幅度進行觀察並測定。將該振動幅度為3nm以下者設為○;將超過3nm者設為×。將結果示於表2。括弧內之數值係表示振動幅度(nm)。
<缺陷評價>
利用液浸曝光用ArF準分子雷射步進機[XT:1900Gi;ASML公司製造,NA=1.35,3/4Annular X-Y偏光照明],並使用用以形成1:1線與間隙圖案(間距80nm、線寬40nm)之遮罩,以所獲得之線與間隙圖案之線寬與間隙寬度成為1:1之曝光量進行曝光,除此以外,進行與上述相同之操作,藉此製造負型光阻圖案。
其後,使用缺陷檢查裝置[KLA-2360;KLA Tencor製造],對存在於晶圓上之線圖案上之缺陷數(個)進行測定。將其結果示於表2。
自上述結果可知,根據本發明之樹脂及光阻組合物,保存穩定性(缺陷、線邊緣粗糙度)良好。
本發明之樹脂及光阻組合物之保存穩定性(缺陷、線邊緣粗糙度)良好,對半導體之微細加工有用。
Claims (13)
- 一種光阻組合物,其含有:樹脂(A1),其含有式(a4)所表示之結構單元、具有包含-O-CO-O-作為構成環之原子之環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所表示之結構單元,且不具有酸不穩定基;樹脂(A2),其具有酸不穩定基;以及酸產生劑,
[式(a4)中,R3表示氫原子或甲基,R4表示碳數1~24之具有氟原子之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代], [式(I)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示碳數3~18之脂環式烴基,該脂環式烴基所包含之氫原子亦可經碳數1~8之脂肪族烴基或羥基取代;其中,鍵結於處於與L1之鍵結位置之碳原子之氫原子未經碳數1~8之脂肪族烴基取代, L1表示單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。 - 如請求項1或2之光阻組合物,其中R2為未經取代之碳數3~18之脂環式烴基。
- 如請求項1或2之光阻組合物,其中式(a4)所表示之結構單元為選自由式(a4-0)所表示之結構單元、式(a4-1)所表示之結構單元、式(a4-2)所表示之結構單元及式(a4-3)所表示之結構單元所組成之群中之至少一種,
[式(a4-0)中,Rf1表示氫原子或甲基,Rf2表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基], [式(a4-1)中,Rf3表示氫原子或甲基,L3表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代,Rf4表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基], [式(a4-2)中,Rf5表示氫原子或甲基,L4表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代,Rf6表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基], [式(a4-3)中,Rf7表示氫原子或甲基,L5表示碳數1~6之烷二基,Af13表示可具有氟原子之碳數1~18之2價之飽和烴基,Xf12表示羰氧基或氧羰基,Af14表示可具有氟原子之碳數1~17之飽和烴基,其中,Af13及Af14中之至少1個具有氟原子]。 - 如請求項6之光阻組合物,其中樹脂(A2)為包含上述式(a1-1)所表示之結構單元及上述式(a1-2)所表示之結構單元之樹脂。
- 一種光阻圖案之製造方法,其包括:(1)將如請求項1至7之光阻組合物塗佈於基板上之步驟;(2)使塗佈後之組合物乾燥而形成組合物層之步驟;(3)對組合物層進行曝光之步驟;(4)對曝光後之組合物層進行加熱之步驟;及(5)將加熱後之組合物層進行顯影之步驟。
- 一種樹脂,其含有式(a4)所表示之結構單元、具有包含-O-CO-O-作為構成環之原子之環狀碳酸酯結構之結構單元及式(I)所表示之結構單元,且不具有酸不穩定基,
[式(a4)中,R3表示氫原子或甲基,R4表示碳數1~24之具有氟原子之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代], [式(I)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示碳數3~18之脂環式烴基,該脂環式烴基所包含之氫原子亦可經碳數1~8之脂肪族烴基或羥基取代;其中,鍵結於處於與L1之鍵結位置之碳原子之氫原子未經碳數1~8之脂肪族烴基取代,L1表示單鍵或碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代]。 - 如請求項9或10之樹脂,其中R2為未經取代之碳數3~18之脂環式烴基。
- 如請求項9或10之樹脂,其中式(a4)所表示之結構單元為選自由式(a4-0)所表示之結構單元、式(a4-1)所表示之結構單元、式(a4-2)所表示之結構單元及式(a4-3)所表示之結構單元所組成之群中之至少一種,
[式(a4-0)中,Rf1表示氫原子或甲基,Rf2表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基], [式(a4-1)中,Rf3表示氫原子或甲基,L3表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代,Rf4表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基], [式(a4-2)中,Rf5表示氫原子或甲基,L4表示碳數1~18之2價之飽和烴基,該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代,Rf6表示碳數1~20之具有氟原子之飽和烴基], [式(a4-3)中,Rf7表示氫原子或甲基,L5表示碳數1~6之烷二基,Af13表示可具有氟原子之碳數1~18之2價之飽和烴基,Xf12表示羰氧基或氧羰基,Af14表示可具有氟原子之碳數1~17之飽和烴基,其中,Af13及Af14中之至少1個具有氟原子]。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014-187604 | 2014-09-16 | ||
| JP2014187604 | 2014-09-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201616229A TW201616229A (zh) | 2016-05-01 |
| TWI708119B true TWI708119B (zh) | 2020-10-21 |
Family
ID=55454651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW104130678A TWI708119B (zh) | 2014-09-16 | 2015-09-16 | 樹脂、光阻組合物及光阻圖案之製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9996002B2 (zh) |
| JP (1) | JP6541526B2 (zh) |
| KR (1) | KR102424267B1 (zh) |
| TW (1) | TWI708119B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4092056A4 (en) * | 2020-01-15 | 2023-11-22 | NOF Corporation | (METH)ACRYLATE MONOMER CONTAINING A CYCLOCARBONATE GROUP AND ASSOCIATED POLYMER |
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| US9996002B2 (en) | 2018-06-12 |
| KR20160032706A (ko) | 2016-03-24 |
| TW201616229A (zh) | 2016-05-01 |
| US20160077431A1 (en) | 2016-03-17 |
| JP6541526B2 (ja) | 2019-07-10 |
| KR102424267B1 (ko) | 2022-07-25 |
| JP2016066073A (ja) | 2016-04-28 |
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