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TWI704193B - 感光性樹脂組成物、光學膜及其製造方法 - Google Patents

感光性樹脂組成物、光學膜及其製造方法 Download PDF

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TWI704193B
TWI704193B TW108101438A TW108101438A TWI704193B TW I704193 B TWI704193 B TW I704193B TW 108101438 A TW108101438 A TW 108101438A TW 108101438 A TW108101438 A TW 108101438A TW I704193 B TWI704193 B TW I704193B
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Abstract

本發明提供一種感光性樹脂組成物、光學膜及其製造方法。感光性樹脂組成物包含：（A）含乙烯性不飽和基的化合物，其具有一個或兩個芳香環；（B）雙酚芴寡聚物，其具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基；以及（C）光起始劑，其中，（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的重量比為0.50~0.95。

Description

感光性樹脂組成物、光學膜及其製造方法
本發明關於一種樹脂組成物，特別是關於一種感光性樹脂組成物。
近年來，厚膜感光性組成物的應用日漸廣泛，舉凡觸控式行動裝置、指紋辨識系統、晶圓封裝皆有其應用，而一般厚膜感光性組成物多半有添加溶劑，因此要在基板上達到約20~120μm的厚度有其困難，且在高膜厚下容易出現低穿透度以及高翹曲度等問題。
尤其是指紋辨識系統的光學要求更為嚴格，需要較厚的光學膜作為間隔件，同時需要符合對紅外線以及可見光都具有高穿透度，然而，在高膜厚（例如厚度120μm）下要達到對紅外線以及可見光都具有高穿透度，有許多課題需要克服，例如：厚膜會造成基板翹曲、感光性樹脂溶液的黏度難以達到厚膜、表面塗佈不易均勻、光硬化後的光學膜會龜裂的問題等。
由上述可知，如何提供在膜厚20μm~120μm時具有理想的光學性質以及機械性質之感光性樹脂組成物，實為目前此領域技術人員亟欲解決的問題。
有鑑於此，本發明提供一種可形成具有較低的翹曲度及高穿透度的感光性樹脂組成物、光學膜及其製造方法。
本發明提供一種感光性樹脂組成物，包含：（A）含乙烯性不飽和基的化合物，其具有一個或兩個芳香環；（B）雙酚芴寡聚物，其具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基；以及（C）光起始劑。其中，（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的重量比為0.50~0.95。
在本發明的一實施例中，上述的感光性樹脂組成物更含有（E）溶劑，（E）溶劑的含量為所述感光性樹脂組成物的1重量%以下。
在本發明的一實施例中，上述的感光性樹脂組成物不含有溶劑。
在本發明的一實施例中，上述的（A）含乙烯性不飽和基的化合物包含下列選自於由式（1）至式（14）所表示的化合物所組成的族群中的至少一者。
Figure 02_image001
式（1） 式（1）中，n1及m1各自獨立為0~20的整數，n1與n2的總和為1~20的整數，
Figure 02_image003
式（2） 式（2）中，n2及m2各自獨立為0~4的整數，n2與m2的總和為2~4的整數，
Figure 02_image005
式（3） 式（3）中，n3為0~3的整數，
Figure 02_image007
式（4） 式（4）中，R 1為碳數為1~20的烷基，
Figure 02_image009
式（5） 式（5）中，R 2為碳數為1~20的烷基，
Figure 02_image011
式（6） 式（6）中，R 3為碳數為1~20的烷基，
Figure 02_image013
式（7）
Figure 02_image015
式（8）
Figure 02_image017
式（9）
Figure 02_image019
式（10）
Figure 02_image021
式（11）
Figure 02_image023
式（12）
Figure 02_image025
式（13） 式（13）中，n4為1~3的整數，
Figure 02_image027
式（14） 式（14）中，n5為1~3的整數。
在本發明的一實施例中，上述的（A）含乙烯性不飽和基的化合物包括由式（1）所表示的化合物。
在本發明的一實施例中，上述的（B）雙酚芴寡聚物的重量平均分子量為500~5000。
在本發明的一實施例中，上述的感光性樹脂組成物在25°C的黏度為600~7000mPa·s。
本發明還提供一種光學膜的製造方法，其包括以下步驟：首先，將上述的感光性樹脂組成物塗佈於基板，以形成塗膜。接著，對塗膜進行曝光步驟。然後，對經曝光的塗膜進行烘烤步驟，以在基板上形成光學膜。
在本發明的一實施例中，上述的光學膜的製造方法，其中曝光步驟的波長為200~500nm。
在本發明的一實施例中，上述的光學膜的製造方法，其中烘烤步驟的溫度為130℃至280℃。
本發明也提供一種光學膜，其是上述的光學膜的製造方法所製備。
在本發明的一實施例中，上述的光學膜的厚度為20~120μm時，對於波長為380nm~780nm的可見光具有85%以上的穿透度。
在本發明的一實施例中，上述的光學膜的厚度為20~120μm時，對於波長為780nm~1100nm的紅外線具有90%以上的穿透度。
在本發明的一實施例中，上述的光學膜的厚度為20~120μm時，光學膜相對於基板的翹曲度小於0.25mm。
基於上述，本發明的感光性樹脂組成物使用（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的重量比為0.50~0.95時，而當感光性樹脂組成物用於光學膜時，可使光學膜具有較低的翹曲度及高穿透度，藉此改善厚膜會造成基板翹曲以及穿透度不足的問題。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例作詳細說明如下。
定義
「包含」、「具有」等的用語，在沒有明確地說明下，通常應當理解為開放式及無限制性。
在沒有具體地說明下，單數用語包括複數（反之亦然）。此外，在一數值前之「約」的用語，通常包括該特定數值，除非有特別說明。此處，「約」的用語係指標準值±10%的變化，除非另有說明或隱射。
應當理解只要本發明維持可操作下，步驟的順序或執行某些動作的順序是不重要的。此外，可以同時進行兩個或更多個步驟或動作。
在下文中，是以(甲基)丙烯酸表示丙烯酸及/或甲基丙烯酸，並以(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯；同樣地，以(甲基)丙烯醯基表示丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。 ＜ 感光性樹脂組成物 ＞
本發明提供一種感光性樹脂組成物，其包括（A）含乙烯性不飽和基的化合物，其具有一個或兩個芳香環；（B）雙酚芴寡聚物，其具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基；以及（C）光起始劑。此外，若需要，感光性樹脂組成物可更包括（D）添加劑、（E）溶劑或其組合。以下將詳細說明用於本發明的感光性樹脂組成物的各個成分。 （ A ）含乙烯性不飽和基的化合物
（A）含乙烯性不飽和基的化合物具有一個或兩個芳香環。藉由於（A）含乙烯性不飽和基的化合物中導入芳香環，可減緩感光性樹脂組成物所形成的光學膜的翹曲度，而（A）含乙烯性不飽和基的化合物所含有的芳香環超過兩個時，光學膜的穿透度降低。
另外，（A）含乙烯性不飽和基的化合物較佳為具有一個或兩個的(甲基)丙烯醯基。本發明所使用的（A）含乙烯性不飽和基的化合物及（B）雙酚芴寡聚物都具有(甲基)丙烯醯基，因此反應速率一致，不會局部硬化過快，因此可以維持光學膜的穿透度。
具體而言，上述的（A）含乙烯性不飽和基的化合物包含下列選自於由式（1）至式（14）所表示的化合物所組成的族群中的至少一者。
Figure 02_image029
式（1） 式（1）中，n1及m1各自獨立為0~20的整數，n1與n2的總和為1~20的整數。
Figure 02_image003
式（2） 式（2）中，n2及m2各自獨立為0~4的整數，n2與m2的總和為2~4的整數。
Figure 02_image005
式（3） 式（3）中，n3為0~3的整數。
Figure 02_image007
式（4） 式（4）中，R 1為碳數為1~20的烷基。
Figure 02_image009
式（5） 式（5）中，R 2為碳數為1~20的烷基。
Figure 02_image011
式（6） 式（6）中，R 3為碳數為1~20的烷基。
Figure 02_image013
式（7）
Figure 02_image015
式（8）
Figure 02_image017
式（9）
Figure 02_image019
式（10）
Figure 02_image021
式（11）
Figure 02_image023
式（12）
Figure 02_image025
式（13） 式（13）中，n4為1~3的整數。
Figure 02_image027
式（14） 式（14）中，n5為1~3的整數。
式（1）所表示的化合物的具體例可列舉由式（1-1）所表示的化合物。
Figure 02_image031
式（1-1）
式（2）所表示的化合物的具體例可列舉由式（2-1）所表示的化合物。
Figure 02_image033
式（2-1）
式（3）所表示的化合物的具體例可列舉由式（3-1）所表示的化合物。
Figure 02_image035
式（3-1）
式（4）所表示的化合物的具體例可列舉由式（4-1）所表示的化合物。
Figure 02_image037
式（4-1）
式（5）所表示的化合物的具體例可列舉由式（5-1）所表示的化合物。
Figure 02_image039
式（5-1）
式（6）所表示的化合物的具體例可列舉由式（6-1）所表示的化合物。
Figure 02_image041
式（6-1）
式（13）所表示的化合物的具體例可列舉由式（13-1）所表示的化合物。
Figure 02_image043
式（13-1）
式（14）所表示的化合物的具體例可列舉由式（14-1）所表示的化合物。
Figure 02_image045
式（14-1）
上述的（A）含乙烯性不飽和基的化合物較佳為包含由式（1）所表示的化合物，更佳為由式（1-1）所表示的化合物。藉由使用由式（1）所表示的化合物可進一步增加光學膜的穿透度。 （ B ）雙酚芴寡聚物
（B）雙酚芴寡聚物具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基。本發明所使用的（A）含乙烯性不飽和基的化合物及（B）雙酚芴寡聚物都具有(甲基)丙烯醯基，因此反應速率一致，不會局部硬化過快，因此可以維持光學膜的穿透度。
（B）雙酚芴寡聚物沒有特別的限制，可列舉味元商業股份有限公司（Miwon Co., Ltd.））製造的MIRAMER HR6100（經改質的雙酚芴二丙烯酸酯）、MIRAMER HR6200（經改質的雙酚芴二丙烯酸酯）。
（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的重量比可為0.50~0.95，較佳為0.66~0.86。當（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的重量比於上述範圍時，可使感光性樹脂組成物所形成的光學膜具有較低的翹曲度及高穿透度。
（B）雙酚芴寡聚物的重量平均分子量可為500~5000。當（B）雙酚芴寡聚物的重量平均分子量於上述範圍時，可進一步使感光性樹脂組成物的黏度於理想的範圍中。 （ C ）光起始劑
（C）光起始劑沒有特別的限制，可列舉苯乙酮系化合物（acetophenone）、苯基丙酮系化合物（phenyl ketone）、二咪唑系化合物（biimidazole）、二苯甲酮（benzophenone）系化合物、醯肟系化合物（acyl oxime）、醯膦氧化物（acylphosphine oxide）、α-二酮（α-diketone）類化合物、酮醇（acyloin）類化合物、酮醇醚（acyloinether）類化合物、醌（quinone）類化合物、鹵化合物、過氧化物、陽離子型化合物、或其組合。
苯乙酮系化合物可列舉對二甲胺苯乙酮（p-dimethylamino-acetophenone）、α,α’-二甲氧基氧化偶氮苯乙酮（α,α’-dimethoxyazoxy-acetophenone）、2,2’-二甲基-2-苯基苯乙酮（2,2’-dimethyl-2-phenyl-acetophenone）、對甲氧基苯乙酮（p-methoxy-acetophenone）、2-甲基-1-(4-甲基硫苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮（2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholino-1- propanone）、2-苯基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮（2-benzyl-2-N,N-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone）、或其組合。
苯基丙酮系化合物可列舉1-羥基環己基苯基酮（1-hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone，商品名：Irgacure 184，汽巴精化（Ciba Specialty Chemicals）公司製造）、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮（2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one，商品名：DAROCUR 1173，汽巴精化公司製造）、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮（2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)benzyl]phenyl}-2-methyl-propane-1-one，商品名：IRGACURE 127，汽巴精化公司製造）、或其組合。
二咪唑系化合物可列舉2,2’-雙(鄰-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(o-chlorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl- biimidazole）、2,2’-雙(鄰-氟苯基)-4,4,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(o-fluorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole）、2,2’-雙(鄰-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(o-methyl phenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole）、2,2’-雙(鄰-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(o-methoxyphenyl)-4,4’,5,5’- tetraphenyl-biimidazole）、2,2’-雙(鄰-乙基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(o-ethylphenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole）、2,2’-雙(對甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(p-methoxyphenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole）、2,2’-雙(2,2’,4,4’-四甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(2,2’,4,4’-tetramethoxyphenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole）、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(2-chlorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole）、2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑（2,2’-bis(2,4-dichlorophenyl)-4,4’,5,5’-tetraphenyl-biimidazole）、或其組合。
二苯甲酮（benzophenone）系化合物可列舉噻噸酮（Thioxanthone）、2,4-二乙基噻噸酮（2,4-diethylthioxanthanone），噻噸酮-4-碸（thioxanthone-4-sulfone）、二苯甲酮(benzophenone)4,4’-雙(二甲胺)二苯甲酮（4,4’-bis(dimethylamino)benzophone）、4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮（4,4’-bis(diethylamino)benzophenone）、或其組合。
醯肟系化合物可列舉乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9氫-咔唑-3-取代基]-,1-(氧-乙醯肟)（ethanone,1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazole-3-yl]-,1-(O-acetyl oxime)，如汽巴精化製造之「CGI-242」產品）、1-(4-苯基-硫代-苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-氧-苯甲酸酯（1-(4-phenyl-thio-phenyl)-octane-1,2-dion 2-oxime-O-benzoate，如汽巴精化製造之「CGI-124」產品）、乙烷酮,1-[9-乙基-6-(2-氯-4-苯甲基-硫代-苯甲醯基)-9氫-咔唑-3-取代基]-,1-(氧-乙醯肟)（ethanone,1-[9-ethyl-6-(2-cholro-4-benzyl -thio-benzoyl)-9H- carbazole-3-yl]-,1-(O-acetyl oxime)，旭電化公司製造）、或其組合。
醯膦氧化物（acylphosphineoxide）可列舉2,4,6-三甲基苯醯二苯基膦氧化物（2,4,6-trimethyl-benzoyldiphenyl phosphineoxide）、雙-(2,6-二甲氧基苯醯)-2,4,4-三甲基苯基膦氧化物（bis-(2,6-dimethoxy-benzoyl)-2,4,4-trimethylbenzyl phosphineoxide）、苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)氧化膦（Phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide）、或其組合。
α-二酮（α-diketone）類化合物可列舉苯偶醯（benzil）、乙醯基（acetyl）、或其組合。
酮醇（acyloin）類化合物可列舉二苯乙醇酮（benzoin）。
酮醇醚（acyloinether）類化合物可列舉二苯乙醇酮甲醚（benzoin methylether）、二苯乙醇酮乙醚（benzoinethylether）、二苯乙醇酮異丙醚（benzoin isopropyl ether）、或其組合。
醌（quinone）類化合物可列舉蒽醌（anthraquinone）、1,4-萘醌（1,4-naphthoquinone）、或其組合。
鹵化合物可列舉苯醯甲基氯（phenacyl chloride）、三溴甲基苯碸（tribromomethyl phenylsulfone）、三(三氯甲基)-s-三嗪（tris(trichloromethyl)-s-triazine）、或其組合。
過氧化物可列舉二-叔丁基過氧化物（di-tert-butylperoxide）。
陽離子型化合物可列舉重氮鹽、碘鎓鹽、硫鎓鹽、或其組合。
（C）光起始劑較佳為2-甲基-1-(4-甲基硫苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苯基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯醯二苯基膦氧化物、苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)氧化膦、或其組合。
基於（A）含乙烯性不飽和基的化合物為100重量份，（C）光起始劑可為0.05~40重量份，較佳0.1～20重量份，更佳為0.5～10重量份。當（C）光起始劑在上述範圍內，可充分發揮起始劑的反應性。 （ D ） 添加劑
在不影響本發明功效的前提下，本發明的感光性樹脂組成物更可選擇性進一步添加（D）添加劑。（D）添加劑沒有特別的限制，具體而言，（D）添加劑包括氟類界面活性劑、矽氧烷界面活性劑類、非離子類界面活性劑、流平劑、或其組合。
基於（A）含乙烯性不飽和基的化合物為100重量份，（D）添加劑可為0.005~0.015重量份。 （ E ）溶 劑
感光性樹脂組成物較佳為不含任何溶劑。但是，在不影響本發明功效的前提下，本發明的感光性樹脂組成物更可選擇性進一步添加（E）溶劑。（E）溶劑是指可以將（A）含乙烯性不飽和基的化合物、（B）雙酚芴寡聚物、（C）光起始劑、（D）添加劑溶解，但又不與上述成分反應的溶劑。
（E）溶劑沒有特別的限制，可列舉乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類（例如二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚等）、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、酯類、酮類、醯胺類、內酯類等。較佳的溶劑的具體例可列舉：丙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇乙基甲基醚、γ-丁內酯、N-甲基吡咯啶酮、1,3-丁二醇二乙酸酯、或其組合。
（E）溶劑的含量為感光性樹脂組成物的1重量%以下。當（E）溶劑的含量超過感光性樹脂組成物的1重量%以上時，感光性樹脂組成物欲形成厚膜(厚度50μm以上)的塗層時，溶劑揮發容易在塗膜中產生氣泡。另外，感光性樹脂組成物更佳為不含任何溶劑。 ＜ 感光性樹脂組成物的製備方法 ＞
可用來製備感光性樹脂組成物的方法沒有特別的限制，例如：將（A）含乙烯性不飽和基的化合物、（B）雙酚芴寡聚物、以及（C）光起始劑放置於攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態，必要時亦可添加（D）添加劑、（E）溶劑或其組合，予以均勻混合後，便可獲得液態的感光性樹脂組成物。
本發明的感光性樹脂組成物在25°C的黏度較佳為600~7000mPa·s。 ＜ 光學膜的製造方法 ＞
本發明提供一種光學膜的製造方法，其包括以下步驟：首先，將上述的感光性樹脂組成物塗佈於基板，以形成塗膜。接著，對塗膜進行曝光步驟。然後，對經曝光的塗膜進行烘烤步驟，以在基板上形成光學膜。
將感光性樹脂組成物塗佈於基板的方法可採用旋轉塗佈機（spin coater）、非旋轉式塗佈機（spin loess coating machine）或狹縫式塗佈機（slit-die coating machine），較佳為旋轉塗佈機。在採用旋轉塗佈機的情況下，轉速800~3500rpm，所形成的塗膜厚度為20~120μm。
基板可列舉玻璃基板、藍寶石基板或矽晶圓基板。
曝光步驟的光源可為g線、h線、i線等紫外線。另外，曝光步驟的裝置沒有特別的限制，可列舉高水銀燈、超高水銀燈或金屬鹵素燈。曝光步驟的波長可為200~500nm。
烘烤步驟的溫度可為130℃至280℃。
光學膜的厚度為20~120μm時，對於波長為380nm~780nm的可見光具有85%以上的穿透度，對於波長為780nm~1100nm的紅外線具有90%以上的穿透度。另外，光學膜的厚度為20~120μm時，光學膜相對於基板的翹曲度小於0.25mm。
本發明將就以下範例來作進一步說明，但應瞭解的是，該範例僅為例示說明之用，而不應被解釋為本發明實施之限制。 感光性樹脂組成物及光學膜的實施例
以下說明感光性樹脂組成物及光學膜的實施例1至實施例3以及比較例1至比較例2： 實施例 1 a. 感光性樹脂組成物
將38.80wt%的（A）含乙烯性不飽和基的化合物、58.20 wt%的（B）雙酚芴寡聚物、3wt%的2-甲基-1-(4-甲基硫苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮（巴斯夫（BASF）日本股份有限公司製造，豔佳固907（IRGACURE 907））混合，並且以攪拌器攪拌均勻後，即可製得實施例1的感光性樹脂組成物。 b. 光學膜
以旋轉塗佈方式（旋轉塗佈機型號MK-VIII，由東京威力科創股份有限公司（Tokyo Electron Limited，TEL）製造，轉速1000rpm）將實施例所製得的各種感光性樹脂組成物，塗佈於矽晶圓基板上。接著，利用1600J/m 2的紫外光（曝光機型號5500iZa，由佳能（Canon）股份有限公司製造）進行曝光，以形成半成品。接著，在220℃進行烘烤20分鐘，即可獲得光學膜。將所製得的半成品及光學膜以下列各評價方式進行評價，其結果如表1所示。 實施例 2 至實施例 3 以及比較例 1 至比較例 2
實施例2至實施例3以及比較例1至比較例2的感光性樹脂組成物是以與實施例1相同的步驟來製備，並且其不同處在於：改變感光性樹脂組成物的成分種類及其使用量（如表1所示）。將所製得的感光性樹脂組成物以下列各評價方式進行評價，其結果如表1所示。 表1
    實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2
（A）含乙烯性不飽和基的化合物(wt%) 由式（1）所表示的化合物 （BPA3EODA，購自恆橋產業股份有限公司） 38.80 33.95 44.62 76.63 40.74
（B）雙酚芴寡聚物(wt%) MIRAMER HR6100 58.20 63.05 52.38 20.37 -
（B’）環氧丙烯酸寡聚物(wt%) 雙酚A環氧基二丙烯酸酯（阿珂瑪製造的CN104） - - - - 56.26
（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的總和(wt%) 97 97 97 97 -
A:B(重量比) 40:60 35:65 46:54 79:21 -
A/B(重量比) 0.667 0.538 0.851 3.762 -
（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B’）環氧丙烯酸寡聚物的總和(wt%) - - - - 97
A:B’ (重量比) - - - - 42:58
A/B’ (重量比) - - - - 0.724
（C）光起始劑(wt%) 豔佳固907 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00
評價結果 膜厚 ◎ ◎ ◎ ╳ ◎
翹曲度 ◎ ◎ ◎ Δ ╳
可見光穿透度 ◎ ◎ ◎ ◎ Δ
紅外線穿透度 ◎ ◎ ◎ ◎ Δ
再塗性 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
＜ 評價 方式 ＞ a. 膜厚
以光學膜厚儀（型號VM-1210，大日本精機株式會社製造）量測光學膜的半成品的膜厚。 ◎：膜厚在20μm至120μm之間 ╳：膜厚小於20μm b. 翹曲度
以厚薄規（型號25410015，德國菲尼克斯（Phoenix）電子公司製造）插入基板邊緣，量測其基板邊緣與平面之間間隙的厚度作為翹曲度。將翹曲度以下列方式評價。 ◎：翹曲度＜0.25mm △：0.25mm≦翹曲度＜0.3mm ╳：0.3mm＜翹曲度 c. 可見光穿透度
以紫外光-可見光分光光譜儀（型號U2900，日立（HITACHI）股份有限公司製造）量測光學膜在波長為380nm~780nm的穿透度。 ◎：85%≦穿透度 △：80%≦穿透度＜85% ╳：穿透度＜80% d. 紅外線穿透度
以紫外光-可見光分光光譜儀（型號U2900，日立（HITACHI）股份有限公司製造）量測光學膜在波長為780nm~1100nm的穿透度。 ◎：98%≦穿透度 △：80%≦穿透度＜98% ╳：穿透度＜80% e. 再塗性
使用美國ACCU公司的達因筆在光學膜上刷約100mm墨痕，並觀察其90%以上的墨痕在2秒鐘內是否發生收縮形成墨滴，直至不收縮及為其達因數。 ◎：38達因/公分≦表面張力 ╳：表面張力＜38達因/公分 ＜ 評價結果 ＞
由表1可知，使用（B）雙酚芴寡聚物並且（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的重量比為0.50~0.95的感光性樹脂組成物（實施例1~3）具有良好的再塗性，另外不僅可形成膜厚為20μm至120μm之間的膜，且其所形成的光學膜具有較低的翹曲度及在可見光與紅外線具有高穿透度。
相對於此，（A）含乙烯性不飽和基的化合物與（B）雙酚芴寡聚物的重量比大於0.95的感光性樹脂組成物（比較例1）無法形成膜厚為20μm至120μm之間的膜，並且所形成的光學膜具有高翹曲度。
另外，與將（B）雙酚芴寡聚物取代為（B’）環氧丙烯酸寡聚物的感光性樹脂組成物（比較例2）所形成的光學膜具有高翹曲度及在可見光與紅外線的穿透度不夠佳。
綜上所述，本發明的感光性樹脂組成物含有含乙烯性不飽和基的化合物與特定的雙酚芴寡聚物，且含乙烯性不飽和基的化合物與雙酚芴寡聚物的重量比為0.50~0.95時，感光性樹脂組成物所形成的光學膜具有較低的翹曲度及高穿透度，藉此改善厚膜會造成基板翹曲以及穿透度不足的問題。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
無
無

Claims (14)

  1. 一種感光性樹脂組成物，包含： （A）含乙烯性不飽和基的化合物，其具有一個或兩個芳香環； （B）雙酚芴寡聚物，其具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基；以及 （C）光起始劑， 其中，所述（A）含乙烯性不飽和基的化合物與所述（B）雙酚芴寡聚物的重量比為0.50~0.95。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，更含有（E）溶劑，所述（E）溶劑的含量為所述感光性樹脂組成物的1重量%以下。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中所述感光性樹脂組成物不含有溶劑。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中所述（A）含乙烯性不飽和基的化合物包含下列選自於由式（1）至式（14）所表示的化合物所組成的族群中的至少一者，
    Figure 03_image001
    式（1） 式（1）中，n1及m1各自獨立為0~20的整數，n1與n2的總和為1~20的整數，
    Figure 03_image003
    式（2） 式（2）中，n2及m2各自獨立為0~4的整數，n2與m2的總和為2~4的整數，
    Figure 03_image005
    式（3） 式（3）中，n3為0~3的整數，
    Figure 03_image007
    式（4） 式（4）中，R 1為碳數為1~20的烷基，
    Figure 03_image009
    式（5） 式（5）中，R 2為碳數為1~20的烷基，
    Figure 03_image011
    式（6） 式（6）中，R 3為碳數為1~20的烷基，
    Figure 03_image013
    式（7）
    Figure 03_image015
    式（8）
    Figure 03_image017
    式（9）
    Figure 03_image019
    式（10）
    Figure 03_image021
    式（11）
    Figure 03_image023
    式（12）
    Figure 03_image025
    式（13） 式（13）中，n4為1~3的整數，
    Figure 03_image027
    式（14） 式（14）中，n5為1~3的整數。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的感光性樹脂組成物，其中所述（A）含乙烯性不飽和基的化合物包括由式（1）所表示的化合物。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中所述（B）雙酚芴寡聚物的重量平均分子量為500~5000。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中所述感光性樹脂組成物在25°C的黏度為600~7000mPa·s。
  8. 一種光學膜的製造方法，其包括 將如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述的感光性樹脂組成物塗佈於基板，以形成塗膜； 對所述塗膜進行曝光步驟， 對經曝光的所述塗膜進行烘烤步驟，以在所述基板上形成光學膜。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的光學膜的製造方法，其中曝光步驟的波長為200~500nm。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的光學膜的製造方法，其中烘烤步驟的溫度為130℃至280℃。
  11. 一種光學膜，其是由申請專利範圍第8項至第10項中任一項所述的光學膜的製造方法所製備。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的光學膜，其中在所述光學膜的厚度為20~120μm時，對於波長為380nm~780nm的可見光具有85%以上的穿透度。
  13. 如申請專利範圍第11項所述的光學膜，其中在所述光學膜的厚度為20~120μm時，對於波長為780nm~1100nm的紅外線具有90%以上的穿透度。
  14. 如申請專利範圍第11項所述的光學膜，其中所述光學膜的厚度為20~120μm時，所述光學膜相對於所述基板的翹曲度小於0.25mm。
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