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TWI703720B - 包含反射層之顯示裝置 - Google Patents

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TWI703720B
TWI703720B TW105109365A TW105109365A TWI703720B TW I703720 B TWI703720 B TW I703720B TW 105109365 A TW105109365 A TW 105109365A TW 105109365 A TW105109365 A TW 105109365A TW I703720 B TWI703720 B TW I703720B
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sealant
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TW105109365A
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鄭胤謨
金炳箕
尹虎鎭
李大宇
Original Assignee
南韓商三星顯示器有限公司
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Abstract

顯示裝置包含反射層。根據本發明的例示性實施例的顯示裝置包括：下基板；面向下基板之上基板；在下基板上之薄膜電晶體；以及在上基板之第一表面上的第一反射層，該第一表面面向下基板，其中下基板以及上基板包括用以顯示影像的顯示區域以及在顯示區域外的周圍區域，且其中第一反射層係位於周圍區域上、位於顯示區域上以及位於相鄰上基板的邊緣的區域上。

Description

包含反射層之顯示裝置 相關申請案之交互參照
本申請案主張於2015年3月26日在韓國智慧財產局所提出之韓國專利申請案No.10-2015-0042608之優先權及權益，其全部內容以引用方式併入本文中。
本發明的態樣係關於一種包含反射層之顯示裝置。
例如液晶顯示器(liquid crystal display,LCD)、有機發光二極體顯示器(organic light emitting diode display,OLED display)以及電泳顯示器(electrophoretic display)之顯示裝置包括場產生電極(field generating electrode)以及光電主動層(electro-optical active layer)。舉例來說，OLED顯示器包括作為光電主動層的有機發光層，而LCD包括作為光電主動層的液晶層。場產生電極可連接至開關元件，例如薄膜電晶體，以接收資料訊號，而光電主動層可藉由將資料訊號轉換成光訊號以顯示影像。
當雜質，例如濕氣或氧氣，從外圍環境流入顯示裝置內時，例如電極及其類似物之顯示裝置的元件之氧化或剝離現象可能導致元件的壽命減少或可能使元件的效能下降，並且可能劣化顯示裝置的顯示品質。因此，當製造顯示裝置時，執行密封製程以將內部元件與外界隔絕，且從而防止例如濕氣之雜質滲入。密封製程包括藉由使用密封劑以密封下基板以及上基板的邊緣的方式。
近來，已開發出具有各種功能的顯示裝置。在這些顯示裝置中，已開發一種顯示裝置在顯示影像時作為顯示器，而沒有顯示影像時則作為鏡子。這種顯示裝置被稱為鏡面型顯示裝置(mirror-type display device)。當顯示裝置作為鏡子時，使用者可在需要時檢視他/她的影像/反射，並可透過鏡子觀看其它期望察看的物體。舉例來說，當鏡面型顯示裝置應用於載具時，鏡面型顯示裝置可用作為側鏡或內鏡(例如後視鏡或化妝鏡)。鏡面型顯示裝置包括用於反射光的反射層以作為鏡子。
上述揭露於先前技術部分之資訊僅用以增強對本發明的背景的瞭解，因此其可包含不構成先前技術的資訊。
含有反射層的鏡面型顯示裝置可進行各種應用，但根據反射層的特性，在用於顯示影像的顯示模式下，當反射率增加時，顯示影像的透光率會下降。因此，顯示裝置的顯示品質可能會下降。更進一步， 反射影像以及顯示影像可基於反射層的條件及狀態而變形。更進一步，由於反射層的材料，例如濕氣之雜質可能會從外界滲入顯示裝置。
本發明的一或多個實施例係針對一種包含反射層之顯示裝置，其提升了在其中顯示裝置用作為鏡子時之鏡子模式下所反射的反射影像的品質。
本發明的一或多個實施例係針對一種包含反射層之顯示裝置，其係藉由增加在顯示模式下所顯示的影像的透光率以提升顯示影像的顯示品質。
本發明的一或多個實施例係針對一種包含反射層之顯示裝置，其防止例如濕氣之雜質從外界沿著反射層滲入顯示裝置。
本發明的例示性實施例提供一種顯示裝置，其包括：下基板及面向下基板的上基板；在下基板上之薄膜電晶體；以及在上基板之第一表面上的第一反射層，第一表面係面向下基板，其中下基板及上基板包括用以顯示影像的顯示區域以及在顯示區域外的周圍區域，且其中第一反射層係位於周圍區域上、位於顯示區域上以及位於相鄰上基板之邊緣的區域上。
第一反射層可包括位於周圍區域上的一或多個第一開口。
一或多個第一開口的一部分可沿著下基板的邊緣或上基板的邊緣延伸。
顯示裝置可更包括位於下基板與上基板之間的周圍區域之密封劑，其中一或多個第一開口可與選自密封劑以及位於密封劑外側的周圍區域中的至少一個重疊。
顯示裝置可更包括在第一反射層與上基板之間的第二反射層。
第二反射層可包括位於周圍區域上的一或多個第二開口。
一或多個第二開口的一部分可沿著下基板的邊緣或上基板的邊緣延伸。
顯示裝置可更包括位於下基板以及上基板之間的周圍區域的密封劑，其中一或多個第二開口可與選自密封劑以及位於密封劑外側的周圍區域中的至少一個重疊。
第一反射層可包含位於周圍區域上的一或多個第一開口。
一或多個第一開口可與選自密封劑以及位於密封劑外側的周圍區域中的至少一個重疊。
一或多個第一開口可重疊一或多個第二開口或第二反射層。
第二反射層可包括在顯示區域上的一或多個第三開口。
一或多個第三開口可重疊單位顯示區域，單位顯示區域位於用於顯示影像的顯示區域及單位區域上。
顯示裝置可更包括選自第一透明薄膜以及第二透明薄膜中的至少一個，第一透明薄膜係在第二反射層與上基板之間，而第二透明薄膜係位於第二反射層。
顯示裝置可更包括位於在下基板與上基板之間的周圍區域的密封劑，其中第二反射層可包括面向密封劑的第一部分。
第二開口可位於第二反射層的第一部分的兩側或一側。
顯示裝置可更包括吸氣劑，其係在密封劑與顯示區域之間，並在上基板與下基板之間。
第二反射層可包括面向吸氣劑的第二部分。
一或多個第二開口可位於第二反射層的第二部分的兩側或一側。
本發明的另一例示性實施例提供一種顯示裝置，其包括下基板及面向下基板的上基板；在下基板上之薄膜電晶體；以及在上基板之第一表面上且包含一或多個第一開口之反射層，第一表面面向下基板，其中下基板及上基板包括用於顯示影像的顯示區域以及在顯示區域外的周圍區域，且其中一或多個第一開口係位於周圍區域上。
一或多個第一開口可沿著下基板的邊緣或上基板的邊緣延伸。
反射層可包括在顯示區域上的一或多個第二開口。
一或多個第二開口可重疊單位顯示區域，單位顯示區域位於用以顯示影像的顯示區域及單位區域上。
顯示裝置可更包括：密封劑，其係位於下基板與上基板之間的周圍區域上；以及吸氣劑，其係在密封劑與顯示區域之間並在上基板與下基板之間，其中反射層可包括面向密封劑的第一部分以及面向吸氣劑的第二部分。
一或多個第一開口可包括位於反射層的第一部分的兩側或一側的一部分以及位於反射層的第二部分的兩側或一側的一部分。
根據本發明的例示性實施例，包含反射層之顯示裝置可提升在鏡子模式下所反射的影像的品質，其中顯示裝置用作為鏡子，以從而提供大面積鏡面型顯示裝置。
根據本發明的例示性實施例，包括反射層之顯示裝置可藉由增加在顯示模式下所顯示的影像的透光率以提升影像的顯示品質。
根據本發明的例示性實施例，包括反射層之顯示裝置可防止例如濕氣之雜質從外界沿著反射層滲入顯示裝置。
1:顯示裝置
30:填充物
110:下基板
111:緩衝層
124b:第一控制電極
140:閘極絕緣層
152b:通道區域
153b:源極區域
154b:第一半導體
155b:汲極區域
171:資料線
172:驅動電壓線
173b:第一輸入電極
175b:第一輸出電極
180a:第一鈍化層
180b:第二鈍化層
183b,185b,185c:接觸開口
191:像素電極
210:上基板
270:相對電極
280:第一反射層
285,292x,292xa,292y:開口
290:第二反射前層
291:第一透明前層
291p:第一透明薄膜
292:第二反射層
292a:反射層
293:第二透明薄膜
310:密封劑
320:吸氣劑
360:像素定義層
370:發光元件
371:第一有機共用層
373:發光層
375:第二有機共用層
1000:拼接顯示裝置
DA:顯示區域
EA:單位顯示區域
NA:非顯示區域
PA:周圍區域
PX:像素
Qd:開關元件
TFL:電晶體層
第1圖係為根據本發明的例示性實施例的顯示裝置的俯視平面圖。
第2圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的剖面圖。
第3圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的替代實施例的剖面圖。
第4圖係為根據第3圖的替代實施例的顯示裝置的示意性俯視平面圖。
第5圖係為根據第1圖的例示性實施例的顯示裝置的像素的剖面圖。
第6圖係為根據本發明的例示性實施例的藉由連接複數個顯示裝置而形成的拼接顯示裝置的俯視平面圖。
第7圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的另一例示性實施例的剖面圖。
第8圖係為根據第7圖的另一例示性實施例的顯示裝置的示意性俯視平面圖。
第9圖係為根據第7圖的另一例示性實施例的顯示裝置的一像素的剖面圖。
第10圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的另一實施例的剖面圖。
第11圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的又另一示實施例的剖面圖。
第12圖、第13圖及第14圖係為根據本發明的例示性實施例的顯示裝置的周圍區域的剖面圖。
第15圖及第16圖係依序繪示根據本發明的例示性實施例的在顯示裝置之製造方法的製造流程中的中間產物的剖面結構圖。
第17圖、第18圖及第19圖係為根據本發明的其他例示性實施例的顯示裝置的周圍區域的剖面圖。
本發明將參照附圖更充分地於下文中描述，其中附圖顯示本發明之例示性實施例。如本發明所屬技術領域中具有通常知識者將理解的是，所述的例示性實施例可以各種不同方式進行修改，而都不會偏離本發明的精神或範疇。
在圖式中，為了清晰度而將層、薄膜、面板、區域等的厚度誇大。全文中類似的參考符號表示類似的元件。
在描述本發明時，與此描述無關的部分可省略。
除此之外，除非有明確反對的描述，否則詞語「包含(comprise)」及其變體，例如「包含(comprises)」或「包含(comprising)」，將可理解為意指包含所述的元件但不排除其它任意元件。
例如「至少一」之表述語在綴飾元件列表時，係修飾整個列表元件，而非修飾列表之個別元件。更進一步，在描述本發明的實施例時「可」之使用意指「本發明的一或多個實施例」。將理解的是，當一元件或一層係指在另一元件或另一層「上(on)」、或「連接(connected to)」、「耦接(coupled to)」、或「相鄰(adjacent to)」另一元件或另一層時，其可以是直接在另一元件或層上、直接連接、直接耦接、或直接相鄰另一元件或另一層，或者可存在一或多個中介元件或中介層。當一元件或層係指「直接」在另一元件或另一層「上」或者「直接連接」或「直接耦接」或「緊鄰於」另一元件或另一層時，並不存在中介元件或中介層。
空間相關的用詞，例如「之下(beneath)」、「下方(below)」、「較低(lower)」、「在之下(downward)」、「上方(above)」、「上面的(upper)」以及其他相似用詞，為便於描述而在本文中使用以描述圖式中所示的一元件或特徵與另一元件或另一特徵的關係。將理解的是，除了圖式中所示的方位之外，空間相關用詞係意指涵蓋使用中或操作中的裝置的不同方位。例如，如果圖式中的裝置翻轉，描述某元件在其他元件或特徵「下方(below)」或「之下(beneath)」則將定位為在其他元件或特徵「上方(above)」。因此，例示性用詞「下方(below)」可涵蓋上方 與下方的兩方向。裝置可為其他方位(旋轉90度或其他方位)，而在本文中所使用的空間相關的描述詞也做相對應的解釋。除此之外，將理解的是，當一層是意指在二層「之間(between)」時，其可能是二層之間的唯一層，或者亦可能存在一或多層中介層。
將理解的是，雖然本文中可使用「第一」、「第二」以及「第三」等用詞來描述各種元件、組件、區域、層及/或部分，但這些元件、組件、區域、層及/或部分並不受這些用詞的限制。這些用詞僅使用於將一個元件、組件、區域、層或部分與另一個元件、組件、區域、層或部分進行區分。因此，下述的第一元件、組件、區域、層或部分可命名為第二元件、組件、區域、層或部分，而不脫離本發明概念的精神與範疇。
本文所用的術語僅為描述具體實施例之目的而不意指本發明概念受其限制。如本文所用，除非文中另行明確地表示，否則單數形式「一(a)」以及「一(an)」意指包括複數形式。如本文所用，「及/或」的用詞包括相關列舉項目的一個或多個的任意組合及所有組合。此外，用詞「例示性」是意指參照示例或圖式。
首先，將參照第1圖至第5圖說明根據本發明的例示性實施例的顯示裝置。
第1圖係為根據本發明的例示性實施例的顯示裝置的俯視平面圖，第2圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的剖面圖，第3圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的替代實施例的剖面圖，第4 圖係為根據第3圖的替代實施例的顯示裝置的示意性俯視平面圖，且第5圖係為根據第1圖的例示性實施例的顯示裝置的一像素的剖面圖。
參照第1圖，根據本發明的例示性實施例的顯示裝置1根據平面結構包括用於顯示影像之區域的顯示區域DA以及顯示區域DA外的周圍區域PA。周圍區域PA可圍繞顯示區域DA。請參照第2圖、第3圖及第5圖，根據本發明的例示性實施例的顯示裝置1根據剖面結構包括相互面對的下基板110以及上基板210。下基板110以及上基板210可包括玻璃、塑膠及其類似物。
複數個訊號線以及連接於複數個訊號線之複數個像素設置在顯示區域DA上，且各像素包括用以根據對應的影像訊號顯示影像的單位顯示區域EA。
訊號線可包括用以傳送閘極訊號的複數個閘極線以及用以傳送資料電壓(data voltage)的複數個資料線，兩者可提供在下基板110上。閘極線可近似(例如大約、或基本上)於列方向上延伸並可基本上互相平行地延伸，而資料線可在近似(例如大約)行方向上延伸並可基本上互相平行地延伸。
位於顯示區域DA上的像素可包括與一或多個訊號線連接的一或多個開關元件、與開關元件連接的一或多個像素電極191以及與像素電極191一起形成光電主動層的相對(opposite/opposed)電極270(如第5圖所示)，光電主動層例如為發光裝置。在有機發光二極體顯示器中，發光層可設置在像素電極191與相對電極270之間以形成發光裝置。液晶顯示器可包括受像素電極191以及相對電極270之間所產生的電場影響的 液晶層，且像素電極191、相對電極270以及液晶層可共同形成液晶電容。第2圖及第3圖係繪示作為顯示裝置1的示例的有機發光二極體顯示器。
開關元件可包含一或多個薄膜電晶體。當閘極導通電壓(gate-on voltage)施加至閘極線時，可導通薄膜電晶體以使其傳輸資料電壓至像素電極191。相對電極270可傳輸共同電壓。
請參照第4圖，像素的具體結構將描述如下。
第1圖所示之單位顯示區域EA可根據透過包含於對應像素的開關元件所傳輸的資料電壓來顯示影像的亮度。複數個單位顯示區域EA可被規則地設置。舉例來說，複數個單位顯示區域EA可以第1圖所示的矩陣形式配置，但並非以此為限。
對應於各像素的單位顯示區域EA可顯示原色中的其中一種顏色以實現色彩顯示，並且可基於多種原色的組合來檢視期望的顏色。原色的示例可包括三原色，例如紅色、綠色以及藍色，或可包括四原色，及/或也可包括白色。顯示一種原色的濾色器也可設置在對應各像素PX的單位顯示區域EA上，且顯示此種原色的發光層可設置在其中。
除了或排除單位顯示區域EA，在顯示裝置1上的區域可形成為非顯示區域NA。非顯示區域NA包括設置在顯示區域DA中的區域以及設置在周圍區域PA的區域。設置在顯示區域DA的非顯示區域NA包括單位顯示區域EA的圍繞區域，亦即相鄰單位顯示區域EA之間的區域。設置在周圍區域PA的非顯示區域NA可具有圍繞顯示區域DA的型態，但並不以此為限。用以阻擋光穿透的遮光元件可或不可設置在非顯示區域NA 上。當顯示裝置1為透明的時，單位顯示區域EA及/或非顯示區域NA可具有透明度。
與顯示區域DA連接的數個訊號線可設置在周圍區域PA，而用以驅動像素PX的一或多個驅動單元可設置在周圍區域PA。
如第1圖至第3圖所示，密封劑310可設置在周圍區域PA。密封劑310係設置在下基板110與上基板210之間，以結合及固定下基板110與上基板210。密封劑310可保護光電主動層，例如發光裝置以及其類似物，並可藉由阻擋例如濕氣以及氧氣之雜質從外界滲入下基板110與上基板210之間的空間而保護像素PX。
第1圖所示，密封劑310可形成圍繞顯示區域DA的環形曲線。密封劑310也可包括具有優異的防濕特性的玻璃料，並可包括有機密封劑以及濕氣吸附劑。當密封劑310插置在下基板110與上基板210之間並接著被加熱時，密封劑310可將下基板110與上基板210相結合。在此情況下，熱藉由利用紅外線燈、雷射或其類似物施加於密封劑310。相比之下，密封劑310可包括能吸收雷射、紅外線或其類似物的光吸附劑。具體而言，玻璃料可通過將氧化物粉末嵌入(insertng)至玻璃粉末而使用，或可包括有機材料以將玻璃料製成膏狀物。當施加熱能至在塗佈於下基板110與上基板210之間的玻璃料而使玻璃料熔融時，下基板110以及上基板210可透過燒結的玻璃料互相接合，並可完整地密封顯示裝置的內部元件。
請參照第1圖至第3圖，顯示裝置1可更包含吸氣劑320，其係設置在周圍區域PA並在密封劑310以及顯示區域DA之間。如第1圖至 第3圖所示，吸氣劑320可在與密封劑310接觸下或在可與密封劑310分隔下形成。吸氣劑320可形成圍繞顯示區域DA的環形曲線。吸氣劑320可吸收滲入密封劑310的濕氣或氧氣，以防止濕氣或氧氣滲入顯示區域DA。
請參照第2圖及第3圖，在有機發光二極體顯示器中，像素定義層360可設置在像素電極191上。
設置在顯示區域DA之像素定義層360可包括複數個開口，以定義對應各像素PX的單位顯示區域EA。在顯示區域DA的像素定義層360可形成以對應於非顯示區域NA。
設置在周圍區域PA之像素定義層360可設置在密封劑310或吸氣劑320與顯示區域DA之間。在一些實施例中，密封劑310的一部分也可重疊設置在周圍區域PA的像素定義層360。
像素定義層360可由樹脂製成，例如聚丙烯酸酯樹脂(polyacrylate resin)以及聚亞醯胺(polyimide)，或可由二氧化矽基(silica-based)無機材料製成。
請參照第2圖及第3圖，填充物30可填入在像素定義層360以及上基板210之間的空間。填充物30可吸收外部撞擊並可均勻地維持上基板210與下基板110的間距。填充物30可由具有高透光率的材料形成，例如可包括環氧樹脂(epoxy)系、聚亞醯胺(polyimide)系、氨基甲酸酯丙烯酸酯(urethane acrylate)系、環氧丙烯酸酯(epoxy acrylate)系或矽(silicon)系之樹脂。
將連同第1圖至第3圖參照第5圖來說明根據本發明的例示性實施例的顯示裝置1的像素的具體結構的示例。文中，有機發光二極體顯示器係作為示例而說明，然而顯示裝置1的結構並非以此為限。
參照第5圖，緩衝層111可設置在下基板110上。緩衝層111可防止雜質滲入，且緩衝層111的表面可為平面。緩衝層111可包括氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiO2)、氮氧化矽(SiOxNy)及/或其類似物。在其他實施例中，緩衝層111可被省略。
至少一半導體層係設置在緩衝層111上。半導體層包括設置在顯示區域DA的第一半導體154b。第一半導體154b可包括通道區域(例如通道)152b、源極區域(例如源極)153b以及汲極區域(例如汲極)155b，源極區域153b以及汲極區域155b係設置在通道區域152b的各別側並於摻雜下形成。半導體層可包括非晶矽、多晶矽及/或氧化物半導體(oxide semiconductor)。
可由氮化矽(SiNx)及/或氧化矽(SiO2)所形成之閘極絕緣層140係設置於半導體層上。
複數個閘極導體係設置在閘極絕緣層140上。閘極導體包括設置在顯示區域DA的第一控制電極124b。第一控制電極124b可重疊一部分，具體而言，第一半導體154b的通道區域152b。
第一鈍化層180a係設置在閘極絕緣層140以及閘極導體上。第一鈍化層180a及閘極絕緣層140可包括接觸開口(例如接觸孔)183b以及接觸開口(例如接觸孔)185b，接觸開口183b係暴露顯示區域DA的第 一半導體154b之源極區域153b，而接觸開口185b係暴露顯示區域DA的第一半導體154b之汲極區域155b。
複數個資料導體係設置在第一鈍化層180a上。資料導體可包括複數個資料線171、驅動電壓線172以及複數個第一輸出電極175b。驅動電壓線172可包括複數個第一輸入電極173b，其傳輸驅動電壓並可朝向第一控制電極124b延伸。第一輸出電極175b面向在第一半導體154b上的第一輸入電極173b。第一輸入電極173b以及第一輸出電極175b可分別透過接觸開口183b及185b連接第一半導體154b的源極區域153b及汲極區域155b。
第一控制電極124b、第一輸入電極173b及第一輸出電極175b共同形成開關元件Qd，開關元件Qd連同第一半導體154b則為薄膜電晶體。
包括無機絕緣材料及/或有機絕緣材料之第二鈍化層180b設置在資料導體上。第二鈍化層180b可具有一平坦表面。第二鈍化層180b可具有暴露第一輸出電極175b的接觸開口(例如接觸孔)185c。
像素電極層係設置在第二鈍化層180b上。像素電極層包括設置在顯示區域DA的像素PX的像素電極191。像素電極191係透過第二鈍化層180b的接觸開口185c來物理連接及電性連接第一輸出電極175b。像素電極層可包括半透射導電材料或反射導電材料。像素電極191以及單位顯示區域EA可互相重疊，但本發明並不受限於此。
形成在下基板110上之層，例如自緩衝層111至第二鈍化層180b之層，係被稱為電晶體層TFL。
像素定義層360係設置在第二鈍化層180b及像素電極層上。
發光元件(例如發光層)370係設置在像素定義層360以及像素電極191上。參照第5圖，發光元件370可包括依序堆疊的第一有機共用層371、複數個發光層373以及第二有機共用層375。
第一有機共用層371可包括選自例如依序堆疊的電洞注入層及電洞傳輸層中的至少一個。第一有機共用層371可形成在顯示區域DA的整體表面上，且亦可有限地形成在對應各像素PX的單位顯示區域EA上。
發光層373可設置在各對應像素PX的像素電極191上。發光層373可設置以對應於各像素PX的單位顯示區域EA。發光層373可由僅發射一種原色光的有機材料形成，例如紅光、綠光以及藍光，並可具有其中發射不同色光的複數個有機材料層堆疊之結構。根據本發明的例示性實施例，發光層373也可包括顯示白色的白色發光層。
第二有機共用層375可包括選自例如依序堆疊的電子傳輸層以及電子注入層中的至少一個。選自第一有機共用層371以及第二有機共用層375中的至少一個可省略。
傳輸共用電壓之相對電極270係設置在發光元件370上。相對電極270可包括透明導電材料。舉例來說，當相對電極270包括金屬時，例如鈣(Ca)、鋇(Ba)、鎂(Mg)、鋁(Al)及/或銀(Ag)，可形成薄金屬層以允許光傳輸。
各像素PX的像素電極191、發光元件370及相對電極270形成發光裝置，且像素電極191以及相對電極270中的其中一個為陰極而另一個為陽極。
顯示裝置1可在上基板210之外表面所面對的方向上顯示影像。
請參照第2圖至第5圖，一或多個反射層係設置在面向下基板110的上基板210之內表面上，一或多個反射層包括第一反射層280。第一反射層280可具有反射性，使得當顯示裝置1不顯示影像時，顯示裝置1可用作為鏡子以反射光線。
在一些實施例中，第一反射層280可反射在光譜的可見光區域中的光線。舉例來說，第一反射層280可包括能反射在可見光區域中的光線的金屬，並可包括至少一金屬，例如鋁(Al)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鐵(Fe)、鉑(Pt)、汞(Hg)、鎳(Ni)、鎢(W)及/或釩(V)。
第一反射層280可僅包括金屬層，或者，在其他實施例中，除了金屬層之外，第一反射層280可更包括反射偏振板(reflective polarizing plate)。
第一反射層280依據其厚度可具有不同的透光率，且透光率可藉由考量在各像素PX顯示影像時所顯示的影像亮度而決定。舉例來說，第一反射層280的反射性可介於大約50%至大約90%，但不以此為限。
請參照第2圖及第5圖，根據本發明的例示性實施例的第一反射層280係基本上形成在上基板210的整體內表面上。也就是說，第一反射層280係形成在(to)上基板210的邊緣或形成至(up to)上基板210的 邊緣，且甚至可設置在相鄰邊緣的區域。因此，第一反射層280係設置在顯示裝置1的周圍區域PA及顯示區域DA兩者，使得顯示裝置1的整體表面可作用為鏡子。因此，其可提升顯示裝置1在鏡子模式下所反射的影像的品質。
請參照第3圖及第4圖，根據本發明的替代實施例的第一反射層280係形成在上基板210的整體內表面上(例如相同於根據第2圖及第5圖所示的例示性實施例的第一反射層280)，但可包括設置在周圍區域PA上的一或多個開口285。因此，第一反射層280係具有不連續性，從而防止雜質，例如濕氣，從外界沿著第一反射層280傳播。開口285可被形成以對應於選自吸氣劑320、密封劑310以及設置於密封劑310外側的周圍區域PA中的至少一個。開口285可能沒有形成在設置於吸氣劑320內側的周圍區域PA以及顯示區域DA。也就是說，第一反射層280可基本上連續地形成在由吸氣劑320所圍繞的區域內。然而，第一反射層280並非以此為限，且第一反射層280可更包括一開口，該開口設置在例如對應於像素定義層360或對應於顯示區域DA的局部區域的一部分之部分。
第一反射層280的開口285可被設定尺寸，以使在鏡子模式下無法從外界檢視或觀看開口285。
請參照第4圖，開口285通常可平行於下基板110的邊緣或上基板210的邊緣延伸。更進一步，如第4圖所示，開口285可沿著圍繞顯示區域DA的區域形成，且也可形成環形曲線。然而，開口285的形狀並非以圖式為限。
第6圖係為根據本發明的例示性實施例的藉由連接複數個顯示裝置而形成的拼接顯示裝置的俯視平面圖。
請參照第6圖，根據本發明的例示性實施例的具有大面積的拼接顯示裝置1000可藉由以瓦片形式(in a tile form)將複數個顯示裝置1彼此連接而形成。一個拼接顯示裝置1000可包括偶數個顯示裝置1。根據本發明的例示性實施例，第一反射層280係設置在顯示裝置1的上基板210的整體內表面上，使得第一反射層280係基本上設置在整體拼接顯示裝置1000上，而不在顯示區域DA以及周圍區域PA之間區別(discriminating)。因此，當拼接顯示裝置1000執行鏡子功能時，整體拼接顯示裝置1000可用作為鏡子，使得具有在鏡子模式下所反射的影像的改善品質之大面積鏡子顯示裝置可得以實施。
連同上述圖式參照第7圖至第9圖將描述根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置。與上述例示性實施例相同的構成元件係以相同參考符號表示且共同描述可被省略。
第7圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的另一例示性實施例的剖面圖，第8圖係為根據第7圖的另一例示性實施例的顯示裝置的示意性俯視平面圖，且第9圖係為根據第7圖的另一例示性實施例的顯示裝置的一像素的剖面圖。
根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置1係大致上相同於根據本發明的上述例示性實施例的顯示裝置，但可更包括設置在上基板210與第一反射層280之間的第二反射層292。第二反射層292可具有 反射性，使得當顯示裝置1不顯示影像時，顯示裝置1反射來自外部物體的光線以作為鏡子。
具體而言，第二反射層292可反射在光譜的可見光區域的光線。舉例來說，第二反射層292可包括能反射可見光區域的光線的金屬，並可包括至少一金屬，例如鋁(Al)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鐵(Fe)、鉑(Pt)、汞(Hg)、鎳(Ni)、鎢(W)及/或釩(V)。
第二反射層292可包括與第一反射層280相同的或相異的材料。第二反射層292的透光率可相同於或相異於第一反射層280的透光率。當第二反射層292的透光率相異於第一反射層280的透光率時，第二反射層292的透光率可低於第一反射層280的透光率。
第二反射層292的厚度可相異於第一反射層280的厚度，特別是，第二反射層292的厚度可大於第一反射層280的厚度。舉例來說，第二反射層292之厚度可具有大約300Å或300Å以上之厚度。在此情況下，第一反射層280之厚度可為大約300Å或300Å以下。
第二反射層292可被圖案化以具有一或多個開口292x及292y。
具體而言，第二反射層292可包括設置在周圍區域PA的開口292x。互相間隔之複數個開口292x可設置在周圍區域PA。開口292x可被形成以對應於選自吸氣劑320、密封劑310以及設置在密封劑310外側的周圍區域PA的至少一個。開口292x的寬度及/或開口292x之間的間距可為平均的，或可根據開口292x的位置而有所不同。
請參照第8圖，開口292x通常可平行於下基板110的邊緣或上基板210的邊緣延伸。更進一步，開口292x可沿著圍繞顯示區域DA的區域形成，並可形成環形曲線。然而，開口292x的形狀並非以圖式為限。
請參照第7圖，開口292x基本上可能未形成在設置於吸氣劑320內側的周圍區域PA。也就是說，第二反射層292可基本上連續地形成在設置於吸氣劑320與顯示區域DA之間的區域。然而，第二反射層292並非以此為限，且第二反射層292可更包括設置在例如對應於像素定義層360或對應於顯示區域DA之局部區域的部分之其他部分的開口。
第二反射層292的開口292x提供第二反射層292不連續性，使得其可防止外界的雜質，例如濕氣，沿著第二反射層292傳播。
請參照第7圖及第9圖，第二反射層292可包括設置在顯示區域DA上的開口292y。開口292y可設置以對應於單位顯示區域EA。因此，第二反射層292可被圖案化，以設置對應於在顯示區域DA上的非顯示區域NA。在此情況下，可形成幾乎重疊在顯示區域DA的像素定義層360的第二反射層292。
根據本發明的例示性實施例，第一反射層280可形成在包括單位顯示區域EA的大部分/大多數的顯示區域DA上，但第一反射層280的透光率係大於第二反射層292的透光率，使得其可藉由增加其中像素PX顯示影像的顯示模式下的影像(例如顯示影像)的透光率，以提升影像的顯示品質。當顯示裝置1執行鏡子功能時，具有高於第一反射層280的反射性的第二反射層292可用作為主要鏡子，而第一反射層280可用作為輔助/次要鏡子。因此，當顯示裝置1更包括本發明的另一例示性實施 例中所述的第二反射層292時，相較於僅包括第一反射層280的顯示裝置，其可更進一步提升在鏡子模式下的反射性。
將連同上述圖式參照第10圖及第11圖來描述根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置。
第10圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的另一實施例的剖面圖，而第11圖係為沿著第1圖中II-II線所示的顯示裝置的又另一示實施例的剖面圖。
參照第10圖及第11圖，根據本發明的這些實施例的顯示裝置1幾乎相同於根據第7圖至第9圖所示的上述例示性實施例的顯示裝置，但第一反射層280可包括設置在周圍區域PA上的一或多個開口285。因此，第一反射層280係為不連續的，從而防止外界的雜質例如濕氣沿著第一反射層280傳播。開口285可形成以對應於選自吸氣劑320、密封劑310以及設置在密封劑310外側的周圍區域PA中的至少一個。開口285可能沒有形成在設置於吸氣劑320內側的周圍區域PA及顯示區域DA。亦即，第一反射層280可基本上連續地形成在由吸氣劑320所圍繞的區域內。
第一反射層280的開口285可被設定尺寸，以使在鏡子模式下無法從外界檢視開口285。如第4圖所示，開口285通常可平行於下基板110的邊緣或上基板210的邊緣延伸。更進一步，開口285可沿著圍繞顯示區域DA的區域形成並可形成環形曲線。
各開口285的尺寸可小於第二反射層292的開口292x或開口292y的尺寸。
請參照第10圖，開口285可設置在第二反射層的兩個相鄰部分之間。也就是說，開口285可設置在沒有重疊第二反射層292的一部分上。更進一步，如第10圖所示，開口285可設置在其中第二反射層292的開口292x設置於的周圍區域PA的所有區域上。在其他實施例中，開口285可僅設置在對應於複數個開口292x之一部分的區域。
請參照第11圖，開口285可設置在對應於第二反射層292的一部分上。也就是說，開口285可重疊第二反射層292。更進一步，如第11圖所示，開口285可設置在第二反射層292之鄰近周圍區域PA中之開口292x的各部分上。在其他實施例中，開口285可僅設置在對應於相鄰開口292x的第二反射層292之一些部分的區域。當開口285設置在與上述第二反射層292重疊的部分上時，其可使無法執行鏡子功能之區域最小化，從而提升在鏡子模式下所反射的影像的品質。
將連同上述圖式參照第12圖至第19圖闡述根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置及其製造方法。
第12圖、第13圖及第14圖係為根據本發明的例示性實施例的顯示裝置的周圍區域的剖面圖。第15圖及第16圖係依序繪示根據本發明的例示性實施例的在製造顯示裝置的方法的製造流程中的中間產物的剖面結構圖，且第17圖、第18圖及第19圖係為根據本發明的其他例示性實施例的顯示裝置的周圍區域的剖面圖。
首先，請參照第12圖，根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置1幾乎相同於根據第7圖至第11圖的本發明的上述例示性實施例 的顯示裝置，但第一透明薄膜291p可更進一步設置在第二反射層292與上基板210之間。
第一透明薄膜291p基本上可具有相同於第二反射層292的平面形狀。也就是說，第一透明薄膜291p可能不存在於第二反射層292的開口292x及292y內，並可僅設置在第二反射層292以及上基板210之間。
根據本發明的此例示性實施例的顯示裝置1可更包括第二透明薄膜293，其係設置在第二反射層292與第一反射層280之間，並在上基板210以及第一反射層280之間。第二透明薄膜293沒有被圖案化，並可基本上連續地形成在包括第二反射層292的上基板210上。
第一透明薄膜291p以及第二透明薄膜293可包括選自透明導電材料以及透明無機材料中的至少一個，透明導電材料例如ITO以及IZO，而透明無機材料例如氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)及/或氧化鋁(Al2O3)。
接著，請參照第13圖及第14圖，根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置1幾乎相同於根據第12圖所示的上述例示性實施例的顯示裝置，但第一反射層280可包括設置在周圍區域PA上的一或多個開口285。因此，第一反射層280係為不連續的，從而防止雜質，例如濕氣，從外界沿著第一反射層280傳播。
請參照第13圖，在根據本發明的此例示性實施例的顯示裝置中，開口285可設置在第二反射層292的兩個相鄰部分之間。也就是說，開口285可設置在沒有與第二反射層292重疊的部分。
請參照第14圖，在根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置中，開口285可設置在對應於第二反射層292的部分上。也就是說，開口285可重疊第二反射層292。
開口285的特徵相同於第10圖及第11圖所示的例示性實施例中所述的特徵，故在下文中可省略其詳細描述。
接著，將連同第12圖至第14圖參照第15圖及第16圖說明根據本發明的例示性實施例之顯示裝置的製造方法。
首先，請參照第15圖，第一透明前層(pre-layer)291係藉由堆疊選自於透明導電材料以及透明無機材料中之至少一種而形成在由絕緣材料例如玻璃及/或塑膠所形成的上基板210上，透明導電材料例如ITO以及IZO，而透明無機材料例如氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)及/或氧化鋁(Al2O3)。
接著，第二反射前層290係藉由堆疊反射材料而形成在第一透明前層291上，例如包括鋁(Al)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鐵(Fe)、鉑(Pt)、汞(Hg)、鎳(Ni)、鎢(W)及/或釩(V)的金屬。
接著，請參照第16圖，第一透明薄膜291p以及第一透明薄膜291p上的第二反射層292係藉由圖案化第二反射前層290以及第一透明前層291而形成。微影製程或其相似製程可使用作為圖案化方法。具體而言，設置在周圍區域PA上之第二反射前層290以及第一透明前層291係被圖案化以具有開口292x，開口292x設置以對應於選自吸氣劑320、密封劑310以及設置在密封劑310外側的周圍區域PA中的至少一個。
接著，請參照第12圖，第二透明薄膜293係藉由堆疊選自透明導電材料以及透明無機材料之至少一種而形成在包括第二反射層292的上基板210的整體表面上，透明導電材料例如ITO以及IZO，而透明無機材料例如氧化矽(SiOx)、氮化矽(SiNx)及/或氧化鋁(Al2O3)。
接著，第一反射層280係藉由堆疊反射材料在第二透明薄膜293上而形成，反射材料例如為包括鋁(Al)、銀(Ag)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鐵(Fe)、鉑(Pt)、汞(Hg)、鎳(Ni)、鎢(W)及/或釩(V)的金屬。
更進一步，如第13圖及第14圖所示，一或多個開口285可藉由圖案化第一反射層280而形成。開口285可設置在第二反射層292的兩個相鄰部分之間，或可設置在對應於第二反射層292的部分上。具體而言，設置在周圍區域PA的第一反射層280可被圖案化以具有開口285，開口285係設置以對應於選自吸氣劑320、密封劑310以及設置在密封劑310外側的周圍區域PA中的至少一個。
以插設於其間的密封劑310及/或吸氣劑320將如上所述所形成之上基板210接合至個別提供的下基板110，使得根據本發明的例示性實施例的顯示裝置可被製成。
在第12圖至第14圖所示的例示性實施例中，選自第一透明薄膜291p以及第二透明薄膜293中的至少一個可被省略。
接著，參照第17圖，根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置係幾乎相同於如第7圖至第14圖所示的上述例示性實施例的顯示裝置，但可省略第一反射層280。第17圖所示的反射層292a可基本上相 同於根據上述例示性實施例的第二反射層292，並可更包括下述的額外特徵。
圖案化反射層292a可包括形成以面向密封劑310之中心部分的一部分及/或形成以面向吸氣劑320之中心部分的一部分。面向密封劑310的反射層292a可更進一步地延伸以重疊大部分的密封劑310，而面向吸氣劑320的反射層292a可更進一步地延伸以重疊大部分的吸氣劑320。
開口292xa可分別設置在面向密封劑310的反射層292a的兩側，且開口292xa可分別設置在面向吸氣劑320的反射層292a的兩側。
在面向密封劑310的反射層292a以及面向吸氣劑320的反射層292a之間的開口292xa可重疊密封劑310以及吸氣劑320之間的交界表面，但並非以此為限，而開口292xa的寬度可相較於圖式更進一步縮小或增加。
根據本發明的另一例示性實施例，根據上述例示性實施例的第一反射層280可更進一步形成在反射層292a上。
接著，請參照第18圖，根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置係幾乎相同於根據第17圖所示的例示性實施例的顯示裝置，但反射層292a可幾乎連續地形成在面向密封劑310以及吸氣劑320的區域上，但顯示裝置可包括重疊在密封劑310以及吸氣劑320之間的交界表面的開口292xa。如第18圖所示，反射層292a以大面積重疊密封劑310以及吸氣劑320之每一個，使得其可有效地防止從外界辨識/看見密封劑310 以及吸氣劑320。在本例示性實施例中，開口292xa的寬度可相較於圖式更進一步縮小或增加。
根據本發明的另一例示性實施例，根據上述例示性實施例的第一反射層280可更進一步形成在反射層292a上。
接著，請參照第19圖，根據本發明的另一例示性實施例的顯示裝置幾乎相同於根據第17圖所示的例示性實施例的顯示裝置，但顯示裝置可更包括設置在反射層292a上以及在上基板210上的第一反射層280。相似於上述例示性實施例，第一反射層280可包括設置在周圍區域PA的一或多開口285。開口285相同於上述開口，故可省略其詳細描述。
雖然本發明的實施例已經搭配目前視為可實行的例示性實施例進行描述，但應當理解的是本發明並不限於所揭露的實施例，反而旨在涵蓋包括於所附申請專利範圍之精神和範疇內的各種修改及等效配置與其各別之等效物。
1:顯示裝置
30:填充物
110:下基板
191:像素電極
210:上基板
280:第一反射層
310:密封劑
320:吸氣劑
360:像素定義層
DA:顯示區域
PA:周圍區域

Claims (26)

  1. 一種顯示裝置，其包含：一下基板；一上基板，係面向該下基板；一薄膜電晶體，係在該下基板上；以及一第一反射層，係在該上基板之一第一表面上，該第一表面面向該下基板，其中該下基板以及該上基板包含用以顯示一影像的一顯示區域以及在該顯示區域外的一周圍區域，以及其中該第一反射層係位於該周圍區域上、位於該顯示區域上以及位於相鄰該上基板之邊緣的一區域上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第一反射層包含位於該周圍區域的一或多個第一開口。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之顯示裝置，其中該一或多個第一開口的一部分係沿著該下基板的邊緣或該上基板的邊緣延伸。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之顯示裝置，其更包含一密封劑位於在該下基板與該上基板之間的該周圍區域，其中該一或多個第一開口係重疊選自該密封劑以及位於該密封劑外側的該周圍區域中的至少一個，其中該密封劑外側的該周圍區域較該密封劑遠離該顯示區域。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其更包含一第二反 射層位在該第一反射層與該上基板之間。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之顯示裝置，其中該第二反射層包含一或多個第二開口位於該周圍區域。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之顯示裝置，其中該一或多個第二開口的一部分係沿著該下基板的邊緣或該上基板的邊緣延伸。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之顯示裝置，其更包含一密封劑位於在該下基板與該上基板之間的該周圍區域，其中該一或多個第二開口係重疊選自該密封劑以及位於該密封劑外側的該周圍區域中的至少一個，其中該密封劑外側的該周圍區域較該密封劑遠離該顯示區域。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之顯示裝置，其中該第一反射層包含一或多個第一開口位於該周圍區域上。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之顯示裝置，其中該一或多個第一開口係重疊選自該密封劑以及位於該密封劑外側的該周圍區域中的至少一個，其中該密封劑外側的該周圍區域較該密封劑遠離該顯示區域。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該一或多個第一開口係重疊該一或多個第二開口。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該一或多個第一開口係重疊該第二反射層。
  13. 如申請專利範圍第6項所述之顯示裝置，其中該第二反射層包含一或多個第三開口在該顯示區域。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置，其中該一或多個第三開口係重疊一單位顯示區域，該單位顯示區域係位於該顯示區域。
  15. 如申請專利範圍第6項所述之顯示裝置，其更包含選自在該第二反射層以及該上基板之間的一第一透明薄膜以及位於該第二反射層的一第二透明薄膜的至少一個。
  16. 如申請專利範圍第6項所述之顯示裝置，其更包含一密封劑位於在該下基板與該上基板之間的該周圍區域，其中該第二反射層包含面向該密封劑的一第一部分。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之顯示裝置，其中該第二開口係位於該第二反射層的該第一部分的兩側或一側。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之顯示裝置，其更包含一吸氣劑在該密封劑與該顯示區域之間，並在該上基板與該下基板之間。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之顯示裝置，其中該第二反射層包含面向該吸氣劑的一第二部分。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之顯示裝置，其中該一或多個第二開口係位於該第二反射層的該第二部分的兩側或一側。
  21. 一種顯示裝置，其包含：一下基板；一上基板，係面向該下基板；一薄膜電晶體，係在該下基板上；以及 一反射層，係在該上基板之一第一表面上，且包含一或多個第一開口，該第一表面面向該下基板，其中該下基板以及該上基板包含用以顯示一影像的一顯示區域以及在該顯示區域外的一周圍區域，以及其中該一或多個第一開口係位於該周圍區域。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之顯示裝置，其中該一或多個第一開口係沿著該下基板的邊緣或沿著該上基板的邊緣延伸。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之顯示裝置，其中該反射層包含一或多個第二開口在該顯示區域。
  24. 如申請專利範圍第23項所述之顯示裝置，其中該一或多個第二開口係重疊一單位顯示區域，該單位顯示區域位於該顯示區域。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之顯示裝置，其更包含：一密封劑，係位於在該下基板與該上基板之間的該周圍區域；以及一吸氣劑，係在該密封劑與該顯示區域之間，並在該上基板與該下基板之間，其中該反射層包含面向該密封劑的一第一部分以及面向該吸氣劑的一第二部分。
  26. 如申請專利範圍第25項所述之顯示裝置，其中該一或多個第一開口包含位於該反射層的該第一部分的兩側或一側的一部分、以及位於該反射層的該第二部分的兩側或一側的一部分。
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