TWI793194B - 包含轉換器限制的led封裝 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種發光裝置，其可包含一基板及形成於該基板之一第一表面上之一發光二極體(LED)。該LED可發射一一次光。一柵欄結構可安裝至該基板之一第二表面。該柵欄結構可包含經配置以界定一單元之複數個壁。一光轉換結構可安置於該單元中之該基板之該第二表面上。該光轉換結構可將該一次光之至少一部分轉換成具有不同於該一次光之波長之一波長之一二次光。一反射層可形成於該柵欄結構之該複數個壁、該基板之側壁及該LED之側壁之一外表面上。該反射元件及該光轉換結構可安置於該柵欄結構之該等壁之對置側上。

Description

包含轉換器限制的LED封裝

本申請案係關於發光裝置，特定言之，本申請案係關於包含轉換器限制之LED封裝。

本發明大體上係關於發光裝置，且更特定而言，本發明係關於一種包含一轉換器限制之發光二極體(LED)封裝。LED常用作各種應用中之光源。一LED之主功能部分可為包括兩個相反導電型(p型及n型)注入層及用於輻射複合之一發光主動層(其中發生載子注入)之一半導體晶片。半導體晶片常放置於一封裝中，封裝提供半導體晶片與外界之間之電連接及免受振動及熱損壞之保護。除半導體晶片之外，LED封裝亦可包含一光轉換器、一反射元件及各種其他組件。此等組件可具有不同熱膨脹係數，其使組件易破裂、分層及各種其他類型之機械損壞。

因此，需要在將具有不同熱膨脹係數之元件用於相同LED封裝中時減小機械損壞之可能性之LED封裝設計。

本文描述一種發光裝置及其製造方法。該發光裝置可包含一基板及形成於該基板之一第一表面上之一發光二極體(LED)。該LED可經配置以發射一一次光。一柵欄結構可安裝至該基板之一第二表面。該柵欄結構可包含經配置以界定一單元之複數個壁。一光轉換結構可安置於該單元中之該基板之該第二表面上。該光轉換結構可經配置以將該一次光之至少一部分轉換成具有不同於該一次光之波長之一波長之一二次光。一反射層可形成於該柵欄之該複數個壁、該基板之側壁及該LED之側壁之一外表面上。該反射元件及該光轉換結構可安置於該柵欄結構之該等壁之對置側上。

本文描述一種發光裝置及其製造方法。該發光裝置可包含一基板及形成於該基板之一第一表面上之一LED。該LED可經配置以發射一一次光。反射線可形成於該基板之一第二表面上。一接合層可形成於該等反射線上。一柵欄結構可安裝至該接合層。該柵欄結構可包含經配置以界定一單元之複數個壁。一第一反射層可形成於該複數個壁之一內表面上。一光轉換結構可安置於該單元中之該基板之該第二表面上。該光轉換結構可經配置以將該一次光之至少一部分轉換成具有不同於該一次光之波長之一波長之一二次光。一第二反射層可形成於該複數個壁、該基板之側壁及該LED之側壁之一外表面上。該反射元件及該光轉換結構可安置於該柵欄結構之該等壁之對置側上。

相關申請案之交叉參考

本申請案主張2017年10月10日申請之美國專利申請案第15/729,269號及2018年1月17日申請之EP專利申請案第18152118.8號之權利，該等案之全文以引用的方式併入本文中。

晶片級封裝(CSP)發光二極體(LED)已被銷售或商業宣告多年，特別是來自Lumileds TM、Nichia TM、Osram TM、TSMC TM、Toshiba TM、Seoul Semiconductor TM等等。然而，在大多數情況中，此等LED開始為使用晶圓級高產量半導體製造技術來產生之一可焊一次光(例如藍光) LED，接著與一光轉換結構及額外封裝材料封裝在一起以產生一完成LED封裝。後面新增光轉換結構之目的係將一次光(例如藍光)轉換成二次光(例如白光)。在一些例項中，新增封裝及光轉換結構用於導引一次光及二次光兩者朝向封裝之表面。此產生一晶片級封裝(CSP)發光裝置，其在需要二次光學器件之空間受限應用(諸如相機閃光燈應用及汽車頭燈應用)中係令人滿意的。

可利用允許一透明生長基板(例如藍寶石)保持完整且成為裝置之基本支撐結構(或體積塊)之晶圓製造技術來達成可靠一次光CSP LED。然而，生長基板之透明性質會導致有點非有意產生一「體積發射器」，其沿5個方向(4個側，1個頂部)發射所產生之一次光(例如藍光)。因此，在晶粒製造之後將諸如一薄膜金屬或薄膜分佈式布拉格(Bragg)反射器(DBR)之一反射元件放置於基板之側壁上可用於防止產生體積發射器。

若將一光轉換結構放置於一一次光(例如藍光) LED之頂部上，則亦因界定散射光而產生另一體積發射器作為光轉換結構。為防止光轉換結構充當一體積發射器，可在光轉換結構之側上形成一反射元件(例如一反射膜)。然而，當光轉換結構及反射元件具有不同熱膨脹係數(CTE)時，此做法會降低一給定LED封裝之可靠性及/或光輸出。

更明確而言，典型光轉換結構可包含懸浮於一無機基質中之無機磷光體粒子，且其可具有由其基質材料(聚矽氧最常用)主導之機械性質。一典型光轉換結構之熱膨脹係數可為約200 ppm，而薄膜反射元件可具有一低得多CTE。例如，銀(Ag)可具有20 ppm之CTE且一TiO₂ /AlO₂ 堆疊可具有7 ppm至9 ppm之CTE。因此，使此等光轉換結構與典型反射元件緊密接觸(用於產生一受限光源)會導致反射元件在典型組裝及操作溫度循環期間破裂及剝落。

此問題之一解決方案係提供具有一柵欄之發光裝置，該柵欄經配置以包圍該等裝置中之光轉換結構且提供光轉換結構與形成於柵欄之外部上之反射元件之間之一實體障壁。就此而言，根據本發明之態樣，揭示一種發光裝置，其包含經配置以發射一次光之一發光二極體、一光轉換結構及包圍該光轉換結構之一柵欄。該柵欄可為由一剛性材料形成之一結構，其經配置以使該光轉換結構與形成於該柵欄之外表面上之一反射元件(例如一反射側塗層)分離。該反射元件可具有不同於該光轉換結構之一熱膨脹係數(CTE)。然而，由於該柵欄由一剛性材料形成，所以該柵欄可承受由該光轉換結構及該反射元件之一不均勻熱膨脹導致之力，藉此防止可在該反射元件與該光轉換結構直接接觸時發生之該反射元件之破裂及分層。

根據本發明之態樣，提供一種用於製造發光裝置之方法，其包括：在一晶圓之一第一表面上形成複數個發光二極體(LED)；形成一柵欄結構，該柵欄結構包含經配置以界定複數個單元之複數個壁；藉由使該複數個單元之各者對準於該複數個LED之一不同者來將該柵欄結構耦合至與該第一表面對置之該晶圓之一第二表面；將一光轉換材料施加於該晶圓之該第二表面上以在該複數個單元之各者中形成一各自不同光轉換結構；及縱向切割該柵欄結構之該等壁及耦合至該柵欄結構之該等壁之該晶圓之部分以形成複數個發光裝置。

用於製造發光裝置之方法之一特徵係新增由玻璃或另一材料形成之一柵欄結構之晶圓製程。柵欄結構可化學或機械地接合至晶圓之表面，且稍後可在晶圓經歷此一程序時與晶圓同時被切割或依其他方式單粒化。因此，用於製造發光裝置之方法產生晶片級封裝(CSP)裝置，其光產生及光源品質/限制主要在晶圓級處達成以因此最少化製造一次光LED之後之任何額外程序步驟。

下文將參考附圖來更完全描述不同發光裝置之實例。此等實例不相互排斥，且一實例中所見之特徵可與一或多個其他實例中所見之特徵組合以達成額外實施方案。因此，應瞭解，附圖中所展示之實例僅供說明，且其決不意欲限制本發明。相同元件符號係指全部圖中之相同元件。

應瞭解，儘管術語「第一」、「第二」等等可在本文中用於描述各種元件，但此等元件不應受限於此等術語。此等術語僅用於使元件彼此區分。例如，在不背離本發明之範疇的情況下，一第一元件可被稱為一第二元件，且類似地，一第二元件可被稱為一第一元件。如本文中所使用，術語「及/或」包含相關聯列項之一或多者之任何及全部組合。

應瞭解，當諸如一層、區域或基板之一元件被認為「在另一元件上」或延伸「至另一元件上」時，其可直接在該另一元件上或直接延伸至該另一元件上或亦可存在介入元件。相比而言，當一元件被認為「直接在另一元件上」或「直接延伸至另一元件上」時，不存在介入元件。亦應瞭解，當一元件被認為「連接」或「耦合」至另一元件時，其可直接連接或耦合至該另一元件或可存在介入元件。相比而言，當一元件被認為「直接連接」或「直接耦合」至另一元件時，不存在介入元件。應瞭解，此等術語除涵蓋圖中所描繪之任何定向之外，亦意欲涵蓋元件之不同定向。

相對術語(諸如「下方」或「上方」、「上」或「下」或「水平」或「垂直」)可在本文中用於描述一元件、層或區域與另一元件、層或區域之一關係，如圖中所繪示。應瞭解，此等術語除涵蓋圖中所描繪之定向之外，亦意欲涵蓋裝置之不同定向。

圖1A係根據本發明之態樣之一發光裝置100之一實例之一橫截面側視圖，且圖1B係發光裝置100之一俯視圖。發光裝置100包含具有一第一表面及一第二表面之一基板110。具有接點122及124之一發光二極體(LED) 120形成於第一表面上。一柵欄130形成於第二表面上，柵欄130包含經配置以界定一單元134 (由虛線矩形標示)之複數個壁132。一光轉換結構140安置於單元134內，光轉換結構140經配置以將自LED 120發射之一次光轉換成具有不同於一次光之波長之一波長之二次光。一反射元件150安置於柵欄130之外表面136、LED 120之邊緣126及基板110之邊緣112上。

在本實例中，基板110可包含一藍寶石基板。然而，其中基板110包含一GaAs基板、一Si基板及/或任何其他適合類型之基板之替代實施方案係可行的。

LED 120可包含任何適合發光半導體結構。在一些實施方案中，LED 120可包含使用熟知沈積技術來磊晶生長於基板110上之一p型層、一n型層及一主動層。主動層可安置於n型層與p型層之間且可在經由接點122及124將正向偏壓施加至LED 120時發光。可使用諸如(例如)以下各者之各種材料來形成LED 120：氮化銦鎵(InGaN)材料、磷化鋁鎵銦(AlGaInP)材料、砷化鋁鎵(AlGaAs)材料或磷化鎵(GaP)材料。

柵欄130可安置於光轉換結構140與反射元件150之間。柵欄130可限制光轉換結構140且充當光轉換結構140與反射元件150之間之一實體障壁。就此而言，柵欄130可使光轉換結構140與反射元件150分離且補償其各自熱膨脹係數(CTE)之間之任何失配。更特定而言，當光轉換結構140具有比反射元件150之CTE高多倍(例如高5倍、高10倍、高15倍等等)之一CTE時，柵欄130可防止否則會發生於反射元件150直接形成於光轉換結構140上時之反射元件150之破裂及分層。

在本實例中，柵欄130可由玻璃形成且其可具有約100 um至約120 um之一高度。然而，本發明不受限於柵欄130之任何特定尺寸或材料。其中柵欄130由任何其他適合類型之材料形成且具有任何適合高度及/或其他尺寸之替代實施方案係可行的。例如，在一些實施方案中，柵欄130可由鋁、陽極氧化鋁、矽及/或任何其他適合類型之金屬形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄130可由諸如矽之一半導體材料形成。在一些實施方案中，柵欄130可由覆蓋有一介電塗層之一金屬形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄130可由覆蓋有一介電塗層之一半導體材料(諸如矽)形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄可由諸如氧化鋁、氮化鋁、氮化硼之一陶瓷材料形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄130可由具有足以承受因光轉換結構140膨脹(歸因於發光裝置100溫度升高)但未改變其形狀而產生之力之剛性之一材料形成。另外或替代地，柵欄130可由任何金屬材料、陶瓷材料及/或任何其他適合類型之材料形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄130可由高溫穩定聚合物(諸如LCP或聚醯亞胺(當塗佈有一反射材料時))形成。

光轉換結構140可由任何適合類型之材料形成。例如，光轉換結構140可由懸浮於一基質材料中之一光轉換材料形成。在一些實施方案中，光轉換材料可包含任何適合類型之磷光體，諸如一黃色磷光體、一紅色磷光體、一藍色磷光體等等。基質材料可包含矽黏結劑、玻璃及/或任何其他適合類型之材料。另外或替代地，在一些實施方案中，光轉換結構140可由經燒結而非懸浮於一基質材料中之一光轉換材料形成。

反射元件150可包含藉由用一或多個材料塗佈發光裝置100之側所形成之一反射膜。在一些實施方案中，可藉由用銀或另一金屬(諸如鋁)塗佈LED封裝之側來形成反射元件150。另外或替代地，可藉由用一或多個介電材料(諸如SiO₂ 、TiO₂ 或Si₃ N₄ 、AlO₂ )塗佈發光裝置100之側來形成反射元件150。另外或替代地，反射元件150可為包含具有不同折射率之材料之一交替堆疊(例如一SiO₂ /TiO₂ 堆疊)之一分佈式布拉格反射器(DBR)。

圖2係根據本發明之態樣之用於製造一發光裝置之一程序200之一實例之一流程圖。

在步驟205中，形成一柵欄結構300。如圖3A至圖3B中所繪示，柵欄結構300可包含經配置以形成單元320之複數個壁310。在一些實施方案中，壁310之任何者之高度H可在100 um至120 um之範圍內。另外或替代地，在一些實施方案中，壁310之任何者之厚度T1可在3微米至30微米之範圍內，且其可取決於用於形成柵欄結構300之材料之機械堅固性。

在一些實施方案中，柵欄結構300可由可光成像玻璃(諸如由Schott Glass TM製造之Foturon TM玻璃)形成。可藉由使用任何適合蝕刻技術(諸如(例如)光圖案化或濕式蝕刻)使單元320蝕刻至一玻璃片來形成柵欄結構300。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄結構300可由諸如鋁、陽極氧化鋁及/或另一適合金屬之一金屬形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄結構300可由諸如矽之一半導體材料形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄結構300可由石英、可機械加工陶瓷、可模製陶瓷及/或可光成像陶瓷形成。另外或替代地，在一些實施方案中，柵欄結構300可由能夠在其被切割或蝕刻時形成平滑表面之一材料製成。就此而言，本發明不受限於用於製造柵欄結構300之任何特定材料及/或程序。儘管在本實例中，柵欄結構300係包含複數個矩形單元之一格柵，但其中柵欄結構300可包含任何適合形狀單元(諸如圓形單元、八邊形單元、六邊形單元等等)之替代實施方案係可行的。

在步驟210中，在柵欄結構300上形成一反射元件410。如圖4A至圖4B中所繪示，反射元件410可為藉由用一或多個介電及/或導電材料(諸如SiO₂ 、TiO₂ 、Si₃ N₄ 、Ag或Al)塗佈柵欄結構300之壁310來形成之一反射膜。另外或替代地，在一些實施方案中，反射元件410可為包含具有不同折射率之材料之一交替堆疊之一分佈式布拉格反射器(DBR)。例如，在一實施方案中，反射元件410可包含SiO₂ 及TiO₂ 層之一交替堆疊。在本實例中，側表面312及頂面314由反射元件410覆蓋。可使用原子層沈積(ALD)、化學氣相沈積(CVD)及/或任何其他適合沈積技術來形成反射元件410。儘管在本實例中，壁310之底面316未由反射元件410覆蓋，但其中底面316亦被覆蓋之替代實施方案係可行的。

在步驟215中，在一晶圓500之一第一表面502上形成複數個發光二極體(LED) 510 (圖5A至圖5B)。各LED 510可包含任何適合類型之發光半導體裝置。例如，各LED 510可包含使用熟知沈積技術來生長於晶圓500上之至少一p型層、一n型層及一主動層。儘管LED 510彼此整合，但其中LED 510係分離之替代實施方案係可行的。可使用諸如(例如)以下各者之各種材料來形成LED 510：氮化銦鎵(InGaN)材料、磷化鋁鎵銦(AlGaInP)材料、砷化鋁鎵(AlGaAs)材料或磷化鎵(GaP)材料。

各LED 510可具有大於單元320之寬度W1之一寬度W2。另外或替代地，各LED 510可具有大於單元320之長度L1之一長度L2。另外或替代地，各LED 510可具有大於單元320之面積之一頂面514。就此而言，當柵欄結構300安裝於晶圓500上時，各單元320可放置於一各自LED 510之頂面514上方且不延伸超出頂面。

在步驟220中，在晶圓500之一第二表面504上形成一反射圖案610。如圖6A至圖6B中所繪示，反射圖案610可包含經配置以形成單元620之複數個反射線612。反射線612之任何者可由一或多個導電及/或介電材料(諸如SiO₂ 、TiO₂ 、Si₃ N₄ 、Ag或Al)形成。另外或替代地，在一些實施方案中，任何反射線612可包含一分佈式布拉格反射器(DBR)，其包括具有不同折射率之材料之一交替堆疊。例如，反射線612之任何者可包含SiO₂ 及TiO₂ 層之一交替堆疊。

在一些實施方案中，反射圖案610可匹配柵欄結構300之覆蓋區。柵欄結構300之覆蓋區可具有相同或類似於圖3A中所展示之柵欄結構300之頂面之輪廓。當將柵欄結構300放置於反射圖案610上方(參閱下述步驟230)時，反射線612之各者可變成定位於柵欄結構300之一不同壁310下方，藉此防止光穿過柵欄結構之壁之底面316。

在一些實施方案中，反射線612之一或多者可包含沿線之各自長度延伸之一各自透光部分616。各線中之透光部分616可夾於線之兩個反射部分之間，如圖中所展示。透光部分616可經設置以允許雷射光穿過反射圖案610。如下文將進一步討論，雷射光可用於切割晶圓及/或柵欄結構300。另外或替代地，在一些實施方案中，反射線612可為實心的(因此缺少一透光部分)。

在一些實施方案中，單元620之各者可具有實質上相同於單元320之寬度W1之一寬度W3。另外或替代地，單元620之各者可具有實質上相同於單元320之長度L1之一長度L3。另外或替代地，線612之各者可具有實質上相同於柵欄結構300之壁310之厚度T1之一厚度T3。

儘管在本實例中，反射圖案610具有實質上相同於柵欄格柵之尺寸之尺寸，但其中圖案610之尺寸之一或多者(例如單元寬度、單元長度、線厚度等等)不同於柵欄結構300之尺寸之替代實施方案係可行的。例如，在一些實施方案中，線712之厚度T3可小於(或大於)柵欄結構300之壁310之厚度T1。作為另一實例，單元620之寬度W3可小於(或大於)單元320之寬度W1。作為又一實例，單元620之長度L3可小於(或大於)單元320之長度L1。

在一些實施方案中，反射圖案610可僅部分匹配柵欄結構300之覆蓋區。在此等例項中，當將柵欄結構300放置於晶圓500上(參閱下述步驟230)時，反射線612之一或多者可僅部分定位於柵欄結構300之壁310下方。另外或替代地，在此等例項中，反射線612之一或多者可不與壁310完全重疊。簡言之，在一些實施方案中，當將柵欄結構300安裝於晶圓500上時，線612之至少一者可僅與一給定壁310部分重合(或不與壁310之任何者重合)。

在步驟225中，在反射圖案610上方形成一接合圖案710。如圖7A至圖7B中所繪示，接合圖案710可包含經配置以形成單元720之複數個線712。線712之任何者可由能夠促進柵欄結構300與晶圓500之間之接合之一材料形成。例如，在一些實施方案中，線712之一或多者可由聚矽氧、SiO₂ 、Al₂ O₃ 及/或任何其他適合材料形成。在一些實施方案中，接合圖案710可匹配柵欄結構之覆蓋區。柵欄結構300之覆蓋區可具有相同或類似於圖3A中所展示之柵欄結構300之頂面之輪廓。當將柵欄結構300放置於接合圖案710上方時，線712之各者可變成(全部或部分)定位於柵欄結構300之一不同壁310下方，藉此促進壁接合至晶圓500之表面504 (參閱下述步驟230)。

在一些實施方案中，單元720之各者可具有實質上相同於單元320之寬度W1之一寬度W4。另外或替代地，單元720之各者可具有實質上相同於單元320之長度L1之一長度L4。另外或替代地，線512之各者可具有實質上相同於柵欄結構300之壁310之厚度T1之一厚度T4。

儘管在本實例中，第一圖案710具有實質上相同於柵欄結構300之尺寸之尺寸，但其中接合圖案710之一或多個尺寸(例如單元寬度、單元長度、線厚度等等)不同於柵欄結構300之尺寸之替代實施方案係可行的。例如，在一些實施方案中，線712之厚度T4可小於(或大於)柵欄結構300之壁310之厚度T1。作為另一實例，單元720之寬度W4可小於(或大於)單元320之寬度W1。作為又一實例，單元720之長度L4可小於(或大於)單元320之長度L1。

在一些實施方案中，接合圖案710可僅部分匹配柵欄結構300之覆蓋區。在此等例項中，當將柵欄結構300放置於晶圓500上(參閱下述步驟230)時，線712之一或多者可僅部分定位於柵欄結構300之壁310下方。另外或替代地，在此等例項中，線712之一或多者可不與壁310完全重疊。簡言之，在一些實施方案中，當將柵欄結構300安裝於晶圓500上時，線712之至少一者可僅與一給定壁310部分重合(或不與壁310之任何者重合)。

在步驟230中，將柵欄結構300安裝於晶圓500之表面504上。如圖8A至圖8B中所繪示，可將柵欄結構300放置至接合圖案710上，使得壁310之各者與線712之一不同者對準。因此，接合圖案710之線712之各者可保持於柵欄結構300之一不同壁310下方。此外，線712之各者可沿線壁310之長度延伸，各線712定位於壁310下方。類似地，反射圖案610之反射線612之各者亦可保持於柵欄結構300之一不同壁310下方。此外，正如線712一般，反射圖案610之反射線612之各者亦可沿線壁310之長度延伸，各反射線612定位於壁310下方。

可使用任何適合類型之接合程序(諸如熱離子接合、超音波接合及/或任何傳統晶圓接合技術)來將柵欄結構300接合至晶圓500之表面504。在一些實施方案中，當將柵欄結構300安裝於晶圓500之表面504上時，單元320之各者可變成與LED 510之一不同者對準。因此，單元320之各者可與一不同LED 510之頂面514完全重疊，如圖中所展示。在一些實施方案中，當將柵欄結構300安裝於晶圓500之表面504上時，可藉由使用一晶圓襯裡來達成單元320與LED 510之間之對準。例如，可使用由奧地利EVG TM of Florian am Inn製造之一晶圓接合襯裡。

在步驟235中，將一層光轉換材料910沈積於晶圓500之表面504上以在柵欄結構300之單元320之各者中形成一不同光轉換結構912。如圖9A至圖9B中所繪示，可用光轉換材料910僅部分填充單元320之各者。然而，其中用光轉換材料910完全填充單元320之各者之替代實施方案係可行的。

在一些實施方案中，光轉換材料910可包含懸浮於一基質材料中之一磷光體。磷光體可包含一黃色磷光體、一紅色磷光體、一藍色磷光體等等。基質材料可包含矽黏結劑、玻璃及/或任何其他適合類型之材料。另外或替代地，在一些實施方案中，各光轉換結構912可由經燒結而非懸浮於一基質材料中之一光轉換材料形成。

在步驟240中，將一層光擴散材料1010沈積於光轉換材料層910上方以形成複數個光擴散結構1012。光擴散材料可包含TiO₂ 及/或任何其他適合類型之材料。如圖10A至圖10B中所繪示，各光擴散結構可定位於柵欄結構300之一不同單元320中。儘管在本實例中，光擴散材料1010完全填充單元320中之剩餘空間且亦自柵欄結構300溢出，但其中用光擴散材料僅部分填充單元320之各者中之剩餘空間之替代實施方案係可行的。在此等例項中，單元320之各者中可留出空間用於施加另一層材料。此材料可用於進一步調節或過濾自光轉換結構912發射之二次光以達成一所要光輸出。

在步驟245中，移除光擴散材料1010之頂部部分以達成光擴散結構1012之一所要厚度。在一些實施方案中，亦可在移除光擴散材料層1010之頂部部分之同時移除反射元件410之頂部部分及/或柵欄結構300之壁310之頂部部分，如圖11A至圖11B中所展示。可使用任何適合技術(諸如背面研磨、飛切、拋光或噴砂)來移除光擴散材料1010之頂部部分。

在步驟250中，切割藉由執行步驟204至245所形成之總成以產生複數個LED封裝1210。切割總成可包含：縱向切穿柵欄結構300之壁310，如由圖12A中之虛線所指示。另外或替代地，切割總成可包含：切穿耦合至壁310之晶圓500之部分(例如直接定位於壁310下方之晶圓500之部分)，如由圖12B中之虛線所指示。可彼此同時切割晶圓500及柵欄結構之壁310。在切割晶圓500及柵欄結構300之後，可使LED封裝1210彼此分離，如圖12C中所展示。可使用拉伸帶及/或任何其他適合技術來執行分離。

值得注意的是，為闡明柵欄結構300之切割，柵欄結構300之各壁310包含複數個區段，其中各區段使兩個相鄰單元320分離。當縱向切割壁310時，可將各此區段分成兩個部分(例如半部)，使得一部分保留於一LED封裝1210上，而另一部分可保留於另一LED封裝1210中。各部分可基本上變成一不同LED封裝1210中一不同柵欄之部分。此等柵欄可為在切割柵欄結構300時與柵欄結構300分離之個別限制結構，且其可用於容納光轉換結構912及/或光擴散結構1012。

在一些實施方案中，可同時切割柵欄結構300之壁310及晶圓500。例如，可使用一雷射來切割柵欄結構及晶圓500。在此等例項中，可沿反射線612之透光部分616執行雷射切開，其可容許雷射光穿過反射圖案610而分散於壁310或晶圓500中。

另外或替代地，在一些實施方案中，可使用另一程序來切割柵欄結構300之壁及晶圓500。例如，在一些實施方案中，可在不同深度處隱形切割柵欄結構300及晶圓500。作為另一實例，可使用一鋸來切穿柵欄結構300且暴露晶圓500之表面504，此後可使用雷射單粒化來形成穿過晶圓500之平滑切口。作為另一實例，可使用一鋸來切穿柵欄結構300且暴露晶圓500之表面504，此後可使用一雷射來切割晶圓500。就此而言，本發明不受限於用於切割晶圓500及柵欄結構300以形成複數個LED封裝1210之任何特定技術。

在步驟255中，在所得LED封裝1210之各者上形成一反射元件1310。如圖13中所繪示，反射元件1310可為藉由用一介電材料(諸如SiO₂ 、TiO₂ 、Si₃ N₄ )塗佈LED封裝1210之頂面1212 (例如發光面)及外側表面1214來形成之一反射膜。在一些實施方案中，反射元件1310可為一分佈式布拉格反射器(DBR)。更特定而言，反射元件1310可包含彼此上下形成之SiO₂ 及TiO₂ 層之一交替堆疊。應易於瞭解，反射元件1310可由用於避免LED封裝1210之各者中之LED 510短路之一介電材料形成。然而，其中反射元件由諸如鋁或銀之一金屬形成之替代實施例係可行的，只要預先將一絕緣塗層施加於各LED 510之側上。

在步驟260中，移除反射元件1310之頂部部分(如圖14A中所展示)以暴露LED封裝1210之發光面1212。可使用任何適合程序(諸如(例如)背面研磨、拋光、飛切或噴砂)來移除反射元件1310之頂部部分。

程序200僅供例示。可省略程序200中之一或多個步驟。例如，在一些實施方案中，可自程序200省略步驟220。在此等例項中，將無反射圖案形成於晶圓500上。另外或替代地，在一些實施方案中，可自程序200省略步驟225。在此等例項中，將無接合圖案形成於晶圓500上。另外或替代地，在一些實施方案中，可自程序200省略步驟240。在此等例項中，將無光擴散結構形成於光轉換結構912上方。儘管在本實例中，柵欄結構300係一矩形格柵，但其中柵欄結構之壁310之至少若干者係彎曲之替代實施例係可行的。在此等例項中，反射圖案610之線612之至少若干者亦可具有實質上相同於壁310之曲率以使反射圖案610匹配柵欄結構300之覆蓋區。此外，在此等例項中，接合圖案710之線712之至少若干者亦可具有實質上相同於壁310之曲率以使接合圖案710匹配柵欄結構300之覆蓋區。

圖14A至圖14B描繪藉由執行圖2A至圖2B之程序200所產生之一LED封裝1210之一實例。LED封裝1210包含一基板500a。基板500a本質上為在切割晶圓500時分離之晶圓500之一部分。經配置以發射一次光之一LED 510安置於基板之一第一表面上。一柵欄300a形成於基板之一第二表面上。柵欄300a係在切割柵欄結構300時分離之柵欄結構300之一部分。如圖中所繪示，柵欄300a包含界定一單元310b (由虛線矩形標示)之複數個壁310a。單元310b與LED 510對準。就此而言，單元完全容納於基板500a之第二表面內且其任何部分不延伸超過LED 510之邊緣。一光轉換結構912安置於單元內，光轉換結構912經組態以將自LED 510發射之一次光轉換成具有不同於一次光之一波長之二次光。經組態以擴散二次光之一光擴散結構1012安置於光轉換結構912上方之單元中。此外，如圖中所繪示，一反射元件410a可安置於壁310a之內表面上。反射元件410a可為在切割柵欄結構300時分離之反射元件410之一部分。

線612a之各者係在切割晶圓500時分離之一給定線612之一部分。就此而言，線612界定至少部分匹配柵欄300a之覆蓋區之一圖案。此圖案本質上為在切割晶圓500時分離之反射圖案610之一部分。柵欄300a之覆蓋區可具有相同於或類似於圖14b中所展示之柵欄300a之頂面之輪廓。線612之各者可至少部分安置於柵欄300a之一不同壁310下方，如圖中所展示。

線712a之各者係在切割晶圓500時分離之一給定線712之一部分。就此而言，線712界定至少部分匹配柵欄300a之覆蓋區之一圖案。此圖案本質上為在切割晶圓500時分離之接合圖案710之一部分。線712之各者可至少部分安置於柵欄300a之一不同壁310下方，如圖中所展示。

圖15係根據本發明之態樣之用於製造發光二極體(LED)之一程序1500之一實例之一流程圖。在步驟1510中，形成一柵欄結構。柵欄結構可相同或類似於柵欄結構300，且其可包含經配置以界定一組單元之複數個壁。在步驟1520中，在一晶圓之一第一表面上形成複數個LED。在一些實施方案中，LED可為相同或類似於LED 510，且晶圓可類似於晶圓500。此外，在一些實施方案中，可顛倒步驟1510及1520之順序或可同時執行步驟1510及1520。在步驟1530中，將柵欄結構接合至與第一表面對置之晶圓之一第二表面。由於接合，柵欄結構中之各單元可與晶圓之第一表面上之LED之一不同者對準。在一些實施方案中，可依相同或類似於程序200之步驟230之方式執行步驟1530。在步驟1540中，將光轉換材料施加於柵欄結構之各單元中以形成一光轉換結構。在一些實施方案中，可依相同或類似於程序200之步驟235之方式執行步驟1540。在步驟1550中，切割由於執行步驟1510至1540所形成之總成以產生複數個LED封裝。步驟1550可相同或類似於步驟250。在切割晶圓且分離LED封裝之後，可視情況在各封裝之側上形成一反射膜以產生相同或類似於圖1A至圖1B中所展示之發光裝置100之一成品。

圖1至圖15僅供例示。可依不同順序配置、組合及/或完全省略相對於此等圖所討論之至少一些步驟。就此而言，應瞭解，本文中所描述之實例之提供以及表述為「諸如」、「例如」、「包含」、「在一些態樣中」、「在一些實施方案中」等等之子句不應被解譯為使所揭示之標的受限於特定實例。

儘管已詳細描述本發明，但熟悉技術者應瞭解，可在不背離本文中所描述之發明概念之精神的情況下鑑於本發明而對本發明作出修改。因此，不意欲使本發明之範疇受限於所繪示及所描述之特定實施例。

100‧‧‧發光裝置110‧‧‧基板112‧‧‧邊緣120‧‧‧發光二極體(LED)122‧‧‧接點124‧‧‧接點126‧‧‧邊緣130‧‧‧柵欄132‧‧‧壁134‧‧‧單元136‧‧‧外表面140‧‧‧光轉換結構150‧‧‧反射元件200‧‧‧程序205‧‧‧步驟210‧‧‧步驟215‧‧‧步驟220‧‧‧步驟225‧‧‧步驟230‧‧‧步驟235‧‧‧步驟240‧‧‧步驟245‧‧‧步驟250‧‧‧步驟255‧‧‧步驟260‧‧‧步驟300‧‧‧柵欄結構300a‧‧‧柵欄310‧‧‧壁310a‧‧‧壁310b‧‧‧單元312‧‧‧側表面314‧‧‧頂面316‧‧‧底面320‧‧‧單元410‧‧‧反射元件410a‧‧‧反射元件500‧‧‧晶圓500a‧‧‧基板502‧‧‧第一表面504‧‧‧第二表面510‧‧‧LED514‧‧‧頂面610‧‧‧反射圖案612‧‧‧反射線612a‧‧‧線616‧‧‧透光部分620‧‧‧單元710‧‧‧接合圖案712‧‧‧線712a‧‧‧線720‧‧‧單元910‧‧‧光轉換材料912‧‧‧光轉換結構1010‧‧‧光擴散材料1012‧‧‧光擴散結構1210‧‧‧LED封裝1212‧‧‧頂面/發光面1214‧‧‧外側表面1310‧‧‧反射元件1500‧‧‧程序1510‧‧‧步驟1520‧‧‧步驟1530‧‧‧步驟1540‧‧‧步驟1550‧‧‧步驟H‧‧‧高度L1‧‧‧長度L2‧‧‧長度L3‧‧‧長度L4‧‧‧長度T1‧‧‧厚度T3‧‧‧厚度T4‧‧‧厚度W1‧‧‧寬度W2‧‧‧寬度W3‧‧‧寬度W4‧‧‧寬度

圖1A係根據本發明之態樣之一發光二極體(LED)封裝之一實例之一橫截面側視圖；

圖1B係根據本發明之態樣之圖1之LED封裝之一實例之一俯視圖；

圖2A係繪示根據本發明之態樣之用於製造LED封裝之一程序之一部分的一流程圖；

圖2B係繪示根據本發明之態樣之用於製造LED封裝之程序之另一部分的一流程圖；

圖3A係根據本發明之態樣之在圖2A至圖2B之程序之一第一階段期間形成之一柵欄結構之一實例之一俯視圖；

圖3B係根據本發明之態樣之圖3A之柵欄結構之一側視圖；

圖4A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第二階段期間之圖3A之柵欄結構之一俯視圖；

圖4B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第二階段期間之圖4A之柵欄結構之一橫截面側視圖；

圖5A係根據本發明之態樣之含有圖2A至圖2B之程序之一第三階段期間所形成之複數個LED之一晶圓之一俯視圖；

圖5B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第三階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖6A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第四階段期間之圖5A之晶圓之一俯視圖；

圖6B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第四階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖7A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第五階段期間之圖5A之晶圓之一俯視圖；

圖7B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第五階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖8A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第六階段期間之圖5A之晶圓之一俯視圖；

圖8B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第六階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖9A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第七階段期間之圖5A之晶圓之一俯視圖；

圖9B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第七階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖10A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第八階段期間之圖5A之晶圓之一俯視圖；

圖10B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第八階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖11A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第九階段期間之圖5A之晶圓之一俯視圖；

圖11B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第九階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖12A係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第十階段期間之圖5A之晶圓之一俯視圖；

圖12B係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第十階段期間之圖5A之晶圓之一橫截面側視圖；

圖12C係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之第十階段期間之圖5A之晶圓之另一橫截面側視圖；

圖13係根據本發明之態樣之圖2A至圖2B之程序之一第十一階段期間之一LED封裝之一橫截面側視圖；

圖14A係根據本發明之態樣之由於執行圖2A至圖2B之程序而形成之一LED封裝之一橫截面側視圖；

圖14B係根據本發明之態樣之圖14A之LED封裝之一俯視圖；及

圖15係根據本發明之態樣之用於製造LED封裝之另一程序之一流程圖。

100‧‧‧發光裝置

110‧‧‧基板

112‧‧‧邊緣

120‧‧‧發光二極體(LED)

122‧‧‧接點

124‧‧‧接點

126‧‧‧邊緣

130‧‧‧柵欄

132‧‧‧壁

134‧‧‧單元

136‧‧‧外表面

140‧‧‧光轉換結構

150‧‧‧反射元件

Claims (21)

1. 一種基板，其包括：複數個發光二極體(LED)，其安置於該基板之一第一表面上；一支撐結構，其包括延伸貫穿其中(extending therethrough)的孔，該支撐結構之每個孔經組態以將光自該等LED之一獨特者貫穿其中傳遞，該支撐結構安裝至該基板之一第二表面，該第二表面係相對於該基板之該第一表面；一反射圖案，其安置於該支撐結構及該基板之該第二表面之間，該反射圖案包括延伸貫穿其中的孔，該反射圖案之每個孔經組態以將光自該等LED之一獨特者貫穿其中傳遞，該反射圖案包含一分佈式布拉格反射器(DBR)，該分佈式布拉格反射器包括材料之一交替堆疊(alternating stack)，且該堆疊中之至少一些材料具有不同於該堆疊中之其他材料之折射率(refractive indices)；及一含磷層(phosphorous-containing layer)，其安置於該支撐結構之該等孔與該反射圖案之該等孔之中。
2. 如請求項1之基板，其中該支撐結構包括玻璃。
3. 如請求項1或2之基板，其中該反射圖案接觸該基板之該第二表面。
4. 如請求項3之基板，其中該反射圖案進一步包括一透光部分(light-transmissive portion)，該透光部分延伸貫穿該反射圖案且安置於該反射 圖案之相鄰的反射部分之間。
5. 如請求項3之基板，其進一步包括一接合層(bonding layer)，其經組態以將該支撐結構接合至該反射圖案。
6. 如請求項5之基板，其中該支撐結構進一步包括另一反射圖案，其安置於該支撐結構及該接合層之間。
7. 如請求項6之基板，其中該另一反射圖案包括一分佈式布拉格反射器(DBR)，其包括材料之另一交替堆疊，且該另一堆疊中之至少一些材料具有不同於該另一堆疊中之其他材料之折射率。
8. 如請求項6之基板，其中該支撐結構包括玻璃且該另一反射圖案接觸該玻璃。
9. 如請求項6之基板，其中：該支撐結構進一步包括一下伏結構(underlying structure)，及該另一反射圖案進一步安置於該下伏結構及每個孔中之該含磷層之間。
10. 如請求項1或2之基板，其進一步包括一光擴散結構(light-diffusing structure)，其安置於該支撐結構之每個孔之中。
11. 如請求項10之基板，其進一步包括另一含磷層，其安置於該支撐結構之該等孔之中，該光擴散結構安置於該含磷層及該另一含磷層之間。
12. 一種基板，其包括：複數個發光二極體(LED)，其安置於該基板之一第一表面上；一支撐結構，其安裝至該基板之一第二表面，該第二表面係相對於該基板之該第一表面，該支撐結構包括：一反射圖案，其包含一分佈式布拉格反射器(DBR)，該分佈式布拉格反射器包括材料之一交替堆疊，且該堆疊中之至少一些材料具有不同於該堆疊中之其他材料之折射率；及延伸貫穿之孔，該支撐結構之每個孔經組態以將光自該等LED之一獨特者貫穿其中傳遞；一接合層，其將該反射圖案接合至該基板之該第二表面；及一含磷層，其安置於該支撐結構之該等孔之中。
13. 如請求項12之基板，其中該支撐結構包括玻璃。
14. 如請求項13之基板，其中該反射圖案接觸該玻璃。
15. 如請求項12或13之基板，其中：該支撐結構進一步包括一下伏結構，及該反射圖案係進一步安置於該下伏結構及每個孔中之該含磷層之間。
16. 如請求項12或13之基板，其進一步包括一光擴散結構，其安置於該支撐結構之每個孔之中。
17. 如請求項16之基板，其中：該支撐結構進一步包括一下伏結構，及該反射圖案係進一步安置於該下伏結構及每個孔中之該含磷層之間及於該下伏結構及每個孔中之該光擴散結構之間。
18. 如請求項16之基板，其一步包括另一含磷層，其安置於該支撐結構之該等孔之中，該光擴散結構安置於該含磷層及該另一含磷層之間。
19. 如請求項18之基板，其中：該支撐結構進一步包括一下伏結構，及另一反射圖案係進一步安置於該下伏結構及每個孔中之該含磷層之間、於該下伏結構及每個孔中之該光擴散結構之間、且於該下伏結構及每個孔中之該另一含磷層之間。
20. 一種發光結構，其包括：一基板；一發光二極體(LED)，其安置於該基板之一第一表面上；一支撐結構，其包括一孔，該孔延伸貫穿其中且經組態以將光自該LED貫穿其中傳遞，該支撐結構安裝至該基板之一第二表面，該第二表面 係相對於該基板之該第一表面；一反射圖案，其安置於該支撐結構及該基板之該第二表面之間，該反射圖案包括延伸貫穿其中之一孔，該反射圖案之該孔經組態以將光自該LED貫穿其中傳遞，該反射圖案包含一分佈式布拉格反射器(DBR)，該分佈式布拉格反射器包括材料之一交替堆疊，且該堆疊中之至少一些材料具有不同於該堆疊中之其他材料之折射率；一含磷層，其安置於該支撐結構之該孔與該反射圖案之該孔之中；及一反射層，其安置於該支撐結構之一相對表面，該相對表面作為該支撐結構面對該支撐結構之該孔之一表面。
21. 如請求項20之發光結構，其一步包括一接合層，其經組態以將該支撐結構接合至該反射圖案，該反射圖案與該基板之該第二表面接觸，該反射層進一步安置於該接合層及該基板之該第二表面之間，使得該支撐結構之僅一部分與該反射圖案重疊。

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