TWI777238B

TWI777238B - 半導體裝置

Info

Publication number: TWI777238B
Application number: TW109131491A
Authority: TW
Inventors: 山口翔; 唐沢純
Original assignee: 日商東芝股份有限公司; 日商東芝電子元件及儲存裝置股份有限公司
Priority date: 2019-09-20
Filing date: 2020-09-14
Publication date: 2022-09-11
Also published as: US11289408B2; TW202125740A; DE102020211500A1; JP2021048376A; CN112542438B; CN112542438A; US20210090976A1; JP7271381B2

Abstract

一種根據一項實施例之半導體裝置包含一第一引線框架、一第二引線框架、一半導體晶片及一導電部件。該第二引線框架具有具備一凹部之一第一面且與該第一引線框架分離。該半導體晶片安裝於該第一引線框架上。該導電部件具有用一導電黏著劑連接至該第一面之一第二面，該第二面具備至少部分容置於該凹部中之一突部，且該導電部件將該半導體晶片及該第二引線框架彼此電連接。該凹部及該突部在該第一面於其中延伸之一第一方向上比在沿著該第一面且正交於該第一方向之一第二方向上更長。

Description

半導體裝置

本文中所描述之實施例大體上係關於一種半導體裝置。

已知包含一引線框架及具備電極之一電晶體晶片的半導體裝置，其中引線框架及電極例如透過板狀連接器彼此電連接。電極及連接器以及引線框架及連接器用一導電黏著劑(諸如焊料)彼此機械連接且電連接。

此一半導體裝置之品質可例如取決於將引線框架及連接器連接在一起之導電黏著劑之狀況而降低。

根據一項實施例，一半導體裝置包含一第一引線框架、一第二引線框架、一半導體晶片及一導電部件。該第二引線框架與該第一引線框架間隔開，且具有具備一凹部之一第一面。該半導體晶片安裝於該第一引線框架上。該導電部件具有一第二面，且將該半導體晶片及該第二引線框架彼此電連接，該第二面用一導電黏著劑連接至該第一面且具備至少部分容置於該凹部中之一突部。該凹部之長度在該第一面於其中延伸之一第一方向上比在沿著該第一面且正交於該第一方向之一第二方向上更長。該突部之長度在該第一方向上比在該第二方向上長。

第一實施例下文參考圖1至圖6描述一第一實施例。在本說明書中，根據實施例之組件及組件描述可藉由複數個表達進行描述。組件及其描述係作為實例且不限於本說明書之表達。可藉由不同於本說明書中之名稱的名稱來識別組件。可藉由不同於本說明書之表達的表達來描述組件。

圖1係第一實施例之一半導體裝置1之一例示性透視圖。例如，半導體裝置1係一功率裝置。半導體裝置1不限於此實例且可為另一裝置。

如圖式中所繪示，在本說明書中，為方便起見，定義一X軸、一Y軸及一Z軸。X軸、Y軸及Z軸彼此正交。沿著半導體裝置1之寬度提供X軸。沿著半導體裝置1之長度(深度)提供Y軸。沿著半導體裝置1之厚度提供Z軸。

此外，在本說明書中，定義一X方向、一Y方向及一Z方向。X方向係沿著X軸之一方向，且包含由X軸之箭頭指示之一+X方向及作為與X軸之箭頭相反之一方向的一-X方向。Y方向係沿著Y軸之一方向，且包含由Y軸之箭頭指示之一+Y方向及作為與Y軸之箭頭相反之一方向的一-Y方向。Z方向係沿著Z軸之一方向，且包含由Z軸之箭頭指示之一+Z方向及作為與Z軸之箭頭相反之一方向的一-Z方向。

半導體裝置1具有一半導體晶片10、一第一引線框架11、一第二引線框架12、一第三引線框架13、一第一連接器14、一第二連接器15及密封樹脂16。第一連接器14係一例示性導電部件。第二連接器15可為一例示性導電部件。圖1用雙點鏈線(two-dotted chain line)以一假想方式繪示密封樹脂16。

第一引線框架11電連接至半導體晶片10。第二引線框架12經由第一連接器14電連接至半導體晶片10。第三引線框架13經由第二連接器15電連接至半導體晶片10。密封樹脂16密封半導體晶片10、第一至第三引線框架11至13之部分、第一連接器14及第二連接器15。

例如，半導體晶片10係一垂直裝置，諸如一垂直金屬氧化物半導體場效電晶體(MOSFET)。半導體晶片10不限於此實例且可為一垂直絕緣閘雙極電晶體(IGBT)、一垂直二極體或另一半導體晶片。

半導體晶片10含有矽(Si)作為半導體。半導體晶片10不限於此實例且例如可含有不同於Si之化合物半導體，諸如SiC或GaN。

圖2係第一實施例之半導體裝置1之一例示性平面圖，其中省略密封樹脂16。圖3係第一實施例之半導體裝置1之一例示性剖視圖。半導體晶片10具有一下面21、一上面22、一第一電極25以及圖3中所繪示之一第二電極26及圖2中所繪示之一第三電極27。

在本實施例中，為方便起見，指示方向之表達(諸如上及下)係基於圖2及圖3之表達。指示方向之表達不限制半導體裝置1中之組件之位置及方向。

如圖3中所繪示，下面21係指向-Z方向之一實質上平坦面。上面22定位成與下面21相對。上面22係指向+Z方向之一實質上平坦面。第一電極25提供於下面21上。第二電極26及第三電極27提供於上面22上。

半導體晶片10具備將第一電極25及第二電極26及第三電極27彼此連接之一電路徑。例如，第一電極25係一汲極電極。例如，第二電極26係一源極電極。例如，第三電極27係一閘極電極。第一電極25提供於幾乎整個下面21上。第二電極26小於第一電極25。第三電極27小於第二電極26。

第一至第三引線框架11至13係由例如銅製成且具有導電性。例如，第一至第三引線框架11至13具有一板形狀。第一至第三引線框架11至13之材料及形狀不限於此等實例。

如圖2中所繪示，第一至第三引線框架11至13配置成在一X-Y平面上彼此間隔開。第一至第三引線框架11至13可配置於Z方向上之不同位置處。

第一引線框架11具有一晶粒墊31及複數個引線32。例如，第一引線框架11係藉由衝壓加工製成。晶粒墊31及引線32係一體成型。

晶粒墊31具有位於X-Y平面上之一實質上矩形板形狀。晶粒墊31具有一第一連接面35。第一連接面35係指向+Z方向之一實質上平坦面。引線32實質上彼此平行地從晶粒墊31之一邊緣延伸。例如，引線32在-X方向上從晶粒墊31延伸。

第二引線框架12在+X方向上與第一引線框架11分離。換言之，第二引線框架12在與引線32從晶粒墊31延伸之方向相反之一方向上分離。

第二引線框架12具備一內引線41及複數個外引線42。例如，第二引線框架12係藉由衝壓加工形成。內引線41及外引線42係一體成型。

內引線41具有位於X-Y平面上之一實質上矩形(四邊形)板形狀。內引線41在Y方向上延伸。內引線41具有一第二連接面45。第二連接面45係一例示性第一面。

第二連接面45係指向+Z方向之一實質上矩形(四邊形)實質上平坦面。即，第二連接面45及第一連接面35指向實質上相同方向。第二連接面45在Y方向上延伸。Y方向係第一面延伸之一方向，且係一例示性第一方向。在本說明書中，一元件延伸之一方向指代例如一實質上矩形(rectangular form)之一元件的一縱向方向。第二連接面45延伸之一方向指代一實質上矩形之第二連接面45的一縱向方向。第二連接面45之長度在Y方向上比在X方向上長。

內引線41及第二連接面45可形成為另一形狀，諸如一實質上L形。例如，當內引線41及第二連接面45具有一實質上L形時，L形之一個側(一第一部分)延伸之一方向及其之另一側(一第二部分)延伸之一方向各自為第一面延伸之一例示性方向。

如圖2中所繪示，外引線42實質上彼此平行地從內引線41之一邊緣延伸。例如，外引線42在+X方向上從內引線41延伸。即，外引線42在與引線32相反之一方向上延伸。

如圖3中所繪示，在Z方向上，內引線41未在+Z方向上與第一引線框架11對準。換言之，在Z方向上，內引線41之第二連接面45在+Z方向上與第一引線框架11之第一連接面35分離。內引線41與外引線42之間的連接部分係彎曲的。外引線42在Z方向上提供於與第一引線框架11之位置實質上相同的位置處。

如圖2中所繪示，第三引線框架13在+X方向上與第一引線框架11分離。此外，第三引線框架13在+Y方向上與第二引線框架12分離。因此，第一至第三引線框架11至13彼此分離。

第三引線框架13具有一內引線51及一外引線52。例如，第三引線框架13係藉由衝壓加工製成。內引線51及外引線52係一體成型。

內引線51具有位於X-Y平面上之一實質上矩形(四邊形)板形狀。內引線51在Y方向上延伸。內引線51具有一第三連接面55。第三連接面55亦可為一例示性第一面。

第三連接面55係指向+Z方向之一實質上矩形(四邊形)實質上平坦面。即，第三連接面55指向與第一連接面35所指向之方向實質上相同的方向。第三連接面55在Y方向上延伸。第三連接面55在Y方向上之長度長於其在X方向上之長度。在Y方向上，第三連接面55短於第二連接面45。

外引線52例如在+X方向上從內引線51之一邊緣延伸。即，外引線52與第二引線框架12之外引線42實質上平行地延伸。

在Z方向上，內引線51未在+Z方向上與第一引線框架11對準。內引線51與外引線52之間的一連接部分係彎曲的。外引線52在Z方向上提供於與第一引線框架11之位置實質上相同的位置處。

半導體晶片10安置於第一引線框架11之晶粒墊31上。如圖3中所繪示，半導體晶片10之下面21及晶粒墊31之第一連接面35面向彼此。

半導體晶片10之第一電極25用一導電黏著劑(諸如焊料)機械且電連接至晶粒墊31之第一連接面35。因此，半導體晶片10安裝於第一引線框架11上。

第一連接器14及第二連接器15係由例如銅製成且具有導電性。例如，第一連接器14及第二連接器15具有一板形狀。第一連接器14及第二連接器15之各者比第一至第三引線框架11至13之各者厚。第一連接器14及第二連接器15之材料及形狀不限於此等實例。

第一連接器14具有一第一連接部分61、一第二連接部分62及一中間部分63。例如，第一連接器14係藉由衝壓加工形成。第一連接部分61、第二連接部分62及中間部分63係一體成型。

第二連接部分62在+X方向上與第一連接部分61分離。中間部分63將第一連接部分61及第二連接部分62彼此連接。在Z方向上，第二連接部分62在+Z方向上與第一連接部分61分離。中間部分63彎曲以使在+Z方向上分離之一部分距第一連接部分61比距第二連接部分62更遠。

第一連接部分61安置於半導體晶片10之第二電極26上。第一連接部分61用一導電黏著劑(諸如焊料)機械且電連接至半導體晶片10之第二電極26。

第二連接部分62具有位於X-Y平面上之一實質上矩形(四邊形)板形狀。第二連接部分62在Y方向上延伸。即，第二連接部分62與第二引線框架12之內引線41實質上平行地延伸。

圖4係第一實施例之第二引線框架12及第一連接器14之部分之一例示性示意性剖視圖。如圖4中所繪示，第二連接部分62具有一第四連接面65。第四連接面65係一例示性第二面。第四連接面65係指向-Z方向之一實質上矩形(四邊形)實質上平坦面。即，第四連接面65指向與第二連接面45所指向之方向相反的一方向。

圖5係第一實施例之第二引線框架12及第一連接器14之部分之一例示性示意性透視圖。如圖5中所繪示，第四連接面65在Y方向上延伸。第四連接面65在Y方向上之長度長於其在X方向上之長度。

第四連接面65面向第二引線框架12之第二連接面45。在Y方向上，第二連接面45長於第四連接面65。第二連接面45及第四連接面65不限於此等實例。

如圖4中所繪示，焊料68在第二連接面45與第四連接面65之間散佈。焊料68係一例示性導電黏著劑。焊料68係含鉛焊料或無鉛焊料。導電黏著劑不限於焊料68且例如可為銀膏或銀焊料。

焊料68用於將第一連接器14之第四連接面65機械且電連接至第二引線框架12之第二連接面45。因此，第一連接器14將半導體晶片10之第二電極26及第二引線框架12彼此電連接。

如圖2中所繪示，第二連接器15具有一第三連接部分71、一第四連接部分72及一中間部分73。中間部分73將第三連接部分71及第四連接部分72彼此連接。

第三連接部分71安置於半導體晶片10之第三電極27上。第三連接部分71用一導電黏著劑(諸如焊料)機械且電連接至半導體晶片10之第三電極27。

圖4可示意性繪示第一實施例之第三引線框架13及第二連接器15之部分。如圖4中所繪示，第四連接部分72具有一第五連接面75。第五連接面75可為一例示性第二面。第五連接面75係指向-Z方向之一實質上矩形(四邊形)實質上平坦面。

第四連接部分72具有位於X-Y平面上之一實質上矩形(四邊形)板形狀。第四連接部分72在Y方向上延伸。因此，第五連接面75亦在Y方向上延伸。第五連接面75面向第三引線框架13之第三連接面55。

焊料78插置於第三連接面55與第五連接面75之間。焊料78可為一例示性導電黏著劑。焊料78將第二連接器15之第五連接面75機械且電連接至第三引線框架13之第三連接面55。因此，第二連接器15將半導體晶片10之第三電極27及第三引線框架13彼此電連接。

如圖3中所繪示，密封樹脂16覆蓋半導體晶片10、第一引線框架11之晶粒墊31、第二引線框架12之內引線41、第三引線框架13之內引線51、第一連接器14及第二連接器15。第一引線框架11之引線32、第二引線框架12之外引線42及第三引線框架13之外引線52定位於密封樹脂16外部且用作半導體裝置1之端子。

例如，第一引線框架11之引線32、第二引線框架12之外引線42及第三引線框架13之外引線52用焊料連接至一電路板之一墊。因此，半導體裝置1安裝於電路板上。

如圖4中所繪示，第二引線框架12之第二連接面45具備一凹部81。在本實施例中，凹部81包含一凹槽85。凹部81及凹槽85各自為一例示性凹部。凹部81可包含複數個凹槽85及/或另一凹部。例如，凹部81可包含諸如一孔、一狹縫或一切口之一凹部。

凹槽85係從第二連接面45凹入之一部分。第二連接面45包含一凹面86，其從第二連接面45之另一部分凹入且形成(界定)凹槽85。例如，凹槽85及凹面86係藉由衝壓加工形成。凹槽85及凹面86可藉由另一方法(諸如切割)形成。

圖6係第一實施例之第二連接面45及第四連接面65之一例示性示意性平面圖。圖6用雙點鏈線以一假想方式繪示第四連接面65。如圖6中所繪示，凹槽85在Y方向上延伸。凹槽85可在相對於Y方向傾斜之一方向上延伸。

凹槽85之長度在Y方向(縱向方向)上比在X方向(一橫向方向)上長。X方向係沿著第二連接面45且正交於Y方向之一方向，且係一例示性第二方向。

在Y方向上，凹槽85之長度比第二連接面45短。凹槽85在Y方向上與第二連接面45之兩端分離。凹槽85可在Y方向上從第二連接面45之一個端延伸至第二連接面45之另一端。

如圖4中所繪示，凹槽85具有作為正交於Y方向之一截面之一實質上半圓形截面。凹面86係一實質上半圓柱形曲面。凹槽85及凹面86不限於此等實例。例如，凹槽85可具有具一實質上三角形、一實質上四邊形、一實質上梯形或另一形狀之一截面。

第一連接器14具有一突部(protrusion) 91。突部91包含一突出部(projection) 95。突部91及突出部95各自為一例示性突部。突部91可包含複數個突出部95及/或另一突部。例如，突部91可包含諸如一突出部分或一肋部之一突部。

突出部95定位於第一連接器14之第四連接面65上，從第四連接面65突出。第四連接面65包含一凸面96。凸面96從第四連接面65之另一部分突出以形成突出部95之一外面(一表面)。例如，突出部95及凸面96係藉由衝壓加工形成。突出部95及凸面96可藉由另一方法(諸如切割)形成。

如藉由圖6中之雙點鏈線指示，突出部95在Y方向上延伸。突出部95可在相對於Y方向傾斜之一方向上延伸。突出部95之長度在Y方向(縱向方向)上比在X方向(橫向方向)上長。

在Y方向上，突出部95之長度比第四連接面65短。突出部95在Y方向上與第四連接面65之兩端分離。突出部95可在Y方向上從第四連接面65之一個端延伸至第四連接面65之另一端。

如圖4中所繪示，突出部95具有作為正交於Y方向之一截面之一實質上半圓形截面。凸面96係一實質上半圓柱形曲面。突出部95及凸面96不限於此等實例。例如，突出部95可具有具一實質上三角形、一實質上四邊形、一實質上梯形或另一形狀之一截面。

突出部95之截面的半徑小於凹槽85之截面的半徑。即，凹槽85及突出部95具有幾何結構彼此類似之截面形狀。凹槽85之截面大於突出部95之截面。凹槽85及突出部95不限於此等實例且可具有不同形狀及/或相同大小。

如圖6中所繪示，在Y方向上，突出部95之長度比凹槽85短。例如，突出部95與凹槽85之間的長度差在Y方向上比在X方向上大。突出部95及凹槽85之尺寸不限於此實例。

如圖4中所繪示，突出部95至少部分容置於凹槽85中。換言之，突出部95裝配至凹槽85中。焊料68插置於形成凹槽85之凹面86與形成突出部95之凸面96之間。

下文例示用於製造半導體裝置1之一方法之部分。用於製造半導體裝置1之方法不限於以下方法，且可使用另一方法。首先，將焊料膏施覆至半導體晶片10之第一電極25或第一引線框架11之第一連接面35。將半導體晶片10安置於第一引線框架11上，使得將焊料膏插置於第一電極25與第一連接面35之間。

接著，將焊料膏施覆至半導體晶片10之第二電極26或第一連接器14之第一連接部分61。此外，將焊料膏(焊料68)施覆至第二引線框架12之第二連接面45或第一連接器14之第四連接面65。

可將焊料膏(焊料68)施覆之第二連接面45之凹面86或另一部分。可將焊料膏施覆至第四連接面65之凸面96或另一部分。

將第一連接器14安置於半導體晶片10上，使得將焊料膏插置於第二電極26與第一連接部分61之間。同時，將第一連接器14安置於第二引線框架12上，使得將焊料膏(焊料68)插置於第二連接面45與第四連接面65之間。

接著，將焊料膏施覆至半導體晶片10之第三電極27或第二連接器15之第三連接部分71。此外，將焊料膏(焊料78)施覆至第三引線框架13之第三連接面55或第二連接器15之第五連接面75。

將第二連接器15安置於半導體晶片10上，使得將焊料膏插置於第三電極27與第三連接部分71之間。同時，將第二連接器15安置於第三引線框架13上，使得將焊料膏(焊料78)插置於第三連接面55與第五連接面75之間。

接著，藉由回焊使焊料膏熔融且固化。回焊焊料將第一電極25及第一連接面35彼此連接，將第二電極26及第一連接部分61彼此連接，且將第三電極27及第二連接器15彼此連接。回焊焊料78將第三連接面55及第五連接面75彼此連接。

藉由回焊熔融之焊料68在第二連接面45與第四連接面65之間流動。焊料68透過表面張力附著至凹面86及凸面96，且亦附著至第二連接面45之另一部分及第四連接面65之另一部分。

使焊料68熔融，藉此可使第二引線框架12及第一連接器14相互相對移動。例如，第一連接器14相對於第二引線框架12移動，使得第二連接面45與第四連接面65之間的距離實質上均勻。此外，第一連接器14相對於第二引線框架12移動，藉此突出部95裝配至凹槽85中。

藉由經熔融焊料68之表面張力，第一連接器14移動使得第二連接面45及第四連接面65實質上彼此平行地延伸。藉由經熔融焊料68之表面張力，突出部95移動以與凹槽85實質上平行地延伸。此外，藉由經熔融焊料68之表面張力，突出部95移動至實質上凹槽85之中心。換言之，突出部95移動使得凸面96與凹面86之間的距離實質上均勻。

運用經熔融焊料68之表面張力，第一連接器14相對於第二引線框架12移動至一所要位置。例如，所要位置可藉由第二連接面45及第四連接面65之形狀以及凹部81及突部91之位置及形狀設定。因此，經熔融焊料68之表面張力用於將第二引線框架12及第一連接器14對準。

例如，經熔融焊料68使第一連接器14在X方向上、Y方向上、Z方向上及繞與Z軸平行之一旋轉軸之一旋轉方向上相對於第二引線框架12移動以執行對準。例如，當第一連接器14繞與Z軸平行之旋轉軸相對於第二引線框架12傾斜時，經熔融焊料68之表面張力使第一連接器14繞旋轉軸相對於第二引線框架12旋轉。因此，第一連接器14相對於第二引線框架12移動至所要位置。

經熔融焊料68使第一連接器14移動以減少(校正)第一連接器14相對於第二引線框架12從所要位置之位移。在回焊之後，第二引線框架12及第一連接器14之相對位置可從所要位置稍微位移。

在包含焊料68及78之複數個焊料塊回焊之後，半導體晶片10、第一引線框架11、第二引線框架12、第三引線框架13之部分、第一連接器14及第二連接器15藉由密封樹脂16密封。因此，製造半導體裝置1。

在根據前文中所描述之第一實施例之半導體裝置1中，第一連接器14包含具備突部91之第四連接面65。第四連接面65用焊料68連接至第二引線框架12之第二連接面45。突部91至少部分容置於第二連接面45之凹部81中。通常，歸因於焊料68之熔融，第一連接器14可變得可相對於第二引線框架12移動且從一所要位置位移。然而，在本實施例中，當焊料68熔融時，突部91裝配至凹部81中。此可防止第一連接器14相對於第二引線框架12從所要位置位移。即，可避免半導體裝置1之品質降低，原本將歸因於焊料68之熔融而發生品質降低。

通常，焊料68可因整個橫向(X方向)區域中之一裂縫而斷裂。在本實施例中，凹部81及突部91之長度在Y方向(第二連接面45延伸之一方向；或縱向方向)上比在X方向(沿著第二連接面45且正交於Y方向之一方向；或橫向方向)上更長。換言之，凹部81及突部91大體上在縱向方向上延伸。此導致第二連接面45及第四連接面65在兩個橫向端之間的長度增加凹部81 (凹面86)及突部91 (凸面96)。即，如圖4中所繪示，將第二連接面45及第四連接面65彼此連接之焊料68在兩個橫向端之間的長度L增加。因此，焊料68不太可能因一橫向裂縫而斷裂。因此，可避免半導體裝置1之品質降低，原本將因焊料68之斷裂而發生品質降低。

在回焊期間，第二引線框架12通常經安置而使第二連接面45面向上。因此，經熔融焊料68可積累在凹部81內部且被防止從第二連接面45流出。

凹部81及突部91具有彼此類似之截面形狀。凹部81之截面大於突部91之截面。因此，凹部81與突部91之間的焊料68之厚度實質上為恆定的，且藉由表面張力設定之第一連接器14相對於第二引線框架12之位置容易保持恆定。因此，防止第一連接器14相對於第二引線框架12從所要位置位移。

凹部81及突部91在Y方向上延伸。因此，凹部81及突部91可設定為一更長長度。具有更長長度之凹部81及突部91上的經熔融焊料68用於輕鬆校正第一連接器14相對於第二引線框架12之傾斜。因此，防止第一連接器14相對於第二引線框架12從所要位置位移。

凹部81在Y方向上與第二連接面45之兩端分離。因此，禁止熔融焊料68在縱向方向上流出第二連接面45之邊緣。

在Y方向上，突部91之長度短於凹部81之長度。因此，當焊料68熔融時，突部91容易裝配至凹部81中。因此，防止第一連接器14相對於第二引線框架12從所要位置位移。

第二實施例下文參考圖7至圖9描述一第二實施例。在以下實施例之描述中，具有類似於已描述之組件之功能之功能的組件藉由與已描述之組件之元件符號相同的符號來表示，且可以省略其等之描述。由相同元件符號表示之複數個組件不一定關於所有功能及性質方面皆為共同的，且可根據各自實施例具有不同功能及性質。

圖7係根據第二實施例之第二引線框架12及第一連接器14之部分之一例示性示意性透視圖。圖8係第二實施例之第二引線框架12及第一連接器14之部分之一例示性示意性剖視圖。圖9係第二實施例之第二連接面45及第四連接面65之一例示性示意性平面圖。

如圖7中所繪示，第二實施例之凹部81包含複數個第一凹槽101及複數個第二凹槽102。凹部81、第一凹槽101及第二凹槽102各自為一例示性凹部。

第一凹槽101及第二凹槽102係從第二連接面45凹入之部分。第二連接面45包含複數個凹面106。凹面106從第二連接面45之另一部分凹入以形成(界定)對應第一凹槽101或第二凹槽102。

例如，第一凹槽101、第二凹槽102及凹面106係藉由衝壓加工形成。第一凹槽101、第二凹槽102及凹面106可藉由另一方法(諸如切割)形成。

第一凹槽101及第二凹槽102各自在Y方向上延伸。第一凹槽101及第二凹槽102可各自在相對於Y方向傾斜之一方向上延伸。第一凹槽101及第二凹槽102之各者在Y方向(縱向方向)上的長度長於其在X方向(橫向方向)上之長度。

在Y方向上，第一凹槽101及第二凹槽102各自短於第二連接面45。第一凹槽101及第二凹槽102在Y方向上與第二連接面45之兩端分離。第一凹槽101或第二凹槽102之至少任一者可在Y方向上從第二連接面45之一個端或另一端之至少任一者延伸。

如圖8中所繪示，第一凹槽101及第二凹槽102各自具有作為正交於Y方向之一截面之一半圓形截面。第一凹槽101及第二凹槽102具有具實質上相同形狀之截面。凹面106各自為一實質上半圓柱形曲面。第一凹槽101、第二凹槽102及凹面106不限於此等實例。例如，第一凹槽101及第二凹槽102可具有具不同形狀之截面。

第一凹槽101在X方向上彼此並列。第二凹槽102亦在X方向上彼此並列。如圖7中所繪示，第一凹槽101及第二凹槽102在Y方向上彼此間隔開。因此，在Y方向上，在第一凹槽101與第二凹槽102之間存在一中間面107。中間面107係第二連接面45之部分且為指向+Z方向之一實質上平坦部分。

第二實施例之突部91包含複數個第一突部111及複數個第二突部112。突部91、第一突部111及第二突部112各自為一例示性突部。

第一突部111及第二突部112各自提供於第一連接器14之第四連接面65上，且從第四連接面65突出。第四連接面65包含凸面116。凸面116從第四連接面65之另一部分突出以形成對應第一突部111或第二突部112之外面(表面)。

例如，第一突部111、第二突部112及凸面116係藉由衝壓加工形成。第一突部111、第二突部112及凸面116可藉由另一方法(諸如切割)形成。

如藉由圖9中之雙點鏈線指示，第一突部111及第二突部112各自在Y方向上延伸。第一突部111及第二突部112可各自在相對於Y方向傾斜之一方向上延伸。第一突部111及第二突部112之各者在Y方向(縱向方向)上的長度長於其在X方向(橫向方向)上之長度。

在Y方向上，第一突部111及第二突部112各自短於第四連接面65。第一突部111及第二突部112在Y方向上與第四連接面65之兩端分離。第一突部111或第二突部112之至少任一者可在Y方向上從第四連接面65之一個端或另一端之至少任一者延伸。

如圖8中所繪示，第一突部111及第二突部112各自具有作為正交於Y方向之一截面之一半圓形截面。第一突部111及第二突部112具有具實質上相同形狀之截面。凸面116各自為一實質上半圓柱形曲面。第一突部111、第二突部112及凸面116不限於此等實例。例如，第一突部111及第二突部112可具有具不同形狀之截面。

第一突部111在X方向上彼此並列。第二突部112亦在X方向上彼此並列。如圖7中所繪示，第一突部111及第二突部112在Y方向上彼此間隔開。因此，在Y方向上，在第一突部111與第二突部112之間存在一中間面117。中間面117係第四連接面65之部分且為指向-Z方向之一實質上平坦部分。

如圖8中所繪示，第一突部111之截面之半徑小於第一凹槽101之截面之半徑。即，第一凹槽101及第一突部111具有彼此類似之截面形狀。第一凹槽101之截面大於第一突部111之截面。第一凹槽101及第一突部111不限於此等實例且可具有不同形狀及/或相同大小。類似地，第二凹槽102及第二突部112亦具有彼此類似之截面形狀。第二凹槽102之截面大於第二突部112之截面。

如圖9中所繪示，在Y方向上，第一突部111之長度短於第一凹槽101之長度。在Y方向上，第二突部112之長度短於第二凹槽102之長度。第一凹槽101、第二凹槽102、第一突部111及第二突部112之尺寸不限於此等實例。

如圖8中所繪示，第一突部111至少部分容置於各自對應第一凹槽101中。第二突部112至少部分容置於各自對應第二凹槽102中。換言之，第一突部111及第二突部112分別裝配至對應第一凹槽101及第二凹槽102中。焊料68插置於形成第一凹槽101或第二凹槽102之凹面106與形成第一突部111或第二突部112之凸面116之間。

在前文中所描述之第二實施例之半導體裝置1中，第一凹槽101及第一突部111在X方向(橫向方向)上彼此並列。因此，第二連接面45及第四連接面65在橫向方向上之兩端之間的長度進一步增加第一凹槽101 (凹面106)及第一突部111 (凸面116)。即，如圖8中所繪示，在橫向方向上之兩端之間將第二連接面45及第四連接面65彼此連接之焊料68的長度L增加。因此，防止焊料68因一橫向裂縫而斷裂。

第一凹槽101及第二凹槽102在Y方向(縱向方向)上彼此分開。此外，第一突部111及第二突部112在縱向方向上彼此分開。因此，經熔融焊料68可在第二引線框架12之中間面107與第一連接器14之中間面117之間流動。因此，在中間面107與117之間通過之焊料68可均勻地散佈以抑制焊料68在橫向方向上不均勻地分佈。

在前述實施例中，凹部81可不僅提供於第二引線框架12中，而且提供於第三引線框架13之第三連接面55中。此外，不僅第一連接器14而且第二連接器15可具有突部91。在此情況中，關於凹部81及突部91之前述描述可藉由將第二引線框架12、第一連接器14、第二連接面45、第四連接面65及焊料68解讀為第三引線框架13、第二連接器15、第三連接面55、第五連接面75及焊料78而描述第三引線框架13之凹部81及第二連接器15之突部91。

根據前文中所描述之至少一項實施例，導電部件具有一第二面且將半導體晶片及第二引線框架彼此電連接。第二面用一導電黏著劑連接至第一面且具備至少部分容置於凹部中之一突部。因此，當導電黏著劑熔融時，突部裝配至凹部中，且因此，防止導電部件相對於第二引線框架從所要位置位移。一般而言，當導電黏著劑之整個區域中在橫向方向上出現一裂縫時，導電黏著劑中可發生斷裂。在本實施例中，凹部及突部之長度在第一面延伸之第一方向(縱向方向)上比在沿著第一面且正交於第一方向正交之第二方向(橫向方向)上更長。換言之，凹部及突部大體上在縱向方向上延伸。因此，第一面及第二面在橫向方向上之兩端之間之長度增加凹部及突部。即，將第一面及第二面彼此連接之導電黏著劑之長度在兩個橫向端之間增加。因此，防止導電黏著劑因一橫向裂縫而斷裂。

雖然已描述特定實施例，但此等實施例僅藉由實例呈現，且並不意欲限制本發明之範疇。實際上，本文中所描述之新穎實施例可體現為多種其他形式；此外，可在不脫離本發明之精神的情況下對本文中所描述之實施例之形式進行各種省略、替換及改變。隨附發明申請專利範圍及其等效物旨在涵蓋將落在本發明之範疇及精神內之此等形式或修改。

1:半導體裝置 10:半導體晶片 11:第一引線框架 12:第二引線框架 13:第三引線框架 14:第一連接器 15:第二連接器 16:密封樹脂 21:下面 22:上面 25:第一電極 26:第二電極 27:第三電極 31:晶粒墊 32:引線 35:第一連接面 41:內引線 42:外引線 45:第二連接面 51:內引線 52:外引線 55:第三連接面 61:第一連接部分 62:第二連接部分 63:中間部分 65:第四連接面 68:焊料 71:第三連接部分 72:第四連接部分 73:中間部分 75:第五連接面 78:焊料 81:凹部 85:凹槽 86:凹面 91:突部 95:突出部 96:凸面 101:第一凹槽 102:第二凹槽 106:凹面 107:中間面 111:第一突部 112:第二突部 116:凸面 117:中間面 L:長度

圖1係一第一實施例之一半導體裝置之一例示性透視圖；圖2係第一實施例之半導體裝置之一例示性平面圖，其中省略密封樹脂；圖3係第一實施例之半導體裝置之一例示性剖視圖；圖4係第一實施例之一第二引線框架及一第一連接器之部分之一例示性示意性剖視圖；圖5係第一實施例之第二引線框架及第一連接器之部分之一例示性示意性透視圖；圖6係第一實施例之一第二連接面及一第四連接面之一例示性示意性平面圖；圖7係根據一第二實施例之第二引線框架及第一連接器之部分之一例示性示意性透視圖；圖8係第二實施例之第二引線框架及第一連接器之部分之一例示性示意性剖視圖；及圖9係第二實施例之第二連接面及第四連接面之一例示性示意性平面圖。

1:半導體裝置

10:半導體晶片

11:第一引線框架

12:第二引線框架

13:第三引線框架

14:第一連接器

15:第二連接器

16:密封樹脂

22:上面

31:晶粒墊

32:引線

35:第一連接面

41:內引線

42:外引線

45:第二連接面

51:內引線

52:外引線

55:第三連接面

61:第一連接部分

62:第二連接部分

63:中間部分

65:第四連接面

68:焊料

71:第三連接部分

72:第四連接部分

73:中間部分

75:第五連接面

78:焊料

Claims

一種半導體裝置，其包括：一第一引線框架；一第二引線框架，其與該第一引線框架間隔開，該第二引線框架具有具備一凹部之一第一面；一半導體晶片，其安裝於該第一引線框架上；及一導電部件，其具有一第二面，該導電部件用於將該半導體晶片及該第二引線框架彼此電連接，該第二面用一導電黏著劑連接至該第一面且具備至少部分容置於該凹部中之一突部，其中該凹部之長度在該第一面於其中延伸之一第一方向上比在沿著該第一面且正交於該第一方向之一第二方向上更長，及該突部之長度在該第一方向上比在該第二方向更長。
如請求項1之半導體裝置，其中該凹部及該突部具有相互類似之截面形狀，及該凹部具有大於該突部之一截面。
如請求項1或2之半導體裝置，其中該凹部在該第一方向上延伸，及該突部在該第一方向上延伸。
如請求項1或2之半導體裝置，其中該凹部在該第一方向上與該第一面之兩端間隔開。
如請求項1或2之半導體裝置，其中該突部之長度在該第一方向上短於該凹部。
如請求項1或2之半導體裝置，其中該凹部包含複數個凹部，該突部包含複數個突部，該第一面具備在該第二方向上彼此並列之該複數個凹部，及該第二面具備該複數個突部，該等突部在第二方向上彼此並列且至少部分容置於該等凹部中。
如請求項1或2之半導體裝置，其中該凹部包含複數個凹部，該突部包含複數個突部，該第一面具備在該第一方向上彼此間隔開之該複數個凹部，及該第二面具備該複數個突部，該等突部在第一方向上彼此間隔開且至少部分容置於該等凹部中。