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TWI776845B - 光學膜、偏光板、及影像顯示裝置 - Google Patents

光學膜、偏光板、及影像顯示裝置 Download PDF

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TWI776845B
TWI776845B TW107103271A TW107103271A TWI776845B TW I776845 B TWI776845 B TW I776845B TW 107103271 A TW107103271 A TW 107103271A TW 107103271 A TW107103271 A TW 107103271A TW I776845 B TWI776845 B TW I776845B
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Taiwan
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optical film
spectral transmittance
layer
light
wavelength
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TW107103271A
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野村崇尚
濱田孝則
中島正隆
秦健太郎
中村啟志
中川喜
Original Assignee
日商大日本印刷股份有限公司
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Publication date
Application filed by 日商大日本印刷股份有限公司 filed Critical 日商大日本印刷股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種光學膜10,其係具備透光性基材11、與設置於透光性基材11之一面側之透光性功能層12者,於波長380nm之分光透射率未達1%,於波長410nm之分光透射率為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率為70%以上,透光性功能層12之膜厚為9μm以下。

Description

光學膜、偏光板、及影像顯示裝置
本案享有作為先前之日本申請案之特願2017-15454(申請日:2017年1月31日)之優先權之利益,其揭示內容整體藉由引用而成為本說明書之一部分。
本發明係關於一種光學膜、偏光板、及影像顯示裝置。
近年來,作為個人電腦或輸入板等的影像顯示裝置之背光光源,積極地採用LED(Light Emitting Diode,發光二極體),但該LED較強地發出稱為藍光之光。
已知藍光為波長380~495nm之光且具有接近於紫外線之性質,具有較強之能量,因此不會被角膜或水晶體吸收而到達視網膜,由此成為視網膜損傷、眼睛疲勞、對睡眠之不良影響等之原因。因此,於影像顯示裝置中,較理想為將藍光遮蔽。
作為解決此種藍光之問題之方法,例如考慮使構成影像顯示裝置等所使用之光學膜之透光性基材或透光性功能層含有色素及紫外線吸收劑之方法(例如參照日本特開2014-10947號公報)。
此外,為了將於外部產生之紫外光及一部分可見光遮斷而抑制顯示面板之劣化,亦考慮使構成光學膜之黏著層含有色素及/或紫外線吸收劑之方法。
然而,添加至構成習知之光學膜之透光性基材等的色素及/或紫外線吸收劑之吸收波長區域係以300~360nm附近為中心之相對較短之波長區域,因此可以說藍光遮蔽性能並不充分。
另一方面,藍光中相對較長之波長區域會對透射光之色調產生影響,因此若過度吸收相對較長之波長區域之光,則有光學膜帶黃色調之情況。
進而,於使黏著層含有色素及/或紫外線吸收劑之情形時,黏著力降低,因此有於環境試驗時產生自被黏著體之剝離或隆起之虞。因此,必須使黏著層之膜厚為10μm以上,因此有無法實現光學膜之薄型化之虞。
本發明係鑒於上述現狀,目的在於提供一種可遮蔽藍光、可抑制黃色調、且可實現薄型化之光學膜、具備此種光學膜之偏光板及影像顯示裝置。
本發明人等對上述課題反覆努力研究,結果發現,藉由使藍光波長中波長380nm以下之波長區域之光充分地吸收,另一方面,使波長410nm附近之波長區域之光適度地透射,且使波長440nm以上之光充分地透射,可遮蔽藍光,且可抑制光學膜之黃色調,另外,藉由使分光透射率調整劑不含有於黏著層,而含有於膜厚較薄之透光性功能層,可實現薄型化,從而完成本發明。
根據本發明之一態樣,提供一種光學膜,其係具備透光性基材、與設置於上述透光性基材之一面側之透光性功能層者,於波長380nm之分光透射率未達1%,於波長410nm之分光透射率為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率為70%以上,上述透光性功能層之膜厚為9μm以下。
於上述光學膜中,上述光學膜之黃色指數亦可為1以上且12以下。
於上述光學膜中,上述光學膜之藍光之遮蔽率亦可為30%以上。
於上述光學膜中,使用最小平方法獲得之波長410nm~420nm之範圍之透射譜之斜率亦可為2以上。
於上述光學膜中,上述光學膜之表面之算術平均粗糙度(Ra)亦可未達10nm。
於上述光學膜中,上述光學膜之表面亦可成為凹凸面。
於上述光學膜中,上述透光性功能層亦可具備含有樹脂及分光透射率調整劑之分光透射率調整層。
於上述光學膜中,上述透光性功能層亦可具備分光透射率調整層、及設置於上述分光透射率調整層之與上述透光性基材側相反之側之外覆(overcoat)層。
於上述光學膜中,上述透光性功能層亦可具備分光透射率調整層、及設置於上述分光透射率調整層之與上述透光性基材側相反之側之積層構造之複數個蒸鍍層。
於上述光學膜中,上述透光性功能層亦可具備分光透射率調整層、及設置於上述分光透射率調整層之與上述透光性基材側之面為相反側之面且折射率互不相同之積層構造之複數個不可見化層。
於上述光學膜中,上述透光性功能層亦可具備分光透射率調整層、及設置於上述分光透射率調整層之與上述透光性基材側相反之側且折射率低於上述分光透射率調整層之折射率之低折射率層。
根據本發明之另一態樣,提供一種具備上述光學膜及設置於上述光學膜之一面側之偏光元件的偏光板。
根據本發明之另一態樣,提供一種具備顯示元件及較上述顯示元件更靠近地配置於觀察者側之上述光學膜或上述偏光板之影像顯示裝置。
於上述影像顯示裝置中,上述顯示元件亦可為有機發光二極體顯 示元件。
根據本發明之一態樣,能夠提供一種可遮蔽藍光,可抑制黃色調,且可實現薄型化之光學膜。另外,根據本發明之另一態樣,可提供一種具備此種光學膜之偏光板及影像顯示裝置。
10、20、30、40、50‧‧‧光學膜
11‧‧‧透光性基材
12、21、31、41、51‧‧‧透光性功能層
13、32、42、52‧‧‧分光透射率調整層
14‧‧‧外覆層
33‧‧‧蒸鍍層
43‧‧‧不可見化層
43A‧‧‧高折射率層
43B‧‧‧低折射率層
50‧‧‧偏光板
51‧‧‧偏光元件
60‧‧‧影像顯示裝置
70‧‧‧顯示面板
71‧‧‧顯示元件
圖1係實施形態之光學膜之概略構成圖。
圖2係表示實施形態之光學膜之分光透射率之例之曲線圖。
圖3係實施形態之另一光學膜之概略構成圖。
圖4係θa之測定方法之說明圖。
圖5係實施形態之另一光學膜之概略構成圖。
圖6係實施形態之另一光學膜之概略構成圖。
圖7係實施形態之另一光學膜之概略構成圖。
圖8係實施形態之偏光板之概略構成圖。
圖9係實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。
圖10係表示實施例及比較例之光學膜之分光透射率之曲線圖。
以下,參照圖式對本發明之實施形態之光學膜及影像顯示裝置進行說明。於本說明書中,「膜」、「片材」等用語並非僅基於稱呼之不同而相互區分者。因此,例如「膜」係以亦包含稱為片材之構件之含義使用。圖1係本實施形態之光學膜之概略構成圖,圖2係表示本實施形態之光學膜之分光透射率之例 的曲線圖。圖3、圖5~圖7係本實施形態之另一光學膜之概略構成圖,圖4係θa之測定方法之說明圖。
<<<<光學膜>>>>
圖1所示之光學膜10之於波長380nm之分光透射率未達1%,於波長410nm之分光透射率為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率成為70%以上。若光學膜之於波長380nm之分光透射率為1%以上,則藍光之遮蔽率降低,因此有無法解決藍光之問題之虞。另外,若光學膜之於波長410nm之分光透射率未達10%,則有無法抑制光學膜之黃色調之虞,另外,若於波長410nm之分光透射率為60%以上,則有無法解決藍光之問題,且透射光產生不良影響之虞。若光學膜之於波長440nm之分光透射率未達70%,則黃色指數較高,光學膜自身之色調變成黃色,另外,可見光區域之透射率降低,因此有作為光學膜之特性而言不適宜之虞。
分光透射率設為藉由如下方式求出者,即,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之透光性基材側成為光源側之方式配置於能夠以每0.5%測定透射率之分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內,於該狀態下,於以下之測定條件下,於波長380nm、410nm、及440nm分別於前後1nm之間測定最低5點之透射率,算出其平均值。此外,於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率設為分別測定3次而獲得之值之算術平均值。另外,若於分光透射率之光譜出現起伏,則亦可以δ5.0nm進行平滑化處理。
(測定條件)
‧波長區域:300nm~780nm
‧掃描速度:高速
‧狹縫寬度:2.0
‧取樣間隔:自動(0.5nm間隔)
‧照明:C
‧光源:D2及WI
‧視野:2°
‧光源切換波長:360nm
‧S/R切換:標準
‧檢測器:PM
‧自動歸零:於基準線之掃描後,於550nm實施
光學膜10之光之透射率表示於波長380nm之前幾乎為0%,但自波長410nm起,光之透射逐漸變大,於波長440nm附近,光之透射急遽地變大。具體而言,例如圖2所示,於光學膜10中,於波長380nm至440nm之間,分光透射率以描繪S型之曲線之方式變化。
於光學膜10中,就進一步遮蔽藍光之觀點而言,於波長380nm之分光透射率較佳為未達0.5%,更佳為未達0.2%。於光學膜10中,就進一步抑制黃色調之觀點而言,於波長410nm之分光透射率之下限較佳為超過10%,更佳為13%以上,進而較佳為15%以上。於光學膜10中,就發揮藍光遮蔽性能之觀點而言,於波長410nm之分光透射率之上限較佳為未達58%,更佳為55%以下。於光學膜10中,關於於波長440nm之分光透射率,就抑制因著色所致之視認性降低及確保透明性之觀點而言,較佳為75%以上,更佳為80%以上。
光學膜10之於波長420nm之分光透射率較佳為45%以上且70%以下。藉由將於波長420nm之分光透射率設為該範圍內,可實現藍光遮蔽性能之發揮、因著色所致之視認性降低之抑制及透明性之確保。光學膜10之於波長420nm之分光透射率亦設為與波長380nm等下之分光透射率同樣地測定者。
於光學膜10中,於波長480nm~780nm之分光透射率相對於於波 長400~450nm之分光透射率之最大值,較佳為不會降低10%以上。為了使下述黃色指數降低,亦可於分光透射率調整層添加吸收波長480~780nm之光之吸收波長區域不同之色素,但若添加吸收波長區域不同之色素,則480nm~780nm之波長區域之分光透射率降低,透光性劣化。與此相對,於光學膜10中,不於下述分光透射率調整層13添加吸收波長區域不同之色素,便可實現較低之黃色指數。分光透射率設為藉由如下方式求出者,即,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之透光性基材側成為光源側之方式配置於能夠以每0.5%測定透射率之分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內,於該狀態下,關於300~480nm,於各波長下在前後1nm之間測定最低5點之透射率,關於480nm~780nm之波長區域,為了修正因膜之干涉所產生之透射率之雜訊,於各波長下分別於前後20nm之間測定所檢測出之所有點之透射率,並算出其平均值。此外,分光透射率之測定條件與上述於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率之測定條件相同。
於經由黏著層或接著層而於光學膜設置有偏光板等其他膜之情形時,設為於將其他膜與黏著層或接著層一起剝離後測定於波長380nm、410nm、420nm、440nm之分光透射率。其他膜之剝離例如可以如下方式進行。首先,利用乾燥器對經由黏著層或接著層而於光學膜附有其他膜之積層體進行加熱,於視為光學膜與其他膜之界面之部位切入切割器之刀尖,慢慢地剝離。藉由重複進行此種加熱與剝離,可將黏著層或接著層及其他膜剝離。此外,即便具有此種剝離步驟,亦不會對分光透射率之測定產生較大之影響。
光學膜10之黃色指數(YI)較佳為1以上且12以下。若光學膜之YI未達1,則有藍光之遮蔽率降低之虞,另外,若光學膜之YI超過12,則光學膜之黃色調明顯,有無法應用於要求透明性之用途之虞。黃色指數(YI)係將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之透光性基材側成為光源側之方式 配置於分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內,於該狀態下,測定光學膜之波長300nm~780nm之透射率,依照JIS Z8722:2009所記載之運算式,由該透射率計算色度三刺激值X、Y、Z,依照ASTM D1925:1962所記載之運算式,由三刺激值X、Y、Z而算出之值。黃色指數(YI)係藉由對1片光學膜測定3次波長300nm~780nm之透射率而算出3次,設為算出3次而獲得之值之算術平均值。此外,於UV-2450中,黃色指數係藉由於連接於UV-2450之監視器上,讀入上述透射率之測定資料,於計算項目中勾選「YI」之項目而算出。波長300nm~780nm之透射率之測定條件係與上述於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率之測定條件相同。關於YI之下限,原本就確保高透明性之觀點而言,較佳為較低,但若考慮亦賦予藍光截止性能,則更佳為2以上且3以上(較佳為數值較大)。但是,若YI過大,則此次有黃色調變強之情形。因此,YI之上限更佳為10以下、7以下、6以下(較佳為數值較小)。
另外,於經由黏著層或接著層而於光學膜設置有偏光板等其他膜之情形時,藉由與上述相同之方法將其他膜與黏著層或接著層一起剝離後,測定黃色指數(YI)。此外,即便具有此種剝離步驟,亦不會對黃色指數(YI)之測定產生較大之影響。
光學膜10之藍光之遮蔽率較佳為30%以上。若藍光之遮蔽率未達30%,則有無法充分地解決上述由藍光所引起之問題之情況。此種藍光遮蔽率例如可藉由於分光透射率調整層13中含有下述芝麻酚型苯并三唑系單體而達成。上述藍光之遮蔽率係藉由JIS T7333:2005而算出之值,以如下方式求出。首先,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之基材側成為光源側之方式配置於能夠以每0.5%測定分光透射率之分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內,於該狀態下,於波長380 nm~495nm分別於前後1nm之間測定最低5點之透射率,算出其平均值,藉此分別求出波長380nm~495nm之分光透射率。繼而,將藍光截止率(%)設為A,將380nm~495nm之透射率之平均值(%)設為B,藉由下述式求出藍光截止率。此外,藍光之遮蔽率設為測定3次而獲得之值之算術平均值。另外,分光透射率之測定條件與上述於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率之測定條件相同。
A=100-B
另外,於經由黏著層或接著層而於光學膜設置有偏光板等其他膜之情形時,藉由與上述相同之方法將其他膜與黏著層或接著層一起剝離後,測定藍光之遮蔽率。此外,即便具有此種剝離步驟,亦不會對藍光之遮蔽率之測定產生較大之影響。
光學膜10較佳為使用最小平方法所獲得之波長410nm~420nm之範圍之透射譜之斜率為2以上。若上述斜率為2以上,則可於藍光之光波長區域、例如波長380nm~495nm之波長區域充分地將光截止。另外,於過度地截止藍光之光波長區域(波長380nm~495nm)之情形時,有產生與影像顯示裝置之背光源或發光波長區域(例如來自OLED之波長430nm之發光)相干涉,以YI為代表之色調變差等不良情況的可能性變大之情況,若上述斜率為2以上,則亦可抑制此種不良情況之產生。就選擇性地截止對象之波長之光之觀點而言,上述斜率較佳為較大,因此上述斜率之上限並無特別限定,上述斜率之上限例如可設為20以下且10以下。
上述斜率設為以如下方式求出者。首先,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜例如以光學膜之基材側成為光源側之方式配置於能夠以每0.5%測定透射率之分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造)內,於該狀態下,於波長410nm~420nm分別於前後1nm之間測定最 低5點之透射率,算出其平均值,藉此分別求出波長410nm~420nm之分光透射率。繼而,使用所獲得之分光透射率,藉由最小平方法求出波長410nm~420nm之分光透射率之斜率。此外,上述斜率設為測定3次而獲得之值之算術平均值。另外,分光透射率之測定條件與上述於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率之測定條件相同。
光學膜10較佳為具有抗靜電性能。藉由光學膜10具有抗靜電性能,可將光學膜10尤其較佳地用於IPS方式之液晶顯示裝置。此外,於液晶顯示裝置為IPS方式之液晶顯示裝置之情形時,光學膜10之表面電阻值較佳為1010Ω/□以下,較佳為109Ω/□以下。尤其,於液晶顯示裝置為附內嵌式觸控面板之IPS方式之液晶顯示裝置之情形時,光學膜10之表面電阻值較佳為107Ω/□以上且1010Ω/□以下。於液晶顯示裝置為附內嵌式觸控面板之IPS方式之液晶顯示裝置之情形時,光學膜10之表面電阻值之下限更佳為108Ω/□以上,上限更佳為109Ω/□以下。
表面電阻值設為使用電阻率計(製品名「Hiresta UP MCP-HT450」,Mitsubishi Chemical Analytech股份有限公司製造,探針:URS探針(MCP-HTP14)),於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下,於500V之施加電壓下測得者。
上述抗靜電性能可藉由使構成光學膜10之透光性功能層12中含有抗靜電劑而獲得。作為上述抗靜電劑,並無特別限定,可使用習知公知者,例如可使用四級銨鹽等陽離子性抗靜電劑、或摻錫氧化銦(ITO)、摻銻氧化錫(ATO)等粒子或導電性聚合物等。於使用上述抗靜電劑之情形時,其含量相對於總固形物成分之合計質量較佳為1質量%以上且30質量%以下。
光學膜10較佳為能夠彎曲。具體而言,較佳為依據JIS K5600-5-1:1999所記載之心軸試驗,以透光性功能層12成為外側或內側之方式將光學 膜10捲繞於直徑2mm之不鏽鋼棒上時,不會於光學膜10產生裂痕(皸裂)。心軸試驗係藉由將以100mm×25mm之大小切出之光學膜以光學膜之長邊方向之兩端部對向之方式捲繞於直徑2mm之不鏽鋼棒並保持5秒後,釋放光學膜而進行,確認於接觸不鏽鋼棒之光學膜之短邊方向上是否產生裂痕。
於經由黏著層或接著層而於光學膜10之一面側設置有偏光板等其他膜之情形時,藉由與上述相同之方法將其他膜與黏著層或接著層一起剝離後,進行心軸試驗。此外,即便具有此種剝離步驟,亦不會對心軸試驗之結果產生較大影響。
光學膜10係由透光性基材11及設置於透光性基材11之一面側之透光性功能層12所構成。本說明書中所謂「透光性功能層」係指具有透光性,且於光學膜中意圖發揮某種功能之層。具體而言,透光性功能層例如可列舉分光透射率調整層、外覆層、防眩層、不可見化層、折射率調整層、防污層或該等之組合等。透光性功能層可成為單層構造,亦可成為積層有2層以上之透光性功能層之多層構造。
光學膜10之表面10A成為透光性功能層12之表面12A。所謂「透光性功能層之表面」係指透光性功能層之與透光性基材側之面為相反側之面。
光學膜10之表面10A(透光性功能層12之表面12A)之算術平均粗糙度Ra較佳為未達10nm。於滿足上述Ra之情形時,光學膜10為透明膜,成為具有極其優異之透明性者。上述Ra可藉由於以50mm×50mm之大小切出之光學膜之表面,使用表面粗糙度測定器(製品名「SE-3400」,小阪研究所股份有限公司製造),於下述測定條件下藉由依據JIS B0601:1994之方法進行測定而求出。
(1)表面粗糙度檢測部之觸針(小阪研究所製造之製品名「SE2555N」(2μm標準))
‧前端曲率半徑2μm,頂角90度,材質金剛石
(2)表面粗糙度測定器之測定條件
‧基準長度(粗糙度曲線之截止值λc):0.8mm
‧評價長度(基準長度(截止值λc)×5):4.0mm
‧觸針之進給速度:0.5mm/s
‧預長度:(截止值λc)×2
‧縱倍率:20000倍
‧橫倍率:10倍
此外,上述Ra係於光學膜10之表面10A隨機地選擇3處至少目視無異常之部位(無較大之異物或擦傷等之部位),設為於該等部位所測得之值之算術平均值。上述Ra之上限更佳為8nm以下。
另外,上述Ra亦可使用原子力顯微鏡(製品名「WET-9100」,島津製作所製造)進行測定。具體而言,首先,於以50mm×50mm之大小切出之光學膜之表面,於光學膜上隨機地選出3處至少目視無異常之部位(無較大之異物或擦傷等之部位),切割為5mm見方,獲得3個樣品。另一方面,準備複數個直徑15mm及厚度1mm之平坦之圓形之金屬板,於各金屬板貼附日新EM股份有限公司製造之碳雙面膠帶。於該膠帶上以樣品之表面(光學膜之表面)成為上側之方式貼附1個樣品。繼而,為了使膠帶與樣品之接著確實,將附樣品之金屬板於乾燥器中放置一晚。放置一晚後,將附樣品之金屬板以磁鐵固定於原子力顯微鏡(製品名「WET-9400」,島津製作所製造)之測定台上,於輕敲模式下,於測定區域5μm見方,藉由原子力顯微鏡對表面形狀進行觀察。繼而,使用內置於原子力顯微鏡之面解析軟體,由所觀察到之資料算出Ra。此外,面解析時之縱標度設為20nm。觀察係於室溫下進行,作為懸臂,使用NanoWorld公司製造之NCHR-20。另外,觀察時,相對於1個樣品隨機地選擇5個部位,關於3個樣品×5個部位(計15點),分別對表面形狀進行觀察。繼而,於所獲得之所 有15點之資料中,使用原子力顯微鏡中內置之面解析軟體算出Ra,將15點之算術平均值作為樣品之Ra。
光學膜10之用途並無特別限定,作為光學膜10之用途,例如可列舉智慧型手機、輸入板終端、個人電腦(PC)、可攜式終端、數位標牌、電視、汽車導航等影像顯示裝置。另外,光學膜10亦適於車載用途。作為上述各影像顯示裝置之形態,於可摺疊、可捲曲等需要可撓性之用途方面亦較佳。
光學膜10可切割為所期望之大小,亦可為捲狀。於將光學膜10切割為所期望之大小之情形時,光學膜之大小並無特別限制,可根據影像顯示裝置之顯示面之大小而適當決定。具體而言,光學膜10之大小例如亦可成為2.8英吋以上且500英吋以下。本說明書中所謂「英吋」,於光學膜為四邊形狀之情形時係指對角線之長度,於為圓形狀之情形時係指直徑,於橢圓形狀之情形時係指短徑與長徑之和之平均值。此處,於光學膜為四邊形狀之情形時,關於求出上述英吋時之光學膜之縱橫比,只要作為影像顯示裝置之顯示畫面無問題,則無特別限定。例如可列舉縱:橫=1:1、4:3、16:10、16:9、2:1等。但是,尤其於設計性豐富之車載用途或數位標牌中,並不限定於此種縱橫比。另外,於光學膜10之大小較大之情形時,自任意之位置以A5尺寸(148mm×210mm)切出後,以各測定項目之大小切出。
<<<透光性基材>>>
作為透光性基材11,為具有透光性之基材。作為透光性基材之構成材料,並無特別限定,例如可列舉:聚酯系樹脂、乙醯纖維素系樹脂、環烯烴聚合物系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚伸苯硫醚系樹脂等透光性樹脂或該等之混合物。於該等中,較佳為乙醯纖維素 系樹脂、環烯烴聚合物系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂,進而於該等中,就高透明性等方面而言,較佳為乙醯纖維素系樹脂,尤佳為三乙醯纖維素系樹脂,另外,就可撓性之方面而言,更佳為聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂。透光性基材亦可視需要添加塑化劑、紫外線吸收劑、易滑劑等各種添加劑。
作為聚酯系樹脂,例如可列舉以聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丙二酯(PEN)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯之至少一種作為構成成分之樹脂等。於使用聚酯系樹脂之情形時,已知具有當照射紫外光時被激發而發出螢光之性質。此種螢光有對顯示面之色調產生影響之情況,但於光學膜10中,如上所述,波長380nm以下之光大致遮蔽,因此即便將聚酯系樹脂用於透光性基材11,亦可較佳地防止產生螢光。
作為乙醯纖維素系樹脂,例如可列舉三乙醯纖維素系樹脂、二乙醯纖維素系樹脂。三乙醯纖維素系樹脂係於可見光區域380~780nm能夠使平均透光率為50%以上之樹脂。三乙醯纖維素系樹脂之平均透光率較佳為70%以上,進而較佳為85%以上。
此外,作為三乙醯纖維素系樹脂,除純粹之三乙醯纖維素以外,亦可為亦併用有乙酸以外之成分作為與如乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素之纖維素形成酯之脂肪酸者。另外,於該等三乙醯纖維素中亦可視需要添加二乙醯纖維素等其他纖維素低級脂肪酸酯。
作為環烯烴聚合物系樹脂,例如可列舉降莰烯系單體及單環環烯烴單體等之聚合物。作為環烯烴聚合物系基材之市售品,例如可列舉:Nippon ZEON股份有限公司製造之Zeonex或Zeonor(降莰烯系樹脂)、住友電木股份有限公司製造之Sumilite FS-1700、JSR股份有限公司製造之Arton(改質降莰烯系樹脂)、三井化學股份有限公司製造之Apel(環狀烯烴共聚物)、Ticona公司製造之Topas(環狀烯烴共聚物)、日立化成股份有限公司製造之Optorez OZ-1000 系列(脂環式丙烯酸樹脂)等。
作為聚碳酸酯系樹脂,例如可列舉:以雙酚類(雙酚A等)為基礎之芳香族聚碳酸酯、二乙二醇雙(烯丙基碳酸酯)等脂肪族聚碳酸酯等。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂,例如可列舉:聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物等。
作為聚醯亞胺系樹脂,例如可列舉具有下述式所表示之結構之化合物。下述式中,n為重複單位,表示2以上之整數。
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聚醯胺系樹脂之概念不僅包含脂肪族聚醯胺,而且亦包含芳香族聚醯胺(芳醯胺)。作為聚醯胺系樹脂,一般為具有下述式(18)及(19)所表 示之骨架者,作為上述聚醯胺系樹脂,例如可列舉下述式(20)所表示之化合物。此外,下述式中,n為重複單位,表示2以上之整數。
Figure 107103271-A0202-12-0019-19
Figure 107103271-A0202-12-0019-20
Figure 107103271-A0202-12-0019-21
由上述式(1)~(17)及(20)所表示之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂所構成之基材亦可使用市售者。作為由上述聚醯亞胺系樹脂所構成之基材之市售品,例如可列舉Mitsubishi Gas Chemical公司製造之Neopulim等,作為由上述聚醯胺系樹脂所構成之基材之市售品,例如可列舉Toray公司製造之Mictron等。
透光性基材11之厚度並無特別限定,較佳為250μm以下。若透光性基材11之厚度為250μm以下,則可確保光學膜之可撓性,並且可實現薄型化。就提高光學膜10之機械強度之觀點而言,透光性基材11之厚度之下限較佳為10μm以上。透光性基材11之厚度之上限更佳為125μm以下,進而較佳為115μm以下,最佳為100μm以下。透光性基材之厚度可藉由如下方式而求出,即,使用 掃描式電子顯微鏡(SEM)拍攝透光性基材之剖面,於該剖面之影像中,測定20個部位之透光性基材之厚度,求出該20個部位之厚度之算術平均值。此外,藉由掃描式電子顯微鏡之拍攝設為於適於透光性基材之厚度之倍率下使透光性基材與透光性功能層之界面線明確後進行。具體而言,例如以於透光性基材之厚度為50μm之情形時為1000倍,另外,於100μm之情形時為500倍之方式根據透光性基材之厚度而適當調整倍率。
透光性基材11亦可對表面預先實施濺鍍、電暈放電、紫外線照射、電子束照射、化學處理、氧化等蝕刻處理或底塗處理。藉由預先實施該等處理,可提高與形成於上述透光性基材上之透光性功能層等之密接性。另外,亦可於形成透光性功能層等之前,視需要藉由溶劑洗淨或超音波洗淨等而對透光性基材之表面進行除塵、淨化。
<<<透光性功能層>>>
透光性功能層12具備分光透射率調整層13及設置於分光透射率調整層之與透光性基材11側相反之側之外覆層14。此外,於圖1中,透光性功能層12係由分光透射率調整層13及外覆層14所構成,但亦可僅由分光透射率調整層13所構成。
透光性功能層12之膜厚成為9μm以下。若透光性功能層之膜厚超過9μm,則有透光性功能層因應變應力而破裂之虞。所謂「透光性功能層之膜厚」,由於可藉由顯微鏡影像之對比度差而目視觀察到透光性基材與透光性功能層之界面線,故而係指自該界面線至透光性功能層之表面之距離。於透光性功能層為單層構造之情形時,由於可藉由顯微鏡影像之對比度差而目視觀察到透光性基材與透光性功能層之界面線,故而亦可明確地測定膜厚。另一方面,於透光性功能層為多層構造之情形時,有無法明確地確認透光性功能層間之界面線之情形。此處,於透光性功能層為多層構造之情形時,所謂「透光性功能層之膜厚」,設為各透光性功能層之膜厚之合計。藉此,即便於透光性功能層為多 層構造,且無法明確地確認透光性功能層間之界面線之情形時,亦可測定透光性功能層之膜厚。關於透光性功能層12之膜厚之下限,就進一步確保透光性功能層之膜厚之均勻性之觀點而言,較佳為0.5μm以上、1μm以上、1.5μm以上、2μm以上、2.5μm以上、3μm以上,透光性功能層12之膜厚之上限更佳為8μm以下、7μm以下、6μm以下(數值越小越佳)。透光性功能層之膜厚可藉由如下方式而求出,即,使用掃描式電子顯微鏡(SEM)對透光性功能層之剖面進行拍攝,於該等剖面之影像中測定20個部位之透光性功能層之膜厚,求出該20個部位之膜厚之算術平均值。
具體之剖面照片之拍攝方法如以下所述。首先,製作將以1mm×10mm切出之光學膜利用包埋樹脂包埋而成之塊體,藉由一般之切片製作方法,自該塊體切出無孔等之均勻之厚度70nm~300nm左右之切片。切片之製作係使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)等。繼而,將切去該無孔等之均勻之切片後之剩餘之塊體作為測定樣品。其後,使用掃描式電子顯微鏡(SEM)(製品名「S-4800」,日立高新技術公司股份有限公司製造)而拍攝測定樣品之剖面照片。於使用上述S-4800拍攝剖面照片時,將檢測器設為「SE」,將加速電壓設為「3kV」,將發射電流設為「10μA」而進行剖面觀察。關於倍率,一面調節焦距並以對比度及亮度辨別或觀察各層,一面於100~10萬倍下、較佳為對應於透光性功能層之膜厚而於1000倍~1萬倍下適當調節。此外,為了減少膜厚之測定顫動,建議儘量於低倍率下測定透光性功能層之膜厚。例如於透光性功能層之膜厚為9μm左右之情形時,較佳為倍率2000倍,於為5μm左右之情形時,較佳為倍率2000~5000倍。進而,將光圈設為「束偵測光圈1」,將物鏡光圈設為「2」,另外,將W.D.設為「8mm」。
<<分光透射率調整層>>
分光透射率調整層13係含有樹脂及分光透射率調整劑之層。此外,分光透 射率調整層13除含有樹脂及分光透射率調整劑以外,亦可含有無機粒子、調平劑及自由基聚合起始劑或陽離子聚合起始劑等聚合起始劑或其殘渣。
分光透射率調整層13之膜厚較佳為9μm以下。若分光透射率調整層之膜厚超過9μm,則有分光透射率調整層因應變應力而破裂之虞。分光透射率調整層13之膜厚可藉由與透光性功能層12之膜厚相同之方法而求出。分光透射率調整層13之膜厚之下限更佳為0.5μm以上、1μm以上、1.5μm以上、2μm以上、2.5μm以上、3μm,分光透射率調整層13之膜厚之上限更佳為8μm以下、7μm以下、6μm以下、5μm以下(數值越小越佳)。
分光透射率調整層13之藉由奈米壓痕法所獲得之硬度(壓痕硬度)較佳為120MPa以上。若分光透射率調整層13之壓痕硬度為120MPa以上,則可抑制面內之厚度不均,此外,可抑制因光學膜之操作時之摩擦而產生損傷。本說明書中,所謂「壓痕硬度」係指藉由利用奈米壓痕法之硬度測定,將壓頭以最大壓入荷重300μN壓入時之硬度。分光透射率調整層13之壓痕硬度之下限較佳為200MPa以上。就可撓性之觀點而言,分光透射率調整層13之壓痕硬度之上限較佳為400MPa以下且300MPa以下(數值越小越佳)。此外,若層過度柔軟,則無法測定壓痕硬度,因此有黏著層無法測定壓痕硬度之情況。
壓痕硬度之測定設為使用HYSITRON(海思創)公司製造之「TI950 TriboIndenter」進行者。具體而言,首先,製作將以1mm×10mm切出之光學膜利用包埋樹脂包埋而成之塊體,製作適於利用奈米壓痕法之硬度測定之測定用樣品。測定用樣品之製作可使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)等。繼而,於如圖1所示般透光性功能層為多層構造之情形時,例如藉由掃描式電子顯微鏡(SEM)對此種測定樣品之剖面進行觀察,確認是否明確地觀察到分光透射率調整層與外覆層之界面線。此外,於透光性功能層為單層構造之情形時,可省略此種藉由SEM進行之觀察。繼而, 以測定樣品之壓入壓頭之面變得與平台之載置面平行之方式將測定樣品固定於HYSITRON(海思創)公司製造之TI950 TriboIndenter之平台。繼而,於在藉由SEM進行之觀察中明確地觀察到分光透射率調整層與外覆層之界面線之情形時,於分光透射率調整層之中央之平坦部分,另外,於未明確地觀察到分光透射率調整層與外覆層之界面線之情形時,於透光性功能層之中央之平坦部分,藉由荷重控制方式,以最大壓入荷重成為300μN之方式將三角錐型壓頭以10nm/s之速度壓入至測定位置,其後,於最大荷重下保持5秒後,以相同之速度進行卸載。繼而,連續地測定與此時之壓入荷重F(μN)對應之壓入深度h(nm),製作荷重-位移曲線,根據所製作之荷重-位移曲線,可藉由將最大壓入荷重Fmax(N)除以壓頭與分光透射率調整層接觸之投影面積Ap(mm2)所獲得之值而求出。上述Ap設為藉由裝置標準之方法修正壓頭前端曲率後之接觸投影面積。此外,壓痕硬度設為測定10個部位所獲得之值之算術平均值。
<樹脂>
作為分光透射率調整層13中所含之樹脂,為包含游離輻射聚合性化合物之聚合物者。樹脂除包含游離輻射聚合性化合物之聚合物以外,亦可包含溶劑乾燥型樹脂或熱硬化性化合物。
(游離輻射聚合性化合物)
游離輻射聚合性化合物係具有至少一個游離輻射聚合性官能基者。本說明書中所謂「游離輻射聚合性官能基」係指可藉由游離輻射照射而進行聚合反應之官能基。作為游離輻射聚合性官能基,例如可列舉:(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和基。此外,本說明書中所謂「(甲基)丙烯醯基」係包含「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」之兩者之含義。另外,作為使游離輻射聚合性化合物聚合時所照射之游離輻射,可列舉:可見光線、紫外線、X射線、電子束、α射線、β射線、及γ射線。
作為具有1個乙烯性不飽和基之游離輻射聚合性化合物,例如可列舉:(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮等。作為具有2個以上乙烯性不飽和基之游離輻射聚合性化合物,例如可列舉:羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物、或上述多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等之反應產物(例如多元醇之聚(甲基)丙烯酸酯酯)等。
除上述化合物以外,具有乙烯性不飽和基之相對較低分子量之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺酯(urethane)樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂等亦可用作上述游離輻射聚合性化合物。
作為游離輻射聚合性化合物,可適當製備游離輻射聚合性單體、游離輻射聚合性低聚物、及/或游離輻射聚合性預聚物而使用。作為游離輻射聚合性化合物,就光學膜獲得優異之摺疊性之觀點而言,較佳為至少使用游離輻射聚合性預聚物。作為游離輻射聚合性預聚物,例如可列舉丙烯酸樹脂等。
(溶劑乾燥型樹脂)
溶劑乾燥型樹脂係如熱塑性樹脂等僅使於塗敷時為了調整固形物成分而添加之溶劑乾燥而成為被膜之樹脂。藉由併用溶劑乾燥型樹脂,可有效地防止塗佈面之被膜缺陷。作為可與上述游離輻射聚合性化合物併用而使用之溶劑乾燥型樹脂,並無特別限定,一般可使用熱塑性樹脂。
作為上述熱塑性樹脂,並無特別限定,例如可列舉:苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍 生物、聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。
上述熱塑性樹脂較佳為非晶且可溶於有機溶劑(尤其是能夠溶解複數種聚合物或聚合性化合物之共通溶劑)。尤其就製膜性、透明性或耐候性之觀點而言,較佳為苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。
(熱硬化性化合物)
作為熱硬化性化合物,並無特別限定,例如可列舉:酚樹脂、脲樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺脲縮聚樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
<分光透射率調整劑>
分光透射率調整劑係調整光學膜10之分光透射率者。於使分光透射率調整層13中含有例如下述通式(21)所表示之芝麻酚型苯并三唑系單體、2-[2-羥基-3,5-雙(α,α-二甲基苄基)苯基]-2H-苯并三唑(製品名「Tinuvin234」,BASF公司製造)、2-(5-氯-2-苯并三唑基)-6-三級丁基對甲酚(製品名「Tinuvin326」,BASF公司製造)等紫外線吸收劑、或染料或顏料等色素材料之情形時,可較佳地滿足上述分光透射率。於該等中,就分光光譜之上述斜率較大,可更選擇性地遮蔽藍光,藉此可同時實現藍光之遮蔽及YI值之上升之抑制之方面而言,較佳為下述通式(21)所表示之芝麻酚型苯并三唑系單體。作為紫外線吸收劑,除可使用苯并三唑型以外,亦可使用二苯甲酮型或三
Figure 107103271-A0202-12-0025-43
型等紫外線吸收劑。作為色素材料,例如亦可使用Orient Chemical Industries股份有限公司製造之BONASORB UA-3911、UA-3912等吲哚系材料或Orient Chemical Industries股份有限公司製造之BONASORB UA-3701等甲亞胺系材料、BASF公司製造之L μmogen F Violet570、Tinuvin Carboprotect等。
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式中,R1表示氫原子或甲基。R2表示碳數1~6之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基(alkylene group)或碳數1~6之直鏈狀或支鏈狀之氧伸烷基。
作為上述芝麻酚型苯并三唑系單體,並無特別限制,作為具體之物質名,可列舉:甲基丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]乙酯、丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]乙酯、甲基丙烯酸3-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]丙酯、丙烯酸3-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]丙酯、甲基丙烯酸4-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]丁酯、丙烯酸4-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]丁酯、甲基丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基氧基]乙酯、丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基氧基]乙酯、甲基丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基}丙醯氧基]乙酯、丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基}丙醯氧基]乙酯、甲基丙烯酸4-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基}丙醯氧基]丁酯、丙烯酸4-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基}丙醯氧基]丁酯、甲基丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基}丙醯氧基]乙酯、丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3] 二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基}丙醯氧基]乙酯、2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-羧酸2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯、2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-羧酸2-(丙烯醯氧基)乙酯、2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-羧酸4-(甲基丙烯醯氧基)丁酯、2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-羧酸4-(丙烯醯氧基)丁酯等。另外,該等芝麻酚型苯并三唑系單體可使用1種,亦可使用2種以上。
於透光性功能層是否存在分光透射率調整劑亦可藉由例如紅外光譜法或拉曼光譜法、熱分解氣相層析質譜法、液相層析質譜法、X射線光電子光譜法、TOF-SIMS等分析法進行確認。
上述分光透射率調整劑只要為滿足上述分光透射率之必要條件之態樣,則可以任意狀態含有於分光透射率調整層13中。具體而言,例如可使1個透光性功能層含有上述分光透射率調整劑,而滿足上述分光透射率之必要條件,另外,亦可使複數層分擔滿足上述分光透射率之必要條件之功能。
作為使複數層分擔滿足上述分光透射率之必要條件之功能之構成,例如於分光透射率調整層由第1分光透射率調整層及第2分光透射率調整層之2層所構成之情形時,可列舉如下構成等,即,於第1分光透射率調整層中以僅可達成於波長380nm之分光透射率之方式含有上述分光透射率調整劑,並且於第2分光透射率調整層中以可達成於波長410nm及波長440nm之分光透射率之條件之方式含有上述分光透射率調整劑。進而,亦可上述分光透射率調整層由3層以上構成,於各分光透射率調整層中以滿足上述分光透射率之必要條件之方式含有上述分光透射率調整劑。
上述分光透射率調整劑例如亦可於分光透射率調整層13中以0.05質量%以上且50質量%以下含有。藉由於此種範圍內含有分光透射率調整 劑,可滿足上述分光透射率。
上述分光透射率調整劑可於分光透射率調整層13中與構成分光透射率調整層13之樹脂進行反應而一體地含有,亦可不與構成分光透射率調整層13之樹脂反應而單獨地含有。
作為與構成分光透射率調整層13之樹脂進行反應而一體地含有分光透射率調整劑之分光透射率調整層13,具體而言,例如可列舉使用如下透光性功能層用組成物所形成者等,該透光性功能層用組成物含有90質量份之如下之聚合物及10質量份之PETA,該聚合物係將作為上述分光透射率調整劑之芝麻酚型苯并三唑系單體設為A,將甲基丙烯酸甲酯(MMA)設為B,將其他紫外線吸收劑等(例如大塚化學製造之「RUVA93」或Shipro Kasei製造之「SEESORB R18」等)設為C時,該等A、B、C於丙烯酸或丙烯酸酯聚合物內反應鍵結,將A之摻合比設為X質量份時,X為10~55質量份。具有如此獲得之分光透射率調整層13之光學膜10可滿足上述分光透射率,成為藍光之遮蔽性能優異者。
分光透射率調整層13例如可藉由如下方式而形成,即,將含有游離輻射聚合性化合物及分光透射率調整劑之分光透射率調整層用組成物塗佈於透光性基材11之一面11A側使其乾燥,藉由照射游離輻射而其硬化。
<分光透射率調整層用組成物>
分光透射率調整層用組成物除含有游離輻射聚合性化合物及分光透射率調整劑以外,亦可含有溶劑乾燥型樹脂、熱硬化性化合物、聚合起始劑、溶劑等。
(聚合起始劑)
作為聚合起始劑,並無特別限定,可使用公知者,例如作為聚合起始劑,具體例可列舉:苯乙酮類、二苯甲酮類、米其勒苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、9-氧硫
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類、苯丙酮類、二苯乙二酮類、安息香類、醯基氧化膦類。另外,較佳為混合光敏劑而使用,作為其具體例,例如可列舉:正丁胺、三乙 胺、聚正丁基膦等。
作為聚合起始劑,於上述游離輻射聚合性化合物具有自由基聚合性官能基之情形時,較佳為將苯乙酮類、二苯甲酮類、9-氧硫
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類、安息香、安息香甲醚等自由基聚合起始劑單獨使用或混合使用。於自由基聚合起始劑中,就抑制因紫外線吸收性能所引起之硬化阻礙之方面而言,更佳為2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦(例如IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad TPO)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦(例如IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad819)、1-羥基環己基苯基酮(例如IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad184)、或該等之混合物等。
另外,於上述游離輻射聚合性化合物具有陽離子聚合性官能基之情形時,作為聚合起始劑,較佳為將芳香族重氮鎓鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等陽離子聚合起始劑單獨使用或以混合物的形式使用。於陽離子聚合起始劑中,就硬化性優異之方面而言,更佳為芳香族鋶鹽等。
分光透射率調整層用組成物中之上述聚合起始劑之含量相對於上述游離輻射硬化型樹脂100質量份,較佳為1質量份以上且10質量份以下。若未達1質量份,則有分光透射率調整層之硬度變得不充分之情況,若超過10質量份,則有游離輻射無法到達塗設之膜之深部而無法促進內部硬化,無法獲得目標之光學膜之表面之硬度(例如以下述之鉛筆硬度計為B以上)之虞。
上述光聚合起始劑之含量之下限更佳為2質量份以上,上限更佳為8質量份以下。藉由上述光聚合起始劑之含量處於該範圍,不會於膜厚方向上產生硬度分佈,硬度容易變得均勻。
(溶劑)
作為溶劑,可對應於所使用之游離輻射聚合性化合物之種類及溶解性而選 擇性地使用,例如可例示:酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、二丙酮醇等)、醚類(二
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烷、四氫呋喃、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化碳類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇類(乙醇、異丙醇、丁醇、環己醇等)、賽路蘇類(甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等)、乙酸賽路蘇類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等,亦可為該等之混合溶劑。
作為分光透射率調整層用組成物中之原料之含有比率(固形物成分),並無特別限定,較佳為5質量%以上且70質量%以下,更佳為15質量%以上且60質量%以下。
於分光透射率調整層用組成物中,亦可對應於提高硬度、抑制硬化收縮、控制折射率及/或賦予防眩性等目的,而添加先前公知之分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、防著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、難燃劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、易滑劑等。
分光透射率調整層用組成物亦可混合光敏劑而使用,作為其具體例,例如可列舉正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
作為分光透射率調整層用組成物之製備方法,只要可均勻地混合各成分,則無特別限定,例如可使用塗料振盪機、珠磨機、捏合機、混合機等公知裝置進行。
作為將分光透射率調整層用組成物塗佈於透光性基材11上之方法,並無特別限定,例如可列舉:旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模嘴塗佈(die coat)法、棒式塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式(meniscus)塗佈法、軟版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈(bead coater)法等公知方法。
作為分光透射率調整層用組成物之硬化所使用之游離輻射源,較佳為主要於190~450nm之波長區域具有發光波峰者。作為游離輻射源,例如可列舉:超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光燈螢光燈、金屬鹵化物燈等光源。
<<外覆層>>
外覆層14係具有對光學膜10之表面10A賦予硬塗性之功能之層。所謂「硬塗性」係指於鉛筆硬度試驗中賦予「B」以上之硬度之性質。鉛筆硬度試驗設為藉由如下方式而進行者,即,對以50mm×100mm之大小切出之光學膜之外覆層之表面,使用鉛筆硬度試驗機(製品名「鉛筆刮痕塗膜硬度試驗機(電動式)」,東洋精機製作所股份有限公司製造),一面對鉛筆(製品名「Uni」,三菱鉛筆股份有限公司製造)施加2.94N之荷重一面使鉛筆以1mm/秒之移動速度移動。鉛筆硬度設為於鉛筆硬度試驗中未於光學膜之外覆層之表面產生損傷之最高硬度。此外,於鉛筆硬度之測定時,使用複數根硬度不同之鉛筆而進行,每1根鉛筆進行5次鉛筆硬度試驗,於5次中4次以上未對外覆層之表面造成損傷之情形時,判斷該硬度之鉛筆未對外覆層之表面造成損傷。上述損傷係指於螢光燈下對進行過鉛筆硬度試驗之外覆層之表面進行透射觀察而視認到者。
外覆層14之膜厚較佳為1μm以上且未達9μm。若外覆層之膜厚未達1μm,則有無法獲得所期望之硬度之虞,另外,若外覆層之膜厚成為9μm以上,則有外覆層因應變應力而破裂之虞。外覆層14之膜厚可藉由與分光透射率調整層13相同之方法而求出。
外覆層14可由樹脂構成。作為外覆層14中所含之樹脂,為含有游離輻射聚合性化合物之聚合物者。樹脂除含有游離輻射聚合性化合物之聚合物以外,亦可含有溶劑乾燥型樹脂或熱硬化性化合物。
作為構成外覆層14之游離輻射聚合性化合物,可列舉游離輻射聚 合性單體、游離輻射聚合性低聚物、或游離輻射聚合性預聚物,可將該等適當調整而使用。作為游離輻射聚合性化合物,較佳為游離輻射聚合性單體與游離輻射聚合性低聚物或游離輻射聚合性預聚物之組合。
作為游離輻射聚合性單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等含有羥基之單體、或乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亞甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甘油酯等(甲基)丙烯酸酯類。
作為游離輻射聚合性低聚物,較佳為2官能以上之多官能低聚物,較佳為游離輻射聚合性官能基為3個(3官能)以上之多官能低聚物。作為上述多官能低聚物,例如可列舉:聚酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺酯、聚酯-(甲基)丙烯酸胺酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、三聚異氰酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
游離輻射聚合性預聚物係重量平均分子量超過1萬者,作為重量平均分子量,較佳為1萬以上且8萬以下,更佳為1萬以上且4萬以下。於重量平均分子量超過8萬之情形時,由於黏度較高,故而塗敷適性降低,有所獲得之透光性樹脂之外觀劣化之虞。作為多官能預聚物,可列舉:(甲基)丙烯酸胺酯、三聚異氰酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-(甲基)丙烯酸胺酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
外覆層14例如可藉由如下方式而形成,即,將含有游離輻射聚合 性化合物之外覆層用組成物塗佈於分光透射率調整層上並使其乾燥,藉由照射游離輻射而使其硬化。
<外覆層用組成物>
外覆層用組成物除含有游離輻射聚合性化合物以外,亦可含有溶劑乾燥型樹脂、熱硬化性化合物、聚合起始劑、溶劑等。溶劑乾燥型樹脂、熱硬化性化合物、聚合起始劑、溶劑等係與對於上述分光透射率調整層用組成物所說明之溶劑乾燥型樹脂、熱硬化性化合物、聚合起始劑、溶劑等相同,因此此處省略說明。
圖1所示之透光性功能層12成為分光透射率調整層13與外覆層14之2層構造,但透光性功能層亦可具備分光透射率調整層、外覆層、設置於外覆層之與透光性基材側之面為相反側之面之防污層等其他透光性功能層。另外,於透光性功能層不具備外覆層之情形時,透光性功能層亦可具備分光透射率調整層、及設置於分光透射率調整層之與透光性基材側之面為相反側之面之防污層等其他透光性功能層。於該等情形時,分光透射率調整層或外覆層係與分光透射率調整層13或外覆層14相同者。防污層係承擔如下作用之層,即,使得不易於使用光學膜之影像顯示裝置之最表面附著污漬(指紋、水性或油性墨水類、鉛筆等),或即便於附著之情形時亦可容易地擦掉。另外,藉由形成上述防污層,亦可實現對光學膜之防污性及耐擦傷性之改善。
上述防污層例如含有防污劑及樹脂。上述防污劑係以防止光學膜之最表面之污漬為主要目的者,亦可對光學膜賦予耐擦傷性。
作為上述防污劑,例如可列舉氟系化合物、矽系化合物、或該等之混合化合物。更具體而言,可列舉2-全氟辛基乙基三胺基矽烷等具有氟烷基之矽烷偶合劑等,尤其可較佳地使用具有胺基者。作為上述樹脂,並無特別限定,可列舉上述分光透射率調整層13之欄中所說明之樹脂。
防污層較佳為以防污層成為最表面之方式形成。上述防污層例如亦可藉由對分光透射率調整層自身賦予防污性能而代替。
<<<其他光學膜>>>
如圖3所示,光學膜亦可為具備透光性基材11、與設置於透光性基材11之一面側之透光性功能層21的光學膜20。藉由使透光性功能層21之表面21A成為凹凸面,例如可對光學膜20賦予防眩性及/或耐黏連性(blocking resistance)。光學膜20中之透光性基材11係與光學膜10之欄中所說明之透光性基材11相同者,因此省略說明。
光學膜20之物性與光學膜10相同。因此,於光學膜20中,於波長380nm之分光透射率亦未達1%,於波長410nm之分光透射率亦為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率亦為70%以上。
<<透光性功能層>>
透光性功能層21係具有調整光學膜20之分光透射率之功能並且具有防眩功能之層。透光性功能層21之分光透射率調整功能可藉由使之含有上述分光透射率調整劑而發揮。另外,透光性功能層21之防眩功能可藉由將表面21A設為凹凸面而發揮。例如可藉由使之含有防眩劑而使表面21為凹凸面。作為防眩劑,並無特別限定,可使用公知之無機系或有機系之各種粒子。
作為上述粒子,可為球形粒子及異形粒子之任一者。本說明書中所謂「球形粒子」係指例如真球狀、橢圓球狀等之粒子,所謂「異形粒子」係指於表面具有馬鈴薯狀之無規之凹凸之形狀之粒子。於上述粒子為球形粒子之情形時,較佳為真球狀者。
作為上述粒子之平均粒徑,並無特別限定,一般而言設為0.01μm以上且20μm以下即可。上述粒子之平均粒徑係使用掃描式電子顯微鏡(SEM)、透射式電子顯微鏡(TEM)或掃描透射式電子顯微鏡(STEM)拍攝粒子之剖面 之影像,由該影像測定20個粒子之粒徑,設為20個粒子之粒徑之算術平均值。其中,於粒子為異形粒子之情形時,各粒子之粒徑設為於剖面中最長徑與最短徑之平均值。
上述粒子係發揮防眩性者,較佳為透明性粒子。作為此種微粒子之具體例,若為無機系,則例如可列舉二氧化矽珠粒,若為有機系,則例如可列舉塑膠珠粒。
作為上述塑膠珠粒之具體例,例如可列舉苯乙烯珠粒(折射率1.60)、三聚氰胺珠粒(折射率1.57)、丙烯酸珠粒(折射率1.49)、丙烯酸-苯乙烯珠粒(折射率1.54)、聚碳酸酯珠粒、聚乙烯珠粒等。
於透光性功能層21中,於將表面21A之凹凸之平均間隔設為Sm,將凹凸部之平均傾斜角設為θa,將凹凸之算術平均粗糙度設為Ra,將凹凸之十點平均粗糙度設為Rz之情形時,就藉由僅使映入影像之邊緣部分無法清晰地觀察到而確保防眩性,且藉由消除較大之漫散而防止產生雜散光並且適度地具有正透射部分而獲得影像具有亮度且明室及暗室中之對比度優異的光學膜之觀點而言,較佳為滿足下述式(A-1)~(A-4)。若Sm未達下述式(A-1)之下限,則有難以控制凝聚之虞,另外,若Sm超出下述式(A-1)之上限,則有產生無法再現影像之精細度而影像不夠細緻等不良情況之虞。另外,若θa、Ra、Rz未達下述式(A-2)~(A-4)之下限,則有無法抑制外界光之映入之情況。另外,若θa、Ra、Rz超出下述式(A-2)~(A-4)之上限,則有因正透射成分之減少而導致影像之亮度減少,或因外界光之漫散反射之增加所致之明室對比度之降低,或因來自透射影像光之雜散光增加而導致暗室對比度降低之虞。
50μm<Sm<600μm...(A-1)
0.1°<θa<1.5°...(A-2)
0.02μm<Ra<0.30μm...(A-3)
0.30μm<Rz<2.00μm...(A-4)
就上述觀點而言,透光性功能層21之表面21A更佳為滿足下述式(B-1)~(B-4)。
100μm<Sm<400μm...(B-1)
0.1°<θa<1.2°...(B-2)
0.02μm<Ra<0.15μm...(B-3)
0.30μm<Rz<1.20μm...(B-4)
透光性功能層21之表面21A進而較佳為滿足下述式(C-1)~(C-4)。
120μm<Sm<300μm...(C-1)
0.1°<θa<0.5°...(C-2)
0.02μm<Ra<0.12μm...(C-3)
0.30μm<Rz<0.80μm...(C-4)
於本說明書中,上述Sm、Ra及Rz係藉由依據JIS B0601:1994之方法而獲得之值,θa係藉由作為表面粗糙度測定器之SE-3400(小阪研究所股份有限公司製造)之操作說明書(1995.07.20修訂)所記載之定義而獲得之值,如圖4所示,由存在於基準長度L之凸部高度之和(h1+h2+h3+‧‧‧+hn)之反正切θa=tan-1{(h1+h2+h3+‧‧‧+hn)/L}求出。此種Sm、θa、Ra、Rz係例如使用表面粗糙度測定器(製品名「SE-3400」,小阪研究所股份有限公司製造),於透光性功能層21之表面21A,隨機地選擇3處至少目視無異常之部位(無較大之異物或擦傷等之部位),設為於該等部位所測得之值之算術平均值。該情形時之測定條件與光學膜10之表面10A之Ra之測定條件相同。另外,Ra亦可與光學膜10之表面10A之Ra同樣地使用原子力顯微鏡(製品名「WET-9100」,島津製作所製造)進行測定。
於透光性功能層21具有耐黏連性之情形時,透光性功能層21例如較佳為含有抗黏連劑。作為抗黏連劑,例如可列舉:氧化鋁、氧化鎂、二氧化矽、氧化鈣、氧化鈦、氧化鋅等氧化物、氫氧化鋁、氫氧化鎂、氫氧化鈣等氫氧化物、碳酸鎂、碳酸鈣等碳酸鹽、硫酸鈣、硫酸鋇等硫酸鹽、矽酸鎂、矽酸鋁、矽酸鈣、鋁矽酸等矽酸鹽,此外可列舉:高嶺土、滑石、矽藻土等無機化合物系之1種或2種以上。
無機化合物系抗黏連劑之平均粒徑較佳為0.01μm以上且20μm以下。若抗黏連劑之平均粒徑未達0.01μm,則透光性功能層之表面之凹凸形狀較小,難以獲得抗黏連效果,另外,若平均粒徑超過20μm,則透光性功能層表面之凹凸變得過大,有光學膜彼此摩擦時產生傷痕等之情況。
作為抗黏連劑,例如亦可為將由高密度聚乙烯、分子量300000以上之超高分子聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚醯胺、聚酯、三聚氰胺樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、丙烯酸系樹脂、其他等微粉末等所構成之有機化合物系作為原料之1種或2種以上者。
抗黏連劑之含量相對於構成透光性功能層之樹脂100質量份,較佳為0.01質量份以上且6質量份以下,更佳為2質量份以上且5質量份以下。若抗黏連劑之含量未達0.01質量份,則有透光性功能層之表面之凹凸形狀之形成變得不充分,耐黏連性變得不充分之情況,另外,若超過6質量份,則有透光性功能層之透明性降低之情況。
<<<其他光學膜>>>
如圖5所示,光學膜亦可為具備透光性基材11、與設置於透光性基材11之一面側之透光性功能層31的光學膜30。透光性功能層31具備分光透射率調整層32及設置於分光透射率調整層32之與透光性基材11側相反之側之積層構造之複數個蒸鍍層33。藉由具備複數個蒸鍍層33,可更佳地滿足上述分光透射率之必要 條件。
光學膜30之物性與光學膜10相同。因此,於光學膜30中,於波長380nm之分光透射率亦未達1%,於波長410nm之分光透射率亦為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率亦為70%以上。
<<分光透射率調整層>>
分光透射率調整層32與分光透射率調整層13相同,因此此處省略說明。
<<蒸鍍層>>
作為蒸鍍層33,例如較佳為矽(Si)、鋁(Al)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鉀(K)、錫(Sn)、鈉(Na)、硼(B)、鈦(Ti)、鉛(Pb)、鋯(Zr)、釔(Y)、鈮(Nb)等無機物或無機氧化物之蒸鍍層。其中,較佳為由矽(Si)及鈮(Nb)所構成之蒸鍍層。
作為蒸鍍層33,較佳為藉由濺鍍法所形成之層。藉由上述蒸鍍層為藉由濺鍍法所形成之層,於進行多層薄膜蒸鍍時,可進行更精密之膜厚控制。
蒸鍍層33之膜厚較佳為3nm以上且150nm以下且積層5層以上且20層以下。藉由於分光透射率調整層32上具有此種蒸鍍層33,光學膜30可防止由蒸鍍層33所引起之著色,更佳地滿足上述分光透射率之必要條件。蒸鍍層之各膜厚係使用掃描式電子顯微鏡(SEM)、透射式電子顯微鏡(TEM)或掃描透射式電子顯微鏡(STEM)拍攝蒸鍍層之剖面,於該剖面之影像中測定20個部位之蒸鍍層之膜厚,設為該20部位之膜厚之算術平均值。
於藉由TEM或STEM拍攝蒸鍍層之剖面之情形時,將具體之剖面照片之拍攝方法記載於以下。首先,製作將以1mm×10mm之大小切出之光學膜利用包埋樹脂包埋而成之塊體,藉由一般之切片製作方法,自該塊體切出無孔等之均勻之厚度70nm以上且100nm以下之切片。切片之製作可使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)等。繼而,將該無孔等之均勻 之切片作為測定樣品。其後,使用掃描透射式電子顯微鏡(STEM)(製品名「S-4800」,日立高新技術股份有限公司製造),對測定樣品之剖面照片進行拍攝。於使用上述S-4800拍攝剖面照片時,將檢測器設為「TE」,將加速電壓設為「30kV」,將發射電流設為「10μA」而進行剖面觀察。關於倍率,一面調節焦距並以對比度及亮度辨別或觀察各層,一面於5000倍~20萬倍下適當調節。較佳之倍率為1萬倍~10萬倍,進而較佳之倍率為1萬倍~5萬倍,最佳之倍率為2.5萬倍~5萬倍。此外,於使用上述S-4800拍攝剖面照片時,亦可進而將光圈設為「束偵測光圈3」,將物鏡光圈設為「3」,另外,將W.D.設為「8mm」。另外,若實施四氧化鋨、四氧化釕、磷鎢酸等染色處理,則容易看到層間之界面線,因此亦可進行染色處理。
<<<其他光學膜>>>
如圖6所示,光學膜亦可為具備透光性基材11、與設置於透光性基材11之一面側之透光性功能層41的光學膜40。透光性功能層41較佳為進而包含分光透射率調整層42、及設置於分光透射率調整層42之與透光性基材11側相反之側之折射率互不相同之複數個不可見化層43。光學膜40較佳地用於搭載有觸控面板之影像顯示裝置,藉由具有不可見化層43,可防止於顯示面觀察到由ITO等無機透明導電材料所構成之感測器電極(透明電極層)。
光學膜40之物性與光學膜10相同。因此,於光學膜40中,於波長380nm之分光透射率亦未達1%,於波長410nm之分光透射率亦為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率亦為70%以上。
<<分光透射率調整層>>
分光透射率調整層42與分光透射率調整層13相同,因此此處省略說明。
<<不可見化層>>
作為不可見化層43,並無特別限定,可列舉作為不可見化層先前公知者, 例如較佳為包含具有高於無機透明導電材料之折射率之高折射率層43A與折射率低於高折射率層43A之低折射率層43B之積層構造。此外,不可見化層43亦可設置於透光性基材11之兩面側。
<高折射率層>
高折射率層43A之折射率較佳為1.50以上且2.00以下。高折射率層43A之折射率之下限更佳為1.60以上,另外,上限更佳為1.75以下。作為測定高折射率層43A之折射率之方法,設為如下者,即,利用切割器等削除高折射率層43A,製作粉狀態之樣品,使用依照JIS K7142:2008之B法(粉體或粒狀之透明材料用)之貝克法(使用折射率已知之Cargill試劑,將上述粉狀態之樣品置於載玻片等,於該樣品上滴加試劑,將樣品浸漬於試劑中;藉由顯微鏡觀察對其情況進行觀察,將以目視無法觀察到因樣品與試劑之折射率不同而於樣品輪廓產生之明線(貝克線)之試劑之折射率設為樣品之折射率的方法)進行測定。
高折射率層43A之膜厚較佳為10nm以上且200nm以下。高折射率層43A之膜厚之下限較佳為30nm以上,上限更佳為100nm以下。高折射率層43A之膜厚設為藉由與蒸鍍層33之膜厚相同之方法而求出者。
作為高折射率層43A,只要為具有較上述無機透明導電材料之折射率高之折射率之層,則無特別限定,例如較佳為由高折射率微粒子及黏合劑樹脂構成。
作為上述高折射率微粒子,例如可列舉金屬氧化物微粒子。作為上述金屬氧化物微粒子,例如可列舉:氧化鈦(TiO2,折射率:2.3~2.7)、氧化鈮(Nb2O5,折射率:2.33)、氧化鋯(ZrO2,折射率:2.10)、氧化銻(Sb2O5,折射率:2.04)、氧化錫(SnO2,折射率:2.00)、摻錫氧化銦(ITO,折射率:1.95~2.00)、氧化鈰(CeO2,折射率:1.95)、摻鋁氧化鋅(AZO,折射率:1.90~2.00)、摻鎵氧化鋅(GZO,折射率:1.90~2.00)、銻酸鋅(ZnSb2O6,折射率: 1.90~2.00)、氧化鋅(ZnO,折射率:1.90)、氧化釔(Y2O3,折射率:1.87)、摻銻氧化錫(ATO,折射率:1.75~1.85)、摻磷氧化錫(PTO,折射率:1.75~1.85)等。於該等中,就折射率之觀點而言,較佳為氧化鋯。
作為構成高折射率層43A之黏合劑樹脂,並無特別限定,例如就提高表面硬度之觀點而言,較佳為熱硬化性樹脂或游離輻射聚合性化合物等聚合物(交聯物),於該等中,更佳為游離輻射聚合性化合物之聚合物。作為此種黏合劑樹脂,可列舉與構成上述分光透射率調整層13之樹脂成分相同者。
高折射率層43A例如可藉由與分光透射率調整層13相同之方法而形成。具體而言,例如於形成於分光透射率調整層42之與透光性基材11側之面為相反側之面之情形時,可藉由如下方式形成高折射率層43A,即,於分光透射率調整層42之表面塗佈至少含有高折射率微粒子及熱硬化性樹脂或游離輻射聚合性化合物之高折射率層用組成物而形成塗膜,並使該塗膜乾燥,其後,藉由進行加熱或照射紫外線等游離輻射而使高折射率層用組成物硬化。
<低折射率層>
低折射率層43B係具有較高折射率層43A之折射率低之折射率之層。低折射率層43B之折射率較佳為1.35以上且1.55以下。低折射率層43B之折射率之下限更佳為1.40以上,上限更佳為1.50以下。低折射率層43B之折射率設為藉由與高折射率層43A之折射率相同之方法而求出者。
低折射率層43B之膜厚較佳為1nm以上且200nm以下。低折射率層43B之膜厚之下限更佳為5nm以上,另外,上限較佳為100nm以下。低折射率層43B之膜厚設為藉由與蒸鍍層33之膜厚相同之方法而求出者。
作為低折射率層43B,例如可列舉由低折射率微粒子及黏合劑樹脂所構成者,另外,可列舉由低折射率樹脂所構成者。
作為上述低折射率微粒子,例如可列舉由二氧化矽或氟化鎂所構 成之中實或中空粒子等。其中,較佳為中空二氧化矽粒子,此種中空二氧化矽粒子例如可藉由日本特開2005-099778號公報之實施例所記載之製造方法而製作。
作為構成低折射率層43B之黏合劑樹脂,可列舉與構成高折射率層43A之黏合劑樹脂相同者。但是,亦可於上述黏合劑樹脂中混合導入氟原子之樹脂、或有機聚矽氧烷等折射率較低之材料。作為上述低折射率樹脂,例如亦可列舉導入氟原子之樹脂、或有機聚矽氧烷等折射率較低之樹脂等。
低折射率層43B例如可藉由與分光透射率調整層13相同之方法而形成。具體而言,可藉由如下方式形成低折射率層43B,即,首先,於高折射率層43A之表面塗佈至少含有低折射率微粒子及熱硬化性樹脂或游離輻射聚合性化合物之低折射率層用組成物而形成塗膜,並使該塗膜乾燥,其後,藉由進行加熱或紫外線等游離輻射之照射而使低折射率層用組成物硬化。
亦可於高折射率層43A與低折射率層43B之間設置有中折射率層,該中折射率層具有較高折射率層43A之折射率低且較低折射率層43B之折射率高之折射率。
<<<其他光學膜>>>
如圖7所示,光學膜亦可為具備透光性基材11、與設置於透光性基材11之一面側之透光性功能層51的光學膜50。透光性功能層51較佳為進而包含分光透射率調整層52、及設置於分光透射率調整層52之與透光性基材11側相反之側且折射率低於分光透射率調整層52之折射率之低折射率層53。光學膜50藉由具有低折射率層53,可抑制外界光反射。另外,光學膜亦可於分光透射率調整層與低折射率層之間進而具備高折射率層,該高折射率層之折射率高於分光透射率調整層之折射率。
光學膜50之物性與光學膜10相同。因此,於光學膜40中,於波長 380nm之分光透射率亦未達1%,於波長410nm之分光透射率亦為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率亦為70%以上。
<<分光透射率調整層及低折射率層>>
分光透射率調整層52與分光透射率調整層13相同,且低折射率層53與低折射率層43B相同,因此此處省略說明。
本發明人等對光學膜之黃色調之問題努力進行研究,結果發現,若過度吸收波長410nm附近之光,則透射光學膜之透射光會帶有黃色調。根據本實施形態,光學膜10、20、30、40之於波長380nm之分光透射率未達1%,於波長410nm之分光透射率為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率為70%以上,因此可充分地吸收波長380nm以下之光,不會過度吸收波長410nm附近之光而使其適度地透射,且使波長440nm以上之光充分地透射。藉此,可將藍光遮蔽,且可抑制光學膜之黃色調。
另外,為了藉由黏著層將構件間確實地固定,如上所述,黏著層之厚度必須為10μm以上。與此相對,由於透光性功能層12、21、31、41、51不具備黏著層,故而可使膜厚為9μm以下,可較使黏著層含有分光透射率調整劑之情形減薄厚度。藉此,可實現光學膜10、20、30、40、50之薄型化。另外,由於可實現光學膜10、20、30、40、50之薄型化,故而可實現影像顯示裝置之薄型化及輕量化。
若使黏著層含有分光透射率調整劑,則除黏著力降低以外,有因熱收縮率變化而產生被黏著體等之變形或無法獲得所期望之尺寸之虞。與此相對,由於光學膜10、20、30、40、50不具備黏著層,故而亦不存在此種問題。另外,由於光學膜10、20、30、40、50不具備黏著層,故而使用性良好。
<<<偏光板>>>
光學膜10、20、30、40、50可組入至偏光板而使用。圖8係本實施形態之偏 光板之概略構成圖。如圖8所示,偏光板60依序具備光學膜10、偏光元件61及保護膜62。此外,於偏光板60中使用光學膜10,但亦可使用光學膜20、30、40、50代替光學膜10。另外,於偏光板60中,於光學膜10之透光性基材11側設置有偏光元件61,但亦可於光學膜之透光性功能層側設置有偏光元件。
光學膜10與偏光元件61及偏光元件61與保護膜62例如藉由水系接著劑或紫外線硬化性接著劑而貼合。偏光板60亦可為圓偏光板。藉由偏光板60為圓偏光板,於用於具備有機發光二極體面板(OLED面板)之影像顯示裝置之情形時,可將外界光截止。
<<偏光元件>>
偏光元件61設置於透光性基材11之與透光性功能層12側之面為相反側之面。偏光元件61可列舉藉由碘或二色性色素進行染色並經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜。作為聚乙烯醇系樹脂,可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂,除作為乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯以外,可列舉乙酸乙烯酯與能夠與其共聚之其他單體之共聚物等。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚之其他單體,例如可列舉不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。聚乙烯醇系樹脂亦可經改質,例如亦可使用經醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。
<<保護膜>>
作為保護膜62,例如可列舉三乙醯纖維素膜(TAC膜)或(甲基)丙烯酸樹脂膜、環烯烴聚合物膜(COP)等。
<<<影像顯示裝置>>>
光學膜10、20、30、40、50或偏光板60可組入至影像顯示裝置而使用。圖9係本實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。如圖9所示,影像顯示裝置70具備:顯示面板80;觸控感測器90,其較顯示面板80更靠近地配置於觀察者側; 及罩蓋(cover)構件100,其較觸控感測器90更靠近地配置於觀察側,且構成影像顯示裝置70之表面70A。
顯示面板80朝向觀察者側主要依序具備顯示元件81、接著層82、相位差膜83、接著層84、λ/4膜85、接著層86、及偏光板60。偏光板60以光學膜10成為觀察者側之方式配置。顯示面板80係由於顯示元件81成為有機發光二極體(OLED)元件而成為此種構成。此外,影像顯示裝置70具備光學膜10,但亦可使用光學膜20、30、40、50代替光學膜10。
如上所述,顯示元件81成為有機發光二極體(OLED)元件,但作為顯示元件,亦可為液晶顯示元件、無機發光二極體元件、或量子點發光二極體(QLED)。作為接著層82、86,例如可列舉由感壓接著劑所構成之接著層,作為接著層84,可列舉含有游離輻射聚合性化合物之液狀游離輻射硬化性接著劑(例如OCR:optically clear resin,光學透明樹脂)之硬化物。
作為觸控感測器90,可使用公知之觸控感測器。觸控感測器90係配置於顯示面板80與罩蓋構件100之間,但亦可配置於顯示元件81與相位差膜83之間。罩蓋構件100亦可為覆蓋玻璃或由透光性樹脂所構成之覆蓋膜。
顯示面板80與觸控感測器90及觸控感測器90與罩蓋構件100係分別利用由感壓接著劑或游離輻射硬化性接著劑之硬化物所構成之接著層111、112進行接著。其中,顯示面板80與觸控感測器90之間及觸控感測器90與罩蓋構件100之間亦可為空氣層(氣隙)。
[實施例]
為了詳細地說明本發明,以下列舉實施例進行說明,但本發明並不限定於該等記載。此外,文中,「份」或「%」若無特別說明,則設為質量基準。
<實施例1>
(芝麻酚型苯并三唑系單體之合成)
於200mL之四口燒瓶安裝球形冷凝器、水銀溫度計、攪拌裝置,放入6-[5-(2-羥基乙基)-2H-苯并三唑-2-基]苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-醇4.0g(0.013莫耳)、甲苯40mL、甲基丙烯酸1.8g(0.021莫耳)、甲磺酸0.4g(0.004莫耳),於110~115℃回流脫水4小時。繼而,添加水30mL、碳酸鈉0.6g(0.006莫耳),靜置並分離去除下層部之水層,添加活性碳0.2g,進行回流攪拌而使其脫色。繼而,過濾後,於減壓下自濾液回收甲苯40mL,添加異丙醇100mL,過濾析出之結晶,利用異丙醇40mL進行洗淨後,於減壓、40℃進行乾燥,而獲得黃色結晶4.2g。利用異丙醇對該黃色結晶4.2g進行再製漿(repulping)洗淨,於減壓、40℃進行乾燥,而獲得作為芝麻酚型苯并三唑系單體之3.4g之甲基丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]乙酯。
(芝麻酚型苯并三唑系單體進行反應鍵結而成之丙烯酸聚合物之合成)
於四口燒瓶安裝戴氏冷凝器、水銀溫度計、氮氣吹入管、攪拌裝置,放入所合成之甲基丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并三唑-5-基]乙酯8質量份、作為其他單體之甲基丙烯酸甲酯(MMA)32質量份、作為溶劑之甲苯20質量份、甲基乙基酮20質量份、及作為聚合起始劑之1,1'-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)0.6質量份,一面攪拌一面以氮氣流量10mL/min對燒瓶內進行氮氣置換1小時後,於反應液溫度90~96℃,於回流狀態下進行聚合反應10小時。
於聚合反應結束後,追加甲苯10質量份、MEK 10質量份,而獲得芝麻酚型苯并三唑系單體與MMA及紫外線吸收劑進行反應鍵結而成之丙烯酸系聚合物(1)溶液100.6質量份。
(分光透射率調整層用組成物1之製備)
將多官能單體(製品名「KAYARAD PET-30」,日本化藥股份有限公司製造)及上述丙烯酸系聚合物(1)以固形物成分質量比80:20進行混合,利用溶劑(甲基乙基酮及甲苯,質量比80:20)稀釋至固形物成分25%而製備樹脂組成物。繼而,相對於所獲得之樹脂組成物160質量份,混合聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad184及Omnirad819之質量比50:50)4質量份與調平劑(製品名「F568」,DIC股份有限公司製造)0.2質量份並充分地攪拌,藉此製備分光透射率調整層用組成物1。
(外覆層用組成物1之製備)
利用溶劑(甲基乙基酮及甲基異丁基酮,質量比50:50)將多官能單體(製品名「KAYARAD PET-30」,日本化藥股份有限公司製造)稀釋至固形物成分50%而製備樹脂組成物。繼而,相對於所獲得之樹脂組成物200質量份,混合聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad184)4質量份與調平劑(製品名「F568」,DIC股份有限公司製造)0.2質量份並充分地攪拌,藉此製備外覆層用組成物。
(光學膜之製造)
利用麥勒棒(Mayer Bar)將所獲得之分光透射率調整層用組成物1塗佈於大小為210mm×297mm(A4尺寸)及厚度為25μm之三乙醯纖維素基材之表面,而形成塗膜。繼而,藉由對所形成之塗膜以0.5m/s之流速使50℃之乾燥空氣流通30秒,而使塗膜中之溶劑蒸發,並以累計光量成為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化,藉此形成膜厚為5μm之分光透射率調整層。
於形成分光透射率調整層後,利用麥勒棒將外覆層用組成物1塗佈於分光透射率調整層之表面,而形成塗膜。繼而,藉由對所形成之塗膜以0.5m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒而使塗膜中之溶劑蒸發,並以累計光量成 為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化,藉此形成膜厚為4μm之外覆層。藉此,獲得於三乙醯纖維素基材上具備由膜厚5μm之分光透射率調整層(SA層)及膜厚4μm之外覆層(OC層)所構成之膜厚9μm之透光性功能層的光學膜。分光透射率調整層之膜厚係使用掃描式電子顯微鏡(SEM),對分光透射率調整層之剖面進行拍攝,於該剖面之影像中測定20個部位之分光透射率調整層之膜厚,採用該20個部位之膜厚之算術平均值。具體之剖面照片之拍攝方法如以下所述。首先,製作將以1mm×10mm切出之光學膜利用包埋樹脂包埋而成之塊體,藉由一般之切片製作方法自該塊體切出無孔等之均勻之厚度70nm~300nm左右之切片。切片之製作係使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)等。繼而,將切出該無孔等之均勻之切片後之剩餘之塊體作為測定樣品。其後,使用掃描式電子顯微鏡(SEM)(製品名「S-4800」,日立高新技術公司股份有限公司製造)而拍攝測定樣品之剖面照片。於使用上述S-4800拍攝剖面照片時,將檢測器設為「SE」,將加速電壓設為「5kV」,將發射電流設為「10μA」而進行剖面觀察。關於倍率,一面調節焦距並以對比度及亮度辨別或觀察各層,一面對應於透光性功能層之膜厚而於1000倍~1萬倍之範圍內適當調節。具體而言,為了減少膜厚之測定顫動,於透光性功能層之9μm之情形時於2000倍進行調節,於5μm之情形時於2000~5000倍進行調節。進而,將光圈設為「束偵測光圈1」,將物鏡光圈設為「2」,另外,將W.D.設為「8mm」。另外,外覆層之膜厚亦藉由與分光透射率調整層之膜厚相同之方法進行測定。此外,於實施例2~5及比較例1~3中,亦藉由與實施例1相同之方法而測定分光透射率調整層或外覆層之膜厚。
<實施例2>
於實施例2中,將上述多官能單體及上述丙烯酸系聚合物(1)之固形物成分質量比設為67:33,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得光學膜。
<實施例3>
於實施例3中,將上述多官能單體及上述丙烯酸系聚合物(1)之固形物成分質量比設為50:50,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得光學膜。
<實施例4>
於實施例4中,將分光透射率調整層之膜厚設為2μm,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得光學膜。
<實施例5>
(分光透射率調整層用組成物2之製備)
利用甲基乙基酮將聚酯樹脂(製品名「Vylon24SS」,東洋紡股份有限公司製造)稀釋至固形物成分25%而製備樹脂組成物。繼而,相對於所獲得之樹脂組成物120質量份,混合聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad184及Omnirad819之質量比50:50)4質量份、吲哚化合物(製品名「BONASORB UA-3912」,Orient Chemical Industries股份有限公司製造)3質量份、及苯并三唑化合物(製品名「JF-79」,城北化學股份有限公司製造)5質量份、及調平劑(製品名「F568」,DIC股份有限公司製造)0.2質量份,並充分地攪拌,藉此製備分光透射率調整層用組成物2。
(光學膜之製造)
利用麥勒棒將所獲得之分光透射率調整層用組成物2塗佈於大小為210mm×297mm(A4尺寸)及厚度為25μm之三乙醯纖維素基材之表面,而形成塗膜。繼而,藉由對所形成之塗膜以0.5m/s之流速使50℃之乾燥空氣流通30秒而使塗膜中之溶劑蒸發,並以累計光量成為50mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化,藉此形成膜厚為5μm之分光透射率調整層。藉此,獲得於三乙醯纖維素基材上具備僅由膜厚5μm之分光透射率調整層(SA層)所構成之透光性功能層的光學膜。
<比較例1>
於比較例1中,將上述多官能單體及上述丙烯酸系聚合物(1)之固形物成分質量比設為90:10,除此以外,以與實施例1相同之方式獲得光學膜。
<比較例2>
(分光透射率調整層用組成物3之製備)
利用質量比50:50之溶劑甲基乙基酮及甲基異丁基酮將多官能單體(製品名「KAYARAD PET-30」,日本化藥股份有限公司製造)稀釋至固形物成分25%而製備樹脂組成物。繼而,相對於所獲得之樹脂組成物400質量份,混合聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad184及Omnirad819之質量比50:50)4質量份、吲哚化合物(Orient Chemical Industries股份有限公司製造製品名「BONASORB UA-3912」)3質量份、及調平劑(製品名「F568」,DIC股份有限公司製造)0.2質量份,並充分地攪拌,藉此製備分光透射率調整層用組成物3。
(光學膜之製造)
使用所獲得之分光透射率調整層用組成物3,除此以外,以與實施例5相同之方式,獲得於三乙醯纖維素基材上具備僅由膜厚5μm之分光透射率調整層(SA層)所構成之透光性功能層的光學膜。
<比較例3>
(分光透射率調整層用組成物4之製備)
利用質量比50:50之溶劑甲基乙基酮及甲基異丁基酮將多官能單體(製品名「KAYARAD PET-30」,日本化藥股份有限公司製造)稀釋至固形物成分25%而製備樹脂組成物。繼而,相對於所獲得之樹脂組成物400質量份,混合聚合起始劑(IGM Resins B.V.公司製造之Omnirad184及Omnirad819之質量比50:50)4質量份、苯并三唑化合物(製品名「JF-79」,城北化學股份有限公司製造)7質量份、及調平劑(製品名「F568」,DIC股份有限公司製造)0.2質量份,並充 分地攪拌,藉此製備分光透射率調整層用組成物4。
(光學膜之製造)
利用麥勒棒將所獲得之分光透射率調整層用組成物4塗佈於大小為210mm×297mm(A4尺寸)及厚度為25μm之三乙醯纖維素基材之表面而形成塗膜。繼而,藉由對所形成之塗膜以0.5m/s之流速使50℃之乾燥空氣流通30秒而使塗膜中之溶劑蒸發,並以累計光量成為200mJ/cm2之方式照射紫外線而使塗膜硬化,藉此形成膜厚為8μm之分光透射率調整層。藉此,獲得於三乙醯纖維素基材上具備僅由膜厚8μm之分光透射率調整層(SA層)所構成之透光性功能層的光學膜。
<分光透射率>
於實施例及比較例之光學膜中,測定於波長380nm、410nm、420nm及440nm之分光透射率。具體而言,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之基材側成為光源側之方式配置於能夠以每0.5%測定透射率之分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內。上述光學膜係無缺陷(異物之混入)、無裂痕、無褶皺、無污漬者,另外,以無捲曲之平坦之狀態保持於分光光度計。於該狀態下,於以下之測定條件下,於波長380nm、410nm、420nm及440nm分別於前後1nm之間測定最低5點之透射率,算出其平均值,藉此求出於波長380nm、410nm、420nm及440nm之分光透射率。於波長380nm、410nm、420nm及440nm之分光透射率設為測定3次而獲得之值之算術平均值。此外,圖10中表示實施例1~5及比較例1~3之分光透射率之曲線。
(測定條件)
‧波長區域:300nm~780nm
‧掃描速度:高速
‧狹縫寬度:2.0
‧取樣間隔:自動(0.5nm間隔)
‧照明:C
‧光源:D2及WI
‧視野:2°
‧光源切換波長:360nm
‧S/R切換:標準
‧檢測器:PM
‧自動歸零:於基準線之掃描後,於550nm實施
<藍光截止(遮蔽)率>
測定實施例及比較例之光學膜之藍光截止率(BL截止率)。具體而言,首先,依據JIS T7333:2005,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之基材側成為光源側之方式配置於能夠以每0.5%測定透射率之分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內。光學膜係無缺陷(異物之混入)、無裂痕、無褶皺、無污漬者,另外,以無捲曲之平坦之狀態保持於分光光度計。於該狀態下,於波長380nm~495nm分別於前後1nm之間測定最低5點之透射率,算出其平均值,藉此求出波長380nm~495nm之分光透射率。繼而,將藍光截止率(%)設為A,將380nm~495nm之透射率之平均值(%)設為B,藉由下述式求出藍光截止率。此外,藍光截止率設為測定3次而獲得之值之算術平均值。另外,分光透射率之測定條件設為與上述於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率之測定條件相同。
A=100-B
<黃色指數(YI)、色座標a*及色座標b*>
測定實施例及比較例之光學膜之黃色指數、色座標a*及色座標b*。具體而 言,首先,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之基材側成為光源側之方式配置於分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內。光學膜係無缺陷(異物之混入)、無裂痕、無褶皺、無污漬者,另外,以無捲曲之平坦之狀態保持於分光光度計。於該狀態下,測定波長300nm~780nm之透射率。繼而,於連接於UV-2450之監視器上,讀入上述透射率之測定資料,於計算項目中勾選「YI」、「a*」及「b*」,藉此獲得YI、a*及b*。波長300nm~780nm之透射率之測定條件設為與上述於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率之測定條件相同。
<於波長410nm~420nm之分光透射率之斜率>
於實施例及比較例之光學膜中,求出於波長410nm~420nm之分光透射率之斜率。具體而言,將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之基材側成為光源側之方式配置於能夠以每0.5%測定透射率之分光光度計(製品名「UV-2450」,島津製作所股份有限公司製造,光源:鎢絲燈及氘燈)內。光學膜係無缺陷(異物之混入)、無裂痕、無褶皺、無污漬者,另外,以無捲曲之平坦之狀態保持於分光光度計。於該狀態下,於波長410nm~420nm分別於前後1nm之間測定最低5點之透射率,算出其平均值,藉此分別求出波長410nm~420nm之分光透射率。繼而,使用所獲得之分光透射率,藉由最小平方法求出波長410nm~420nm之分光透射率之斜率。該斜率設為測定3次而獲得之值之算術平均值。另外,分光透射率之測定條件設為與上述於波長380nm、410nm、及440nm之分光透射率之測定條件相同。
<壓痕硬度>
分別測定實施例及比較例之光學膜之分光透射率調整層之壓痕硬度。壓痕硬度係使用HYSITRON(海思創)公司製造之「TI950 TriboIndenter」進行測定。具體而言,首先,製作將以1mm×10mm切出之光學膜利用包埋樹脂包埋而成之 塊體,製作適於利用奈米壓痕法之硬度測定之測定用樣品。測定用樣品之製作係使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)。繼而,藉由掃描式電子顯微鏡(SEM)對此種測定樣品之剖面進行觀察,確認是否明確地觀察到分光透射率調整層與外覆層之界面線。其後,以測定樣品之壓入壓頭之面與平台之載置面變得平行之方式將測定樣品固定於HYSITRON(海思創)公司製造之TI950 TriboIndenter之平台。繼而,於在藉由SEM之觀察中明確地觀察到分光透射率調整層與外覆層之界面線之情形時,於分光透射率調整層之中央之平坦之部分,另外,於未明確地觀察到分光透射率調整層與外覆層之界面線之情形時,於透光性功能層之中央之平坦之部分,藉由荷重控制方式,以最大壓入荷重成為300μN之方式將三角錐(Berkovich)型壓頭以10nm/s之速度壓入至測定位置,其後,以最大荷重保持5秒後,以相同之速度進行卸載。繼而,連續地測定與此時之壓入荷重F(μN)對應之壓入深度h(nm),製作荷重-位移曲線,根據所製作之荷重-位移曲線,藉由將最大壓入荷重Fmax(N)除以壓頭與分光透射率調整層接觸之投影面積Ap(mm2)所獲得之值而求出。上述Ap設為藉由裝置標準之方法修正壓頭前端曲率後之接觸投影面積。此外,壓痕硬度設為測定10個部位所獲得之值之算術平均值。
<彎曲性>
於實施例及比較例中,依據JIS K5600-5-1:1999,進行心軸試驗,評價彎曲性。具體而言,將以100mm×25mm之大小切出之光學膜以透光性功能層成為外側且光學膜之長邊方向之兩端部對向之方式捲繞於直徑2mm之不鏽鋼棒。於該狀態下保持5秒後,釋放光學膜,確認於接觸不鏽鋼棒之光學膜之短邊方向上是否產生裂痕(皸裂)。另外,以透光性功能層成為內側之方式於上述相同之條件下進行心軸試驗,確認於接觸不鏽鋼棒之光學膜之短邊方向上是否產生裂痕。評價結果如以下所述。
○:於任一心軸試驗中,均未於光學膜確認到裂痕。
×:於任一心軸試驗中,於光學膜確認到裂痕。
<顯示面板劣化評價>
針對將實施例及比較例之光學膜配置於有機發光二極體面板(OLED面板)上之樣品,進行耐光性試驗,評價OLED面板是否劣化。具體而言,樣品係藉由將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以智慧型手機(製品名「Galaxy S7」,Samsung Electronics Co.,Ltd.製造)成為下側之方式配置於OLED面板上而製作。繼而,使該樣品之OLED面板發光,使用分光放射亮度計(製品名「CS2000」,Konica Minolta公司製造),自光學膜之厚度方向,於測定角1°之條件下測定自光學膜出射之光之亮度。其後,將該樣品配置於耐光性試驗機(製品名「紫外線褪色測試儀U48AU」,Suga Test Instruments股份有限公司製造)內,於42℃、相對濕度50%之環境下進行自光學膜之表面側照射來自碳弧燈之光50小時之耐光性試驗。繼而,自耐光性試驗機取出樣品,使耐光性試驗後之樣品之OLED面板發光,使用分光放射亮度計(製品名「CS2000」,Konica Minolta公司製造),自光學膜之厚度方向,於測定角1°之條件下測定自光學膜出射之光之亮度。由所測得之該等亮度,求出耐熱性試驗後之亮度相對於耐熱性試驗前之亮度之維持率。亮度維持率係將亮度維持率設為A,將自耐熱性試驗前之樣品出射之光之亮度設為B,將自耐熱性試驗後之樣品出射之光之亮度設為C,藉由下述式而求出。
A=C/B×100
繼而,根據所獲得之亮度維持率,確認OLED面板是否因耐光性試驗而劣化。具體而言,於亮度維持率未達80%之情形時,評價OLED面板劣化,於亮度維持率為80%以上之情形時,評價OLED面板未劣化。評價基準如以下所述。
○:未確認到OLED面板之劣化。
×:確認到OLED面板之劣化。
以下將結果示於表1及表2。
Figure 107103271-A0202-12-0056-23
Figure 107103271-A0202-12-0056-24
如表1所示,於比較例1~3之光學膜中,由於不滿足於波長380nm之分光透射率未達1%,於波長410nm之分光透射率為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率為70%以上之必要條件,故而即便為薄型,藍光截止(遮蔽)率亦較差,及/或無法抑制光學膜之黃色調。此外,由於YI根據截止之波長之範圍而受到影響,故而可藉由變更所添加之分光透射率調整劑之種類或比率而進行某種程度之調整。因此,於比較例1、3之光學膜中,YI較低,但410nm之分光透射率較高,藍光截止率較差。另外,為了降低YI,較佳為於可 見光區域,分光曲線成為陡峭之上升(波長410nm~420之分光透射率之斜率較高之值),但於比較例2之光學膜中,於波長410nm~420nm之分光透射率之斜率較小,因此認為YI較高。
與此相對,於實施例1~5之光學膜中,由於滿足於波長380nm之分光透射率未達1%,於波長410nm之分光透射率為10%以上且未達60%,且於波長440nm之分光透射率為70%以上之必要條件,故而為薄型,並且藍光截止(遮蔽)率優異,且光學膜之黃色調得到抑制。

Claims (7)

  1. 一種光學膜,其係具備透光性基材及設置於該透光性基材之一面側之透光性功能層者,於波長380nm之分光透射率未達1%,於波長410nm之分光透射率超過10%且未達60%,且於波長440nm之分光透射率為70%以上,該透光性功能層之膜厚為9μm以下,該透光性功能層具備含有樹脂及分光透射率調整劑之分光透射率調整層,該分光透射率調整劑係紫外線吸收劑或色素材料。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學膜,其中,該光學膜之黃色指數為1以上且12以下。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學膜,其中,該光學膜之藍光之遮蔽率為30%以上。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學膜,其中,使用最小平方法獲得之波長410nm~420nm之範圍的透射譜之斜率為2以上。
  5. 一種偏光板,其具備:申請專利範圍第1項之光學膜、與設置於該光學膜之一面側的偏光元件。
  6. 一種影像顯示裝置,其具備:顯示元件、與較該顯示元件更靠近地配置於觀察者側的申請專利範圍第1項之光學膜或申請專利範圍第5項之偏光板。
  7. 如申請專利範圍第6項之影像顯示裝置,其中,該顯示元件為有機發光二極體顯示元件。
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