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TWI767881B - 光學積層體、液晶顯示裝置、黏著劑組成物及附黏著劑層之光學膜 - Google Patents

光學積層體、液晶顯示裝置、黏著劑組成物及附黏著劑層之光學膜 Download PDF

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TWI767881B
TWI767881B TW105109824A TW105109824A TWI767881B TW I767881 B TWI767881 B TW I767881B TW 105109824 A TW105109824 A TW 105109824A TW 105109824 A TW105109824 A TW 105109824A TW I767881 B TWI767881 B TW I767881B
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meth
optical
ionic compound
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阪上智恵
藤田政大
柳智熙
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明係提供一種光學積層體，其係依序包含光學膜、黏著劑層、及金屬層，且金屬層為金屬配線層、或藉濺鍍所形成之層、或厚度為3μm以下之金屬層，黏著劑層係含有對於60℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物；亦提供一種光學積層體，其係依序包含光學膜、黏著劑層、及金屬層，且黏著劑層包含式(I)或式(II)所示之離子性化合物；以及提供包含光學積層體之液晶顯示裝置。

Description

光學積層體、液晶顯示裝置、黏著劑組成物及附黏著劑層之光學膜
本發明係關於一種構成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之光學積層體、及包含光學積層體之液晶顯示裝置。
於偏光片之單面或雙面積層貼合透明樹脂膜而成之偏光板為代表之光學膜，係被廣泛使用來作為構成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之光學構件。如偏光板之光學膜係多為透過黏著劑層而貼合於其他構件(例如液晶顯示裝置中之液晶單元等)而使用(例如參照日本特開2010-229321號公報)。因此，就光學膜而言，已知於其一面預先設有黏著劑層之附黏著劑層之光學膜。又，為賦予抗靜電性，亦已知於黏著劑層含有離子性化合物者。
近年，液晶顯示裝置係已被拓展至智慧型手機或桌上型終端、車載用導航系統為代表之具有觸控面板機能的攜帶型機器用途。在如此之觸控輸入式液晶顯示裝置中附黏著劑層之光學膜，亦有於例如由金屬配線所構 成之金屬層以透過例如樹脂層或直接接觸之方式配置該黏著劑層。然而，在將由金屬材料所構成之金屬層及含有離子性化合物之黏著劑層組合而成之構成中，亦有在高溫高濕環境下金屬層腐蝕之情況。腐蝕之中，孔蝕係金屬層之厚度為較薄之情形，或金屬層為金屬配線時其線寬較窄之情形，由於金屬層會完全貫通，故特別成為問題。
本發明之目的在於提供一種光學積層體及包含該光學積層體之液晶顯示裝置，該光學積層體於如金屬配線層之金屬層上積層附黏著劑層之光學膜，並可抑制金屬層之腐蝕的光學積層體。
本發明係提供如下所示之光學積層體、及包含該光學積層體之液晶顯示裝置、以及黏著劑組成物。
[1]一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層， 前述黏著劑層係含有對於60℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物。
[2]如[1]項所述之光學積層體，其中，前述離子性化合物之陰離子為含氟原子之亞胺(imide)陰離子。
[3]如[1]項所述之光學積層體，其中，前述離子性化合物之陰離子為雙(氟磺醯基)亞胺陰離子或雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子。
[4]如[1]項所述之光學積層體，其中，前述離子性化合物之陰離子為雙(氟磺醯基)亞胺陰離子。
[5]一種光學積層體，其係依序含有光學 膜、黏著劑層及金屬層， 前述黏著劑層係包含下述式(I)所示之離子性化合物：
Figure 105109824-A0202-12-0003-1
(式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16之烴基，R3表示可含有雜原子之碳數4至20之烴基，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子)。
[6]如[5]項所述之光學積層體，其中，前述式(I)之R3係碳數為4或5。
[7]一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層， 前述黏著劑層係含有下述式(II)所示之離子性化合物：
Figure 105109824-A0202-12-0003-2
(式中，R4係表示碳數3至16之直鏈或分枝構造之烷基，R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、醚基、羧基、羰基、或鹵素原子，相鄰之取代基彼此可形成環，X-係表示與前述相同之意義)。
[8]如[7]項所述之光學積層體，其中，前 述式(II）之R5至R9係分別獨立地表示氫原子、或碳數1至16之直鏈或分枝構造的烷基。
[9]如[5]至[8]項中任一項所述之光學積層體，其中，前述X-係雙(氟磺醯基)亞胺陰離子或雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子。
[10]如[5]至[8]項中任一項所述之光學積層體，其中，前述X-係雙(氟磺醯基)亞胺陰離子。
[11]如[1]至[10]項中任一項所述之光學積層體，其中，前述黏著劑層另含有(甲基)丙烯酸系樹脂， 前述(甲基)丙烯酸系樹脂係含有源自均聚物之玻璃轉移溫度未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
[12]如[11]項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂係前述源自丙烯酸烷酯(a2)之構成單元的含量在構成前述(甲基)丙烯酸系樹脂之全構成單元100重量份中為10重量份以上。
[13]如[11]或[12]項所述之光學積層體，其中，前述丙烯酸烷酯(a2)係包含丙烯酸甲酯。
[14]如[1]至[13]項中任一項所述之光學積層體，其中，前述金屬層含有選自由鋁、銅、銀、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛及含有選自此等之2種以上的金屬之合金所構成之群的1種以上。
[15]如[1]至[14]項中任一項所述之光學 積層體，其中，前述金屬層含有鋁元素。
[16]如[1]至[15]項中任一項所述之光學積層體，其中，前述金屬層係藉濺鍍所形成之層。
[17]如[1]至[16]項中任一項所述之光學積層體，其中，前述金屬層之厚度為3μm以下。
[18]一種液晶顯示裝置，係含有[1]至[17]項中任一項所述之光學積層體。
[19]一種黏著劑組成物，係含有(甲基)丙烯酸系樹脂及離子性化合物，且使用於要被積層在金屬層上之黏著劑層的形成。
前述離子性化合物係對於60℃之水100g的溶解度為6g以下者。
[20]一種黏著劑組成物，係含有(甲基)丙烯酸系樹脂及離子性化合物，且使用於要被積層在金屬層上之黏著劑層的形成。
前述離子性化合物係下述式(I)所示之離子性化合物：
Figure 105109824-A0202-12-0005-3
(式中，R1及R2係分別獨立地表示氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16的烴基，R3係表示可含有雜原子之碳數4至20的烴基，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子)。
[21]一種黏著劑組成物，係含有(甲基)丙烯酸系樹脂及離子性化合物，且使用於要被積層在金屬層上之黏著劑層的形成。
前述離子性化合物係下述式(II)所示之離子性化合物：
Figure 105109824-A0202-12-0006-4
(式中，R4係表示碳數3至16之直鏈或分枝構造的烷基，R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、醚基、羧基、羰基、或鹵素原子，相鄰之取代基彼此可形成環；X-係表示與前述相同之意義)。
若依據本發明，可提供一種可抑制金屬層之腐蝕的光學積層體、及包含該光學積層體之液晶顯示裝置。
1‧‧‧附黏著劑層之光學膜
2‧‧‧偏光片
3‧‧‧第1樹脂膜
4‧‧‧第2樹脂膜
5、6、7‧‧‧光學積層體
10‧‧‧光學膜
10a、10b‧‧‧偏光板
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧金屬層
40‧‧‧基板
50‧‧‧樹脂層
第1圖係表示本發明之光學積層體的一例之概略剖面圖。
第2圖係表示偏光板之層構成的一例之概略剖面圖。
第3圖係表示偏光板之層構成的另一例的概略剖面 圖。
第4圖係表示光學積層體之層構成的一例之概略剖面圖。
第5圖係表示光學積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。
第6圖係表示光學積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。
第7圖係表示光學積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。
<光學積層體>
第1圖係表示本發明之光學積層體的一例之概略剖面圖。如第1圖所示，本發明之光學積層體係依序包含光學膜10、黏著劑層20、及金屬層30，可更包含基板。該光學積層體係可使附黏著劑層之光學膜1透過該黏著劑層20貼合於基板40上所形成之金屬層30上而成者，該附黏著劑層之光學膜1係包含光學膜10、及積層於其至少一面上之黏著劑層20。
黏著劑層20係通常直接積層於光學膜10之表面。又，通常，附黏著劑層之光學膜1係以該黏著劑層20直接接觸金屬層30之方式積層於金屬層30上。若依據本發明，在如此之光學積層體中，可有效地抑制金屬層30之腐蝕。以下，亦將可抑制金屬層30腐蝕的性質稱為 「耐金屬腐蝕性」。
光學膜10係可為單層構造之光學膜，亦可為多層構造之光學膜。黏著劑層20係由包含規定之離子性化合物(D)之黏著劑組成物所構成。該黏著劑組成物通常更包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，亦可更含有異氰酸酯系交聯劑(B)及/或矽烷化合物(C)。該黏著劑組成物係亦可更包含其他成分。本說明書中，「(甲基)丙烯醯基」係意指選自由丙烯酸系及甲基丙烯酸系所構成之群中的至少一者。有關「(甲基)丙烯酸酯」或「(甲基)丙烯醯基」等亦同樣。
[1]光學膜
本發明之光學積層體具備之光學膜10係構成附黏著劑層之光學膜1的光學構件，可為組入於液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之各種光學膜(具有光學特性之膜)。光學膜10係可為單層構造之光學膜，亦可為多層構造之光學膜。單層構造之光學膜的具體例係除偏光片之外，包含相位差膜、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜等光學機能性膜。多層構造之光學膜的具體例係包含偏光板、相位差板。本說明書中所謂偏光板係指於偏光片之至少一面積層樹脂膜或樹脂層者。相位差板係指於相位差膜之至少一面積層樹脂膜或樹脂層者。光學膜10較佳係偏光板、偏光片、相位差板或相位差膜，更佳係偏光板或偏光片。
[1-1]偏光板
第2圖及第3圖係表示偏光板之層構成的例之概略剖面圖。第2圖所示之偏光板10a係於偏光片2之一面積層貼合第1樹脂膜3之單面保護偏光板，第3圖所示之偏光板10b係於偏光片2之另一面更積層貼合第2樹脂膜4之雙面保護偏光板。第1、第2樹脂膜3、4係可透過未圖示之接著劑層或黏著劑層而貼合於偏光片2。偏光板10a，10b係亦可包含第1，第2樹脂膜3，4以外之其他膜或層。
使用第2圖及第3圖所示之偏光板10a，10b作為光學膜10時之光學積層體的層構成之例分別表示於第4圖及第5圖。第4圖所示之光學積層體5係使用第2圖所示之偏光板10a作為光學膜10之例，第5圖所示之光學積層體6係使用第3圖所示之偏光板10b作為光學膜10之例。
偏光片2係具有如下性質之膜：吸收具有平行於其吸收軸之振動面的直線偏光，透過具有正交於吸收軸之(與透過軸平行之)振動面的直線偏光；例如，可使用於聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向二色性色素之膜。二色性色素係可使用碘或二色性有機染料。
聚乙烯醇系樹脂係可藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。聚乙酸乙烯酯系樹脂係除了乙酸乙烯酯之同元聚合物的聚乙酸乙烯酯之外，可舉例如可與乙酸乙烯酯共聚合之單體與乙酸乙烯酯之共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合之單體係可舉例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯基醚、不飽和磺酸、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85至100莫耳%，較佳係98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂係可被改質，例如亦可使用被醛類改質之聚乙烯基甲醛或聚乙烯基乙醛等。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度通常為1000至10000，較佳為1500至5000。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度係可依據JIS K6726而求取。
通常，使用將聚乙烯醇系樹脂製膜而成者作為偏光片2之胚膜。聚乙烯醇系樹脂係可以公知之方法製膜。胚膜之厚度通常為1至150μm，若考量延伸之容易性等，較佳係10μm以上。
偏光片2係實施如下步驟，最後加以乾燥而製造：例如對胚膜進行一軸延伸之步驟、以二色性色素將膜染色而吸附該二色性色素之步驟、以硼酸水溶液處理膜之步驟、及水洗膜之步驟。偏光片2之厚度通常為1至30μm，從附黏著劑層之光學膜1的薄膜化觀點，較佳係20μm以下，更佳係15μm以下，再更佳係10μm以下。
於聚乙烯醇系樹脂膜使二色性色素吸附配向而成之偏光片2可依據1)使用聚乙烯醇系樹脂膜之單獨膜作為胚膜，對該膜施予一軸延伸處理及二色性色素之染色處理的方法，2)於基材膜塗布含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液(水溶液等)，並使其乾燥而獲得具有聚乙烯醇系樹脂層之基材膜後，將此基材膜整體進行一軸延伸，對於延伸後之聚乙烯醇系樹脂層施予二色性色素之染色處理，然後，藉由剝離除去基材膜之方法製得。基材膜係可使用與 可構成後述之第1、第2樹脂膜3、4之熱塑性樹脂同樣之熱塑性樹脂所構成之膜，較佳係由聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、降茨烯系樹脂等環狀聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯系樹脂等所構成之膜。若依據上述2)之方法，容易製作薄膜之偏光片2，亦容易製作例如厚度7μm以下之偏光片2。
第1，第2樹脂膜3，4係可分別獨立為具有透光性者，其較佳係由光學性透明之熱塑性樹脂，例如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降茨烯系樹脂等)類之聚烯烴系樹脂；纖維素系樹脂(纖維素酯系樹脂等)；聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等)；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚碸系樹脂、或此等之混合物、共聚物等所構成之膜。其中，第1，第2樹脂膜3，4係分別以由環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、及(甲基)丙烯酸系樹脂所組成之群選出的樹脂所組成者為較佳，以由纖維素系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂所組成之群中選出的樹脂所構成者為更佳。
鏈狀聚烯烴系樹脂係除了聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴之均聚物之外，可舉例如由2種以上之鏈狀烯烴所構成之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係含有以降茨烯或四環十二烯(別名：二甲橋萘(dimethanonaphthalene))或其等之衍 生物為代表例之環狀烯烴作為聚合單元之樹脂的總稱。若列舉環狀聚烯烴系樹脂之具體例，可為環狀烯烴之開環(共)聚合物及其氫化物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯類鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物之共聚物、以及使此等以不飽和羧酸或其衍生物改質而成之改質(共)聚合物等。其中，以使用降茨烯或多環降茨烯系單體等降茨烯系單體作為環狀烯烴之降茨烯系樹脂為較佳。
纖維素系樹脂較佳係纖維素酯系樹脂，亦即纖維素之部分或完全酯化物等，可舉例如纖維素之乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、其等之混合酯等。其中，以三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等為較宜使用。
聚酯系樹脂係具有酯鍵之上述纖維素酯系樹脂以外之樹脂，多元羧酸或其衍生物及多元醇之聚縮聚合體所構成者。聚酯系樹脂之具體例係包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚環己烷二甲基對苯二甲酸酯、聚環己烷萘酸二甲酯。
聚碳酸酯系樹脂係由碳酸及甘醇或雙酚所形成之聚酯。其中，從耐熱性、耐候性及耐酸性之觀點而言，較佳係使用於分子鏈具有二苯基烷之芳香族聚碳酸酯。聚碳酸酯可例示2,2-雙(4-羥苯基)丙烷(別名雙酚A)、2,2-雙(4-羥苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥苯基)異丁烷、1,1-雙(4-羥苯基)乙烷類由雙酚所衍生之 聚碳酸酯。
可構成第1，第2樹脂膜3，4之(甲基)丙烯酸系樹脂係可為以源自甲基丙烯酸酯之構成單元作為主體(例如包含此50重量%以上)之聚合物，以使其再與其他共聚合成分共聚合之共聚物為較佳。(甲基)丙烯酸系樹脂係可含有源自甲基丙烯酸酯之構成單元2種以上。甲基丙烯酸酯係可舉例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等甲基丙烯酸之C1至C4烷基酯。
可與甲基丙烯酸酯共聚合之共聚合成分係可舉例如丙烯酸酯。丙烯酸酯較佳係丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己基酯等丙烯酸之C1至C8烷基酯。其他之共聚合成分之具體例係可舉例如(甲基)丙烯酸等之不飽和酸類；苯乙烯、鹵化苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯化合物；(甲基)丙烯腈等乙烯基氰化合物；馬來酸酐、依康酸酐等不飽和酸酐；苯基馬來醯亞胺、環己基馬來醯亞胺等不飽和醯亞胺等之於分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵的丙烯酸酯以外之化合物。亦可使用於分子內具有2個以上之聚合性碳-碳雙鍵的化合物作為共聚合成分。共聚合成分係可僅使用1種，亦可併用2種以上。
就可提高膜之耐久性之點，(甲基)丙烯酸樹脂亦可於高分子主鏈具有環構造。環構造係以環狀酸酐構造、環狀醯亞胺構造、內酯環構造等雜環構造為佳。環狀酸酐構造之具體例係可舉例如戊二酸酐構造、琥珀酸酐構 造，環狀醯亞胺構造之具體例係可舉例如戊二醯亞胺構造、琥珀醯亞胺構造，內酯環構造之具體例係可舉例如丁內酯環構造、戊內酯環構造。
從對膜之製膜性或膜之耐衝撃性等觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂亦可含有丙烯酸系橡膠粒子。所謂丙烯酸系橡膠粒子係以丙烯酸酯作為主體之彈性聚合物作為必要成分之粒子，實質上可舉例如僅由此彈性聚合物所構成之單層構造者、或使彈性聚合物為1層之多層構造者。彈性聚合物之例可舉例如以丙烯酸烷酯作為主成分，使可與其共聚合之其他乙烯基單體及交聯性單體共聚合而成之交聯彈性共聚物。成為彈性聚合物之主成分的丙烯酸烷酯係可舉例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己基酯等丙烯酸之C1至C8烷基酯。烷基之碳數較佳係4以上。
可與丙烯酸烷酯共聚合之其他乙烯基單體係可舉例如於分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵之化合物，更具體而言係可舉例如甲基丙烯酸甲酯之甲基丙烯酸酯、苯乙烯之芳香族乙烯化合物、(甲基)丙烯腈之乙烯基氰化合物等。交聯性單體係可舉例如於分子內至少具有2個聚合性碳-碳雙鍵之交聯性化合物，更具體而言係可舉例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸酯、烯丙基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸之烯基酯、二乙烯基苯等。
丙烯酸系橡膠粒子之含量係相對於(甲基) 丙烯酸系樹脂100重量份，較佳係5重量份以上，更佳係10重量份以上。若丙烯酸系橡膠粒子之含量太多，膜之表面硬度會降低，又，對膜實施表面處理之時，對表面處理劑中之有機溶劑的耐溶劑性會降低。因此，丙烯酸系橡膠粒子之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份，通常為80重量份以下，較佳係60重量份以下。
第1，第2樹脂膜3，4係可含有本發明之技術領域中之一般添加劑。添加劑之具體例係含有例如紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、抗靜電劑、界面活性劑、滑劑、分散劑、熱安定劑等。
紫外線吸收劑係可舉例如水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯並三唑化合物、三
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化合物、氰基(甲基)丙烯酸酯化合物、鎳錯鹽等。
第1，第2樹脂膜3，4係分別可為未被延伸之膜、或經一軸或二軸延伸之膜的任一者。二軸延伸係可朝2個延伸方向同時進行延伸之同時二軸延伸，亦可朝預定方向延伸之後朝其他方向進行延伸之逐次二軸延伸。第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4亦可為擔任保護偏光片2之任務之保護膜，亦可為一併具有後述之相位差膜之光學機能的保護膜。相位差膜係顯示光學異方性之光學膜。例如可使由上述熱塑性樹脂所構成之膜進行延伸(一軸延伸或二軸延伸等)，於該熱塑性樹脂膜上形成液晶層等，藉此，形成賦予任意之相位差值的相位差膜。
第1樹脂膜3及第2樹脂膜4係可為以由相同之熱塑性樹脂所構成之膜，亦可為由互異之熱塑性樹脂所構成的膜。第1樹脂膜3及第2樹脂膜4係可在厚度、添加劑之有無或種類、相位差特性等為相同，或相異。
第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4係可於其外面(與偏光片2為相反側之表面)具備硬塗層、防眩層、抗反射層、光擴散層、抗靜電層、防污層、導電層等表面處理層(塗佈層)。
第1樹脂膜3及第2樹脂膜4之厚度係分別通常為1至150μm，較佳係5至100μm，更佳係5至60μm。該厚度係50μm以下，更可為30μm以下。減少第1，第2樹脂膜3，4之厚度係對附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之薄膜化、甚至含有附黏著劑層之光學膜1或光學積層體的液晶顯示裝置之薄膜化為有利。
特別如智慧型手機或桌上型終端之以中小型為對象之偏光板係從薄膜化之要求，就第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4而言，常使用厚度為30μm以下之較薄者，但如此之偏光板係抑制偏光片2之收縮力的力量較弱，耐久性易不足。若依據本發明，即使使用如此之偏光板作為光學膜10時，亦可提供具有良好耐久性之附黏著劑層之光學膜1及光學積層體。附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性係謂在例如高溫環境下、高溫高濕環境下、反覆高溫及低溫之環境下等之中，可抑制黏著劑層20與鄰接於黏著劑層20之光學構件之界面的浮起或剝離、黏著劑層 20之發泡等不佳情形的性質。
第1，第2樹脂膜3，4係可透過接著劑層或黏著劑層而貼合於偏光片2。形成接著劑層之接著劑係可使用水性接著劑或活性能量線硬化性接著劑。
水性接著劑係可舉例如由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑、水性二液型胺基甲酸酯系乳化液接著劑等。其中，適宜使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水性接著劑。聚乙烯醇系樹脂係除了將乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而製得之乙烯醇均聚物之外，可使用將乙酸乙烯酯及可與其共聚合之其他單體之共聚物進行皂化處理而獲得之聚乙烯醇系共聚物、或將其等之羥基經部分改質而成之改質聚乙烯醇系聚合物等。水性接著劑係可含有醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等之交聯劑。
使用水性接著劑之時，較佳係貼合偏光片2與第1，第2樹脂膜3，4之後，實施除去水性接著劑中所含之水，使其乾燥之步驟。乾燥步驟後，亦可設置例如20至45℃左右之溫度進行熟成之熟成步驟。
上述活性能量線硬化性接著劑係指照射紫外線或電子線等活性能量線使硬化之接著劑，可舉例如含有聚合性化合物及光聚合起始劑之硬化性組成物、含有光反應性樹脂之硬化性組成物、含有黏結劑樹脂及光反應性交聯劑之硬化性組成物等。較佳係紫外線硬化性接著劑。 聚合性化合物係可舉例如光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、或源自光聚合性單體之寡聚物。光聚合起始劑係可舉例如含有藉活性能量線之照射產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種之物質者。含有聚合性化合物及光聚合起始劑之活性能量線硬化性接著劑較宜使用：含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑之硬化性組成物、或含有光硬化性(甲基)丙烯酸系單體及光自由基聚合起始劑之硬化性組成物、或此等硬化性組成物的混合物。
使用活性能量線硬化性接著劑時，係貼合偏光片2與第1，第2樹脂膜3，4之後，依需要而進行乾燥步驟，然後，藉由照射活性能量線，而進行使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量線之光源係無特別限定，但以於波長400nm以下具有發光分布之紫外線為佳，具體而言，係可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。
當貼合偏光片2與第1，第2樹脂膜3，4時，係可對此等之至少任一者的貼合面實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性化處理。於偏光片2之雙面貼合樹脂膜時，用以貼合此等樹脂膜的接著劑係可為同種之接著劑，亦可為異種之接著劑。
偏光板10a，10b係可更含有其他之膜或 層。其具體例係後述之相位差膜之外，為增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、集光膜、黏著劑層20以外之黏著劑層、塗佈層、保護膜等。保護膜係就保護偏光板等光學膜10之表面免受刮傷或污染之目的所使用的膜，以附黏著劑層之光學膜1貼合於例如金屬層30上之後，剝離除去者為通例。
保護膜通常係以基材膜、及積層於其上之黏著劑層構成。基材膜係可以熱塑性樹脂例如聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等構成。
[1-2]相位差板
於相位差板所含之相位差膜如上述係顯示光學異方性之光學膜，可使用於第1，第2樹脂膜3，4者，係於上文所例示之熱塑性樹脂之外，可為例如將聚乙烯醇系樹脂、聚芳酸酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯系樹脂等所構成之樹脂膜延伸至1.01至6倍左右所得之延伸膜。其中，將聚碳酸酯系樹脂膜或環狀烯烴系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜或纖維素系樹脂膜經一軸延伸或二軸延伸之延伸膜為較佳。又，本說明書中零延遲性膜亦包含於相位差膜(但，亦可使用為保護膜)。其他，被稱為一軸性相位 差膜、廣視角相位差膜、低光彈性率相位差膜等之膜亦可適用作為相位差膜。
所謂零延遲性膜係面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth皆為-15至15nm之膜。此相位差膜係可適宜使用於IPS模式之液晶顯示裝置。面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth較佳係均為-10至10nm，更佳係均為-5至5nm。此處所謂之面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth係波長590nm之值。
面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth係分別以下述式定義：Re=(nx-ny)×d Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d。式中，nx係膜面內之慢軸方向(x軸方向)之折射率，ny係膜面內之快軸方向(在面內與x軸正交之y軸方向)之折射率，nz係膜厚度方向(與膜面垂直之z軸方向)之折射率，d係膜之厚度。
零延遲性膜係可使用例如由纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之樹脂膜。特別，就相位差值容易控制，且容易取得之點，較宜使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂。
又，亦可使用藉液晶性化合物之塗布/配向而顯現光學異方性之膜、或藉由無機層狀化合物之塗布而 顯現光學異方性之膜作為相位差膜。如此之相位差膜係有：被稱為溫度補償型相位差膜者，又，由JX日礦日石能量(股)以「NH膜」之商品名販售之棒狀液晶經傾斜配向而成之膜、由富士Film(股)以「WV膜」之商品名販售之圓盤狀液晶經傾斜配向而成之膜、由住友化學(股)以「VAC膜」之商品名販售之完全二軸配向型之膜、相同地由住友化學(股)「new VAC膜」之商品名販售之二軸配向型之膜等。
積層於相位差膜之至少一面的樹脂膜係可為例如上述之保護膜。
[2]黏著劑層
配置於光學膜10與金屬層30之間的黏著劑層20係由含有特定之離子性化合物(D)之黏著劑組成物所構成。該黏著劑組成物係一般更含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，亦可更含有異氰酸酯系交聯劑(B)及/或矽烷化合物(C)。
藉由以上述之黏著劑組成物所構成之黏著劑層20，在含有黏著劑層20及金屬層30之構成的光學積層體中，可抑制金屬層30之腐蝕，又，可提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性。更且，藉由以上述之黏著劑組成物所構成之黏著劑層20，附黏著劑層之光學膜1及光學積層體可顯示良好之光學耐久性(可抑制光學特性之劣化性質)。
黏著劑層20之厚度通常為2至40μm，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性或附黏著劑 層之光學膜1的重工性等觀點而言，較佳係5至30μm，更佳係10至25μm。又，若黏著劑層20之厚度為10μm以上，則黏著劑層20對光學膜10之尺寸變化之追隨性為良好，若為25μm以下，重工性變良好。
黏著劑層20係在23至80℃之溫度範圍中顯示0.1至5MPa之貯存彈性率者為較佳。藉此，可更有效地提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性。「在23至80℃之溫度範圍中顯示0.1至5MPa之貯存彈性率」係意指在此範圍之任一溫度中，貯存彈性率為上述範圍內之值。貯存彈性率通常隨溫度上昇而漸減，故若在23℃及80℃中之貯存彈性率任一者均落入上述範圍，在此範圍之溫度中，可看到顯示上述範圍內之貯存彈性率。黏著劑層20之貯存彈性率係可使用市售之黏彈性測定裝置例如REOMETRIC公司製之黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」而測定。
[2-1](甲基)丙烯酸系樹脂(A)
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係以源自(甲基)丙烯酸系單體之構成單元作為主成分(較佳係含有50重量%以上)之聚合物或共聚物。(甲基)丙烯酸系單體係例如含有具有(甲基)丙烯醯基之單體，較佳係含有(甲基)丙烯酸烷酯。(甲基)丙烯酸烷酯具有之烷基係碳數較佳為1至14，更佳為1至12，再更佳為1至8，並可為直鏈狀、分枝狀或環狀構造。就(甲基)丙烯酸烷酯而言，亦可使用後述之於烷基導入取 代基而成之含有取代基的丙烯酸烷酯類之含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯。(甲基)丙烯酸烷酯係可只使用1種，亦可併用2種以上。
(甲基)丙烯酸烷酯之具體例係包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正-及異-丙酯、(甲基)丙烯酸正-、異-及第三-丁酯、丙烯酸正-及異-戊酯、(甲基)丙烯酸正-及異-己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸正-及異-庚酯、(甲基)丙烯酸正-及異-辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正-及異-壬酯、(甲基)丙烯酸正-及異-癸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸正-及異-十二碳基酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係含有源自均聚物之玻璃轉移溫度Tg為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之Tg為0℃以上的丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。此事係就提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性上為有利。丙烯酸烷酯之均聚物之Tg係可採用例如Polymer Handbook(Wiley-Interscience)等之文獻值。
丙烯酸烷酯(a1)之具體例係包含：丙烯酸乙酯、丙烯酸正-及異-丙基酯、丙烯酸正-及異-丁基酯、丙烯酸正-戊基酯、丙烯酸正-及異-己基酯、丙烯酸正-庚基酯、丙烯酸正-及異-辛基酯、丙烯酸2-乙基己基酯、丙烯酸正-及異-壬基酯、正-及異-癸基丙烯酸酯、丙烯酸正-十二碳基酯等烷基之碳數為2至12左右之丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯 (a1)之其他具體例可舉例如於烷基之碳數為2至12左右之丙烯酸烷酯中之烷基導入取代基之含有取代基的丙烯酸烷酯。含有取代基之丙烯酸烷酯之取代基係取代烷基之氫原子的基，其具體例係包含苯基、烷氧基、苯氧基。含有取代基之丙烯酸烷酯具體而言係可舉例如丙烯酸2-甲氧基乙基酯、丙烯酸乙氧基甲基酯、丙烯酸苯氧基乙基酯、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯等。丙烯酸烷酯(a1)之烷基係可具有脂環式構造，但較佳係直鏈狀或分枝構造之烷基。
丙烯酸烷酯(a1)係可僅使用1種，亦可併用2種以上。其中，丙烯酸烷酯(a1)係以含有選自丙烯酸乙酯、丙烯酸正-丁基酯、丙烯酸2-乙基己基酯之1種或2種以上為較佳。從附黏著劑層之光學膜1具有之黏著劑層20對光學膜10之追從性、重工性之觀點而言，丙烯酸烷酯(a1)係以含有丙烯酸正-丁基酯為較佳。
丙烯酸烷酯(a2)係丙烯酸烷酯(a1)以外之丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯(a2)之具體例係包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己基酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸第三-丁基酯等。
丙烯酸烷酯(a2)係可僅使用1種，亦可併用2種以上。其中，從耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點而言，丙烯酸烷酯(a2)係以含有丙烯酸甲酯、丙烯酸環己基酯、丙烯酸異冰片酯等為較佳，以含有丙烯酸甲酯為更佳。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之源自丙烯酸烷酯(a2)之構成單元之含量，從附黏著劑層之光學膜1及光 學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點而言，於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全構成單元100重量份中，較佳係10重量份以上，更佳係15重量份以上，再更佳係20重量份以上，特別佳係25重量份以上。又，黏著劑層20對光學膜10之追從性及重工性之觀點而言，源自丙烯酸烷酯(a2)之構成單元之含量較佳係70重量份以下，更佳係60重量份以下，再更佳係50重量份以下。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係可含有源自丙烯酸烷酯(a1)及(a2)以外之其他單體之構成單元。(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係可含有1種源自該其他單體之構成單元，亦可含有2種以上。將其他之單體之具體例表示於以下。
1)具有極性官能基之單體。
具有極性官能基之單體係可舉例如具有羥基、羧基、取代或無取代胺基、環氧基等雜環基等之取代基的(甲基)丙烯酸酯。具體而言係可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙基酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙基酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁基酯、(甲基)丙烯酸2-(2-羥乙氧基)乙基酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥丙基酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙基酯、二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等具有羥基之單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲基酯、己內酯改質丙烯酸四氫呋喃甲基酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲基酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基之單體；(甲基)丙烯 酸胺基乙基酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙基酯等具有取代或無取代胺基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙基酯等具有羧基之單體。其中，以具有羥基之單體為較佳，就(甲基)丙烯酸系樹脂(A)與交聯劑之反應性之點，以具有羥基之(甲基)丙烯酸酯為更佳。
亦可含有具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與上述具有其他極性官能基之單體，但從可防止積層於黏著劑層20之外面的分離膜之剝離力亢進的觀點，以實質上不含有具有胺基之單體為較佳。又，從提高對於ITO之耐腐蝕性的觀點而言，以實質上不含有具有羧基之單體為較佳。此處實質上不含有係指於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全構成單元100重量份中，為0.1重量份以下。
2)丙烯醯胺系單體。
可適宜使用例如N-羥甲基丙烯醯胺、N-(2-羥乙基)丙烯醯胺、N-(3-羥丙基)丙烯醯胺、N-(4-羥丁基)丙烯醯胺、N-(5-羥戊基)丙烯醯胺、N-(6-羥己基)丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)丙烯醯胺、N-[2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基]丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基 甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺[別名：N-(異丁氧基甲基)丙烯醯胺]、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基]丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基]丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基]丙烯醯胺[別名：N-(2-異丁氧基乙基)丙烯醯胺]、N-(2-丁氧基乙基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基]丙烯醯胺等。其中，較佳使用N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
3)甲基丙烯酸酯、亦即甲基丙烯酸之酯。
例如甲基丙烯酸甲基酯、甲基丙烯酸乙基酯、甲基丙烯酸丙基酯、甲基丙烯酸正-丁基酯、甲基丙烯酸正-辛基酯、甲基丙烯酸月桂基酯等甲基丙烯酸之直鏈狀烷基酯；甲基丙烯酸異丁基酯、甲基丙烯酸2-乙基己基酯、甲基丙烯酸異-辛基酯等甲基丙烯酸之分枝狀烷基酯；甲基丙烯酸異冰片基酯、甲基丙烯酸環己基酯、甲基丙烯酸二環戊基酯、甲基丙烯酸環十二碳基酯、甲基丙烯酸甲基環己基酯、甲基丙烯酸三甲基環己基酯、甲基丙烯酸第三-丁基環己基酯、甲基丙烯酸環己基苯基酯等甲基丙烯酸之脂環式烷基酯；甲基丙烯酸2-甲氧基乙基酯、甲基丙烯酸乙氧基甲基酯等甲基丙烯酸之烷氧基烷基酯；甲基丙烯酸苯甲基酯等 甲基丙烯酸芳烷基酯；甲基丙烯酸2-羥乙基酯、甲基丙烯酸3-羥丙基酯、甲基丙烯酸4-羥丁基酯、甲基丙烯酸2-(2-羥乙氧基)乙基酯、甲基丙烯酸2-氯-2-羥丙基酯、甲基丙烯酸3-氯-2-羥丙基酯、二乙二醇單甲基丙烯酸酯等具有羥基之甲基丙烯酸之烷基酯；甲基丙烯酸胺基乙基酯、甲基丙烯酸N，N-二甲基胺基乙基酯、甲基丙烯酸二甲基胺基丙基酯等具有取代或無取代胺基之甲基丙烯酸之烷基酯；甲基丙烯酸2-苯氧基乙基酯、甲基丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙基酯、(甲基)丙烯酸之環氧乙烷改質壬基酚酯(nonylphenol)、甲基丙烯酸2-(鄰-苯基苯氧基)乙基酯等具有苯氧基乙基之甲基丙烯酸之酯等。
4)甲基丙烯醯胺系單體。
例如對應於上述1)記載之丙烯醯胺系單體的甲基丙烯醯胺系單體。
5)苯乙烯系單體。
例如苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等之烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等之鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；二乙烯基苯等。
6)乙烯系單體。
例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己烷酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯；偏氯乙烯等偏鹵化乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈等。
7)於分子內具有複數之(甲基)丙烯醯基之單體。
例如1,4-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等於分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等於分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體等。
如上述，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性及耐金屬腐蝕性之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係除了源自(甲基)丙烯酸烷酯之構成單元，以包含源自具有極性官能基之單體的構成單元為較佳。具有極性官能基之單體係以具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯系單體為較佳，具有羥基之單體為更佳。源自具有極性官能基之單體的構成單元之含量係在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全構成單元100重量份中，較佳係0.1至10重量份，更佳係0.25至5重量份，再更佳係0.5至5重量份。
又，從附黏著劑層之光學膜1之重工性之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係甲基丙烯酸酯(甲基丙烯酸之酯)、甲基丙烯醯胺系單體等源自甲基丙烯酸系單體之構成單元之含量小，具體而言，該構成單元之含量係在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全構成單元100重量份中，較佳係10重量份以下，更佳係5重量份以下，以實質上不含有該構成單元(0.1重量份以下)為再更佳。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係凝膠滲透色層分析(GPC)中之排出曲線上之重量平均分子量Mw1000至250萬之範圍中具有單一波峰，更佳係Mw1000至250萬之範圍中具有單一波峰，且含有源自丙烯酸烷酯(a1)及(a2)之構成單元為更佳。以如此之(甲基)丙烯酸系樹脂(A)作為基質聚合物之黏著劑層20就提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性方面為有利。在上述Mw之範圍之波峰數為2以上時，有無法獲得充分耐久性之傾向。
當求出在Mw1000至250萬之範圍中之GPC排出曲線之波峰數時，係依據實施例之項記載之GPC測定條件而取得排出曲線。所得到之排出曲線之上述範圍中「具有單一波峰」係意指在Mw1000至250萬之範圍中只具有1個極大值。本說明書中係在GPC排出曲線中，將S/N比為30以上者定義為波峰。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係以GPC所得之標準聚苯乙烯換算之Mw為50萬至250萬之範圍，更佳為60萬至200萬之範圍。若Mw為50萬以上，對附黏著 劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性之提昇有利，亦有提升附黏著劑層之光學膜1之重工性的傾向。又，若Mw為250萬以下，黏著劑層20對光學膜10之尺寸變化之追随性良好。以重量平均分子量Mw及數平均分子量Mn之比Mw/Mn所示之分子量分布通常為2至10。(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之Mw及Mn係依照實施例之項記載之GPC測定條件而求出。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係以溶解於乙酸乙酯而成為濃度20重量%之溶液時，在25℃中之黏度為20Pa‧s以下較佳，以0.1至7Pa‧s為更佳。如此之範圍之黏度係對附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性之提昇、或附黏著劑層之光學膜1之重工性為有利。上述黏度係藉由Brookfield黏度計而測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係以示差掃描熱量計(DSC)所測定之玻璃轉移溫度Tg為-60至-10℃，以-55至-15℃為更佳。如此之範圍之Tg係對附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性之提昇為有利。
黏著劑組成物係亦可含有2種以上之屬於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的(甲基)丙烯酸系樹脂。又，黏著劑組成物係亦可含有與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)相異之其他之(甲基)丙烯酸系樹脂。但，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之含量在全部之(甲基)丙烯酸系樹脂之 合計中，較佳係70重量%以上，更佳係80重量%以上，再更佳係90重量%以上，黏著劑組成物以只含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)作為基質聚合物為特別佳。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)或可依需要而併用之其他之(甲基)丙烯酸系樹脂係可藉由例如溶液聚合法、塊狀聚合法、懸濁聚合法、乳化聚合法等公知之方法來製造。(甲基)丙烯酸系樹脂之製造中通常可使用聚合起始劑。聚合起始劑係相對於可使用於(甲基)丙烯酸系樹脂之製造的全部單體之合計100重量份，使用0.001至5重量份左右。又，(甲基)丙烯酸系樹脂係例如亦可利用藉由紫外線等活性能量線而進行聚合之方法來製造。
聚合起始劑係可使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。光聚合起始劑可舉例如4-(2-羥乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑可舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥甲基丙腈)之偶氮系化合物；月桂基過氧化物、第三-丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯、第三-丁基過氧化苯甲酸酯、異丙苯氫過氧化物、二異丙基過氧化二碳酸酯、二丙基過氧化二碳酸酯、第三-丁基過氧化新癸酸酯、第三-丁基過氧化三甲基乙酸酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物之有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫之無機過氧化物等。又，併用過氧化物 與還原劑之氧化還原系起始劑等亦可使用作為聚合起始劑。
(甲基)丙烯酸系樹脂之製造方法係在上面所示之方法中，亦以溶液聚合法為較佳。溶液聚合法之一例，係混合所使用之單體及有機溶劑，在氮環境下，添加熱聚合起始劑，以40至90℃左右，較佳係50至80℃左右，攪拌3至15小時左右。為控制反應，於聚合中連續或間歇性添加單體或熱聚合起始劑，或以溶解於有機溶劑之狀態添加。有機溶係可使用例如甲苯、二甲苯之芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁基酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮等酮類等。
[2-4]異氰酸酯系交聯劑(B)
黏著劑組成物係以含有異氰酸酯系交聯劑(B)為較佳。藉由使用異氰酸酯系交聯劑(B)作為交聯劑，可提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性。異氰酸酯系交聯劑(B)係可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。
異氰酸酯系交聯劑(B)係於分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物，具體上係可舉例如甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。又，異氰酸酯系交聯劑(D)係可 為此等異氰酸酯化合物之多元醇化合物加成物(例如甘油或三羥甲基丙烷之加成物)、三聚異氰酸酯化合物、縮二脲型化合物，更且可為與聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯醯基多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等進行加成反應而得之胺基甲酸酯預聚物型之異氰酸酯化合物等衍生物。上述之中，特別佳係甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯或此等異氰酸酯化合物的多元醇化合物加成物，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性觀點而言，以二甲苯二異氰酸酯或其多元醇化合物加成物為更佳。
異氰酸酯系交聯劑(B)之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，較佳係0.08至2.5重量份，更佳係0.1至2重量份(例如1重量份以下)。異氰酸酯系交聯劑(B)之含量在此範圍時，在附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性兼俱上為有利。
黏著劑組成物係可併用異氰酸酯系交聯劑(B)以及此以外之交聯劑，例如環氧化合物、氮丙啶化合物、金屬螯合物化合物、過氧化物等，但從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性觀點而言，黏著劑組成物以只含有異氰酸酯系交聯劑(B)作為交聯劑，特別是實質上不含過氧化物為較佳。此處，實質上不含係指相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之含量為0.01重量份以下。
[2-3]矽烷化合物(C)
黏著劑組成物係可含有矽烷化合物(C)。藉此，可提高黏著劑層20與金屬層30或玻璃基板等之密著性。亦可使用2種以上之矽烷化合物(C)。
矽烷化合物(C)係可舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物(C)係可含有聚矽氧寡聚物型者。若將聚矽氧寡聚物之具體例以單體彼此間之組合的形式表記，如下。
3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有氫硫基丙基之寡聚物；氫硫基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、氫硫基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、氫硫基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、 氫硫基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有氫硫基甲基之寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有3-環氧丙氧基丙基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、 3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基之寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有丙烯醯氧基丙基之寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、 乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有乙烯基之寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有胺基之共聚物等。
黏著劑組成物中之矽烷化合物(C)之含量係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，通常為0.01至10重量份，較佳係0.03至5重量份，更佳係0.05至2重量份，再更佳係0.1至1重量份。若矽烷化合物(B)之含量為0.01重量份以上，容易獲得黏著劑層20與金屬層30或玻璃基板等之密著性提昇效果。又若含量為10重量份以下，可抑制來自黏著劑層20之矽烷化合物(B)之滲出。
[2-4]離子性化合物(D)
黏著劑組成物係含有離子性化合物(D)。在1個實施形 態(第1實施形態)中離子性化合物(D)係對於60℃之水100g的溶解度為6g以下。離子性化合物(D)之溶解度較佳係3g以下，更佳係1g以下，再更佳係0.4g以下。藉由使用對於60℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物(D)，不僅可對黏著劑層20賦予良好之抗靜電性能，亦可賦予優異之耐金屬腐蝕性及光學耐久性。黏著劑組成物係可含有對於60℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物(D)1種或2種以上。
對於60℃之水100g之離子性化合物的溶解度可如下方式測定。亦即，混合經精秤之離子性化合物100mg及純水2mL之後，在攪拌下於溫度60℃保管24小時。然後，取樣水層之一部分(精秤量)，將此以使用於下述液體色層分析之移動相或構成此之液體介質稀釋後，將溶解於所得之測定試樣之離子性化合物的重量濃度定量，從此定量值求出溶解度。該定量通常係使用液體色層分析法。具體之測定條件可依據後述之實施例之項目的記載。但，難予以液體色層分析法定量時，可使用離子色層分析法(IC)、元素分析法、ICP發光法、電泳法等。
從上述溶解度之觀點，離子性化合物(D)之陽離子係以有機陽離子為佳。有機陽離子之具體例係包含吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四氫吡啶鎓陽離子、二氫吡啶鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。有機陽離 子較好具有取代基。例如藉由調整取代基之碳數，可控制離子性化合物(D)之上述溶解度。取代基例如為可含有雜原子之碳數1至20的烴基，較佳係可含有雜原子之碳數1至16的烴基。烴基例如為直鏈、分枝或環狀構造之烷基，較佳係直鏈或分枝構造之烷基。
第1實施形態之離子性化合物(D)所具有之陰離子係可為無機陰離子、有機陰離子之任一者。無機陰離子之具體例包含氯陰離子[Cl-]、溴陰離子[Br-]、碘陰離子[I-]、四氯化鋁陰離子[AlCl4 -]、七氯化二鋁陰離子[Al2Cl7 -]、四氟化硼陰離子[BF4 -]、六氟化磷陰離子[PF6 -]、過氯酸陰離子[ClO4 -]、硝酸根陰離子[NO3 -]、六氟化砷陰離子[AsF6 -]、六氟化銻陰離子[SbF6 -]、六氟化鈮陰離子[NbF6 -]、六氟化鉭陰離子[TaF6 -]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、(聚)氫氟化氟化物陰離子[F(HF)n -](n係1至3左右)等。
有機陰離子的具體例係包含乙酸根陰離子[CH3COO-]、三氟乙酸根陰離子[CF3COO-]、甲烷磺酸根陰離子[CH3SO3 -]、三氟甲烷磺酸根陰離子[CF3SO3 -]、對-甲苯磺酸根陰離子[p-CH3C6H4SO3 -]、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、參(三氟甲烷磺醯基)甲基陰離子[(CF3SO2)3C-]、二甲基膦酸根陰離子[(CH3)2POO-]、硫氰陰離子[SCN-]、全氟丁烷磺酸根陰離子[C4F9SO3 -]、雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺陰離子[(C2F5SO2)2N-]、全氟丁酸根陰離子[C3F7COO-]、(三氟甲烷磺醯基)(三氟甲烷羰基)亞胺陰離子[(CF3SO2)(CF3CO)N-]、全氟丙烷-1,3-二磺酸根陰離子 [-O3S(CF2)3SO3 -]、碳酸根陰離子[CO3 2-]、四芳基硼酸根陰離子(例如肆(五氟苯基)硼酸根陰離子等)、二氰亞胺陰離子[(CN)2N-]、及下述式(III)所示之亞胺陰離子等：
Figure 105109824-A0202-12-0041-5
 其中，含有氟原子之陰離子係有易獲得抗靜電性能優異之離子性化合物(D)的傾向，為較佳。特別係使用陰離子為雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子、上述式(III)所示之亞胺陰離子、或肆(五氟苯基)硼酸根陰離子之離子性化合物(D)時，對附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之抗靜電性能、耐金屬腐蝕性及光學耐久性的提昇上有利。其中，以雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子、上述式(III)所示之亞胺陰離子等含有氟原子之亞胺陰離子為較佳，以雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子為更佳，以雙(氟磺醯基)亞胺陰離子為再更佳。
此外，在其他之實施形態(第2實施形態)中離子性化合物(D)係下述式(I)所示之離子性化合物：
Figure 105109824-A0202-12-0041-6
 式中，R1及R2係分別獨立地表示氫原子、或可含雜原子之碳數1至16的烴基，R3係表示可含有雜原子之碳數4至20的烴基。X-表示含有氟原子之亞胺陰離子。構成R1、R2、R3之烴基係可為直鏈、分枝或環狀構造，又，可含有不飽和鍵，亦可不含有不飽和鍵。
藉由使用上述式(I)所示之離子性化合物(D)，對黏著劑層20不僅可賦予良好之抗靜電性能，亦可賦予優異之耐金屬腐蝕性及光學耐久性。黏著劑組成物係可含有上述式(I)所示之離子性化合物(D)1種或2種以上。上述式(I)所示之離子性化合物(D)從耐金屬腐蝕性及光學耐久性等之觀點，較佳為對於60℃之水100g的溶解度為6g以下。上述式(I)所示之離子性化合物(D)的溶解度更佳為3g以下，再更佳為1g以下，特佳為0.4g以下。
R1及R2較佳係分別獨立地為氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16的直鏈、分枝或環狀構造之烷基。R3較佳係可含有雜原子之碳數4至20的直鏈或分枝構造之烷基。R3之碳數較佳係4至10，更佳係4至8，再更佳為4或5。
上述式(I)所示之離子性化合物(D)的陽離子之具體例係包含哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四氫吡啶鎓陽離子、二氫吡啶鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子等。此等陽離子可具有取代基。取代基例如為可含有雜原子之碳 數1至20之烴基，較佳係碳數1至16之烴基。烴基例如為直鏈、分枝或環狀構造之烷基，較佳係直鏈或分枝構造之烷基。
從偏光板之薄膜化的觀點而言，如第2圖所示之偏光板10a，以只於偏光子2之單面配置樹脂膜之構成為有利。此時，通常於偏光子2之另一面直接貼合黏著劑層20而成為附黏著劑層之光學膜1(參照第4圖)。為此種構成的偏光板時，由於黏著劑層20所含有之離子性化合物而在高溫高濕環境下使偏光板之光學性能降低之問題特別顯著，但若藉由含有上述式(I)所示之離子性化合物(D)的黏著劑組成物(例如具有吡咯啶鎓陽離子之離子性化合物(D)的黏著劑組成物)，則即使為使用此種偏光板作為光學膜10時，亦可提供具有良好之光學耐久性(可抑制光學特性劣化之性質)的附黏著劑層之光學膜1及光學積層體。
進一步，在其他之實施形態(第3實施形態)中離子性化合物(D)係下述式(II)所示之離子性化合物：
Figure 105109824-A0202-12-0043-7
 藉由使用上述式(II)所示之離子性化合物(D)，不僅可對黏著劑層20賦予良好之抗靜電性能，可賦予優異之耐金屬腐蝕性及光學耐久性。黏著劑組成物係可含有上述式(II) 所示之離子性化合物(D)1種或2種以上。從耐金屬腐蝕性及光學耐久性等之觀點，上述式(II)所示之離子性化合物(D)較佳為對於60℃之水100g的溶解度為6g以下。上述式(II)所示之離子性化合物(D)之溶解度較佳為3g以下，更佳為1g以下，特佳為0.4g以下。
上述式(II)中，R4係表示碳數3至16之直鏈或分枝構造之烷基，R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、醚基、羧基、羰基或鹵素原子，相隣之取代基亦可合併形成環。X-係表示與上述式(I)中之X-相同意義。上述式(II)所示之離子性化合物(D)係亦可成為對於60℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物之適當例。
可具有取代基之烷基係碳數1至30之烷基為較佳，其具體例係包含例如甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二碳基、十八碳基、異丙基、異丁基、第二-丁基、第三-丁基、1-乙基戊基、環戊基、環己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲醯甲基、1-萘甲醯基甲基、2-萘甲醯基甲基、4-甲基硫基苯甲醯甲基、4-苯基硫基苯甲醯甲基、4-二甲基胺基苯甲醯甲基、4-氰基苯甲醯甲基4-甲基苯甲醯甲基、2-甲基苯甲醯甲基、3-氟苯甲醯甲基、3-三氟甲基苯甲醯甲基、3-硝基苯甲醯甲基。
可具有取代基之烯基係以碳數2至10之烯基為較佳，其具體例係例如包含乙烯基、烯丙基、苯乙烯 基。可具有取代基之炔基係以碳數2至10之炔基為較佳，其具體例係包含例如乙炔基、丙炔基、炔丙基。
可具有取代基之芳基係以碳數6至30的芳基為較佳，其具體例係包含例如苯基、聯苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基、9-菲基、1-芘基、5-稠四苯基、1-茚基、2-薁基(azulenyl)、9-茀基、聯三苯基、聯四苯基、鄰-、間-、及對-甲苯基、二甲苯基、鄰-、間-、及對-異丙苯基、均三甲苯基、並環戊二烯基、聯萘基、聯三萘基、聯四萘基、並環庚三烯基、伸聯苯基、二環戊二烯並苯基、螢蒽基、苊基、苯並苊基、丙烯合萘基(Phenalenyl)、茀基、蒽基、聯蒽基、聯三蒽基、聯四蒽基、蒽醌基、菲基、伸三苯基、芘基、苯並菲基、伸四苯基、七曜烯基、苉基、苝基、五苯基、稠五苯基、四伸苯基、六苯基、稠六苯基、茹基、蔻基(coromenyl)、聯伸三萘基、七苯基、稠七苯基、芘蒽基、莪基。
可具有取代基之雜環基係以含有氮原子、氧原子、硫原子、磷原子之芳香族或脂肪族之雜環為佳，其具體例係例如噻吩基、苯並[b]噻吩基、萘並[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、吡喃基、異苯並呋喃基、苯並哌喃基、呫噸基(xanthenyl)、啡
Figure 105109824-A0202-12-0045-29
噻基、2H-吡咯基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、吡
Figure 105109824-A0202-12-0045-30
基、嘧啶基、嗒
Figure 105109824-A0202-12-0045-31
基、中氮茚基(indolizinyl)、異吲哚基、3H-吲哚基、吲哚基、1H-吲唑基、嘌呤基、4H-喹
Figure 105109824-A0202-12-0045-32
基、異喹啉基、喹啉基、酞
Figure 105109824-A0202-12-0045-33
基、萘啶基(Naphthyridinyl)、喹
Figure 105109824-A0202-12-0045-34
啉基、喹唑啉基、辛啉基 (Cinnolinyl)、喋啶基、4aH-咔唑基、咔唑基、β-咔啉基、啡啶基、吖啶基、呸啶基、啡啉基、啡
Figure 105109824-A0202-12-0046-35
基、啡噻
Figure 105109824-A0202-12-0046-36
基、異噻唑基、啡噻
Figure 105109824-A0202-12-0046-37
基、異
Figure 105109824-A0202-12-0046-38
唑基、呋吖基、啡
Figure 105109824-A0202-12-0046-39
基、異香豆素基、香豆素基、吡咯啶基、吡咯啉基、咪唑啶基、咪唑啉基、吡唑啶基、吡唑基、哌啶基、哌
Figure 105109824-A0202-12-0046-40
基、吲哚啉基、異吲哚啉基、奎寧啶基、嗎啉基、噻噸酮基。
上述可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、及可將可具有取代基之雜環基的氫原子取代之取代基的具體例係包含例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子；甲氧基、乙氧基、第三-丁氧基等烷氧基；苯氧基、對-甲苯氧基等芳基氧基、甲氧基羰基、丁氧基羰基、苯氧基羰基、乙烯基氧羰基、芳基氧羰基等烷氧基羰基；乙醯氧基、丙醯氧基、苯甲醯基氧基等醯氧基；乙醯基、苯甲醯基、異丁醯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、甲氧草醯基等醯基；甲基硫基、第三-丁基硫基等烷基硫基；苯基硫基、對甲苯基硫基等芳基硫基；甲基胺基、環己基胺基等之烷基胺基；二甲基胺基、二乙基胺基、N-嗎啉基、N-哌啶基等二烷基胺基；苯基胺基、對甲苯基胺基等芳基胺基；甲基、乙基、第三-丁基、十二碳基等烷基；苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、萘基、蒽基、菲基等芳基；羥基、羧基、碸醯胺基、甲醯基、氫硫基、磺基、均三甲苯基、對甲苯磺醯基、胺基、硝基、亞硝基、氰基、三氟甲基、三氯甲基、三甲基矽基、膦酸亞基、磷醯基、烷基磺醯基、 芳基磺醯基、三烷基銨基、二甲基鋶基、三苯基苯甲醯甲基鏻基。
在上述式(II)所示之離子性化合物(D)具有之N-取代吡啶鎓陽離子中R4為碳數3至16之直鏈或分枝構造之烷基。R5至R9係分別獨立地較佳為氫原子、碳數1至20之直鏈、分枝或環狀構造之烷基、羥基、或鹵素原子，更佳為氫原子或碳數1至20之直鏈或分枝構造之烷基，再更佳為氫原子或碳數1至16之直鏈或分枝構造之烷基。
在上述式(I)及(II)中之X-表示含氟原子之亞胺陰離子。使用陰離子為含氟原子之亞胺陰離子的離子性化合物(D)係於附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之抗靜電性能、耐金屬腐蝕性及光學耐久性之提升上為有利。其中，較佳係雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子、上述式(III)所示之亞胺陰離子等含氟原子之亞胺陰離子，以雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子為更佳，以雙(氟磺醯基)亞胺陰離子為再更佳。
若舉出上述式(I)或(II)所示之離子性化合物(D)的較佳例，係下述式(IV)所示之離子性化合物：
Figure 105109824-A0202-12-0047-8
 上述式(IV)中，R4為碳數3至16之直鏈或分枝構造之烷基，R5至R9係分別獨立地為氫原子或碳數1至16之直鏈或分枝構造之烷基。X1 -係雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子或雙(氟磺醯基)亞胺陰離子。
黏著劑組成物中之離子性化合物(D)的含量係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，較佳係0.1至10重量份，更佳係0.2至8重量份，再更佳係0.3至5重量份，特別較佳係0.5至3重量份。離子性化合物(D)之含量為0.1重量份以上係對於抗靜電性能之提昇上有利，為10重量份以下係對於附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性上有利。
黏著劑組成物係可併用第1、第2及/或第3實施形態之離子性化合物(D)以及此等以外之抗靜電劑，但從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性等觀點，黏著劑組成物較佳係僅含有第1、第2及/或第3實施形態之離子性化合物(D)作為抗靜電劑。
[2-5]其他之成分
黏著劑組成物係可含有溶劑、交聯觸媒、紫外線吸收劑、耐候安定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充劑、光散射性微粒子等添加劑1種或2種以上。其他，亦可於黏著劑組成物中調配紫外線硬化性化合物，形成黏著劑層之後照射紫外線使其硬化，有用於形成更硬之黏著劑層。交聯觸媒係可舉例如六亞甲基二胺、乙二胺、 聚乙烯亞胺、六亞甲基四胺、二乙三胺、三乙四胺、異佛酮二胺、三亞甲基二胺、聚胺基樹脂及三聚氰胺樹脂等胺系化合物。
黏著劑組成物係可含有用以提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性的防鏽劑。防錆劑係苯並三唑系化合物、其他之三唑系化合物等三唑系化合物；苯並噻唑系化合物、其他之噻唑系化合物等噻唑系化合物；苯甲基咪唑系化合物、其他之咪唑系化合物等咪唑系化合物；咪唑啉系化合物；喹啉系化合物；吡啶系化合物；嘧啶系化合物；吲哚系化合物；胺系化合物；脲系化合物；苯甲酸鈉；苯甲基氫硫基系化合物；二-第二-丁基硫醚；及二苯基亞碸。
但，若依據本發明，即使不含有防鏽劑，亦可獲得充分之耐金屬腐蝕性，故防鏽劑之含量係儘可能地小為較佳。特別，黏著劑組成物係以實質上不含有作為防鏽劑之三唑系化合物為較佳，以實質上不含有選自上述化合物群之防鏽劑為更佳。此處實質上不含係謂相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之含量為0.01重量份以下。
[3]金屬層及基板
金屬層30係可為包含例如選自由鋁、銅、銀、金、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛及含有選自此等之2種以上金屬的合金所組成之群的1種以上之層，從導電性之觀點而言，較佳係包含選自由鋁、銅、銀及金所組成之群的金 屬元素之層，從導電性及成本之觀點而言，更佳係包含鋁元素之層，再更佳係包含鋁元素作為主成分之層。含有作為主成分係謂構成金屬層30之金屬成分為全金屬成分之30重量%以上，更且係50重量%以上。
金屬層30係可為例如ITO等金屬氧化物層，但本發明之附黏著劑層之光學膜1係特別對於金屬單體或合金之耐腐蝕性為良好，故金屬層30係以包含由上述金屬元素所構成之金屬單體及/或含有上述金屬元素2種以上之合金為較佳。但，光學積層體係亦可具有如此之金屬層30以及由ITO等金屬氧化物所構成之透明電極層。
金屬層30之形態(例如厚度等)或調製方法係無特別限定，可為金屬箔之外，亦可為藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法、噴墨印刷法、凹版印刷法所形成者，但較佳係以濺鍍法、噴墨印刷法、凹版印刷法所形成之金屬層，更佳係以濺鍍所形成之金屬層。以濺鍍所形成之金屬層及金屬箔係前者有耐腐蝕性較差之傾向，但若依據本發明之光學積層體，即使對於以濺鍍所形成之金屬層，亦具有良好之耐金屬腐蝕性。金屬層30之厚度通常為3μm以下，較佳係1μm以下，更佳係0.8μm以下。又，金屬層30之厚度通常為0.01μm以上。更且，金屬層30為金屬配線層之時，其金屬配線層具有之金屬配線的線寬通常為10μm以下，較佳係5μm以下，再更佳係3μm以下。又，金屬配線之線寬通常為0.01μm以上，較佳係0.1μm以上，再更佳係0.5μm以上。對於如此薄膜的金屬層30 或細線之金屬配線所構成之金屬層30，本發明之光學積層體亦顯示良好之耐金屬腐蝕性。特別，金屬配線例如為厚度3μm以下，線寬為10μm以下時，或厚度為3μm以下且線寬為10μm以下，即使以濺鍍法所形成時，亦可抑制其腐蝕特別是孔蝕。
金屬層30係例如可為觸控輸入式液晶顯示裝置具有之觸控輸入元件的金屬配線層(亦即電極層)。此時，金屬層30一般係圖型化為預定之形狀。於被圖型化之金屬層30上積層黏著劑層20時，黏著劑20係可具有未接觸金屬層30之部分。金屬層30係可為包含上述金屬或合金之連續膜。
又，金屬層30係可為單層構造，亦可為2層或3層以上之多層構造。多層構造之金屬層係可舉例如以鉬/鋁/鉬表示之3層構造的含有金屬的層(金屬網目等)。
如第1圖所示，例如為金屬配線層之金屬層30通常形成於基板40上，此時，本發明之光學積層體係包含此基板40。於基板40上之金屬層30的形成係可藉由例如濺鍍來進行。基板40係可為構成觸控輸入元件中所含之液晶單元的透明基板。基板40較佳係玻璃基板。玻璃基板之材料可舉例如鈉鈣玻璃、低鹼玻璃、無鹼玻璃等。金屬層30係可形成於基板40全面，亦可形成於其一部分。基板40上形成被圖型化之金屬層30時等、於基板40之表面的一部份形成金屬層30時，係黏著劑層20之一部分例如與玻璃所構成之基板40直接接觸，但本發明之光學積層 體中之黏著劑層20係與玻璃之密著性亦優異，故光學積層體、及具備該光學積層體之液晶顯示裝置係在此情況的耐久性亦優異。
[4]光學積層體之構成及製造方法
在1個實施形態中，本發明之光學積層體係如第4圖及第5圖所示，包含附黏著劑層之光學膜1、及積層於其黏著劑層20側之金屬層30。於第4圖及第5圖所示之光學積層體5，6中，附黏著劑層之光學膜1係以其黏著劑層20直接接觸金屬層30之方式積層於金屬層30上。若依據本發明，如此地，即使以黏著劑層20直接接觸金屬層30之方式構成的光學積層體中，亦可有效地抑制金屬層30之腐蝕。
第6圖係表示本發明之光學積層體的層構成之其他一例的概略剖面圖。其他之實施形態中，本發明之光學積層體係如第6圖所示之光學積層體7，附黏著劑層之光學膜1之黏著劑層20係透過樹脂層50而積層於金屬層30。黏著劑層20係直接接觸樹脂層50。即使在如此之光學積層體7中，亦可有效地抑制金屬層30之腐蝕。配置於黏著劑層20及金屬層30之間的樹脂層50係例如可為硬化性樹脂之硬化物層。可形成樹脂層50之硬化性樹脂係可使用公知者，可舉例如日本特開2009-217037號公報記載者。
如上述，金屬層30係可為金屬配線層。將 金屬層30為金屬配線層時之一例表示於第7圖。第7圖所示之光學積層體中，樹脂層50係亦可被省略。
光學積層體係例如在形成於基板40上之金屬層30上，將包含光學膜10及積層於其至少一面上之黏著劑層20的附黏著劑層之光學膜1透過其黏著劑層20貼合即可製作。
如上述，附黏著劑層之光學膜1係包含光學膜10及積層於其至少一面之黏著劑層20(第1圖)。亦可於光學膜10之雙面積層黏著劑層20。通常，黏著劑層20係直接積層於光學膜10之表面。將黏著劑層20設於光學膜10之表面時，較佳係於光學膜10之貼合面及/或黏著劑層20之貼合面形成底塗層、或施予表面活性化處理例如電漿處理、電暈處理等，以實施電暈處理為更佳。
光學膜10為如第2圖所示之單面保護偏光板時，通常在與偏光片面、亦即與偏光片2中之第1樹脂膜3為相反側之面，較佳係直接積層黏著劑層20。光學膜10為如第3圖所示之雙面保護偏光板時，可在第1，第2樹脂膜3，4之任一外面積層黏著劑層20，亦可於兩方之外面積層黏著劑層20。
於光學膜10及黏著劑層20之間係可另外地設置抗靜電層，但由於本發明之黏著劑層20以黏著劑層單獨即可賦予優異之抗靜電性，故以光學積層體之薄膜化或積層體製作步驟之簡單化之點，以於光學膜10及黏著劑層20之間不具有抗靜電層為較佳。
附黏著劑層之光學膜1係亦可含有積層於黏著劑層20之外面的分離膜(剝離膜)。此分離膜通常於黏著劑層20之使用時(例如於金屬層30上之積層時)被剝離除去。分離膜係例如可對由聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酸酯等各種樹脂所構成之膜形成黏著劑層20之面，施予聚矽氧處理等離型處理者。
附黏著劑層之光學膜1係將構成上述黏著劑組成物之各成分溶解或分散於溶劑而形成含有溶劑之黏著劑組成物，然後，將其塗布於光學膜10之表面並乾燥而形成黏著劑層20即可製得。又，附黏著劑層之光學膜1係可藉由於分離膜之離型處理面與上述同樣地形成黏著劑層20，使該黏著劑層20積層(轉印)於光學膜10之表面而製得。
可藉由於金屬層30(或上述樹脂層)上將附黏著劑層之光學膜1透過其黏著劑層20貼合，以獲得光學積層體。貼合附黏著劑層之光學膜1及金屬層30而製作光學積層體後，有任何不佳情形時，有時必須將附黏著劑層之光學膜1從金屬層30剝離，再將另外之附黏著劑層之光學膜1重新貼合於金屬層30，而有所謂重工作業。本發明之光學積層體係於將附黏著劑層之光學膜1從金屬層30剝離之後的金屬層30之表面不易產生霧化或殘糊等，且重工性優異。若依據本發明之光學積層體，貼合黏著劑層20之表面並非金屬層30，而為玻璃基板或ITO層之時亦可顯示良好的重工性。
<液晶顯示裝置>
本發明之液晶顯示裝置係含有上述本發明之光學積層體者。本發明之液晶顯示裝置係可抑制金屬層30之腐蝕，又，顯示良好的耐久性。
本發明之液晶顯示裝置較佳係具有觸控面板機能之觸控輸入式液晶顯示裝置。觸控輸入式液晶顯示裝置係具備含有液晶單元之觸控輸入元件及背光。觸控面板之構成係可為外掛式(out cell)型、內掛式(on cell)型、內嵌式(in cell)型等以往公知之任一方式，又，觸控面板之動作方式係可為電阻膜方式、靜電容量方式(表面型靜電容量方式、投影型靜電容量方式)等以往公知之任一方式。本發明之光學積層體係可配置於觸控輸入元件(液晶單元)之辨視側，可配置於背光側，亦可配置於兩方。液晶單元之驅動方式係可為TN方式、VA方式、IPS方式、多域方式、OCB方式等以往公知之任一方式。本發明之液晶顯示裝置中，光學積層體具有之基板40係可為上述液晶單元所含之基板(典型為玻璃基板)。
[實施例]
以下，顯示實施例及比較例而更具體地說明本發明，但本發明係不限定於此等之例。以下，表示使用量、含量之份及%係只要無特別聲明，為重量基準。
<製造例1：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之製造 >
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，加入表1所示之組成(表1之數值為重量份)之單體與乙酸乙酯81.8份混合而得到之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣取代後，使內溫為60℃。其後，添加將偶氮雙異丁腈0.12份溶解於乙酸乙酯10份而得之溶液。以相同溫度保持1小時後，將內溫保持於54至56℃，並以添加速度17.3份/Hr將乙酸乙酯以聚合物之濃度成為約35%之方式連續加入於反應容器內。從乙酸乙酯之添加開始經過12小時為止將內溫保持於54至56℃之後，加入乙酸乙酯以使聚合物之濃度成為20%之方式進行調整，製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液。(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之重量平均分子量Mw係139萬，重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。凝膠滲透色層分析(GPC)之排出曲線中，Mw139萬之成分係表示單一之波峰，Mw1000至250萬之範圍中看不出其他之波峰。
<製造例2：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之製造>
除了使單體之組成成為如表1所示以外，係與製造例1同樣做法，製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)。(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之重量平均分子量Mw為141萬，Mw/Mn為4.71。GPC之排出曲線中，Mw141萬之成分係顯示單一之波峰，Mw1000至250萬之 範圍中，看不出其他之波峰。
<製造例3：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-3)之製造>
除了使單體之組成為如表1所示以外，其餘係與製造例1同樣做法，獲得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-3)之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)。(甲基)丙烯酸系樹脂(A-3)之重量平均分子量Mw為75萬、Mw/Mn為5.02。在GPC之排出曲線中，Mw75萬之成分顯示單一之波峰，Mw1000至250萬之範圍中看不出其他之波峰。
上述之製造例中，重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn係於GPC裝置將東曹(股)製之「TSKgel XL」4根、及昭和電工(股)製之「Shodex GPC KF-802」1根之共計5根串聯連接配置作為管柱，使用四氫呋喃作為溶離液，以試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分之條件，藉標準聚苯乙烯換算來測定。製得GPC之排出曲線時之條件亦與此相同。
玻璃轉移溫度Tg係使用SII Nanotechnology(股)公司製之示差掃描熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，在氮氣環境下、以測定溫度範圍-80至50℃、昇溫速度10℃/分之條件測定。
各製造例中之單體之組成(表1之數值為重量份)、及GPC之排出曲線上之Mw1000至250萬之範圍中之波峰數(表1中表記為「GPC波峰數」)彙整於表1中。
Figure 105109824-A0202-12-0058-9
於表1之「單體組成」之欄中的簡稱係意指如下之單體。
BA：丙烯酸丁酯(均聚物之玻璃轉移溫度：-54℃)、MA：丙烯酸甲酯(均聚物之玻璃轉移溫度：10℃)、2EHA：丙烯酸2-乙基己酯(均聚物之玻璃轉移溫度：-50℃)、HEA：丙烯酸2-羥乙基酯。
AM：丙烯醯胺、M-90G：甲氧基聚乙二醇# 400甲基丙烯酸酯(EO 9mol)，取自新中村化學工業(股)之商品名「M-90G」。
<實施例1至9、比較例1>
(1)黏著劑組成物之調製
於上述製造例所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液之固形分100份，將表2所示之異氰酸酯系交聯劑(B)、矽烷化合物(C)、 及離子性化合物(D)分別以表2所示之量(重量份)混合，更且以固形分濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯而製得黏著劑組成物。當所使用之商品含有溶劑等之時，表2所示之各配合成分之配合量係其中所含之作為有效成分之重量份數。
Figure 105109824-A0202-12-0059-10
表2中以簡稱表示之各配合成分之內容係如下。
(異氰酸酯系交聯劑)
B-1：二甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)、取自三井化學(股)之商品名「Takenate D-110N」。
(矽烷化合物)
C-1：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，由信越化學工業(股)取得之商品名「K BM403」。
(離子性化合物)
D-1：N-丙基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺、D-2：N-辛基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺、D-3：N-癸基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺、D-4：N-十二碳基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺。D-5：N-十六碳基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺、D-6：1-乙基-1-甲基吡咯啶鎓 雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺、D-7：N-甲基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺。
表2中之「溶解度」係對於60℃之水100g的離子性化合物(D)之溶解度(g)。該溶解度係依據如下之順序求出。首先，混合經精秤之離子性化合物100mg與純水2mL之後，於攪拌下以溫度60℃保管24小時。取得之離子性化合物含有溶劑時，係可藉減壓蒸餾除去溶劑而獲得乾固之離子性化合物，再精秤。然後，取樣水層之一部分(精秤量)，將此以乙腈適度地稀釋後，將溶解於所得之測定試樣之離子性化合物的重量濃度藉由液體色層質量分析法(LC/MS)之絶對檢量線法來定量。LC/MS之測定條件如下。依據定量結果，求出離子性化合物(D)之溶解度。
分析裝置：Agilent Technologies LC/MS裝置1260型/6130型
分離管柱：Kinetex 2.6u C18 100A(3.0×100mm，2.7μm)
移動相：添加0.05% TFA之水/乙腈之混合溶劑的梯度法
移動相之流量：0.5mL/min.
試樣注入量：2.5μL
烘箱溫度：40℃
UV檢測波長：254nm
MS檢測條件：電子噴射離子化(ESI)法Positive。
又，對於離子性化合物D-1至D-5及D-7係UV檢測器(波長254nm)、離子性化合物D-6係藉由MS檢測器之選擇離子檢測(SIM)模式而進行定量(偵測質量m/z=114)。
(2)黏著劑層之作製
於被施予離型處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜所構成之分離膜[取自Lintec(股)之商品名「PLR-382051」]之離型處理面，使用薄塗器(applicator)以乾燥後之厚度成為20μm之方式塗布上述(1)所調製之各黏著劑組成物，以100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(黏著劑片)。
(3)附黏著劑層之光學膜(P-1)之製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度60μm之聚乙烯醇膜[(股)Kuraray製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#6000」]浸漬於37℃之純水後，以30℃浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。其後，以56.5℃浸漬於含有碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃之純水洗浄後，以85℃乾燥，獲得於聚乙烯醇吸附配向有碘之厚度約23μm之偏光片。延伸主要係於碘染色及硼酸處理之步驟進行，整體之延伸倍率為5.3倍。
於所得到之偏光片之單面透過聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之接著劑而貼合厚度25μm之三乙醯基纖維素膜所構成之透明保護膜[Konica Minolta Opto(股)製之商品名「KC2UA」]。然後，於與上述偏光片之三乙醯基纖維素膜為相反側之面，透過聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之接著劑而貼合厚度23μm之環狀聚烯烴系樹脂所構成之零相位差膜[日本Zeon(股)製之商品名「ZEONOR」]，製作偏光板。然後，於零相位差膜之與偏光片接觸之面為相反側之面，在施予用以提升密著性之電暈放電處理後，以積層機貼合與上述(2)製作之黏著劑層的分離膜為相反側之面(黏著劑層面)後，以溫度23℃、相對濕度65%之條件熟成7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-1)。
(4)附黏著劑層之光學膜(P-2)之製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度30μm之聚乙烯醇膜[(股)Kuraray製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#3000」]浸漬於37℃之純水後，以30℃浸漬於含有 碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。其後，以56.5℃浸漬於含有碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃之純水洗浄後，以85℃乾燥，獲得於聚乙烯醇吸附配向有碘之厚度約12μm之偏光片。延伸主要係於碘染色及硼酸處理之步驟進行，整體之延伸倍率為5.3倍。
於所得到之偏光片之單面透過聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之接著劑而貼合厚度25μm之三乙醯基纖維素膜所構成之透明保護膜[Konica Minolta Opto(股)製之商品名「KC2UA」]而製作偏光板。然後，於偏光片之與貼合有保護膜之面為相反之面，以積層機貼合與上述(2)所製作之黏著劑層的分離膜為相反側之面(黏著劑層面)後，以溫度23℃、相對濕度65%之條件熟成7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-2)。
(5)附黏著劑層之光學膜之耐金屬腐蝕性評價
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)裁切為20mm×50mm大小的試驗片，透過黏著劑層而貼附於附金屬層之玻璃基板的金屬層側。附金屬層之玻璃基板係使用於無鹼玻璃表面藉由濺鍍而積層厚度約500nm之金屬鋁層的玻璃基板(Geomatec公司製)。將所得到之光學積層體於溫度60℃、相對濕度90%之烘箱中保管500小時後，將貼黏於附黏著劑層之光學膜的部分之金屬層之狀態從玻璃基板之背面照射光線而從偏光板表面經由放大鏡觀察，對於孔 蝕(直徑0.1mm以上，可透過光之孔的發生)以如下之基準評價。結果表示於表3中。
4：產生於金屬層表面之孔蝕之數量為2個以下、3：產生於金屬層表面之孔蝕之數量為3個至5個、2：產生於金屬層表面之孔蝕之數量為6個以上、1：於金屬層表面之全面產生許多數量之孔蝕，且亦產生白濁。
(6)附黏著劑層之光學膜之耐久性評價
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)以偏光板之延伸軸方向成為長邊之方式裁切成200mm×150mm之大小並剝離分離膜，將所露出之黏著劑層面貼合於玻璃基板。將所得到之貼黏有玻璃基板之試驗片(貼黏有玻璃基板之附黏著劑層的光學膜)於高壓釜中以溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3kPa)加壓20分鐘。玻璃基板係使用康寧公司製之無鹼玻璃 商品名「Eagle XG」。對於所得到之光學積層體，實施下列之3種耐久性試驗。
[耐久性試驗]
‧溫度85℃之乾燥條件下保持750小時之耐熱試驗、‧溫度60℃、相對濕度90%之環境下保持750小時之耐濕熱試驗、‧以在溫度85℃之乾燥條件下保持30分鐘，然後，在溫 度-40℃之乾燥條件下保持30分鐘之操作作為1循環，將此重複400循環之耐熱衝擊(HS)試驗。
目視觀察試驗後之各光學積層體，以目視觀察黏著劑層之浮起、剝離、發泡等外觀變化之有無，依據下述之評價基準而評估耐久性。將結果表示於表3中。
4：完全看不出浮起、剝離、發泡等外觀變化、3：幾乎看不出浮起、剝離、發泡等外觀變化、2：浮起、剝離、發泡等外觀變化略醒目、1：明顯看出浮起、剝離、發泡等外觀變化。
(7)附黏著劑層之光學膜之重工性評價
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)裁切成25mm×150mm之大小的試驗片。從試驗片剝離分離膜，將其黏著劑面貼於玻璃基板。將所得到之貼附有玻璃基板之試驗片(貼附有玻璃基板之附黏著劑層的光學膜)於高壓釜中以溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3kPa)加壓20分鐘。然後，於50℃之烘箱中保管48小時，更且，在溫度23℃、相對濕度50%之環境中，從試驗片將光學膜與黏著劑層一起以300mm/分之速度朝180°方向剝離。觀察剝離後之玻璃基板表面之狀態，以下列之基準評價。結果表示於表3中。
4：於玻璃基板之表面完全看不出霧化等、3：於玻璃基板之表面幾乎看不出霧化等、 2：於玻璃基板之表面可看到霧化等、1：於玻璃基板之表面可看到黏著劑層之殘留。
Figure 105109824-A0202-12-0066-11
<製造例4：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之製造>
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，加入由表4所示之組成(表4之數值為重量份)之單體與乙酸乙酯81.8份混合所得到之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣取代後，使內溫為60℃。其後，添加將偶氮雙異丁腈0.12份溶解於乙酸乙酯10份而得之溶液。以相同溫度保持1小時後，將內溫保持於54至56℃，同時並以使添加速度17.3份/Hr將乙酸乙酯以使聚合物之濃度成 為約35%之方式連續加入於反應容器內。從乙酸乙酯之添加開始經過12小時為止將內溫保持於54至56℃之後，加入乙酸乙酯以使聚合物之濃度成為20%之方式進行調整，製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液。(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之重量平均分子量Mw係139萬，重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。凝膠滲透色層分析(GPC)之排出曲線中，Mw139萬之成分係顯示單一之波峰，Mw1000至250萬之範圍中看不出其他之波峰。
上述之製造例中，重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn係於GPC裝置將東曹(股)製之「TSKgel XL」4根、及昭和電工(股)製之「Shodex GPC KF-802」1根之共計5根串聯連接配置作為管柱，使用四氫呋喃作為溶離液，以試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分之條件，藉標準聚苯乙烯換算來測定。製得GPC之排出曲線時之條件亦與此相同。
玻璃轉移溫度Tg係使用SII Nanotechnology股式公司製之示差掃描熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，在氮氣環境下、以測定溫度範圍-80至50℃、昇溫速度10℃/分之條件測定。
製造例4中之單體之組成(表4之數值為重量份)、及GPC之排出曲線上之Mw1000至250萬之範圍中之波峰數(表4中表記為「GPC波峰數」)彙整於表4中。
Figure 105109824-A0202-12-0068-12
表4之「單體組成」的欄之簡稱係意指如下之單體。
BA：丙烯酸丁酯(均聚物之玻璃轉移溫度：-54℃)、MA：丙烯酸甲酯(均聚物之玻璃轉移溫度：10℃)、HEA：丙烯酸2-羥乙基酯。
<實施例10至14、比較例2>
(1)黏著劑組成物之調製
於製造例4所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液之固形分100份，將表5所示之異氰酸酯系交聯劑(B)、矽烷化合物(C)、離子性化合物(D)分別以表5所示之量(重量份)混合，更且以使固形分濃度為14%之方式添加乙酸乙酯而製得黏著劑組成物。當所使用之商品含有溶劑等之時，表5所示之各配合成分之配合量係其中所含之有效成分之重量份數。
Figure 105109824-A0202-12-0069-13
在表5中以簡稱所示之各調配成分的內容如下。
(異氰酸酯系交聯劑)
B-1：二甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)、取自三井化學(股)之商品名「Takenate D-110N」。
(矽烷化合物)
C-1：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、取自信越化學工業(股)之商品名「K BM403」。
(離子性化合物)
D-1：N-丙基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺、D-3：N-癸基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺、D-6：1-乙基-1-甲基吡咯啶鎓 雙(三氟甲烷磺醯基) 亞胺、D-7：N-甲基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺。
表5中之「溶解度」係對於60℃之水100g的離子性化合物(D)之溶解度(g)。該溶解度係依據如下之順序求出。首先，混合經精秤之離子性化合物100mg與純水2mL之後，於攪拌下以溫度60℃保管24小時。取得之離子性化合物含有溶劑時，可藉減壓蒸餾除去溶劑而獲得乾固之離子性化合物，再精秤。然後，取樣水層之一部分(精秤量)，將此以乙腈適度地稀釋後，將溶解於所得之測定試樣之離子性化合物的重量濃度藉由液體色層質量分析法(LC/MS)之絶對檢量線法來定量。LC/MS之測定條件如下。依據定量結果，求出離子性化合物(D)之溶解度。
分析裝置：Agilent Technologies LC/MS裝置1260型/6130型
分離管柱：Kinetex 2.6u C18 100A(3.0×100mm，2.7μm)
移動相：添加0.05% TFA之水/乙腈之混合溶劑的梯度法
移動相之流量：0.5mL/min.
試樣注入量：2.5μL
烘箱溫度：40℃
UV檢測波長：254nm
MS檢測條件：電子噴射離子化(ESI)法Positive。
又，對於離子性化合物D-1、D-3及D-7係藉由UV檢測器(波長254nm)、離子性化合物D-6係藉由MS檢測器之選擇離子檢測(SIM)模式而進行定量(偵測質量 m/z=114)。
(2)黏著劑層之製作
於被施予離型處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜所構成之分離膜[取自Lintec(股)之商品名「PLR-382051」]之離型處理面，使用薄塗器以使乾燥後之厚度成為20μm之方式塗布上述(1)所調製之各黏著劑組成物，以100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(黏著劑片)。
(3)附黏著劑層之光學膜(P-1)之製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度60μm之聚乙烯醇膜[(股)Kuraray製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#6000」]浸漬於37℃之純水後，以30℃浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。其後，以56.5℃浸漬於含有碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃之純水洗浄後，以85℃乾燥，獲得於聚乙烯醇吸附配向有碘之厚度約23μm之偏光片。延伸主要係於碘染色及硼酸處理之步驟進行，整體之延伸倍率為5.3倍。
於所得到之偏光片之單面透過聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之接著劑貼合厚度25μm之三乙醯基纖維素膜所構成之透明保護膜[Konica Minolta Opto(股)製之商品名「KC2UA」]。然後，於與上述偏光片中之三乙醯基纖維素膜為相反側之面，透過聚乙烯醇系樹脂之水溶液 所構成之接著劑貼合厚度23μm之環狀聚烯烴系樹脂所構成之零相位差膜[日本Zeon(股)製之商品名「ZEONOR」]，製作偏光板。然後，於與零相位差膜中之偏光片接觸之面為相反側之面，施予用以提升密著性之電暈放電處理後，藉由積層機貼合與上述(2)製作之黏著劑層的分離膜為相反側之面(黏著劑層面)後，以溫度23℃、相對濕度65%之條件熟成7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-1)。
(4)附黏著劑層之光學膜的耐金屬腐蝕性評價
(4-1)實施例10至11、比較例2之情形
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)裁切成20mm×50mm之試驗片，透過黏著劑層而貼附於附金屬層之玻璃基板的金屬層側。附金屬層之玻璃基板係使用於無鹼玻璃表面藉由濺鍍而積層厚度約500nm之金屬銅層的玻璃基板(Geomatec公司製)。將所得到之光學積層體於溫度60℃、相對濕度90%之烘箱中保管120小時後，將附黏著劑層之光學膜的黏貼部分之金屬層之狀態從玻璃基板之背面照射光線而從偏光板表面經由放大鏡觀察，對於孔蝕(直徑0.1mm以上，可透過光之孔的發生)以如下之基準評價。將結果表示於表6中。
(4-2)實施例12至14之情形
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)裁切成20mm×50mm之試驗片，透過黏著劑層而貼附於附金屬層之 玻璃基板的金屬層側。附金屬層之玻璃基板係使用於無鹼玻璃表面藉由濺鍍而積層厚度約500nm之銀合金(以銀為主成分，且含有鈀及銅之合金、APC)層之玻璃基板(Geomatec公司製)。將所得到之光學積層體於溫度60℃、相對濕度90%之烘箱中保管500小時後，將附黏著劑層之光學膜的貼黏部分之金屬層之狀態從玻璃基板之背面照射光線而從偏光板表面經由放大鏡觀察，對於孔蝕(直徑0.1mm以上，可透過光之孔的發生)以如下之基準評價。將結果表示於表6中。
4：產生於金屬層表面之孔蝕之數量為2個以下、3：產生於金屬層表面之孔蝕之數量為3個至5個、2：產生於金屬層表面之孔蝕之數量為6個以上、1：於金屬層表面之全面產生許多數量之孔蝕，且亦產生白濁。
Figure 105109824-A0202-12-0073-14
1‧‧‧附黏著劑層之光學膜
10‧‧‧光學膜
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧金屬層
40‧‧‧基板

Claims (28)

  1. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為金屬配線層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有對於60℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物。
  2. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為藉濺鍍所形成之層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有對於60℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物。
  3. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為厚度為3μm以下之金屬層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有對於60。℃之水100g的溶解度為6g以下之離子性化合物、及(甲基)丙烯酸系樹脂，前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學積層 體，其中，前述金屬層為具有線寬10μm以下之金屬配線的金屬配線層。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學積層體，其中，前述離子性化合物之陰離子為含有氟原子之亞胺陰離子。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學積層體，其中，前述離子性化合物之陰離子為雙(氟磺醯基)亞胺陰離子或雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子。
  7. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學積層體，其中，前述離子性化合物之陰離子為雙(氟磺醯基)亞胺陰離子。
  8. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為金屬配線層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有下述式(I)所示之離子性化合物：
    Figure 105109824-A0305-02-0079-1
     式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16之烴基，R3表示可含有雜原子之碳數4至20之烴基，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子。
  9. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金 屬層，前述金屬層為藉濺鍍所形成之層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有下述式(I)所示之離子性化合物：
    Figure 105109824-A0305-02-0080-2
     式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16之烴基，R3表示可含有雜原子之碳數4至20之烴基，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子。
  10. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為厚度為3μm以下之金屬層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有下述式(I)所示之離子性化合物、及(甲基)丙烯酸系樹脂：
    Figure 105109824-A0305-02-0080-3
     式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16之烴基，R3表示可含有雜原子之碳數4至20之烴基，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子；前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃 轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
  11. 如申請專利範圍第8至10項中任一項所述之光學積層體，其中，前述式(I)之R3之碳數為4或5。
  12. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為金屬配線層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有下述式(II)所示之離子性化合物：
    Figure 105109824-A0305-02-0081-4
     式中，R4係表示碳數3至16之直鏈或分枝構造之烷基，R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、羧基、或鹵素原子，相鄰之取代基彼此可形成環，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子。
  13. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為藉濺鍍所形成之層，且為金屬單體及 /或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有下述式(II)所示之離子性化合物：
    Figure 105109824-A0305-02-0082-5
     式中，R4係表示碳數3至16之直鏈或分枝構造之烷基，R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、羧基、或鹵素原子，相鄰之取代基彼此可形成環，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子。
  14. 一種光學積層體，其係依序含有光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層為厚度為3μm以下之金屬層，且為金屬單體及/或含有二種以上之金屬元素的合金，前述黏著劑層含有下述式(II)所示之離子性化合物、及(甲基)丙烯酸系樹脂：
    Figure 105109824-A0305-02-0082-6
     式中，R4係表示碳數3至16之直鏈或分枝構造之烷基， R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、羧基、或鹵素原子，相鄰之取代基彼此可形成環，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子；前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
  15. 如申請專利範圍第12至14項中任一項所述之光學積層體，其中，前述式(II)之R5至R9係分別獨立地表示氫原子、或碳數1至16之直鏈或分枝構造的烷基。
  16. 如申請專利範圍第8至10及12至14項中任一項所述之光學積層體，其中，前述X係雙(氟磺醯基)亞胺陰離子或雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子。
  17. 如申請專利範圍第8至10及12至14項中任一項所述之光學積層體，其中，前述X-係雙(氟磺醯基)亞胺陰離子。
  18. 如申請專利範圍第3、10及14項中任一項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂之源自前述丙烯酸烷酯(a2)之構成單元的含量，在構成前述(甲基)丙烯酸系樹脂之全構成單元100重量份中為10重量份以上。
  19. 如申請專利範圍第3、10及14項中任一項所述之光學 積層體，其中，前述丙烯酸烷酯(a2)含有丙烯酸甲酯。
  20. 如申請專利範圍第1至3、8至10及12至14項中任一項所述之光學積層體，其中，前述金屬層含有一種以上選自由鋁、銅、銀、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛及含有選自此等之二種以上的金屬之合金所組成之群。
  21. 如申請專利範圍第1至3、8至10及12至14項中任一項所述之光學積層體，其中，前述金屬層含有鋁元素。
  22. 一種液晶顯示裝置，係含有申請專利範圍第1至3、8至10及12至14項中任一項所述之光學積層體。
  23. 一種黏著劑組成物，其含有(甲基)丙烯酸系樹脂及離子性化合物，前述離子性化合物為對於60℃之水100g的溶解度為0.76g以下者，前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
  24. 一種黏著劑組成物，其含有(甲基)丙烯酸系樹脂及離子性化合物，前述離子性化合物為下述式(I)所示之離子性化合物：
    Figure 105109824-A0305-02-0084-7
     式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16的烴基，R3表示可含有雜原子之碳數4至20的烴基，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子；前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
  25. 一種黏著劑組成物，其含有(甲基)丙烯酸系樹脂及離子性化合物，前述離子性化合物係下述式(II)所示之離子性化合物：
    Figure 105109824-A0305-02-0085-8
     式中，R4係表示碳數8至16之直鏈或分枝構造的烷基，R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、羧基、或鹵素原子，相鄰之取代基彼此可形成環；X-表示含有氟原子之亞胺陰離子；前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯 (a2)之構成單元。
  26. 一種附黏著劑層之光學膜，係包含光學膜、及積層於該光學膜之至少一面上的黏著劑層，前述黏著劑層含有對於60℃之水100g的溶解度為0.76g以下之離子性化合物、及(甲基)丙烯酸系樹脂，前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
  27. 一種附黏著劑層之光學膜，係包含光學膜、及積層於該光學膜之至少一面上的黏著劑層，前述黏著劑層含有下述式(I)所示之離子性化合物、及(甲基)丙烯酸系樹脂：
    Figure 105109824-A0305-02-0086-9
     式中，R1及R2係分別獨立地表示氫原子、或可含有雜原子之碳數1至16的烴基，R3係表示可含有雜原子之碳數4至20的烴基，X-表示含有氟原子之亞胺陰離子；前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
  28. 一種附黏著劑層之光學膜，係包含光學膜、及積層於該 光學膜之至少一面上的黏著劑層，前述黏著劑層含有下述式(II)所示之離子性化合物、及(甲基)丙烯酸系樹脂：
    Figure 105109824-A0305-02-0087-10
     式中，R4係表示碳數8至16之直鏈或分枝構造的烷基，R5至R9係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之雜環基、羥基、羧基、或鹵素原子，相鄰之取代基彼此可形成環；X-表示含有氟原子之亞胺陰離子；前述(甲基)丙烯酸系樹脂含有源自均聚物之玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。
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