TWI765483B - 計測系統及帶電粒子線裝置之參數設定方法 - Google Patents

Abstract

提供一種能夠將在ABCC參數之調整中所需要的時間縮短之計測系統以及帶電粒子線裝置之參數設定方法。於此，逆轉換處理部(303)，係產生與從試料所放出的電子相對應之模擬輸入訊號(304)。模擬檢測器(310)，係使用對於實際機器之檢測器(108)之動作作了模擬的演算模型，來在使演算參數反映有實際機器之特性資訊(305)的狀態下，實行針對模擬輸入訊號(304)之演算處理。模擬畫像轉換部(312)，係實行與實際機器之畫像轉換部(110)相對應之演算處理，而將從模擬檢測器(310)而來之訊號轉換為模擬畫像。ABCC探索部(314)，係以會使根據模擬畫像所得到的評價值成為規定之基準值的方式，來探索出相對於模擬檢測器(310)之ABCC參數，並將成為探索結果的ABCC參數AP對於實際機器之ABCC控制部(112)作輸出。

Description

計測系統及帶電粒子線裝置之參數設定方法

本發明，係有關於計測系統及帶電粒子線裝置之參數設定方法，特別是有關於對於帶電粒子線裝置之ABCC(自動亮度對比控制，Auto Brightness Contrast Control)參數進行調整以及設定之技術。

在專利文獻1中，係揭示有一種帶電粒子線裝置，其係進行基於檢測器輸出所產生的畫像之特定區域之灰階值之統計處理，並對於對比度作調整。具體而言，該帶電粒子線裝置，係求取出「藉由統計處理所得到的統計值」與「關連於畫像之灰階值之參照資料」之間的差分，並基於對於此差分與增益等之調整量之間之關係預先作了制定的演算式或者是表，來求取出適當之增益調整量等。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]國際公開第2018/138875號

作為帶電粒子線裝置之其中一者，掃描電子顯微鏡(SEM：Scanning Electron Microscope)係為周知。SEM，係對於試料上照射電子線，並將起因於此照射所產生的二次電子線等藉由檢測器而檢測出來，藉由此，來形成掃描畫像。此時，SEM，係能夠藉由使電子線或試料台進行2維性的掃描，來得到試料之表面之凹凸等的2維性之掃描畫像。

為了顯示掃描畫像並作觀察，係期望能夠對於畫像之亮度和對比度適當地作設定。作為自動性地對於此亮度和對比度適當地進行調整之功能，ABCC係為周知。在帶電粒子線裝置中，例如，亮度係根據檢測訊號之基準訊號強度(例如被設置在檢測器後段處的放大器之偏位值)而被作調整，對比度係根據檢測器之放大率而被作調整。

於此，在進行ABCC參數之調整時，例如，於專利文獻1中，係揭示有使用預先所制定了的演算式或者是表之方法。但是，例如，在檢測器處，係會有因應於個體差異、歷年劣化等而產生有各種特性上之參差的情況。於此情況，在使用演算式或表之方法中，係並無法得到高精確度的ABCC參數之值，而會有成為需要讓使用者另外進行像是對於ABCC參數之值進行微調之類的作業之虞。其結果，係會有使在ABCC參數之調整中所需要的時 間增大之虞。

本發明，係為有鑑於此種事態所進行者，其之其中一個目的，係在於提供一種能夠將在ABCC參數之調整中所需要的時間縮短之計測系統以及帶電粒子線裝置之參數設定方法。

本發明之前述目的和其他目的以及新穎之特徵，係可根據本說明書之記述以及所添附之圖面而成為明瞭。

若是針對在本申請案中所揭示之實施形態中的代表性之形態之概要作說明，則係如同下述一般。

由本發明之代表性之實施形態所致之計測系統，係具備有帶電粒子線裝置、和特性保存部、以及驗證裝置。帶電粒子線裝置，係具備對於試料照射帶電粒子線之帶電粒子光學系統、和將因應於帶電粒子線之照射而從試料所放出的電子作檢測以及放大之檢測器、和將從檢測器而來之訊號轉換為攝像畫像之畫像轉換部、以及接收ABCC參數並在檢測器處設定放大率之ABCC控制部。在特性保存部中，係預先被儲存有檢測器之特性資訊。驗證裝置，係具備有模擬輸入訊號產生部、和模擬檢測器、和模擬畫像轉換部、以及參數探索部。模擬輸入訊號產生部，係產生與從試料所放出的電子相對應之模擬輸入訊號。模擬檢測器，係使用對於檢測器之動作作了模擬的演算模 型，來在使演算模型之演算參數反映有特性資訊的狀態下，實行針對模擬輸入訊號之演算處理。模擬畫像轉換部，係實行與畫像轉換部相對應之演算處理，而將從模擬檢測器而來之訊號轉換為模擬畫像。參數探索部，係以會使根據模擬畫像所得到的評價值成為規定之基準值的方式，來探索出相對於模擬檢測器之ABCC參數，並將成為探索結果的ABCC參數對於ABCC控制部作輸出。

若是針對藉由在本申請案所揭示之發明中的代表性之實施形態所得到之效果作簡單說明，則在包含有帶電粒子線裝置之計測系統中，係成為能夠將在ABCC參數之調整中所需要的時間縮短。

以下，針對本發明之實施形態，根據圖面而作詳細說明。另外，在用以對實施形態進行說明之全部圖中，針對相同的構件，原則上係附加相同之元件符號，並省略其之重複說明。

又，在以下之實施形態中，作為帶電粒子線裝置，雖係例示使用電子線之掃描電子顯微鏡(SEM)來作說明，但是，係並不被限定於此，而亦可對於使用離子線之離子顯微鏡裝置等的其他之帶電粒子線裝置作適用。

(實施形態1) 〈帶電粒子線裝置(比較例)之構成〉

首先，在實施形態1之計測系統的說明之前，先針對一般性的帶電粒子線裝置之構成例及其問題點進行說明。圖11，係為對於一般性之帶電粒子線裝置的構成例作展示之概略圖。圖11中所示之帶電粒子線裝置10'，係具備對於試料105照射電子線(帶電粒子線)103之帶電粒子光學系統11、和將因應於電子線之照射而從試料105所放出的電子作檢測以及放大之檢測器108、以及訊號處理部12'。在說明書中，係亦將帶電粒子線裝置稱作實際機器。

在帶電粒子光學系統11處，係被設置有用以將電子線(帶電粒子線)103取出之電子槍(帶電粒子槍)102。電子線103，係藉由電子透鏡104而被作收斂並被照射至被設置於平台106上之試料105處。因應於此，試料105，係對於檢測器108而放出訊號電子(例如二次電子或反射電子)107。檢測器108，係以該訊號電子107作為輸入，而檢測出該輸入並作放大，並且轉換為電性訊號。

訊號處理部12'，係具備有訊號輸入部109、和畫像轉換部110、和評價值計算部111、和ABCC控制部112、以及畫像顯示部113。訊號輸入部109，例如，係具備有放大電路、濾波電路、類比數位轉換電路(略稱為ADC電路)，並對於從檢測器108所輸出的訊號作適當的處理而轉換為數位訊號。畫像轉換部110，係將經由訊號輸入部109所得到的從檢測器108而來之訊號，藉由像素積算、圖框間演算處理等而轉換為攝像畫像。畫像顯示部113，係顯示該攝像畫像。

於此，在具備有ABCC功能的情況時，畫像轉換部110，係產生代表顯示灰階值與像素數之間的關係之畫像直方圖(換言之，亮度分布)。評價值計算部111，係基於此畫像直方圖而算出評價值，ABCC控制部112，係基於該評價值而對於ABCC參數作調整。

圖2，係為對於ABCC參數之調整方法的概略內容作說明之示意圖。如同圖2中所示一般，評價值計算部111，係將在畫像直方圖200中之亮度的最大灰階值(Peak值)與最小灰階值(Bottom值)、或者是準據於該些所得之特徵量，作為畫像直方圖200之評價值而算出。作為具體例，Peak值以及Bottom值，係分別被制定為畫像直方圖200之累積次數(cumulative frequency)為成為90%的灰階值以及成為10%的灰階值。

ABCC控制部112，係以會使身為畫像直方圖200之評價值之Peak值以及Bottom值會成為規定之基準值的方式，而對於ABCC參數作調整。在此例中，規定之基準值，係身為對應於灰階值之全尺度(例如256灰階等)之80%的灰階值以及對應於20%的灰階值。ABCC控制部112，係以會使Peak值成為全尺度之80%之灰階值並且使Bottom值成為全尺度之20%之灰階值的方式，而對於ABCC參數作調整。藉由此，畫像之亮度和對比度係被合適化。

ABCC參數，係包含有用以將Bottom值制定為全尺度之20%之灰階值的偏位電壓(亮度電壓)BRT、和用以將Peak值制定為全尺度之80%之灰階值的對比度電壓CNT。偏位電壓BRT，例如，係被反映於在訊號輸入部109中所包含之放大電路的偏壓中。對比度電壓CNT，係被反映於檢測器108之放大率中。

另外，畫像轉換部110、評價值計算部111以及ABCC控制部112，例如，係藉由使用有CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、DSP (Digital Signal Processor)等之程式處理等而被作安裝。但是，各部之安裝形態，係並不被限定於此，而亦可身為FPGA(Field Programmable Gate Array)或ASIC(Application Specific Integrated Circuit)等之硬體，或者是，亦可身為硬體與軟體之組合。 〈帶電粒子線裝置(比較例)之問題點〉

作為在圖2中之ABCC控制部112的具體性之處理方法，例如，係可列舉有使用代表評價值與ABCC參數之間之相關關係的規定之關係式或者是表的方法。於此情況，ABCC控制部112，係能夠藉由參照該關係式或者是表，而取得為了將從評價值計算部111而來之評價值制定於基準值所需要的ABCC參數之值。

另一方面，當作為檢測器108而使用有光電倍增管等的情況時，係會有起因於個體差異、歷年劣化等而產生有以放大率之參差為代表的各種特性上之參差的情況。於此情況，就算是評價值為相同，為了將該評價值制定於基準值所需要的ABCC參數之值也會在同一機種內之各裝置而互為相異，又，會成為在每經過某種程度的使用期間時便會有所變化。進而，放大率之參差，係也會起因於機率性的要素而產生。

其結果，在使用固定性的關係式或表的方法中，係會成為難以將評價值以高精確度來制定於基準值。因此，使用者，在實際運用上，係需要在ABCC參數被作了設定之後，一面以手動來反覆進行在實際機器處之攝像畫像的觀察和ABCC參數之再設定，一面對於ABCC參數之值進行微調。

如此這般，若是在檢測器108處產生有特性上的參差，則係會有為了得到適當的ABCC參數之值而需要耗費時間之虞。起因於此，特別是在像是將使用有帶電粒子線裝置10'之計測工程組入至半導體裝置之製造工程等之中之類的情況時，工程之產率的降低係會造成問題。

具體而言，適當的ABCC參數之值，通常， 係依存於試料105之種類(亦即是，各種類之個別的凹凸形狀之程度差異等)而有所相異。因此，在計測工程中，於實際運用上，係成為需要在每次改變成為計測對象之試料的種類時均進行ABCC參數之調整。此時，若是如同前述一般地而在檢測器108處存在有各種特性上之參差，則在每次改變試料之種類時，均成為需要一面以手動來反覆進行在實際機器處之攝像畫像的觀察和ABCC參數之再設定，一面耗費有某種程度的時間地來進行ABCC參數之微調。

〈計測系統(實施形態1)之概略內容〉

因此，在實施形態1之計測系統中，係在將實際機器之各種特性上的參差對於模擬/模擬器模型作了反映的狀態下，於模擬/模擬器上而探索適當的ABCC參數。圖1，係為對於由本發明之實施形態1所致之計測系統的構成例作展示之概略圖。圖1中所示之計測系統，係具備有帶電粒子線裝置(實際機器)10、和驗證裝置13。帶電粒子線裝置10，係除了與圖11的情況相同之帶電粒子光學系統11以及檢測器108之外，亦具備有與圖11之情況有些許的相異之訊號處理部12。

訊號處理部12，相較於圖11之訊號處理部12'，係並未被設置有評價值計算部111。驗證裝置13，例如，係藉由包含有CPU等之計算機(電腦)所構成，並且藉由使CPU等實行驗證裝置13所具備的模擬程式，來探索ABCC參數(亦即是，偏位電壓BRT以及對比度電壓CNT)AP。實際機器10之ABCC控制部112，係將此成為探索結果的ABCC參數AP作為數位值而接收，並在檢測器108處而設定成為類比值之放大率，又，係在訊號輸入部109處而設定成為類比值之偏壓等。 〈計測系統(實施形態1)之詳細內容〉

圖3，係為對於在圖1之計測系統中的主要部分之詳細構成例作展示之圖。於圖3中，驗證裝置13，係具備有逆轉換處理部303、和驗證模型306。驗證模型306，係具備有藉由使CPU等實行被設定於計算機中之模擬程式所構成的模擬檢測器310、模擬訊號輸入部311、模擬畫像轉換部312、評價值計算部313以及ABCC探索部(參數探索部)314。藉由此，驗證模型306，概略而言，係藉由模擬檢測器310以及模擬訊號輸入部311來模擬實際機器10之檢測器108以及訊號輸入部109之處理，並以此模擬檢測器310以及模擬訊號輸入部311作為對象，而探索ABCC參數AP。以下，針對此些之各部之動作作說明。

首先，在實際機器10處，以特定之試料105作為對象，來使用特定之ABCC參數AP而進行1次的攝像。逆轉換處理部(模擬輸入訊號產生部)303，係將此攝像畫像302儲存在驗證裝置13內之記憶裝置(HDD(Hard Disk Drive)或SSD(Solid State Drive)等)中，並基於攝像畫像302，而將被推測為被輸入至了實際機器10之檢測器108中的2次電子訊號等，作為模擬輸入訊號304而產生之。換言之，逆轉換處理部303，係將攝像畫像302轉換為圖1之檢測器108之輸入(訊號電子107)。

此時，逆轉換處理部303，首先，係使用一般所周知之方法，來作為對應於攝像畫像302之2次電子曲線(profile)。2次電子曲線，係身為在縱軸定義2次電子之產生量並在橫軸定義攝像畫像302之X軸方向者，並將在使電子線(1次電子)作了掃描照射時之2次電子之產生量作了描繪。

逆轉換處理部303，係針對此2次電子曲線，而對於在實際機器10之檢測器108和訊號輸入部109處所被實施的訊號處理過程(檢測器108之放大過程、從2次電子而至電性訊號之轉換過程、訊號輸入部109之放大過程等)進行逆演算，並產生模擬輸入訊號304。另外，關於檢測器108和訊號輸入部109之訊號處理過程的詳細內容，係於後再述。

又，例如，在實際機器10處，係被設置有預先被儲存有檢測器108之特性資訊305的特性保存部301。特性資訊305，係身為代表在實際的檢測器108處之放大率(亦即是，二次電子之接收數與輸出訊號之間之增益特性)、輸出波形(輸出訊號)之上揚/下挫特性等的資訊，並為表現檢測器108之個體差異和歷年劣化等之資訊。特性資訊305，例如，係藉由針對實際機器10而於初期設置之階段時或者是於每經過特定之使用期間時進行驗證實驗，而被抽出，並被保存於特性保存部301中。特性保存部301，例如，係被儲存於被安裝在實際機器10處之ROM (Read Only Memory)等之記憶裝置中，或者是，亦可被儲存於被設置在實際機器10之外部的記憶裝置中。

在驗證模型306中，係被輸入有此種模擬輸入訊號304以及特性資訊305。圖4(a)，係為對於在圖3中之驗證裝置內的模擬檢測器之構成例以及示意性動作例作展示之圖，圖4(b)，係為對於被保存於圖3中之特性保存部中的特性資訊之其中一例作展示之圖。

圖4(a)中所示之模擬檢測器310，係使用對於實際機器10之檢測器108之動作作了模擬的演算模型，來在使該演算模型之演算參數反映有特性資訊305的狀態下，實行針對模擬輸入訊號304之演算處理。又，模擬檢測器310，係作為演算模型，而具備有檢測演算部401、和放大演算部402、以及波形產生部403。

於此，實際機器10之檢測器108，係為將被輸入了的2次電子轉換為光子，並進而將光子轉換為光電子，之後進行放大而作為電性訊號來輸出者。此時，就算是將被作了輸入的2次電子保持為一定，2次電子之輸入亦係具有機率分布。檢測演算部401，係身為把「將2次電子轉換為光子並進而將光子轉換為光電子」的過程作了模型化者，並基於以模擬輸入訊號304所致的產生間隔，來產生矩形波脈衝訊號。

具體而言，在實際的檢測器108處之轉換過程中，於每單位時間的期間中之光電子的產生個數，係以平均值為“λ”之卜瓦松(Poisson)分布而被作表現，事態之發生間隔，係以平均值“1/λ”之指數分布而被作表現。反映此事，檢測演算部401，係將模擬輸入訊號304之準位設為“λ”，並將矩形波脈衝訊號之產生間隔藉由以“1/λ”作為平均值之指數分布來使其分散。亦即是，在圖4(a)中，係以會使藉由指數分布來作了分散的期間T1、T2等之平均值成為“1/λ”的方式，而被作制定。另外，矩形波脈衝訊號之脈衝寬幅，例如，係被固定於1ns等。

放大演算部402，係接收成為ABCC參數之其中一者的對比度電壓CNT、和從特性保存部301而來之特性資訊305，而將從檢測演算部401而來之矩形波脈衝訊號的振幅以放大率Gx來作放大。於此，在實際機器10之檢測器108處，就算是於光電子之放大過程中，也會於放大率中產生有機率性之分布。例如，若是將檢測器108之放大率設為G，則1個的光電子係會最終性地成為G個的電子或者是成為“G+1”個的電子。反映此事，放大演算部402，係在將從檢測演算部401而來之輸入設為m的情況時，將輸出藉由會使“m×G”成為平均值的卜瓦松(Poisson)分布來作表現。

例如，在檢測器108為藉由n段構成來進行放大的情況時，反映此事，放大演算部402，例如，係針對第1段的輸出a，而將“Poisson(λ)”設為平均值λ之卜瓦松分布的亂數，來以“a=m+Poisson(m×G/n)”而作表現，並針對第2段之輸出b，而以“b=a+Poisson(a×G/n)”來作表現。又，此時之檢測器108之放大率G，也可能會起因於個體差異或歷年劣化等而有所變化。因此，放大演算部402，係基於被儲存在特性保存部301中之特性資訊305，來制定放大率G。

具體而言，在特性資訊305中，係如同圖4(b)中所示一般，包含有相關資訊405，該相關資訊405，係代表在檢測器108處的ABCC參數(具體而言，對比度電壓CNT)之值與放大率G之間之實際的相關關係。放大演算部402，係基於相關資訊405，來取得與被輸入了的對比度電壓CNT相對應之放大率G。之後，放大演算部402，係將該所取得了的放大率G，如同前述一般地作為以卜瓦松分布來作了分散者，並將從檢測演算部401而來之矩形波脈衝訊號之振幅，以反映有基於相關資訊405所致之分散和基於卜瓦松分布所致之分散的放大率Gx來作放大。

如此這般，根據放大演算部402之第n段的輸出，係產生有「使振幅基於放大率Gx而有所分散並且脈衝寬幅為微小(例如1ns)且事態之發生間隔會成為指數分布」之時間序列的矩形波脈衝訊號。亦即是，藉由使用此種檢測演算部401以及放大演算部402，係能夠產生反映有可能會在實際機器10之檢測器108處而產生的各種機率性之分散和放大率G之個體差異分散等的矩形波脈衝訊號。換言之，係能夠將實際機器10之檢測器108以高精確度來模型化。

波形產生部403，係如同圖4(a)中所示一般，藉由使從放大演算部402而來之矩形波脈衝訊號之上揚時間以及下挫時間基於時間常數τ來作變化，而產生輸出波形(模擬檢測器310之輸出訊號)。此時，在實際機器10之檢測器108處，起因於個體差異或歷年劣化等，在輸出波形之上揚特性以及下挫特性中也可能會產生特性之參差。

因此，在被儲存於特性保存部301處的特性資訊305中，係如同圖4(b)中所示一般，包含有對於在檢測器108之實際的輸出波形中之上揚特性以及下挫特性作表現的時間常數τ。時間常數τ，係與相關資訊405的情況相同地，藉由對於實際機器10而預先進行驗證實驗一事，而被抽出。波形產生部403，係反映有該時間常數τ地而產生輸出波形。藉由此，係能夠將實際機器10之檢測器108以更高的精確度來模型化。

此種波形產生部403，係能夠藉由傳送函數(Transfer function)模型或電子電路模型來模型化，例如在藉由電子電路來作了模型化的情況時，係可使用RC電路等。RC電路，由於係具備有藉由“R(電阻值)×C(電容值)”所求取出的時間常數τ，因此，波形產生部403，係只要基於在特性資訊305中所包含的時間常數τ來設定該RC電路之RC參數即可。在RC電路之矩形波回應中，時間常數τ，係身為從最小值而成為了最大值之“1-1/e(e：奈培數(Napier number))”倍為止的時間、或者是從最大值而成為了最大值之1/e倍為止的時間。

在圖3中，藉由模擬檢測器310所產生了的輸出電性訊號，係被輸入至模擬訊號輸入部311處。模擬訊號輸入部311，係使用對於實際機器10之訊號輸入部109之動作作了模擬的演算模型，來進行對於被作了輸入的輸出電性訊號之各種演算處理。具體而言，模擬訊號輸入部311，係使用分別與訊號輸入部109內之放大電路、濾波電路、ADC電路之各者相對應的電子電路模型，來進行演算處理。此時，放大電路之電子電路模型，係反映有ABCC參數(具體而言，偏位電壓BRT)之值地而進行演算處理。

另外，在模擬訊號輸入部311之各電子電路模型中，係亦可反映有預先藉由驗證實驗所抽出了的在實際機器10之訊號輸入部109處的各電路之特性參差(個體差異)。作為特性參差，例如，係可列舉有構成放大電路之電阻元件的電阻值參差和放大電路或濾波電路之頻率特性之參差等。或者是，係亦可使用「將藉由驗證實驗所抽出了的各電路之特性預先儲存在特性保存部301中，並與模擬檢測器310的情況相同地而使模擬訊號輸入部311將此有所反映」的方式。

模擬畫像轉換部312，係實行與實際機器10之畫像轉換部110相對應之演算處理，而將從模擬檢測器310而來之訊號經由模擬訊號輸入部311而作接收，並將該訊號轉換為模擬畫像。又，模擬畫像轉換部312，例如，係產生該模擬畫像之畫像直方圖200。評價值計算部313，係以從模擬畫像轉換部312而來之模擬畫像(詳細而言，畫像直方圖200等)作為對象，而算出與在圖11中所作了敘述的評價值計算部111的情況時相同之評價值(例如Peak值以及Bottom值等)。

ABCC探索部(參數探索部)314，係以會使根據模擬畫像所得到的評價值成為規定之基準值的方式，來探索出相對於模擬檢測器310之ABCC參數(對比度電壓CNT)以及相對於模擬訊號輸入部311之ABCC參數(偏位電壓BRT)。之後，ABCC探索部314，係將成為探索結果的ABCC參數AP對於實際機器10之ABCC控制部112作輸出。

藉由此，從ABCC探索部314，例如，係與圖2的情況相同地，得到有用以使模擬畫像之畫像直方圖200中的Peak值(累積次數之90%)/Bottom值(累積次數之10%)分別與全尺度之80%之灰階值/20%之灰階值相互一致的ABCC參數AP。實際機器10之ABCC控制部112，係接收該ABCC參數AP內之對比度電壓CNT，而在檢測器108處設定放大率，並接收該ABCC參數AP內之偏位電壓BRT，而在訊號輸入部109處設定偏壓等。

另外，ABCC探索部314，在進行探索時，係只要將ABCC參數(BRT/CNT)設定為初期值，並一面使ABCC參數從初期值起而適宜作變化一面進行探索即可。此時之初期值，例如，係亦可使用「在最初藉由實際機器10來取得了攝像畫像302時之於ABCC控制部112處所使用了的特定之ABCC參數之值」。於此情況，圖3之驗證裝置13，係成為將「基於該特定之ABCC參數所產生的候補ABCC參數」和「模擬輸入訊號304」輸入至驗證模型306 (亦即是，模擬程式)中而得到畫像直方圖200，並基於該畫像直方圖200，來對於候補ABCC參數AP進行修正。

又，ABCC探索部314，在進行探索時，係亦可將初期值作複數之設定，並藉由使用有該複數之初期值之平行處理，來探索ABCC參數。進而，在使ABCC參數作變化時，係亦可使用以全探索演算法之方法或任意之組合來使其作變化之方法。

又，圖3之逆轉換處理部(模擬輸入訊號產生部)303，係如同前述一般，針對2次電子曲線，而實行對於在檢測器108和訊號輸入部109處所被實施的訊號處理過程進行逆演算之處理。具體而言，逆轉換處理部303，係將2次電子曲線，使用「進行在模擬訊號輸入部311處所使用了的電子電路模型之逆轉換的電子電路模型」來作轉換。之後，逆轉換處理部303，係只要對於此轉換後之訊號，而進而實行「進行在圖4(a)以及圖4(b)中所敘述的各種演算處理之逆演算」之處理(例如，脈衝化、卜瓦松分布之平均化、指數分布之平均化)即可。 〈帶電粒子線裝置之參數設定方法(實施形態1)〉

圖5，係為對於由本發明之實施形態1所致之帶電粒子線裝置的參數設定方法之其中一例作展示之流程圖。在圖5中，首先，帶電粒子線裝置(實際機器)10，係藉由事先使用特定之ABCC參數而對於攝像對象之試料105進行攝像，來取得攝像畫像302(步驟S101)。驗證裝置13(逆轉換處理部303)，係基於該攝像畫像302而產生模擬輸入訊號304(步驟S201)。

接著，驗證裝置13，係使驗證模型306內之演算模型反映有被儲存在特性保存部301中之特性資訊305(步驟S202)。在如此這般地而反映有特性資訊305的狀態下，驗證裝置13，係在步驟S203～S206中，使用ABCC探索部314等而以會使評價值成為基準值的方式來進行ABCC參數之探索。

具體而言，ABCC探索部314，係將ABCC參數設定為特定之初期值(步驟S203)。特定之初期值，例如，係亦可為在步驟S101處所使用了的特定之ABCC參數。模擬畫像轉換部312，係產生基於現在之ABCC參數所得到的模擬畫像之畫像直方圖200(步驟S204)。又，評價值計算部313，係基於該畫像直方圖200而算出評價值。之後，ABCC探索部314，係判定基於該畫像直方圖200所得到的評價值是否與規定之基準值相互一致(步驟S205)。當評價值與基準值並未相互一致的情況時(步驟S205，NO)，在步驟S206處，ABCC探索部314，係在對於ABCC參數(候補ABCC參數)作了變更(換言之，修正)之後，回到步驟S204處，並反覆進行相同之處理。

另一方面，當評價值與基準值為相互一致的情況時(步驟S205，YES)，係移行至步驟S102。在步驟S102中，實際機器10之ABCC控制部112，係從驗證裝置13而接收評價值與基準值為相互一致時之ABCC參數，並將該ABCC參數設定於檢測器108以及訊號輸入部109處。之後，實際機器10，係基於該ABCC參數而對於攝像對象之試料105進行攝像(步驟S103)。

藉由此，例如，就算是當在步驟S101處所取得的攝像畫像302中亮度以及對比度並非為適當的情況時，在之後的步驟S103處所取得的攝像畫像之亮度以及對比度亦係成為被作適當化。

另外，在圖1以及圖3之實際機器10處，雖然圖11之評價值計算部111係被刪除，但是，係亦可在實際機器10處，設置與圖11的情況相同之評價值計算部111。於此情況，ABCC控制部112，係除了具備有與圖11之情況相同之接收從評價值計算部111而來之評價值並制定ABCC參數的功能以外，更進而具備有如同圖1以及圖3一般之接收從驗證裝置13而來的ABCC參數AP之輸入之功能。而，ABCC控制部112，例如，係只要在圖5之步驟S101(事先攝像)時，基於表等來制定ABCC參數，並在步驟S103(之後之攝像)時，受理從驗證裝置13而來的ABCC參數AP之輸入即可。

另外，如同前述一般，圖3之實際機器10內之檢測器108，係藉由光電倍增管等而被構成，訊號輸入部109，係藉由包含有放大電路等之專用電路而被構成，特性保存部301，係藉由特定之記憶裝置(ROM等)而被構成。實際機器10內之畫像轉換部110以及ABCC控制部112，代表性而言，係被搭載於包含有CPU等之計算機(電腦)內，並藉由使用有CPU等之程式處理而被作安裝。但是，畫像轉換部110以及ABCC控制部112之一部分或者是全部，係亦可依存於情況而藉由FPGA或ASIC等之硬體來作安裝。畫像顯示部113，係由液晶顯示器等所構成。

又，圖3之驗證裝置13，代表性而言，係藉由包含有CPU等之計算機(電腦)而被構成，驗證裝置13內之逆轉換處理部(模擬輸入訊號產生部)303、模擬檢測器310、模擬訊號輸入部311、模擬畫像轉換部312、評價值計算部313以及ABCC探索部(參數探索部)314，係藉由使用有CPU等之程式處理而被作安裝。但是，依存於情況，係亦可將驗證裝置13內之一部分之構成要素藉由FPGA或ASIC等之硬體來作安裝。例如，在實際機器10之畫像轉換部110為藉由專用之硬體所構成的情況時，作為模擬畫像轉換部312，係亦可採用像是將該專用之硬體直接流用之構成。

進而，圖3之驗證裝置13，例如，係亦可藉由將構成實際機器10內之畫像轉換部110等之計算機作併用的形態來構成之。亦即是，係亦可將實際機器10內之畫像轉換部110以及ABCC控制部112和驗證裝置13藉由1台的計算機來構成。於此情況，係只要在實際機器10內之計算機處，設定(換言之，安裝，或者是儲存在使CPU等作讀出的記憶體中)與驗證裝置13相對應之模擬程式。 〈實施形態1之主要效果〉

以上，藉由使用實施形態1之方式，代表性而言，就算是當在帶電粒子裝置中產生有各種特性之參差的情況時，也成為能夠將在ABCC參數之調整中所需要的時間縮短。伴隨於此，在像是將使用有帶電粒子線裝置之計測工程組入至半導體裝置之製造工程等之中之類的情況時，係成為能夠使工程之產率提升。進而，係亦成為能夠減輕使用者之作業負擔。

作為具體例，在使用如同圖11一般之構成的情況時，使用者，例如，在圖5之步驟S101之後，係需要以手動來反覆進行在實際機器處之攝像畫像的觀察和ABCC參數之再設定。又，使用者，係需要在每次改變成為攝像對象之試料105之種類時，均進行此種反覆作業。另一方面，若是使用實施形態1之方式，則例如，藉由在每次改變試料105之種類時進行一次的事先攝像(步驟S101)，之後，係成為能夠並非為由使用者而是由驗證裝置13來自動且高速地進行如同前述一般之反覆作業。 (實施形態2) 〈計測系統(實施形態2)之詳細內容〉

圖6，係為對於在由本發明之實施形態2所致之計測系統中的於圖1之計測系統處的主要部分之詳細構成例作展示之圖。在圖6中，相較於圖3之構成例，係在驗證裝置13a內，替代逆轉換處理部303而設置有訊號產生部(模擬輸入訊號產生部)602。訊號產生部(模擬輸入訊號產生部)602，例如，係藉由使用有CPU等之程式處理而被作安裝，並基於試料105之設計資料601，來產生模擬輸入訊號304。

亦即是，在預先知道藉由帶電粒子線裝置所攝像的試料105為藉由何種尺寸和配置所設計的情況時，係能夠根據設計資料601而唯一性地產生模擬輸入訊號304。若是具體性地作說明，則例如，基於倍率等之各種攝像條件，攝像畫像上之像素座標P=(p，q)和試料上之座標X=(x，y)之間之對應關係係預先被制定。

又，基於試料形狀之設計資料601(CAD資料等)，係能夠對於試料上之各位置X而分配試料之凹凸的高度資訊。而，試料資訊(試料材質、高度)與相對於電子線103之2次電子107之間之關係，係可藉由預先進行實驗或者是藉由進行電子線散射模擬等，來作為計算式或表而預先制定出來。藉由此些，訊號產生部602，係能夠基於試料105之設計資料601，來算出各座標之2次電子107，而能夠產生模擬輸入訊號304。 〈實施形態2之主要效果〉

以上，藉由使用實施形態2之方式，除了在實施形態1中所敘述的各種效果之外，係更進而成為能夠使產率更進一步提升。具體而言，例如，在前述之圖5中，步驟S101(事先攝像)的處理係成為不必要。進而，成為探索結果的ABCC參數之參差係會消失，其結果，係會有能夠謀求ABCC參數之更進一步之高精確度化的情況。

若是作具體性說明，則例如，在圖5之步驟S101(事先攝像)中所取得的攝像畫像302，係會有像是隨機性變動的雜訊成分一般之成為對於某一平均值而重疊有參差成分者的情況。於此情況，例如，依存於可能會隨機性地變化之攝像畫像302，ABCC參數之探索結果也會隨機性地變化，此變化之幅度，係可能會成為ABCC參數之設定誤差。另一方面，在實施形態2之方式中，係並不依存於攝像畫像302，概念性而言，係能夠基於將此參差成分作了排除後的平均值，來得到ABCC參數之探索結果。藉由此，探索結果的再現性係被保證，而能夠將ABCC參數之設定誤差的幅度縮小。 (實施形態3) 〈計測系統(實施形態3)之詳細內容〉

圖7，係為對於在由本發明之實施形態3所致之計測系統中的於圖1之計測系統處的主要部分之詳細構成例作展示之圖。在圖7中，相較於圖3之構成例，係在驗證裝置13b內，追加有顯示部701和操作部702以及顯示控制部703。又，伴隨於此，驗證裝置13b內的評價值計算部313b之動作係會有些許的不同。

顯示部701，係身為液晶顯示器等。操作部702，係身為鍵盤或滑鼠等，並受理從使用者而來之輸入。顯示控制部703，係藉由使用有CPU等之程式處理而被作安裝，並使顯示部701，顯示能夠讓使用者對於伴隨於ABCC參數之探索的探索條件作設定之設定畫面(GUI (Graphical User Interface)畫面)。評價值計算部313b，係基於此藉由使用者所設定了的探索條件，來算出評價值。

圖8，係為對於被顯示於圖7中之顯示部處的設定畫面之其中一例作展示之圖。在圖8中，當使用者經由操作部702而在設定畫面上選擇了自動設定的情況時，ABCC參數之探索條件係被自動作設定。具體而言，例如，成為畫像直方圖200的評價值之Bottom值以及Peak值，係分別被制定為對應於累積次數(cumulative frequency)之10%以及90%的灰階值。

另一方面，使用者，係亦可並不選擇自動設定，而經由操作部702來對於要使成為評價值之Bottom值以及Peak值分別對應於累積次數之幾%一事任意地作設定。於此情況，評價值計算部313b，係基於此從使用者而來之設定，來分別算出成為畫像直方圖200之評價值的Bottom值以及Peak值。

又，使用者，係能夠經由操作部702來在設定畫面上選擇平行實行。在選擇了平行實行的情況時，ABCC探索部(參數探索部)314，係將伴隨於ABCC參數之探索的初期值，作複數之設定，並藉由使用有該複數之初期值之平行處理，來探索ABCC參數。作為具體性之方式，例如，係可列舉出「至少將圖7之模擬檢測器310、模擬訊號輸入部311以及模擬畫像轉換部312設置複數組，並在各組處而設定互為相異之初期值，並且使用各組來平行地進行探索」之方式等。藉由使用此種平行處理，係能夠將在ABCC參數之探索中所需要的時間更進一步縮短。另外，使用者，例如，係只要因應於驗證裝置13b之演算性能等，來分別決定平行實行之有無即可。

使用者，在結束了上述一般之各種設定之後，係輸入ABCC實行之按鍵。因應於此，計測系統，例如係開始圖5之處理流程。又，在圖7之顯示部701處，係亦可如同在圖8中所示一般，適宜將畫像直方圖200或ABCC參數之探索結果等作顯示。另外，於此，雖係以圖3之構成例作為前提，但是，當然的，係亦能夠以圖6之構成例作為前提。 〈實施形態3之主要效果〉

以上，藉由使用實施形態3之方式，除了在實施形態1、2中所敘述的各種效果之外，藉由以平行處理來實行ABCC參數之探索，係會有能夠將在ABCC參數之調整中所需要的時間更進一步縮短的情況。又，使用者，係能夠因應於需要而變更探索條件，而成為能夠提昇使用者的便利性。 (實施形態4) 〈帶電粒子線裝置之參數設定方法(實施形態4)〉

圖9，係為對於由本發明之實施形態4所致之帶電粒子線裝置的參數設定方法之其中一例作展示之流程圖。圖10，係為對於使用有帶電粒子線裝置之幾何學長度測定方法的概略內容作說明之圖。在實施形態4中，係使用有如同圖1以及圖3中所示一般之計測系統。

首先，如同圖10中所示一般，例如，若是以具備有既知之幾何學長度(尺寸)L的基準用試料1001作為對象來使用帶電粒子線裝置而進行攝像，則係產生有對應於此幾何學長度L之2次電子曲線1002(乃至於相對應之攝像畫像)。藉由對於此2次電子曲線1002(或者是攝像畫像)進行解析，係能夠測定幾何學長度L。

但是，在進行此解析時，若是2次電子曲線1002之偏位準位1003或振幅準位1004起因於裝置之特性參差而有所變化，則會在裝置間而於成為測定結果的幾何學長度L中產生誤差。因此，在實際運用上，係會有藉由ABCC參數來對於此裝置間之測定結果之誤差作補償的情況。圖9，係為於此種情況中所被使用的流程。

首先，在圖9之步驟S301中，帶電粒子線裝置10a，係以具備有既知之幾何學長度L之基準用試料1001作為對象，而在以會使根據攝像畫像901所測定出的幾何學長度(Ld)成為既知之幾何學長度L(換言之，基準值)的方式來對於ABCC參數作了調整之狀態下，而取得攝像畫像901。該帶電粒子線裝置10a，係成為基準裝置。

接著，與圖5之情況相同地，驗證裝置13，係基於藉由基準裝置(10a)所取得的該攝像畫像901而產生模擬輸入訊號304(步驟S201)。接著，驗證裝置13，係使驗證模型306內之演算模型反映有被儲存在帶電粒子線裝置10b之特性保存部301中之特性資訊305(步驟S202)。該帶電粒子線裝置10b，係成為對象裝置。

如此這般，從基準裝置(10a)而來之攝像畫像901係被輸入，在反映有對象裝置(10b)之特性資訊305的狀態下，驗證裝置13，係在步驟S203、S404、S205、S206中，使用ABCC探索部314等而以會使評價值成為基準值的方式來進行ABCC參數之探索。此時之探索方法，係與圖5之步驟S203～S206略相同，但是，評價值以及基準值之內容係與圖5的情況相異。亦即事，替代圖5之步驟S204，係實行有步驟S404。

在步驟S404中，驗證裝置13(評價值計算部313)，係根據由模擬畫像轉換部312所致之模擬畫像來測定出幾何學長度。接收此，驗證裝置13(ABCC探索部314)，係以所測定出的幾何學長度作為評價值，並以既知之幾何學長度L作為基準值，而判定評價值是否與基準值相互一致(步驟S205)。而，當評價值為與基準值相互一致的情況時(步驟S205，YES)，在步驟S102中，對象裝置(10b)之ABCC控制部112，係從驗證裝置13而接收成為探索結果之ABCC參數，並將其設定於檢測器108以及訊號輸入部109處。

藉由此，在基準裝置(10a)與對象裝置(10b)處，係成為會對於相同之攝像畫像901而得到相同之幾何學長度的測定結果。此時，在一般的方式中，使用者，係有必要在對象裝置(10b)處，以手動來反覆進行在基準用試料1001之攝像和ABCC參數之再設定。另一方面，在實施形態4之方式中，亦包含有基準用試料1001之攝像的此種作業係成為不需要。 〈實施形態4之主要效果〉

以上，藉由使用實施形態4之方式，使用者係成為不需要在對象裝置(10b)處，以手動來反覆進行攝像和ABCC參數之再設定。其結果，與實施形態1等的情況相同地，係成為能夠將在ABCC參數之調整中所需要的時間縮短。

(附記) 若是列舉出前述之各實施形態之特徵的其中一例，則係成為如同下述一般。

[1]一種ABCC參數之決定方法，係為帶電粒子線裝置之ABCC參數之決定方法，其係 使用ABCC參數(AP)、和代表前述帶電粒子線裝置(10、10b)之個體差異的特性資訊(305)，來設定對於前述帶電粒子線裝置(10、10b)之檢測器(108)以及訊號輸入部(109)之處理作模擬之模擬程式， 儲存藉由特定之ABCC參數而作了攝像的試料(105)之攝像畫像(302)， 將前述攝像畫像(302)轉換為前攝檢測器(108)之輸入， 將「基於前述特定之ABCC參數所產生的候補ABCC參數(AP)」和「前述檢測器(108)之輸入」輸入至前述模擬程式中，而得到畫像直方圖(200)， 基於前述畫像直方圖(200)，來對於前述候補ABCC參數(AP)作修正。

[2]在前述[1]之方法中， 前述檢測器(108)以及訊號輸入部(109)之各者，係存在有個體差異， 前述攝像畫像(302)，係身為以基準用試料(1001)作為對象並藉由其他的帶電粒子線裝置(10a)來對於幾何學長度與畫像而完成了測定之畫像， 將「前述候補ABCC參數(AP)」和「前述檢測器(108)之輸入」賦予至前述模擬程式處，而得到模擬畫像， 基於「根據前述模擬畫像所計算出的幾何學長度」和「藉由前述其他的帶電粒子線裝置所得到的幾何學長度」之間之差分，來對於前述候補ABCC參數(AP)作修正。

[3]在前述[1]之方法中， 前述模擬程式，係作為前述檢測器(108)之特性資訊(305)，而使用「二次電子之接收數與檢測器(108)之輸出訊號之間之增益特性」和「前述輸出訊號之上揚特性以及下挫特性」。

[4]一種計測系統，係具備有： 帶電粒子線裝置(10、10b)，其係具備訊號輸入部(109)、和ABCC控制部(112)、和帶電粒子槍(102)、和設置試料(105)之平台(106)、和檢測器(108)；和 驗證裝置(13)， 前述驗證裝置(13)，係具備有： 模擬程式，係使用ABCC參數、和代表前述帶電粒子線裝置(10、10b)之個體差異的特性資訊(305)，來對於前述檢測器(108)以及前述訊號輸入部(109)之處理作模擬， 儲存藉由特定之ABCC參數而作了攝像的試料(105)之攝像畫像(302)， 將前述攝像畫像(302)轉換為前述檢測器(108)之輸入， 將「基於前述特定之ABCC參數所產生的候補ABCC參數(AP)」和「前述檢測器(108)之輸入」輸入至前述模擬程式中，而得到畫像直方圖(200)， 基於前述畫像直方圖(200)，來對於前述候補ABCC參數作修正。

[5]一種驗證裝置，係為決定帶電粒子線裝置之ABCC參數之驗證裝置(13)，並具備有： 模擬程式，係使用ABCC參數(AP)、和代表前述帶電粒子線裝置(10、10b)之個體差異的特性資訊(305)，來對於前述帶電粒子線裝置(10、10b)之檢測器(108)以及訊號輸入部(109)之處理作模擬，儲存藉由特定之ABCC參數而作了攝像的試料(105)之攝像畫像(302)，將前述攝像畫像(302)轉換為前述檢測器(108)之輸入，將「基於前述特定之ABCC參數所產生的候補ABCC參數(AP)」和「前述檢測器(108)之輸入」輸入至前述模擬程式中，而得到畫像直方圖(200)，基於前述畫像直方圖(200)，來對於前述候補ABCC參數(AP)作修正。

另外，本發明係並不被限定於前述之實施形態，而亦包含有各種的變形例。例如，前述之實施形態，係為為了對於本發明作易於理解之說明而作了詳細說明者，本發明係並不被限定於包含有上述所作了說明的全部之構成者。

又，係可將某一實施形態之構成的一部分置換為其他之實施形態的構成，亦可在某一實施形態的構成中追加其他實施形態之構成。又，係可針對各實施形態之構成的一部分，而進行其他之構成的追加、削除、置換。

又，控制線或資訊線，係代表被視為在進行說明時所需要者，在製品上，係並非絕對會對於全部的控制線或資訊線作標示。實際上，亦可視為幾乎所有的構成均有被相互作連接。

又，前述模擬程式，係可預先記錄在能夠藉由電腦來讀取的記錄媒體中，之後被供給至電腦處。作為 此種記錄媒體，例如，係可列舉出以硬碟等作為代表之磁性記錄媒體、以DVD(Digital Versatile Disc)或藍光光碟等作為代表之光記錄媒體、以快閃記憶體等作為代表之半導體記憶體等。進而，前述模擬程式，係可從發佈伺服器來透過電性通訊線路而被作供給。

10:帶電粒子線裝置(實際機器)

11:帶電粒子光學系統

13:驗證裝置

105:試料

108:檢測器

110:畫像轉換部

112:ABCC控制部

200:畫像直方圖

301:特性保存部

302:攝像畫像

303:逆轉換處理部(模擬輸入訊號產生部)

304:模擬輸入訊號

305:特性資訊

310:模擬檢測器

312:模擬畫像轉換部

314:ABCC探索部(參數探索部)

401:檢測演算部 402:放大演算部 403:波形產生部 405:相關資訊 602:訊號產生部(模擬輸入訊號產生部) 701:顯示部 702:操作部 703:顯示控制部 901:攝像畫像 1001:基準用試料 AP:ABCC參數 BRT:偏位電壓(亮度電壓) CNT:對比度電壓 τ:時間常數

[圖1]係為對於由本發明之實施形態1所致之計測系統的構成例作展示之概略圖。

[圖2]係為對於ABCC參數之調整方法的概略內容作說明之示意圖。

[圖3]係為對於在圖1之計測系統中的主要部分之詳細構成例作展示之圖。

[圖4](a)係為對於在圖3中之驗證裝置內的模擬檢測器之構成例以及示意性動作例作展示之圖，(b)係為對於被 保存於圖3中之特性保存部中的特性資訊之其中一例作展示之圖。

[圖5]係為對於由本發明之實施形態1所致之帶電粒子線裝置的參數設定方法之其中一例作展示之流程圖。

[圖6]係為對於在由本發明之實施形態2所致之計測系統中的於圖1之計測系統處的主要部分之詳細構成例作展示之圖。

[圖7]係為對於在由本發明之實施形態3所致之計測系統中的於圖1之計測系統處的主要部分之詳細構成例作展示之圖。

[圖8]係為對於被顯示於圖7中之顯示部處的設定畫面之其中一例作展示之圖。

[圖9]係為對於由本發明之實施形態4所致之帶電粒子線裝置的參數設定方法之其中一例作展示之流程圖。

[圖10]係為對於使用有帶電粒子線裝置之幾何學長度測定方法的概略內容作說明之圖。

[圖11]係為對於一般性之帶電粒子線裝置的構成例作展示之概略圖。

10:帶電粒子線裝置(實際機器)

11:帶電粒子光學系統

12:訊號處理部

13:驗證裝置

102:電子槍

103:電子線

104:電子透鏡

105:試料

106:平台

107:訊號電子

108:檢測器

109:訊號輸入部

110:畫像轉換部

112:ABCC控制部

113:畫像顯示部

Claims (14)

1. 一種計測系統，係具備有：帶電粒子線裝置，係具備對於試料照射帶電粒子線之帶電粒子光學系統、和將因應於前述帶電粒子線之照射而從前述試料所放出的電子作檢測以及放大之檢測器、和將從前述檢測器而來之訊號轉換為攝像畫像之畫像轉換部、以及接收ABCC(自動亮度對比控制，Auto Brightness Contrast Control)參數並在前述檢測器處設定放大率之ABCC控制部；和特性保存部，係預先被儲存有前述檢測器之特性資訊；和驗證裝置，前述驗證裝置，係具備有：模擬輸入訊號產生部，係產生與從前述試料所放出的電子相對應之模擬輸入訊號；和模擬檢測器，係使用對於前述檢測器之動作作了模擬的演算模型，來在使前述演算模型之演算參數反映有前述特性資訊的狀態下，實行針對前述模擬輸入訊號之演算處理；和模擬畫像轉換部，係實行與前述畫像轉換部相對應之演算處理，而將從前述模擬檢測器而來之訊號轉換為模擬畫像；和參數探索部，係以會使根據前述模擬畫像所得到的評價值成為規定之基準值的方式，來探索出相對於前述模擬 檢測器之前述ABCC參數，並將成為探索結果的前述ABCC參數對於前述ABCC控制部作輸出。
2. 如請求項1所記載之計測系統，其中，在前述特性資訊中，係包含有相關資訊，該相關資訊，係代表在前述檢測器處的前述ABCC參數之值與前述放大率之間之實際的相關關係，前述模擬檢測器，係具備有：檢測演算部，係以基於前述模擬輸入訊號所致的產生間隔，來產生脈衝訊號；和放大演算部，係伴隨著在前述參數探索部處之探索，而基於前述相關資訊來取得與前述ABCC參數相對應之前述放大率，並將該所取得了的放大率視為以卜瓦松分布來作了分散者，而將從前述檢測演算部而來之前述脈衝訊號之振幅作放大。
3. 如請求項2所記載之計測系統，其中，在前述特性資訊中，係包含有對於在前述檢測器之輸出波形中的上揚特性以及下挫特性作表現的時間常數，前述模擬檢測器，係更進而具備有：波形產生部，係基於前述時間常數來使從前述放大演算部而來的脈衝訊號之上揚時間以及下挫時間作變化。
4. 如請求項2所記載之計測系統，其中，前述檢測演算部，係將前述模擬輸入訊號之準位設為“λ”，並且使前述產生間隔藉由以“1/λ”作為平均值之指數分布來作分散。
5. 如請求項1所記載之計測系統，其中，前述模擬輸入訊號產生部，係基於從前述帶電粒子線裝置所得到的前述攝像畫像，來產生前述模擬輸入訊號。
6. 如請求項1所記載之計測系統，其中，前述模擬輸入訊號產生部，係基於前述試料之設計資料，來產生前述模擬輸入訊號。
7. 如請求項1所記載之計測系統，其中，前述驗證裝置，係更進而具備有：操作部，係受理從使用者而來之輸入；和顯示部；和顯示控制部，係使前述顯示部，顯示能夠讓前述使用者對於伴隨於前述ABCC參數之探索的探索條件作設定之設定畫面。
8. 如請求項1所記載之計測系統，其中，前述參數探索部，係將伴隨於前述ABCC參數之探索的初期值，作複數之設定，並藉由使用有前述複數之初期值之平行處理，來探索前述ABCC參數。
9. 如請求項1所記載之計測系統，其中，前述評價值，係身為基於根據前述模擬畫像所得到的畫像直方圖之累積次數所制定的灰階值，前述基準值，係身為基於在前述模擬畫像中的灰階值之全尺度(Full scale)所制定的灰階值。
10. 如請求項1所記載之計測系統，其中，前述評價值，係身為根據前述模擬畫像所測定出的前 述試料之幾何學長度，前述基準值，係身為既知之幾何學長度。
11. 一種帶電粒子線裝置之參數設定方法，係為以帶電粒子線裝置作為對象來使用驗證裝置而制定ABCC(自動亮度對比控制，Auto Brightness Contrast Control)參數之參數設定方法，該帶電粒子線裝置，係具備有對於試料照射帶電粒子線之帶電粒子光學系統、和將因應於前述帶電粒子線之照射而從前述試料所放出的電子作檢測以及放大之檢測器、和將從前述檢測器而來之訊號轉換為攝像畫像之畫像轉換部、以及接收前述ABCC參數並在前述檢測器處設定放大率之ABCC控制部，前述驗證裝置，係實行：第1步驟，係產生與從前述試料所放出的電子相對應之模擬輸入訊號；和第2步驟，係使用對於前述檢測器之動作作了模擬的演算模型，來基於預先所被輸入了的前述檢測器之特性資訊，來在使前述演算模型之演算參數反映有前述特性資訊的狀態下，實行針對前述模擬輸入訊號之演算處理；和第3步驟，係實行與前述畫像轉換部相對應之演算處理，而將在前述第2步驟中所得到的訊號轉換為模擬畫像；和第4步驟，係以會使根據前述模擬畫像所得到的評價值成為規定之基準值的方式，來探索出相對於前述演算模型之前述ABCC參數，並將成為探索結果的前述ABCC參數 對於前述ABCC控制部作輸出。
12. 如請求項11所記載之帶電粒子線裝置之參數設定方法，其中，係更進而具備有：第5步驟，係使用前述帶電粒子線裝置而取得前述攝像畫像，在前述第1步驟中，前述驗證裝置，係基於在前述第5步驟中所得到的前述攝像畫像，來產生前述模擬輸入訊號。
13. 如請求項11所記載之帶電粒子線裝置之參數設定方法，其中，在前述第1步驟中，前述驗證裝置，係基於前述試料之設計資料，來產生前述模擬輸入訊號。
14. 如請求項11所記載之帶電粒子線裝置之參數設定方法，其中，係更進而具備有：第6步驟，係使第1帶電粒子線裝置，以具備有既知之幾何學長度之基準用試料作為對象，而在以會使根據前述攝像畫像所測定出的幾何學長度成為前述既知之幾何學長度的方式來對於前述ABCC參數作了調整之狀態下，而取得前述攝像畫像，在前述第1步驟中，前述驗證裝置，係基於在前述第6步驟中所得到的前述攝像畫像，來產生前述模擬輸入訊號，在前述第2步驟中，前述驗證裝置，係基於預先所被輸入了的在第2帶電粒子線裝置中之前述檢測器之特性資 訊，來在使前述演算模型之演算參數反映有前述特性資訊的狀態下，實行針對前述模擬輸入訊號之演算處理，在前述第4步驟中，前述驗證裝置，係將根據前述模擬畫像所測定出的幾何學長度作為前述評價值，並將前述既知之幾何學長度作為前述基準值，而以會使前述評價值成為前述基準值的方式來對於前述ABCC參數進行探索。

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