TWI760924B - 用於存取記憶體單元之方法及系統 - Google Patents
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- 230000015654 memory Effects 0.000 title claims abstract description 526
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 230000004044 response Effects 0.000 claims abstract description 104
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 86
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 11
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 8
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000012782 phase change material Substances 0.000 description 4
- -1 silicon nitrides Chemical class 0.000 description 4
- ITWBWJFEJCHKSN-UHFFFAOYSA-N 1,4,7-triazonane Chemical compound C1CNCCNCCN1 ITWBWJFEJCHKSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910008482 TiSiN Inorganic materials 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910008807 WSiN Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- QRXWMOHMRWLFEY-UHFFFAOYSA-N isoniazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=NC=C1 QRXWMOHMRWLFEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021334 nickel silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N nickel silicide Chemical compound [Ni]=[Si]=[Ni] RUFLMLWJRZAWLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008672 reprogramming Effects 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000003446 memory effect Effects 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018110 Se—Te Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001215 Te alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001364 causal effect Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/003—Cell access
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
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- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
- G11C11/5678—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using amorphous/crystalline phase transition storage elements
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- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
- G11C2013/0045—Read using current through the cell
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
- G11C2013/0052—Read process characterized by the shape, e.g. form, length, amplitude of the read pulse
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- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
- G11C2013/0057—Read done in two steps, e.g. wherein the cell is read twice and one of the two read values serving as a reference value
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- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
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- G11C2013/0073—Write using bi-directional cell biasing
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- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/73—Array where access device function, e.g. diode function, being merged with memorizing function of memory element
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- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
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Abstract
本發明係關於一種用於讀取記憶體單元之方法,且可包含:將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元;偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓;將一第一邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之極性及高於處於該第一邏輯狀態之記憶體單元之一預期最高臨限電壓的一量值;及偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓;以及其他態樣。本發明亦揭示一種相關電路、相關記憶體裝置及相關系統。
Description
本技術領域係關於用於存取記憶體單元之方法及系統。
記憶體裝置用於許多電子系統中,諸如行動電話、個人數位助理、膝上型電腦、數位相機及類似者。非揮發性記憶體在電源切斷時保留其等內容,此使其等成為記憶體裝置中用於儲存待在一系統電源循環之後擷取之資訊的良好選擇。
繼續驅使更小且更具能量效率的裝置已導致傳統記憶體裝置之縮放問題。因此,存在對可潛在地規模小於傳統記憶體裝置之記憶體裝置的一當前需求。然而,規模小於傳統裝置之一些記憶體技術可能經歷相對較高錯誤率。
傳統系統通常實施錯誤偵測及校正機制以處置錯誤且防止系統崩潰、資訊丟失或兩者。然而,錯誤校正機制可能增加系統成本,佔用一記憶體晶粒上之空間,且增加用於自記憶體準確地擷取資料之時間量。對於用於具有高錯誤率之記憶體系統之更大或更複雜錯誤校正系統而言,此等缺點可尤其顯著。
因此,期望以一簡單方式降低記憶體裝置中之錯誤率,特別是減少讀取錯誤。
在此描述一種用於讀取記憶體單元之方法。在某些實例中,用於讀取記憶體單元之該方法可包括:將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元,偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓,基於該等第一臨限電壓,將一第一邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯,將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之極性,偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓,基於該等第二臨限電壓,將一第二邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯,將一第三讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第三讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之極性,且至少施加至在該第二讀取電壓之該施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一記憶體單元群組,偵測回應於該第三讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓,及基於該等第三臨限電壓,將該第一邏輯狀態或該第二邏輯狀態之一者與該複數個記憶體單元之該等單元之一或多者相關聯。
在此描述一種用於讀取記憶體單元之電路。在某些實例中,用於讀取記憶體單元之該電路可包括:一存取電路,其經組態以將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元,將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之一極性之一極性,及將一第三讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第三讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之極性,且至少施加至在該第二讀取電壓之該施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一
記憶體單元群組,一感測電路,其經組態以偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓,偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓,及偵測回應於該第三讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓,其中該存取電路進一步經組態以基於由該感測電路偵測到之該等第一臨限電壓,將一第一邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯,基於由該感測電路偵測到之該等第二臨限電壓,將一第二邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯,及基於由該感測電路偵測到之該等第三臨限電壓,將該第一邏輯狀態或該第二邏輯狀態之一者與該複數個記憶體單元之該等單元之一或多者相關聯。
此處描述一種記憶體裝置。在某些實例中,該記憶體裝置可包括一記憶體單元陣列,及一電路部分,其用於讀取該等記憶體單元,該電路部分與該記憶體單元陣列可操作地耦合,且至少包括一存取電路,其經組態以將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元,將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之一極性之一極性,及將一第三讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第三讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之極性,且至少施加至在該第二讀取電壓之該施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一記憶體單元群組,一感測電路,其經組態以偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓,偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓,及偵測回應於該第三讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓,其中該存取電路進一步經組態以基於由該感測電路偵測到
之該等第一臨限電壓,將一第一邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯,基於由該感測電路偵測到之該等第二臨限電壓,將一第二邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯,及基於由該感測電路偵測到之該等第三臨限電壓,將該第一邏輯狀態或該第二邏輯狀態之一者與該複數個記憶體單元之該等單元之一或多者相關聯。
100:記憶體單元
102:儲存材料
104:存取線
106:存取線
108:電極
142:電路
143:存取電路
145:感測電路
200:記憶體單元陣列
202:儲存材料
204:存取線
206:存取線
300:記憶體單元
302A:端子
302B:端子
304:正程式化脈衝
306:負程式化脈衝
310:讀取脈衝/負讀取脈衝
312:讀取脈衝/負讀取脈衝
320:較高臨限電壓量值
322:較低臨限電壓量值
500:記憶體單元
502A:端子/端子A
502B:端子/端子B
504:正程式化脈衝
506:負程式化脈衝
514:正讀取脈衝
516:負讀取脈衝
632:線/分佈
634:線/分佈
636:窗口
638:線/分佈
640:線/分佈
642:窗口
700:單元
702A:端子
702B:端子
704:正程式化脈衝
706:負程式化脈衝
714:正讀取脈衝/第一讀取脈衝/第一施加電壓
716:第二讀取脈衝/第二正讀取電壓/正讀取電壓
718:第三脈衝/正讀取脈衝
801:分佈/線
802:點/資料點
803:分佈/線
804:點/資料點
806:點/資料點
808:點/資料點/單元
810:範圍
820:範圍/記憶體單元
830:範圍
832:範圍
900:方法
910:步驟
920:步驟
930:步驟
940:步驟
950:步驟
960:步驟
970:步驟
980:步驟
990:步驟
1100:系統
1100’:記憶體部分
1110:記憶體裝置
1120:記憶體單元陣列/記憶體單元
1130:電路部分
1131:存取電路
1132:感測電路
1133:暫存器
1134:解碼電路
1140:記憶體控制器
1141:再新(REF)邏輯
1142:錯誤偵測/校正電路
1143:命令(CMD)邏輯
1144:計數器
1150:主機/主機裝置
1160:主機處理器
1170:介面
1180:網路介面
圖1係繪示可根據本發明讀取之一例示性記憶體單元之一例示性方塊圖;圖2示意性地繪示一例示性記憶體單元陣列之一部分;圖3示意性地繪示運用一記憶體單元之一負極性之一單極性讀取;圖4係展示由一例示性記憶體單元展現之較低及較高臨限電壓之實驗資料之一曲線圖;圖5A示意性地繪示運用不同極性之單元之一讀取操作;圖5B係表示圖5A之讀取之效應之一表;圖6A係繪示回應於一正極性讀取而由複數個記憶體單元展現之一臨限電壓分佈之一曲線圖;圖6B係繪示回應於一負極性讀取而由複數個記憶體單元展現之一臨限電壓分佈之一曲線圖;圖7示意性地繪示根據本發明之一實施例之一記憶體單元之一讀取序列;圖8A至圖8F係繪示根據本發明之一實施例之在讀取序列期間由記憶體單元展現之臨限電壓分佈之曲線圖;
圖9係繪示根據本發明之一實施例之讀取序列之結果之一表;圖10A係表示根據本發明之一方法之步驟之一流程圖;圖10B係表示根據本發明之一實施例之一方法之步驟之一流程圖;及圖11展示包含根據本發明之一記憶體裝置之一系統之一示意性方塊圖。
本專利申請案主張由Di Vincenzo等人在2019年12月3日申請之標題為「METHODS AND SYSTEMS FOR ACCESSING MEMORY CELLS」之國際專利申請案第PCT/IB2019/001204號,及由Di Vincenzo等人在2020年6月10日申請之標題為「METHODS AND SYSTEMS FOR ACCESSING MEMORY CELLS」之美國專利申請案第16/771,657號之優先權,該等案之各者讓渡給其受讓人,且該等案各者之全文以引用的方式明確併入本文中。
參考該等圖式,本文中將揭示用於記憶體單元之一改良讀取之方法及系統。
非揮發性記憶體在電源切斷時保留其等內容,此使其等成為用於儲存待在一系統電源循環之後擷取之資訊的良好選擇。一快閃記憶體係一類型之非揮發性記憶體,其可保留經儲存資料且以一非常快速存取時間為特性。此外,其可以區塊為單位擦除,而非一次擦除一個位元組。記憶體之各可擦除區塊包括配置成一列及行矩陣之複數個非揮發性記憶體單元。各單元耦合至一存取線及/或一資料線。可藉由操縱存取線及資料
線上之電壓而程式化及擦除單元。快閃記憶體已建立完善且非常適合於大容量儲存應用;然而,其等效能不滿足現今最苛刻的應用。例如3D交叉點(3D XPoint)記憶體及自選擇記憶體(SSM)之新穎技術例如在存取時間及存取粒度方面具有更好效能(可以頁、字或(原則上)甚至位元粒度程式化及讀取資料)。運用縮放技術,在一讀取操作期間存取資料愈來愈具挑戰性。
圖1繪示可根據本發明寫入及讀取之一例示性記憶體單元100之一方塊圖。
在圖1中所繪示之實施例中,記憶體單元100包含在存取線104與106之間之一儲存材料102。存取線104、106將記憶體單元100與寫入至記憶體單元100且讀取記憶體單元100之電路142電耦合。術語「耦合」可指代直接地或間接地實體、電及/或通信連接之元件,且可在本文中與術語「連接」互換地使用。實體耦合可包含直接接觸。電耦合包含容許組件之間之電流量及/或傳訊之一介面或互連件。通信耦合包含使組件能夠交換資料之連接,包含有線及無線連接。
在一項實施例中,儲存材料102包含展現記憶效應之一自選擇材料。一自選擇材料係能夠在不需要一單獨選擇器元件之情況下選擇一陣列中之一記憶體單元之一材料。因此,圖1將儲存材料102繪示為一「選擇器/儲存材料」。若用於存取記憶體單元之電路可引起一材料處於多種狀態之一者(例如,經由一寫入操作)且稍後判定經程式化狀態(例如,經由一讀取操作),則該材料展現記憶效應。用於存取記憶體單元(例如,經由讀取及寫入操作)之電路大體上稱為「存取電路」,且下文參考存取電路143進行進一步論述。存取電路可藉由引起儲存材料102處於一特定狀
態而將資訊儲存於記憶體單元100中。儲存材料102可包含例如硫屬化物材料,諸如Te-Se合金、As-Se合金、Ge-Te合金、As-Se-Te合金、Ge-As-Se合金、Te-As-Ge合金、Si-Ge-As-Se合金、Si-Te-As-Ge合金,或能夠用作一儲存元件及一選擇器兩者之其他材料,以能夠定址一特定記憶體單元且判定記憶體單元之狀態為何。因此,在一項實施例中,記憶體單元100係包含一單一材料層之一自選擇記憶體單元,該材料層充當用於選擇記憶體單元之一選擇器元件及用於儲存一邏輯狀態(即,與單元之一給定極性相關之一狀態)之一記憶體元件兩者。
在一項實施例中,儲存材料102係一相變材料。一相變材料可跨介於完全非晶態與完全結晶態之間之整個能譜在一大體非晶態與一大體結晶態之間電切換。在另一實施例中,儲存材料102並非一相變材料。在其中儲存材料102並非一相變材料之一項實施例中,儲存材料能夠在不改變相之情況下在兩個或更多個穩態之間切換。存取電路143能夠藉由施加具有一特定極性之一電壓以引起儲存材料102處於所要穩態而程式化記憶體單元100。
在一項此類實施例中,程式化記憶體單元100引起記憶體單元100「定限」或經歷一「臨限事件」。當一記憶體單元定限時(例如,在一程式化電壓脈衝期間),該記憶體單元經歷引起該記憶體單元回應於一後續電壓(例如,具有一特定量值及極性之一讀取電壓)之施加而展現一特定臨限電壓的一實體變化。因此,程式化記憶體單元100可涉及施加一給定極性之一電壓以引發一程式化臨限事件,此引起記憶體單元100在一相同或不同極性之一後續讀取電壓展現一特定臨限電壓。在一項此類實施例中,儲存材料102係可藉由引發一臨限事件而程式化之一自選擇材料(例
如,一非相變硫屬化物材料或其他自選擇材料)。
如下文進一步詳細說明,在讀取時此一記憶體單元之輸出依據用於程式化該記憶體單元之極性及用於讀取該記憶體單元之極性而不同。例如,基於程式化電壓及讀取電壓兩者之極性,儲存材料102可回應於一讀取電壓脈衝而展現一「較低臨限電壓」或一「較高臨限電壓」。在本發明之內容背景中,展現一臨限電壓意謂回應於將具有一特定量值及極性之一電壓施加至記憶體單元之端子,跨記憶體單元存在近似等於臨限電壓之一電壓。因此,臨限電壓對應於在(若干)輸入處施加以產生(若干)輸出(即,查看單元之一經判定電回應)所需之最小電壓。換言之,在本發明之內容背景中,動詞「定限」意謂單元經歷一臨限事件,即,其等回應於高於一給定臨限值之施加電壓而具有一電回應,因此展現一特異臨限電壓。
如上文所提及,存取線104、106將記憶體單元100與電路142電耦合。存取線104、106可分別稱為位元線及字線。字線用於存取一記憶體陣列中之一特定字且位元線用於存取該字中之一特定位元。存取線104、106可由以下者組成:一或多種金屬,包含:Al、Cu、Ni、Cr、Co、Ru、Rh、Pd、Ag、Pt、Au、Ir、Ta及W;導電金屬氮化物,包含TiN、TaN、WN及TaCN;導電金屬矽化物,包含矽化鉭、矽化鎢、矽化鎳、矽化鈷及矽化鈦;導電金屬矽氮化物,包含TiSiN及WSiN;導電金屬碳氮化物,包含TiCN及WCN;或任何其他合適導電材料。
在一項實施例中,電極108安置於儲存材料102與存取線104、106之間。電極108將存取線104、106與儲存材料102電耦合。電極108可由以下者組成:一或多種導電及/或半導電材料,諸如(舉例而言):
碳(C)、氮化碳(CxNy);n摻雜多晶矽及p摻雜多晶矽;金屬,包含Al、Cu、Ni、Cr、Co、Ru、Rh、Pd、Ag、Pt、Au、Ir、Ta及W;導電金屬氮化物,包含TiN、TaN、WN及TaCN;導電金屬矽化物,包含矽化鉭、矽化鎢、矽化鎳、矽化鈷及矽化鈦;導電金屬矽氮化物,包含TiSiN及WSiN;導電金屬碳氮化物,包含TiCN及WCN;導電金屬氧化物,包含RuO2;或其他合適導電材料。在一項實施例中,導電字線層可包含:任何合適金屬,包含例如包含Al、Cu、Ni、Cr、Co、Ru、Rh、Pd、Ag、Pt、Au、Ir、Ta及W之金屬;導電金屬氮化物,包含TiN、TaN、WN及TaCN;導電金屬矽化物,包含矽化鉭、矽化鎢、矽化鎳、矽化鈷及矽化鈦;導電金屬矽氮化物,包含TiSiN及WSiN;導電金屬碳氮化物,包含TiCN及WCN;或另一合適導電材料。
再次參考電路142,根據一實施例,存取線104、106將電路142通信地耦合至記憶體單元100。電路142包含存取電路143及感測電路145。電路包含經電耦合以對經接收或經儲存資訊執行類比或邏輯運算、輸出資訊及/或儲存資訊之電子組件。硬體邏輯係用於執行諸如資料處理中涉及之邏輯運算之邏輯運算的電路。在一項實施例中,存取電路143將電壓脈衝施加至存取線104、106以寫入至記憶體單元100或讀取記憶體單元100。術語「寫入」及「程式化」可互換地用於描述將資訊儲存於一記憶體單元中之動作。為了寫入至記憶體單元100,存取電路將具有一特定量值及極性之一電壓脈衝施加至存取線104、106,存取線104、106可選擇記憶體單元100且程式化記憶體單元100。
在一項實施例中,存取電路143施加具有一個極性之一脈衝以將記憶體單元100程式化為一種邏輯狀態,且施加具有一不同極性之
一脈衝以將記憶體單元100程式化為一不同邏輯狀態。接著,由於一記憶體單元之程式化極性,存取電路143可區分不同邏輯狀態。例如,在一記憶體讀取之一情況中,存取電路143將具有一特定量值及極性之一電壓脈衝施加至存取線104、106,此導致感測電路145可偵測到之一電回應。偵測電回應可包含例如偵測以下之一或多者:跨陣列之一給定記憶體單元之端子之一電壓降(例如,一臨限電壓)、通過給定記憶體單元之電流及給定記憶體單元之一臨限事件。在一些情況中,偵測一記憶體單元之一臨限電壓可包含:判定該單元之臨限電壓低於或高於一參考電壓,例如一讀取電壓。存取電路143可基於對讀取序列中之電壓脈衝之一或多者之電回應而判定記憶體單元100之邏輯狀態。
記憶體單元100係一記憶體單元之一個實例。其他實施例可包含與圖1中所繪示之材料層相比具有額外或不同材料層(例如,在儲存材料與存取線之間之一薄介電材料)之記憶體單元。
圖2展示根據一實施例之一記憶體單元陣列200之一部分,其可包含諸如圖1之記憶體單元100之一記憶體單元。記憶體單元陣列200係一三維交叉點記憶體結構(3D X Point)之一實例。記憶體單元陣列200包含複數個存取線204、206,其等可相同於或類似於關於圖1所描述之存取線104、106。存取線204、206可稱為位元線及字線。在圖2中所繪示之實施例中,位元線(例如,存取線204)與字線(例如,存取線206)正交。一儲存材料202(諸如圖1之儲存材料102)安置於存取線204、206之間。在一項實施例中,一「交叉點」形成於一位元線、一字線之間之一相交點處。在位元線及字線相交之處自位元線與字線之間之儲存材料202產生一記憶體單元。儲存材料202可為硫屬化物材料,諸如上文關於圖1所描述之儲
存材料102。在一項實施例中,存取線204、206由一或多種導電材料組成,諸如上文關於圖1所描述之存取線104、106。儘管圖2中展示一單一記憶體單元層級或層,但記憶體單元陣列200可包含多個記憶體單元層級或層(例如,在z方向上)。一般而言,相交點定義記憶體單元之位址。
圖1及圖2繪示一記憶體單元及陣列之一實例。然而,可使用其他記憶體單元結構及陣列,其中記憶體單元展現依據程式化及讀取極性而變化之電回應。
圖3示意性地展示程式化及讀取電壓脈衝之極性可如何影響由諸如圖1之記憶體單元100之一記憶體單元展現的臨限電壓。更特定言之,圖3係繪示一記憶體單元之單極性讀取之一實例。
更特定言之,在圖3之實例中,一記憶體單元300具有用於存取記憶體單元300之端子302A、302B(分別標記為A及B)。在一項實施例中,端子A及B係存取線,諸如圖1之存取線104及106或圖2之存取線204及206。存取電路(諸如圖1中所提及之存取電路143)可藉由將具有一特定量值及極性之一電壓施加至記憶體單元之端子302A、302B而寫入至記憶體單元300或讀取記憶體單元300。例如,圖3展示一「正」程式化脈衝304及一「負」程式化脈衝306。一正程式化脈衝指代具有「正極性」之一程式化脈衝,其亦可稱為「正向極性」。一負程式化脈衝係具有「負極性」之一電壓脈衝,其亦可稱為「反向極性」。一程式化脈衝是正還是負係基於施加至端子302A、302B之相對電壓。若施加至該等端子之一者之電壓更正於(more positive than)施加至該等端子之一第二者之電壓,則可將一電壓脈衝定義為正。例如,參考圖3,一正電壓脈衝可包含:施加至端子302A之一正電壓及施加至端子302B之一負電壓;施加至端子302A之
一正電壓及施加至端子302B之0V(例如,電路接地或中性參考);施加至端子302A之0V及施加至端子302B之一負電壓;施加至端子302A及302B兩者之一正電壓,但其中施加至302A之電壓大於施加至302B之電壓;或施加至端子302A及302B兩者之一負電壓,但其中施加至端子302A之電壓大於施加至端子302B之電壓。
在此一實施例中,若施加至端子302A之電壓更負於施加至端子302B之電壓,則施加至記憶體單元之端子之一電壓脈衝將為負。例如,一負電壓脈衝可包含:施加至端子302A之一負電壓及施加至端子302B之一正電壓;施加至端子302A之一負電壓及施加至端子302B之0V(例如,電路接地或中性參考);施加至端子302A之0V及施加至端子302B之一正電壓;施加至端子302A及302B兩者之一負電壓,但其中施加至302A之電壓之量值大於施加至302B之電壓之量值;或施加至端子302A及302B兩者之一正電壓,但其中施加至302B之電壓之量值大於施加至302A之電壓之量值。
圖3出於闡釋性目的而展示關於端子302A、302B之「正」及「負」之一特定定義,然而,實施例可不同地定義正及負。例如,一實施例可將一正程式化脈衝定義為其中施加至端子302B之電壓更正於施加至端子302A之電壓之一電壓脈衝。
如上文所提及,存取電路可藉由將具有一特定量值及極性之一電壓施加至一記憶體單元而寫入至該單元且讀取該單元。在一項實施例中,存取電路可藉由施加具有不同極性之電壓而將不同值或邏輯狀態寫入至記憶體單元。例如,存取電路可施加一正程式化脈衝(例如,正程式化脈衝304)以寫入一種邏輯狀態,且施加一負程式化脈衝(例如,負程式
化脈衝306)以寫入一不同邏輯狀態。
為便於參考,下文描述將一正程式化脈衝稱為將一「邏輯1」寫入至記憶體單元,且將一負程式化脈衝稱為將一「邏輯0」寫入至一記憶體單元,但可採用一不同慣例。例如,在一項實施例中,存取電路可施加一負程式化脈衝以寫入一邏輯1且施加一正程式化脈衝以寫入一邏輯0。根據本發明,單元可因此具有至少兩種邏輯狀態。
施加至一記憶體單元之一電壓是否程式化該單元取決於施加電壓之量值及持續時間。例如,在一項實施例中,存取電路施加具有足以引起記憶體單元定限之一量值之一程式化脈衝,諸如程式化脈衝304或306。例如,在一項實施例中,存取電路可施加具有大於或等於由記憶體單元展現之最高預期臨限電壓之一量值的一電壓。在一些實施例中,一程式化電壓脈衝之持續時間係10ns至50ns。在一些實施例中,程式化電壓脈衝之持續時間係1ns至100ns。在一些實施例中,程式化電壓脈衝之持續時間係1ns至1μs。在一項實施例中,程式化脈衝及讀取脈衝之持續時間係相同的。
不同實施例可涉及施加不同形狀之讀取及寫入電壓脈衝。在圖3中所繪示之實施例中,程式化脈衝304及306被展示為盒形(box-shaped)脈衝(亦稱為矩形或方形脈衝),且讀取脈衝310、312被展示為斜坡脈衝。在一項實施例中,讀取脈衝310、312斜坡上升或下降至一讀取電壓量值(例如,在圖3中所繪示之實施例中,至-VTH High及-VTH Low)。在實際實施方案中,根據實施例,電壓脈衝可具有前緣或後緣。其他實施例可施加具有諸如三角形(例如,斜坡脈衝)、梯形、矩形、盒形及/或正弦形狀之寫入及讀取脈衝。因此,用於存取記憶體單元之電路可
施加具有多種形狀及持續時間之程式化脈衝,該等程式化脈衝足以引起記憶體單元定限成所要狀態。換言之,本發明不受寫入及讀取電壓之一特定形狀限制。
讀取記憶體單元之一方法涉及將具有一單一極性之一電壓脈衝施加至記憶體單元。例如,如上文所提及,圖3展示一單極性讀取之一實例。在一項此類實施例中,存取電路將具有僅一單一特定極性之一電壓脈衝施加至記憶體單元。感測電路可偵測一給定記憶體單元對單極性脈衝之電回應。在圖3中所繪示之實例中,讀取記憶體單元300涉及施加一負電壓脈衝,諸如負讀取脈衝310及312。儘管圖3繪示負讀取脈衝310、312,但存取電路亦可執行僅使用正電壓脈衝來執行一單極性讀取的一單極性讀取。
若讀取電壓脈衝具有不同於程式化脈衝之一極性,諸如在正程式化脈衝304及負讀取脈衝310之情況中,則記憶體單元展現具有一較高量值之一臨限電壓(-VTH High)。在一項此類實施例中,若讀取電壓脈衝具有相同於程式化脈衝之極性,則記憶體單元展現具有一較低量值之一臨限電壓(-VTH Low)。在圖3中所繪示之實施例中,因為讀取電壓脈衝為負,所以結果臨限電壓之極性為負。因此,當執行單極性讀取時,在記憶體單元處於一種邏輯狀態時,記憶體單元展現具有一較高量值之一臨限電壓(例如,|-VTH High|),且在記憶體單元處於另一邏輯狀態時,其展現具有一較低量值之一臨限電壓(|-VTH Low|)。因此,存取電路可基於記憶體單元是展現一較高還是較低量值臨限電壓而判定一給定單元之邏輯狀態。
圖4係展示具有一較高及較低量值之例示性臨限電壓之一
曲線圖。曲線圖包含回應於不同程式化電流之施加而自記憶體單元收集之實驗資料(臨限電壓)。因此,曲線圖之x軸係程式化電流之量值(絕對值)且曲線圖之y軸係回應於程式化電流之結果臨限電壓之量值(絕對值)。如上文所提及,取決於程式化極性及讀取極性,由一記憶體單元展現之臨限電壓量值將較高(例如,VTH High)或較低(例如,VTH Low)。圖4之曲線圖展示記憶體單元針對一程式化電流範圍展現較高及較低臨限電壓。此曲線圖亦展示較高及較低臨限電壓實際上為電壓範圍。例如,在所繪示實例中,較高臨限電壓量值320係叢聚在大約5.6V之一量值範圍。類似地,在所繪示實例中,較低臨限電壓量值322係近似以4.7V為中心之一較低量值範圍。在此實例中,較低及較高臨限電壓量值之範圍藉由一窗口分離。
臨限電壓量值範圍之間之窗口可影響可靠地寫入至記憶體單元及讀取記憶體單元之能力。若臨限電壓範圍之間之窗口足夠大(例如,若臨限電壓範圍充分地隔開),則存取電路可能夠回應於一單極性讀取而可靠地區分一邏輯1與邏輯0。例如,若臨限電壓範圍充分地隔開,則存取電路可能夠藉由施加近似在低臨限電壓與高臨限電壓之間之一中點處(例如,如圖4中之約5.1V)的一單一讀取電壓而準確地讀取記憶體單元。在一個此類實例中,施加在低臨限電壓與高臨限電壓之間之中點處的一單一讀取電壓將引起用負程式化脈衝306程式化之記憶體單元定限,但用正程式化脈衝304程式化之記憶體單元未定限。因此,存取電路可藉由判定哪些記憶體單元回應於該單一讀取電壓而定限來區分記憶體單元之邏輯狀態。然而,若臨限電壓範圍之間之窗口較小,或若臨限電壓範圍重疊,則可能難以運用一單極性讀取可靠地區分一邏輯1或0。
下文係特定參考圖5A至圖5B及圖6A至圖6B對單元分佈之
進一步重要性質之一詳細描述。
圖5A及圖5B繪示運用不同極性之單極性讀取之效應。圖5A係繪示運用一正電壓或負電壓之一單極性讀取之一示意圖。類似於圖3,圖5A展示具有兩個端子502A、502B之一記憶體單元500。亦類似於圖3,圖5A繪示一正程式化脈衝504及一負程式化脈衝506。圖5A與圖3之不同之處在於,其展示在正及負程式化脈衝之後之正及負讀取之效應。明確言之,圖5A展示正讀取脈衝514及負讀取脈衝516。應注意,儘管繪示不具有一特定脈衝形狀之讀取脈衝514、516,但該等脈衝可為任何合適脈衝形狀,諸如上文關於圖3所論述之脈衝形狀,且本發明不受經施加讀取電壓之趨勢限制。亦應注意,圖3及下文描述係關於一單極性脈衝(針對一給定讀取,正讀取脈衝或負讀取脈衝,而非正脈衝及負脈衝兩者)。
當施加電壓及程式化電壓具有相同極性時,臨限電壓之量值為低。例如,在圖5A中所繪示之實施例中,正程式化脈衝504其後接著正讀取脈衝514導致VTH Low1。類似地,負程式化脈衝506其後接著負讀取脈衝516導致-VTH Low2。當施加電壓及程式化電壓具有不同極性時,臨限電壓之量值為高。例如,在圖5A中所繪示之實施例中,正程式化脈衝504其後接著負讀取脈衝516導致-VTH High1。負程式化脈衝506其後接著正讀取脈衝514導致VTH High2。
較高及較低臨限電壓之量值可變化。例如,在圖5A中所繪示之實例中,VTH High1可不同於VTH High2。例如,記憶體單元展現基於程式化及讀取脈衝之極性而不同之不同高臨限電壓量值。明確言之,當用一負電壓(例如,負讀取脈衝516)讀取時由一給定記憶體單元展現之較高臨限電壓量值不一定相同於在用一正電壓(例如,正讀取脈衝514)讀取
時由該單元展現之一較高臨限電壓量值。類似地,記憶體單元可展現基於程式化及讀取脈衝之極性而不同之不同較低臨限電壓量值。明確言之,當用一正電壓(例如,正讀取脈衝514)讀取時由一給定記憶體單元展現之較低臨限電壓量值不一定相同於在用一負電壓(例如,負讀取脈衝516)讀取時由該單元展現之一較低臨限電壓量值。
在另一實例中,高臨限電壓量值實質上相同,而與程式化及讀取脈衝之極性無關。類似地,低臨限電壓量值可實質上相同,而與程式化及讀取脈衝之極性無關。如下文論述,當用相同極性進行讀取時,高及低臨限電壓量值亦可在記憶體單元間有所不同。例如,定位於一晶圓上之不同位置處之記憶體單元可具有不同的低及高臨限電壓。因此,歸因於例如讀取極性及記憶體單元變異,較高或較低臨限電壓之量值可能存在變異。無論高及低臨限電壓之變異如何(例如,歸因於程式化/讀取極性或記憶體單元變異),一給定記憶體單元可展現一高臨限電壓及一低臨限電壓,其中高臨限電壓之量值大於低臨限電壓之量值。
圖5B係繪示圖5A中所繪示之單極性讀取之結果之一表。圖5B之表展示根據圖5A中所繪示之實施例,來自一記憶體單元之讀取輸出如何依據讀取及寫入極性而變化。左邊之行係施加至記憶體單元500之端子502A、502B之程式化極性。在圖5B之表中,VA指代施加至端子A(502A)之電壓且VB指代施加至端子B(502B)之電壓。因此,展示其中相對於端子502A之程式化極性為正(VA>VB)之一情況及其中相對於端子502A之程式化極性為負(VB>VA)之一情況。
中間行展示當讀取電壓脈衝之極性為正時之臨限電壓,且右行展示當讀取電壓脈衝之極性為負時之臨限電壓。如上文所說明,當程
式化及讀取脈衝之極性相同時,輸出電壓之量值為低(例如,|VTH Low1|或|-VTH Low2|)。當程式化及讀取脈衝之極性不同時,輸出電壓之量值為高(例如,|-VTH High1|或|VTH High2|)。例如,當較高臨限電壓具有5.7V之一量值且較低臨限電壓具有4.7V之一量值時,一正程式化脈衝其後接著一正讀取脈衝導致4.7V之一臨限電壓。一正程式化脈衝其後接著一負讀取脈衝導致-5.7V。一負程式化脈衝其後接著一正讀取脈衝導致5.7V之一臨限電壓。一負程式化脈衝其後接著一負讀取脈衝導致-4.7V之一臨限電壓。因此,根據一實施例,一讀取之輸出之量值及正負號取決於程式化電壓之極性及讀取電壓之極性。
圖6A及圖6B包含將臨限電壓量值之範圍展示為分佈之曲線圖。圖6A之曲線圖繪示回應於一正極性讀取之臨限電壓量值分佈。圖6B之曲線圖繪示回應於一負極性讀取之臨限電壓量值分佈。在圖6A及圖6B中所繪示之實施例中,臨限電壓量值(|VTH|)之分佈係常態(例如,高斯(Gaussian))。如上文所提及,出於闡釋性目的,圖6A及圖6B採用假定存取電路施加一正程式化脈衝以將一單元程式化為一邏輯1且施加一負程式化脈衝以將單元程式化為一邏輯0的一特定程式化慣例。然而,另一實施例可採用相反程式化慣例(例如,一正程式化脈衝可導致一邏輯0且一負程式化脈衝可導致一邏輯1)。
參考圖6A之曲線圖,線638展示當用一正電壓脈衝讀取時,由經程式化具有一邏輯1之記憶體單元展現之一臨限電壓量值分佈。因此,在圖6A及圖6B中所繪示之程式化慣例下,線638展示由用具有相同極性之電壓脈衝程式化及讀取之一記憶體單元展現的一臨限電壓量值分佈。因此,線638繪示一較低臨限電壓量值分佈。線640展示由經程式化
具有一邏輯0且用一正電壓脈衝讀取之記憶體單元展現的一臨限電壓量值分佈。因此,在圖6A及圖6B中所繪示之程式化慣例下,線640展示由用具有不同極性之電壓脈衝程式化及讀取(例如,用一負電壓脈衝程式化且用一正電壓脈衝讀取)之一記憶體單元展現的一臨限電壓量值分佈。因此,線640繪示一較高臨限電壓量值分佈。
參考圖6B之曲線圖,根據一實施例,線634展示當用一負電壓脈衝讀取由經程式化具有一邏輯0之記憶體單元展現的一臨限電壓分佈。因此,在圖6A及圖6B中所繪示之程式化慣例下,線634展示由用具有相同極性之電壓脈衝程式化及讀取之一記憶體單元展現的一臨限電壓分佈。因此,線634繪示一較低臨限電壓分佈。線632展示當用一負電壓脈衝讀取時由經程式化具有一邏輯1之記憶體單元展現的一臨限電壓分佈。因此,在圖6A及圖6B中所繪示之程式化慣例下,線632展示由用具有不同極性之電壓脈衝程式化及讀取(例如,用一正電壓脈衝程式化且用一負電壓脈衝讀取)之一記憶體單元展現的一臨限電壓量值分佈。因此,線632繪示一較高臨限電壓量值分佈。
如上文所提及,較高及較低臨限電壓分佈藉由一窗口分離。例如,圖6A之曲線圖展示在第50個百分數處,分佈638及分佈640藉由一窗口642分離。類似地,圖6B之曲線圖展示在第50個百分數處,分佈634及分佈632藉由一窗口636分離。在實施例中,取決於相對分佈,窗口642及636可相同或不同。圖6A及圖6B之曲線圖亦展示較低臨限電壓量值及較高臨限電壓量值之分佈可重疊,尤其是在分佈之尾部處。例如,圖6A之曲線圖展示其中分佈638及640重疊之一臨限電壓量值範圍。類似地,圖6B之曲線圖展示其中分佈632及634重疊之一臨限電壓量值範圍。
重疊可能歸因於例如個別記憶體單元之材料組合物或尺寸之局部變異而發生。因此,當執行一單極性讀取時,嘗試讀取落入分佈重疊內之一記憶體單元之存取電路可能錯誤地將一邏輯1之單元讀取為一邏輯0,或反之亦然。在一些情況中,錯誤校正機制可偵測或校正此等錯誤。然而,若分佈重疊係顯著的,則依賴於錯誤校正機制來處置錯誤可為不切實際的。
上文描述已展示單元分佈之重要性質。特定言之,臨限電壓範圍可因此在特定區中重疊,特別是在分佈之尾部處。如之前所提及,理想上,所有記憶體單元針對一相同邏輯狀態應以一相同(標稱)電阻率(及因此一相同臨限電壓)為特徵。然而,由於程式化為一相同邏輯狀態之不同單元因數種因素而展現不同電阻率值,故各邏輯狀態實際上與一各自電阻率分佈(通常為一高斯型分佈)相關聯,且因此與一各自臨限電壓分佈或範圍相關聯。
為了評定一自選擇記憶體(SSM)單元(例如,包括諸如硫屬化物材料之一自選擇記憶體材料之一記憶體單元,自選擇材料充當選擇元件及一儲存元件兩者)之邏輯狀態,實行旨在評定SSM單元之臨限電壓屬於哪一臨限電壓分佈之一讀取操作。例如,可將一讀取電壓施加至SSM單元,且基於回應於該讀取電壓之一電流(之存在或不存在)、取決於SSM單元之臨限電壓之電流(之存在或不存在)來評定SSM單元之邏輯狀態。應理解,當將一電壓差施加於一單元之兩個端子之間時,該單元定限(例如,其變得導電)。
根據本發明,甚至在臨限電壓分佈重疊時,一有利讀取序列仍能夠正確地讀取儲存於記憶體單元中之值。以此方式,所揭示之實施例容許擴大用於一讀取操作之感測窗口(即,由一邏輯「1」及一邏輯
「0」產生之電壓之間之差),從而提供記憶體單元之邏輯狀態之一更準確判定且因此降低錯誤率。
如上文所提及,當施加電壓及程式化電壓具有相同極性時,臨限電壓之量值為低。例如,根據圖7中所繪示之本發明之一實施例,正程式化脈衝704(對應於一邏輯狀態「1」)導致VTH Low 1,例如,如關於圖5A及圖5B所描述。在至少一些情況中,可藉由施加一正讀取脈衝714(例如,每當記憶體單元在用正讀取脈衝714加偏壓時定限時)判定邏輯狀態「1」,從而導致該VTH Low 1。當施加電壓及程式化電壓具有不同極性時,臨限電壓之量值為高。例如,當以正極性讀取時,負程式化脈衝706(對應於邏輯狀態「0」)導致VTH High 1。因此,處於邏輯狀態「0」之單元在用正讀取脈衝714加偏壓時未定限。歸因於分佈重疊(例如,參見圖6A),處於邏輯狀態「1」之一些單元在用正讀取脈衝714加偏壓時未定限且因此與處於邏輯狀態「0」之單元無法區分開。再者,讀取電壓之形狀可根據需要或情境而變化(例如,其可為一斜坡、一方形脈衝及類似者)。
根據圖7之實施例,施加至複數個單元之一第一讀取脈衝(諸如施加至具有兩個端子702A、702B之單元700之第一讀取脈衝714)之量值低於具有相同於第一讀取脈衝714之極性之一第二讀取脈衝716的量值。換言之,圖7類似於圖5A,惟圖7展示其中讀取序列中之第一施加電壓714為正且其後接著一第二正讀取電壓716之一讀取序列除外。如下文更詳細揭示,隨後施加具有相同於第一讀取脈衝及第二讀取脈衝之極性之一第三脈衝718。即使本發明提及其中將三個連續正讀取脈衝施加於用正及/或負讀取脈衝程式化之單元上之一實施例,亦可使用三個連續負讀取
脈衝。此外,用正程式化脈衝704其後接著正讀取脈衝716程式化記憶體單元導致VTH Low 2,且用正程式化脈衝704其後接著正讀取脈衝718程式化記憶體單元導致VTH Low 3。同樣地,用負程式化脈衝706其後接著正讀取脈衝716程式化記憶體單元導致VTH High 2,且用負程式化脈衝706其後接著正讀取脈衝718程式化記憶體單元導致VTH High 3。圖7中所描繪之讀取脈衝之間之比例僅用於闡釋性目的且係非限制性實例。
如下文論述,存取電路可基於記憶體單元對一讀取電壓之施加之電回應而判定記憶體單元之邏輯狀態。根據本發明,施加具有一合適量值之一第一讀取脈衝(諸如圖7之脈衝714)使存取電路能夠判定程式化電壓是否為正(例如,對應於一邏輯「1」狀態),或為不確定的(inconclusive)。在一項此類實施例中,若存取電路基於第一讀取脈衝判定程式化極性係不確定的,則存取電路可施加後續讀取脈衝以解決不確定性。以此方式,施加具有一合適量值之後續讀取脈衝使存取電路能夠區別用一正電壓(例如,對應於一邏輯「1」狀態)程式化之記憶體單元與用一負電壓(例如,對應於一邏輯「0」狀態)程式化之記憶體單元,如關於圖8A至圖8F更詳細地論述。
例如,感測電路偵測複數個記憶體單元對施加電壓之一電回應。感測電路可偵測跨陣列之一給定記憶體單元之端子之一電壓降(例如,一臨限電壓)、通過給定記憶體單元之電流及給定記憶體單元之一臨限事件之一者。在一項實施例中,偵測一記憶體單元之一臨限電壓可包含:判定單元之臨限電壓低於或高於一參考電壓。基於電回應,存取電路可判定記憶體單元之邏輯狀態或判定狀態係不確定的。在其中感測電路待偵測通過一給定記憶體單元之電流之一項實施例中,存取電路待基於偵測
電流回應於施加電壓而大於或低於一臨限電流(即,基於該電流之存在或不存在)(該回應取決於單元之臨限電壓)而判定給定記憶體單元處於一邏輯狀態。在一項實施例中,一臨限事件使該單元(例如,非相變硫屬化物自選擇記憶體材料)自一高電阻率狀態切換至一低電阻率狀態,從而導致大於或等於一臨限電流之一電流。在一項實施例中,臨限電流在1μA(微安)至10μA之範圍內。然而,取決於例如儲存材料之性質(例如,儲存材料之導電性),其他實施例可具有低於1μA或高於10μA之一臨限電流。
圖8A至圖8F及對應描述繪示根據本發明之一實施例,存取電路可如何使用諸如圖7中所展示之序列之一讀取序列讀取記憶體單元。更特定言之,圖8A至圖8F係繪示根據本發明之一實施例,在一讀取之執行期間由記憶體單元展現之臨限電壓分佈之曲線圖。
參考圖8A,曲線圖繪示分別由經程式化具有邏輯1及邏輯0之記憶體單元展現之臨限電壓之分佈801、803。在圖8A中所繪示之實施例中,分佈801係針對用一正極性程式化及讀取之記憶體單元。分佈803係針對用一負極性程式化且用一正極性讀取之記憶體單元。因此,點802及804係用一正電壓程式化為邏輯1且用一正電壓讀取之兩個不同記憶體單元的臨限電壓。點806及點808係用一負電壓程式化為邏輯0且用一正電壓讀取之兩個其他記憶體單元的臨限電壓。
圖8B繪示一讀取序列中之一第一讀取電壓(VDM1,其可對應於圖7之脈衝714之電壓)之施加。在所繪示實施例中,根據本發明之讀取序列,第一讀取電壓VDM1具有一正極性,且因此與用一正電壓程式化為邏輯1之記憶體單元「同調」。第一讀取電壓VDM1之量值被選擇為低於程式化為「0」邏輯狀態之單元之一預期最低臨限電壓量值,例如,低於
分佈803中之單元之最低臨限電壓。記憶體單元展現對第一電壓之電回應,即,記憶體單元可回應於VDM1而定限或未定限。一給定記憶體單元是否回應於VDM1而定限取決於記憶體單元是被程式化為一邏輯1還是邏輯0,及記憶體單元是否展現在分佈之間之重疊範圍內的臨限電壓。根據本發明,若一施加電壓具有大於一記憶體單元之臨限電壓之一量值,則該記憶體單元回應於該施加電壓而定限。明確言之,參考圖8B,複數個記憶體單元可基於其等對第一電壓之回應而分組,包含:經程式化具有一邏輯1之回應於第一電壓而定限之記憶體單元(例如,包含對應於資料點802之單元之記憶體單元群組);經程式化具有一邏輯0之未回應於第一電壓而定限之記憶體單元(例如,所有分佈803,包含點806及808);及經程式化具有一邏輯1但未回應於第一電壓而定限之記憶體單元(例如,包含對應於點804之單元之記憶體單元群組,即,展現落入分佈之重疊內之一臨限電壓的單元)。
在一項此類實施例中,VDM1具有一極性及量值以正確地識別回應於VDM1而定限之邏輯1記憶體單元。例如,VDM1之量值足夠高以引起對應於點802之記憶體單元定限,且因此使存取電路能夠正確地讀取一邏輯1。如所繪示,VDM1足夠高以引起落入分佈之範圍810(例如,分佈801之較低部分)內之記憶體單元定限,且因此使存取電路能夠將該等記憶體單元讀取為一邏輯1。
除正確地確定在範圍810內之所有記憶體單元為邏輯1之外,VDM1之施加亦再新或加強儲存於定限之記憶體單元中之資料。在一項此類實施例中,範圍810內之記憶體單元回應於第一電壓而被加強,此係因為該等記憶體單元經歷一臨限事件,且因此第一電壓之施加具有一程
式化效應。在一個此類實例中,讀取極性與定限之單元之程式化極性同調,因此讀取脈衝及對應臨限事件具有相同於程式化已儲存於記憶體單元中之相同邏輯狀態之一寫入脈衝的效應。因此,在一項實施例中,VDM1之施加亦能夠再新回應於第一電壓而定限之記憶體單元,此可防止定限記憶體單元之狀態之漂移。
未回應於第一電壓VDM1而定限之記憶體單元可為程式化為邏輯0之記憶體單元,或為程式化為一邏輯1之展現具有高於VDM1之一量值之一臨限電壓的記憶體單元(例如,展現落入分佈之重疊內(在分佈801之高尾部中,包含點804)之一臨限電壓量值之記憶體單元)。在所繪示實例中,VDM1具有低於分佈803之所有臨限電壓之量值之一量值(例如,低於由線803界定之範圍之一預期最低量值的一量值)。因此,在所繪示實施例中,程式化為邏輯0之記憶體單元(包含對應於資料點806及808之記憶體單元)未回應於VDM1而定限。因此,在執行一單一讀取之一系統中,對應於點804之記憶體單元將可能被錯誤地讀取為一邏輯0。根據本發明之一實施例,存取電路判定非定限記憶體單元僅回應於VDM1之邏輯狀態係不確定的。接著,有利地根據本發明,存取電路基於一讀取序列(即,基於記憶體單元對VDM1及對具有相同極性之後續施加電壓之回應)而判定此等記憶體單元之邏輯狀態。
圖8C展示根據本發明之讀取序列中之VDM1(即,第一讀取電壓)之結果(有目的地隱藏範圍830中之已定限之單元之資料點,因為其等邏輯狀態已被明確判定為「1」)。在施加VDM1之後,存取電路能夠基於對VDM1之電回應而判定陣列之一給定記憶體單元是否處於第一邏輯狀態(例如,在所繪示實例中,邏輯1)或給定記憶體單元之邏輯狀態是否為不
確定的。因此,存取電路判定回應於VDM1而定限之記憶體單元(例如,在範圍830中、對應於圖8B之範圍810之記憶體單元)係邏輯1。存取電路亦判定未回應於VDM1而定限之記憶體單元(例如,在範圍832中之記憶體單元)可能為一邏輯1或邏輯0之任一者,且因此具有不確定之一邏輯狀態。
在一項實施例中,存取電路進一步經組態以施加後續讀取電壓來區別實際上為邏輯0之記憶體單元與為邏輯1之記憶體單元(例如,在分佈801之高尾部中之邏輯1單元)。
根據本發明,施加具有相同於VDM1之極性及不同於VDM1之一量值之一第二讀取電壓。圖8D繪示回應於第二讀取電壓(指示為VDM2)之臨限電壓分佈。如上文所論述,若用相同極性程式化及讀取一記憶體單元,則其展現具有在較低分佈中之一量值之一臨限電壓。因此,用一正電壓程式化為邏輯1且接著用正電壓讀取之記憶體單元展現具有落入較低範圍內之一量值之一臨限電壓。用一負電壓程式化為邏輯0且接著用一正電壓讀取之記憶體單元展現具有在較高範圍內之一量值之一臨限電壓。
如上文所論述,存取電路能夠回應於第一讀取電壓而判定在範圍810內之記憶體單元係一邏輯1。因此,因為存取電路已判定在範圍810內之此等記憶體單元之邏輯狀態,所以存取電路可從第二讀取電壓遮蔽(例如,屏蔽(screen))該等記憶體單元。若存取電路從一電壓遮蔽記憶體單元,則存取電路不會將此電壓施加至該記憶體單元,如圖8C及圖8D中所展示。在一實施例中,遮蔽一單元對應於切斷(即,接地)對應數位線。因此,在一些實例中,可在後續步驟中遮蔽已被判定為處於邏輯狀態1之記憶體單元。
因此,圖8D繪示本發明之讀取序列中之第二讀取電壓
VDM2之施加。在所繪示實施例中,根據圖7之序列,第二電壓亦具有一正極性,且因此與用一正電壓程式化為邏輯1之記憶體單元「同調」。VDM2之量值被選擇為高於程式化為「1」邏輯狀態之單元之一預期最高臨限電壓量值,例如,高於在分佈801中之單元之最高臨限電壓。如前述,記憶體單元展現對第二電壓之電回應,即,記憶體單元可回應於VDM2而定限或不定限。一給定記憶體單元是否回應於VDM2而定限取決於記憶體單元是程式化為一邏輯1還是邏輯0,及記憶體單元是否展現在分佈之間之重疊範圍內(例如,被包括在VDM1與VDM2之間)之臨限電壓。應理解,在此操作中不關注在先前步驟中已遮蔽之可能單元;例如,偵測回應於第二讀取電壓之施加由複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓應意欲偵測未遮蔽記憶體單元之第二臨限電壓。若一施加電壓具有大於經展現臨限電壓之一量值,則一記憶體單元回應於該施加電壓而定限。明確言之,參考圖8D,複數個記憶體單元可基於其等對第二電壓之回應而分組,包含:經程式化具有一邏輯1之回應於第二電壓而定限之記憶體單元(例如,包含對應於資料點804之單元之記憶體單元群組,即,展現落入分佈之重疊內之一臨限電壓之單元);經程式化具有一邏輯0之回應於第二電壓而定限之記憶體單元(例如,包含對應於點808之單元之記憶體單元群組);及經程式化具有一邏輯0之未回應於第二電壓而定限之記憶體單元(例如,包含在分佈803之高部分中、對應於點806之單元之記憶體單元)。
在一項此類實施例中,VDM2因此具有一極性及量值以正確地識別未回應於該VDM2而定限之邏輯0記憶體單元。VDM2之量值足夠高以引起經程式化具有邏輯1之所有記憶體單元(即,包含點804之單元群組)定限,以及引起包含點808之單元群組定限,但足夠低以引起經程式化具有
邏輯0之一些記憶體單元(例如,包含圖8D中之點806、落入範圍820內之單元群組)未定限且因此使存取電路能夠針對此等後者單元正確地讀取一邏輯0。換言之,第二讀取電壓VDM2足夠低以引起落入分佈之範圍820(例如,分佈803之較高部分)內之記憶體單元未定限,且因此使存取電路能夠將該等記憶體單元讀取為一邏輯0。
因此,回應於第二讀取電壓VDM2而定限之記憶體單元可為程式化為邏輯1之記憶體單元,或為程式化為一邏輯0之展現具有低於VDM2之一量值之一臨限電壓的記憶體單元(例如,展現落入分佈之重疊內之一臨限電壓量值之記憶體單元)。在所繪示實例中,VDM2具有高於分佈801之所有臨限電壓之量值之一量值(例如,高於由線801界定之範圍之一預期最高量值的一量值),使得程式化為邏輯1之所有記憶體單元回應於VDM2而定限。同時,程式化為邏輯0但展現在分佈803之低尾部上之一臨限電壓之一記憶體單元(例如,包含對應於點808之單元之單元群組)可回應於VDM2而定限。根據本發明,存取電路判定此等定限記憶體單元回應於VDM2之邏輯狀態係不確定的。
如圖8D中所展示,在施加VDM2之後,存取電路因此能夠判定陣列之一給定記憶體單元是否處於第二邏輯狀態(例如,在所繪示實例中,如記憶體單元820之邏輯0),或給定記憶體單元之邏輯狀態是否基於對VDM2之電回應而為不確定的(即,可為一邏輯1或邏輯0之任一者之單元)。
因為存取電路已判定在範圍820內之記憶體單元之邏輯狀態,所以存取電路可從一後續讀取電壓遮蔽(例如,屏蔽)該等記憶體單元。若存取電路從一電壓遮蔽記憶體單元,則存取電路不會將一後續電壓
施加至該記憶體單元,如圖8E及圖8F中所展示。在一實施例中,遮蔽一單元對應於切斷(即,接地)對應數位線。因此,在一些實例中,可在後續步驟中遮蔽已被判定為處於邏輯狀態1之記憶體單元。
如圖8E中所展示,除正確地確定在範圍820內之所有記憶體單元係邏輯0之外,VDM2之施加亦引起最初經程式化具有邏輯0且具有具低於VDM2之量值之一臨限電壓的單元(即,在重疊範圍內、包含點808之單元)切換邏輯狀態,即,再程式化具有相反邏輯狀態1。以此方式,再程式化具有以一相反邏輯狀態(即,在所繪示實例中,具有邏輯狀態1)之此等單元具有現在低於分佈803之(即,最初經程式化具有邏輯0之所有單元之)最低臨限電壓且亦低於經程式化具有邏輯1且在重疊範圍內之單元群組(即,包含點804之單元群組)之最低臨限電壓的一臨限電壓。
換言之,一些記憶體單元回應於VDM2之施加而定限且改變邏輯狀態(例如,包含點808之單元群組)。事實上,因為第二讀取電壓VDM2之極性不同於用於程式化包含點808之記憶體單元群組之極性,所以VDM2之施加引起該等記憶體單元自一邏輯0變為一邏輯1。因此,在VDM2之施加之後,存取電路再程式化該等記憶體單元。因此,在被再程式化之後,當用正讀取電壓讀取時,經切換單元展現較低臨限電壓,特定言之類似於原始分佈801之較低尾部之臨限電壓,且因此與此分佈801之最高部分良好分離(即,與包含點804之單元群組良好分離,如圖8E中所展示)。
根據本發明,接著,存取電路經組態以施加一後續第三讀取電壓VDM3以區別實際上程式化為邏輯0之記憶體單元與程式化為邏輯1之記憶體單元,如圖8F中所繪示。
第三讀取電壓VDM3具有相同於第一讀取電壓VDM1及第二讀
取電壓VDM2之極性以及不同於第一讀取電壓VDM1及第二讀取電壓VDM2之一量值。圖8F繪示回應於該第三讀取電壓之臨限電壓之分佈。如上文所論述,若用相同極性程式化及讀取一記憶體單元,則其展現具有在較低分佈中之一量值之一臨限電壓。因此,在第二讀取電壓VDM2之施加之後已被再程式化為邏輯1且接著用第三正電壓VDM3讀取之記憶體單元(例如,最初用負程式化脈衝程式化為在邏輯0分佈之低範圍內之記憶體單元,諸如單元808)展現具有落入較低範圍內之一量值之一臨限電壓。更特定言之,由於此等經再程式化單元最初屬於最初經程式化具有一邏輯0之分佈803之最低部分(即,尾部),故此等經切換單元之臨限電壓之量值現在低於最初經程式化具有邏輯1之單元之剩餘未屏蔽群組(即,在重疊範圍內、包含點804之單元群組,其在分佈801之尾部上)的最低預期電壓。出於此原因,經切換單元不再屬於分佈之重疊區且可容易用第三讀取電壓進行讀取。事實上觀察到,重疊區大體上在單元分佈之尾部處,使得具有一合適量值之第一及第二電壓之施加以及其等邏輯狀態已經判定之單元之後續遮蔽容許讀取必須判定其等狀態之剩餘單元之良好分離分佈。應理解,在此操作中不關注在先前步驟中已遮蔽之可能單元;例如,偵測回應於第三讀取電壓之施加而由複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓應意欲偵測未遮蔽記憶體單元之第三臨限電壓。
第三讀取電壓具有高於經切換單元(即,在其等已在施加第二讀取電壓VDM2時再程式化之後之最初處於第二邏輯狀態或邏輯狀態0的記憶體單元,諸如包含點808之經切換群組)之臨限電壓之最高預期量值且低於最初經程式化具有邏輯1之剩餘單元群組(即,包含點804之群組)之最低預期電壓的一量值。在所繪示實施例中,根據圖7之序列,第三電壓亦
具有一正極性,且因此與用一正電壓再程式化為邏輯1之記憶體單元「同調」。如前述,記憶體單元展現對第三電壓之電回應,即,記憶體單元可回應於VDM3而定限抑或不定限。在此情況中,一給定記憶體單元是否回應於VDM3而定限取決於在第二讀取電壓VDM2之施加期間,記憶體單元是否已切換其邏輯狀態。明確言之,參考圖8F,記憶體單元可基於其等對第三電壓之回應而分組,包含:已再程式化具有一邏輯1之回應於第三電壓而定限之記憶體單元(例如,包含對應於資料點808之單元之記憶體單元),因為此等單元現在已具有其等量值低於VDM3之量值之一臨限電壓;及最初經程式化具有一邏輯1之未回應於第三電壓而定限之記憶體單元(例如,包含點804之記憶體單元群組)。
在一項此類實施例中,VDM3具有一極性及量值以正確地識別回應於該VDM3而定限之單元,且將該單元與恰當邏輯狀態0相關聯(因為此等單元已在第二讀取電壓之施加之後自邏輯0再程式化為邏輯1)。VDM3之量值足夠高以引起所有經再程式化記憶體單元定限,但足夠低以引起最初經程式化具有邏輯1之一些記憶體單元(例如,對應於點804之單元)未定限,且因此使存取電路能夠針對此等後者單元正確地讀取一邏輯1。
換言之,如圖8F中所展示,在施加VDM3之後,存取電路能夠基於對VDM3之電回應而判定陣列之一給定記憶體單元是否處於第一邏輯狀態(例如,在所繪示實例中,邏輯1),或給定記憶體單元是否處於第二邏輯狀態(例如,在所繪示實例中,邏輯0)。因此,回應於第三電壓VDM3而定限之記憶體單元係最初程式化為邏輯0之記憶體單元,且存取電路判定此等定限記憶體單元回應於VDM3之邏輯狀態係0,而未回應於VDM3而定限之單元之狀態係1。
因此,根據本發明之讀取序列,可以降低的錯誤率讀取複數個單元,此係因為由於施加具有相同極性及適當量值之三個後續脈衝而避免重疊區中之讀取且增強單元分佈之間之窗口。
所有上述概念亦可應用於三個負讀取脈衝之一序列,其中負極性讀取脈衝導致負臨限電壓。此外,如之前所說明,在此情況中,邏輯0記憶體單元之臨限電壓量值分佈將低於邏輯1記憶體單元之臨限電壓量值分佈;因此,本發明之所有其他概念在已作必要修正時適用。
圖9之表係繪示根據圖8A至圖8F之描述之讀取序列之結果之一圖表。圖表包含程式化為邏輯1或邏輯0之記憶體單元之四個列,此等列對應於其中根據本發明,藉由讀取操作理想地細分單元分佈之部分。左邊第一行中之一「1」指代最初程式化為一邏輯1(例如,用一正程式化電壓)之一記憶體單元,且一「0」指代最初程式化為一邏輯0(例如,用一負程式化電壓)之一記憶體單元。表之剩餘行指示根據本發明,記憶體單元是否回應於讀取電壓而定限。
根據本發明之一實施例,藉由將恰當讀取電壓VDMi(i=1、2及3)定義為對應於在讀取電壓之施加期間切換之位元(即,讀取單元)之一確定數目而獲得該讀取電壓之選擇。就此而言,可使用經組態以考量在讀取期間經歷一臨限事件之單元之數目的一每碼字計數器。在此情況中,在讀取操作中,施加一電壓斜坡,使得偏壓電壓自一起始讀取電壓(例如,接地零電壓)增加,直至如藉由計數器計數之經切換位元之數目達到先前儲存且對應於讀取電壓之適當量值的一預定值。
例如,根據此實施例,若經程式化具有邏輯1之單元之總數目為J且經程式化具有邏輯0之單元之總數目為K,則第一讀取電壓對應
於在一特定時間內施加之一斜坡,直至經切換位元之數目等於aJ,其中a係a<1且係根據需要及情境而選擇(例如,以使得不達到重疊區之一方式來選擇);斜坡之此第一部分對應於第一讀取電壓。接著,斜坡繼續直至所讀取之經切換位元之數目等於J+bK,其中b<1且係根據需要及情境而選擇;因此,斜坡之此第二部分對應於第二讀取電壓。接著,在一給定時間之後,施加一新斜坡且使其自一起始讀取電壓(例如,自零電壓)增加,直至所讀取之經切換位元之數目等於一預設值(考量已再程式化為一相反邏輯狀態之單元)。此新斜坡對應於第三讀取電壓。在一些實施例中,第一及第二讀取電壓獨立於經切換位元計數施加,且僅第三讀取使用一增加的斜坡電壓,直至處於一預定義狀態之位元(包含在第一讀取及/或第二讀取期間判定為處於預定義狀態之位元)之計數與碼字中儲存為處於該狀態之位元之數目相匹配。
換言之,根據此實施例,由於計數器,比較所讀取之單元之數目與一經儲存臨限值,使得基於所讀取之單元之數目來執行讀取斜坡之停止。
一般而言,在一給定等待時間之後施加第三讀取電壓,該時間係用一專用測試判定且可藉由設計來組態。
圖10A係表示根據本發明之一方法之步驟之流程圖。所描述之程序可藉由硬體邏輯及電路來執行。例如,以下程序被描述為藉由存取電路及感測電路執行,如本文中所揭示。然而,其他實施例可包含適用於執行該等程序之不同電路組態。
本發明之方法係一種執行一讀取序列以降低記憶體單元之讀取操作中之錯誤率的方法。在讀取記憶體單元之前,存取電路將資料寫
入至複數個記憶體單元。例如,存取電路將邏輯0及邏輯1寫入至諸如圖1之記憶體單元100之複數個記憶體單元。在一項實施例中,存取電路可藉由施加具有一負極性之程式化脈衝而寫入邏輯0且藉由施加具有一正極性之程式化脈衝而寫入邏輯1。亦可採用相反慣例。在將資料寫入至複數個記憶體單元之後,存取電路可使用本發明之讀取序列來讀取複數個記憶體單元。
更特定言之,在步驟910,將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元。接著,在步驟920,偵測回應於第一讀取電壓之施加而由單元展現之第一臨限電壓。在步驟930,接著基於在先前步驟中偵測到之第一臨限電壓將一第一邏輯狀態與複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯。在一些實施例中,第一讀取電壓具有低於處於第一邏輯狀態之記憶體單元之一預期最小臨限電壓量值之一第一量值。
與習知讀取技術相反,本發明之方法提供將一第二讀取電壓施加至複數個記憶體單元之一進一步步驟940,其中第二讀取電壓具有相同於第一讀取電壓之極性及高於第一讀取電壓之一第一量值之一第二量值。在一些實施例中,第二量值高於處於第一邏輯狀態之記憶體單元之一預期最高臨限電壓量值。在一些實施例中,在步驟930中將第一邏輯狀態與其相關聯之一或多個記憶體單元被遮蔽以免施加第二讀取電壓。
在一步驟950中,方法接著提供偵測回應於第二讀取電壓之施加而由複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓。基於第二臨限電壓,在步驟960接著將一第二邏輯狀態與複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯。
步驟970接著提供將一第三讀取電壓施加至複數個記憶體
單元,其中第三讀取電壓具有相同於第一及第二讀取電壓之極性,且至少施加至在第二讀取電壓之施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一記憶體單元群組。在一些實施例中,在步驟960中將第二邏輯狀態與其相關聯之一或多個記憶體單元被遮蔽以免施加第三讀取電壓。步驟980提供偵測回應於第三讀取電壓之施加而由複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓。最後,基於第三臨限電壓,步驟990提供將第一邏輯狀態或第二邏輯狀態之一者與複數個記憶體單元之單元之一或多者相關聯。方法900亦可包含(未展示)將在以VDM2加偏壓時經歷一臨限事件之至少記憶體單元(例如,在例如資料點808之群組中之記憶體單元)再程式化為一相反邏輯狀態。在一些實施例中,電路142(包含存取電路143及感測電路145)可根據該方法且如關於圖7及圖8所描述般將第一、第二及第三電壓施加至記憶體單元,偵測第一、第二及第三臨限電壓及/或臨限事件,且將第一及第二邏輯狀態與記憶體單元相關聯。
圖10B係表示根據本發明之一實施例之一方法之步驟之一流程圖。在步驟1010,將一第i讀取電壓施加至複數個記憶體單元。例如,將一第一讀取電壓VDM1施加至記憶體單元。在步驟1020,偵測回應於第i讀取電壓之施加而由該等單元展現之第i臨限電壓。例如,針對在偏壓至VDM1時展現一臨限事件之該等單元,偵測到低於VDM1之一臨限電壓。在步驟1030,將一邏輯狀態與單元相關聯。例如,將一邏輯狀態1與具有低於步驟1020中之VDM1之一臨限電壓之單元相關聯。在此階段,其他記憶體單元具有一未判定狀態。在步驟1040,進行第i讀取電壓是否已達到最後一個(k)讀取電壓之一確認。若已達到(是),則方法在步驟1050結束;若尚未達到(否),則方法在步驟1060繼續,其中自後續步驟遮蔽該
等單元。在步驟1070,I計數器遞增且方法繼續在步驟1010施加下一(例如,i+1)讀取電壓。例如,將VDM2施加至未遮蔽記憶體單元。方法可藉由電路142(包含存取電路143及感測電路145)來實行,其等可根據方法且如關於圖7及圖8所描述般將第一、第二及第三電壓施加至記憶體單元,偵測第一、第二及第三臨限電壓及/或臨限事件,且將第一及第二邏輯狀態與記憶體單元相關聯。
如圖10B中所展示,一旦一單元被判定為處於一邏輯狀態(0或1),便可自後續讀取遮蔽(或屏蔽)該單元。根據本發明之較佳實施例,執行至少三個後續讀取以獲得具有大大減少之步驟數的一讀取操作,使得在圖10B之流程圖中,k可等於3。方法1000亦可包含(未展示)將以VDM2加偏壓時經歷一臨限事件之至少記憶體單元(例如,在例如資料點808之群組中之記憶體單元)再程式化為一相反邏輯狀態。
在其他實施例中,方法1000包括施加(1010)斜坡讀取電壓,且偵測臨限電壓(1020)包括:對多少個單元經歷一臨限事件進行計數且在計數與處於給定邏輯狀態之單元之一預定數目匹配時停止各斜坡(因此,基於各自計數調整VDM1、VDM2及/或VDM3值)。在各步驟基於臨限電壓偵測(1020)而發生將邏輯狀態與單元相關聯(1030)。
圖11係可執行本發明之讀取序列之一系統1100之一高階示意圖。系統1100包含一記憶體裝置1110,記憶體裝置1110繼而包含一記憶體單元陣列1120及可操作地耦合至記憶體單元1120之一電路部分1130;記憶體單元1120及電路部分1130形成一記憶體部分,在本文中稱為記憶體部分1100’。
記憶體裝置1110包括一記憶體控制器1140,記憶體控制器
1140表示例如回應於藉由一主機1150之命令而產生記憶體存取命令之控制邏輯。記憶體控制器1140存取記憶體部分1100’。在一項實施例中,記憶體控制器1140亦可在主機1150中實施,特定言之作為一主機處理器1160之部分,即使本發明不受一特定架構限制。控制器1140可包含一嵌入式韌體且經調適以管理及控制記憶體部分1100’之操作。
記憶體裝置1110亦可包括其他組件,諸如耦合至控制器1140之處理器單元(unit)、天線、與主機裝置之連接構件(未展示)及類似者。
多個信號線將記憶體控制器1140與記憶體部分1100’耦合。例如,此等信號線可包含時脈、命令/位址及寫入資料(DQ)、讀取DQ及零個或更多個其他信號線。因此,記憶體控制器1140經由合適匯流排可操作地耦合至記憶體部分1100’。
記憶體部分1100’表示系統1100之記憶體資源。在一項實施例中,記憶體單元陣列1120被管理為經由字線(列)及位元線(一列內之個別位元)控制來存取之資料列。在一項實施例中,記憶體單元陣列1120包含一3D交叉點陣列,諸如圖2之記憶體單元陣列200。記憶體單元陣列1120可組織為記憶體之單獨通道、排(rank)及庫(bank)。通道係至記憶體部分內之儲存位置之獨立控制路徑。排指代跨多個記憶體裝置之共同位置(例如,不同裝置內之相同列位址)。庫指代一記憶體裝置內之記憶體位置陣列。在一項實施例中,記憶庫被劃分為子庫,子庫具有用於子庫之共用電路(例如,驅動器、信號線、控制邏輯)之至少一部分。將理解,記憶體位置之通道、排、庫或其他組織及組織之組合可與實體資源重疊。例如,相同實體記憶體位置可經由作為一特定庫之一特定通道存取,該特定庫亦
可屬於一排。因此,將以一包含性而非排他性方式理解記憶體資源之組織。
在一項實施例中,記憶體控制器1140包含再新(REF)邏輯1141。在一項實施例中,再新邏輯1141指示用於再新之一位置及待執行之再新之一類型。再新邏輯1141可觸發記憶體內之自我再新,且可藉由發送再新命令以觸發一再新操作之執行而發出外部再新。
在一項實施例中,電路部分1130之存取電路1131對在讀取序列期間未再新之經存取記憶體單元之任何者執行一再新(例如,再程式化)。因此,可達成記憶體單元之一完全再新,此主要是因為具有最小額外再新操作之記憶體讀取序列之一副作用。
在一實施例中,電路部分亦可嵌入於記憶體控制器中,即使本發明不受一特定架構限制。
在圖11中所繪示之例示性實施例中,記憶體控制器1140包含錯誤校正電路1142。錯誤偵測/校正電路1142可包含用於實施一錯誤校正碼(ECC)以偵測自記憶體部分讀取之資料中發生之錯誤的硬體邏輯。在一項實施例中,錯誤偵測/校正電路1142亦校正錯誤(直至基於經實施ECC碼之一特定錯誤率)。然而,在其他實施例中,錯誤偵測/校正電路1142僅偵測但未校正錯誤。
在所繪示實施例中,記憶體控制器1140包含命令(CMD)邏輯1143,命令(CMD)邏輯1143表示用於產生待發送至記憶體部分之命令之邏輯或電路。記憶體控制器1140亦可包含一計數器1144,諸如在上文揭示且經組態以對在讀取操作期間切換之位元之數目進行計數的每碼字計數器。顯然,亦可採用其他架構,例如,計數器可嵌入於主機1150中或亦
在電路部分1130中。
基於經接收命令及位址資訊,電路部分1130之存取電路1131執行用於執行命令之操作,諸如本發明之讀取序列。在一項此類實施例中,電路部分1130包含用於偵測一或多個記憶體單元對第一電壓及第二電壓之電回應之感測電路1132。在一項實施例中,感測電路1132包含感測放大器。圖繪示嵌入於記憶體部分1100’中之存取電路1131及感測電路1132,然而,其他實施例可包含與記憶體部分1100’分離之存取電路及/或感測電路。例如,存取電路及感測電路可包含於諸如記憶體控制器1140之一記憶體控制器中。
在一項實施例中,記憶體部分1100’包含一或多個暫存器1133。暫存器1133表示為記憶體部分之操作提供組態或設定之一或多個儲存裝置或儲存位置。
此外,在一項實施例中,電路部分1130亦包含解碼電路1134。
主機裝置1150表示根據本文中所描述之任何實施例之一運算裝置,且其可為一膝上型電腦、一桌上型電腦、一伺服器、一遊戲或娛樂控制系統、一掃描儀、複製機、列印機、路由或交換裝置、嵌入式運算裝置或其他電子裝置(諸如一智慧型電話)。記憶體裝置1110亦可嵌入於主機裝置1150中。
在一項實施例中,系統1100包含耦合至處理器1160之一介面1170,介面1170可表示用於需要較高頻寬連接之系統組件及/或圖形介面組件之一較高速度介面或一高輸送量介面。圖形介面介接至圖形組件用於向系統1100之一使用者提供一視覺顯示。在一項實施例中,圖形介面基
於儲存於記憶體裝置中之資料或基於由處理器執行之操作或兩者產生一顯示。
系統亦可包括通信地耦合至主機或記憶體裝置用於例如與其他系統連接之網路介面1180,及/或經耦合以將電力提供至該系統之一電池。
總之,一種根據本發明之用於讀取記憶體單元之例示性方法包括以下步驟:將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元;偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓;基於該等第一臨限電壓,將一第一邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之極性及高於該等第一臨限電壓之一預期最高量值之一量值;偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓;基於該等第二臨限電壓,將一第二邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;將一第三讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第三讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之極性,且至少施加至在該第二讀取電壓之該施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一記憶體單元群組;偵測回應於該第三讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓;及基於該等第三臨限電壓,將該第一邏輯狀態或該第二邏輯狀態之一者與該複數個記憶體單元之該等單元之一或多者相關聯。本發明亦揭示一種用於執行上述操作之電路部分,該電路部分包含:存取電路,其用於施加該等讀取電壓且判定該等邏輯狀態;及感測電路,其用於偵測該等臨限電壓。
根據一實施例,當該記憶體單元處於該第二邏輯狀態時,
該等記憶體單元展現具有一較高量值之一臨限電壓,且在該記憶體單元處於該第一邏輯狀態時,展現具有一較低量值之一臨限電壓,且其中基於該記憶體單元回應於該等經施加讀取電壓之一者是展現一較高量值臨限電壓還是較低量值臨限電壓來判定一給定單元之一邏輯狀態。
根據一實施例,該第二讀取電壓僅施加至在該第一讀取電壓之該施加之後未被判定為處於該第一邏輯狀態之記憶體單元。
根據一實施例,該第三讀取電壓僅施加至在該第二讀取電壓之該施加之後未被判定為處於該第二邏輯狀態之記憶體單元。
根據一實施例,針對用一第一極性程式化之該複數個記憶體單元之單元,該等第一臨限電壓在一第一範圍內,針對用一第二極性程式化之該複數個記憶體單元之單元,該等第二臨限電壓在一第二範圍內,且該第一範圍及該第二範圍部分重疊。
根據一實施例,該第一讀取電壓低於處於該第二邏輯狀態之單元之一預期最低臨限電壓。
根據一實施例,該第二讀取電壓高於處於該第一邏輯狀態之單元之一預期最高臨限電壓。
根據一實施例,在已在施加該第二讀取電壓時再程式化之最初處於該第二邏輯狀態之記憶體單元之後,該第三讀取電壓高於最初處於該第二邏輯狀態之該等記憶體單元之一最高預期臨限電壓。
根據一實施例,該第二讀取電壓之一量值大於該第一讀取電壓之一量值。
根據一實施例,該第三讀取電壓之一量值低於該第二讀取電壓之一量值。
根據一實施例,將該第三讀取電壓選擇為對應於在該讀取操作期間處於一預定義狀態之位元之一確定數目的電壓,其中該讀取電壓自一起始電壓增加,直至處於該預定義狀態之經計數位元之該數目達到一預定值。
根據一實施例,在一預定等待時間之後將該第三讀取電壓施加至該等單元。
此外,根據一實施例,該感測電路經組態以偵測回應於該第一讀取電壓而通過一給定記憶體單元之一第一電流,其中該存取電路經組態以基於該第一電流之一量值大於或等於一第一臨限電流之偵測而判定該給定記憶體單元處於該第一邏輯狀態。
根據一實施例,該感測電路經組態以偵測回應於該第二讀取電壓而通過該給定記憶體單元之一第二電流,其中該存取電路經組態以基於該第二電流之一量值小於一第二臨限電流之偵測而判定該給定記憶體單元處於該第二邏輯狀態。
根據一實施例,該感測電路經組態以偵測回應於該第三讀取電壓而通過該給定記憶體單元之一第三電流,且其中該存取電路經組態以基於該第二電流之一量值大於一第三臨限電流之偵測而判定該給定記憶體單元處於該第二邏輯狀態。
根據一實施例,該存取電路經組態以在該第一讀取電壓及/或該第二讀取電壓之該施加之後遮蔽已被指派一給定邏輯狀態之該等記憶體單元。
根據一實施例,由該存取電路施加之該第一讀取電壓具有低於處於該第二邏輯狀態之記憶體單元之一預期最低臨限電壓之一量值,
且其中由該存取電路施加之該第二讀取電壓具有高於處於該第一邏輯狀態之記憶體單元之一預期最高臨限電壓之一量值。
在前文[實施方式]中,參考形成其之一部分且其中以繪示方式展示特定實例之隨附圖式。在圖式中,在數個視圖各處,相似數字描述實質上類似的組件。在不脫離本發明之範疇之情況下,可利用其他實例,且可進行結構、邏輯及/或電氣改變。另外,如將明白,圖中所提供之元件之比例及相對尺度意欲繪示本發明之實施例且不應被視為限制性意義。
如本文中所使用,「一」、「一個」或「若干」某物可指代一或多個此類事物。「複數個」某物意指兩個或更多個。如本文中所使用,術語「耦合」可包含不具有中介元件之電耦合、直接耦合及/或直接連接(例如,藉由直接實體接觸),或具有中介元件間接耦合及/或連接。術語耦合可進一步包含彼此協作或互動之兩個或更多個元件(例如,如在因果關係中)。
儘管本文中已繪示及描述特定實例,但一般技術者將明白,經計算以達成相同結果之一配置可置換所展示之特定實施例。本發明意欲涵蓋本發明之一或多項實施例之調適或變異。應理解,上述描述已依一闡釋性方式且非一限制性方式進行。本發明之一或多項實例之範疇應參考隨附發明申請專利範圍以及此發明申請專利範圍所授權之等效物之全範圍來判定。
100:記憶體單元
102:儲存材料
104:存取線
106:存取線
108:電極
142:電路
143:存取電路
145:感測電路
Claims (24)
- 一種用於讀取記憶體單元之方法,其包括以下步驟:將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元;偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓;基於該等第一臨限電壓,將一第一邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之極性;偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓;基於該等第二臨限電壓,將一第二邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;將一第三讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第三讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之極性,且至少施加至在該第二讀取電壓之該施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一記憶體單元群組,且其中該第三讀取電壓包含異於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之一量值(magnitude);偵測回應於該第三讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓;及基於該等第三臨限電壓,將該第一邏輯狀態或該第二邏輯狀態之一者與該複數個記憶體單元之該等單元之一或多者相關聯。
- 如請求項1之方法,其中當該等記憶體單元處於該第二邏輯狀態時,該等記憶體單元展現具有一較高量值之一臨限電壓,且在該等記憶體單元處於該第一邏輯狀態時,展現具有一較低量值之一臨限電壓,且其中基於該等記憶體單元回應於該等經施加讀取電壓之一者是展現一較高量值臨限電壓還是較低量值臨限電壓來判定一給定單元之一邏輯狀態。
- 如請求項1之方法,其中該第二讀取電壓僅施加至在該第一讀取電壓之該施加之後未被判定為處於該第一邏輯狀態之記憶體單元。
- 如請求項3之方法,其中該第三讀取電壓僅施加至在該第二讀取電壓之該施加之後未被判定為處於該第二邏輯狀態且被程式化為一相反邏輯狀態之記憶體單元。
- 如請求項1之方法,其中針對用一第一極性程式化之該複數個記憶體單元之單元,該等第一臨限電壓在一第一範圍內,其中針對用一第二極性程式化之該複數個記憶體單元之單元,該等第二臨限電壓在一第二範圍內,且其中該第一範圍及該第二範圍部分重疊。
- 如請求項1之方法,其中該第一讀取電壓低於處於該第二邏輯狀態之單元之一預期最低臨限電壓。
- 如請求項6之方法,其中該第二讀取電壓高於處於該第一邏輯狀態之 單元之一預期最高臨限電壓。
- 如請求項7之方法,其中在已在施加該第二讀取電壓時再程式化最初處於該第二邏輯狀態之記憶體單元之後,該第三讀取電壓高於最初處於該第二邏輯狀態之該等記憶體單元之一最高預期臨限電壓。
- 如請求項1之方法,其中該第二讀取電壓之一量值大於該第一讀取電壓之一量值。
- 如請求項1之方法,其中該第三讀取電壓之一量值低於該第二讀取電壓之一量值。
- 如請求項1之方法,其中將該第三讀取電壓選擇為對應於在一讀取操作期間處於一預定義狀態之位元之一確定(deterministic)數目的電壓,其中該第三讀取電壓自一起始電壓增加,直至處於該預定義狀態之經計數位元之該數目達到一預定值。
- 如請求項1之方法,其中在一預定等待時間之後將該第三讀取電壓施加至該等單元。
- 一種用於讀取記憶體單元之電路,其包括:一存取電路,其經組態以:將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元; 將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之一極性之一極性;及將一第三讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第三讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之極性,且至少施加至在該第二讀取電壓之該施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一記憶體單元群組,且其中該第三讀取電壓包含異於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之一量值,一感測電路,其經組態以:偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓;偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓;及偵測回應於該第三讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓,其中該存取電路進一步經組態以:基於由該感測電路偵測到之該等第一臨限電壓,將一第一邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;基於由該感測電路偵測到之該等第二臨限電壓,將一第二邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;及基於由該感測電路偵測到之該等第三臨限電壓,將該第一邏輯狀態或該第二邏輯狀態之一者與該複數個記憶體單元之該等單元之一或多者相關聯。
- 如請求項13之電路,其中該感測電路經組態以偵測回應於該第一讀取電壓而通過一給定記憶體單元之一第一電流,其中該存取電路經組態以基於該第一電流之一量值大於或等於一第一臨限電流之偵測而判定該給定記憶體單元處於該第一邏輯狀態。
- 如請求項14之電路,其中該感測電路經組態以偵測回應於該第二讀取電壓而通過該給定記憶體單元之一第二電流,其中該存取電路經組態以基於該第二電流之一量值小於一第二臨限電流之偵測而判定該給定記憶體單元處於該第二邏輯狀態。
- 如請求項15之電路,其中該感測電路經組態以偵測回應於該第三讀取電壓而通過該給定記憶體單元之一第三電流,且其中該存取電路經組態以基於該第二電流之一量值大於一第三臨限電流之偵測而判定該給定記憶體單元處於該第二邏輯狀態。
- 如請求項13之電路,其中該存取電路經組態以在該第一讀取電壓及/或該第二讀取電壓之該施加之後遮蔽已被指派一給定邏輯狀態之該等記憶體單元。
- 如請求項13之電路,其中由該存取電路施加之該第一讀取電壓具有低於處於該第二邏輯狀態之記憶體單元之一預期最低臨限電壓之一量值,且其中由該存取電路施加之該第二讀取電壓具有高於處於該第一邏輯狀態之記憶體單元之一預期最高臨限電壓之一量值。
- 一種記憶體裝置,其包括:一記憶體單元陣列,及一電路部分,其用於讀取該等記憶體單元,該電路部分與該記憶體單元陣列可操作地耦合,且至少包括:一存取電路,其經組態以:將一第一讀取電壓施加至複數個記憶體單元;將一第二讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第二讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓之一極性之一極性;及將一第三讀取電壓施加至該複數個記憶體單元,其中該第三讀取電壓具有相同於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之極性,且至少施加至在該第二讀取電壓之該施加期間已被再程式化為一相反邏輯狀態之一記憶體單元群組,且其中該第三讀取電壓包含異於該第一讀取電壓及該第二讀取電壓之一量值,一感測電路,其經組態以:偵測回應於該第一讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第一臨限電壓;偵測回應於該第二讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第二臨限電壓;及偵測回應於該第三讀取電壓之施加而由該複數個記憶體單元展現之第三臨限電壓,其中該存取電路進一步經組態以:基於由該感測電路偵測到之該等第一臨限電壓,將一第一邏輯狀態 與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;基於由該感測電路偵測到之該等第二臨限電壓,將一第二邏輯狀態與該複數個記憶體單元之一或多個單元相關聯;及基於由該感測電路偵測到之該等第三臨限電壓,將該第一邏輯狀態或該第二邏輯狀態之一者與該複數個記憶體單元之該等單元之一或多者相關聯。
- 如請求項19之記憶體裝置,其包含一計數器,該計數器經組態以對在該第一讀取電壓、該第二讀取電壓及/或該第三讀取電壓之該施加期間切換之位元之一數目進行計數,其中該存取電路經組態以施加一增加的讀取電壓,直至經計數之經切換位元之該數目達到一預定值。
- 如請求項19之記憶體裝置,其中該記憶體單元陣列包括一自選擇記憶體(SSM)或一3D交叉點(3D X Point)記憶體。
- 如請求項19之記憶體裝置,其進一步包括一記憶體控制器,該記憶體控制器經組態以產生記憶體存取命令。
- 一種記憶體系統,其包括:一主機裝置;及一記憶體裝置,其如請求項19且與該主機裝置可操作地耦合。
- 如請求項23之記憶體系統,其進一步包括以下之任何者:一顯示 器,其通信地耦合至該記憶體裝置或該主機裝置;一網路介面,其通信地耦合至該記憶體裝置或該主機裝置;及一電池,其經耦合以將電力提供至該系統。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/IB2019/001204 WO2021111158A1 (en) | 2019-12-03 | 2019-12-03 | Methods and systems for accessing memory cells |
| WOPCT/IB2019/001204 | 2019-12-03 | ||
| US202016771657A | 2020-06-10 | 2020-06-10 | |
| US16/771,657 | 2020-06-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202137218A TW202137218A (zh) | 2021-10-01 |
| TWI760924B true TWI760924B (zh) | 2022-04-11 |
Family
ID=79601256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW109140266A TWI760924B (zh) | 2019-12-03 | 2020-11-18 | 用於存取記憶體單元之方法及系統 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11670368B2 (zh) |
| TW (1) | TWI760924B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN115148737B (zh) * | 2022-06-22 | 2025-02-25 | 华中科技大学 | 一种基于阈值开关的非易失性存储单元及其操作方法 |
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2020
- 2020-11-18 TW TW109140266A patent/TWI760924B/zh active
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- 2021-10-27 US US17/512,586 patent/US11670368B2/en active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202137218A (zh) | 2021-10-01 |
| US11670368B2 (en) | 2023-06-06 |
| US20220122659A1 (en) | 2022-04-21 |
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