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TWI752751B - 用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法 - Google Patents

用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法 Download PDF

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TWI752751B
TWI752751B TW109143350A TW109143350A TWI752751B TW I752751 B TWI752751 B TW I752751B TW 109143350 A TW109143350 A TW 109143350A TW 109143350 A TW109143350 A TW 109143350A TW I752751 B TWI752751 B TW I752751B
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slide rail
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TW109143350A
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TW202222470A (zh
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李柏霖
陳賢佑
楊純明
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上銀科技股份有限公司
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Priority to DE102021118123.2A priority patent/DE102021118123A1/de
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Abstract

一種用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法，該線性滑軌包含一滑塊和一滑軌，該裝置包含：一感測器，位於對應該滑軌的該側表面的位置，用以偵測該滑軌的振動，以產生一偵測訊號；以及一分析處理器，通訊連接該感測器，用以根據該偵測訊號的位準和至少一閥值，判定異常發生。藉此，可提升偵測敏感度。

Description

用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法
本發明涉及一種偵測裝置，特別是指一種用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法。
現有應用於偵測線性滑軌狀態的偵測機制，如日本專利JP2018138817A，是將感測器安裝於滑軌末端的上表面，然後透過感測器的訊號判斷異常是否發生。然而，該前案單純以時域訊號判斷是否異常，易受周圍環境影響其異常判斷機制(例如閥值)，失去應有的感測精度。
因此，目前習用的偵測線性滑軌的狀態的裝置和方法仍有其缺失，而有待改進。
為此，本發明的主要目的是提供一種用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法，可克服先前技術易受環境影響異常判斷的問題，並提升偵測的敏感度。
本發明根據一實施例所提供的一種用於偵測線性滑軌狀態的裝置，該線性滑軌包含一滑塊和一滑軌，該滑塊包含用以容納該滑軌一容置凹槽，該滑塊於該容置凹槽內更包含相對的二側表面，該滑軌包含相對的二側表面，該滑塊的該二側表面分別對應該滑軌的該二側表面，該裝置包含：至少一感測器，位於對應該滑軌的該側表面的位置(也就是，面向該滑軌的該側表面，並可附著於該滑軌的該側表面或與該滑軌的該側表面相隔一距離)，且用以偵測該滑軌的振動，以產生一偵測訊號；以及一分析處理器，與該至少一感測器通訊連接，用以根據該偵測訊號的位準和至少一閥值，判定異常發生。
本發明根據一實施例所提供的一種用於偵測線性滑軌狀態的方法，該線性滑軌包含一滑塊和一滑軌，該滑塊包含用以容納該滑軌一容置凹槽，該滑塊於該容置凹槽內更包含相對的二側表面，該滑軌包含相對的二側表面，該滑塊的該二側表面分別對應該滑軌的該二側表面，該方法包含以下步驟：(A)經由至少一感測器，偵測該滑軌的振動，以產生一偵測訊號，該感測器位於該滑軌的一端部且位於或鄰近該滑軌的該側表面；以及(B)經由一分析處理器，根據該偵測訊號的位準和至少一閥值，判定異常發生。
藉此，本發明所提供的用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法係利用比較該第一偵測訊號和該第二偵測訊號的方式來判斷是否異常，受環境干擾的程度較低，進而使偵測的敏感度大幅提升。
請參考圖1至圖4所示，本發明根據一實施例所提供的裝置是適用於偵測線性滑軌的狀態。線性滑軌20包含一滑塊21和一滑軌22。滑塊21包含一容置凹槽S1，容置凹槽S1用以容納滑軌22。滑塊21於容置凹槽S1內更包含相對的二側表面211及連接二側表面211的底面212。滑軌22包含相對的二側表面221和連接二側表面221的上表面222。滑塊21的二側表面211分別對應滑軌22的二側表面221，且滑塊21的底面212對應滑軌22的上表面222。滑塊21的二側表面211分別與滑軌22的相對兩側(即二側表面221)之間設置有至少一滾動路徑。滾動路徑用以容置上述多個滾動體，多個滾動體於滾動路徑中係接觸抵靠滑塊21及滑軌22。
此裝置包含二感測器11、一分析處理器12和一顯示器13。分析處理器12可通訊連接於二感測器11和顯示器13(視需求)。在本實施例中，二感測器11例如是有線連接於分析處理器12，然而本發明並不限於此；在本發明其他實施例中，二感測器11也可改成無線連接於分析處理器12。
感測器11例如為速度感測器、加速度感測器、麥克風等可偵測滑軌22振動的感測器。並且，感測器11的配置可根據選用的感測器11運作原理而定。在本實施例中，二感測器11例如是加速度感測器等以接觸滑軌22的方式來偵測振動，因此二感測器11被配置成貼附於滑軌22的端部223並趨近端面224，尤其是分別貼附於位於此端部223的二側表面221上，當然於其他實施例中各感測器11亦可不趨近端面224，例如設置於側表面221沿滑軌22軸向的中段處或是任一處，視需求而定。感測器11貼附於滑軌22的端部223的方式例如為鎖固、黏固、吸附或被夾具夾持等。以二感測器11被夾具夾持的方式為例來說，請參考圖17，於本實施例中，二感測器11係利用一夾具30分別定位在二側表面221上，夾具30包含一連接部32以及二分別連接連接部32兩端的夾持部34，連接部32面向端面224，二夾持部34係分別面向二側表面221並沿著滑軌22的軸向延伸，透過各夾持部34的彈力將各感測器11夾持在對應的夾持部34及對應的側表面221之間，以達到定位感測器11的目的；在本實施例中，各感測器11與夾具30可為獨立的兩個機構，但在其他實施例中，各感測器11係可與各夾持部34整合連接在一起，或者在某些實施例中(圖未示)，夾具可包含一身部以及二分別連接身部兩端並向下延伸的夾持部，身部係位於滑軌22的上表面222的位置，一固定件(例如螺絲)將身部鎖固定位在上表面222的鎖孔225，各夾持部係位於各側表面221的位置並將感測器11夾持定位在各側表面221。然而，本發明並不限於上述接觸式的實施態樣。在另一實施例中，感測器也可以例如是麥克風等以非接觸的方式來偵測振動，因此感測器可面向側表面221且與側表面221相隔一距離，只要將感測器設置於對應側表面221的位置即可。
於本實施例中，滑軌22的二側表面221各凹設有一容置凹槽S2，二感測器11分別設置於二側表面221上的容置凹槽S2底部，如圖3所示。在本實施例或其他實施例中，如圖3、18所示，可藉由選用感測器11的規格和尺寸來減少感測器11佔用滑軌22的行程的程度。然而，本發明並不限於此述的設置位置。在另一實施例中，如圖19、20所示，二感測器11可分別設置於二側表面221上除了容置凹槽S2以外的區域R1，且此區域R1不僅趨近端面224，更是趨近滑軌22上不會接觸到滑塊21且遠離滑塊21的表面226；由於感測器11被設置在不會干擾滑塊21行進的位置，因此滑塊21可在滑軌22上的最大可滑動距離即為滑軌22本身的長度。
透過上述設置在滑軌22相對兩側邊上的二感測器11，本發明的裝置便可偵測滑軌22振動，以獲知線性滑軌20的運作是否異常。
請一併參考圖5所示，用以說明此裝置偵測線性滑軌狀態的方法。首先，透過位於滑軌22兩側的二感測器11偵測滑軌22振動，以分別產生二偵測訊號(即一第一偵測訊號和一第二偵測訊號)，如步驟S501，並進一步將兩訊號傳送至分析處理器12。分析處理器12包含訊號處理電路121、特徵分析部122、閥值供應部123和狀態分析部124。狀態分析部124電性連接訊號處理電路121、特徵分析部122、閥值供應部123和狀態分析部124，如圖1所示。
此時，透過分析處理器12的訊號處理電路121的轉換電路，將兩訊號例如經由快速傅立葉變換從時域訊號轉成頻域訊號。接著，處理電路121的濾波電路可對兩訊號進行第一階段濾波，例如以低通濾波器濾除截止頻率以上的高頻成分，如步驟S502所示。然後，分析處理器12再透過特徵分析部122，對第一階段濾波後的第一偵測訊號和第二偵測訊號進行特徵頻率分析，以取得第一偵測訊號和第二偵測訊號的特徵頻率，如步驟S503所示。具體來說，特徵分析部122例如包含取樣電路，因此取樣電路可對訊號進行取樣，以獲得至少一個訊號取樣作為特徵頻率，例如圖16中的多個特徵頻率F。
接著，狀態分析部124由閥值供應部123取得第一閥值TH1，以及比較第一偵測訊號的特徵頻率的位準(峰值)Z1和第二偵測訊號的特徵頻率的位準(峰值)Z2，並且判斷位準Z1和Z2的差值(位準差值)的絕對值是否大於或等於第一閥值TH1，如步驟S504所示。例如，取第一偵測訊號的第一個特徵頻率的位準Z1和第二偵測訊號的第一個特徵頻率的位準來進行比較。特徵頻率的位準是指能量值，單位dB。在本實施例中，第一閥值TH1可由使用者自行設定為大於或等於3dB。在其他實施例中，第一閥值TH1例如為上述差值的絕對值與位準Z1或Z2的差值。具體來說，當位準Z1比位準Z2大時，第一閥值TH1為上述差值的絕對值與位準Z2的差值；當位準Z1比位準Z2小時，第一閥值TH1為上述差值的絕對值與位準Z1的差值；當位準Z1等於位準Z2時，第一閥值TH1為上述差值的絕對值與位準Z1和Z2的任一者的差值。
於步驟S504中，當上述差值的絕對值大於或等於第一閥值TH1時，狀態分析部124根據此比較結果，判定線性滑軌20的單側發生異常，如步驟S505所示。
於步驟S504中，當上述差值的絕對值小於第一閥值TH1時，狀態分析部124由閥值供應部123取得一第二閥值TH2，並且分別將第一偵測訊號的特徵數P1(第一特徵數，亦即第一偵測訊號的特徵頻率的數量)和第二偵測訊號的特徵數P2(第二特徵數，亦即第二偵測訊號的特徵頻率的數量)與第二閥值TH2進行比較，判斷特徵數P1和特徵數P2是否都大於等於第二閥值TH2，如步驟S506。第二閥值TH2例如大於或等於2dB，且可由使用者自行設定。例如圖16所示的取樣結果有8個特徵頻率F。
於步驟S506中，當特徵數P1和特徵數P2都大於等於第二閥值TH2時，狀態分析部124由閥值供應部123取得第三閥值TH3，並且判斷第一偵測訊號的特徵頻率的位準(峰值)Q1或第二偵測訊號的特徵頻率的位準(峰值)Q2是否大於等於第三閥值TH3，如步驟S507所示。在本實施例中，第三閥值TH3可由使用者自行設定，例如設定為比初始值大3dB以上的值。
於步驟S507中，當位準Q1或位準Q2大於等於第三閥值TH3時，狀態分析部124根據此比較結果，判定線性滑軌20的雙側發生異常，如步驟S508所示。反之，當位準Q1或位準Q2小於第三閥值TH3時，狀態分析部124根據此比較結果，判定線性滑軌20目前運作正常，如步驟S511。
而於步驟S506中，當特徵數P1或特徵數P2小於第二閥值TH2時，訊號處理電路121的濾波電路對第一偵測訊號和第二偵測訊號進行第二階段的濾波，例如透過帶阻濾波器濾除頻率60赫茲的成分，如步驟S509所示。接著，狀態分析部124由閥值供應部123取得第二閥值TH2，並且判斷特徵數P3(第三特徵數，亦即第二階段濾波後的第一偵測訊號的特徵頻率的數量)和特徵數P4(第四特徵數，亦即第二階段濾波後的第二偵測訊號的特徵頻率的數量)是否大於或等於第二閥值TH2，如步驟S510所示。
於步驟S510中，當特徵數P3和特徵數P4皆大於或等於第二閥值TH2時，分析處理器12執行步驟S507，以分別判斷第一偵測訊號的位準(特徵頻率的峰值)Q1和第二偵測訊號的位準(特徵頻率的峰值)Q2是否大於等於第三閥值TH3。
於步驟S510中，當特徵數P3或特徵數P4小於第二閥值TH2時，狀態分析部124根據此比較結果，判定線性滑軌20目前運作正常，如步驟S511所示。
最後，狀態分析部124的判定結果會傳送至顯示器13，以呈現給現場操作人員作參考。藉此，現場操作人員便能快速且即時地讓出現異常的線性滑軌20停止運作。
以下請參考圖6至圖9B所示，為了驗證感測器11的設置位置對偵測結果的影響所作的試驗。在此試驗中，首先將三個相同的感測器11分別附貼於滑軌22位於端部223的二側表面221和上表面222，即圖面上位於左側的感測器11、右側的感測器11和上方的感測器11。然後，讓滑塊在滑軌22上滑動，同時讓三個感測器11對滑軌22於X軸線方向、Y軸線方向、Z軸線方向的振動進行偵測。如圖7A至9B所示的Z軸線方向的振動偵測結果可知，相較於位於上方的感測器11，位於左右兩側的感測器11在初始狀態和異常狀態下的訊號差異較大，因此可更敏感地偵測到異常的發生。初始狀態是指新的且正常的線性滑軌剛開始運作時的狀態。如圖10A至12B所示的X軸線方向的振動偵測結果可知，相較於位於上方的感測器11，位於左右兩側的感測器11在初始狀態和異常狀態下的訊號差異較大，因此可更敏感地偵測到異常的發生。如圖13A至15B所示的Y軸線方向的振動偵測結果可知，相較於位於上方的感測器11，位於左右兩側的感測器11在初始狀態和異常狀態下的訊號差異較大，因此可更敏感地偵測到異常的發生。因此，從前述的試驗程序中顯然可知，設置於滑軌22兩側的感測器11可更靈敏地偵測到異常發生。
雖然上述各實施例是基於在滑軌22末端的相對兩側表面221上分別設置二感測器11的範例來說明，然而本發明並不限於此。在另一實施例中，也可只在滑軌22的其中一個側表面221上設置一個感測器11，以偵測線性滑軌20的狀態。
請參考圖21所示，以說明此裝置偵測圖2的線性滑軌20的狀態的方法。首先，執行步驟S2101，即透過感測器11偵測滑軌22振動，以分別產生一偵測訊號。圖1中的分析處理器12在接收到此偵測訊號後，將訊號由時域訊號轉成頻域訊號。接著，執行步驟S2102和S2103，步驟S2102和S2103分別類似於圖5的步驟S502和S503，因此關於步驟S2102和S2103的說明可分別參考圖5的步驟S502和S503的相關說明，於此不再贅述。
然後，執行步驟S2104，即狀態分析部124由閥值供應部123取得第一閥值TH4，以及判斷此偵測訊號的特徵頻率的位準(峰值)Z3是否大於或等於第一閥值TH4。例如，取偵測訊號的第一個特徵頻率的位準Z3來判斷。在本實施例中，第一閥值TH4可例如由使用者自行設定為大於或等於3dB。
於步驟S2104中，當位準Z3大於或等於第一閥值TH4時，狀態分析部124判定線性滑軌20發生異常，如步驟S2107所示。相反地，於步驟S2104中，當位準Z3小於第一閥值TH4時，狀態分析部124由閥值供應部123取得一第二閥值TH5，並且判斷此偵測訊號的特徵數P5(第一特徵頻率，亦即此偵測訊號的特徵頻率的數量)是否大於等於第二閥值TH5，如步驟S2105。第二閥值TH5可例如由使用者自行設定為大於或等於2dB。
在步驟S2105中，當特徵數P1大於等於第二閥值TH5時，狀態分析部124由閥值供應部123取得第三閥值TH6，並且判斷偵測訊號的特徵頻率的位準(峰值)Q3是否大於或等於第三閥值TH6，如步驟S2106所示。在本實施例中，第三閥值TH6可例如由使用者自行設定為比初始值大3dB以上的值。
於步驟S2106中，當位準Q3大於或等於第三閥值TH6時，狀態分析部124判定線性滑軌20發生異常，如步驟S508所示。反之，當位準Q3小於第三閥值TH6時，狀態分析部124判定線性滑軌20目前運作正常，如步驟S2110。
而於步驟S2105中，當特徵數P5小於第二閥值TH5時，執行步驟S2108，即進行第二階段的濾波。步驟S2108類似於圖5的步驟S509，因此關於步驟S2108的說明可分別參考步驟S509的相關說明，於此不再贅述。接著，狀態分析部124判斷第二階段濾波後的偵測訊號的特徵數P6(第二特徵數，亦即第二階段濾波後的偵測訊號的特徵頻率的數量)是否大於或等於第二閥值TH5，如步驟S2109所示。
於步驟S2109中，當特徵數P6大於或等於第二閥值TH5時，分析處理器12執行步驟S2106。反之，於步驟S2109中，當特徵數P6小於第二閥值TH5時，狀態分析部124判定線性滑軌20目前運作正常，如步驟S2110所示。
最後，狀態分析部124的判定結果會傳送至顯示器13，以呈現給現場操作人員作參考。藉此，現場操作人員便能快速且即時地讓出現異常的線性滑軌20停止運作。
綜上所述，本發明各實施例提供用於偵測線性滑軌狀態的裝置和方法，透過將至少一個感測器安裝於滑軌末端的側邊，不僅拆裝方便，更是可提升裝置的偵測靈敏度。並且，此裝置也透過多重閥值，分析二感測器的偵測訊號，從而判斷線性滑軌出現異常的可能位置，並降低雜訊對偵測結果的影響。此外，感測器若安裝於滑軌末端的側邊，且趨近於滑軌上遠離滑塊的表面時，可讓滑塊能在整個滑軌上滑動而不影響滑軌的可滑動行程。
雖然本發明以前述之實施例揭露如上，然而這些實施例並非用以限定本發明。在不脫離本發明之精神和範圍內，所為之更動、潤飾與各實施態樣的組合，均屬本發明之專利保護範圍。關於本發明所界定之保護範圍請參考所附之申請專利範圍。
11:感測器 12:分析處理器 121:訊號處理電路 122:特徵分析部 123:閥值供應部 124:狀態分析部 13:顯示器 20:線性滑軌 21:滑塊 211:側表面 212:底面 22:滑軌 221:側表面 222:上表面 223:端部 224:端面 225:鎖孔 226:表面 30:夾具 32:連接部 34:夾持部 F:特徵頻率 P1,P2,P3,P4,P5,P6:特徵數 Q1,Z1,Q2,Z2,Z3,Q3:位準 R1:區域 S1,S2:容置凹槽 TH1,TH4:第一閥值 TH2,TH5:第二閥值 TH3,TH6:第三閥值 X:X軸線方向 Y:Y軸線方向 Z:Z軸線方向
在結合以下附圖研究了詳細描述之後，將發現本發明的其他方面及其優點： 圖1為根據本發明一實施例的用於偵測線性滑軌狀態的裝置的功能方塊圖； 圖2為根據本發明一實施例將二感測器安裝於線性滑軌的示意圖； 圖3為圖2的分解圖； 圖4為圖2的局部放大圖，用以呈現二感測器配置於滑軌末端的相對兩側； 圖5為根據本發明一實施例的用於偵測線性滑軌狀態的方法的流程圖；以及 圖6為驗證設備的示意圖，用以呈現三個感測器的設置位置； 圖7A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現左側的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿Z軸線方向振動的結果； 圖7B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現左側的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿Z軸線方向振動的結果； 圖8A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現上方的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿Z軸線方向振動的結果； 圖8B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現上方的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿Z軸線方向振動的結果； 圖9A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現右側的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿Z軸線方向振動的結果； 圖9B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現右側的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿Z軸線方向振動的結果； 圖10A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現左側的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿X軸線方向振動的結果； 圖10B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現左側的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿X軸線方向振動的結果； 圖11A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現上方的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿X軸線方向振動的結果； 圖11B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現上方的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿X軸線方向振動的結果； 圖12A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現右側的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿X軸線方向振動的結果； 圖12B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現右側的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿X軸線方向振動的結果； 圖13A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現左側的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿Y軸線方向振動的結果； 圖13B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現左側的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿Y軸線方向振動的結果； 圖14A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現上方的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿Y軸線方向振動的結果； 圖14B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現上方的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿Y軸線方向振動的結果； 圖15A為試驗程序中的訊號圖，用以呈現右側的感測器在初始狀態下，偵測滑軌沿Y軸線方向振動的結果； 圖15B為試驗程序中的訊號圖，用以呈現右側的感測器在異常狀態下，偵測滑軌沿Y軸線方向振動的結果； 圖16為根據本發明一實施例的頻域的偵測訊號的波形圖； 圖17為根據本發明一實施例利用夾具將二感測器定位於線性滑軌的示意圖； 圖18為根據本發明一實施例將二感測器安裝於線性滑軌的示意圖； 圖19為根據本發明一實施例將二感測器安裝於線性滑軌的示意圖； 圖20為根據本發明一實施例將二感測器安裝於線性滑軌的示意圖；以及 圖21為根據本發明一實施例的用於偵測線性滑軌狀態的方法的流程圖。

Claims (10)

  1. 一種用於偵測線性滑軌狀態的裝置，該線性滑軌包含一滑塊和一滑軌，該滑塊包含用以容納該滑軌一容置凹槽，該滑塊於該容置凹槽內更包含相對的二側表面，該滑軌包含相對的二側表面，該滑塊的該二側表面分別對應該滑軌的該二側表面，該裝置包含：二感測器，分別位於或鄰近該滑軌的該些側表面，且用以偵測該滑軌的振動，以分別產生一第一偵測訊號和一第二偵測訊號；以及一分析處理器，與該些感測器通訊連接，用以判斷該第一偵測訊號的位準與該第二偵測訊號的位準的差異是否大於或等於一第一閥值，並且在該差異大於或等於該第一閥值時，判定異常發生。
  2. 根據請求項1所述的用於偵測線性滑軌狀態的裝置，其中當該第一偵測訊號的該位準與該第二偵測訊號的該位準的差異小於該第一閥值時，該分析處理器更將該第一偵測訊號的一第一特徵數與一第二閥值比較，以及將該第二偵測訊號的一第二特徵數與該第二閥值比較；以及，當該第一特徵數和該第二特徵數皆大於或等於該第二閥值時，該分析處理器分別將該第一偵測訊號的位準和該第二偵測訊號的位準與一第三閥值比較，當該第一偵測訊號和該第二偵測訊號的該位準大於或等於該第三閥值時，該分析處理器判定異常發生。
  3. 根據請求項2所述的用於偵測線性滑軌狀態的裝置，其中當該第一特徵數或該第二特徵數小於該第二閥值時，該分析處理器分別對該第一偵測訊號和該第二偵測訊號進行濾波，以產生一第三偵測訊號和一第四偵測訊號，並且該分析處理器將該第三偵測訊號的一第三特徵數與 該第二閥值比較，以及將該第四偵測訊號的一第四特徵數與該第二閥值比較，當該第三特徵數和該第四特徵數皆大於或等於該第二閥值時，該分析處理器判定異常發生。
  4. 一種用於偵測線性滑軌狀態的裝置，該線性滑軌包含一滑塊和一滑軌，該滑塊包含用以容納該滑軌一容置凹槽，該滑塊於該容置凹槽內更包含相對的二側表面，該滑軌包含相對的二側表面，該滑塊的該二側表面分別對應該滑軌的該二側表面，該裝置包含：一感測器，位於對應該滑軌的該側表面的位置，且用以偵測該滑軌的振動，以產生一偵測訊號；以及一分析處理器，與該感測器通訊連接，用以根據該偵測訊號的位準和至少一閥值，判定異常發生，其中當該偵測訊號的該位準大於或等於一第一閥值時，該分析處理器判定異常發生；當該偵測訊號的該位準小於該第一閥值時，該分析處理器更將該偵測訊號的一第一特徵數與一第二閥值比較，當該第一特徵數大於或等於該第二閥值時，該分析處理器將該偵測訊號的該位準與一第三閥值比較，以及當該偵測訊號的該位準大於或等於該第三閥值時，該分析處理器判定異常發生。
  5. 根據請求項4所述的用於偵測線性滑軌狀態的裝置，其中當該第一特徵數小於該第二閥值時，該分析處理器對該偵測訊號進行濾波，以產生另一偵測訊號，該分析處理器將該另一偵測訊號的一第二特徵數與該第二閥值比較，當該第二特徵數大於或等於該第二閥值時，該分析處理器判定異常發生。
  6. 一種用於偵測線性滑軌狀態的方法，該線性滑軌包含一滑塊和一滑軌，該滑塊包含用以容納該滑軌一容置凹槽，該滑塊於該容置 凹槽內更包含相對的二側表面，該滑軌包含相對的二側表面，該滑塊的該二側表面分別對應該滑軌的該二側表面，該方法包含以下步驟：(A)經由二感測器，偵測該滑軌的振動，以分別產生一第一偵測訊號和一第二偵測訊號，該些感測器分別位於該滑軌的一端部且位於或鄰近該滑軌的該些側表面；以及(B)經由一分析處理器，根據該偵測訊號的位準和至少一閥值，判定異常發生，其中該步驟(B)包括：(B1)判斷該第一偵測訊號的位準與該第二偵測訊號的位準的差異是否大於或等於一第一閥值；及(B2)當該差異大於或等於該第一閥值，判定異常發生。
  7. 根據請求項6所述的用於偵測線性滑軌狀態的方法，其中該步驟(B)更包含以下步驟：(B3)當該第一偵測訊號與該第二偵測訊號的差異小於該第一閥值時，經由該分析處理器，將該第一偵測訊號的一第一特徵數與一第二閥值比較，以及將該第二偵測訊號的一第二特徵數與該第二閥值比較；(B4)當該第一特徵數和該第二特徵數皆大於或等於該第二閥值時，經由該分析處理器，將該第一偵測訊號的位準與一第三閥值比較，以及將該第二偵測訊號的位準與該第三閥值比較；以及(B5)當該第一偵測訊號或該第二偵測訊號的該位準大於或等於該第三閥值時，經由該分析處理器判定異常發生。
  8. 根據請求項7所述的用於偵測線性滑軌狀態的方法，該步驟(B)更包含以下步驟： (B6)當該第一特徵數或該第二特徵數小於該第二閥值時，經由該分析處理器，分別對該第一偵測訊號和該第二偵測訊號進行濾波，以產生一第三偵測訊號和一第四偵測訊號，並且經由該分析處理器，將該第三偵測訊號的一第三特徵數與該第二閥值比較，以及將該第四偵測訊號的一第四特徵數與該第二閥值比較；以及(B7)當該第三特徵數和該第四特徵數皆大於或等於該第二閥值時，該分析處理器判定異常發生。
  9. 一種用於偵測線性滑軌狀態的方法，該線性滑軌包含一滑塊和一滑軌，該滑塊包含用以容納該滑軌一容置凹槽，該滑塊於該容置凹槽內更包含相對的二側表面，該滑軌包含相對的二側表面，該滑塊的該二側表面分別對應該滑軌的該二側表面，該方法包含以下步驟：(A)經由一感測器，偵測該滑軌的振動，以產生一偵測訊號，該感測器位於該滑軌的一端部且位於或鄰近該滑軌的該側表面；以及(B)經由一分析處理器，根據該偵測訊號的位準和至少一閥值，判定異常發生，其中該步驟(B)包含以下步驟：(B8)判斷該偵測訊號的該位準是否大於或等於一第一閥值；(B9)當該偵測訊號的該位準大於或等於該第一閥值時，判定異常發生；(B10)當該偵測訊號的該位準小於該第一閥值時，將該偵測訊號的一第一特徵數與一第二閥值比較；(B11)當該第一特徵數大於或等於該第二閥值時，將該偵測訊號的該位準與一第三閥值比較；以及 (B12)當該偵測訊號的該位準大於或等於該第三閥值時，判定異常發生。
  10. 根據請求項9所述的用於偵測線性滑軌狀態的方法，其中該步驟(B)更包含：(B13)當該第一特徵數小於該第二閥值時，對該偵測訊號進行濾波，以產生另一偵測訊號；(B14)將該另一偵測訊號的一第二特徵數與該第二閥值比較；以及(B15)當該第二特徵數大於或等於該第二閥值時，判定異常發生。
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