TWI746455B - 電容元件及其製作方法 - Google Patents
電容元件及其製作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI746455B TWI746455B TW105125109A TW105125109A TWI746455B TW I746455 B TWI746455 B TW I746455B TW 105125109 A TW105125109 A TW 105125109A TW 105125109 A TW105125109 A TW 105125109A TW I746455 B TWI746455 B TW I746455B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- capacitor
- dielectric layer
- protective layer
- upper electrode
- Prior art date
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 137
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 13
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical group O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- -1 Ta 2 O 5 ) Chemical compound 0.000 description 5
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OQPDWFJSZHWILH-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Al].[Ti] Chemical compound [Al].[Al].[Al].[Ti] OQPDWFJSZHWILH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052454 barium strontium titanate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 4
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910021324 titanium aluminide Inorganic materials 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 229910000951 Aluminide Inorganic materials 0.000 description 3
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004129 HfSiO Inorganic materials 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020684 PbZr Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006501 ZrSiO Inorganic materials 0.000 description 2
- CEPICIBPGDWCRU-UHFFFAOYSA-N [Si].[Hf] Chemical compound [Si].[Hf] CEPICIBPGDWCRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILCYGSITMBHYNK-UHFFFAOYSA-N [Si]=O.[Hf] Chemical compound [Si]=O.[Hf] ILCYGSITMBHYNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNSWULZVUKFJHK-UHFFFAOYSA-N [Sr].[Bi] Chemical compound [Sr].[Bi] VNSWULZVUKFJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPNWDVUTVSTKMV-UHFFFAOYSA-N cobalt tungsten Chemical compound [Co].[W] JPNWDVUTVSTKMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYJXGCDOQVBMQY-UHFFFAOYSA-N aluminum tungsten Chemical compound [Al].[W] JYJXGCDOQVBMQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KQHQLIAOAVMAOW-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+) oxygen(2-) zirconium(4+) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Zr+4].[Hf+4] KQHQLIAOAVMAOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/60—Capacitors
- H10D1/68—Capacitors having no potential barriers
- H10D1/692—Electrodes
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
本發明揭露一種製作電容的方法。首先提供一基底，然後形成一下電極以及一電容介電層於基底上，形成一導電層於電容介電層上，形成一圖案化硬遮罩於導電層上，利用圖案化硬遮罩去除部分導電層以形成一上電極，去除圖案化硬遮罩以及形成一保護層於上電極之上表面及側壁，其中保護層包含金屬氧化物。
Description
本發明是關於一種電容及其製作方法，尤指一種金屬-絕緣體-金屬(metal-insulator-metal,MIM)電容及其製作方法。
在半導體製程中，利用金屬-絕緣體-金屬(metal-insulator-metal,MIM)複合式結構所構成的金屬電容器已廣泛地運用於極大型積體電路(ultra large scale integration,ULSI)的設計上。因為此種金屬電容器具有較低的電阻值(resistance)以及較小的寄生電容(parasitic capacitance)，而且沒有空乏區感應電壓(induced voltage)偏移的問題，因此目前多採用MIM構造做為金屬電容器的主要結構。
隨著積體電路的積集度(integration)增加以及高性能的需求，低電阻之多重金屬內連線(multilevel interconnects)的製作便逐漸成為許多半導體積體電路製程所必須採用的方式。而銅雙鑲嵌(dual
damascene)技術搭配低介電常數材料所構成的金屬間介電層(inter metal dielectric,IMD)是目前最受歡迎的金屬內連線製程組合，尤其針對高積集度、高速(high-speed)邏輯積體電路晶片製造以及0.18微米以下的深次微米(deep sub-micro)半導體製程，銅金屬雙鑲嵌內連線技術在積體電路製程中已日益重要，而且勢必將成為下一世代半導體製程的標準內連線技術。因此，如何整合銅製程以應用於具有低電阻之金屬內連線以及MIM電容器便是目前研究的重點方向。
本發明較佳實施例揭露一種製作電容的方法。首先提供一基底，然後形成一下電極以及一電容介電層於基底上，形成一導電層於電容介電層上，形成一圖案化硬遮罩於導電層上，利用圖案化硬遮罩去除部分導電層以形成一上電極，去除圖案化硬遮罩以及形成一保護層於上電極之上表面及側壁，其中保護層包含金屬氧化物。
本發明另一實施例揭露一種電容，其主要包含：一下電極設於一基底上；一電容介電層設於下電極上；一上電極設於電容介電層上；以及一保護層設於上電極之上表面及側壁，其中保護層包含金屬氧化物。
12:基底
14:第一導電層
16:介電層
18:上電極
20:保護層
22:電容介電層
24:下電極
26:電容
28:介電層
30:接觸插塞
32:接觸插塞
34:第一遮蓋層
36:第二遮蓋層
第1圖至第4圖為本發明較佳實施例製作一MIM電容之方法示意圖。
第5圖為本發明一實施例之半導體元件之結構示意圖。
第6圖為本發明一實施例之半導體元件之結構示意圖。
請參照第1圖至第4圖，第1圖至第4圖為本發明較佳實施例製作一MIM電容之方法示意圖。如第1圖所示，首先提供一基底12，例如一矽基底、磊晶矽基底、碳化矽基底或矽覆絕緣(silicon-on-insulator,SOI)基底等之半導體基底，但不以此為限。基底12上可設有至少一主動元件，例如金氧半導體(metal oxide semiconductor,MOS)電晶體、氧化物場效半導體電晶體(OS FET)、鰭狀結構電晶體(FinFET)或其他主動元件。以製作金氧半導體電晶體為例，各金氧半導體電晶體可包含一閘極結構設於基底上、一側壁子設於閘極結構側壁、以及一源極/汲極區域設於側壁子兩側的基底中等標準電晶體元件。
更具體而言，閘極結構又可依據製程需求為一由多晶矽所構成的多晶矽閘極或一金屬閘極。若閘極結構為一金屬閘極，其可細部包含一高介電常數介電層、一功函數金屬層、以及一低阻抗金屬層。其中高介電常數介電層可包含介電常數大於4的介電材料，例如選自氧化鉿(hafnium oxide，HfO2)、矽酸鉿氧化合物(hafnium silicon oxide,HfSiO4)、矽酸鉿氮氧化合物(hafnium silicon oxynitride,HfSiON)、氧化鋁(aluminum oxide,Al2O3)、氧化鑭(lanthanum oxide,La2O3)、氧化鉭(tantalum oxide,Ta2O5)、氧化釔(yttrium oxide,Y2O3)、氧化鋯(zirconium oxide,ZrO2)、鈦酸鍶(strontium titanate oxide,SrTiO3)、矽
酸鋯氧化合物(zirconium silicon oxide,ZrSiO4)、鋯酸鉿(hafnium zirconium oxide,HfZrO4)、鍶鉍鉭氧化物(strontium bismuth tantalate,SrBi2Ta2O9,SBT)、鋯鈦酸鉛(lead zirconate titanate,PbZrxTi1-xO3,PZT)、鈦酸鋇鍶(barium strontium titanate,BaxSr1-xTiO3,BST)、或其組合所組成之群組。
功函數金屬層較佳用以調整形成金屬閘極之功函數，使其適用於N型電晶體(NMOS)或P型電晶體(PMOS)。若金氧半導體電晶體為N型電晶體，功函數金屬層可選用功函數為3.9電子伏特(eV)~4.3eV的金屬材料，如鋁化鈦(TiAl)、鋁化鋯(ZrAl)、鋁化鎢(WAl)、鋁化鉭(TaAl)、鋁化鉿(HfAl)或TiAlC(碳化鈦鋁)等，但不以此為限；若電晶體為P型電晶體，功函數金屬層可選用功函數為4.8eV~5.2eV的金屬材料，如氮化鈦(TiN)、氮化鉭(TaN)或碳化鉭(TaC)等，但不以此為限。功函數金屬層與低阻抗金屬層之間可包含另一阻障層(圖未示)，其中阻障層的材料可包含鈦(Ti)、氮化鈦(TiN)、鉭(Ta)、氮化鉭(TaN)等材料。低阻抗金屬層則可選自銅(Cu)、鋁(Al)、鎢(W)、鈦鋁合金(TiAl)、鈷鎢磷化物(cobalt tungsten phosphide,CoWP)等低電阻材料或其組合。
接著形成一層間介電層(圖未示)於基底12上並覆蓋金氧半導體電晶體或其他主動元件，然後形成一電容26於基底12上，其中電容26較佳包含一下電極、一電容介電層以及一上電極。
在本實施例中，形成電容26的方式可先依序形成一第一導電層14、一介電層16以及一第二導電層(圖未示)於基底12上，然後對第
二導電層進行一圖案轉移製程，例如利用蝕刻方式去除部分第二導電層以形成圖案化之第二導電層。其中未圖案化之第一導電層較佳於後續成為電容26之下電極，未圖案化之介電層較佳於後續成為電容介電層，而圖案化之第二導電層則為電容之上電極18。在本實施例中，電容26之上電極18可選自由鎢(W)、鈦(Ti)、氮化鈦(TiN)、鉭(Ta)、氮化鉭(TaN)以及鋁(Al)所構成的群組，但不侷限於此。
接著如第2圖所示，進行一處理製程，將上電極18暴露於一含氧氣體中，並藉此於上電極18的上表面及側壁表面形成一保護層20。在本實施例中，含氧氣體較佳包含一氧化二氮(N2O)，但不侷限於此，而所形成的保護層20則較佳包含金屬氧化物，例如是選自由氧化鈦、氮氧化鈦、氧化鉭以及氮氧化鉭所構成的群組。值得注意的是，由於上電極18上方並未設置任何硬遮罩或阻擋層且本實施例中利用含氧氣體所進行的處理製程僅會與金屬反應，因此保護層20只會形成於裸露出的上電極18上表面及側壁表面但不形成於介電層16上表面。
如第3圖所示，接著再對介電層16與第一導電層14進行另一次圖案轉移製程，例如可先形成一圖案化之遮罩層(圖未示)或阻擋層於介電層16上，然後利用蝕刻去除部分介電層16與部分第一導電層14以形成電容26之電容介電層22與下電極24，最後再去除圖案化之遮罩層。在本實施例中，圖案化製程後的上電極18的寬度略小於電容介電層22與下電極24的寬度，且上電極18上表面的保護層20厚度可依據製程需求選擇大於設於上電極18側壁的保護層20厚度、等於上電極18側壁的保護層20厚度、或小於上電極18側壁的保護層20厚度。
依據本發明之較佳實施例，電容26之上電極18與下電極24可為相同或不同材料，且均可選自由鎢(W)、鈦(Ti)、氮化鈦(TiN)、鉭(Ta)、氮化鉭(TaN)以及鋁(Al)所構成的群組。電容介電層22較佳選自具有低漏電流的介電材料，例如可選自由氧化物-氮化物-氧化物(oxide-nitride-oxide，ONO)、氮化矽、氧化矽以及氮氧化矽所構成的群組。
此外，依據本發明之一實施例，電容介電層22又可包含一介電常數大於4的高介電常數介電層，其可選自氧化鉿(hafnium oxide，HfO2)、矽酸鉿氧化合物(hafnium silicon oxide，HfSiO4)、矽酸鉿氮氧化合物(hafnium silicon oxynitride，HfSiON)、氧化鋁(aluminum oxide，Al2O3)、氧化鑭(lanthanum oxide，La2O3)、氧化鉭(tantalum oxide，Ta2O5)、氧化釔(yttrium oxide，Y2O3)、氧化鋯(zirconium oxide，ZrO2)、鈦酸鍶(strontium titanate oxide，SrTiO3)、矽酸鋯氧化合物(zirconium silicon oxide，ZrSiO4)、鋯酸鉿(hafnium zirconium oxide，HfZrO4)、鍶鉍鉭氧化物(strontium bismuth tantalate,SrBi2Ta2O9,SBT)、鋯鈦酸鉛(lead zirconate titanate,PbZrxTi1-xO3,PZT)、鈦酸鋇鍶(barium strontium titanate,BaxSr1-xTiO3,BST)、或其組合所組成之群組。
如第4圖所示，隨後形成一介電層28於基底12上並完全覆蓋電容26，再形成接觸插塞30、32於介電層28中分別電連接上電極18與下電極24。其中形成接觸插塞30、32的方式可先進行一微影暨蝕刻製程，去除部分介電層28與部分電容介電層22以形成接觸洞(圖未示)暴
露部分上電極18與部分下電極24表面。之後依序形成一阻障層(圖未示)以及一金屬層(圖未示)並填滿接觸洞，然後搭配進行一平坦化製程，例如利用化學機械研磨製程去除部分金屬層與部分阻障層以形成接觸插塞30、32。其中阻障層可選自由鈦(Ti)、氮化鈦(TiN)、鉭(Ta)以及氮化鉭(TaN)所構成的群組，而金屬層可選自由鎢(W)、銅(Cu)、鋁(Al)、鈦鋁合金(TiAl)、鈷鎢磷化物(cobalt tungsten phosphide，CoWP)等所構成的群組，但不侷限於此。至此即完成本發明較佳實施例之一半導體元件的製作。
請參照第5圖，第5圖為本發明一實施例之半導體元件之結構示意圖。如第5圖所示，本發明可於形成保護層20後先依序形成一第一遮蓋層34與第二遮蓋層36於基底12與保護層20上，然後可比照第4圖的製程形成介電層28覆蓋第二遮蓋層36，最後再形成接觸插30、32塞貫穿介電層28、第二遮蓋層36、第一遮蓋層34與電容介電層22並分別電連接電容26之上電極18與下電極24。在本實施例中，第一遮蓋層34較佳作為一緩衝層而第二遮蓋層36則可作為一蝕刻停止層，第一遮蓋層34與第二遮蓋層36可包含相同或不同材料，且兩者均可選自由氮化矽、氮氧化矽及氮碳化矽所構成的群組。
請參照第6圖，第6圖為本發明一實施例之半導體元件之結構示意圖。如第6圖所示，本發明可於第2圖形成形成保護層20後但圖案化第一導電層14與介電層16之前先覆蓋第5圖之第一遮蓋層34與第二遮蓋層36於介電層16上，然後再形成一圖案化之遮罩層(圖未示)於介電層16上，並利用蝕刻去除部分第二遮蓋層36、部分第一遮蓋層34、
部分介電層16與部分第一導電層14以形成圖案化第二遮蓋層36與第一遮蓋層34以及電容26之電容介電層22與下電極24，最後再去除圖案化之遮罩層。由於第二遮蓋層36與第一遮蓋層34是與介電層16與第一導電層14一同蝕刻，因此第二遮蓋層36與第一遮蓋層34邊緣較佳切齊電容介電層22與下電極24側壁。
以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。
12:基底
18:上電極
20:保護層
22:電容介電層
24:下電極
26:電容
28:介電層
30:接觸插塞
32:接觸插塞
34:第一遮蓋層
36:第二遮蓋層
Claims (15)
- 一種製作電容的方法，包含：提供一基底；形成一電容於該基底上，該電容包含一下電極、一電容介電層以及一上電極；以及形成一保護層於該上電極之上表面及側壁，其中該保護層為該上電極之氧化物並且具有一倒U型剖面形狀。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法，另包含進行一處理製程以形成該保護層。
- 如申請專利範圍第2項所述之方法，其中該處理製程包含將該上電極之上表面及側壁暴露於一含氧氣體。
- 如申請專利範圍第2項所述之方法，另包含：形成一第一遮蓋層於該電容介電層及該保護層上；形成一介電層於該第一遮蓋層上；形成一第一接觸插塞於該介電層中並電連接該上電極；以及形成一第二接觸插塞於該介電層及該電容介電層中並電連接該下電極。
- 如申請專利範圍第4項所述之方法，另包含於形成該介電層之前形成一第二遮蓋層於該第一遮蓋層上。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該保護層係選自由氧化鈦、氮氧化鈦、氧化鉭以及氮氧化鉭所構成的群組。
- 一種電容，包含：一下電極設於一基底上；一電容介電層設於該下電極上；一上電極設於該電容介電層上；以及一保護層設於該上電極之上表面及側壁，其中該保護層為該上電極之氧化物並且具有一倒U型剖面形狀。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，另包含：一第一遮蓋層設於該電容介電層及該保護層上；一介電層設於該第一遮蓋層上；一第一接觸插塞設於該介電層中並電連接該上電極；以及一第二接觸插塞設於該介電層及該電容介電層中並電連接該下電極。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，另包含一第二遮蓋層設於該第一遮蓋層及該介電層之間。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，其中該保護層係選自由氧化鈦、氮氧化鈦、氧化鉭以及氮氧化鉭所構成的群組。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，其中設於該上電極上表面之該保護層厚度係大於設於該上電極側壁之該保護層厚度。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，其中該保護層不直接接觸該下電極。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，其中該保護層顯露出該電容介電層的一上表面。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，其中該保護層的一最底面與該上電極的一底面齊平。
- 如申請專利範圍第7項所述之電容，另包括一第一遮蓋層設於該保護層及該電容介電層上，其中該第一遮蓋層直接接觸該電容介電層。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW105125109A TWI746455B (zh) | 2016-08-08 | 2016-08-08 | 電容元件及其製作方法 |
| US15/257,930 US9773860B1 (en) | 2016-08-08 | 2016-09-07 | Capacitor and method for fabricating the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW105125109A TWI746455B (zh) | 2016-08-08 | 2016-08-08 | 電容元件及其製作方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201806076A TW201806076A (zh) | 2018-02-16 |
| TWI746455B true TWI746455B (zh) | 2021-11-21 |
Family
ID=59886691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW105125109A TWI746455B (zh) | 2016-08-08 | 2016-08-08 | 電容元件及其製作方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9773860B1 (zh) |
| TW (1) | TWI746455B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20230011605A1 (en) * | 2021-07-09 | 2023-01-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Metal-insulator-metal (mim) capacitor and method of making same |
| CN114005815B (zh) * | 2021-10-28 | 2025-02-21 | 福建省晋华集成电路有限公司 | 电容器结构以及其制造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW415076B (en) * | 1998-07-07 | 2000-12-11 | Samsung Electronics Co Ltd | Ferroelectric capacitor and method for fabricating the same |
| US20020074588A1 (en) * | 2000-12-20 | 2002-06-20 | Kyu-Mann Lee | Ferroelectric capacitors for integrated circuit memory devices and methods of manufacturing same |
| US20090140262A1 (en) * | 2006-09-20 | 2009-06-04 | Fujitsu Limited | Field-effect transistor |
| US20130049109A1 (en) * | 2011-08-22 | 2013-02-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Metal Gate Structure |
| US9368392B2 (en) * | 2014-04-10 | 2016-06-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | MIM capacitor structure |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3149817B2 (ja) | 1997-05-30 | 2001-03-26 | 日本電気株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| JP4947849B2 (ja) | 2001-05-30 | 2012-06-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| US7229875B2 (en) * | 2002-10-17 | 2007-06-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Integrated circuit capacitor structure |
| JP2010258130A (ja) | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置及びそのレイアウト方法 |
| JP2013115371A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Sumitomo Electric Device Innovations Inc | 容量素子 |
| JP2014165404A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-08 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
| US9257497B2 (en) | 2013-12-31 | 2016-02-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Metal-insulator-metal (MIM) capacitor techniques |
| US9425061B2 (en) | 2014-05-29 | 2016-08-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Buffer cap layer to improve MIM structure performance |
| US9257642B1 (en) * | 2014-07-16 | 2016-02-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Protective sidewall techniques for RRAM |
-
2016
- 2016-08-08 TW TW105125109A patent/TWI746455B/zh active
- 2016-09-07 US US15/257,930 patent/US9773860B1/en active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW415076B (en) * | 1998-07-07 | 2000-12-11 | Samsung Electronics Co Ltd | Ferroelectric capacitor and method for fabricating the same |
| US20020074588A1 (en) * | 2000-12-20 | 2002-06-20 | Kyu-Mann Lee | Ferroelectric capacitors for integrated circuit memory devices and methods of manufacturing same |
| US20090140262A1 (en) * | 2006-09-20 | 2009-06-04 | Fujitsu Limited | Field-effect transistor |
| US20130049109A1 (en) * | 2011-08-22 | 2013-02-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Metal Gate Structure |
| US9368392B2 (en) * | 2014-04-10 | 2016-06-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | MIM capacitor structure |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201806076A (zh) | 2018-02-16 |
| US9773860B1 (en) | 2017-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI726128B (zh) | 半導體元件及其製作方法 | |
| US11302691B2 (en) | High voltage integration for HKMG technology | |
| CN109994537B (zh) | 半导体元件及其制作方法 | |
| TWI686351B (zh) | 奈米線電晶體及其製作方法 | |
| CN106684041B (zh) | 半导体元件及其制作方法 | |
| TWI624863B (zh) | 半導體元件及其製作方法 | |
| US11961897B2 (en) | Negative capacitance transistor with external ferroelectric structure | |
| TWI632617B (zh) | 半導體元件及其製作方法 | |
| TW201820450A (zh) | 半導體裝置以及其製作方法 | |
| US10431664B2 (en) | Gate structure and methods thereof | |
| US11799014B2 (en) | Gate structure and methods thereof | |
| CN106683990A (zh) | 半导体元件及其制作方法 | |
| TW201913747A (zh) | 半導體元件及其製作方法 | |
| TW202324739A (zh) | 橫向擴散金氧半導體元件 | |
| TWI709248B (zh) | 電容及其製作方法 | |
| TWI746455B (zh) | 電容元件及其製作方法 | |
| US20180061752A1 (en) | Semiconductor device and method for fabricating the same | |
| TWI782109B (zh) | 製作半導體元件的方法 | |
| CN115249711A (zh) | 单次可编程存储器元件 | |
| CN115910786A (zh) | 半导体元件及其制作方法 | |
| TWI900250B (zh) | 半導體元件及其製作方法 | |
| TWI821535B (zh) | 一種製作半導體元件的方法 | |
| TW202420442A (zh) | 半導體元件及其製作方法 | |
| TW202510032A (zh) | 半導體元件及其製作方法 | |
| TW202401657A (zh) | 半導體元件及其製作方法 |