TWI743913B - 發光鍵盤 - Google Patents

Abstract

一種發光鍵盤，包括基板、複數個按鍵及導光板。基板包括複數個組裝區，各組裝區具有一透光部。多個按鍵排列設置於基板之多個組裝區上方。導光板設置於基板下方，導光板包括一發光區以對應於多個組裝區的其中一者，發光區內設有一刻線圖案，刻線圖案包括多個刻線組與格狀區域，多個刻線組彼此相交以形成格狀區域，且格狀區域對應於透光部。

Description

發光鍵盤

本發明係關於一種鍵盤，特別是指一種發光鍵盤。

鍵盤為目前十分常見的輸入裝置，通常是搭配電子裝置使用，例如桌上型電腦、筆記型電腦、智慧型手機或平板電腦等等。此外，為了因應光照不足的使用環境，遂發展出一種具有發光功能之發光鍵盤。

市面上之發光鍵盤主要是利用背光模組（backlight module）作為發光源，背光模組透過其導光板導引光線並由各按鍵的底部向上發出。此外，為了提高發光效益，導光板上常會設置導光微結構，例如在導光板的表面上雕刻圖案以提高光萃取量。

然而，目前已知的雕刻圖案在加工過程中，加工設備需要頻繁進行加、減速，導致工時增加而降低產能與效益。此外，對於不同角度的光線也無法有效萃取。

鑒於上述，於一實施例中，提供一種發光鍵盤，包括基板、複數個按鍵及導光板。基板包括複數個組裝區，各組裝區具有一透光部。多個按鍵排列設置於基板之多個組裝區上方。導光板設置於基板下方，導光板包括相對的第一表面與第二表面，第一表面包括一發光區以對應於多個組裝區的其中一者，發光區內設有一刻線圖案，刻線圖案包括多個刻線組與格狀區域，多個刻線組彼此相交以形成格狀區域，且格狀區域對應於透光部。

綜上，根據本發明實施例之發光鍵盤，透過導光板對應於每個按鍵之發光區內的刻線圖案呈格狀圖案，即刻線圖案包括多個刻線組與格狀區域，多個刻線組彼此相交以形成格狀區域，且格狀區域對應於透光部，達到刻線圖案能有效萃取來自不同角度的光線而利於光源的配置並提高發光效益，且大幅減少加工設備的加工時間而提高產能。

以下提出各種實施例進行詳細說明，然而，實施例僅用以作為範例說明，並不會限縮本發明欲保護之範圍。此外，實施例中的圖式省略部份元件，以清楚顯示本發明的技術特點。在所有圖式中相同的標號將用於表示相同或相似的元件。

圖1為本發明發光鍵盤第一實施例之分解立體圖。如圖1所示，本實施例之發光鍵盤1包括基板10、多個按鍵20及導光板30，在圖1中僅顯示局部之發光鍵盤1，以清楚看見各部件（即上述基板10、按鍵20及導光板30）之具體結構，先此敘明。上述多個按鍵20排列設置於基板10上方，導光板30則設置於基板10下方，也就是說，導光板30設置於基板10遠離按鍵20的一側。

如圖1所示，基板10可為金屬（例如鋁、鋼、合金等）或塑料材質所製成之硬質板體而具有支撐組件之功能。在本實施例中，基板10包括複數個組裝區11，各組裝區11為基板10的局部板件並且供各按鍵20對應組裝（例如圖1中是以虛線框格區域標示多個組裝區11）。在本實施例中，每個組裝區11與每個按鍵20之間組設有一連接件22，其中連接件22可為剪刀式連接件（如圖1所示）、蝶式連接件或機械式開關等，連接件22一端連接按鍵20，另一端連接基板10，藉此將按鍵20組裝於基板10，並且導引按鍵20相對於基板10進行升降位移。在一些實施例中，發光鍵盤1可包括設置於基板10與按鍵20之間的一薄膜電路板（未繪示），以及設置於上述薄膜電路板與按鍵20之間的一復位件（例如橡膠圓頂、金屬圓頂、磁性復位件等）（未繪示）。

再如圖1所示，基板10的各組裝區11更具有一透光部12，在本實施例中，透光部12包括貫穿基板10之相對二表面的多個透光孔121（在此透光孔121的數量為五個，但此並不侷限）。

如圖1所示，導光板30可由導光材料所製成而具有導引光線之功能，例如導光板30可由聚碳酸酯（Polycarbonate，PC）、壓克力塑膠（Polymethyl Methacrylate，PMMA）或玻璃材料所製成之板體。當外部光線進入導光板30後，可使導光板30整體發亮而產生光線並由基板10的多個透光孔121向上透出，以對應照射於各按鍵20，而能因應光照不足的使用環境。例如圖1所示，導光板30的一側可設有一光源40（例如LED光源、螢光光源或紅外線光源等）以發出光線進入導光板30中，但此並不侷限，上述光源40的數量與設置位置可視產品需求而定。舉例來說，光源40亦可埋入設置於導光板30內部（例如埋設在導光板30的中心處或其他部位）。此外，光源40的數量亦可為二個以上（如圖2所示之光源40A、40B），多個光源40可分別設置在導光板30上的不同位置或者多個光源40亦可彼此排列設置。

如圖1所示，導光板30疊置於基板10的表面，且導光板30包括相對的第一表面31與第二表面36，在本實施例中，第一表面31面向基板10而相對於第二表面36鄰近各按鍵20，但此並不侷限，導光板30的設置亦可由第二表面36面向基板10，而構成第二表面36相對於第一表面31鄰近各按鍵20，此並不侷限。

如圖1與圖2所示，其中圖2為本發明發光鍵盤第一實施例之局部俯視圖。在本實施例中，導光板30的第一表面31包括多個發光區32以分別對應於基板10的多個組裝區11與多個按鍵20，其中各發光區32為第一表面31的局部表面區域（例如圖1中是以虛線框格區域標示多個發光區32）。

如圖1與圖2所示，導光板30之第一表面31的每個發光區32皆可設有刻線圖案33。以其中一個發光區32為例，發光區32內的刻線圖案33為具有一定深度之多條刻線所構成之網格狀圖案，上述導光板30之刻線圖案33的製程可為但不限於以下方式，舉例來說，可利用雷射加工機或機械加工機在導光板30的製造模具上預先加工形成上述刻線圖案33，再透過熱壓或UV轉印等方式將刻線圖案33轉印至導光板30上。或者，亦可利用雷射加工機或機械加工機在導光板30的第一表面31上直接加工以形成上述刻線圖案33，此並不侷限。

在一些實施例中，導光板30之第二表面36亦可包括分別對應於上述多個發光區32之多個局部區域，各局部區域也可設有上述刻線圖案33。

上述發光區32內的刻線圖案33是用於萃取光能量，舉例來說，如圖1所示，光源40發出光線進入導光板30後，光線會在導光板30內反射傳遞，當部分光線傳遞至發光區32上的刻線圖案33時，刻線圖案33會改變光線的行進方向而使光線集中朝各按鍵20照射，達到光能量萃取之目的以提高發光效益。

在一些實施例中，刻線圖案33可包括多個刻線組34與至少一個格狀區域35。如圖1與圖2所示，在本實施例中，刻線圖案33包括多個刻線組34與多個格狀區域35，多個刻線組34彼此相交以形成上述多個格狀區域35，且多個格狀區域35對應於按鍵20之透光部12。藉此，每個格狀區域35都可由多條在不同方向延伸之刻線所圍繞而成，故可萃取來自不同角度的光線而利於光源40的配置並提高發光效益，且多個刻線組34是透過多條刻線彼此相交的方式形成格狀區域35，使加工設備在刻線圖案33的加工過程中不需頻繁進行加、減速，從而大幅減少加工時間以提高產能，其中刻線圖案33之刻線組34可有以下多種實施方式，此配合圖式說明如下。

如圖2所示，於本實施例，刻線圖案33對應於基板10之透光部12的每個透光孔121皆設有多個刻線組34與多個格狀區域35，以其中一個透光孔121所對應之多個刻線組34為例，多個刻線組34包括彼此相交之第一刻線組341與第二刻線組342，其中第一刻線組341包括多條第一刻線3411，且各第一刻線3411為直線並朝第一方向延伸，第二刻線組342包括多條第二刻線3421，且各第二刻線3421為直線並朝第二方向延伸，且上述第一方向不同於第二方向，使第一刻線組341與第二刻線組342相交後能夠交織成網格狀圖案而形成多個格狀區域35。但本發明不以此為限，亦可依照需求調整刻線組34與格狀區域35的數量與位置。

如圖2所示，第一刻線組341之多條第一刻線3411可為彼此不相交（例如彼此平行）之直線，第二刻線組342之多條第二刻線3421亦可為彼此不相交（例如彼此平行）之直線。此外，上述各第一刻線3411延伸之第一方向與各第二刻線3421延伸之第二方向之間可具有一夾角，例如夾角可為銳角、鈍角或者直角，使第一刻線組341與第二刻線組342相交後能夠產生不同形狀之格狀區域35，例如格狀區域35可為方形、菱形、梯形或其他不規則形狀之四邊形。

如圖2所示，在本實施例中，第一刻線組341之各第一刻線3411為平行於X軸之刻線線段，第二刻線組342之各第二刻線3421為平行於Y軸之刻線線段而垂直於各第一刻線3411，使第一刻線組341與第二刻線組342相交後能夠形成方形的格狀區域35。藉此，由於第一刻線組341之各第一刻線3411與第二刻線組342之各第二刻線3421皆為獨立之直線線段而不具有迴轉區段及轉折線段，因此，加工設備可分別沿第一方向與第二方向一次加工完成各第一刻線3411與各第二刻線3421，而不需頻繁進行加、減速以迴轉或轉折，達到減少加工時間以大幅提高產能之效果。

此外，如圖1與圖2所示，透過刻線圖案33包括沿X軸方向延伸之第一刻線3411以及沿Y軸方向延伸之第二刻線3421，使刻線圖案33能有效萃取來自不同角度的光線。一般平行於光線方向之刻線相較於垂直於光線方向之刻線來說，其光能量萃取率較差，因此，舉例來說，若光源40A的照射方向（即光線方向）為Y軸方向時（如圖2所示），即可透過沿X軸方向延伸之各第一刻線3411有效萃取光能量而達到預定的發光效果；若光源40B的照射方向為X軸方向時（如圖2所示），則可透過沿Y軸方向延伸之各第二刻線3421有效萃取光能量而達到預定的發光效果。由此可見，刻線圖案33之多個刻線組34能有效萃取來自不同角度的光線，使光源的設置方向、位置及數量不受限制而可根據產品的不同需求自由搭配選擇。

此外，多個刻線組34透過彼此相交形成格狀區域35，可使多個刻線組34之交點處受到多次加工而增加交點處的深度，達到進一步提高光萃取能量之效果。

在一些實施例中，刻線圖案33的各刻線（例如第一刻線3411與第二刻線3421）可具有不同的刻線深度或刻線寬度。舉例來說，刻線圖案33的各刻線的刻線深度越深或刻線寬度越寬，所能萃取到的光能量越多且亮度越高，各刻線的刻線深度或刻線寬度可根據光源照射方向進行調整，例如刻線圖案33中平行於光源照射方向之刻線的刻線深度或刻線寬度可大於垂直於光源照射方向之刻線的刻線深度或刻線寬度，以提高光萃取能量之效果，如此可使平行於光源照射方向之刻線萃取到的光能量同於垂直於光源照射方向之刻線萃取到的光能量，使刻線圖案33均勻發光。

再如圖1與圖2所示，在本實施例中，各透光孔121所對應之第一刻線組341與第二刻線組342中的部分刻線可分別進一步沿第一方向與第二方向延伸以彼此相連，使刻線圖案33形成一完整的圖案並提高刻線圖案33的光萃取率。例如在本實施例中，各透光孔121所對應之第一刻線組341的其中二條第一刻線3411與第二刻線組342的其中二條第二刻線3421進一步延伸並彼此連接而形成一封閉圖形（在此封閉圖形呈方形），封閉圖形對應於發光區32之按鍵20具有的一字符21（在此字符21為字母A）。上述之封閉圖形可基於字符21的位置而圍繞字符21設置，且多個格狀區域35位於封閉圖形所圍繞的範圍內，即多個格狀區域35相較於封閉圖形更靠近字符21，以確保字符21的周圍能夠萃取到預定的光能量而達到需求亮度。

再如圖2所示，由於第一刻線組341之各第一刻線3411與第二刻線組342之各第二刻線3421皆為直線而不具有迴轉區域及轉折線段，因此，可進一步控制每條線段的長度以配合透光孔121的形狀或利於小區域範圍的設置。例如在本實施例中，第一刻線組341之多條第一刻線3411中的至少二者的長度不同，第二刻線組342之多條第二刻線3421中的至少二者的長度不同。

如圖3所示，為本發明發光鍵盤第二實施例之局部俯視圖，本實施例與上述圖2之第一實施例的差異至少在於，本實施例之刻線圖案33僅包括有一個格狀區域35，具體而言，發光區32內的刻線圖案33之第一刻線組341包括二條第一刻線3411，第二刻線組342包括二條第二刻線3421，使二第一刻線3411與二第二刻線3421彼此相交後形成單一個格狀區域35並對應於基板10之其中一個透光孔121。

再如圖4所示，為本發明發光鍵盤第三實施例之局部俯視圖，本實施例與上述圖3之第二實施例的差異至少在於，本實施例之第一刻線組341的二條第一刻線3411的端部與第二刻線組342的二條第二刻線3421的端部相連，使二第一刻線3411與二第二刻線3421圍繞形成單一個封閉的格狀區域35’並對應於基板10之其中一個透光孔121。

如圖5所示，為本發明發光鍵盤第四實施例之局部俯視圖，本實施例與上述圖4之第三實施例的差異至少在於，本實施例之第一刻線組341包括多條第一刻線3411，第二刻線組342包括多條第二刻線3421，且多條第一刻線3411與多條第二刻線3421彼此相交以形成多個上述封閉的格狀區域35’，且基板10之每個透光孔121對應有至少一個格狀區域35’。

如圖6所示，為本發明發光鍵盤第五實施例之局部俯視圖，在本實施例中，刻線圖案33之多個刻線組34包括彼此相交之至少一個第一刻線組346與一第二刻線組347，在此，基板10之組裝區11的透光孔121的數量為七個，導光板30之發光區32內的多個刻線組34包括第一刻線組346與第二刻線組347以分別對應於多個透光孔121。以其中一個透光孔121所對應之第一刻線組346與第二刻線組347為例，第一刻線組346包括多條第一刻線3461，且多條第一刻線3461彼此平行並朝第一方向延伸（例如各第一刻線3461平行於X軸），第二刻線組347包括多條第二刻線3471，且多條第二刻線3471彼此平行並朝第二方向延伸（例如各第二刻線3471平行於Y軸）。此外，多條第一刻線3461與第二刻線3471分別經過每個透光孔121而相交以形成多個方形的格狀區域35A。藉此，格狀區域35A可由多條朝不同方向延伸之刻線（例如第一刻線3461及第二刻線3471）所圍繞而成，同樣可達到有效萃取來自不同角度的光線而利於光源的配置，且各第一刻線3461與各第二刻線3471都能一次加工完成而能大幅減少加工設備的加工時間而提高產能。在本實施例中，各透光孔121所對應之第一刻線組346的其中部份第一刻線3461與第二刻線組347的部份第二刻線3471進一步延伸並彼此連接而圍繞形成三個封閉圖形。封閉圖形更可基於按鍵20上的字符位置設置，例如封閉圖形圍繞字符，對應於發光區32之按鍵20具有的字符位置。此外，多條第一刻線3461的尺寸可以彼此不同，多條第二刻線3471的尺寸可以彼此不同，刻線圖案33的刻線（第一刻線3461或第二刻線3471）的寬度越寬，所能萃取到的光能量越多且亮度越高。例如，在部份實施例中，延伸並彼此連接而圍繞形成最外側的封閉圖形的第一刻線3461與第二刻線3471的整體寬度可大於延伸並彼此連接而圍繞形成最內側的封閉圖形的第一刻線3461與第二刻線3471的整體寬度，但並不侷限，在其他實施例中，第一刻線3461與第二刻線3471的整體寬度可彼此實質上相等。

如圖7所示，為本發明發光鍵盤第六實施例之局部俯視圖，在本實施例中，多個刻線組34同樣包括彼此相交之至少一個第一刻線組346’與至少一個第二刻線組347’，在此，基板10之組裝區11的透光孔121的數量為七個，導光板30之發光區32內之多個刻線組34包括一第一刻線組346’與一第二刻線組347’以對應於其中一個透光孔121。第一刻線組346’包括多條第一刻線3461’（在此為二條第一刻線3461’，但此並不侷限第一刻線3461’的數量），在部份實施例中，上述之多條第一刻線3461’為直線。第二刻線組347’包括多條第二刻線3471’（在此為二條第二刻線3471’，但此並不侷限第二刻線3471’的數量），上述之多條第二刻線3471’的至少一者為曲線，多條第二刻線3471’與多條第一刻線3461’相交而對應於透光孔121形成至少一個弧狀的格狀區域35B。在部份實施例中，上述之多條第二刻線3471’彼此為平行。

在部份實施例中，上述第二刻線組347’的第二刻線3471’更可形成一封閉圖形，在圖8之實施例中，第二刻線組347’的二第二刻線3471’(1)、3471’(2)分別形成的封閉圖形為一圓形，但不以此為限。如圖8所示，為本發明發光鍵盤第七實施例之局部俯視圖，本實施例與上述第六實施例之差異至少在於，本實施例之第一刻線組346’的多條第一刻線3461’在透光部12的範圍內彼此不平行也不相交，在此，多條第一刻線3461’是呈放射狀配置。第二刻線3471’(1)與第二刻線3471’(2)具有不同的曲率半徑，多條第二刻線3471’(1)、3471’(2)形成之封閉圖形的尺寸不同，例如第二刻線3471’(1)形成的圓形封閉圖形的直徑小於第二刻線3471’(2)形成的圓形封閉圖形的直徑，此外，二條第二刻線3471’(1)、3471’(2)與多條第一刻線3461’相交而於每個透光孔121形成多個弧狀的格狀區域35B。藉此，格狀區域35B可由多條朝不同方向延伸之刻線所圍繞而成，同樣可達到有效萃取來自不同角度的光線而利於光源的配置，且各第一刻線3461’與第二刻線3471’(1)、3471’(2)都能一次加工完成而能大幅減少加工設備的加工時間而提高產能。另外，形成圓形的封閉圖案之第二刻線3471’(1)、3471’(2)能萃取來自多個不同方向之光線而更利於光源的配置。

在一些實施例中，多個刻線組34亦可包括三個以上的刻線組以形成更多不同形狀之格狀區域，例如三角形格狀區域或六角形格狀區域，此分別說明如下。

如圖9所示，為本發明發光鍵盤第八實施例之局部俯視圖，在本實施例中，多個刻線組34包括彼此相交之一第一刻線組343、一第二刻線組344及一第三刻線組345，第一刻線組343包括多條第一刻線3431，多條第一刻線3431為直線且朝第一方向延伸，第二刻線組344包括多條第二刻線3441，多條第二刻線3441為直線且朝第二方向延伸，第三刻線組345包括多條第三刻線3451，多條第三刻線3451為直線且朝第三方向延伸，且上述第一方向、第二方向以及第三方向互不相同。例如在本實施例中，各第一刻線3431彼此平行並沿X軸方向延伸，各第二刻線3441彼此平行並與X軸的夾角為60°，各第三刻線3451彼此平行並與X軸的夾角為120°，構成第一方向、第二方向以及第三方向互不相同，並使第一刻線組343、第二刻線組344及第三刻線組345彼此相交後能夠形成多個三角形的格狀區域35C，而可萃取來自不同方向之光線。

如圖10所示，為本發明發光鍵盤第九實施例之局部俯視圖。在本實施例中，多個刻線組34同樣包括彼此相交之一第一刻線組343A、一第二刻線組344A及一第三刻線組345A，第一刻線組343A包括朝第一方向延伸的多條第一刻線3431A，第二刻線組344A包括朝第二方向延伸的多條第二刻線3441A，第三刻線組345A包括朝第三方向延伸的多條第三刻線3451A，舉例來說，各第一刻線3431A彼此平行並沿X軸方向延伸，各第二刻線3441A彼此平行並與X軸的夾角為60°，各第三刻線3451A彼此平行並與X軸的夾角為120°。本實施例與上述第八實施例的差異至少在於，多條第一刻線3431A之間的間距不同於第八實施例之多條第一刻線3431之間的間距，多條第二刻線3441A之間的間距不同於第八實施例之多條第二刻線3441之間的間距，多條第三刻線3451A之間的間距不同於第八實施例之多條第三刻線3451之間的間距，使第一刻線組343A、第二刻線組344A及第三刻線組345A彼此相交後能夠形成多個三角形格狀區域35D與多個六角形格狀區域35E之組合，而可萃取更多方向之光線。

如圖11所示，為本發明發光鍵盤第十實施例之局部俯視圖，在本實施例中，多個刻線組34同樣包括彼此相交之一第一刻線組343B、一第二刻線組344B及一第三刻線組345B，第一刻線組343B包括朝第一方向延伸的多條第一刻線3431B，第二刻線組344B包括朝第二方向延伸的多條第二刻線3441B，第三刻線組345B包括朝第三方向延伸的多條第三刻線3451B，舉例來說，各第一刻線3431B彼此平行並沿X軸方向延伸，各第二刻線3441B彼此平行並與X軸的夾角為60°，各第三刻線3451B彼此平行並與X軸的夾角為120°。本實施例與上述圖9與圖10之實施例的差異至少在於，本實施例之多條第一刻線3431B、多條第二刻線3441B及第三刻線3451B的端部彼此相連接以形成多個六角形的格狀區域35F。

上述圖9至圖11所對應之實施例中，刻線圖案33更可包括至少一條環繞刻線，其中環繞刻線可呈圓形、方形或其他不規則形之封閉圖形。如圖9所示，在本實施例中，刻線圖案33更包括多條環繞刻線（如圖中之圓形的環繞刻線37以及方形的環繞刻線37A），且二環繞刻線37、37A分別串接對應於各透光孔121的多個刻線組34，在一些實施例中，上述二環繞刻線37、37A可彼此相交（如圖9所示）或不相交，或者上述各環繞刻線37、37A亦可為連續線段（如圖9所示）或不連續線段。例如圖10所示，此實施例之圓形的環繞刻線37B為不連續線段而具有多個缺口38B，方形的環繞刻線37C也為不連續線段而具有多個缺口38C，且上述多個缺口38B、38C可對應於導光板30之發光區32受到基板10之組裝區11遮蔽的區域，以減少光能量的浪費。或者，如圖11所示，此實施例之圓形的環繞刻線37D與方形的環繞刻線37E彼此不相交，且環繞刻線37D位於環繞刻線37E的環繞範圍內。

上述各實施例之刻線圖案33可具有不同尺寸之格狀區域以有效增加光萃取效率。具體而言，導光板30之不同發光區32上方所對應之結構（例如按鍵20的結構、基板10之透光孔121的數量、位置或尺寸，或者連接件22的結構與尺寸）都不盡相同。舉例來說，不同發光區32所對應到的不同按鍵20上的字符面積、數量與位置不同，且部分按鍵20（例如Caps Lock鍵、Shift鍵、Ctrl鍵、Enter鍵或Backspace鍵）的長度也大於其他部份按鍵20（例如字母鍵與數字鍵）的長度，故不同長度之按鍵20所對應的連接件22之結構、位置或數量也會不同。基於此，透過各發光區32內的刻線圖案33具有朝不同方向延伸的多組刻線組（其包括多條刻線）以及不同尺寸與形狀之格狀區域，達到各發光區32之刻線圖案33能夠根據其上方所對應之結構進行調整與配置，可萃取來自不同方向之光線而更利於光源的配置，亦可有效增加光萃取效率及/或降低光萃取效率而提高發光鍵盤1之發光效益。

承上，如圖12所示，為本發明發光鍵盤第十一實施例之局部俯視圖，本實施例與圖2之實施例的差異至少在於，第一刻線組341之多條第一刻線3411之間的間距不同，第二刻線組342之多條第二刻線3421之間的間距也不同，使導光板30之發光區32內具有不同尺寸的格狀區域。例如在本實施例中，發光區32內之刻線圖案33包括多個第一格狀區域35G與多個第二格狀區域35H，各第一格狀區域35G的尺寸不同於各第二格狀區域35H的尺寸而第一格狀區域35G與第二格狀區域35H有不同的光萃取率。

如圖12所示，刻線圖案33之格狀區域的尺寸變化可根據按鍵20的結構進行配置，例如在本實施例中，對應於發光區32之按鍵20具有一字符21（在此字符為字母A），多個第二格狀區域35H的尺寸大於多個第一格狀區域35G，且多個第二格狀區域35H相較於多個第一格狀區域35G鄰近字符21，進一步說，在同樣範圍面積內，第一格狀區域35G的數量或密度大於第二格狀區域35H的數量或密度，如此可提高按鍵20周圍（遠離字符21）的亮度，但此並不侷限，在一些實施例中，多個第一格狀區域35G亦可相較於多個第二格狀區域35H鄰近字符21，以提高字符21區域的亮度，舉例來說，對應於按鍵20上較小的字符21（例如逗號），發光區32內鄰近於字符21之格狀區域的數量或密度可進一步提高，對應於按鍵20無字符21但需要有暈光效果的無字區，發光區32內鄰近無字區之格狀區域的數量或密度則相對較低。

然而，上述實施例僅為舉例，在一些實施例中，多個第二格狀區域35H與多個第一格狀區域35G的分佈位置、大小、數量或密度亦可根據基板10之組裝區11的結構、連接件22之結構或者其他構件進行調整，以進一步提高發光鍵盤1之每個不同區域的光萃取率。

綜上，根據本發明實施例之發光鍵盤，透過導光板對應於每個按鍵之發光區內的刻線圖案呈網格狀圖案，即刻線圖案包括多個刻線組與至少一個格狀區域，多個刻線組彼此相交以形成格狀區域，且格狀區域對應於透光部，達到刻線圖案能有效萃取來自不同角度的光線而利於光源的配置並提高發光效益，且大幅減少加工設備的加工時間而提高產能。

雖然本發明的技術內容已經以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神所作些許之更動與潤飾，皆應涵蓋於本發明的範疇內，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

1:發光鍵盤 10:基板 11:組裝區 12:透光部 121:透光孔 20:按鍵 21:字符 22:連接件 30:導光板 31:第一表面 32:發光區 33:刻線圖案 34:刻線組 341:第一刻線組 3411:第一刻線 342:第二刻線組 3421:第二刻線 343,343A,343B,346,346’:第一刻線組 3431,3431A,3431B,3461,3461’:第一刻線 344,344A,344B,347,347’:第二刻線組 3441,3441A,3441B,3471,3471’,3471’(1),3471’(2):第二刻線 345,345A,345B:第三刻線組 3451,3451A,3451B:第三刻線 35,35’,35A～35H:格狀區域 36:第二表面 37,37A～37E:環繞刻線 38B,38C:缺口 40,40A,40B:光源

[圖1] 係本發明發光鍵盤第一實施例之分解立體圖。 [圖2] 係本發明發光鍵盤第一實施例之局部俯視圖。 [圖3] 係本發明發光鍵盤第二實施例之局部俯視圖。 [圖4] 係本發明發光鍵盤第三實施例之局部俯視圖。 [圖5] 係本發明發光鍵盤第四實施例之局部俯視圖。 [圖6] 係本發明發光鍵盤第五實施例之局部俯視圖。 [圖7] 係本發明發光鍵盤第六實施例之局部俯視圖。 [圖8] 係本發明發光鍵盤第七實施例之局部俯視圖。 [圖9] 係本發明發光鍵盤第八實施例之局部俯視圖。 [圖10] 係本發明發光鍵盤第九實施例之局部俯視圖。 [圖11] 係本發明發光鍵盤第十實施例之局部俯視圖。 [圖12] 係本發明發光鍵盤第十一實施例之局部俯視圖。

11:組裝區

12:透光部

121:透光孔

20:按鍵

21:字符

31:第一表面

32:發光區

34:刻線組

341:第一刻線組

3411:第一刻線

342:第二刻線組

3421:第二刻線

35:格狀區域

40A,40B:光源

Claims (17)

1. 一種發光鍵盤，包括： 一基板，包括複數個組裝區，各該組裝區具有一透光部； 複數個按鍵，排列設置於該基板之該些組裝區上方；以及 一導光板，設置於該基板下方，包括一發光區以對應於該些組裝區的其中一者，該發光區內設有一刻線圖案，該刻線圖案包括複數個刻線組與至少一格狀區域，該些刻線組彼此相交以形成該至少一格狀區域，且該至少一格狀區域對應於該透光部。
2. 如請求項1所述之發光鍵盤，其中該導光板包括相對的一第一表面與一第二表面，該第一表面面向該基板且相對於該第二表面鄰近該些按鍵，該第一表面包括該發光區。
3. 如請求項1所述之發光鍵盤，其中該些刻線組包括彼此相交之一第一刻線組與一第二刻線組，該第一刻線組包括複數條第一刻線，該些第一刻線為直線並朝一第一方向延伸，該第二刻線組包括複數條第二刻線，該些第二刻線為直線並朝一第二方向延伸，且該第一方向不同於該第二方向。
4. 如請求項3所述之發光鍵盤，其中該些第一刻線彼此平行，該些第二刻線彼此平行。
5. 如請求項3所述之發光鍵盤，其中該第一方向與該第二方向彼此垂直。
6. 如請求項3所述之發光鍵盤，其中該些第一刻線中的至少二者的長度彼此不同。
7. 如請求項3所述之發光鍵盤，其中該些第一刻線中的至少一者的刻線深度或刻線寬度不同於該些第二刻線中的至少一者的刻線深度或刻線寬度。
8. 如請求項3所述之發光鍵盤，其中該些第一刻線中的至少二者與該些第二刻線中的至少二者相交形成一封閉圖形。
9. 如請求項1所述之發光鍵盤，其中該些刻線組包括彼此相交之一第一刻線組、一第二刻線組及一第三刻線組，該第一刻線組包括複數條第一刻線，該些第一刻線為直線且朝一第一方向延伸，該第二刻線組包括複數條第二刻線，該些第二刻線為直線且朝一第二方向延伸，該第三刻線組包括複數條第三刻線，該些第三刻線為直線且朝一第三方向延伸，且該第一方向、該第二方向以及該第三方向互不相同。
10. 如請求項9所述之發光鍵盤，其中該刻線圖案更包括一環繞刻線，該環繞刻線連接該些刻線組。
11. 如請求項1所述之發光鍵盤，其中該些刻線組包括彼此相交之一第一刻線組與一第二刻線組，該第一刻線組包括複數條第一刻線，該第二刻線組包括複數條第二刻線，該些第二刻線中的至少一者為一曲線。
12. 如請求項11所述之發光鍵盤，其中該些第一刻線為直線。
13. 如請求項11所述之發光鍵盤，其中該些第二刻線彼此平行。
14. 如請求項11所述之發光鍵盤，其中該曲線形成一封閉圖形。
15. 如請求項1所述之發光鍵盤，其中該透光部包括複數個透光孔，該些刻線組彼此相交以形成複數個格狀區域，該些刻線組與該些格狀區域對應於該些透光孔，該刻線圖案更包括一環繞刻線，該環繞刻線連接該些刻線組。
16. 如請求項15所述之發光鍵盤，其中對應於該發光區之該按鍵具有一字符，該環繞刻線更圍繞該字符設置。
17. 如請求項1所述之發光鍵盤，其中該些刻線組彼此相交以形成複數個格狀區域，該些格狀區域包括一第一格狀區域與一第二格狀區域，該第一格狀區域的尺寸不同於該第二格狀區域的尺寸。

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