TWI606382B - 觸控螢幕面板 - Google Patents

Description

觸控螢幕面板

本發明係有關於觸控螢幕面板。

通常，觸控螢幕是配備了一特殊輸入裝置以接收使用者用手指或觸控筆接觸螢幕所輸入的位置之一螢幕。此種觸控螢幕不使用鍵盤但具有多層疊層的配置，其中，當使用者的手指或類似觸控筆或手寫筆的物體接觸到螢幕上顯示的特定字元或位置，該觸控螢幕識別其位置並直接接收來自螢幕的資料以便在特定位置處藉由貯存在特定位置的軟體實際地處理資訊。

為了識別所接觸的位置且不降低圖像顯示在螢幕上的可見度，需要使用透明電極，其中感測圖案一般係以一預定的圖案形成在該透明電極中。

此種感測圖案可以由第一感測圖案和第二感測圖案所形成。第一和第二感測圖案被配置於彼此不同的方向，以提供該觸碰點X和Y坐標的資訊。具體來說，當使用者的手指或某物體接觸到一覆蓋窗口基板(cover window substrate)，根據接觸位置被偵測到的電容值改變，通過第一和第二感測圖案及金屬佈線傳送到驅動電路，該金屬佈線係一位置偵測線。接著，該電容值改變藉由X和Y輸入處理電路轉換成電子信號以識別 該接觸位置。

在此方面而言，第一和第二感測圖案必須被形成在基板的同 一層中，而各自的圖案必須彼此電連接以偵測觸碰位置。然而，當第一感測圖案彼此連接時，第二感測圖案則以小島形式彼此分離。因此，需要額外的橋電極以將第二感測圖案彼此電連接。

由於反射率在橋電極與感測圖案間的差異，該圖案可以從外 部看到。為了解決該問題，形成較狹窄的橋電極寬度的技術已被提出。然而，在這樣的狀況下，導電率會降低。

為了解決導電率降低的問題，由金屬形成橋電極的技術已被 提出。由於金屬不允許光透射且會反射光，自光源所發射的光會被由金屬製成的橋電極反射。因此，觸控螢幕面板的透射率會降低。

日本公開專利第2008-98169號揭露了一種透明導電薄膜， 其中一下方塗料層包含具有在透明基板和透明導電層之間不同折射率的兩個層。

因此，本發明的目的為提供具有顯著地提升透射率的觸控螢幕面板。

本發明的另一個目的為提供具有較低的可見度的觸控螢幕面板。

本發明的上述目的將透過以下特點來實現：

(1)一種觸控螢幕面板，其包括觸控感測電極與像素部份，其中該觸控感測電極包含：感測圖案，其包括形成在第一方向上的第一圖 案及形成在第二方向上的第二圖案；以及金屬橋電極，其被配置以電連接該第二圖案中的分離單元圖案，其中該金屬橋電極係形成在像素部份的黑色矩陣的頂部上。

(2)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，其中該單元金屬橋電極 係形成以安置在一區域的頂部上，該區域的寬度是依黑色矩陣的寬度來定義。

(3)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，其中該單元金屬橋電極 係形成以使得其寬度的中央係安置於該黑色矩陣的寬度中央的垂直頂部上。

(4)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，其中該單元金屬橋電極的寬度為2至30微米。

(5)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，其中該單元金屬橋電極與黑色矩陣的寬度分別滿足以下方程式1： (其中，a代表單元金屬橋電極的寬度及b代表黑色矩陣的寬度)。

(6)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，其中形成該黑色矩陣使其被安置在像素部份的閘極線與資料線的頂部上。

(7)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極是選自由鉬、銀、鋁、銅和鉻所組成的群組中至少一種金屬所形成。

(8)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極是由與金屬佈線與位置偵測線相同的材料所形成。

(9)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，進一步包含阻光絕緣體，其被配置於感測圖案與金屬橋電極間並且形成在相關於該金屬橋電極的可見側邊上。

(10)如上述(9)所述之觸控螢幕面板，其中該阻光絕緣體具有70%或更少的透射率。

(11)如上述(9)所述之觸控螢幕面板，其中該阻光絕緣體包含著色劑、鹼可溶性黏合樹脂、多功能單分子、照光聚合引發劑、表面活化劑以及溶媒。

(12)如上述(1)所述之觸控螢幕面板，進一步包含形成在該金屬橋電極的可見側邊的一面上的阻光金屬氧化層。

(13)如上述(12)所述之觸控螢幕面板，其中該阻光金屬氧化層是由鉬、銀、鋁、銅、鉻或其之合金氧化物所組成。

(14)如上述(12)所述之觸控螢幕面板，其中該阻光金屬氧化層具有70%或更少的透射率。

(15)如上述(9)至(14)中任一項所述之觸控螢幕面板，其中該單元金屬橋電極的寬度為2至30微米。

(16)如上述(9)至(14)中任一項所述之觸控螢幕面板，其中該單元金屬橋電極與該黑色矩陣的寬度分別滿足以下方程式1： (其中，a代表單元金屬橋電極的寬度及b代表黑色矩陣的寬度)。

本發明的觸控螢幕面板藉由解決因金屬製成的橋電極所發 生透射率降低的問題，以顯著地改善透射率。

此外，本發明的觸控螢幕面板由於反射率在不同位置上的微小差別而具有低的可見度。

1‧‧‧基板

110‧‧‧像素

120‧‧‧黑色矩陣

210‧‧‧第一感測圖案

220‧‧‧第二感測圖案

230‧‧‧橋電極

240‧‧‧絕緣層

250‧‧‧接觸孔

260‧‧‧阻光金屬氧化層

本發明之上述或其他目的、特徵和其他優點將透過以下詳細描述與隨附的圖示而能更清楚地了解，其中：圖1是根據本發明之一具體實施例的觸控螢幕面板的垂直剖面視圖；圖2是根據本發明之其他具體實施例的觸控螢幕面板的垂直剖面視圖；圖3是根據本發明之其他具體實施例的觸控螢幕面板的垂直剖面視圖；圖4是根據本發明之其他具體實施例的觸控螢幕面板的正視圖；圖5是以本發明範例1所製作之觸控螢幕面板的正視圖；圖6是以本發明範例2所製作之觸控螢幕面板的正視圖；圖7是以本發明對照範例1所製作之觸控螢幕面板的正視圖；以及圖8是以本發明隊證範例2所製作之觸控螢幕面板的正視圖。

本發明揭示一種觸控螢幕面板，其包括觸控感測電極與像素部份，其中該觸控感測電極包含：感測圖案，其包括形成在第一方向上的第一圖案及形成在第二方向上的第二圖案；以及金屬橋電極，其被配置以電連接該第二圖案中的分離單元圖案，該金屬橋電極係形成在像素部份的黑色矩陣的頂部上，因此具有顯著改善的透射率與因反射率在不同位置上的細微差別所造成的低可見度。

圖1至圖4為根據本發明的具體實施例之觸控螢幕面板的垂 直視圖與正視圖。在下文，將參照所附圖示對本發明進行詳細的描述。

<像素部份>

本發明之觸控螢幕面板包括在相關技術中常用的像素部份。

該像素部份是能夠表達紅色、綠色及藍色的一部份。為此，該像素部份包括在液晶顯示裝置的情況下的濾色片(未顯示)，然而根據需要亦可選擇性包括有機發光顯示器裝置的情況下之濾色片。

像素部份的配置和位置是沒有特別限制的，但可以包括在相關技術中常使用的任何配置，並且可以在相關技術中常採用的位置形成。

該像素部份包括複數個像素110。單元像素110的配置是沒有特別限制的，但可以包括在相關技術中常使用的任何配置，以及例如可以包括開關薄膜電晶體、驅動薄膜電晶體、儲存元件或類似者。

單元像素110可由形成在彼此交叉的方向上的閘極線和資料線之間的邊界來定義。

像素部份進一步包括黑色矩陣120，其扮演防止下部佈線從外部被看見並且改善對比度的角色。為了防止因該黑色矩陣120所造成之透射率的下降，該黑色矩陣120被形成以定位在像素部份的閘極線和資料線的頂部上。

<觸控感測電極>

感測圖案

圖1說明一種根據本發明之一個具體實施例的觸控螢幕面板垂直剖面視圖。本發明的感測圖案可以包含形成在第一方向上的第一感測圖案210及形成在第二方向上的第二感測圖案220。

第一感測圖案210及第二感測圖案220被配置於彼此不同的 方向上，但並不限制於此。

第一和第二感測圖案210與220提供一觸碰點的X與Y座 標的資訊。具體來說，當使用者的手指或某物體接觸到一覆蓋窗口基板時，偵測到根據接觸位置的電容值改變，且通過該第一和第二感測圖案210與220及金屬佈線轉換到驅動電路，該金屬佈線是位置偵測線。接著，電容值的改變藉由X和Y輸入處理電路(未顯示)被轉換成電子信號以識別該接觸位置。

就此而言，第一和第二感測圖案210與220必須被形成在基 板的同一層中，而各自的圖案必須彼此電連接以偵測該觸碰位置。然而，當第一感測圖案210彼此連接時，第二感測圖案220以小島形式彼此分離。 因此，需要額外的橋電極230(將在以下被描述)用來將第二感測圖案220彼此電連接。

第一和第二感測圖案210與220的厚度沒有特別地限制，但 可以，舉例來說，分別在20至30奈米的範圍內。若感測圖案的厚度少於20奈米，電阻會增加而降低觸控敏感度。而當其之厚度超過30奈米時，反射會增加而惡化了可見度。

使用在相關技術中的任何常見材料可以被採用於第一和第 二感測圖案210與220且沒有特別限制。例如，銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、氧化鋅(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、鎘錫氧化物(CTO)、聚(3,4-二氧乙基噻吩)(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，PEDOT)、奈米碳管(CNT)、金屬導線等等皆可以被使用。這些可以單獨使用或以兩種或多種的組合使 用，而較佳的是使用銦錫氧化物(ITO)。使用在金屬導線中的金屬沒有被特別限制但可包含，例如，銀(Ag)、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、碲、鉻等等，其可以單獨使用或以兩種或多種的組合使用。

該感測圖案可藉由各種薄膜沉積技術形成，例如物理氣相沉 積(PVD)法、化學氣相沉積(CVD)法或類似者。例如，該感測圖案可藉由反應濺鍍所形成，該反應濺鍍是PVD法的一個例子，然不限於此。

此外，該感測圖案可由印刷製程所形成。在此印刷製程期 間，可以使用例如凹板平板印刷、反向平板印刷、噴墨印刷、屏幕印刷、凹板印刷等等的各種印刷方法。特別是，當該感測圖案是由印刷製程所形成時，該感測圖案可由可印刷黏貼材料製成。例如，感測圖案可由奈米碳管(CNT)、導電聚合物和銀奈米線油墨所製成。

除了上述的方法，第一和第二感測圖案210與220可藉光微 影所形成。

橋電極

橋電極230電連接該第二感測圖案220的分離單元圖案。

在此，該金屬橋電極230應該與於感測圖案中的第一感測圖 案210電性隔離，有需要為此形成絕緣體，這將在以下描述。

由於金屬橋電極230不允許光被透射並且擁有高反射率，從 光源發射出的光將從金屬橋電極230反射，因此會降低觸控螢幕面板的透射率。

然而，由於本發明之觸控螢幕面板包含形成在黑色矩陣120 頂部上的金屬橋電極230，因此由於該金屬橋電極230造成的透射率降低將 不會發生。

關於這點，單元金屬橋電極230係形成以安置在一區域的頂 部上，該區域的寬度是依黑色矩陣120的寬度來定義，較佳的是，其係形成以使其寬度的中央係安置於該黑色矩陣120的寬度中央的垂直頂部上。

根據本發明的該金屬橋電極230可以由金屬材料所形成，且 較佳的是由和金屬導線與位置偵測線相同的材料所形成。在這種情況下，由於金屬橋電極230可以在形成金屬佈線的過程中同時形成，所以能更加簡化製程。

金屬材料沒有特別限制，只要它有具有優良的低電阻的導電 率，但可以包含例如鉬、銀、鋁、銅、鉻等等，其可以單獨使用或以兩種或多種的組合使用。

單元金屬橋電極230的寬度沒有特別限制，但可以例如在2 至30微米的範圍，且較佳是在2至20微米的範圍，其沒有特別地限制。若該橋電極的寬度在2至30微米的範圍時，該圖案的可見度會降低以提供有利的電阻。

單元金屬橋電極230具有以滿足與黑色矩陣120寬度的關係 之一寬度，其可被以下方程式1定義。在這個情況下，透射率的改善效果可以最大化。

(其中，a代表單元金屬橋電極230的寬度及b代表黑色矩陣120的寬度)。

形成金屬橋電極230的方法是沒有特別限制，並且可以使用 與感測圖案相同的形成方法。

絕緣層和接觸孔

本發明之觸控螢幕面板包含一絕緣層240，其被形成在該感測圖案與該金屬橋電極230間以防止感測圖案與金屬橋電極230之電連接。當第二感測圖案220藉由金屬橋電極230而彼此電連接，於其上未形成絕緣層240的部份必須由金屬橋電極230電連接感測圖案。此處，在絕緣層240的區域中，未形成絕緣層240的該部份被稱為接觸孔250。因此，第二感測圖案220與金屬橋電極230在接觸孔250中電連接。

在相關技術中已知的任何常用絕緣材料可以被使用於絕緣層240而沒有特別限制。例如，該絕緣層240可使用例如矽氧化物的金屬氧化物、包含丙烯酸樹脂的透明光敏樹脂組成物或熱固性樹脂組成物而以所期望的圖案形成。

絕緣層240可使用沉積或印製方法形成在感測圖案上。

在本發明中，以絕緣層240完全被形成於感測圖案上的方式而形成該接觸孔250，然後複數個孔形成在該絕緣層中(穿孔方法)；或可以絕緣層被形成在感測圖案上且除了其中有感測圖案和金屬橋電極230電連接(小島方法)的部份的方式而形成該接觸孔250。

若考慮到減小金屬橋電極230的可見度，較佳的是本發明的絕緣層240是由可阻擋光線的材料組成。

在此情況下，即使金屬橋電極230被更廣泛地形成，然而該金屬橋電極230具有較低的可見度，故能夠防止金屬橋電極230從外側被看到。因此，該金屬橋電極230可以由較低精確度的設備形成，從而改善製 程良率。

由於該絕緣層240是由可阻擋光線的材料所組成(以下稱為 阻光絕緣體)以阻擋光線，與傳統絕緣層相比較之下，該絕緣層只形成在感測圖案與金屬橋電極230之間的小區域上，而不會以層狀結構形成。

圖2說明一種根據本發明另一個具體實施例的觸控螢幕面 板的垂直剖面視圖，該觸控燭幕面板的上側是可見側邊。在這個情況下，阻光絕緣體240是被形成在金屬橋電極230上。

阻光絕緣體240可使用任何材料，只要其具有優良絕緣特 性，同時阻擋光線而沒有特別限制，舉例，其可以由彩色墨水形成。

該彩色墨水可包含著色劑、鹼可溶性黏合樹脂、多功能單分 子、照光聚合引發劑、表面活化劑、溶媒、其他添加劑或類似者，其通常被使用在相關技術中。

當被應用於觸控螢幕面板時，在能夠透過阻擋光而減小金屬 橋電極可見度以及最小化透射率的降低的範圍內，阻光絕緣體240和金屬橋電極230的面積比率是沒有特別被限制，但舉例而言，阻光絕緣體240可以是相對於單元金屬橋電極230的面積的60%或更多。

能夠滿足上述面積比率的範圍內的阻光絕緣體240的大小 並沒有特別限制，但是鑒於抑制金屬橋電極230的可見度，阻光絕緣體240具有比單元金屬橋電極230更大的寬度是較佳的。舉例而言，該阻光絕緣體240具有較單元金屬橋電極230大至少5微米的寬度。鑒於透過阻擋光線減小金屬橋電極230的可見度與最小化透射率的降低，於應用在觸控螢幕面板時，該阻光絕緣體240具有較單元金屬橋電極230大10至20微米的寬 度。在此方面，阻光絕緣體240具有較單元金屬橋電極230短至少20微米的長度，而較佳地為至少20至40微米。

阻光絕緣體240的透射率可以被適當地選擇，以便於應用在 觸控螢幕面板時透過阻擋光線減小金屬橋電極230的可見度與最小化透射率的降低，舉例而言，可以為70%或更少，而較佳地為20至60%。

阻光金屬氧化層

本發明之觸控螢幕面板可包含一阻光金屬氧化層260而不 是阻光絕緣體240。

圖3說明一種根據本發明另一個具體實施例的觸控螢幕面 板的上側是可見側邊的垂直剖面視圖。在此情況下，該阻光金屬氧化層260被形成在金屬橋電極230之上。

該阻光金屬氧化物沒有特別被限制，只要其能夠減小金屬橋 電極230的可見度，但可以包含，舉例而言，鉬、銀、鋁、銅、鉻，或合金氧化等，而較佳地為與金屬橋電極230相同的金屬氧化物。在此情況下，於形成金屬橋電極230的同時形成阻光金屬氧化層或藉由氧化金屬橋電極230的一部份所形成。

阻光金屬氧化層260的透射率可以被適當地選擇，以便於應 用在觸控螢幕面板時透過阻擋光線減小金屬橋電極230的可見度與最小化透射率的降低，舉例而言，可以為70%或更少，而較佳地為20至60%。

基板

觸碰感測電極被形成在一基板1之上。

該基板1可以任何常使用在相關技術中的材料所組成，且沒 有特別限制，舉例，可能包含聚醚(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚醯亞胺(PEI)、聚乙烯奈二甲酸(PEN)、聚乙烯對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚乙烯硫化物(PPS)、聚芳酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯(PC)、纖維素三醋酸酯(TAC)、醋酸丙酸纖維素(CAP)或類似者。

基板1可以是包含在觸碰螢幕面板中的分離基板或者為形 成觸控螢幕面板或顯示面板的最外表面的一覆蓋窗口基板。

透明介電質層

本發明之觸碰感測電極根據需要可進一步包含在基板1與 感測電極之間的一種透明介電質層。

透明介電質層的作用在於減少因為在不同位置上的結構差 異造成的光學性質差異，從而改善了觸碰螢幕面板的光學均勻性。

透明介電質層可以二氧化矽、有機絕緣薄膜或類似者組成。 該透明介電質層可透過使用氣相沉積法、濺鍍、塗覆法或類似者輕易地以薄膜形式沉積形成。

在本發明中，複數個透明介電質層根據需求被形成在基板 100上。在這個情況下，該複數個透明介電質層的每一者可以彼此不同的材料所組成，並且彼此具有不同的折射係數和厚度。

鈍化層

為了避免感測圖案與橋電極230被外部環境(溼度，空氣等) 汙染，該觸碰感測電極可根據需求進一步包含用於覆蓋感測圖案的一鈍化層。

鈍化層可以使用例如矽氧化物的金屬氧化物、包含丙烯酸樹 脂的透明光敏的樹脂組成物、熱固性樹脂組成物或類似者以一期望圖案來形成。

根據本發明的鈍化層可具有適當的厚度，舉例而言，2000奈 米或更少，並且因此，可以例如在0至2000奈米的範圍內。當鈍化層具有在上述範圍內的厚度時，透射率減少的效應可以被改善。

鈍化層可包含一接觸孔以連接感測圖案與驅動電路。

本發明之觸控螢幕面板可進一步包含常被使用在相關技術 中的元件。

實例與比較實例

觸控螢幕面板藉由接合一觸控感測電極至一像素部份而備 製，其中一單元像素的長邊長度為150微米，其短邊長度為30微米；介於單元像素長邊之間的黑色矩陣圖案寬度為10微米，而其介於單元像素短邊之間的黑色矩陣圖案寬度為30微米。

分別使用一種玻璃(折射係數：1.51，消光係數：0)為觸控感 測電極，一種氧化銦錫膜(折射係數：1.8，消光係數：0)為第一與第二圖案，鉬為一種金屬橋電極，丙烯酸絕緣金屬(折射係數：1.51，消光係數：0)為一種絕緣層。

折射係數與消光係數是依照具有550奈米波長的光所決定。

金屬橋電極分別被形成以具有寬度10微米、長度150微米 (實例1與對照實例1)以及寬度30微米、長度150微米(實例2與對照實例2)。

在這些實例中，觸控螢幕面板藉由接合金屬橋電極至基板而 備製以放置於像素部份的黑色矩陣的頂部上，而在對照實例中，觸控螢幕面板不考慮位置藉由接合而備製。

於實例與對照實例中所備製之觸控螢幕面板之各自結構(正視圖)例示於圖5(實例1)、圖6(實例2)、圖7(對照實例1)與圖8(對照實例2)。

實驗實例

像素部份的透射率的量測

於實例與對照實例所備製之觸控螢幕面板的像素部份的透射率是以OSP-SP2000(Olympus公司)測量，且其結果顯示於以下表格1。

在此處，透射率是以在100%接合之前的透射率作為參考來評估。

參照以上表格1，可見實例中備製的觸控螢幕面板由於光透射穿過像素部份而具有優良的透射率，該像素部份不會抑制由定位在所述黑色矩陣的頂部的金屬橋電極的光反射。

然而，對照實例中所備製的觸控螢幕面板藉由光從金屬橋電極反射而具有較低透射率。

110‧‧‧像素

120‧‧‧黑色矩陣

230‧‧‧橋電極

240‧‧‧絕緣層

Claims (16)

1. 一種觸控螢幕面板，其包括一觸控感測電極與一像素部份，其中該像素部份包括多個像素和一黑色矩陣，其中該觸控感測電極包含：感測圖案，其包括形成在第一方向上的第一圖案及形成在第二方向上的第二圖案；以及金屬橋電極，其被配置以電連接該第二圖案的分離單元圖案，其中該第一圖案和該第二圖案被形成在該像素和該黑色矩陣兩者上，並且該金屬橋電極被選擇性地形成在該像素部份的該黑色矩陣的頂部上。
2. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極係被形成以安置在一區域的頂部上，該區域的寬度是依該黑色矩陣的寬度來定義。
3. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極係形成以使得其寬度的中央被安置於該黑色矩陣的寬度的中央的垂直頂部上。
4. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極的寬度為2至30微米。
5. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極與該黑色矩陣的寬度分別滿足以下方程式1： 其中，a代表金屬橋電極的寬度及b代表黑色矩陣的寬度。
6. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，其中該黑色矩陣係形 成以使其安置在該像素部份的閘極線與資料線之頂部上。
7. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極是選自由鉬、銀、鋁、銅和鉻所組成的群組的至少一種金屬所形成。
8. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極是由與一金屬佈線與一位置偵測線相同的材料所形成。
9. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，進一步包含一阻光絕緣體，其被配置於該感測圖案與該金屬橋電極之間並且形成在相關於該金屬橋電極的一可見側邊上。
10. 如申請專利範圍第9項所述之觸控螢幕面板，其中該阻光絕緣體具有70%或更少的透射率。
11. 如申請專利範圍第9項所述之觸控螢幕面板，其中該阻光絕緣體包含著色劑、鹼可溶性黏合樹脂、多功能單分子、照光聚合引發劑、表面活化劑以及溶媒。
12. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕面板，進一步包含形成在該金屬橋電極的一可見側邊的一面上的一阻光金屬氧化層。
13. 如申請專利範圍第12項所述之觸控螢幕面板，其中該阻光金屬氧化層是由鉬、銀、鋁、銅、鉻或其合金氧化物所組成。
14. 如申請專利範圍第12項所述之觸控螢幕面板，其中該阻光金屬氧化層具有70%或更少的透射率。
15. 如申請專利範圍第9至14項中任一項所述之觸控螢幕面板，其中該金屬橋電極的寬度為2至30微米。
16. 如申請專利範圍第9至14項中任一項所述之觸控螢幕面板，其中該 金屬橋電極與該黑色矩陣的寬度分別滿足以下方程式1： 其中，a代表金屬橋電極的寬度及b代表黑色矩陣的寬度。